KR19990073893A - 반도체소자 제조장치 - Google Patents

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이호영
윤정봉
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윤종용
삼성전자 주식회사
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 플랫폼에 구비되는 캐리어를 안정적으로 지지할 수 있는 지지부를 구비시킨 반도체소자 제조장치에 관한 것이다.
본 발명은 캐리어에 적재된 웨이퍼의 이송이 이루어지는 플랫폼에 상기 캐리어를 지지할 수 있는 지지부가 구비되는 반도체소자 제조장치에 있어서, 상기 지지부는 상기 캐리어의 외측면을 지지할 수 있는 방향으로 상기 지지부의 외측의 양측부를 연장시킨 외측지지부를 일체로 구비시켜 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 플랫폼에 구비되는 캐리어를 안정적으로 고정시켜 반도체소자의 제조에 따른 이송의 수행시 캐리어가 유동되는 것을 방지함으로써 수율의 증가 및 생산성 등이 향상되는 효과가 있다.

Description

반도체소자 제조장치
본 발명은 반도체소자 제조장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플랫폼(Platform)에 구비되는 캐리어(Carrier)를 안정적으로 지지할 수 있는 지지부를 구비시킨 반도체소자 제조장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자의 제조에서는 웨이퍼(Wafer)를 보관, 적재하거나 또는 상기 반도체소자의 제조에 따른 웨이퍼의 이송 등에 캐리어를 이용한다.
이에 따라 상기 웨이퍼는 상기 반도체소자의 제조에 따른 공정수행시 상당한 시간동안을 상기 캐리어와 접촉하기 때문에 가장 밀접한 관계를 가진다고 할 수 있다.
따라서 상기 웨이퍼를 적재한 캐리어는 상기 반도체소자의 제조에 따른 수율 등에 치명적인 영향을 끼칠 수 있기 때문에 상기 캐리어의 취급에는 상당한 주위를 필요로 한다.
그리고 상기 캐리어는 상기 반도체소자 제조장치에 웨이퍼를 로딩(Loading) 및 언로딩(Unloading)시킬 수 있는 플랫폼에도 구비될 수 있다.
즉, 도1에 도시된 바와 같이 반도체소자 제조장치의 플랫폼(10)에 캐리어(12)가 구비된다.
그리고 상기 캐리어(12)는 상기 캐리어(12)를 지지할 수 있는 지지부(14)를 이용하여 상기 플랫폼(10)에 고정시킨다.
여기서 상기 플랫폼(10)에 고정되는 캐리어(12)는 일반적으로 상기 캐리어(12)의 일측면이 상기 플랫폼(10)과 수평하도록 고정시킨다.
즉, 상기 캐리어(12)에 적재되는 웨이퍼가 상기 플랫폼(10)에 수평하도록 상기 캐리어(12)를 고정시키는 것이다.
이에 따라 상기 반도체소자 제조장치를 이용한 공정수행에 따른 웨이퍼의 이송시 상기 플랫폼(10)에 구비되는 캐리어(12)가 유동되는 것을 방지한다.
그러나 종래의 지지부(14)는 상기 캐리어(12)를 플랫폼(10)에 단순히 셋팅(Setting)시키는 구조, 즉 상기 캐리어(12)의 내측저면만을 지지할 수 있는 구조로 형성되어 있었기 때문에 상기 지지부(14)에 의해 플랫폼(10)에 고정되는 캐리어(12)는 상기 웨이퍼의 이송 등에 따른 유동을 방지할 수 없었다.
따라서 로봇암(Robot Arm)(도시되지 않음) 등을 이용한 상기 웨이퍼의 이송시 캐리어(12)가 유동함에 따라 상기 캐리어(12)에 적재된 웨이퍼 또한 유동하여 상기 웨이퍼 상에 형성된 패턴(Pattern)의 스크레칭(Scratching) 등이 발생하였고, 이러한 패턴의 스크레칭은 후속되는 공정 등에서 불량과 직결되는 원인을 제공하였다.
또한 상기 캐리어(12)의 유동으로 인한 웨이퍼의 유동은 로봇암을 이용한 이송시 설정된 위치로 웨이퍼를 로딩시키지 못하였다.
이에 따라 상기 로봇암이 웨이퍼를 떨어뜨려 브로컨(Broken)시키는 상황 등이 빈번하게 발생하였고, 특히 공정챔버(Processing Chamber)(도시되지 않음)로의 이송시 상기 공정챔버 내부에 웨이퍼를 떨어뜨릴 경우에는 반도체소자 제조장치에 치명적인 결함을 제공함으로써 유지보수 및 생산성에 차질을 가져오기도 하였다.
따라서 종래의 반도체소자 제조장치에 구비되는 캐리어를 지지할 수 있는 지지부는 그 구조적인 결함으로 인하여 캐리어를 정확하게 고정시키지 못함에 따라 반도체소자의 제조에 따른 수율의 감소 및 생산성의 저하 등을 초래하는 문제점들이 있었다.
본 발명의 목적은, 플랫폼에 구비되는 캐리어를 안정적으로 고정시켜 반도체소자의 제조에 따른 이송의 수행시 캐리어가 유동되는 것을 방지함으로써 수율의 증가 및 생산성의 향상 등을 도모하기 위한 반도체소자 제조장치를 제공하는 데 있다.
도1은 종래의 반도체소자 제조장치에 구비되는 지지부를 설명하기 위한 모식도이다.
도2는 본 발명에 따른 반도체소자 제조장치에 구비되는 지지부를 설명하기 위한 모식도이다.
도3은 본 발명에 따른 반도체소자 제조장치에 구비되는 지지부의 일 실시예를 나타내는 정면도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10, 20 : 플랫폼 12, 22 : 캐리어
14, 24 : 지지부 26 : 외측지지부
28 : 푸시링 30 : 조절나사
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체소자 제조장치는, 캐리어에 적재된 웨이퍼의 이송이 이루어지는 플랫폼에 상기 캐리어를 지지할 수 있는 지지부가 구비되는 반도체소자 제조장치에 있어서, 상기 지지부는 상기 캐리어의 외측면을 지지할 수 있는 방향으로 상기 지지부의 외측의 양측부를 연장시킨 외측지지부를 일체로 구비시켜 이루어짐을 특징으로 한다.
상기 외측지지부에는 소정의 탄성력을 이용하여 상기 캐리어를 지지할 수 있는 푸시링이 구비되고, 상기 푸시링의 소정의 탄성력을 나사체결로써 조절할 수 있도록 상기 푸시링이 위치하는 외측지지부에 조절나사가 구비되는 것이 바람직하다.
상기 외측지지부는 세라믹재질로 형성시키고, 상기 외측지지부를 포함하는 상기 지지부는 그 표면을 아노다이징처리하여 형성시킨 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도2는 본 발명에 따른 반도체소자 제조장치에 구비되는 지지부를 설명하기 위한 모식도이고, 도3은 본 발명에 따른 반도체소자 제조장치에 구비되는 지지부의 일 실시예를 나타내는 정면도이다.
먼저, 도2는 반도체소자 제조장치의 플랫폼(20)에 캐리어(22)가 구비되어 있는 상태를 나타내고 있다.
그리고 상기 플랫폼(20)에 캐리어(22)를 지지할 수 있는 지지부(24)가 구비되어 있다.
여기서 본 발명의 상기 지지부(24)는 도3에 도시된 바와 같이 상기 캐리어(22)의 외측면을 지지할 수 있는 방향으로 상기 지지부(24)의 외측의 양측부를 연장시킨 외측지지부(26)를 일체로 구비시킨다.
즉, 본 발명은 상기 외측지지부(26)가 일체로 구비되는 지지부(24)를 이용하여 상기 캐리어(22)를 상기 플랫폼(20)에 고정시키는 것으로써, 상기 캐리어(22)의 내측저면 뿐만 아니라 외측저면까지를 지지하여 고정시킨다.
또한 본 발명은 도3에 도시된 바와 같이 상기 외측지지부(26)에 소정의 탄성력을 이용하여 상기 캐리어(22)를 지지할 수 있는 푸시링(Pushing Ring)(28)을 구비시킬 수 있고, 상기 푸시링(28)의 소정의 탄성력은 상기 푸시링(28)이 위치하는 외측지지부(26)에 조절나사(30)를 구비시켜 상기 조절나사(30)의 나사체결로써 조절할 수 있다.
즉, 상기 캐리어(22)의 셋팅시 상기 외측지지부(26)를 포함하는 지지부(24) 뿐만 아니라 상기 푸시링(28) 및 조절나사(30)를 이용함으로써 본 발명은 상기 캐리어(22)를 상기 플랫폼(20)에 단순히 셋팅시키는 것이 아니라 안정적으로 고정시킬 수 있다.
다시 말해 본 발명은 상기 외측지지부(26)를 이용함으로써 캐리어(22)의 내측저면 뿐만 아니라 외측저면을 지지할 수 있고, 또한 푸시링(28)의 소정의 탄성력으로 상기 캐리어(22)를 가압시킴으로써 보다 안정적으로 지지, 즉 고정시킬 수 있다.
또한 상기 캐리어(22)를 플랫폼(20)에 고정시키기 위한 셋팅시 상기 조절나사(30)를 이용함으로써 최적의 조건으로 상기 캐리어(22)를 고정시킬 수 있다.
그리고 본 발명은 상기 반도체소자 제조장치의 정기 또는 비정기적인 유지보수의 수행시 상기 조절나사(30)를 적절하게 조절함으로써 효과적으로 상기 캐리어(22)를 고정시킬 수 있다.
이러한 본 발명의 외측지지부(26)는 상기 캐리어(22)의 손상을 방지하기 위하여 세라믹(Ceramic)재질로 구비시킬 수 있고, 또한 상기 외측지지부(26)를 포함하는 지지부(24)의 표면은 아노다이징(Anodizing)처리할 수 있다.
그리고 본 발명은 상기 캐리어(22)에 삽입되는 지지부(24)의 길이를 작업자가 캐리어(22)에 적재되는 웨이퍼의 상태 등을 고려하여 적절하게 결정할 수 있고, 또한 상기 외측지지부(26)의 길이 또한 작업자가 상기와 같은 상태를 고려하여 결정할 수 있다.
이러한 구성으로 이루어지는 본 발명은 상기 플랫폼(20)에 구비되는 상기 캐리어(22)를 안정적으로 고정시킬 수 있다.
즉, 본 발명은 상기 지지부(24)에 일체로 구비되는 외측지지부(26) 및 푸시링(28)과 조절나사(30) 등을 이용하여 상기 캐리어(22)를 지지하여 안정적으로 고정시킬 수 있는 것이다.
따라서 본 발명은 로봇암(도시되지 않음) 등을 이용한 상기 웨이퍼의 이송시 상기 플랫폼(20)에 구비되는 상기 캐리어(22)가 유동하는 것을 효율적으로 방지할 수 있다.
이에 따라 상기 캐리어(22)의 유동을 방지함으로써 상기 캐리어(22)에 적재된 웨이퍼의 유동 또한 방지할 수 있다.
즉, 본 발명은 상기 캐리어의 유동으로 인하여 발생하던 종래의 여러가지 문제점들을 효과적으로 방지할 수 있다.
또한 본 발명은 상기 캐리어를 안정적으로 지지하여 고정시킬 수 있음에 따라 대구경화되어가는 최근의 반도체소자의 제조에 적극적으로 응용할 수 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 플랫폼에 구비되는 캐리어를 안정적으로 고정시켜 반도체소자의 제조에 따른 이송의 수행시 캐리어가 유동되는 것을 방지함으로써 수율의 증가 및 생산성 등이 향상되는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (5)

  1. 캐리어(Carrier)에 적재된 웨이퍼(Wafer)의 이송이 이루어지는 플랫폼(Platform)에 상기 캐리어를 지지할 수 있는 지지부가 구비되는 반도체소자 제조장치에 있어서,
    상기 지지부는 상기 캐리어의 외측면을 지지할 수 있는 방향으로 상기 지지부의 외측의 양측부를 연장시킨 외측지지부를 일체로 구비시켜 이루어짐을 특징으로 하는 반도체소자 제조장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 외측지지부에는 소정의 탄성력을 이용하여 상기 캐리어를 지지할 수 있는 푸시링(Push Ring)이 구비되는 것을 특징으로 하는 상기 반도체소자 제조장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 푸시링의 소정의 탄성력을 나사체결로써 조절할 수 있도록 상기 푸시링이 위치하는 외측지지부에 조절나사가 구비되는 것을 특징으로 하는 상기 반도체소자 제조장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 외측지지부는 세라믹(Ceramic)재질로 형성시킨 것을 특징으로 하는 상기 반도체소자 제조장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 외측지지부를 포함하는 상기 지지부는 그 표면을 아노다이징(Anodizing)처리하여 형성시킨 것을 특징으로 하는 상기 반도체소자 제조장치.
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