KR19990028609A - 엔-치환된 4-히드록시인돌 유도체ㅠ하는케라틴 섬유 염색 조성물 - Google Patents

엔-치환된 4-히드록시인돌 유도체ㅠ하는케라틴 섬유 염색 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명의 목적은 결합제로서 4-히드록시인돌의 하나이상의 N-치환 유도체 및 하나이상의 산화 기재를 함유하는 케라틴성 섬유의 산화 염색용 조성물이다.
본 발명의 목적은 또한 4-히드록시인돌의 신규한 N-치환 유도체, 그의 합성 방법, 결합제로서, 그를 사용한 염색 방법과 마찬가지로, 결합제로서 하나이상의 산화 기재의 혼합에 있어서, 케라틴성 섬유의 산화 염색용 용도이다.

Description

엔-치환된 4-히드록시인돌 유도체 및 이를 함유하는 케라틴 섬유 염색 조성물
본 발명의 주요한 목적은 결합제로서, 4-히드록시인돌, 및 하나이상의 산화 기재를 포함하는, 하나이상의 N-치환 유도체, 케라틴성 섬유, 상세하게는 모발과 같은 인간 케라틴성 섬유의 산화 염색용 조성물에 관한 것이다.
케라틴성 섬유, 및 특별히 인간 모발을 일반적으로 산화 기재로 불리는 산화 염료 전구체, 특별히 오르토- 또는 파라-페닐렌디아민, 오르토- 또는 파라-아미노페놀, 및 헤테로시클릭 화합물을 함유하는 염색 조성물로써 염색하는 것은 공지이다. 산화 염료 전구체, 또는 산화 기재는 산화 생성물과 혼합될 때, 화합물이 채색되고 화합물을 채색하는 산화 응축 방법에 의해 채색될 수 있는 무색 또는 담채색된 화합물이다.
또한, 상기 산화 기재로써 수득된 색조를 염색 결합제 또는 개질제와 함께 혼합함으로써 변할 수 있고, 후자는 상세하게는, 방향족 메타-디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 인돌 화합물과 같은 일부 헤테로시클릭 화합물로부터 선택할 수 있다.
산화 기재 및 결합제로서 사용된 분자의 다양성은 색의 풍부한 색체를 수득할 수 있게한다.
상기 산화 염료에 의해 수득된 소위 "영구한" 염색은 또한, 많은 요구를 충족시켜야한다. 따라서, 독물학적 관점으로부터 단점이 없고, 원하는 강도에서 색조가 수득될 수 있으며 외부 요인 (빛, 혹독한 날씨, 세척, 영구 진동, 발한, 마찰) 에 노출되었을 때 우수한 내력을 나타내야 한다.
염료는 또한 백색 모발을 염색할 수 있어야 하고, 가능한한 지속적으로 작은 선택성, 즉 다시말해, 가능한한 가장 작은 착색 변동이, 효과적으로 케라틴 섬유 및 그의 뿌리 사이에 다르게 민감 (예컨대, 손상을 입은) 할 수 있는 동일한 케라틴성 섬유의 전 길이에 걸쳐 수득될 수 있게 하는 것이다.
이미 특별히 유럽 특허 출원 EP-A-428 441 호에서, 결합제로서, C1-C4알킬 라디칼을 가진 N-치환될 수 있는 하나이상의 4-히드록시인돌 유도체를 함유하는 케라틴성 섬유의 산화 염색용 조성물을 제안하였다. 상기 조성물은 다양한 범위의 색조를 수득할 수있지만, 그러나 모발에 수행할 수 있는 다양한 집성체와 관련하여 특히 빛과 관련하여 수득된 착색의 내력의 관점으로부터 특별히 전체적으로 만족스러운 것은 아니다.
사실상, 출원인은 특정한 4-히드록시인돌 유도체, 즉 적합한 N-치환 유도체를 사용함으로써, 작은 선택도 및 특히 다양한 색조에서 강렬한 착색을 창조할 수 있는 내성을 나타내는 신규의 강력한 염료를 얻을 수 있다는 것을 발견하였다. (부분적으로 그자체가 신규한)상기 화합물은 또한 쉽게 합성될 수 있다.
상기 발견은 본 발명의 근간이다.
따라서 본 발명의 목적은 염색용으로 적합한 매질에서 하기로 이루어진 것을 특징으로 하는, 케라틴성 섬유, 및 상세하게는 모발과 같은 인간 케라틴성 섬유 염색용 조성물이다 :
- 결합제로서, 하기 화학식 (I) 의 4-히드록시인돌의 하나이상의 N-치환 유도체, 및/또는 그의 하나이상의 부가염 :
(식중, R1은 C1-C4모노히드록시알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; C1-C4히드록시알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; C1-C4아미노알킬 라디칼 ; 그의 아미노가 C1-C4알킬기, 아세틸기, C1-C4모노히드록시알킬기 또는 C2-C4폴리히드록시알킬기로써 모노- 또는 이치환된 C1-C4아미노알킬 라디칼 ; C1-C4알킬 (C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C1-C4모노히드록시알킬 (C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬(C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C1-C4카르복시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 카르보닐알킬 라디칼 ; C1-C4시아노알킬 라디칼 ; C1-C4트리플루오로알킬 라디칼 ; C1-C4할로알킬 라디칼 ; C1-C4포스포알킬 라디칼 또는 C1-C4술포알킬 라디칼을 나타내고 ;
- 동일하거나 다른 R2및 R3은 수소 또는 할로겐 원자 또는 C1-C4알킬, 카르복실, C1-C4알콕시카르보닐 또는 포르밀 라디칼을 나타내고 ;
- R4은 수소원자 또는 할로겐 원자 ; C1-C4알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 라디칼 ; 아세틸아미노 라디칼 ; C1-C5모노히드록시알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; 티오펜 라디칼 ; 푸란 라디칼 ; 페닐 라디칼 ; 할로겐원자, C1-C4알킬 라디칼, 트리플루오로메틸 라디칼, C1-C4알콕시 라디칼, 아미노 라디칼 또는 C1-C4알킬 라디칼로써 모노- 또는 이치환된 아미노 라디칼로써 치환된 페닐 라디칼 ; C1-C4알킬 (C1-C4) 아미노알킬 라디칼 또는 C1-C4디알킬 (C1-C4) 아미노알킬 라디칼을 나타내고 ;
- 및 하나이상의 산화 기재를 나타낸다).
상기 화학식 (I) 에서, 알킬 및 알콕시기는 직쇄 또는 분지쇄일수 있고, 할로겐 원자중에서, 염소, 브롬, 요오드 및 플루오르를 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 화학식 (I) 의 결합제는 특히 1-N 위치에서 R1치환체의 성질에서 상기 언급된 문헌 EP-A-428 441 호의 공지된 생성물과 다르다.
본 발명에 다른 염색 조성물로써 수득된 착색물은 다양하고 작은 선택도를 나타내고 빛 및 혹독한 기후와 같은 환경적 요인 및 발한 및 모발이 겪을 수 있는 다른 처리 (샴푸하기, 영구 재형성) 관련 모두의 내성 특성을 갖는 강력한 색조이다. 상기 특성은 특히 빛과 관련하여 뚜렷하다.
화학식 (I) 의 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체 중에서, 본 발명에 따른 조성물에서 결합제로서 사용될 수 있는 것은 특히 하기로 언급될 수 있다 :
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-메틸인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)-5-메틸인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-메틸인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-6-메틸인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)-6-메틸인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-6-메틸인돌,
- 5-벤질-4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌,
- 5-벤질-4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
- 5-벤질-1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시에틸)-5-β-히드록시에틸인돌,
- 4-히드록시-5-β-히드록시에틸-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-β-히드록시에틸인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시에틸)-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시프로필)-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
- 1-N-(γ-디메틸아미노프로필)-4-히드록시인돌,
- 1-N-에틸아미노에틸-4-히드록시인돌 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다.
상기 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체중에서, 더욱 특히 바람직한 것은 하기이다 :
- 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시에틸)인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시프로필)인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-메틸인돌,
- 1-N-(γ-디메틸아미노프로필)-4-히드록시인돌 및 그의 산 부가염이다.
본 발명에 따른 염색 조성물에서 결합제로서 사용할 수 있는 화학식 (I) 의 화합물의 산 부가염은 특별히 염산염, 브롬산염, 황산염 및 타르타르산염으로부터 선택된다.
화학식 (I) 의 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체는 바람직하게는 대략 염색 조성물의 전체 중량의 0.0005 내지 12 % 이고, 여전히 더욱 바람직하게는 대략 상기 중량의 0.005 내지 6 % 이다.
본 발명의 염색 조성물에 사용될 수 있는 산화 기재(들)의 성질은 중요하지 않다. 상기(들) 산화 기재(들)은 바람직하게는 파라-페닐렌디아민, 비스-페닐알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀, 헤테로시클릭 기재 및 그의 산 부가염으로부터 선택될 수 있다.
본 발명에 따른 염색 조성물에서 산화 기재로서 사용될 수 있는 파라-페닐렌디아민중에서, 특별히 하기 화학식 (II) 에 해당하는 화합물, 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다 :
(식중, R5는 수소원자 또는 C1-C4알킬, C1-C4모노히드록시알킬, C2-C4폴리히드록시알킬 또는 알콕시 (C1-C4) 알킬 (C1-C4) 라디칼을 나타내고,
R6은 수소원자 또는 C1-C4알킬, C1-C4모노히드록시알킬 또는 C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼을 나타내고,
R7은 수소원자 또는 염소원자, C1-C4알킬, 술포, 카르복실, C1-C4C1-C4모노히드록시알킬 또는 C1-C4폴리히드록시알킬 라디칼을 나타내고,
R8은 수소원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다).
화학식 (II) 에서, R7이 수소원자와 다를 때, R5및 R6은 바람직하게는 R8과 동일하고, R7은 할로겐 원자를 나타내며, R5, R6및 R8은 바람직하게는 수소원자를 나타낸다.
상기 화학식 (II) 의 파라-페닐렌디아민중에서, 더욱 상세하게는 파라-페닐렌디아민, 파라-톨릴렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-비스-(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-1-(β-메톡시에틸)아미노벤젠, 2-클로로-파라-페닐렌디아민 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 염색 조성물에서 산화 기재로서 사용될 수 있는 비스-페닐알킬렌디아민중에서, 특별히 화학식 (III) 에 해당하는 화합물 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다 :
(식중, 동일하거나 다른 Q1및 Q2는 히드록실 라디칼 또는 NHR12(식중, R12는 수소원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타낸다) 를 나타내고, R9는 수소원자 또는 C1-C4알킬 라디칼, C1-C4모노히드록시알킬 라디칼, C2-C4폴리히드록시알킬 또는 그의 아미노 잔기가 치환될 수 있는 C1-C4아미노알킬 라디칼을 나타내고, 동일하거나 다른 R10및 R11은 수소원자 또는 할로겐원자 쪼는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, W 는 하기 라디칼로 구성된 군으로부터 수득된 라디칼을 나타낸다 :
(식중, n 은 0 내지 8 까지의 정수이고 m 은 0 내지 4 까지의 정수이다)).
상기 화학식 (III) 의 비스-페닐알킬렌디아민중에서, 더욱 상세하게는 N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노-2-프로파놀, N,N'-비스(4'-아미노페닐)에틸렌디아민, N,N'-비스(4'-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(4-메틸렌아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(에틸)-N,N'-비스(4'-아미노-3'-메틸페닐)에틸렌디아민, 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다.
화학식 (III) 의 비스-페닐알킬렌디아민중에서, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올 또는 하나이상의 그의 산 부가염이 특히 바람직하다.
본 발명에 따른 염색 조성물에서 산화 기재로서 사용될 수 있는 팔-아미노페놀중에서, 화학식 (IV) 에 해당하는 화합물 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다 :
(식중, R13은 수소원자 또는 C1-C4알킬, C1-C4모노히드록시알킬, 알콕시 (C1-C4) 알킬 (C1-C4) 또는 C1-C4아미노알킬 라디칼을 나타내고, R14는 수소 또는 플루오르 원자 또는 C1-C4알킬, C1-C4모노히드록시알킬, C2-C4폴리히드록시알킬, 알콕시 (C1-C4) 알킬 (C1-C4) 라디칼을 나타내고, R13또는 R14는 수소원자를 나타낸다).
화학식 (IV) 의 파라-아미노페놀중에서, 더욱 특별히 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 또는 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀, 4-아미노-2-(β-히드록시에틸아미노에틸)페놀, 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 염색 조성물에서 산화 기재로서 사용될 수 있는 오르토-아미노페놀중에서, 특별히, 2-아미노페놀, 2-아미노-1-히드록시-5-메틸벤젠, 2-아미노-1-히드록시-6-메틸벤젠, 5-아세트아미도-2-아미노페놀, 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 염색 조성물에서 산화 기재로서 사용될 수 있는 헤테로시클릭 기재중에서, 특별히 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체, 피라졸 유도체, 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다.
피리딘 유도체중에서, 더욱 특별히 예를 들어, 특허 GB 제 1,026,978 호, 및 GB 제 1,153,196 호에서 2,5-디아미노피리딘과 같이 개시된 화합물 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다.
피리미딘 유도체중에서, 더욱 특별히 예를 들어, 특허 독일 특허 DE 제 2,359,399 호 또는 일본 특허 JP 제 88 169 571 호 및 JP 제 91 333 495 호에서 2,4,5,6-테트라아미노피리미딘, 4-히드록시-2,5,6-트리아미노피리디민과 같이 개시된 화합물 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다.
피라졸 유도체중에서, 더욱 특별히 예를 들어, 특허 DE 제 3,843,892 호 및 DE 제 4,133,957 호 및 특허 출원 WO 제 94/08969 호 및 WO 제 94/09870 호에서 4,5-디아미노-1-메틸피라졸, 3,4-디아미노피라졸과 같이 개시된 화합물 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다.
본 발명에 따라, 산화 기재(들)은 바람직하게는 대략 염색 조성물의 전체 중량의 0.0005 내지 12 % 이고, 여전히 더욱 바람직하게는 대략 상기 중량의 0.005 내지 6 % 이다.
본 발명에 따른 염색 조성물은 또한 화학식 (I) 의 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체와 다른 하나이상의 부가 결합제 및/또는 하나이상의 직접 물감을 함유하여 산화 기재로써 수득된 색조를 광택이 변하거나 풍부하게 할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서 사용될 수 있는 부가 결합제는 산화 염색시 통상적으로 사용된 결합제 및 예를 들어, 인돌 유도체, 인돌린 유도체, 및 그의 산 부가염과 같은 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 헤테로시클릭 결합제를 언급할 수 있는 결합제중에서 선택될 수 있다.
상기 결합제는 특별히 2-메틸-5-아미노페놀, 5-N-(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸페놀, 3-아미노페놀, 1,3-디히드록시벤젠, 1,3-디히드록시-2-메틸벤젠, 4-클로로-1,3-디히드록시벤젠, 2,4-디아미노-1-(β-히드록시에틸옥시)벤젠, 2-아미노-4-(β-히드록시에틸아미노)-1-메톡시벤젠, 1,3-디아미노벤젠, 1,3-비스(2,4-디아미노페녹시)프로판, 세사몰, α-나프톨, 6-히드록시인돌, 4-히드록시인돌, 4-히드록시-N-메틸인돌, 6-히드록시인돌, 및 그의 산 부가염으로부터 선택될 수 있다.
이들이 존재할 때, 상기 부가 결합제는 바람직하게는 대략 염색 조성물의 전체 중량의 0.0005 내지 5 % 이고, 여전히 더욱 바람직하게는 대략 상기 중량의 0.005 내지 3 % 이다.
본 발명의 염색 조성물에서 사용할 수 있는 산화 기재(들)의 산 부가염 및/또는 부가 결합제는 특별히 염산염, 브롬산염, 황산염, 타르타르산염, 락트산염 및 아세트산염으로부터 선택된다.
염색에 적합한 매질 (또는 부형제) 는 일반적으로 물 또는 물 및 하나이상의 유기 용매의 혼합물로 구성되어 물에 충분히 용해될 수 없는 화합물을 용해화한다. 유기 용매로서, 예를 들어, 벤질 알콜 또는 페녹시에탄올과 같은 방향족 알콜과 마찬가지로, C1-C4저급 알카놀 예컨대 에탄올 및 이소프로판올 ; 글리세롤 ; 글리콜 및 글리콜 에테르 예컨대 2-부톡시에탄올, 프로필렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 및 모노메틸 에테르, 유사한 생성물 및 그의 혼합물을 언급할 수 있다.
용매는 바람직하게는 대략 염색 조성물의 전체 중량에 대해 1 내지 40 중량 % 사이의 비율이고, 여전히 더욱 바람직하게는 대략 5 내지 30 중량 % 으로 존재할 수 있다.
본 발명에 따른 염색 조성물의 pH 는 일반적으로 3 내지 12 사이이다. 케라틴성 섬유 염색시에 통상적으로 사용된 산화제 또는 알칼리화제에 의해 원하는 값으로 채택할 수 있다.
산화제중에서, 예를 들어, 무기 또는 유기산 예컨대, 염산, 오르토인산, 카르복실산 예컨대 타르타르산, 시트르산 및 락트산, 및 술폰산을 언급할 수 있다.
알칼리화제중에서, 예를 들어, 그의 유도체와 마찬가지로, 수성 암모니아, 알칼리 금속 카보네이트, 알카놀아민 예컨대 모노-, 디- 및 트리에탄올아민, 나트륨 또는 칼륨 히드록시드 및 하기 화학식 (V)의 화합물을 언급할 수 있다 :
(식중, R 은 히드록실기 또는 C1-C4알킬 라디칼로써 임의로 치환된 프로필렌 잔기이고 ; 동일하거나 또는 다른 R15, R16, R17및 R18은 수소원자 또는 C1-C4알킬 또는 C1-C4히드록시알콕시 라디칼을 나타낸다.
본 발명에 따른 염색 조성물은 또한 모발 염색용 조성물, 예컨대 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양이온성 또는 양쪽이온성 계면활성제 또는 그의 혼합물, 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양이온성 또는 양쪽이온성 중합체 또는 그의 혼합물, 무기 또는 유기 증점제, 항산화제, 침투제, 격리제, 발향, 완충, 분산제, 실리콘 예를 들어, 막-형성제, 보전제 및 유백제와 같은 조절제에 전통적으로 사용된 다양한 보조제를 함유할 수 있다.
물론, 당업자는 상기 언급된 가능한 부가적인 화합물을 주의깊게 선택하여 본 발명에 따른 염색 조성물에 고유하게 부속된 유리한 특성이 계획된 부가에 의한 수정이 없거나 또는 실질적으로 없게 할 것이다.
본 발명에 따른 염색 조성물은 다양한 형태, 예를 들어, 액체, 크림 또는 겔의 형태, 또는 케라틴성 섬유 염색용 및 상세하게는 인간 모발에 적합한 어떤 다른 형태로 나타날 수 있다.
본 발명의 목적은 또한 결합제로서, 케라틴성 섬유 및 상세하게는 모발과 같은 인간 케라틴성 섬유의 산화 염색용 하나이상의 산화 기재를 혼합한, 화학식 (I) 의 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체의 용도이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 정의된 바와 같은 염색 조성물을 사용하여, 케라틴성 섬유 및 상세하게는 모발과 같은 인간 케라틴성 섬유의 산화 염색 방법이다.
상기 방법에 따라, 상기 정의된 바와 같은 하나이상의 염색 조성물을 섬유에 적용하고, 색은 사용할 당시에 염색 조성물에 첨가하거나 또는 별도의 단계에서 동시에 또는 연속적으로 적용될 산화 조성물에 존재하는 산화제를 사용하여 산, 중성 또는 알칼리 pH 로 전개된다.
본 발명에 따른 염색 방법의 특별히 바람직한 구현예에 따라, 상기 전술된 염색 조성물을 염색에 적합한 매질내에 충분한 양으로 존재하는 하나이상의 산화제를 함유하는 산화 조성물로써 사용할 때 혼합하여 착색을 전개시킨다. 모발을 샴푸로써 세정, 세척하고, 다시 세정하여 건조한 후, 수득된 혼합물을 다음에 케라틴성 섬유에 적용하고 대략 3 내지 50 분간, 바람직하게는 대략 5 내지 30 분간 방치한다.
상기 정의된 것과 같은 산화 조성물에 존재하는 산화제를 케라틴성 섬유의 산화 염색에 전통적으로 사용된 산화제, 및 수소 과산화물, 우레아 과산화물, 알칼리 금속 브롬산 및 과염 예컨대 과보로산염 및 과황산염중에서 선택될 수 있다. 수소 과산화물이 특별히 바람직하다.
상기 정의된 바와 같은 산화제를 함유하는 산화 조성물의 pH 는 염색 조성물과 혼합한 후에, 케라틴성 섬유에 적용된 결과 조성물의 pH 는 바람직하게는 대략 3 내지 12 및 여전히 더욱 바람직하게는 5 내지 11 사이로 변한다. 케라틴성 섬유의 염색시에 통상적으로 사용된 산화제 또는 알칼리화제를 사용하여 원하는 값으로 채택하며, 이러한 것은 상기 정의된 바와 같다.
상기 정의된 바와 같은 산화 조성물은 또한 모발의 염색용으로 조성물에 전통적으로 사용된 다양한 보조물을 함유할 수 있으며, 이러한 것은 상기 정의된 바와 같다.
최종적으로 케라틴성 섬유에 적용되는 조성물은 다양한 형태 예를 들어, 액체, 크림 또는 겔의 형태, 또는 케라틴성 섬유 염색용 및 상세하게는 인간 모발에 적합한 어떤 다른 형태로 나타날 수 있다.
본 발명의 다른 목적은 다중 격실 장치 또는 염색 "용구" 또는 상기 정의 된 바와 같은 염색 조성물을 함유하는 제 1 격실 및 상기 정의된 바와 같은 산화 조성물을 함유하는 제 2 격실인 다른 어떠한 다중 격실 일괄 시스템이다. 상기 장치는 출원인의 이름으로 특허 FR 제 2,586,913 호에 기재된 장치와 같이, 원하는 혼합물을 모발상에 운반할 수 있는 수단이 장치될 수 있다.
본 발명의 구성에서 결합제로서 사용된 화학식 (I) 의 일부 화합물은 신규하고, 상기 수용능력 내에서, 본 발명의 다른 목적을 구성한다.
상기 신규한 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체 및 그의 산 부가염은 하기 화학식 (I') 에 해당한다 :
(식중, R1은 C1-C4모노히드록시알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; C1-C4히드록시알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; C1-C4아미노알킬 라디칼 ; 그의 아민이 C1-C4알킬기, 아세틸기, C1-C4모노히드록시알킬기 또는 C2-C4폴리히드록시알킬기로써 모노- 또는 이치환된 C1-C4아미노알킬 라디칼 ; C1-C4알킬 (C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C1-C4모노히드록시알킬 (C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬(C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C1-C4카르복시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 카르보닐알킬 라디칼 ; C1-C4시아노알킬 라디칼 ; C1-C4트리플루오로알킬 라디칼 ; C1-C4할로알킬 라디칼 ; C1-C4포스포알킬 라디칼 또는 C1-C4술포알킬 라디칼을 나타내고 ;
- 동일하거나 다른 R2및 R3은 수소 또는 할로겐 원자 또는 C1-C4알킬, 카르복실, C1-C4알콕시카르보닐 또는 포르밀 라디칼을 나타내고 ;
- R4는 수소원자 또는 할로겐 원자 ; C1-C4알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 라디칼 ; 아세틸아미노 라디칼 ; C1-C5모노히드록시알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; 티오펜 라디칼 ; 푸란 라디칼 ; 페닐 라디칼 ; 할로겐원자, C1-C4알킬 라디칼, 트리플루오로메틸 라디칼, C1-C4알콕시 라디칼, 아미노 라디칼 또는 C1-C4알킬 라디칼로써 모노- 또는 이치환된 아미노 라디칼로써 치환된 페닐 라디칼 ; C1-C4알킬 (C1-C4) 아미노알킬 라디칼 또는 C1-C4디알킬 (C1-C4) 아미노알킬 라디칼을 나타내고 ;
- 이는 하기로 주지된다 :
- R2및 R4가 동시에 수소원자를 나타내고, R1은 메톡시메틸 또는 γ-클로로-β-히드록시프로필기를 나타내고, 다음에 R3는 포르밀기를 나타낼 수 없을 때 (JP 제 88-208937 호 = JP-A 제 2 059 555 호에 기재된 두개의 공지된 생성물에 해당),
- 및 R2, R3및 R4가 동시에 수소원자를 나타내고, R1은 디메틸아미노에틸 라디칼을 나타낼 수 없을 때 (Troler 등에 의해 Helv. Chim. Acta., Vol 42, 1959, 2073-2102 에 기재된 공지된 생성물에 해당)).
화학식 (I') 의 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체 중에서, 특히 하기로 언급될 수 있다 :
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-메틸인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)-5-메틸인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-메틸인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-6-메틸인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)-6-메틸인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-6-메틸인돌,
- 5-벤질-4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌,
- 5-벤질-4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
- 5-벤질-1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시에틸)-5-β-히드록시에틸인돌,
- 4-히드록시-5-β-히드록시에틸-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-β-히드록시에틸인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
- 1-N-(γ-디메틸아미노프로필)-4-히드록시인돌,
- 1-N-에틸아미노에틸-4-히드록시인돌 및 그의 산 부가염을 언급할 수 있다.
상기 화학식 (I') 의 4-히드록시인돌의 신규한 N-치환 유도체중에서, 더욱 특히 바람직한 것은 하기이다 :
- 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시에틸)인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시프로필)인돌,
- 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
- 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-메틸인돌,
- 1-N-(γ-디메틸아미노프로필)-4-히드록시인돌 및 그의 산 부가염이다.
본 발명의 목적은 또한 하기 합성 구조에 해당하는, 제 1 단계에서, 온도가 바람직하게는 80 내지 160 ℃ 인 용매 매질내에서, 화학식 (VI) 의 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로벤조푸란 (식중, R2, R3및 R4는 상기 정의된 화학식 (I') 과 동일한 의미를 가진다) 을 화학식 (VII) 의 치환된 아민 (식중, R1라디칼은 상기 정의된 화학식 (I') 과 동일한 의미를 가진다) 과 반응시켜 화학식 (VIII) 의 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로인돌 유도체 (식중, R1, R2, R3및 R4는 상기 정의된 화학식 (I') 과 동일한 의미를 가진다) 를 수득한다음 제 2 단계에서, 일반적으로 150 내지 220 ℃ 및 바람직하게는 160 내지 170 ℃ 의 온도에서, 용매 매질내에 촉매 탈수소화에 의해 화학식 (VIII) 의 화합물을 방향족화시에 상기 정의된 것과 같은 화학식 (I') 의 화합물을 수득하는 것으로 구성된 하기 화학식 (I') 의 화합물의 제조 (주요 공정) 방법이다 :
제 1 단계 동안 사용된 용매중에서, 더욱 상세하게는, 에탄올, n-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 2-메틸-1-부탄올, 3-메틸-1-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, n-펜탄올, 2-펜탄올, 3-메틸-3-펜탄올, 4-메틸-2-펜탄올 또는 대안적으로 2-에틸-1-부탄올과 같은 저급 알콜을 언급할 수 있다.
본 발명의 방법에 따라, 예를 들어, 망간, 플라티늄, 로듐, 니켈, 루테늄, 그의 산화물, 및 상기 물질의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된 금속을 사용할 수 있다.
바람직한 탈수소화 촉매는 팔라듐 또는 플라티늄이다. 공지된 방법에서, 촉매를 불활성 지지체상에 부착할 수 있다. 상기 불활성 지지체 중에서, 예를 들어, 나무 목탄, 중성 목탄, 중성 알루미나, 제올라이트, 진흙등을 언급할 수 있다. 중성 목탄이 바람직하게 사용된다.
탈수소화 촉매는 일반적으로 반응되어야할 화학식 (VIII) 의 화합물의 중량에 대해 0.2 내지 5 금속 등가 중량의 양으로 존재한다.
제 2 단계 동안 사용된 용매는 바람직하게는 비점이 150 ℃ 이상인 용매, 예컨대 비점 (b.p.) 이 약 162 ℃ 인 디글리메 및 디이소부틸 케톤 (약 169 ℃ 의 b.p.) 중에서 선택된다.
상기 주요 공정의 1 차 변형에 따라, 그리고 화학식 (VI) 에서 라디칼 R4은 수소원자일 때, 염기성 매질에서 알돌리화 (aldolization) 반응에 의해, 수소원자와는 다른, 5-위치에서 라디칼 R'4를 화학식 (VIII) 의 화합물에 도입할 수 있다. 상기 1 차 변형은 염기성 매질내에, 화학식 (VIII) 의 화합물 및 화학식 (IX) 의 알데히드 (식중, R'4는 C1-C3알킬, C1-C4모노히드록시알킬, C2-C3폴리히드록시알킬, C1-C3알콕시알킬, C1-C4알킬 (C1-C3) 아미노알킬 또는 C1-C4디알킬 (C1-C3) 아미노알킬 라디칼을 나타낸다) 를 반응시켜 화학식 (VIII') (식중, R'4라디칼은 화학식 (IX) 에서와 동일한 의미를 가진다) 의 화합물을 수득하고, 다음에 통상적인 이성체화 조건에 따라 산성 매질상에서 이성체화하여, 화학식 (I") (식중, 라디칼 R1, R2및 R3은 화학식 (I') 에서와 동일한 의미를 가지고, 라디칼 R'4는 화학식 (IX) 에서와 동일한 의미를 가진다) 의 화합물을 수득하는 것으로 구성된 하기 합성 구조에 해당한다 :
알돌리화 반응은 당업자에게 잘 공지되어 있고 예를 들어, 특허 출원 EP-A 제 0,377,450 호에 기재되어 있다.
본 주요 공정의 2 차 변형에 따라, 또한 화학식 (VIII) (R4는 수소원자를 나타낸다) 의 화합물로부터 수득된 화합물 (I') 의 벤젠 부분을 관능화하여 수소원자와 다른 라디칼 R4를 도입한다. 상기 2 차 변형은 하기 합성 구조에 해당한다 :
상기 2 차 변형은 상세하게는 :
- Helv. Chim. Acta,51, (6), 1968, F. TROXLER 등에 의해 논문에 기재된 것과 같은 MANNICH 반응에 의해 디알킬 (C1-C4) 아미노메틸-형 치환체 R4를 5-위치에 도입하거나 ;
- 또는 당업자에 공지된 통상적인 방법에 의해, 질화 반응에 이어서 환원 반응 및 아세틸화 반응에 의해 아세틸아미노-형 치환체 R4를 도입하거나 ;
- 또는 대안적으로 라디칼 R2및 R3이 모두 수소원자아 다를 때, 통상적인 할로겐화 반응에 의해 할로겐화-형 치환체 R4를 도입할 수 있게 한다.
상기 목록은 물론 하기 화학식 (I') 의 화합물에 직접 도입할 수 있는 R4기의 형과 관련하여 제한적이지 않다.
하기 실시예는 본 발명에서 설명하기 위한 것이며, 범주의 제한은 없다는 것을 암시한다.
제조 실시예
제조 실시예 1:4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌의 합성
a) 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로-1-N-(β-히드록시에틸)인돌의 제조
80 g 의 에탄올아민을 250 cm3의 에탄올내에 136 g 의 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로벤조푸란 용액에 첨가한다. 용액을 6 시간 동안 130 ℃ 에서 가열한다. 반응 혼합물을 교반하면서 실온으로 되돌린 후, 800 cm3의 이소프로필 에테르 및 200 cm3의 석유 에테르의 혼합물에 붓는다. 결정화된 생성물을 교반하고, 다음에 배수하고, 석유 에테르로써 세척하고 오산화인상에서 진공하에 건조시킨다. 160 g 의 예상 생성물을 회수하며, 상기 생성물은 240 cm3의 이소프로판올로부터 재결정화된다. 융점이 96 내지 97 ℃ 사이인 150 g 의 예상 생성물을 수득한다.
b) 4-히드록시--1-N-(β-히드록시에틸)인돌의 제조
5 중량 % 의 탄소 및 50 중량 % 의 물을 함유하는 15 g 의 팔라듐을 25 g 의 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로-1-N-(β-히드록시에틸)인돌 용액에 첨가하여, 300 cm3의 디글리메내에 진행 단계에서 수득한다. 혼합물의 온도를 상승시키고 10 시간 동안 162 ℃ 에서 유지시킨다. 다음에 혼합물을 40 ℃ 까지 되돌리고 촉매를 여과한다. 용매를 진공하에서 30 cm3의 디클로로메탄 및 200 cm3의 석유 에테르의 혼합물에서 취득한 21.4 g 의 조 생성물을 수득할 때까지 제거한다. 수득된 결정을 석유 에테르로써 배수 및 세척하고 다음에 오산화인상에 진공하에서 건조시킨다. C10H11NO2에 대해 계산된 원소 분석이 하기와 같은, 11 g 의 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌을 수득한다.
% C H N O
이론치 67.78 6.76 7.90 18.06
실측치 67.73 6.11 7.52 18.25
제조 실시예 2: 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌의 합성
a) 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로-1-N-(β-히드록시프로필)인돌의 제조
7.2 g 의 β-히드록시프로필아민을 200 cm3의 에탄올내에 13.6 g 의 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로벤조푸란 용액에 첨가한다. 다음에 에탄올을 진공하에서 증발시킨다. 18 g 의 오일을 수득하고, 상기 오일을 다음 단계에서 그대로 사용한다.
b) 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌의 제조
5 중량 % 의 탄소 및 50 중량 % 의 물을 함유하는 10 g 의 팔라듐을 19.3 g 의 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로-1-N-(β-히드록시프로필)인돌의 용액에 첨가하여, 300 cm3의 디글리메내에 진행 단계에서 수득한다. 공비 혼합에 의해 물을 제거한 후 5 시간 동안 혼합물의 온도를 디글리메의 환류 온도까지 상승시킨다. 촉매를 다음에 셀라이트상에서 여과하고 다음에 글리메를 증발시킨다. 17 g 의 조 생성물을 수득한다. 실리카 겔 (헵탄/에틸 아세테이트 = 1/4) 상에 크로마토그래피한 후, 15 g 의 점성 생성물을 수득하고, 상기 생성물을 15 cm3의 디클로로메탄을 첨가하여 결정화한다.
석유 에테르로써 여과, 세척하고 오산화인상에 진공하에서 건조시킨 후, 융점이 93 내지 95 ℃ 사이이고, C11H13NO2에 대해 계산된 원소 분석이 하기와 같은 10 g 의 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌을 수득한다.
% C H N O
이론치 69.09 6.85 7.32 16.73
실측치 69.08 7.00 7.25 16.73
제조 실시예 3: 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시프로필)인돌의 합성
a) 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로-1-N-(β,γ-디히드록시프로필)인돌의 제조
9.4 g 의 2,3-디히드록시프로필아민을 200 cm3의 에탄올내에 13.6 g 의 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로벤조푸란 용액에 첨가한다. 반응 매질을 9 시간 동안 150 ℃ 에서 가열한다. 용매를 증발시키고 실리카 겔(에틸 아세테이트/메탄올 = 9/1) 상에 조 생성물을 정제한 후, 11.2 g 의 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로-1-N-(β-히드록시프로필)인돌을 오일의 형태로 회수한다.
b) 4-히드록시-1-N-(β,γ-디히드록시프로필)인돌의 제조
5 중량 % 의 탄소 및 50 중량 % 의 물을 함유하는 3.8 g 의 팔라듐을 9.4 g 의 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로-1-N-(β,γ-히드록시프로필)인돌의 용액에 첨가하여, 50 cm3의 디글리메내에 진행 단계에서 수득한다. 반응 매질의 온도를 디글리메의 환류 온도까지 상승시키고 물을 공비 혼합에 의해 증류한다. 반응 23 시간 후, 촉매를 셀라이트상에 여과하고 다음에 글리메를 진공하에서 증발시킨다. 수득된 조 생성물을 실리카 겔 (에틸 아세테이트/헵탄 = 9/1) 상에 크로마토그래피한다. 4.2 g 의 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌을1H 및13C 핵 자기 공명에 의한 분석이 예상된 생성물과 일치하는 매우 다양한 오일의 형태로 수득한다.
제제예
제제예 1 (본 발명) 및 2 (비교예):
하기 염색 조성물을 제조하였다 (g 함량) :
조성물 1 2(*)
4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌 0.086
4-히드록시-1-N-에틸인돌 0.805
파라-아미노페놀 0.545 0.545
통상의 염색 부형제 (**) (**)
탈광물 수 적정량 100 g 100 g
(*) : 본 발명의 생성부분이 아닌 실시예
(**) : 통상적인 염색 부형제
- 2 몰의 글리세롤을 함유한 폴리글리세롤된
올레일 알콜 4.0 g
- 4 몰의 글리세롤 및 78 % 의 활성 물질 (AS)
을 함유하는 폴리글리세롤된 올레일 알콜 5.69 g AS
- 올레산 3.0 g
- AKZO 사에서 상표명 ETHOMEEN 012 로 시판된,
2 몰의 산화 에틸렌을 함유하는 올레일아민 7.0 g
- 55 % 의 AS 를 함유하는 디에틸아미노프로필
라우릴아미노숙시네메이트, 나트륨 염 3.0 g AS
- 올레일 알콜 5.0 g
- 올레일산 디에탄올아미드 12.0 g
- 프로필렌 글리콜 3.5 g
- 에틸 알콜 7.0 g
- 디프로필렌 글리콜 0.5 g
- 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 9.0 g
- 35 % 의 AS 를 함유하는 수용액내에
메트아비스아황산 나트륨 0.455 g AS
- 아세테이트산 암모늄 0.8 g
- 항산화제, 격리제 적정량
- 향수, 보존제 적정량
-20 % 의 NH3를 함유하는 수성 암모니아 10.0 g
사용시에, 각 염색 조성물 1 및 2 를 20 부피 (6 중량 %) 에서 등 중량의 과산화수소와 혼합하였다.
수득된 각 혼합물을 90 % 가 백색인 중성 회색 모발의 타래에 30 분간 적용하였다. 표준 샴푸로써 세정, 세척 및 건조 후, 타래를 하기 표 I 에 나타난 색조에 염색하였다 :
실시예 1 2(*)
수득된 색조 강한 구리빛 적색 옅은 구리빛 적색
(*) : 본 발명의 생성 부분이 아닌 실시예
상기 염색된 타래를 다음에 광 저항성 시험을 수행하였다 (크세논 시험)
상기 말미에, 모발의 염색된 타래를 지지체 (카드보드 또는 플라스틱) 상에 고정하였다. 상기 지지체를 25 ± 5 % 의 상대 습도 수준 및 42.5 ± 2.5 ℃ 의 온도에서 40 시간의 기간 동안 크세논 램프 주위를 회전하게끔 제조된 표본 담체상에 두었다.
타래의 색채를 MINOLTA CM 2002 색채 측정기를 사용하여, 광 저항성의 시험 전 및 후에 MUNSELL 시스템에서 평가하였다.
MUNSELL 시스템 방식에 따라, 색체는 HV/C 표현으로 정의하고, 3 개의 매개변수는 각각 담색 또는 색조 (H), 세기 또는 값 (V) 및 순도 또는 채도를 나타내고 ; 상기 표현에서 사선은 단지 편리를 위해서이며 비를 나타내는 것이 아니다.
광 저항성 시험 전 후에 각 타래의 색조의 차이는 광의 작용으로인한 색조의 퇴색을 반영하는 것이며 NICKERSON 식을 적용함으로써 계산하였다 :
예를 들어, 문헌 ["Couleur, Industrie et Technique" ; p.14-17 ; vol. No 5 ; 1978] 에서 기재된 바와 같이, △E = 0.4 Co△H + 6△H + 3△C 이다.
상기 식에서, △H 는 2 개의 타래 사이의 색채 차이를 나타내고, △H, △V 및 △C 는 매개변수 H, V 및 C 의 흡수 값에서의 변동을 나타내고, Co 는 색채에서 차이 (시험 전 타래의 순도) 를 평가하는 것과 비교하여 타래의 순도를 나타낸다.
결과를 하기 표 II 에 주어진다 :
실시예 시험전 색채 시험후 색채 색채의 퇴색
△H △V △C △E
1 5.3 R 3.9/4.5 5.9 R 4.0/4.4 0.6 0.1 0.1 2.0
2(*) 7.5 R 4.3/4.5 9.3 R 4.6/3.6 1.8 0.3 0.9 7.7
(*) : 본 발명의 부분을 생성하지 않는 실시예
본 발명에 따른 실시예 1 의 염색 조성물로써 수득된 색채 (4-히드록식-1-N-(β-히드록시에틸)인돌) 는 상기 정의된 화학식 (I) 에 해당하지 않고, EP-A 제 428 441 호에 기재된 바와 같은 선기술의 화합물에 해당하는 화합물인 4-히드록시-1-N-에틸인돌을 함유하므로, 본 발명의 부분을 생성하지 않는 실시예 2 의 염색 조성물로써 수득된 색채보다 광의 작용이 훨씬 더 잘 견딘다는 것이 관찰된다.

Claims (21)

  1. 염색에 적합한 매질내에, 하기로 이루어진 것을 특징으로 하는, 케라틴성 섬유, 및 상세하게는 모발과 같은 인간 케라틴성 섬유 염색용 조성물 :
    - 결합제로서, 하기 화학식 (I) 의 4-히드록시인돌의 하나이상의 N-치환 유도체, 및/또는 그의 하나이상의 부가염 :
    화학식 I
    (식중, R1은 C1-C4모노히드록시알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; C1-C4히드록시알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; C1-C4아미노알킬 라디칼 ; 그의 아미노가 C1-C4알킬기, 아세틸기, C1-C4모노히드록시알킬기 또는 C2-C4폴리히드록시알킬기로써 모노- 또는 이치환된 C1-C4아미노알킬 라디칼 ; C1-C4알킬 (C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C1-C4모노히드록시알킬 (C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬(C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C1-C4카르복시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 카르보닐알킬 라디칼 ; C1-C4시아노알킬 라디칼 ; C1-C4트리플루오로알킬 라디칼 ; C1-C4할로알킬 라디칼 ; C1-C4포스포알킬 라디칼 또는 C1-C4술포알킬 라디칼을 나타내고 ;
    - 동일하거나 다른 R2및 R3은 수소 또는 할로겐 원자 또는 C1-C4알킬, 카르복실, C1-C4알콕시카르보닐 또는 포르밀 라디칼을 나타내고 ;
    - R4는 수소원자 또는 할로겐 원자 ; C1-C4알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 라디칼 ; 아세틸아미노 라디칼 ; C1-C5모노히드록시알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; 티오펜 라디칼 ; 푸란 라디칼 ; 페닐 라디칼 ; 할로겐원자, C1-C4알킬 라디칼, 트리플루오로메틸 라디칼, C1-C4알콕시 라디칼, 아미노 라디칼로써 치환되거나 또는 C1-C4알킬 라디칼로써 모노- 또는 이치환된 아미노 라디칼로써 치환된 페닐 라디칼 ; C1-C4알킬 (C1-C4) 아미노알킬 라디칼 또는 C1-C4디알킬 (C1-C4) 아미노알킬 라디칼을 나타내고 ; 알킬 및 알콕시기는 직쇄 또는 분지쇄일수 있고, 할로겐 원자는 염소, 브롬, 요오드 및 플루오르로부터 선택될 수 있다) ;
    - 및 하나이상의 산화 기재.
  2. 제 1 항에 있어서, 화학식 (I) 의 화합물은 하기로부터 선택됨을 특징으로 하는 조성물 :
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-메틸인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)-5-메틸인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-메틸인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-6-메틸인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)-6-메틸인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-6-메틸인돌,
    - 5-벤질-4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌,
    - 5-벤질-4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
    - 5-벤질-1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시에틸)-5-β-히드록시에틸인돌,
    - 4-히드록시-5-β-히드록시에틸-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-β-히드록시에틸인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시에틸)-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시프로필)-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
    - 1-N-(γ-디메틸아미노프로필)-4-히드록시인돌,
    - 1-N-에틸아미노에틸-4-히드록시인돌 및 그의 산 부가염.
  3. 제 2 항에 있어서, 화학식 (I) 의 화합물은 하기로부터 선택됨을 특징으로 하는 조성물 :
    - 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시에틸)인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시프로필)인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-메틸인돌,
    - 1-N-(γ-디메틸아미노프로필)-4-히드록시인돌 및 그의 산 부가염.
  4. 제 1 항 내지 3 항중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (I) 의 화합물의 산 부가염은 염산염, 브롬산염, 황산염 및 타르타르산염으로부터 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 1 항 내지 4 항중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (I) 의 화합물은 염색 조성물의 전체 중량의 0.0005 내지 12 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 5 항에 있어서, 화학식 (I) 의 화합물은 염색 조성물의 전체 중량의 0.005 내지 6 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항 내지 6 항중 어느 한 항에 있어서, 산화 기재(들)은 파라-페닐렌디아민, 비스-페닐알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀, 헤테로시클릭 기재 및 그의 산 부가염으로부터 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 산화 기재(들)은 대략 염색 조성물의 전체 중량의 0.0005 내지 12 % 임을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 8 항에 있어서, 산화 기재(들)은 대략 염색 조성물의 전체 중량의 0.005 내지 6 % 임을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 1 항 내지 9 항중 어느 한 항에 있어서, 첨가시에, 화학식 (I) 의 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체와 다른 하나이상의 부가 결합제 및/또는 하나이상의 직접 염료를 함유함을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 1 항 내지 10 항중 어느 한 항에 있어서, 염색에 적합한 매질 (또는 부형제) 는 물 또는 물 및 C1-C4저급 알카놀, 글리세롤, 글리콜 및 글리콜 에테르, 방향족 알콜, 유사한 생성물 및 그의 혼합물로부터 선택된 하나이상의 유기 용매의 혼합물로 구성됨을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 1 항 내지 11 항중 어느 한 항에 있어서, pH 가 3 내지 12 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 1 항 내지 12 항중 어느 한 항에 있어서, 액체, 크림 또는 겔의 형태, 또는 케라틴성 섬유 및 상세하게는 인간 모발 염색용에 적합한 어떤 다른 형태로 제공됨을 특징으로 하는 조성물.
  14. 결합제로서, 케라틴성 섬유 및 상세하게는 모발과 같은 인간 케라틴성 섬유의 산화 염색용 조성물에서, 하나이상의 산화 기재를 혼합한, 제 1 항 내지 4 항중 어느 한 항에 따른 화학식 (I) 의 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체의 용도.
  15. 제 1 항 내지 13 중 어느 한 항에 정의된 바와 같은 하나이상의 염색 조성물을 섬유에 적용하고, 색은 사용할 당시에 염색 조성물에 첨가하거나 또는 별도의 단계에서 동시에 또는 연속적으로 적용될 산화 조성물에 존재하는 산화제를 사용하여 산, 중성 또는 알칼리 pH 로 전개되게 하는 것을 특징으로 하는, 케라틴성 섬유 및 상세하게는 모발과 같은 인간 케라틴성 섬유의 산화 염색 방법.
  16. 제 15 항에 있어서, 산화제를 수소 과산화물, 우레아 과산화물, 알칼리 금속 브롬산 및 과염 예컨대 과보로산염 및 과황산염으로부터 선택하는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제 15 항에 있어서, 제 1 격실은 제 1 항 내지 13 항중 어느 한 항에 정의된 바와 같은 염색 조성물을 함유하고 제 2 격실은 산화 조성물을 함유하는 다중 격실 장치 또는 다중 격실 염색 "용구".
  18. 하기 화학식 (I') 의 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체 및 그의 산 부가염 :
    화학식 I'
    (식중, R1은 C1-C4모노히드록시알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; C1-C4히드록시알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; C1-C4아미노알킬 라디칼 ; 그의 아민이 C1-C4알킬기, 아세틸기, C1-C4모노히드록시알킬기 또는 C2-C4폴리히드록시알킬기로써 모노- 또는 이치환된 C1-C4아미노알킬 라디칼 ; C1-C4알킬 (C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C1-C4모노히드록시알킬 (C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬(C1-C4) 티오알킬 라디칼 ; C1-C4카르복시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 카르보닐알킬 라디칼 ; C1-C4시아노알킬 라디칼 ; C1-C4트리플루오로알킬 라디칼 ; C1-C4할로알킬 라디칼 ; C1-C4포스포알킬 라디칼 또는 C1-C4술포알킬 라디칼을 나타내고 ;
    - 동일하거나 다른 R2및 R3은 수소 또는 할로겐 원자 또는 C1-C4알킬, 카르복실, 알콕시 (C1-C4) 카르보닐 또는 포르밀 라디칼을 나타내고 ;
    - R4는 수소원자 또는 할로겐 원자 ; C1-C4알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 라디칼 ; 아세틸아미노 라디칼 ; C1-C5모노히드록시알킬 라디칼 ; C2-C4폴리히드록시알킬 라디칼 ; C1-C4알콕시 (C1-C4) 알킬 라디칼 ; 티오펜 라디칼 ; 푸란 라디칼 ; 페닐 라디칼 ; 할로겐원자, C1-C4알킬 라디칼, 트리플루오로메틸 라디칼, C1-C4알콕시 라디칼, 아미노 라디칼로써 치환되거나 또는 C1-C4알킬 라디칼로써 모노- 또는 이치환된 아미노 라디칼로써 치환된 페닐 라디칼 ; C1-C4알킬 (C1-C4) 아미노알킬 라디칼 또는 C1-C4디알킬 (C1-C4) 아미노알킬 라디칼을 나타내고 ;
    - 이는 하기로 주지된다 :
    - R2및 R4는 동시에 수소원자를 나타내고, R1은 메톡시메틸 또는 γ-클로로-β-히드록시프로필기를 나타내고, 다음에 R3는 포르밀 라디칼을 나타낼 수 없을 때,
    - 및 R2, R3및 R4 는동시에 수소원자를 나타내고, R1은 디메틸아미노에틸 라디칼을 나타낼 수 없을 때).
  19. 제 18 항에 있어서, 하기로부터 선택됨을 특징으로 하는 유도체 :
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-메틸인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)-5-메틸인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-메틸인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-6-메틸인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)-6-메틸인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-6-메틸인돌,
    - 5-벤질-4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)인돌,
    - 5-벤질-4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
    - 5-벤질-1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-β-히드록시에틸인돌,
    - 4-히드록시-5-β-히드록시에틸-1-N-(β-히드록시프로필)인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-β-히드록시에틸인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시프로필)-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시-5-β,γ-디히드록시프로필인돌,
    - 1-N-(γ-디메틸아미노프로필)-4-히드록시인돌,
    - 1-N-에틸아미노에틸-4-히드록시인돌 및 그의 산 부가염.
  20. 제 19 항에 있어서, 하기로부터 선택됨을 특징으로 하는 유도체 :
    - 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시에틸)인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-디히드록시프로필)인돌,
    - 1-N-(β,γ-디히드록시프로필)-4-히드록시인돌,
    - 4-히드록시-1-N-(β-히드록시에틸)-5-메틸인돌,
    - 1-N-(γ-디메틸아미노프로필)-4-히드록시인돌 및 그의 산 부가염.
  21. 제 1 단계에서, 온도가 80 내지 160 ℃ 인 용매 매질내에서, 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로벤조푸란을 치환된 아민과 반응시켜 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로인돌 유도체를 수득한다음 제 2 단계에서, 150 내지 220 ℃ 의 온도에서, 용매 매질내에 촉매 탈수소화에 의해 상기 4-옥소-4,5,6,7-테트라히드로인돌 유도체를 방향족화시에 화학식 (I') 의 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체를 수득하는 것으로 구성된 것을 특징으로 하는, 제 18 항에 정의된 바와 같은 상기 화학식 (I') 의 4-히드록시인돌의 N-치환 유도체의 제조 방법.
KR1019970709931A 1995-07-13 1996-06-26 엔-치환된 4-히드록시인돌 유도체 및 이를 함유하는 케라틴 섬유 염색 조성물 KR100254841B1 (ko)

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