KR19990023695A - 희석제 및 공중합체를 포함하는 조성물의 제조방법 및 공중합체 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 희석제 및 공중합체를 포함하는 조성물 및 이의 제조방법을 제공한다. 본 발명의 방법은 (a) 희석제 및 공중합체를 포함하는 조성물을 제조한 다음; (b) 조성물로부터 희석제의 일부를 제거하는 단계를 포함한다. 이러한 방법에 의하여 희석제의 양이 좀더 적고 결함이 좀더 적은 조성물이 생성된다.

Description

희석제 및 공중합체를 포함하는 조성물의 제조방법 및 공중합체
본 발명은 희석제 및 공중합체를 포함하는 조성물 분야에 관한 것이다. 희석제는 용매와 임의로는 휘발물을 포함한다. 용매는 지방족 화합물, 또는 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함한다. 공중합체는 중합된 단량체를 포함하고 이러한 단량체는 모노비닐아렌과 디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택된다.
일반적으로, 모노비닐아렌과 디엔의 공중합은 희석제에서 수행된다. 이러한 공중합 과정에 의해 이러한 희석제 및 공중합체를 포함하는 혼합물이 생성된다. 이렇게 공중합한 후에, 혼합물로부터 가능한 한 많은 양의 희석제를 제거하기 위한 단계를 취하여 희석제의 양이 좀더 적은 조성물을 생성시킨다. 식품 및 의료적용에 좀더 용이하게 사용될 수 있음으로 해서 희석제의 양이 더 적은 조성물을 구축하는 것이 바람직하다.
혼합물로부터 희석제를 제거하는 데 사용된 선행기술은 만족스럽지가 않다. 혼합물로부터 제조된 조성물에 존재하는 희석제의 더 적은 양을 성취하기 위해 이러한 혼합물이 거쳐야 할 혹독한 가공조건은 최종 생성물의 품질에 크게 유해효과를 미친다. 이러한 혹독한 가공조건은 이러한 조성물에 결함량을 증가시키는 역효과를 미친다.
디엔과 모노비닐아렌의 공중합체는 공중합체를 엄격한 마무리 작업에서 품질저하성 변화되기 쉽게 만드는 주쇄 및 측쇄 불포화(디엔으로부터)를 함유한다. 이러한 불포화는 마무리 작업을 곤란하게 만들지만, 이들 공중합체를 상업적으로 중요하게 하는 특정의 결정적인 필수 특성에 주된 책임이 있다. 엄격한 가공에 기인한 공중합체에 있어서의 품질저하성 변화가 매우 다양하고 광범위해질 수 있다. 이러한 변화에 포함되는 것으로는 색의 증가, 공중합체 안정성의 감소, 안정화제 수준의 감소, 및 거래공장에서의 성형문제에 대한 감수성 증가일 수 있다. 품질저하성 변화의 가장 중요한 점은 제품 성형 및 특히 시이트 및 필름 적용에서 표면 결함으로 나타나는 겔(종종 피쉬아이 fisheye로도 불림) 및 검은 반점을 형성하는 공중합체의 가교결합 및 겔화를 포함한다. 마무리 작업이 더욱 엄격하면 엄격할수록, 품질저하성 변화는 더욱 광범위하게 될 것이다. 고순준의 겔 및 검은 반점은 이들 공중합체의 대부분의 상업적 적용에서 시각적으로 뚜렷하고 대부분의 고객들에게는 용인되지 않는다.
결과적으로, 본 출원인은 두 가지의 경쟁관계에 있는 선결과제에 놓이게 되었다.
(1) 희석제 및 공중합체를 포함하고, 좀더 적은 양의 희석제를 함유하며, 희석제는 용매 및 임의로는 휘발물을 포함하며, 용매는 지방족 화합물, 또는 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하며, 공중합체는 중합된 단량체를 포함하고 단량체는 모노비닐아렌 및 디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물의 제조 열망; 및
(2) 희석제 및 공중합체를 포함하고, 좀더 적은 양의 결함을 갖고, 희석제는 용매 및 임의로는 희석제를 포함하며, 용매는 지방족 화합물, 또는 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하며, 공중합체는 중합된 단량체를 포함하고 단량체는 모노비닐아렌 및 디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물의 제조 열망.
그러나, 현재까지는 목적하는 조성물의 제조방법이 개발되어 있지 않다.
따라서, 본 발명자는 본 발명을 제공하게 되는 데, 그 이유는 본 발명의 방법에 의해 목적 조성물이 제조되기 때문이며, 결과적으로 본 발명은 이러한 조성물의 생산자에게 경제적으로나 기술적으로나 모두 유용하게 된다.
본 발명은 희석제 및 공중합체를 포함하고, 선행기술의 방법에 의해 제조된 선행기술 조성물보다 좀더 소량의 희석제 및/또는 결함을 함유하며, 희석제는 용매 및 임의로는 휘발물을 포함하며, 용매는 지방족 화합물, 또는 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하며, 공중합체는 중합된 단량체를 포함하며 단량체는 모노비닐아렌 및 디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물의 제조방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 희석제 및 공중합체를 포함하고, 선행기술의 방법에 의해 제조된 선행기술 조성물보다 좀더 소량의 희석제 및/또는 결함을 함유하며, 희석제가 용매 및 임의로는 휘발물을 포함하며, 용매는 지방족 화합물, 또는 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하며, 공중합체는 중합된 단량체를 포함하며 단량체는 모노비닐아렌 및 디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 일면에 따라, 조성물 제조방법이 제공된다. 이러한 제조방법은 (a) 희석제 및 공중합체를 포함하고, 희석제는 용매 및 임의로는 휘발물을 포함하며, 용매는 지방족 화합물, 또는 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하며, 공중합체는 중합된 단량체를 포함하며 단량체는 모노비닐아렌 및 디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택되며, 모노비닐아렌 및 디엔이 중량%로 측정하여 공중합체의 대부분을 차지하며, 제 1 조성물내 공중합체의 양이 제 1 조성물의 중량을 기준으로 약 15 내지 약 75 중량% 범위이며, 제 1 조성물이 희석제의 비점보다 높은 온도에 놓이는 제 1 조성물을 제조하고;
(b) 약 110 내지 약 210℃ 범위의 온도 및 약 130 내지 약 1000kPa의 압력을 갖는 제 1 분리부 및 제 1 전단부를 포함하는 제 1 용기내 제 1 조성물로부터 희석제의 일부를 제거하여 제 1 조성물보다 좀더 소량의 희석제를 함유하는 제 2 조성물을 생성시키고, 제 1 전단부가 약 110 내지 약 210℃ 범위의 온도와 약 130 내지 약 1000kPa 범위의 압력을 가질 경우, 제 2 조성물보다 좀더 소량의 희석제를 함유하는 제 3 조성물을 생성시킨 다음;
(c) 약 110 내지 약 210℃ 범위의 온도와 0 내지 약 75kPa 범위의 압력을 갖는 제 2 분리부 및 제 2 전단부를 포함하는 제 2 용기내 제 3 조성물로부터 희석제의 일부를 제거하여 제 3 조성물보다 좀더 소량의 희석제를 함유하는 제 4 조성물을 생성시키며, 제 2 전단부가 약 110 내지 약 210℃ 범위의 온도와 0 내지 약 75kPa 범위의 압력을 가질 경우, 제 4 조성물보다 좀더 소량의 희석제를 함유하는 제 5 조성물을 생성시키는 단계를 포함한다.
바람직하게는, 본 발명의 방법은 본질적으로 열거한 단계로 이루어지고 각 조성물은 필수적으로 열거한 성분으로 이루어진다. 본질적으로 이루어지는이란 용어의 사용은, 공정이 어떠한 추가 단계도 포함하지 않거나 본 발명의 원하는 목적에 악영향을 미치게 될 어떠한 추가 희석제, 용매 또는 단량체도 사용하지 않음을 의미한다.
본 발명의 다른 일면에 따라, 조성물이 제공된다. 이러한 조성물은 희석제 및 공중합체를 포함하고, 희석제는 용매 및 임의로는 휘발물을 포함하며, 용매는 지방족 화합물, 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하며, 공중합체는 중합된 단량체를 포함하며 단량체는 모노비닐아렌 및 디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택되며, 모노비닐아렌 및 디엔이 중량%로 측정하여 공중합체의 대부분을 차지하며, 조성물내 공중합체의 양이 조성물의 중량을 기준으로 약 1400 중량ppm 이하이며, 조성물의 압출부분으로 된 10mil 시이트내의 결함의 양이 시이트(이하 정의) 100 평방 인치 당 10 이하이며, 조성물은 상업적 규모의 설비(이하 정의)에서 생산된다.
본 발명의 제 2 면에 따라, 추가의 조성물이 제공된다. 이러한 조성물은 희석제 및 공중합체를 포함하고, 희석제는 용매 및 임의로는 휘발물을 포함하며, 이러한 용매는 지방족 화합물, 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하며, 이러한 공중합체는 중합된 단량체를 포함하며 이러한 단량체는 모노비닐아렌 및 디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택되며, 이러한 모노비닐아렌 및 디엔이 중량%로 측정하여 공중합체의 대부분을 차지하며, 조성물내 희석제의 양이 비교용 공중합체 조성물(이하 정의)내 희석제의 양보다 약 25 중량% 더 적다.
본 발명의 장점 및 혜택은 하기 내용을 참조로 하여 더 잘 숙지될 것이다.
일반적으로, 본 발명의 방법에 의해 희석제 및 공중합체를 포함하는 조성물이 제조되고, 이러한 조성물은 선행기술 방법에 의해 제조된 선행기술 조성물보다 좀더 소량의 희석제 및 좀더 소량의 결함을 갖는다.
본 발명의 제 1 단계는 제 1 조성물의 제조를 포함한다. 이러한 제 1 조성물은 희석제 및 공중합체를 포함한다. 희석제는 용매 및 임의로는 휘발물을 포함한다.
용매는 지방족 화합물, 또는 지환족 화합물(이하 비-방향족 화합물로 총칭), 또는 이들 화합물의 혼합물(지방족 및 지환족의 정의에 대해서는 Hawley's Condensed Chemical Dictionary, 11판, 34-35 쪽(1987) 참조)을 포함한다. 이러한 비-방향족 화합물은 약 2 내지 약 20 개의 탄소원자, 바람직하게는 약 4 내지 약 16 개의 탄소원자, 가장 바람직하게는 약 5 내지 약 12 개의 탄소원자를 함유한다. 지환족 화합물이 현재로서는 바람직하다. 이러한 비-방향족 화합물의 적절한 예는 에탄, 프로판, 부탄, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 사이클로펜탄, 사이클로헥산, 사이클로헵탄, 사이클로옥탄, 사이클로노난, 및 사이클로데칸이 포함되며, 이로써 제한되지는 않는다. 현재, 사이클로헥산 및 사이클로펜탄이 가장 바람직하다. 슬러리 중합에서, 펜탄, 헥산, 또는 이들의 혼합물이 바람직하다.
일반적으로, 반응기내의 희석제는 하나 이상의 비-방향족 화합물 및 중합에 실질적으로 그리고 악영향을 미치지 않는 한은 소량의(일반적으로 희석제의 15 중량% 이하, 바람직하게는 희석제의 1 중량% 이하) 기타 화합물(종종 휘발물로 불림)을 포함할 수 있다. 일반적으로, 이러한 기타 화합물은 비-중합 단량체, 개시제 가수분해 생성물, 커플링제 성분, 및 중합공정으로부터의 첨가제일 수 있다. 이러한 기타 화합물의 예로는 스티렌, 디에틸벤젠, n-프로필 벤젠, 이소프로필 벤젠, 4-비닐사이클로헥센 및 알파 메틸 스티렌이 있다. 이러한 화합물은 공중합체에 손상을 주지 않고는 제거하기가 어려운 악취를 부여할 수 있음에 주목하여야 한다.
공중합체는 단량체가 모노비닐아렌 및 디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 중합된 단량체를 포함한다. 그러나, 종종 이러한 공중합체는 공중합체 또는 공중합체와 예를 들면, 폴리스티렌과 같은 기타 중합체와의 블렌드의 물성 또는 투명성에 실질적으로 그리고 악영향을 미치지 않는 한 소량의(일반적으로 공중합체의 5 중량% 이하, 바람직하게는 공중합체의 1 중량% 이하) 기타 중합 화합물을 함유할 수 있다. 또한, 모노비닐아렌 및 디엔이 중량%로 측정하여 공중합체의 대부분을 차지함을 주지하여야 한다.
본 발명에 사용될 수 있는 모노비닐아렌은 일반적으로 약 8 내지 약 20 개의 탄소원자, 바람직하게는 약 8 내지 약 16 개의 탄소원자, 가장 바람직하게는 8 내지 12 개의 탄소원자를 함유한다. 이러한 탄소원자는 방향족 구조에 배열되어 있고 추가로 하나의 비닐 그룹을 갖도록 배열되어 있으며, 이러한 비닐 그룹은 중합에 이용될 수 있는 위치에 있다. 예를 들면, 비닐 그룹은 알킬 리튬 또는 중합체 리튬 개시제에 의한 음이온 중합에 활성이 되도록 하는 입체배치로 있어야 한다. 이러한 모노비닐아렌의 적절한 예로는 스티렌, 알파메틸스티렌, 4-메틸스티렌, 3-메틸스티렌, 2-메틸스티렌, 4-에틸스티렌, 3-에틸스티렌, 2-에틸스티렌, 4-3급-부틸 스티렌, 2,4-디메틸스티렌, 비닐 나트탈렌, 및 이들의 혼합물이 포함되며 이로써 제한되지는 않는다. 현재, 가장 바람직한 모노비닐아렌은 스티렌이다.
본 발명에 사용될 수 있는 디엔은 3 내지 약 12 개의 탄소원자, 바람직하게는 약 4 내지 약 10 개의 탄소원자, 가장 바람직하게는 4 내지 8 개의 탄소원자를 함유한다. 이러한 탄소원자는 두 공액 이중결합이 중합에 이용될 수 있도록 배열된다. 이러한 디엔의 적절한 예로는 1,3-부타디엔, 2-메틸-1,3-부타디엔, 2-에틸-1,3-부타디엔, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 및 이들의 혼합물이 포함되며, 이로써 제한되지는 않는다. 현재, 가장 바람직한 디엔은 1,3-부타디엔이다.
이러한 단량체로부터 공중합체를 제조하는 방법은 당해 분야에 공지되어 있다. 예를 들면, 이러한 단량체로부터 공중합체를 제조하는 다양한 음이온 중합법이 존재한다. 예를 들면, 필립스 페트롤륨 캄파니로부터의 방법이 하기 미국 특허에 기재되어 있다: 제4,051,197호; 제4,091,053호; 제4,104,326호; 제4,403,074호; 제4,584,346호; 제4,704,434호; 제4,704,435호; 제5,227,419호; 제5,256,743호; 제5,369,174호; 제5,290,875호; 제5,399,628호; 및 제5,438,103호. 이들 특허는 필립스 페트롤륨 캄파니(미국 오클라호마 바틀즈빌, (918)-661-6600)에 양도되었다. 유사 음이온 중합법으로 제조된 기타 경쟁성 공중합체도 본 발명의 방법으로부터 득이 될 것임이 주지된다.
일반적으로, 제 1 조성물내 공중합체의 양은 제 1 조성물의 중량을 기준으로 약 15 내지 약 75 중량%, 바람직하게는 약 25 내지 약 55 중량%, 가장 바람직하게는 약 30 내지 약 40 중량% 범위이다. 15 중량% 이하의 양은 공정에 비경제적인 경향이 있으며, 반면에 75 중량% 이상의 중량%는 열전달 및 통제에 있어서 용인될 수 없는 문제점을 조장한다.
희석제 및 공중합체를 포함하는 제 1 조성물은 제 1 조성물이 받게 되는 압력에서 희석제의 비점 이상의 온도에 놓여야 한다. 일반적으로, 이러한 점은 온도가 약 110 내지 약 210℃, 바람직하게는 약 130 내지 약 200℃, 가장 바람직하게는 약 140 내지 약 190℃ 범위에 있어야 함을 의미한다. 110℃ 이하의 온도는 희석제가 그 온도와 압력에서 자신의 비점 이상에 있지 않을 수 있고, 이에 따라 이러한 희석제를 제거하기가 더욱 곤란해지기 때문에 바람직하지 않으며, 반면에 약 210℃ 이상의 온도는 이러한 온도가 겔 및/또는 결함의 형성을 촉진하고 수지의 품질저하를 초래하기 때문에 바람직하지 않다.
본 발명의 제 2 단계는 부분적으로는 제 2 조성물을 포함한다. 이러한 제 2 조성물은 희석제 및 공중합체를 포함한다. 이러한 제 2 조성물은 제 1 조성물로부터 희석제의 일부를 제거함으로써 생성된다.
이러한 제거작업은 제 1 용기에서 수행되며, 여기에서 제 1 용기는 제 1 분리부 및 제 1 전단부를 포함한다.
제 1 분리부는 약 110 내지 약 210℃, 바람직하게는 약 130 내지 약 200℃, 가장 바람직하게는 약 140 내지 약 190℃ 범위내 온도를 갖는다. 제 1 분리부의 온도는 제 1 조성물이 제 1 분리부로 유입됨에 따라 일반적으로 제 1 조성물의 온도보다 더 높다. 그러나, 일반적으로, 110℃ 이하의 온도는 희석제가 그 온도와 압력에서 자신의 비점 이상에 있지 않을 수 있고, 이에 따라 이러한 희석제를 제거하기가 더욱 곤란해지기 때문에 바람직하지 않으며, 반면에 약 210℃ 이상의 온도는 이러한 온도가 최종 생성물내 결함의 형성을 조장하기 때문에 바람직하지 않다.
제 1 분리부는 약 130 내지 약 1000kPa, 바람직하게는 약 160 내지 약 750kPa, 가장 바람직하게는 약 200 내지 약 400kPa 범위의 압력을 갖는다. 130kPa 이하의 압력은 제 1 분리부에서 발생하는 기포 형성 때문에 바람직하지 않으며, 반면에 1000kPa 이상의 압력은 이러한 압력이 제 1 조성물로부터 제거되는 희석제의 양에 악영향을 미치기 때문에 바람직하지 않다.
제 1 분리부에는 또한 희석제 수집기에 대한 배출구가 있다.
제 1 분리부를 거친 후에 제 2 조성물은 제 1 조성물보다 좀더 소량의 희석제를 함유한다.
본 발명의 방법의 제 2 단계는 또한, 부분적으로 제 3 조성물을 포함한다. 이러한 제 3 조성물은 희석제 및 공중합체를 포함한다. 이러한 제 3 조성물은 제 2 조성물을 전단시키고 이렇게 하여 제 2 조성물로부터 희석제의 일부를 제거함으로써 생성된다.
제 1 전단부는 약 110 내지 약 210℃, 바람직하게는 약 130 내지 약 200℃, 가장 바람직하게는 약 140 내지 약 190℃ 범위내 온도를 갖는다. 그러나, 일반적으로, 110℃ 이하의 온도는 희석제가 그 온도와 압력에서 자신의 비점 이상에 있지 않을 수 있고, 이에 따라 이러한 희석제를 제거하기가 더욱 곤란해지기 때문에 바람직하지 않으며, 반면에 약 210℃ 이상의 온도는 이러한 온도가 최종 생성물내 결함의 형성을 조장하기 때문에 바람직하지 않다.
제 1 전단부는 약 130 내지 약 1000kPa, 바람직하게는 약 160 내지 약 750kPa, 가장 바람직하게는 약 200 내지 약 400kPa 범위의 압력을 갖는다. 130kPa 이하의 압력은 제 1 전단부에서 발생하는 기포 형성 때문에 바람직하지 않으며, 반면에 약 1000kPa 이상의 압력은 이러한 압력이 제 2 조성물로부터 제거되는 희석제의 양에 악영향을 미치기 때문에 바람직하지 않다.
제 1 전단부를 거친 후에 제 3 조성물은 제 2 조성물보다 좀더 소량의 희석제를 함유한다.
일반적으로, 제 3 조성물내 공중합체의 양은 제 3 조성물의 중량을 기준으로 약 80 내지 약 99 중량%, 바람직하게는 약 85 내지 약 99 중량%, 가장 바람직하게는 약 90 내지 약 99 중량% 범위이다. 80 중량% 이하의 양은 제 2 용기에서 발생할 수 있는 기포형성 때문에 바람직하지 않고, 99 중량% 이상의 중량%는 도관의 막힘을 초래할 수 있기 때문에 바람직하지 않다.
제 1 용기는 일반적으로, 기계 교반식 박막 증발기 용기로서 묘사될 수 있다. 적절히 건설되고 다양한 점도의 재료에 대한 모터 마력 용량을 갖춘 용기가 이용될 수 있다. 이러한 용기는 LCI Corporation(미국 노스 캐롤라이나 28297-8804 챨롯 피.오.박스 16348)로부터 입수할 수 있다.
일반적으로, 제 1 용기는 모터 구동 로터 블레이드 또는 로터 디스크가 장착되는, 기계 교반식 박막 증발기 용기인 것이 바람직하다. 그러나, 이러한 로터의 다양한 조합도 사용될 수 있다.
일반적으로, 제 2 조성물은 제 2 조성물이 주로 제 1 용기의 내벽에 부착하는 박막 형태로 존재하도록 부분적으로는 로터의 회전에 의해 제 1 용기를 통해 수송된다.
본 발명의 방법의 제 3 단계는 부분적으로는, 제 4 조성물의 제조를 포함한다. 이러한 제 4 조성물은 희석제 및 공중합체를 포함한다. 이러한 제 4 조성물은 제 3 조성물로부터 희석제 일부를 제거함으로써 생성될 수 있다.
이러한 사실은 제 1 용기 및 제 2 용기가 유체 유동 소통상태에 있음을 의미한다. 또한, 이러한 용기 간의 라인에 있어서의 유출을 방지하도록 온도와 압력이 유지됨이 주지된다.
이러한 제거작업은 제 2 용기에서 수행되며, 여기에서 제 2 용기는 제 2 분리부와 제 2 전단부를 포함한다.
제 2 분리부는 약 110 내지 약 210℃, 바람직하게는 약 130 내지 약 200℃, 가장 바람직하게는 약 140 내지 약 190℃ 범위의 온도를 갖는다. 제 2 분리부의 온도는 제 3 조성물이 제 2 분리부로 유입됨에 따라 일반적으로 제 3 조성물의 온도보다 고온이다. 그러나, 일반적으로, 110℃ 이하의 온도는 조성물이 적절한 작업성을 갖기에는 지나치게 점성을 띠게 되기 때문에 바람직하지 않으며, 반면에 약 210℃ 이상의 온도는 최종 생성물에서 결함형성을 조장하기 때문에 바람직하지 않다.
제 2 분리부는 0 내지 약 75kPa, 바람직하게는 0 내지 약 50kPa, 가장 바람직하게는 0 내지 약 20kPa 범위의 압력을 갖는다. 75kPa 이상의 압력은 희석제가 덜 제거되게 되므로 바람직하지 않다.
제 2 분리부에는 또한 희석제 수집기에 대한 배출구가 있다.
제 2 분리부를 지난 후, 제 4 조성물은 제 3 조성물보다 더 소량의 희석제를 함유한다.
본 발명에 따른 방법의 제 3 단계는 또한 부분적으로는, 제 5 조성물의 생성을 포함한다. 이러한 제 5 조성물은 희석제 및 공중합체를 포함한다. 이러한 제 5 조성물은 제 4 조성물을 전단하고 이에 따라 제 4 조성물로부터 희석제 일부를 제거함으로써 생성된다.
제 2 전단부는 약 110 내지 약 210℃, 바람직하게는 약 130 내지 약 200℃, 가장 바람직하게는 약 140 내지 약 190℃ 범위의 온도를 갖는다. 그러나, 110℃ 이하의 온도는 조성물이 불량한 투명성을 띨 수 있기 때문에 바람직하지 않으며, 반면에 약 210℃ 이상의 온도는 최종 생성물에서 결함형성을 조장하기 때문에 바람직하지 않다.
제 2 전단부는 0 내지 약 75kPa, 바람직하게는 0 내지 약 50kPa, 가장 바람직하게는 0 내지 약 20kPa 범위의 압력을 갖는다. 75kPa 이상의 압력은 희석제가 덜 제거되게 되므로 바람직하지 않다.
제 2 전단부를 거친 후, 제 5 조성물은 제 4 조성물보다 더 소량의 희석제를 함유한다.
일반적으로, 제 5 조성물내 희석제의 양은 제 5 조성물의 중량을 기준으로, 1400 중량ppm 이하, 바람직하게는 1200 중량ppm 이하, 더욱 바람직하게는 1000 중량ppm 이하, 가장 바람직하게는 500 중량ppm 이하이다.
일반적으로, 압출된 제 5 조성물로 된 10mil 시이트내 피쉬아이의 양은 시이트 100 평방 인치 당, 10 이하, 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 가장 바람직하게는 4 이하이다. 사실, 피쉬아이는 시이트 100 평방 인치 당 2 이하 수준으로 발생하는 것이 매우 바람직하다.
제 2 용기는 일반적으로, 제 1 용기와 같은 기계 교반식 박막 증발기 용기로서 묘사될 수 있다.
일반적으로, 제 2 용기는 모터 구동 로터 블레이드, 또는 로터 디스크가 장착되는 향류(counter-current-flow)-기계 교반식 박막 증발기 용기인 것이 바람직하다. 그러나, 이러한 로터의 다양한 조합도 사용될 수 있다.
일반적으로, 제 4 조성물은 제 4 조성물이 주로 제 2 용기의 내벽에 부착하는 박막 형태로 존재하도록 부분적으로는 로터의 회전에 의해 제 2 용기를 통해 수송된다. 제 4 조성물의 이동방향은 제 4 조성물로부터 희석제의 추가 제거에 사용된 유동가스의 방향과 반대이다. 유동가스는 제 5 조성물의 형성에 실질적으로 그리고 악영향을 미치지 않는 임의의 가스일 수 있다. 적절한 가스는 질소, 이산화탄소 및/또는 증기이다.
본 명세서의 목적상, 제 1 용기, 이어서 탈장(脫藏) 압출기를 사용하여 제 1 조성물로부터 이러한 조성물을 형성함으로써 생성된 선행기술의 조성물은 비교 공중합체 조성물로 호칭한다. 이러한 정의를 위한 탈장 압출기는 직경 40mm의 함께 회전하고, 완전히 상호 맞물리는 트윈 스크루 탈장 압출기이다. 이러한 압출기의 적절한 예는 모델 ZSK-40 트윈 스크루 탈장 압출기(Werner Pfleiderer Corp., 미국 뉴저지 07446 램지 이스트 크레센트 애버뉴 633-티)이다.
본 발명에 따라 생성된 완성 조성물내 주어진 어떠한 소량의 결함의 경우에도, 이러한 조성물은 비교 공중합체 조성물보다 25 중량% 더 적은 희석제, 바람직하게는 50 중량% 더 적은 희석제, 가장 바람직하게는 75 중량% 더 적은 희석제를 함유하게 된다. 그러나, 일반적으로, 희석제를 전부 제거하는 것은 비경제적이며, 따라서 약간의 희석제는 본 발명의 조성물에 잔류하게 된다. 그러나, 제 1 조성물로부터 생성된 본 발명의 조성물은 이러한 제 1 조성물로부터 생성된 비교 공중합체 조성물보다 더 소량의 희석제를 함유하게 된다.
본 명세서의 목적상, 상업적 규모의 설비는 희석제 및 공중합체를 포함하는 조성물을 시간 당 생산 라인 당 5000 파운드가 넘는 속도로 생산하는 설비를 말하며, 여기에서 희석제는 용매 및 임의로는 휘발물을 포함하고, 용매는 지방족 화합물, 또는 지환족 화합물, 또는 이러한 화합물의 혼합물을 포함하며, 공중합체는 중합된 단량체를 포함하며 단량체는 모노비닐아렌 및 디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택된다.
실시예
이들 실시예는 본 발명의 설명을 위해 제공한다. 청구된 본 발명의 범위는 이들 실시예로 제한되지는 않는다.
희석제 및 공중합체를 포함하고, 희석제가 용매와 희발성 물질을 포함하며, 용매가 사이클로헥센이며, 휘발물이 단량체 및 첨가제를 포함하며, 공중합체가 중합된 스티렌 및 부타디엔을 포함하는 조성물은 전술한 특허에 상세히 기술되어 있는 장비와 절차를 이용하여 제조된다. 희석제(약 67 중량%)와 공중합체(약 33 중량%)로 이루어진 이러한 조성물은 제 1 조성물이다.
하기의 본 발명의 실시예에서, 제 1 조성물의 일부는 제 1 분리부와 제 1 전단부를 포함하는 제 1 용기를 통해 통과하여 제 3 조성물을 생성하고, 이어서 이러한 제 3 조성물은 제 2 분리부와 제 2 전단부를 포함하는 제 2 용기를 통해 통과하여 제 5 조성물을 생성한다.
비교 실시예에서, 제 1 조성물의 다른 부분은 분리부와 전단부를 포함하는 제 1 용기를 통해 통과하여 제 3 조성물을 생성하고 이어서 이러한 제 3 조성물은 탈장 압출기를 통해 통과한다. 각 공정으로부터의 최종 생성물을 비교 대비한다.
본 발명의 실시예
희석제 및 공중합체를 포함하고 공중합체가 스티렌 및 부타디엔으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 중합 단량체를 포함하며, 온도가 155℃인 제 1 조성물의 일부를 36kg/hr의 속도로 제 1 용기(Vistran Model HS-150 교반 박막 증발기, LCI Corp.로부터 입수, 미국 노스 캐롤라이나 28297-8804 챨롯 피.오.박스 16348)중으로 공급한다. 이러한 제 1 용기에서, 제 2 조성물은 제 1 조성물로부터 생성되고 제 3 조성물은 제 2 조성물로부터 생성된다.
제 1 분리부의 온도는 135℃이다. 제 1 분리부의 압력은 약 283kPa이다. 제 1 전단부의 온도는 약 180℃이다. 제 1 전단부의 압력은 약 283kPa이다.
제 3 조성물을 제 2 용기 중으로 통과시킨다. 이러한 제 2 용기에서, 제 4 조성물은 제 3 조성물로부터 생성되고 제 5 조성물은 제 4 조성물로부터 생성된다.
제 2 분리부의 온도는 약 180℃이다. 제 2 분리부의 압력은 약 5kPa이다. 제 2 전단부의 온도는 약 180℃이다. 제 2 전단부의 압력은 약 5kPa이다. 로터 속도는 약 150rpm이다. 추가로, 향류 증기 유동이 0.29kg/hr로 세팅되었음에 주목하여야 한다.
제 2 용기에서 배출구로부터 20 시간에 걸쳐서 매 시간마다 샘플을 채취한다. 이러한 샘플을 잔류 사이클로헥산에 대하여 분석하고, 일부 경우에는 평균 결함에 대해서도 분석한다.
결과를 표 1a, 샘플 1A 내지 1T에 나타내었다.
샘플 번호 시간(hr) 잔류 사이클로헥산(ppmw) 평균 결함
1A 1 125 2.2
1B 2 123
1C 3 136 1.6
1D 4 134
1E 5 164 1.8
1F 6 136
1G 7 134 3.2
1H 8 123
1I 9 126 1
1J 10 112
1K 11 101 2.2
1L 12 106
1M 13 116 1
1N 14 104
1O 15 104 1.4
1P 16 100
1Q 17 110 0.4
1R 18 105
1S 19 105 2
1T 20 113
제 2 본 발명의 실시예에서, 제 1 조성물의 다른 부분을 제 1 본 발명 실시예에서와는 상이한 조건하에서 처리한다.
제 1 분리부의 온도는 약 135℃이다. 제 1 분리부의 압력은 약 283kPa이다. 제 1 전단부의 온도는 약 180℃이다. 제 1 전단부의 압력은 약 283kPa이다.
제 3 조성물은 제 2 용기 중으로 통과된다. 이러한 제 2 용기에서, 제 4 조성물은 제 3 조성물로부터 생성되며 제 5 조성물은 제4 조성물로부터 생성된다.
제 2 분리부의 온도는 약 180℃이다. 제 2 분리부의 압력은 약 3kPa이다. 제 2 전단부의 온도는 180℃이다. 제 2 전단부의 압력은 약 3kPa이다. 로터 속도는 약 150rpm이다. 또한, 향류 증기 유동이 0.29kg/hr로 세팅되었음에 주목하여야 한다.
제 2 용기에서 배출구로부터 12 시간에 걸쳐서 매 시간마다 샘플을 채취한다. 이러한 샘플을 하나의 샘플을 제외하고는 잔류 사이클로헥산 및/또는 평균 결함에 대해 분석한다.
결과를 표 1b, 샘플 2A-2L에 나타내었다.
샘플 번호 시간(hr) 잔류 사이클로헥산(ppmw) 평균 결함
2A 1 107 3
2B 2 101
2C 3 102 0.6
2D 4 96
2E 5 1.8
2F 6 105
2G 7 95 4
2H 8 92
2I 9 92 4.6
2J 10
2K 11 92 5.4
2L 12 99
제 3 본 발명 실시예에서, 제 1 조성물의 다른 부분을 제 1 본 발명 실시예에서와는 상이한 조건하에서 처리한다.
이러한 제 1 용기에서, 제 2 조성물은 제 1 조성물로부터 생성되고 제 3 조성물은 제 2 조성물로부터 생성된다.
제 1 분리부의 온도는 약 135℃이다. 제 1 분리부의 압력은 약 283kPa이다. 제 1 전단부의 온도는 약 180℃이다. 제 1 전단부의 압력은 약 283kPa이다.
제 3 조성물은 제 2 용기 중으로 통과된다. 이러한 제 2 용기에서, 제 4 조성물은 제 3 조성물로부터 생성되며 제 5 조성물은 제 4 조성물로부터 생성된다.
제 2 분리부의 온도는 약 180℃이다. 제 2 분리부의 압력은 약 0.8kPa이다. 제 2 전단부의 온도는 180℃이다. 제 2 전단부의 압력은 약 0.8kPa이다. 로터 속도는 약 150rpm이다. 또한, 향류 증기 유동이 0.29kg/hr로 세팅되었음에 주목하여야 한다.
제 2 용기에서 배출구로부터 12 시간에 걸쳐서 매 시간마다 샘플을 채취한다. 이러한 샘플을 잔류 사이클로헥산 및, 일부 경우에는 평균 결함에 대해 분석한다.
결과를 표 1c, 샘플 3A-3L에 나타내었다.
샘플 번호 시간(hr) 잔류 사이클로헥산(ppmw) 평균 결함
3A 1 81 1.6
3B 2 103
3C 3 87 2
3D 4 82
3E 5 89 1.4
3F 6 89
3G 7 83 0.8
3H 8 84
3I 9 97 0.8
3J 10 99
3K 11 89 1.8
3L 12 95
제 4 본 발명 실시예에서, 제 1 조성물의 다른 부분을 제 1 본 발명 실시예에서와는 상이한 조건하에서 처리한다.
이러한 제 1 용기에서, 제 2 조성물은 제 1 조성물로부터 생성되고 제 3 조성물은 제 2 조성물로부터 생성된다.
제 1 분리부의 온도는 약 135℃이다. 제 1 분리부의 압력은 약 283kPa이다. 제 1 전단부의 온도는 약 180℃이다. 제 1 전단부의 압력은 약 283kPa이다.
제 3 조성물은 제 2 용기 중으로 통과된다. 이러한 제 2 용기에서, 제 4 조성물은 제 3 조성물로부터 생성되며 제 5 조성물은 제 4 조성물로부터 생성된다.
제 2 분리부의 온도는 약 180℃이다. 제 2 분리부의 압력은 약 0.8kPa이다. 제 2 전단부의 온도는 약 180℃이다. 제 2 전단부의 압력은 약 0.8kPa이다. 로터 속도는 약 150rpm이다. 또한, 향류 증기 유동이 0.29kg/hr로 세팅되었음에 주목하여야 한다.
제 2 용기에서 배출구로부터 6 시간에 걸쳐서 매 시간마다 샘플을 채취한다. 이러한 샘플을 잔류 사이클로헥산 및, 일부 경우에는 평균 결함에 대해 분석한다.
결과를 표 1d, 샘플 4A-4F에 나타내었다.
샘플 번호 시간(hr) 잔류 사이클로헥산(ppmw) 평균 결함
4A 1 80 4
4B 2 77
4C 3 84 2.4
4D 4 81
4E 5 77 1.4
4F 6 80
비교 실시예
제 1 조성물의 다른 부분을 제 1 용기에 공급한다.
이러한 제 1 용기에서, 제 2 조성물은 제 1 조성물로부터 생성되고 제 3 조성물은 제 2 조성물로부터 생성된다.
제 1 분리부의 온도는 약 135℃이다. 제 1 분리부의 압력은 약 283kPa이다. 제 1 전단부의 온도는 약 180℃이다. 제 1 전단부의 압력은 약 283kPa이다.
제 3 조성물은 모델 ZSK-40 트윈 스크루 탈장 압출기(Werner Pfleiderer Corp., 미국 뉴저지 07446 램지 이스트 크레센트 애버뉴 633-티) 중으로 통과된다. 공급압력은 80psig에서 유지되고, 공급속도는 36kg/hr로 세팅되며, 스크루 속도는 275rpm로, 압출기 진공 압력: 존 1, 100mm Hg; 존 2, 50mm Hg; 존 3, 20mm Hg하에 세팅된다. 추가로, 이러한 압출기에는 물이 압출기로 첨가되는 두 개의 배출구가 있다. 이러한 배출구는 압출기 중으로 수지 100 부 당 물 0.5 및 0.7 부를 허용한다. 압출기 배출물을 17 시간에 걸쳐서 매 시간마다 샘플링한다. 샘플을 잔류 사이클로헥산 및 평균 결함에 대해 분석한다.
결과를 표 2a, 샘플 1 내지 17에 나타내었다.
샘플 번호 시간(hr) 잔류 사이클로헥산(ppmw) 평균 결함
1 1 424 8.8
2 2 474 7
3 3 448 17.25
4 4 477 10
5 5 469 10.6
6 6 449 8.8
7 7 441 7.6
8 8 472 6.2
9 9 434 9.2
10 10 474 10
11 11 440 4.4
12 12 509 8
13 13 502 7.2
14 14 515 9.2
15 15 460 8.8
16 16 473 11.2
17 17 433 11.4
이러한 제 2 비교 실시예에서, 제 1 조성물의 다른 부분을 제 1 용기에 공급한다.
이러한 제 1 용기에서, 제 2 조성물은 제 1 조성물로부터 생성되고 제 3 조성물은 제 2 조성물로부터 생성된다.
제 1 분리부의 온도는 약 135℃이다. 제 1 분리부의 압력은 약 283kPa이다. 제 1 전단부의 온도는 약 180℃이다. 제 1 전단부의 압력은 약 283kPa이다.
제 3 조성물은 모델 ZSK-40 트윈 스크루 탈장 압출기 중으로 통과된다. 공급압력은 200psig에서 유지되고, 공급속도는 36kg/hr로 세팅되며, 스크루 속도는 275rpm로, 압출기 진공 압력: 존 1, 100mm Hg; 존 2, 50mm Hg; 존 3, 20mm Hg하에 세팅된다. 추가로, 이러한 압출기에는 물이 압출기로 첨가되는 두 개의 배출구가 있다. 이러한 배출구는 압출기 중으로 수지 100 부 당 물 0.5 및 0.7 부를 허용한다. 압출기 배출물을 18 시간에 걸쳐서 매 시간마다 샘플링한다. 샘플을 잔류 사이클로헥산 및 평균 결함에 대해 분석한다.
결과를 표 2b, 샘플 2A 내지 2R에 나타내었다.
샘플 번호 시간(hr) 잔류 사이클로헥산(ppmw) 평균 결함
2A 1 487 11.6
2B 2 484 8.2
2C 3 504 10.8
2D 4 423 13
2E 5 453 16.2
2F 6 435 7.2
2G 7 464 11.2
2H 8 421 18.6
2I 9 411 14.2
2J 10 401 11
2K 11 409 8
2L 12 416 8.8
2M 13 460 7.8
2N 14 414 8.4
2O 15 413 14.4
2P 16 424 17.2
2Q 17 429 23.8
2R 18 432 11.8
시험절차 및 기타 측정
가스 크로마토그래프를 이용하여 잔류 사이클로헥산을 측정한다. 평균 결함을 다음과 같은 절차에 따라 측정한다.
원하는 중합체 일부를 10mil 시이트로 압출한다. 이어서, 이러한 10mil 시이트를 비디오/컴퓨터 시스템으로 스캐닝하여 시이트 100 평방 인치 당 피쉬아이의 수를 측정한다. 피쉬아이는 크기가 0.25 평방 밀리미터 이상인 결함이다. 10mil 시이트를 다음과 같이 제조한다.
압출기를 워밍업시킨다. 하기 조건이 사용된다.
존 (1, 2 3) 360℉
어댑터 365℉
다이 375℉
펠릿 2 파인트를 공급 호퍼에 공급한다.
회전속도계 포트를 이용하여, 스크루 속도를 10rpm으로 증가시킨다.
일단 다이를 통한 중합체 유동이 설정되면, 스크루 속도는 압력을 1200psig이하로 유지시키면서 서서히 44 내지 45prm으로 증가시킨다.
냉각롤을 9ft/분의 속도로 세팅한다.
시이트를 권취 와인더에 공급한다.
분석용 샘플을 수집하기에 앞서 펠릿 2 파인트를 압출기를 통해 퍼징한다.
시이트를 10mil 두께로 조정한다.
실시예에 대한 품평
표 1의 데이터를 검사한 결과, 제 2 용기내 진공압력의 순차적 강하가 제조 생성물내 잔류 사이클로헥산의 상응하는 순차적 감소를 일으키는 것으로 나타났다(본 발명 실시예 1, 2, 3 및 4 비교). 이와 같은 동일한 비교결과는 생성물의 평균 결함에 미치는 영향이 매우 미미함을 보여주며, 모든 실행은 0.4 내지 5.4 범위내에 들어온다.
본 발명의 실행(표 1)에 대한 데이터와 비교 실행에 대한 데이터(표 2)를 비교한 결과 본 발명의 방법에 의해 잔류 사이클로헥산이 더 적고 평균 결함이 더 적은 생성물이 생성됨을 보여준다. 잔류 사이클로헥산은 본 발명의 실행의 경우 77 내지 164ppm인 반면에, 비교 실행의 경우에는 401 내지 515ppm이다. 평균 결함은 본 발명의 실행의 경우 0.4 내지 5.4인 반면에 비교 실행의 경우 4.4 내지 23.8이다. 두 방법에 의해 생긴 평균 결함 범위에는 다소 중첩되는 부분이 있지만, 비교용 방법의 경우 확연히 더 높은 수준의 평균 결함을 발생시키는 경향이 데이터로부터 매우 자명하다.
본 발명의 방법과 비교용 방법 간의 가장 직접적인 비교는 본 발명 실시예 3 대 비교 실시예 1, 및 본 발명 실시예 4 대 비교 실시예 2 사이이다. 이들 두 실시예에 대한 표 1과 2의 데이터를 비교한 결과는 본 발명의 방법으로는 잔류 사이클로헥산이 81 내지 103ppm 범위 및 평균 결함이 0.8 내지 2 범위인 반면에, 비교용 방법으로는 잔류 사이클로헥산이 424 내지 515ppm 및 평균 결함이 4.4 내지 17.25 범위임을 보여준다. 이러한 결과는 더 낮은 잔류 사이클로헥산과 더 낮은 평균 결함을 일으킨다는 점에서 본 발명 방법의 우수성을 명백히 보여준다.
본 발명 실시예 4와 비교 실시예 2에 대한 표 1과 2의 데이터를 비교한 결과는 본 발명 실시예에 의해서는 77 내지 84ppm의 잔류 사이클로헥산 및 1.4 내지 4의 평균 결함이 있는 생성물이 생성되는 반면에, 비교 실시예 2에 의해서는 401 내지 504ppm의 잔류 사이클로헥산 및 7.2 내지 23.8의 평균 결함이 있는 생성물이 생성됨을 보여준다. 또한, 밀접하게 관련된 본 발명의 실시예와 비교 실시예를 조사하였을 때, 더 적은 잔류 사이클로헥산 및 더 적은 평균 결함이 발생한다는 점에서 본 발명의 우수성이 매우 명백하다.
비록 본 발명이 이의 특정의 바람직한 버전을 참조로 하여 매우 상세하게 설명되었지만, 다른 버전도 가능하다. 예를 들면, 제 1 용기 및 제 2 용기는 이들이 실제로 하나의 결합된 용기가 되도록 연결시킬 수 있다. 따라서, 첨부 특허청구 범위의 취지 및 범위는 본원에서의 개요, 상세한 설명, 또는 실시예에 국한되지 않는다.

Claims (35)

  1. (a) 희석제 및 공중합체를 포함하고, 희석제는 용매 및 임의로는 휘발물을 포함하며, 용매는 지방족 화합물, 또는 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하며, 공중합체는 모노비닐아렌, 디엔 및 이들의 혼합물을 포함하는 중합된 단량체를 포함하며, 모노비닐아렌, 디엔 또는 이들의 혼합물은 중량%로 측정하여 공중합체의 대부분을 차지하며, 제 1 조성물내 공중합체의 양이 제 1 조성물의 중량을 기준으로 약 15 내지 약 75 중량% 범위이며, 제 1 조성물이 희석제의 비점보다 높은 온도에 있는 1 조성물을 제조하고;
    (b) 약 110 내지 약 210℃ 범위의 온도 및 약 130 내지 약 1000kPa의 압력을 갖는 제 1 분리부 및 약 110 내지 약 210℃ 범위의 온도 및 약 130 내지 약 1000kPa 범위의 압력을 갖는 제 1 전단부를 포함하는 제 1 용기내 제 1 조성물로부터 희석제의 일부를 제거하여, 제 1 조성물보다 좀더 소량의 희석제를 함유하는 제 2 조성물을 제 1 용기의 제 1 분리부에 생성시키고, 제 2 조성물보다 좀더 소량의 희석제를 함유하는 제 3 조성물을 제 1 용기의 제 1 전단부에 생성시킨 다음;
    (c) 약 110 내지 약 210℃ 범위의 온도 및 0 내지 약 75kPa 범위의 압력을 갖는 제 2 분리부 및 약 110 내지 약 210℃ 범위의 온도 및 0 내지 약 75kPa 범위의 압력을 갖는 제 2 전단부를 포함하는 제 2 용기내 제 3 조성물로부터 희석제의 일부를 제거하여 제 3 조성물보다 좀더 소량의 희석제를 함유하는 제 4 조성물을 제 2 용기의 제 2 분리부에 생성시키고, 제 4 조성물보다 더 소량의 희석제를 함유하는 제 5 조성물을 제 2 용기의 제 2 전단부에 생성시키는 단계를 포함하는, 희석제 및 공중합체를 포함하는 조성물의 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 용매가 에탄, 프로판, 부탄, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 사이클로펜탄, 사이클로헥산, 사이클로헵탄, 사이클로옥탄, 사이클로노난, 사이클로데칸, 또는 2 종 이상의 이들 용매 혼합물인 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 용매가 실질적으로 사이클로헥산 또는 사이클로펜탄인 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 모노비닐아렌이 스티렌, 알파메틸스티렌, 4-메틸스티렌, 3-메틸스티렌, 2-메틸스티렌, 4-에틸스티렌, 3-에틸스티렌, 2-에틸스티렌, 4-3급-부틸 스티렌, 2,4-디메틸스티렌, 비닐 나프탈렌 또는 2 종 이상의 이들 모노비닐아렌의 혼합물인 방법.
  5. 제 4 항에 있어서, 모노비닐아렌이 스티렌인 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 디엔이 1,3-부타디엔, 2-메틸-1,3-부타디엔, 2-에틸-1,3-부타디엔, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 또는 2 종 이상의 이들 디엔의 혼합물인 방법.
  7. 제 6 항에 있어서, 디엔이 1,3-부타디엔인 방법.
  8. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 조성물내 공중합체의 양이 약 25 내지 약 55 중량% 범위인 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 제 1 조성물내 공중합체의 양이 약 30 내지 약 40 중량% 범위인 방법.
  10. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 조성물이 약 130 내지 약 200℃ 범위의 온도에 놓이는 방법.
  11. 제 10 항에 있어서, 제 1 조성물이 약 140 내지 약 190℃ 범위의 온도에 놓이는 방법.
  12. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 분리부의 온도가 약 130 내지 약 200℃ 범위인 방법.
  13. 제 12 항에 있어서, 제 1 분리부의 온도가 약 140 내지 약 190℃ 범위인 방법.
  14. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 분리부의 압력이 약 160 내지 약 750kPa 범위인 방법.
  15. 제 14 항에 있어서, 제 1 분리부의 압력이 약 200 내지 약 400kPa 범위인 방법.
  16. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 전단부의 온도가 약 130 내지 약 200℃ 범위인 방법.
  17. 제 16 항에 있어서, 제 1 전단부의 온도가 약 140 내지 약 190℃ 범위인 방법.
  18. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 전단부의 압력이 약 160 내지 약 750kPa 범위인 방법.
  19. 제 18 항에 있어서, 제 1 전단부의 압력이 약 200 내지 약 400kPa 범위인 방법.
  20. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 3 조성물내 공중합체의 양이 약 85 내지 약 99 중량% 범위인 방법.
  21. 제 20 항에 있어서, 제 3 조성물내 공중합체의 양이 약 90 내지 약 99 중량% 범위인 방법.
  22. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 2 분리부의 온도가 약 130 내지 약 200℃ 범위인 방법.
  23. 제 22 항에 있어서, 제 2 분리부의 온도가 약 140 내지 약 190℃ 범위인 방법.
  24. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 2 분리부의 압력이 0 내지 약 50kPa 범위인 방법.
  25. 제 24 항에 있어서, 제 2 분리부의 압력이 0 내지 약 20kPa 범위인 방법.
  26. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 2 전단부의 온도가 약 130 내지 약 200℃ 범위인 방법.
  27. 제 26 항에 있어서, 제 2 전단부의 온도가 약 140 내지 약 190℃ 범위인 방법.
  28. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 2 전단부의 압력이 0 내지 약 50kPa 범위인 방법.
  29. 제 28 항에 있어서, 제 2 전단부의 압력이 0 내지 약 20kPa 범위인 방법.
  30. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 5 조성물이 비교 공중합체 조성물(본원 정의)보다 25 중량% 더 적은 희석제를 함유하는 방법.
  31. 제 30 항에 있어서, 제 5 조성물이 비교 공중합체 조성물보다 50 중량% 더 적은 희석제를 함유하는 방법.
  32. 제 31 항에 있어서, 제 5 조성물이 비교 공중합체 조성물보다 75 중량% 더 적은 희석제를 함유하는 방법.
  33. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 방법이 본질적으로 열거단계로 이루어지고 각 조성물이 본질적으로 열거성분으로 이루어지는 방법.
  34. 희석제 및 공중합체를 포함하고, 희석제가 용매 및 임의로는 휘발물을 포함하며, 용매는 지방족 화합물, 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하며, 공중합체는 중합된 단량체를 포함하며, 단량체는 모노비닐아렌, 디엔 또는 이들의 혼합물을 포함하며, 모노비닐아렌, 디엔 또는 이들의 혼합물이 중량%로 측정하여 공중합체의 대부분을 차지하며, 조성물내 희석제의 양이 조성물의 중량을 기준으로 1400 중량ppm 이하이며, 조성물의 압출부분으로 된 10mil 시이트내 결함의 평균량이 시이트 100 평방 인치 당 5 이하이며, 상업적 규모의 설비로 생산되는 조성물.
  35. 희석제 및 공중합체를 포함하고, 희석제가 용매 및 임의로는 휘발물을 포함하며, 용매는 지방족 화합물, 지환족 화합물, 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하며, 공중합체는 중합된 단량체를 포함하며, 단량체는 모노비닐아렌, 디엔 또는 이들의 혼합물을 포함하며, 모노비닐아렌, 디엔 또는 이들의 혼합물이 중량%로 측정하여 공중합체의 대부분을 차지하며, 조성물내 희석제의 양이 비교용 공중합체 조성물(본원 정의)내 희석제량보다 약 25 중량% 더 적은 조성물.
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