KR20000070134A - 페릴렌-3,4-디카복실산 무수물의 제조 - Google Patents

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에프. 아. 프라저, 에른스트 알테르 (에. 알테르), 한스 페터 비틀린 (하. 페. 비틀린), 피. 랍 보프, 브이. 스펜글러, 페. 아에글러
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Abstract

본 발명은 R1및 R8이 하기한 바와 같은 화학식 II의 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물을 승온에서 염기로서 입체 장애된 아민과 반응시킴으로써 화학식 Ⅰ의 페릴렌-3,4-디카복실산 무수물을 제조하는 개선된 방법, 추가의 페릴렌 유도체의 제조방법, 페릴렌 유도체 및 이들의 용도에 관한 것이다.
화학식 Ⅰ
상기식에서,
R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8은 수소이거나 1 내지 8의 라디칼은 비치환되거나 치환된 카보사이클릭 방향족 라디칼, 비치환되거나 치환된 헤테로사이클릭 방향족 라디칼, 할로겐, 비치환되거나 치환된 C1-C18알킬, -OR9, -CN, -NR10R11, -COR12, -NR13COR12, -NR9COOR12, -NR9CONR10R11, -NHSO2R12, -SO2R12, -SOR12, -SO2OR12, -CONR10R11, -SO2NR10R11, -N=NR14, -OCOR12및 -OCONHR12로 이루어진 그룹으로부터 선택된 라디칼이고, 각각의 두개의 인접한 라디칼은 함께 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환을 형성할 수 있고,
R12는 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시로 치환되는 C1-C18알킬, C6-C10아릴 또는 벤질이거나 5 내지 7원 헤테로사이클릭 라디칼이고,
R10및 R11은 서로 독립적으로 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C6-C10아릴 또는 5 내지 7원 헤테로아릴이고 이들은 각각 비치환되거나 시아노 또는 하이드록실 그룹에 의해 각각 치환되거나 R10및 R11은 하나 이상의 기타 라디칼 R1내지 R8과 함께 5 또는 6원 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환을 형성하고,
R9는 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C6-C10아릴 또는 5 내지 7원 헤테로아릴이고,
R13은 비치환되거나 시아노, 하이드록실 또는 C1-C4알콕시카보닐 그룹에 의해 각각 치환되는 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C1-C4알킬아릴이고, 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 그룹에 의해 치환되는 C6-C10아릴이거나 5 내지 7원 헤테로사이클이고,
R14는 결합 부분의 라디칼이거나 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 그룹에 의해 치환되는 C6-C10아릴이다.

Description

페릴렌-3,4-디카복실산 무수물의 제조{Preparation of perylene-3,4-dicarboxylic anhydrides}
본 발명은 화학식 Ⅰ의 페릴렌-3,4-디카복실산 무수물을 제조하는 개선된 방법에 관한 것이다.
상기식에서,
R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7및 R8은 수소이거나 1 내지 8의 라디칼은 비치환되거나 치환된 카보사이클릭 방향족 라디칼, 비치환되거나 치환된 헤테로사이클릭 방향족 라디칼, 할로겐, 비치환되거나 치환된 C1-C18알킬, -OR9, -CN, -NR10R11, -COR12, -NR13COR12, -NR9COOR12, -NR9CONR10R11, -NHSO2R12, -SO2R12, -SOR12, -SO2OR12, -CONR10R11, -SO2NR10R11, -N=NR14, -OCOR12및 -OCONHR12로 이루어진 그룹으로부터 선택된 라디칼이고, 각각의 두개의 인접한 라디칼은 함께 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환을 형성할 수 있고,
R12는 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시로 치환되는 C1-C18알킬, C6-C10아릴 또는 벤질이거나 5 내지 7원 헤테로사이클릭 라디칼이고,
R10및 R11은 서로 독립적으로 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C6-C10아릴 또는 5 내지 7원 헤테로아릴이고, 이들은 각각 비치환되거나 시아노 또는 하이드록실 그룹에 의해 치환되거나, R10및 R11은 하나 이상의 기타 라디칼 R1내지 R8과 함께 5 또는 6원 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환을 형성하고,
R9는 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C6-C10아릴 또는 5 내지 7원 헤테로아릴이고,
R13은 비치환되거나 시아노, 하이드록실 또는 C1-C4알콕시카보닐 그룹에 의해 각각 치환되는 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C1-C4알킬아릴이고, 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 그룹에 의해 치환되는 C6-C10아릴이거나, 5 내지 7원 헤테로사이클이고,
R14는 결합 부분의 라디칼이거나 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 그룹에 의해 치환되는 C6-C10아릴이다.
페릴렌-3,4-디카복실산 무수물의 제조 방법은 공지되어 있다. 따라서, 예를 들면 문헌[참조: Mol. Cryst. Liqu. Cryst., 158b, (1988), p. 337ff]에는 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 이무수물을 기체상 탈카복실화에 의해 페릴렌-3,4-디카복실산 무수물로 전환시키는 방법이 기술되어 있다. 그러나 이 방법은 저 수율(~5%)로 인해 실질적으로 중요하지 않다.
페릴렌-3,4-디카복실산 무수물의 제조를 위한 또 다른 가능한 출발 물질은 공업적으로 용이하게 수득할 수 있는 페릴렌-3,4-디카복스이미드이다. 그러나, 페릴렌-3,4-디카복스이미드를 염기로 직접 가수분해시키는 것은 카복스이미드 질소가 탈양자화되고 알칼리와 같은 염기에 대해 불활성인 이미드 음이온이 형성됨에 따라 불가능하다.
그러나, 문헌[참조: Bull. Chem. Soc. Jpn. 52 (1979) p. 1723ff]에 기술된 방법에 따라 진한 황산을 사용하여 가수분해시키는 것은 가능하다. 페릴렌-3,4-디카복스이미딘으로부터 출발하여 진한 황산에서 약 250℃ 온도까지 가열함으로써 설폰화 페릴렌-3,4-디카복실산 무수물이 형성된다. 그러나, 본 발명자들은 이 중간체를 분리하지 않고 이를 또한 아민과 반응시켜 질소 원자에서 치환된 페릴렌-3,4-디카복스이미드설폰산을 수득한 후, 질소 원자에서 치환된 상응하는 페릴렌-3,4-디카복스이미드를 수득하기 위해서 이들을 탈설폰화시킨다. 급격한 조건(250℃에서 진한 H2SO4)하에서 반응 공정을 수행하는 것 이외에, 페릴렌-3,4-디카복스이미드를 중간 정도로 수득한다는 것만이 단점이다.
추가의 공정은 DE-A 4,338,784에 기술되어 있고, 이에 따라 N-(2,5-디-3급-부틸-페닐)페릴렌-3,4-디카복스이미드는 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 이무수물로부터 시작하는 제1 단계에서 제조된다. 이들의 정제 후, 알칼리로 처리하여 페릴렌-3,4-디카복실산 무수물로 전환시킨다. 이러한 공정의 단점은 N-(2,5-디-3급-부틸페닐)페릴렌-3,4-디카복스이미드를 크로마토그래피하여 정제해야 하는 것이다.
페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물을 알칼리 금속 수산화물 수용액을 사용하여 부분 탈카복실화시켜 소량의 상응하는 3,9-유도체 이외에 페릴렌-3,10-디카복실산을 수득하는 것은 문헌(참조: Chem. Zentralblatt 1929 Ⅰ, p. 2472)에 공지되어 있다.
그러므로, 본 발명의 목적은 상기 언급한 단점이 없는 페릴렌-3,4-테트라카복실산 무수물의 개선된 제조 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 목적은 특히 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 또는 이의 환 치환된 유도체로부터 시작하여 단일 반응 단계에서 페릴렌-3,4-디카복실산 무수물 또는 이의 환 치환된 유도체를 수득하는 것이다.
따라서, 화학식 Ⅰ의 페릴렌-3,4-디카복실산 무수물을 제조하기 위한 본 발명에 따르는 방법은 화학식 Ⅱ의 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물을 승온에서 염기로서 입체 장애된 아민과 반응시킴을 포함한다고 밝혀졌다.
화학식 Ⅰ
상기식에서,
R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7및 R8은 수소이거나 1 내지 8의 라디칼은 비치환되거나 치환된 카보사이클릭 방향족 라디칼, 비치환되거나 치환된 헤테로사이클릭 방향족 라디칼, 할로겐, 비치환되거나 치환된 C1-C18알킬, -OR9, -CN, -NR10R11, -COR12, -NR13COR12, -NR9COOR12, -NR9CONR10R11, -NHSO2R12, -SO2R12, -SOR12, -SO2OR12, -CONR10R11, -SO2NR10R11, -N=NR14, -OCOR12및 -OCONHR12로 이루어진 그룹으로부터 선택된 라디칼이고, 각각의 두개의 인접한 라디칼은 함께 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환을 형성할 수 있고,
R12는 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환되는 C1-C18알킬, C6-C10아릴 또는 벤질이거나 5 내지 7원 헤테로사이클릭 라디칼이고,
R10및 R11은 서로 독립적으로 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C6-C10아릴 또는 5 내지 7원 헤테로아릴이고, 이들은 각각 비치환되거나 시아노 또는 하이드록실 그룹에 의해 치환되거나 R10및 R11은 하나 이상의 기타 라디칼 R1내지 R8과 함께 5 또는 6원 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환을 형성하고,
R9는 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C6-C10아릴 또는 5 내지 7원 헤테로아릴이고,
R13은 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C1-C4알킬아릴이고, 이들은 각각 비치환되거나 시아노, 하이드록실 또는 C1-C4알콕시카보닐 그룹에 의해 치환되고, 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 그룹에 의해 치환되는 C6-C10아릴이거나 5 내지 7원 헤테로사이클이고,
R14는 결합 부분의 라디칼이거나 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 그룹에 의해 치환되는 C6-C10아릴이다.
선택되는 비치환되거나 치환된 카보사이클릭 방향족 라디칼은 바람직하게는 페닐, 비페닐 및 나프틸과 같은 환 당 5 내지 7개의 탄소원자를 갖는, 모노 내지 테트라사이클릭, 특히 바람직하게는 모노 및 비사이클릭 라디칼일 수 있다.
선택되는 비치환되거나 치환된 헤테로사이클릭 방향족 라디칼은 바람직하게는 5 내지 7개의 환 원자를 갖는 모노 내지 트리사이클릭 라디칼일 수 있다. 이 라디칼은 하나 이상의 헤테로사이클릭 환으로만 이루어질 수 있거나 헤테로사이클릭 환은 하나 이상의 융합 벤젠 환을 함유할 수 있다. 언급될 수 있는 이의 예는 피리딜, 피리미딜, 피라지닐, 트리아지닐, 푸라닐, 피롤릴, 티오페닐, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 쿠마리닐, 벤조푸라닐, 벤즈이미디졸릴, 벤조옥사졸릴, 디벤조푸라닐, 벤조티오피닐, 디벤조티오페닐, 인돌릴, 카바졸릴, 피라졸릴, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 이소옥사졸릴, 티아졸릴, 인다졸릴, 벤조티아졸릴, 피리다지닐, 신놀릴, 퀴나졸릴, 퀴녹스알릴, 프탈라지닐, 프탈라진디오닐, 프탈이미딜, 크로모닐, 나프톨락타밀, 벤조피리도닐, 오르토-설포벤즈이미딜, 말레이미딜, 나프티리디닐, 벤즈이미다졸로닐, 벤즈옥사졸로닐, 벤조티아졸로닐, 벤조티아졸리닐, 퀴나졸로닐, 피리미딜, 퀴녹살로닐, 프탈라조닐, 디옥사피리니디닐, 피리도닐, 이소퀴놀로닐, 이소티아졸릴, 벤즈이소옥사졸릴, 벤즈이소티아졸릴, 인다졸로닐, 아크리디닐, 아크리도닐, 퀴나졸린디오닐, 벤즈옥사진디오닐, 벤즈옥사지노닐 및 프탈이미딜이다.
바람직한 양태에서, 카보사이클릭 및/또는 헤테로사이클릭 방향족 라디칼은 통상의 치환체, 특히 바람직하게는 비-수용성 치환체에 의해 일 또는 다치환된다. 언급할 수 있는 예는:
·불소, 염소, 브롬 및 요오드 원자와 같은 할로겐, 바람직하게는 염소원자;
·시아노 그룹 -CN;
·비치환되거나 치환된 C1-C18알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, i-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-옥타데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실, 바람직하게는 C1-C12알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실, 특히 바람직하게는 C1-C8알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, i-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, 3-펜틸, 4-헵틸, 3-헥실, 3-헵틸, 매우 특히 바람직하게는 C1-C4알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, i-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸이고,
여기서 언급한 알킬 그룹은 일반적으로 친수성을 증가시키지 않는 하기 그룹, 예를 들면 불소원자, 시아노, -OCOR12, -OR10, -OCOOR12, -CON(R10)(R11) 또는 -OCONHR12에 의해 치환될 수 있고, 여기서 R12는 C1-C18알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, i-부틸, 2급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-옥타데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실, 바람직하게는 C1-C12알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실; C6-C10아릴, 예를 들면 페닐, 2,5-디-3급-부틸페닐 및 나프틸, 바람직하게는 비치환되거나 염소 및 불소원자, 바람직하게는 불소원자와 같은 할로겐에 의해 치환되는 페닐, 2,5-디-3급-부틸페닐 및 나프틸, 바람직하게는 페닐, 나프틸 또는 벤질; C1-C4알킬 또는 -O-C1-C4알킬; 또는 5 내지 7원 헤테로사이클릭 라디칼, 예를 들면 피리딜, 피리미딜, 피라지닐, 트리아지닐, 푸라닐, 피롤릴, 티오페닐, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 쿠마리닐이고,
R10및 R11은 수소, 비치환되거나 시아노 또는 하이드록실 그룹에 의해 치환되는 상기 언급한 바와 같은 C1-C18알킬, 바람직하게는 C1-C12알킬, 특히 바람직하게는 C1-C8알킬, 매우 특히 바람직하게는 상기 언급한 바와 같은 C1-C4알킬, C3-C24사이클로알킬, 바람직하게는 상기 언급한 카복실산 및 헤테로사이클릭 방향족 라디칼로부터 바람직하게 유도된 C5-, C6-, C12-, C15-, C16-, C20- 및 C24사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴, 특히 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 페닐이거나 R10및 R11은 하나 이상의 다른 라디칼 R1내지 R8과 함께 5 또는 6원 환 또는 대안적으로 헤테로사이클릭 환, 예를 들면 피리딘, 피롤, 푸란 또는 피란 환을 형성하고, 바람직하게는 라디칼 -OR10은 하이드록실, -O-메틸, -O-에틸, -O-i-프로필-, -O-i-부틸, -O-페닐, -O-2,5-디-3급-부틸페닐이고, 바람직하게는 라디칼 -CON(R10)(R11)는 -CONH2, -CONMe2, -CONEt2, -CON(iPr)2, -CON(iBu)2, -CONPh2, -CON(2,5-디-3급-부틸페닐)2이다.
또한 바람직한 양태에서, 알킬 그룹에서 사용된 치환체는 일 또는 이알킬화 아미노 그룹, 나프틸과 같은 아릴 라디칼 또는 특히, 비치환되거나 할로겐, 알킬 또는 -O-알킬에 의해 치환되는 페닐이거나 또한 헤테로사이클릭 방향족 라디칼, 예를 들면 2-티에닐, 2-벤조옥사졸릴, 2-벤조티아졸릴, 2-벤즈이미다졸릴, 6-벤즈이미다졸로닐, 2-, 3- 또는 4-피리디닐, 2-, 4- 또는 6-퀴놀릴 또는 1-, 3-, 4-, 6- 또는 8-이소퀴놀릴 라디칼이다.
이 부분에 대해 다시 언급한 치환체가 알킬을 함유할 경우, 알킬은 측쇄 또는 직쇄일 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1 내지 18, 특히 1 내지 12, 특히 1 내지 8, 및 특히 바람직하게는 1 내지 4를 함유할 수 있다. 비치환된 알킬 그룹의 예는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-옥타데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실이고, 치환된 알킬 그룹의 예는 하이드록시메틸, 2-하이드록시에틸, 트리플루오로메틸, 트리플루오로에틸, 시아노메틸, 메톡시카보닐메틸, 아세톡시메틸 또는 벤질이다.
·-OR9, 여기서 R9는 수소, 언급한 바람직한 변수을 포함하는 R12에 대해 이미 정의한 바와 같은 C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, 특히 바람직하게는 C5-, C6-, C12-, C15-, C16-, C20- 및 C24사이클로알킬, C6-C10아릴, 예를 들면 나프틸 및 페닐, 바람직하게는 비치환된 페닐 및 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환되는 페닐 또는 5 내지 7원 헤테로아릴이다. 언급할 수 있는 R9에 대한 바람직한 라디칼의 예는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-옥타데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실, 하이드록시메틸, 2-하이드록시에틸, 트리플루오로메틸, 트리플루오로에틸, 시아노메틸, 에톡시카보닐메틸, 아세톡시메틸, 벤질, 페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐, o-, m- 또는 p-메틸페닐, 1 또는 2-나프틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로페닐, 사이클로펜타데실, 사이클로에이코사닐, 사이클로테트라코사닐, 티에닐 및 피라닐메틸이고, 바람직하게는 라디칼 -OR9는 하이드록실, 메톡시, -O-에틸, -O-i-프로필, -O-i-부틸, -O-i-페닐, -O-2,5-디-3급-부틸페닐이고;
·-NR10R11, 여기서 R10및 R11은 상기 언급한 바와 같다. 언급할 수 있는 바람직한 라디칼의 예는 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노, 에틸아미노, 디에틸아미노, 이소프로필아미노, 2-하이드록시에틸아미노, 2-하이드록시프로필아미노, N,N-비스(2-하이드록시에틸)아미노, 사이클로펜틸아미노, 사이클로헥실아미노, 사이클로도데실아미노, 사이클로펜타데실아미노, 사이클로헥사데실아미노, 사이클로에이코사닐아미노, 사이클로테트라코사닐아미노, 페닐아미노, N-메틸페닐아미노, 벤질아미노, 디벤질아미노, 피페리딜 또는 모르폴릴이고;
·-COR12, 여기서 R12는 또한 상기 나타낸 바와 같다. 언급할 수 있는 바람직한 라디칼의 예는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-옥타데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실, 하이드록시메틸, 2-하이드록시에틸, 트리플루오로메틸, 트리플루오로에틸, 시아노메틸, 메톡시카보닐메틸, 아세톡시메틸, 벤질, 페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐, o-, m- 또는 p-메틸페닐, 1 또는 2-나프틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로도데실, 사이클로펜타데실, 사이클로헥사데실, 사이클로에이코사닐, 사이클로테트라코사닐, 티에닐, 피라닐메틸 및 푸르푸릴이고;
·-NR13COR12, 여기서 R12는 추가로 상기에 나타낸 바대로 정의하고 R13은 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C1-C4알킬아릴이고, 이들은 각각 비치환되거나 시아노, 하이드록실 또는 C1-C4알콕시카보닐 그룹에 의해 치환되고, 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 그룹에 의해 치환되는 C6-C10아릴이거나 5 내지 7원 헤테로사이클이고, 알킬, 알콕시, 아릴 등의 각 라디칼의 의미는 여기서 나타낸 바람직한 범위를 포함하여 추가로 상기 나타낸 이러한 라디칼의 정의에 상응한다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 아세틸아미노, 프로피오닐아미노, 부티릴아미노, 벤조일아미노, p-클로로벤조일아미노, p-메틸벤조일아미노, N-메틸아세트아미노, N-메틸벤조일아미노, N-석신이미도, N-프탈이미도 또는 N-(4-아미노)프탈이미도이고;
·-NR9COOR12, 여기서 R12및 R9는 이미 추가로 상기에 나타낸 바와 같이 정의한다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 -NHCOOCH3, -NHCOOC2H5및 -NHCOOC6H5이고;
·-NR9CONR10R11, 여기서 R10, R11및 R9는 이미 추가로 상기에 나타낸 바와 같이 정의한다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 우레이도, N-메틸우레이도, N-페닐우레이도 또는 N,N'-2',4'-디메틸페닐우레이도이고;
·-NHSO2R12, 여기서 R12는 이미 추가로 상기에 나타낸 바와 같이 정의한다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 메틸설포닐아미노, 페닐설포닐아미노, p-톨릴설포닐아미노 또는 2-나프틸설포닐아미노이고;
·-SO2R12, 여기서 R12는 이미 추가로 상기에 나타낸 바와 같이 정의한다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 메틸설포닐, 에틸설포닐, 페닐설포닐, 2-나프틸설포닐이고;
·-SOR12, 여기서 R12는 이미 추가로 상기에 나타낸 바와 같이 정의한다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 페닐설폭시딜이고;
·-SO2OR12, 여기서 R12는 이미 추가로 상기에 나타낸 바와 같이 정의한다. 언급할 수 있는 라디칼 R12의 예는 메틸, 에틸, 페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐, o-, m- 또는 p-메틸페닐, 1- 또는 2-나프틸이고;
·-CONR10R11, 여기서 R10및 R11은 이미 추가로 상기에 나타낸 바와 같이 정의한다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 카바모일, N-메틸카바모일, N-에틸카바모일, N-페닐카바모일, N,N-디메틸카바모일, N-메틸-N-페닐카바모일, N-1-나프틸카바모일 또는 N-피페리딜카바모일이고;
·-SO2NR10R11, 여기서 R10및 R11은 이미 추가로 상기에 나타낸 바와 같이 정의한다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 설파모일, N-메틸설파모일, N-에틸설파모일, N-페닐설파모일, N-메틸-N-페닐설파모일 또는 N-모르폴릴설파모일이고;
·-N=NR14, 여기서 R14는 결합 부분의 라디칼 또는 비치환되거나 할로겐, 알킬 또는 -O-알킬에 의해 치환될 수 있는 페닐 라디칼이고, 할로겐 및 알킬은 상기 정의한 바와 같다. R14의 정의에서 발생하는 알킬은 바람직한대로 추가로 상기 나타낸 C 원자의 수중 하나를 가질 수 있다. 언급할 수 있는 R14의 예는 아세토아세트아릴리드, 피라졸릴, 피리도닐, o-, p-하이드록시페닐, o-하이드록시나프틸, p-아미노페닐 또는 p-N,N-디메틸아미노페닐 라디칼이다.
·-OCOR12, 여기서 R12는 이미 추가로 상기에 나타낸 바와 같이 정의한다. 언급할 수 있는 라디칼 R12의 예는 메틸, 에틸, 페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐이고;
·-OCONHR12, 여기서 R12는 이미 추가로 상기에 나타낸 바와 같이 정의한다. 언급할 수 있는 라디칼 R12의 예는 메틸, 에틸, 페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐이다.
사용된 할로겐은 불소, 염소, 브롬 또는 요오드원자이고, 바람직하게는 불소 또는 염소원자이다.
사용될 수 있는 비치환되거나 치환된 C1-C18알킬은 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, i-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-옥타데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실, 바람직하게는 C1-C12알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실, 특히 바람직하게는 C1-C8알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, i-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, 3-페닐, 4-헵틸, 3-헥실, 3-헵틸, 매우 특히 바람직하게는 C1-C4알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, i-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸이고,
여기서 언급한 알킬 그룹은 일반적으로 친수성을 증가시키지 않는 하기 그룹, 예를 들면 불소원자, 하이드록실, 시아노, -OCOR12, -OR10, -OCOOR12, -CON(R10)(R11) 또는 -OCONHR12에 의해 치환될 수 있고, 여기서 R12는 C1-C18알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, i-부틸, 2급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-옥타데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실, 바람직하게는 C1-C12알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실; C6-C10아릴, 예를 들면 페닐 및 나프틸, 바람직하게는 나프틸 또는 비치환되거나 할로겐, 예를 들면 염소 및 불소원자, 바람직하게는 불소원자에 의해 치환되는 벤질; C1-C4알킬 또는 -O-C1-C4알킬; 또는 5 내지 7원 헤테로사이클릭 라디칼, 예를 들면 피리딜, 피리미딜, 피라지닐, 트리아지닐, 푸라닐, 피롤릴, 티오페닐, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 쿠마리닐이고,
R10및 R11은 수소, 비치환되거나 시아노 또는 하이드록실 그룹에 의해 치환되는 상기 언급한 바와 같은 C1-C18알킬, 바람직하게는 C1-C12알킬, 특히 바람직하게는 C1-C8알킬, 매우 특히 바람직하게는 상기 언급한 바와 같은 C1-C4알킬, C3- 내지 C24사이클로알킬, 바람직하게는 상기 언급한 카보- 및 헤테로사이클릭 방향족 라디칼로부터 바람직하게 유도된 C5-, C6-, C12-, C15-, C16-, C20- 및 C24사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴, 특히 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 페닐이거나 R10과 R11은 하나 이상의 다른 라디칼 R1내지 R8과 함께 5 또는 6원 환 또는 대안적으로 헤테로사이클릭 환, 예를 들면 피리딘, 피롤, 푸란 또는 피란 환을 형성한다.
또 다른 바람직한 양태에서, 알킬 그룹에서 사용된 치환체는 일 또는 디알킬화 아미노 그룹, 아릴 라디칼, 예를 들면 나프틸 또는 특히, 비치환되거나 할로겐, 알킬 또는 -O-알킬에 의해 치환되는 페닐 또는 추가로 헤테로사이클릭 방향족 라디칼, 예를 들면 2-티에닐, 2-벤조옥사졸릴, 2-벤조티아졸릴, 2-벤즈이미다졸릴, 6-벤즈이미다졸로닐, 2-, 3- 또는 4-피리디닐, 2-, 4- 또는 6-퀴놀릴 또는 1-, 3-, 4-, 6- 또는 8-이소퀴놀릴 라디칼이다.
이 부분에 대해 언급한 치환체가 차례로 알킬을 함유하는 경우, 이 알킬은 직쇄 또는 측쇄일 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1 내지 18, 특히 1 내지 12, 특히 1 내지 8 및 특히 바람직하게는 1 내지 4를 함유할 수 있다. 비치환된 알킬 그룹의 예는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-옥타데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실이고, 치환된 알킬 그룹의 예는 하이드록시메틸, 2-하이드록시에틸, 플루오로메틸, 플루오로에틸, 시아노메틸, 메톡시카보닐메틸, 아세톡시메틸 또는 벤질이다.
라디칼 -OR9에서, R9에 대해 수소, 여기서 언급한 바람직한 변수을 포함하여 R12에 대해 이미 정의한 바와 같은 C1-C18알킬을 사용할 수 있다. R9에 대해 언급할 수 있는 바람직한 라디칼의 예는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, i-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-옥타데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실, 하이드록시메틸, 2-하이드록시에틸, 트리플루오로메틸, 트리플루오로에틸, 시아노메틸, 메톡시카보닐메틸, 아세톡시메틸, 벤질, 페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐, o-, m- 또는 p-메틸페닐, 1 또는 2-나프틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로페닐, 사이클로펜타데실, 사이클로헥사데실, 사이클로에이코사닐, 사이클로테트라코사닐, 티에닐 및 피라닐메틸이다. 언급될 수 있는 바람직한 라디칼의 예는 하이드록실, 메톡시, -O-에틸, -O-i-프로필, -O-i-부틸, -O-페닐, -O-2,5-디-3급-부틸페닐이다.
-NR10R11에서, 이미 상기 정의한 라디칼은 R10및 R11에 대해 사용할 수 있다. 언급할 수 있는 바람직한 라디칼의 예는 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노, 에틸아미노, 디에틸아미노, 이소프로필아미노, 2-하이드록시에틸아미노, 2-하이드록시프로필아미노, N,N-비스(2-하이드록시에틸)아미노, 사이클로펜틸아미노, 사이클로헥실아미노, 사이클로도데실아미노, 사이클로펜타데실아미노, 사이클로헤카데실아미노, 사이클로에이코사닐아미노, 사이클로테트라코사닐아미노, 페닐아미노, N-메틸페닐아미노, 벤질아미노, 디벤질아미노, 피페리딜 또는 모르폴릴이고, 특히 바람직한 라디칼은 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디-n-프로필아미노, 디-n-부틸아미노, 디-n-펜틸아미노, 디-n-헥실아미노, 디-n-헵틸아미노, 디-n-옥틸아미노, 디-n-도데실아미노이다.
R10및 R11은 그 자체로 또는, 경우에 따라, 각각의 경우 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7및 R8로 부터의 하나 이상의 다른 유리 라디칼과 함께 하나 이상의 5- 또는 6원, 포화 또는 불포화 환, 예를 들면 피리딘, 피롤, 피페리딘, 퀴놀린 또는 벤조퀴놀리진 유도체를 형성할 수 있다.
-COR12로서, R12가 또한 상기 나타낸 바와 같이 정의된 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 바람직한 라디칼 R12의 예는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸, 3급-아밀, n-헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-옥타데실, 3-펜틸, 4-헵틸, 5-노닐, 6-운데실, 7-트리데실, 3-헥실, 3-헵틸, 3-노닐, 3-운데실, 하이드록시메틸, 2-하이드록시에틸, 트리플루오로메틸, 트리플루오로에틸, 시아노메틸, 메톡시카보닐메틸, 아세톡시메틸, 벤질, 페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐, o-, m- 또는 p-메틸페닐, 1 또는 2-나프틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로도데실, 사이클로펜타데실, 사이클로헥사데실, 사이클로에이코사닐, 사이클로테트라코사닐, 티에닐, 피라닐메틸 및 푸르푸릴이다.
-NR13COR12로서, R12가 또한 상기에 나타낸 바와 같이 정의된 라디칼이 사용될 수 있고 R13은 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C1-C4알킬아릴이고, 이들은 각각 비치환되거나 시아노, 하이드록실 또는 C1-C4알콕시카보닐 그룹에 의해 치환되고, 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 그룹에 의해 치환되는 C6-C10아릴이거나 5 내지 7원 헤테로사이클이고, 이러한 알킬, 알콕시, 아릴 등의 각 라디칼의 의미는 본원에서 나타낸 바람직한 범위를 포함하여 또한 상기 나타낸 라디칼의 정의, 예를 들면 o-, m- 또는 p-클로로페닐, o-, m- 또는 p-메틸페닐, 1 또는 2-나프틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로도데실, 사이클로펜타데실, 사이클로헥사데실, 사이클로에이코사닐, 사이클로테트라코사닐, 티에닐, 피라닐메틸, 벤질 또는 푸르푸릴에 상응한다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 아세틸아미노, 프로피오닐아미노, 부티릴아미노, 벤조일아미노, p-클로로벤조일아미노, p-메틸벤조일아미노, N-메틸아세트아미노, N-메틸벤조일아미노, N-석신이미도, N-프탈이미도 또는 N-(4-아미노)프탈이미도이다.
-NR9COOR12로서, R12및 R9가 또한 이미 상기에 나타낸 바와 같이 정의한 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 -NHCOOCH3, -NHCOOC2H5및 -NHCOOC6H5이다.
-NR9CONR10R11로서, R10, R11및 R9가 또한 이미 상기에 나타낸 바와 같이 정의한 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 우레이도, N-메틸우레이도, N-페닐우레이도 또는 N,N'-2',4'-디메틸페닐우레이도이다.
-NHSO2R12로서, R12가 또한 이미 상기에 나타낸 바와 같이 정의한 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 메틸설포닐아미노, 페닐설포닐아미노, p-톨릴설포닐아미노 또는 2-나프틸설포닐아미노이다.
-SO2R12로서, R12가 또한 이미 상기에 나타낸 바와 같이 정의한 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 메틸설포닐, 에틸설포닐, 페닐설포닐, 2-나프틸설포닐이다.
-SOR12로서, R12가 또한 이미 상기에 나타낸 바와 같이 정의한 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 페닐설폭시딜이다.
-SO2OR12로서, R12가 또한 이미 상기에 나타낸 바와 같이 정의한 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 라디칼 R12의 예는 메틸, 에틸, 페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐, o-, m- 또는 p-메틸페닐, 1- 또는 2-나프틸이다.
-CONR10R11로서, R10및 R11이 또한 이미 상기에 나타낸 바와 같이 정의한 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 카바모일, N-메틸카바모일, N-에틸카바모일, N-페닐카바모일, N,N-디메틸카바모일, N-메틸-N-페닐카바모일, N-1-나프틸카바모일 또는 N-피페리딜카바모일이다.
-SO2NR10R11로서, R10및 R11이 또한 이미 상기에 나타낸 바와 같이 정의한 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 라디칼의 예는 설파모일, N-메틸설파모일, N-에틸설파모일, N-페닐설파모일, N-메틸-N-페닐설파모일 또는 N-모르폴릴설파모일이다.
-N=NR14로서, R14가 결합 부분의 라디칼 또는 비치환되거나 할로겐, 알킬 또는 -O-알킬에 의해 치환되는 페닐 라디칼인 이러한 라디칼이 사용될 수 있고, 할로겐 및 알킬은 상기 정의한 바와 같다. R14의 정의에서 발생하는 알킬은 바람직한대로 추가로 상기 나타낸 C 원자의 수중 하나인 것을 가질 수 있다. 언급할 수 있는 R14의 예는 아세토아세트아릴리드, 피라졸릴, 피리도닐, o-, p-하이드록시페닐, o-하이드록시나프틸, p-아미노페닐 또는 p-N,N-디메틸아미노페닐 라디칼이다.
-OCOR12로서, R12가 또한 이미 상기에 나타낸 바와 같이 정의한 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 라디칼 R12의 예는 메틸, 에틸, 페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐이다.
-OCONHR12로서, R12가 또한 이미 상기에 나타낸 바와 같이 정의한 라디칼이 사용될 수 있다. 언급할 수 있는 라디칼 R12의 예는 메틸, 에틸, 페닐, o-, m- 또는 p-클로로페닐이다.
페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 Ⅱ는, 예를 들면 초기에 이미 언급한 선행 기술의 문헌에서 공지되어 있다. 치환된 화합물은 마찬가지로 공지되어 있거나, 예를 들면 DE-A 4,338,784에 기술된 방법과 유사하게 제조할 수 있다. 따라서 니트로 유도체, 예를 들면 아세트산 무수물 중의 디클로로메탄 또는 질산구리 중의 디니트로겐 테트록사이드를 사용하여 니트로화시킴으로써 수득할 수 있다. 니트로 화합물을 환원시킴으로써 상응하는 아미노 화합물을 합성할 수 있고, 또한 차례로 유도될 수 있다. 브롬화 유도체는, 예를 들면 DE-A 4,338,784에 의해 직접 브롬화시킴으로써 제조할 수 있고, 이로부터 일반적으로 상응하는 알콕시 및 페녹시 유도체는 친핵적 치환에 의해 수득할 수 있다. 알킬 유도체는 문헌(참조: Leonhard Feiler, Dissertation 1995, University of Munich)과 유사하게 알킬리튬 화합물에 의해 직접 알킬화시킴으로써 수득할 수 있다.
특히 바람직한 유도체는 라디칼 R1내지 R8이 수소인 비치환된 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 Ⅱ 및 1,7-이치환된 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 Ⅱ이다(참조: DE-A 19547209, DE-A 19547210 또는 WO 96/22331).
적합한 입체 장애된 아민은, 예를 들면 입체 장애된 탄소수 7 내지 20의 3급 지방족 아민, 특히 비-축합 아민, 예를 들면, 이소프로필 또는 3급-부틸 그룹을 함유하는 아민(예: 디에틸이소프로필아민, 디이소프로필메틸아민, 3급-부틸디에틸아민, 디-3급-부틸메틸아민, 디-3급-부틸에틸아민 또는 디이소프로필에틸아민, 특히 디이소프로필에틸아민), 탄소수 4 내지 20의 2급 지방족 아민, 예를 들면 2-아미노부탄, 2-아미노-, 3-아미노펜탄, 2-아미노-, 3-아미노헥산, 2-아미노-, 3-아미노-, 4-아미노헵탄, 3-아미노-3-메틸헥산, 3-아미노-3-에틸펜탄, 2-아미노, 3-아미노-, 4-아미노옥탄, 특히 3-아미노-3-에틸펜탄 및 또한 1,4-디아자비사이클로[2.2.2]옥탄("DABCO"), 디아자비사이클로운데센("DBU") 및 헤테로사이클릭 아민, 예를 들면 테트라메틸피페리딘, 2,6-루티딘 또는 2,6-디-3급-부틸피리딘이다.
통상적으로 입체 장애된 아민(=염기) 대 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 Ⅱ의 몰비는 0.5:1 내지 20:1, 바람직하게는 1:1 내지 10:1, 특히 바람직하게는 1:5 내지 5:1의 범위로 선택된다.
반응은 본 발명에 따라서 승온, 즉 실온 이상의 온도에서 수행된다. 바람직한 온도 범위는 50 내지 250℃, 특히 바람직하게는 100 내지 200℃, 특히 160 내지 190℃이다.
바람직한 양태에서, 반응은 보조 염기의 존재하에 수행된다. 적합한 보조 염기는, 예를 들면 5 또는 6원 환, 경우에 따라, 탄소수 4 내지 9의 융합된 페닐 환, 예를 들면 이미다졸, 1-, 2- 또는 3-메틸이미다졸, 피리딘 또는 퀴놀린으로 이루어진 사이클릭 염기성 질소 화합물이다.
보조 염기 대 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 Ⅱ의 몰비는 일반적으로 1:1 내지 1:100, 바람직하게는 1:10 내지 1:50, 특히 바람직하게는 1:25 내지 1:50의 범위로 선택된다.
또한 특히 바람직한 양태에서, 반응은 촉매, 예를 들면 아연, 납, 칼슘, 구리, 망간, 철, 코발트, 니켈, 주석, 은 또는 마그네슘 염, 바람직하게는 클로라이드, 설페이트, 니트레이트 및 아세테이트, 특히 아세트산아연, 프로피온산아연, 아세트산납, 아세트산칼슘, 아세트산망간, 아세트산카드뮴, 아세트산제1철(Ⅱ) 및 아세트산제2철(Ⅲ), 아세트산코발트, 아세트산구리, 아세트산니켈, 아세트산주석, 아세트산은 또는 아세트산마그네슘, 특히 바람직하게는 아세트산아연 이수화물의 존재하에 수행된다.
일반적으로 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 Ⅱ 대 촉매의 몰비는 1:0.5 내지 1:10, 특히 1:1 내지 1:5의 범위로 사용된다.
반응은 통상적으로 초대기압, 예를 들면 120kPa 내지 10MPa의 범위, 바람직하게는 오토클레이브 속에서, 예를 들면 반응 혼합물을 오토클레이브 속에서 상기 온도로 가열함으로써 수행된다.
반응 시간은 자연적으로 특히 선택된 반응 온도 및 반응물의 반응성 및 반응 온도, 예를 들면 170℃에 따라 좌우되고 바람직하게는 0.5 내지 10시간, 특히 바람직하게는 2 내지 5시간의 범위이다.
특히 바람직한 양태에서, 페릴렌 이무수물 Ⅱ, 특히 바람직하게는 비치환된 페릴렌 이무수물 Ⅱ(R1내지 R8은 수소이다)는 아세트산아연 이수화물의 존재하에 염기로서 디이소프로필아민과 1:3 내지 1:5, 바람직하게는 1:3.5 내지 1:4.5(Ⅱ/염기)의 범위의 몰비로 반응한다. 이러한 방법에서, 일반적으로 이미드 Ⅳ은 없고 소량의 카복실산 Ⅲ만을 부산물로서 수득한다.
일반적으로 반응 혼합물은 산, 바람직하게는 희석 무기산, 예를 들면 희석 염산 또는 희석 황산의 존재하에 유기 용매, 바람직하게는 C1-C4알카놀, 예를 들면 메탄올, 에탄올, n-프로판올, i-프로판올 또는 3급-부탄올, 특히 바람직하게는 에탄올에 존재하는 아민에 용해시키고 이들을 분리함으로써 후처리한다.
불용성 잔사는 바람직하게는 염기로 처리한다. 바람직한 양태는 잔사를 진한 알칼리 금속 탄산염 용액, 바람직하게는 탄산칼륨을 사용하여 처리함을 포함하고, 이로써 출발 페릴렌 Ⅱ는 예를 들면 사칼륨 염으로서 용액에 용해되고, 반면 통상적 이온의 다량 첨가로 인해 목적하는 페릴렌 무수물 Ⅰ 및 또한 일반적으로 부산물로서 생기는 페릴렌 유도체 Ⅲ 및 Ⅳ는 용해되지 않는다. 불용성 성분은 공지된 방법, 예를 들면 용해성 성분의 여과 또는 원심분리에 의해 제거될 수 있다. 산성화시킨 후, 사칼륨 염은 다시 출발 물질로서 사용할 수 있다.
이어서 목적하는 페릴렌 무수물 Ⅰ은 예를 들면 희석 알칼리 금속 탄산염 용액, 바람직하게는 탄산칼륨을 사용하여 페릴렌 유도체 Ⅲ과 함께 처리함으로써 이미드 Ⅳ로부터 제거될 수 있다. 탄산칼륨 용액의 온도는 바람직하게는 40 내지 95℃이다. 경우에 따라, 이 방법은 잔사내에 목적하는 최소량의 목적 페릴린 무수물 Ⅰ 및/또는 카복실산 Ⅲ을 수득할 때까지 수회 반복해야 한다.
또 다른 바람직한 양태는 아민이 없는 불용성 잔사를 희석 알칼리 금속 탄산염 용액, 바람직하게는 탄산칼륨 용액을 사용하여 처리하고, 가용성 성분을 본래 공지된 방법으로 불용성 물질로부터 제거하고, 수득한 수용성 염기성 상을, 예를 들면 클로로포름을 사용하여 추출함을 포함한다. 클로로포름 상은 경제성 및 경제적 이익에 따라 후처리하거나 제거할 수 있다. 일반적으로 수성 상은 목적하는 페릴렌 무수물 Ⅰ 및, 경우에 따라, 제조 조건에 따라 카복실산 Ⅲ을 함유한다.
페릴렌 무수물 Ⅲ 및, 경우에 따라, 카복실산 Ⅲ을 함유하는 두가지 양태에 따라서 수득한 용액은 또한 하기와 같이 후처리할 수 있다: 바람직하게는 희석 무기산, 예를 들면 희석 염산을 사용하여 산성화시킴으로써 페릴렌 무수물 Ⅰ 및, 경우에 따라, 카복실산 Ⅲ은 먼저 침전되고 바람직하게는 n-부탄올, 특히 바람직하게는 40 내지 90℃ 온도 범위의 n-부탄올을 사용하여 추출한다. 이러한 과정에서, 카복실산 Ⅲ은 일반적으로 용액에 용해되고 따라서, 경우에 따라, 예를 들면 클로로포름내에서 재결정화시킴으로써 분리 제거하고 또한 정제한다. 목적하는 페릴렌 무수물 Ⅰ은, 경우에 따라, 추가로 물로 세척하고 이어서 건조할 수 있는 잔사로서 존재한다.
본 발명의 추가의 양태는 페릴렌 이무수물 Ⅱ를 승온에서 물의 존재하에 염기로서 입체 장애된 아민과 반응시킴으로써 카복실산 Ⅲ을 제조하는 방법에 관한 것이다.
사용될 수 있는 입체 장애된 아민은 또한 상기 언급한 아민, 바람직하게는 지방족 아민, 특히 바람직하게는 3-아미노-3-에틸펜탄을 사용할 수 있다.
통상적으로 입체 장애된 아민(=염기) 대 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 Ⅱ의 몰비는 0.5:1 내지 20:1, 바람직하게는 1:1 내지 10:1, 특히 바람직하게는 1.5:1 내지 5:1의 범위로 선택된다.
바람직하게는 페릴렌 이무수물 Ⅱ 대 물의 몰비는 20:1 내지 0.5:1, 특히 바람직하게는 10:1 내지 2:1, 매우 특히 바람직하게는 6:1 내지 3:1의 범위로 선택된다.
반응은 본 발명에 따라서 승온, 즉 실온 이상의 온도에서 수행된다. 바람직한 온도 범위는 50℃ 내지 250℃, 특히 바람직하게는 100 내지 200℃, 특히 160 내지 190℃이다.
바람직한 양태에서, 반응은 보조 염기의 존재하에 수행된다. 적합한 보조 염기는 예를 들면, 경우에 따라, 탄소수 4 내지 9의 융합된 페닐 환을 갖는 5 또는 6-원 환으로 이루어진 사이클릭 염기성 질소 화합물, 예를 들면 이미다졸, 1-, 2- 또는 3-메틸이미다졸, 피리딘 또는 퀴롤린이다.
일반적으로, 보조 염기 대 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 Ⅱ의 몰비는 1:1 내지 1:100, 바람직하게는 1:10 내지 1:50, 특히 바람직하게는 1:25 내지 1:50의 범위로 선택된다.
후처리는 바람직하게는 상기 이미 언급한 바와 같이 수행되고 카복실산 Ⅲ은 바람직하게는 클로로포름/빙초산에서 재결정화된다.
특히 바람직한 양태는 페릴렌 이무수물 Ⅱ를 물의 존재하에 염기로서 디이소프로필아민과 반응시켜 카복실산 Ⅲ을 수득하는 것이다.
추가의 양태는 페릴렌 이무수물 Ⅱ를 승온에서 염기로서 입체 장애된 아민과 반응시킴으로써 페릴렌 이미드 Ⅳ를 제조하는 방법에 관한 것이다.
사용될 수 있는 입체 장애된 아민은 또한 상기 이미 언급한 아민, 바람직하게는 2급 또는 3급 아민이 아니고, 예를 들면 DABCO 및 DBU와 같은 더욱 불안정한 아민이 언급될 수 있다.
바람직한 양태에서, 입체 장애된 아민(=염기) 대 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 Ⅱ의 몰비는 0.5:1 내지 20:1, 바람직하게는 1:1 내지 10:1, 특히 바람직하게는 1.5:1 내지 5:1의 범위로 선택된다.
반응은 본 발명에 따라서 승온, 즉 실온 이상의 온도에서 수행된다. 바람직한 온도 범위는 50 내지 250℃, 바람직하게는 100 내지 200℃, 특히 160 내지 190℃이다.
바람직한 양태에서, 반응은 보조 염기의 존재하에 수행된다. 적합한 보조 염기는, 예를 들면 경우에 따라, 탄소수 4 내지 9의 융합된 페닐 환을 갖는 5 또는 6-원 환으로 이루어진 사이클릭 염기성 질소 화합물, 예를 들면 이미다졸, 1-, 2- 또는 3-메틸이미다졸, 피리딘 또는 퀴놀린이다.
일반적으로 보조 염기 대 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물 Ⅱ의 몰비는 1:1 내지 1:100, 바람직하게는 1:10 내지 1:50, 특히 바람직하게는 1:25 내지 1:50의 범위로 선택된다.
후처리는 바람직하게는 이미 언급한 바와 같이 수행하여 불용성 잔사로서 알칼리 금속 탄산염 추출물로부터 페릴렌 이미드 Ⅳ를 수득한다. 생성물은 또한 재결정화에 의해, 경우에 따라, 클로로포름/메탄올에서 이 잔사로부터 정제될 수 있다.
특히 바람직한 양태에서, 페릴렌 이무수물 Ⅱ를 상기에서 이미 언급한 반응 조건이 나타내는 1:2 내지 1:4의 몰비로 DABCO와 반응시킨다. 이러한 경우에, 이전의 관찰에 따라서, 부산물로서 생기는 카복실산 Ⅲ은 소량으로만 형성하고, 경우에 따라, 형성되지 않는다.
본 발명의 추가의 양태는 치환된 페릴렌 무수물 Ⅰ, 즉 라디칼 R1내지 R8중의 하나 이상이 수소 이외의 것인 페릴렌 무수물 Ⅰ, 특히 1-, 1,6-, 1,7-, 2,5-, 7,12- 또는 8,11-위치에서 치환되는, 즉 라디칼 R2; R2, R7; R2, R6; R1, R8; R3, R6및 R4, R5가 각각의 경우에 수소가 아닌 치환된 페릴렌 무수물 Ⅰ에 관한 것이다. 치환된 페릴렌 무수물 Ⅰ은 바람직하게는 환 시스템에서 하나 또는 두개의 치환체를 갖고, 이치환된 화합물인 경우에 치환체가 바람직하게는 동일하다.
적합한 치환체는 또한 상기 이미 언급한 바와 같은 라디칼 R1내지 R8이고, 바람직한 치환체는 본원에서 언급한 알킬, 니트로, 아미노 라디칼 및 염소 또는 브롬원자와 같은 할로겐이다.
본 발명의 추가의 양태는 치환된 페릴렌카복실산 Ⅲ, 특히 1-, 1,6-, 1,7-, 2,5-, 7,12- 또는 8,11-위치에서 치환되는 치환된 카복실산 Ⅲ에 관한 것이다. 치환된 페릴렌카복실산 Ⅲ은 환 시스템에서 하나 또는 두개의 치환체를 갖고, 이치환된 화합물인 경우, 치환체는 바람직하게는 동일하다.
적합한 치환체는 또한 상기 이미 언급한 바와 같은 라디칼 R1내지 R8이고, 바람직한 치환체는 본원에서 언급한 알킬, 니트로, 아미노 라디칼 및 염소 또는 브롬원자와 같은 할로겐이다.
본 발명의 추가의 양태는 치환된 페릴렌 이미드 Ⅳ, 특히 1-, 1,6-, 1,7-, 2,5-, 7,12- 또는 8,11-위치에서 치환되는 치환된 페릴렌 이미드 Ⅳ에 관한 것이다. 치환된 페릴렌 무수물 Ⅰ은 바람직하게는 환 시스템에서 하나 또는 두개의 치환체를 갖고, 이치환된 화합물인 경우, 치환체는 바람직하게는 동일하다.
적합한 치환체는 또한 상기 이미 언급한 바와 같은 라디칼 R1내지 R8이고, 바람직한 치환체는 본원에서 언급한 알킬, 니트로, 아미노 라디칼 및 염소 또는 브롬원자와 같은 할로겐이다.
본 발명에 따른 페릴렌 유도체 Ⅰ 및 Ⅱ 및 이들의 금속 착염은 일반적으로 본래 각각의 공지된 방법에 의해, 바람직하게는
(a) 중합체를 내부 염색하기 위해, 여기서 중합체로서 폴리비닐 클로라이드, 셀룰로즈 아세테이트, 폴리카보네이트, 폴리아미드, 폴리우레탄, 폴리이미드, 폴리벤즈이미다졸, 멜라민, 수지, 실리콘, 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리스티렌, 폴리(메틸 메타크릴레이트), 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리(비닐 아세테이트), 폴리아크릴로니트릴, 폴리부타디엔, 폴리클로로부타디엔 또는 폴리이소프렌 또는 상기 언급한 단량체의 공중합체가 사용될 수 있고,
(b) 천연 물질뿐 아니라, 특히 종이, 나무, 짚, 가죽, 피부(hide) 또는 천연 섬유 물질, 예를 들면 면, 모, 실크, 황마, 사이잘삼, 대마, 아마 또는 동물의 머리(예: 말털) 및 이들의 변형 생성물, 예를 들면 비스코스 섬유, 니트레이트 실크 또는 쿠프라암모늄 레이온(rayon)을 염색하기 위한 배트 염료 또는 매염제로서, 여기서 매염을 위한 바람직한 염은 알루미늄, 크롬 및 철 염이고,
(c) 염료, 피복물, 특히 자동차 피복물, 도료, 종이 착색제, 인쇄 착색제, 잉크 제조시, 바람직하게는 형광 잉크로서 균질 용액에서 잉크 젯 프린터를 사용하기 위해 및 전자 사진뿐 아니라 표시 및 필기를 목적으로, 예를 들면 건식 복사기 시스템(Xerox Process) 및 레이저 프린터 용으로,
(d) 특정, 명백한 색상 인장이 성취되는 체크, 체크 카드, 지페, 쿠폰, 문서, 신분증 등과 같은 보안 표시를 목적으로,
(e) 특정 색상의 색조를 수득하고, 특히 발광 색상 색조가 바람직한 안료 및 염료와 같은 착색제에 대한 첨가제로서,
(f) 분류용 물체의 기계적 인식이 바람직한, 형광에 의해 물체의 기계적 인식을 위해 이러한 물체의 표시용으로, 예를 들면 알파벳 숫자 인쇄물 또는 바 코드가 바람직하게 사용되는 플라스틱을 재활용하기 위해서,
(g) 광 주파수 전환용으로, 예를 들면 단파광으로부터 장파 가시광을 만들기 위해 또는 비 직선 광학에서 레이저 광의 주파주 이배화 및 주파수 삼배화를 위해,
(h) 목적을 나타내거나 표시하는 다양한 디스플레이를 위한 디스플레이 소자, 예를 들면 수동형 디스플레이 소자, 표지 및 교통 신호(교통 광)을 제조하기 위해,
(i) 초전도 유기 물질(예를 들면 요오딘을 사용하여 도핑한 후 π-π 상호반응을 통해 중간 충전 탈편재화가 통상적으로 수득된다)을 위한 출발 물질로서,
(j) 고체 형광 라벨을 위해,
(k) 장식 및 예술적 목적으로,
(l) 미량 원소를 목적으로, 예를 들면 생화학, 약물 및 자연과학 분야에서 본 발명에 따르는 염료를 기질과 공유적으로 또는 수소 결합 또는 소수성 상호반응(흡수)과 같은 제2 원자가를 통해 결합시킬 수 있고,
(m) 고 감도 검출 방법에서 형광 염료로서(참조: C. Aubert, J. Funfschiling, 1. Zschokke-Granacher and H. Langhals, Z. Analyt. Chem. 1985, 320, 361), 특히 신틸레이터에서의 형광 염료로서,
(n) 가시광 집적계에서, 형광 태양 집적기에서(참조: H. Langhals, Nachr. Chem. Tech. Lab. 1980, 28, 716), 형광 활성 디스플레이에서(참조: W. Greubel and G. Baur, Elektronik 1977, 26, 6), 플라스틱을 제조하고 물질을 시험하기 위한 광 유도 중합반응용 냉각 광원에서, 예를 들면 반도체 회로의 제조시, 집적 반도체 성분의 미소구조의 연구를 위해, 광전도체에서, 광그래픽 공정에서, 여기 상태가 전자, 이온 또는 UV 조사에 의해 발생하는 전시, 조명 또는 화상 전환 시스템에서, 예를 들면 이와 같은 염료를 함유하거나 다른 반도체와 함께, 예를 들면 에피택시 형태인 집적 반도체 회로의 부품으로서 형광 전시, 양극선 튜브 또는 형광 튜브에서, 화학 발광 시스템에서, 예를 들면 화학발광 섬광에서, 발광 면역검정에서 또는 기타 발광 검출 공정에서, 신호 염료로서, 바람직하게는 필기 및 도면의 가시적강조 또는 기타 그래픽 생성물을 위해, 특정 가시적 색상 인쇄가 수득될 수 있는 라벨 및 기타 제품의 라벨을 위해, 바람직하게는 형광 염료 레이저로서, 레이저 빔을 생성하기 위해, 가시 저장 매질 및 Q 스위치로서, 및
(o) 또한 레올로지 증진제로서 사용하기 적합하다.
실시예 1: 페릴렌-3,4-디카복실산 무수물 Ⅰ
페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 이무수물 Ⅱ(2.00g, 5.1mmol), 디이소프로필에틸아민(2.63g, 20.4mmol), 아연 아세테이트 이수화물(1.49g, 6.8mmol) 및 이미다졸(16g, 235mmol)은 미분쇄하고 스테인레스 스틸 오토클레이브 속에서 170℃로 3.5시간 동안 가열한다. 반응 혼합물은 고온 에탄올(240㎖)에 분산시키고 2N HCl을 가하고(450㎖) 침전물을 흡인 여과 제거하고 110℃에서 공기 건조시킨다. 고온 2N K2CO3용액(250㎖)을 사용하여 6회 순환 처리하고 이어서 클로로포름으로 추출한다. 클로로포름상을 제거하고 수성상을 2N HCl을 사용하여 산성화시킨다. 침전물은 흡인 여과 제거하고 110℃에서 공기 건조시킨다. 1-부탄올을 사용하여 100℃에서 처리하고 증류수로 세척하고 100℃에서 다시 공기 건조시킨다. 순수 Ⅰ의 수율은 410㎎(25%)이고, 융점은 350℃ 이상이고, Rf(실리카 겔;클로로포름/빙초산 10:1) = 0.78
실시예 2 내지 4:
아연 아세테이트를 가하지 않고 아민 및 페릴렌 이무수물 Ⅱ 대 아민의 몰비 둘 다가 하기 표에 따라 다양하다는 것을 차이점으로 하여 실시예 1을 반복한다.
실시예 5: 페릴렌-3-카복실산 Ⅲ
페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 이무수물 Ⅱ(2.00g, 5.1mmol), 디이소프로필에틸아민(2.63g, 20.4mmol), 증류수(20㎖) 및 이미다졸(16g, 235mmol)을 반응시키고 Ⅰ의 제조를 위해 실시예 1에 기술된 바와 같이 후처리한다. 1-부탄올 상은 증발시키고 잔사를 클로로포름/빙초산(10:1)로부터 재결정화시킨다. Ⅲ의 수율은 360㎎(24%)이고, 융점은 320℃이고, Rf(실리카 겔; 클로로포름/에탄올 10:1)=0.41. -IR(KBr): ν=3410㎝-1m, 3051w, 1680s, 1590m, 1569m, 1502m, 1492m, 1258m, 1215w, 1189m, 1151m, 812s, 767s. UV/Vis(CHCl3): λmax(Erel)=453.3mm(1.00), 439.5(0.92). 형광(CHCl3): λmax=492nm. -1H NMR([D6]-DMSO): δ=8.81(s, 1H, CO2H), 8.29(m, 7H), 7.77(m, 2H), 7.43(m, 2H). -MS(70eV): m/z(%)=296(100)[M+]. 252(8.2)[M+-CO2), 250(23.4), 125(16.1).
실시예 6: 페릴렌-3,4-디카복스이미드 Ⅳ
페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 이무수물 Ⅱ(2.00g, 5.1mmol), DABCO(1.14g, 10.2mmol) 및 이미다졸(16g, 235mmol)을 반응시키고 Ⅰ의 제조를 위해 실시예 1에 기술된 바와 같이 후처리한다. K2CO3추출물로부터의 불용성 잔사는 110℃에서 공기 건조시키고 이어서 클로로포름/에탄올 10:1로부터 추출적으로 재결정시킨다. Ⅳ의 수율은 1.24g(76%)이고, 융점은 >350℃이고, Rf(실리카 겔; 클로로포름/빙초산 10:1)=0.55. -IR(KBr): ν=3423㎝-1m, 3050w, 1628s, 1590s, 1569s, 1364s, 1290m, 1273m, 1137w, 1060w, 812m, 764m. UV/Vis(CHCl3): λmax(Erel)=488.2(1.00), 509.0(0.96). UV/Vis(DMSO): λmax(ε)=466.5(10600), 492.3(12030). -형광(CHCl3): λmax=544nm, 572. -MS(70eV): m/z(%)=321(100)[M+], 277(10)[M+-CO2], 250(9)[M+-CO2-HCN], 146(8), 125(10).
실시예 7 및 8:
실시예 8에서는 DMBCO대신 DBU를 사용하고 페릴렌 이무수물 Ⅱ 대 사용된 아민의 몰비가 하기 표에 따라 다양한다는 것을 차이점으로 하여 실시예 6을 반복한다.

Claims (10)

  1. 화학식 Ⅱ의 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물을 염기로서 입체 장애된 아민과 승온에서 반응시킴을 포함하여, 화학식 Ⅰ의 페릴렌-3,4-디카복실산 무수물을 제조하는 방법.
    화학식 Ⅰ
    화학식 Ⅱ
    상기식에서,
    R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7및 R8은 수소이거나, 1 내지 8의 라디칼은 비치환되거나 치환된 카보사이클릭 방향족 라디칼, 비치환되거나 치환된 헤테로사이클릭 방향족 라디칼, 할로겐, 비치환되거나 치환된 C1-C18알킬, -OR9, -CN, -NR10R11, -COR12, -NR13COR12, -NR9COOR12, -NR9CONR10R11, -NHSO2R12, -SO2R12, -SOR12, -SO2OR12, -CONR10R11, -SO2NR10R11, -N=NR14, -OCOR12및 -OCONHR12로 이루어진 그룹으로부터 선택된 라디칼이고, 각각의 두개의 인접한 라디칼은 함께 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환을 형성할 수 있고,
    R12는 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환되는 C1-C18알킬, C6-C10아릴 또는 벤질이거나 5 내지 7원 헤테로사이클릭 라디칼이고,
    R10및 R11은 서로 독립적으로 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C6-C10아릴 또는 5 내지 7원 헤테로아릴이고, 이들은 각각 비치환되거나 시아노 또는 하이드록실 그룹에 의해 치환되거나, R10및 R11은 하나 이상의 다른 라디칼 R1내지 R8과 함께 5 또는 6원 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환을 형성하고,
    R9는 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C6-C10아릴 또는 5 내지 7원 헤테로아릴이고,
    R13은 비치환되거나 시아노, 하이드록실 또는 C1-C4알콕시카보닐 그룹에 의해 각각 치환되는 수소, C1-C18알킬, C3-C24사이클로알킬, C1-C4알킬아릴이고, 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 그룹에 의해 치환되는 C6-C10아릴이거나, 5 내지 7원 헤테로사이클이고,
    R14는 결합 부분의 라디칼이거나, 비치환되거나 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 그룹에 의해 치환되는 C6-C10아릴이다.
  2. 제1항에 있어서, 화학식 Ⅱ의 비치환된 페릴렌-3,4:9,10-테트라카복실산 무수물이 사용되는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 반응이 촉매의 존재하에 수행되는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 반응이 보조 염기의 존재하에 수행되는 방법.
  5. 제1항에 따르는 페릴렌 이무수물 Ⅱ를 염기로서 입체 장애된 아민과 승온에서 물의 존재하에, 경우에 따라, 보조 염기의 존재하에 반응시킴을 포함하여, 화학식 Ⅲ의 페릴렌카복실산을 제조하는 방법.
    화학식 Ⅲ
    상기식에서,
    R1내지 R8이 제1항에서 정의된 바와 동일한 의미를 갖는다.
  6. 제1항에 따르는 페릴렌 이무수물 Ⅱ를 염기로서 입체 장애된 아민과 승온에서, 경우에 따라, 보조 염기의 존재하에 반응시킴을 포함하여, 화학식 Ⅳ의 페릴렌 이미드를 제조하는 방법.
    화학식 Ⅳ
    상기식에서,
    R1내지 R8이 제1항에서 정의된 바와 동일한 의미를 갖는다.
  7. R1내지 R8중의 하나 이상이 수소 이외의 것이고, 바람직하게는 1-, 1,6-, 1,7-, 2,5-, 7,12- 또는 8,11-위치에서 치환되는 치환된 페릴렌 무수물 Ⅰ인 제1항에 정의된 바와 같은 화학식 Ⅰ의 페릴렌 무수물.
  8. R1내지 R8중의 하나 이상이 수소 이외의 것이고, 바람직하게는 1-, 1,6-, 1,7-, 2,5-, 7,12- 또는 8,11-위치에서 치환되는 라디칼인 제5항에 정의된 바와 같은 화학식 Ⅲ의 페릴렌카복실산.
  9. R1내지 R8중의 하나 이상이 수소 이외의 것이고, 바람직하게는 1-, 1,6-, 1,7-, 2,5-, 7,12- 또는 8,11-위치에서 치환되는 라디칼인 제6항에 정의된 바와 같은 화학식 Ⅳ의 페릴렌 이미드.
  10. 중합체의 내부 염색을 위한 착색제로서, 배트 염료로서, 매염제 염료로서, 착색제, 피복물, 특히 자동차 피복물, 도료 물질, 종이 착색제, 인쇄 착색제, 잉크의 제조를 위해, 특히 잉크 젯 프린터에서 사용하기 위해, 도포 및 필기의 목적 뿐만 아니라 전자 사진에서, 예를 들면 건조 복사 시스템, (제록스 방법) 및 레이저 프린터용으로, 안전 표지 목적을 위해, 특정 색상 색조를 수득하는 안료 및 염료와 같은 착색제에 대한 첨가제로서, 형광에 의한 물체의 기계적 인식을 위한 이러한 물체의 라벨을 위해, 광의 주파수 변환을 위해, 다양한 디스플레이, 표시 및 표지 목적을 위한 수동적 디스플레이 소자의 제조를 위해, 초전도 유기 물질을 위한 초기 물질로서, 고체 형광 라벨을 위해, 장식 및 예술 목적으로, 미량물질을 목적으로, 고 감도 검출 방법에서 형광 염료로서, 가시광 집적 시스템에서, 형광 태양 집적기에서, 형광-활성 디스플레이에서, 플라스틱을 제조하기 위한 광 유도 중합 반응, 물질 시험을 위한 냉각 광원에서, 광전도체에서, 광사진 방법에서, 디스플레이, 조명 또는 화상 전환 시스템에서, 이와 같은 염료 또는 기타 반도체와 함께 함유하는 집적 반도체 회로의 부품으로서, 화학 발광 시스템에서, 발광 면역검정 또는 기타 발광 검출 방법에서의 착색제 또는 형광 염료로서, 신호 색상으로서, 염료 레이저에서, 가시 저장 매질로서, Q 스위치로서 및 레올로지 증진제로서 제7항에 따르는 페릴렌 유도체 Ⅰ 및/또는 제8항에 따르는 Ⅲ 및/또는 제9항에 따르는 Ⅳ의 용도.
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19622673A1 (de) * 1996-06-05 1997-12-11 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Perylen-3,4-dicarbonsäureimiden
DE19701009A1 (de) * 1997-01-14 1998-07-16 Leonhard Feiler Verfahren zur Herstellung von Perylen-3,4-dicarbonsäureanhydriden
JP4544757B2 (ja) * 2001-02-23 2010-09-15 三井化学株式会社 有機電界発光素子
DE10243906A1 (de) 2002-09-20 2004-04-01 Basf Ag 9-Cyanosubstituierte Perylen-3,4-dicarbonsäuremonoimide
US6830833B2 (en) * 2002-12-03 2004-12-14 Canon Kabushiki Kaisha Organic light-emitting device based on fused conjugated compounds
US20050070629A1 (en) * 2003-08-06 2005-03-31 Roberts C. Chad Inkjet ink
DE102005032583A1 (de) * 2005-07-11 2007-01-25 Basf Ag Substituierte Rylenderivate
US8299354B2 (en) * 2008-08-19 2012-10-30 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Luminescent solar collector
US8304647B2 (en) * 2008-08-19 2012-11-06 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Luminescent solar collector
US8304645B2 (en) * 2008-08-19 2012-11-06 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Luminescent solar collector
US8314325B2 (en) * 2008-08-19 2012-11-20 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Luminescent solar collector
JP5976675B2 (ja) 2011-01-05 2016-08-24 日東電工株式会社 波長変換ペリレンジエステル発色団および発光膜
CN105418582A (zh) 2011-09-26 2016-03-23 日东电工株式会社 用于提高的日光采集效率的高荧光且光稳定性生色团
JP2013084952A (ja) 2011-10-05 2013-05-09 Nitto Denko Corp 太陽光捕集効率を向上させるための、感圧接着剤層を含む波長変換膜
JP2015532638A (ja) * 2012-08-06 2015-11-12 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ 含ホウ素ペリレンモノイミド、前記モノイミドの製造方法、前記モノイミドの、ペリレンモノイミド誘導体の製造のための構成単位としての使用、モノイミド誘導体および前記モノイミドの、色素増感型太陽電池における使用
CN103145687A (zh) * 2013-03-26 2013-06-12 太原理工大学 一种2,11-二磺酸苝酐及其制备方法
US9204598B2 (en) 2013-05-27 2015-12-08 Saudi Basic Indsutries Corporation Solar energy funneling using thermoplastics for agricultural applications
CN105061605B (zh) * 2015-07-15 2017-12-26 中国科学院化学研究所 一种具有荧光性质的改性多糖及其制备方法和应用

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE486491C (de) * 1926-06-10 1929-11-18 I G Farbenindustrie Akt Ges Verfahren zur Darstellung von Perylen und Abkoemmlingen desselben
TW279860B (ko) * 1993-11-12 1996-07-01 Ciba Geigy Ag
DE19501737A1 (de) * 1995-01-20 1996-07-25 Basf Ag Verfahren zur Herstellung und Reinigung von Perylen-3,4-dicarbonsäureimiden

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