KR19990000143A - 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치 - Google Patents

가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치에 관한 것으로, 본 발명에서는 가스커튼 형성기능을 갖는 시수 차단장치 및 액체 분사기능을 갖는 잔류물 제거장치를 통해 첫째, 시수의 외부 배출을 차단시킬 수 있고, 둘째, 적절한 흡입 시수량을 유지할 수 있으며, 셋째, 흡기관를 통한 공정 잔류물의 누출을 방지할 수 있고, 넷째, 잦은 클리닝 작업을 줄일수 있다.

Description

가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치
본 발명은 반도체 제조를 위한 가스 배기 시스템에 관한 것으로, 좀더 상세하게는 공정가스에 포함된 각종 잔류물들을 적절히 제거·차단시킬 수 있도록 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자를 제조하는 반도체 제조 공정중에는 여러 종류의 공정가스를 이용하는 공정이 포함된다.
그런데, 이러한 공정가스 중 미처리된 잉여분은 소정의 폐가스로 잔류되는바, 만약, 이러한 폐가스를 설비 외부로 직접 배기하면 불측의 환경오염이 발생되는 문제점이 야기된다. 따라서, 이러한 폐가스의 배기단에는 소정의 퍼지(Purge)기능을 갖는 스크러버(Scrubber)가 배치되어, 배기되는 폐가스를 적절히 중화시키고 있다.
도 1에는 이러한 기능을 수행하는 종래의 가스 배기 시스템의 배치형상이 개략적으로 도시되어 있다.
도시된 바와 같이, 종래의 가스 배기 시스템은 소정의 공정가스, 예컨대, NF3, 아르곤 등을 공정챔버(20)로 공급하는 가스 캐비넷(10)과, 공정챔버(20)에 잔류하는 폐가스를 펌핑하여 배출시키는 진공펌프(30)와, 펌핑된 폐가스를 퍼지시키는 스크러버(40)를 포함한다.
여기서, 미설명 부호 1과 2는 각각 스크러버(40)의 흡기관 및 배기관을 나타낸다.
이와 같이 구성된 종래의 가스 배기 시스템의 동작을 설명한다.
먼저, 가스 캐비넷(10) 내부에 수용되어 있던 공정가스가 공정챔버(20) 내부로 유입되면, 공정챔버(20)는 이러한 공정가스를 이용하여 소정의 반도체 제조공정을 진행한다. 이 후, 진공펌프(30)는 공정챔버(20) 내부에 잔류하는 공정가스를 펌핑한다. 이와 같이 펌핑된 공정가스는 스크러버(40)에서 공급되는 소정의 시수에 의해 클리닝된 후 중화되어 배기된다.
이에 따라, 공정가스에 의한 환경오염은 적절히 방지된다.
그런데, 상술한 스크러버(40)를 장시간 사용하는 경우, 시수가 공정가스와 함께 배기됨으로써, 다른 유틸리티의 다운을 일으키는 문제점이 발생된다.
따라서, 실공정에서 종래의 스크러버(40)를 사용할 경우, 이러한 문제점을 보완·해결하기 위하여 소정의 잔류물 제거 및 차단장치(50)를 스크러버(40)에 추가·배치하고 있다.
도 2에는 이러한 기능을 수행하는 종래의 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치의 형상이 개략적으로 도시되어 있다.
도시된 바와 같이, 종래의 잔류물 제거 및 차단장치(50)는 투명 PVC로 형성된 몸체(50a)와, 몸체(50a) 내부에 충진되어 몸체(50a)와 동일한 PVC 재질로 이루어진 다수개의 필터링 압소버(50b)를 포함한다.
이때, 몸체(50a)는 소정의 흡입기능을 갖는 흡입펌프(60)와 연결된다.
이러한 종래의 잔류물 제거 및 차단장치(50)를 통해 상술한 시수를 제거하려면, 먼저, 흡입펌프(60)를 통해 스크러버(40)에 소정 크기, 예컨대, 25mmHg 정도의 흡입력을 가한다. 이에 따라, 공정가스에 딸려 배출되던 시수는 배기관(2)을 통해 잔류물 제거 및 차단장치(50)의 몸체(50a)로 빨려 들어온다.
일반적으로, PVC는 제습 효과가 양호한 재료로 알려진 바, 플로우되던 시수는 필터링 압소버(50b)에 어느정도 흡수된다.
이에 따라, 공정가스에 포함되어 있던 시수는 제거되고, 퍼지된 공정가스만외부로 배출된다.
한편, 통상의 생산라인에서는 이러한 잔류물 제거 및 차단장치(50)를 통상 4일에 한 번 정도 분해하여 클리닝시켜 주는데, 이는 잔류물 제거 및 차단장치(50)의 이상으로 인한 유틸리티의 다운을 미연에 방지하기 위함이다.
이와 같이, 종래의 가스 배기 시스템에서는 반도체 제조공정 후, 배기되는 공정가스를 스크러버(40)를 통해 중화하고, 이러한 중화과정에서 배출되는 시수를 잔류물 제거 및 차단장치(50)를 통해 제습함으로써, 폐가스 및 시수의 배출로 인한 소정의 환경오염을 적절히 방지하고 있다.
그러나, 이러한 기능을 수행하는 종래의 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치에는 몇가지 중대한 문제점이 있다.
첫째, 상술한 바와 같이, 잔류물 제거 및 차단장치는 흡입펌프를 통해 잔류 시수를 흡입하여 제거하는 바, 이때, 흡입되던 시수 중 일부가 필터링 압소버에 전량 흡수되지 않고 몸체를 통과하여 다른 유틸리티로 배출됨으로써, 예측하지 못한 유틸리티 다운을 발생시키는 문제점이 있다.
둘째, 시수와 함께 흡입되던 공정 잔류물 중 일부가 필터링 압소버에 달라붙어 소정의 파우더를 형성하고, 이러한 파우더는 배기관의 시수 인입단을 차단하여, 스크러버로 전달되는 흡입펌프의 원할한 흡입력을 방해함으로써, 흡입되는 잔류 시수량을 현격히 저하시키는 문제점이 있다.
셋째, 상술한 파우더에 의한 배기관 차단결과 스크러버에 전달되던 흡입력이 저감되고, 그 결과 공정 잔류물이 흡기관에 머물다 외부로 누출됨으로써, 소정의 환경오염이 발생되는 심각한 문제점이 있다.
넷째, 상술한 바와 같이, 주기적으로 잔류물 제거 및 차단장치를 클리닝하여야 함으로써, 전체적인 작업 효율이 급속히 저감되는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 소정의 가스막 형성기능을 갖는 차단장치를 구비하고 이를 통해 시수의 외부 배출을 차단함으로써, 예측하지 못한 다른 유틸리티의 다운을 방지할 수 있도록 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치를 제공함에 있다.
본 발명의 다른 목적은 소정의 시수 분사기능을 갖는 제거장치를 구비하고, 이를 통해 흡입펌프의 동작을 방해하던 파우더를 제거함으로써, 적절한 흡입 시수량을 유지할 수 있도록 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치를 제공함에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 상술한 제거장치를 통해 배기관의 시수 인입단을 차단하던 파우더를 제거시켜, 흡입펌프의 흡입력이 스크러버에 원할히 전달될 수 있도록 함으로써, 흡기관를 통한 공정 잔류물의 누출을 방지할 수 있도록 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치를 제공함에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 상술한 제거장치 및 차단장치를 통해 파우더 및 시수를 적절히 제거시킴으로써, 잦은 클리닝 작업을 줄일수 있도록 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치를 제공함에 있다.
도 1은 종래의 가스 배기 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 블록도.
도 2는 종래의 잔류물 제거 및 차단장치의 형상을 개략적으로 도시한 사시도.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예를 개략적으로 도시한 사시도.
도 4는 흡입펌프의 흡입력 측정 결과를 개략적으로 도시한 그래프도.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예를 개략적으로 도시한 블록도.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예를 개략적으로 도시한 사시도.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 공정가스 공급부를 통해 소정의 공정가스를 공급받는 공정챔버와, 상기 공정챔버에서 유출되는 가스를 중화하여 소정의 배기관을 통해 배출하는 스크러버와, 상기 스크러버에서 유출되는 잔류물을 제거하는 잔류물 제거 및 차단장치를 포함하는 가스 배기 시스템에 있어서, 상기 배기관에 연결된 몸통과; 상기 몸통 내부에 다수개 충진되어 상기 배기관으로부터 유입되는 가스 및 시수를 필터링하는 필터부와; 상기 몸통 내부의 상기 배기관쪽에 설치되어 상기 필터부에 형성된 잔류물을 제거하는 잔류물 제거부와; 상기 몸통 내부의 상기 잔류물 제거부 상단에 설치되어 상기 필터부로부터 누출되는 시수를 차단하는 시수 차단부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 공정가스 공급부를 통해 소정의 공정가스를 공급받는 공정챔버와, 상기 공정챔버에서 유출되는 가스를 중화하여 소정의 배기관을 통해 배출하는 스크러버와, 상기 스크러버에서 유출되는 잔류물을 제거하는 잔류물 제거 및 차단장치를 포함하는 가스 배기 시스템에 있어서, 상기 배기관에 연결된 몸통과; 상기 몸통의 저부로부터 소정간격 이격된 제 1 격판과; 상기 제 1 격판으로부터 소정간격 이격된 제 2 격판과; 상기 제 1 격판 하단에 다수개 충진되어 상기 배기관으로부터 유입되는 가스 및 시수를 필터링하는 제 1 필터부와; 상기 제 1 격판 및 상기 제 2 격판 사이에 설치되어 상기 제 1 필터부에 형성된 잔류물을 제거하는 잔류물 제거부와; 상기 제 2 격판 상단에 다수개 충진되어 상기 배기관으로부터 유입되는 가스 및 시수를 필터링하는 제 2 필터부와; 상기 제 2 필터부의 상단에 설치되어 상기 제 2 필터부로부터 누출되는 시수를 차단하는 시수 차단부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 본 발명에서는 배기관에 형성되는 파우더를 전량 제거시킬 수 있고 또한 타 유틸리티로 전달되는 시수를 적절히 차단시킬 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치를 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 3을 참조하여 본 발명의 동작에 선행되는 스크러버의 동작을 설명한다.
먼저, 소정의 공정진행이 완료되면, 공정챔버(20)내에 잔류하던 공정가스, 예컨대, NF3는 진공펌프(30)의 펌핑작용에 의해 흡기관(1)을 거쳐 스크러버(40) 내부로 인입된다.
이때, 인입되는 공정가스에는 여러 가지 공정 잔류물이 혼합되어 있다.
한편, 스크러버(40)는 소정의 분할판(44)에 의해 2개의 영역으로 분할되는 바, 이때 제 1 영역(45)에는 흡수기능을 갖는 압소버(41)가 다수개 충진되며, 제 2 영역(46)에는 시수(47)가 저장된다. 이때, 시수(47)는 소정의 레벨센서(미도시)에 의해 그 수위가 항상 일정한 값으로 유지·조절된다.
이어서, 공정가스에 포함되어 있던 공정 잔류물은 충진된 압소버(41)의 각 틈새로 스며들어 압소버(41)에 흡착된다. 이때, 스크러버(40)의 제 1 영역(45) 및 제 2 영역(46)에는 시수 흡입관(43)이 관통·형성되는데, 이러한 시수 흡입관(43)은 시수펌프(미도시)를 통해 제 2 영역(46)에 저장된 시수(47)를 빨라올린 후, 제 1 영역(45)에 형성된 시수공급장치(42)를 통해 시수(47)를 압소버(41)로 분사한다. 이에 따라, 압소버(41)에 흡착되어 있던 공정 잔류물은 시수(47)가 저장된 제 2 영역(46)으로 씻겨 나간다.
이 후, 스크러버(40)에서 걸러지지 않은 잔여분의 공정 잔류물 및 제 2 영역(46)으로 씻겨 나가던 시수(47) 중 일부는 배기관(2)을 통해 배출된다. 이때, 흡입펌프(60)는 배기관(2)을 통해 스크러버(40)에 일정한 흡입력을 가하여 공정가스가 지속적인 유입상태를 유지할 수 있도록 조절한다.
한편, 흡기관(1)에는 압력표시용 게이지(5)가 구비되는 바, 작업자는 이 게이지(5)를 통해 흡입펌프(60)가 스크러버(40)에 미치는 흡입정도를 파악한다.
통상, 정상적인 상태에서, 이 게이지 값은 1mmHg - 2.5mmHg를 유지한다.
한편, 상술한 배기관(2)은 본 발명의 잔류물 제거 및 차단장치(100)와 연결된다.
이때, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 잔류물 제거 및 차단장치(100)는 도 3에 도시된 바와 같이, 배기관(2)에 연결된 몸통(140)과, 몸통(140) 내부에 다수개 충진되어 배기관(2)으로부터 유입되는 가스 및 시수를 필터링하는 필터부(130)와, 몸통(140) 내부의 배기관(2)쪽에 설치되어 액체 분사를 통해 필터부(130)에 형성된 잔류물을 제거하는 잔류물 제거부(110)와, 몸통(140) 내부의 잔류물 제거부(110) 상단에 설치되어 가스 분사를 통해 필터부(130)로부터 누출되는 시수를 차단하는 시수 차단부(120)를 포함한다.
이러한 본 발명의 제 1 실시예의 동작을 상세히 설명한다.
먼저, 상술한 배기관(2)을 통해 유출된 공정 잔류물은 몸통(140) 내부에 충진된 필터부(130)에 걸려 흡착된다.
이러한, 필터부는 소정의 흡수재, 예컨대, PVC 압소버(130a)로 구성된다.
이때, 필터부(130)가 충진되어 있는 몸통(140)은 PVC 재질로 이루어진다.
통상, 반도체 공정 후에 배출되는 공정 잔류물은 부식성이 높은 물질로 알려진 바, 본 발명의 몸통(140)은 이러한 부식성에 강한 내성을 지닌 PVC 재질로 이루어짐으로써, 장시간 공정 잔류물에 노출되더라도 예측하지 못한 손상을 입지 않는다.
이 후, 소정의 시간이 경과하면, 이러한 공정 잔류물은 소정의 파우더로 잔류하여 배기관(2)의 인입단을 차단한다.
이때, 몸통(140)의 배기관(2) 인접부에는 본 발명의 잔류물 제거부(110)가 배치된다.
여기서, 본 발명의 특징에 따르면, 잔류물 제거부(110)는 액체 분사를 위한 사각통체 형상의 주분사부(110a)와, 주분사부(110a)의 장측면 일단에 연장 형성된 다수개의 보조분사부(110b)를 포함한다.
또한, 본 발명의 특징에 따르면 잔류물 제거부(110)는 상술한 스크러버(40)의 시수 공급장치(42)와 제 1 공급관(4)을 통해 연결되어 소정의 시수, 즉 H2O를 공급받는다.
이러한 잔류물 제거부(110)의 동작을 설명한다.
먼저, 상술한 바와 같이, 배기관(2)에 인접한 필터부(130)의 압소버(130a)에 파우더가 생성되어 배기관(2)을 차단하면, 주 분사부(110a)는 스크러버(40)의 시수 공급장치(42)로부터 H2O를 공급받아 이를 각 보조 분사부(110b)로 분배한다.
이어서, 주 분사부(110a) 및 보조 분사부(110b)는 구비된 노즐(미도시)을 통해 H2O를 각 압소버(130a)에 균일한 양으로 분사한다. 이에 따라, 배기관(2)을 차단하고 있던 파우더는 배기관(2)을 통해 스크러버(40)의 제 2 영역(46)으로 씻겨나간다. 그 결과, 배기관(2)을 차단하고 있던 파우더는 적절히 제거된다.
이와 같이, 본 발명의 경우에는 상술한 잔류물 제거부(110)를 통해 파우더를 적절히 제거시켜, 배기관이 차단되는 것을 미연에 방지함으로써, 흡입펌프(60)의 흡입효과를 적절히 유지시킬 수 있다.
이때, 본 발명의 특징에 따르면, H2O의 공급압력은 0.5Kg/cm2- 1.5Kg/cm2, 좀더 바람직하게는 1Kg/cm2이다. 이에 따라, 분사되는 H2O는 공정가스의 흐름을 방해하지 않으면서도, 생성된 파우더를 적절히 제거시킬 수 있다.
이러한 잔류물 제거부(110)의 설치에 따른 흡입펌프(60)의 흡입력 관측결과를 도 4를 참조하여 설명한다.
여기서, 종축은 흡입펌프의 흡입력(mmHg)을 나타내며, 횡축은 기간(일)을 나타낸다.
도시된 바와 같이, 종래의 장치를 사용하던 9월 2일부터 11월 21일까지는 장치를 클리닝한 후의 흡입력(P1)과 장치를 클리닝하기 전의 흡입력(P2)이 많은 격차를 보인다. 즉, 잦은 클리닝 작업이 필요하다.
그러나, 본 발명의 잔류물 제거부(110)를 설치한 1월 25일 이후에는 장치를 클리닝한 후의 흡입력(P3)이나 장치를 클리낭하기 전의 흡입력(P4)이 큰 차이를 나타내지 않는다. 즉, 잦은 클리닝 작업이 필요없다.
이와 같이, 본 발명의 잔류물 제거부(110)는 흡입펌프(60)의 흡입력 효과를 방해하던 파우더를 적절히 제거시킴으로써, 잦은 클리닝 과정 없이도, 적절한 시수 흡입 효과를 유지시킬 수 있다.
더욱이, 흡입펌프(60)의 흡입력이 스크러버(40)에 적절히 전달됨으로써, 공정 잔류물이 흡기관(1)에 머물지 않고 지속적으로 스크러버(40)를 통해 배출될 수 있고, 그 결과 공정 잔류물의 누설로 인한 예측하지 못한 공정사고를 미연에 방지할 수 있다.
이때, 본 발명의 특징에 따르면, 잔류물 제거부(110)는 부식성 물질에 내성이 강한 PVC 재질 또는 스테인레스 재질로 이루어진다.
상술한 바와 같이, 공정 잔류물은 부식성이 높은 물질로 알려진 바, 본 발명의 잔류물 제거부(110)는 부식성에 강한 내성을 지님으로써, 장시간 공정 잔류물에 노출되더라도 불측의 손상을 입지 않는다.
또한, 본 발명의 특징에 따르면, 잔류물 제거부(110)는 몸통(140)의 저부로부터-위치, 좀더 바람직하게는 몸통(140)의위치에 설치된다.
만약, 잔류물 제거부(110)가 몸통(140)의 상단부에 과도하게 치우치면, 분사되는 H2O가 외부로 누출되어 다른 유틸리티를 다운시키는 불측의 사고를 유발시킬 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 잔류물 제거부(110)는 전체 몸통(140)에서 적절한 위치, 즉 상술한위치에 배치됨으로써, 예측하지 못한 다른 유틸리티의 다운을 미연에 방지한다.
한편, 본 발명의 잔류물 제거부(110)는 도 5에 도시된 바와 같이, H2O를 스크러버(40)의 시수 공급장치(42)를 통해 공급받지 않고, 별도의 액체 공급부(300)를 통해 공급받을 수도 있다.
이러한 경우, 별도의 장치를 구비하여야 하는 불편함은 있지만 액체 공급압력을 용이하게 조절할 수 있음으로써, 향상된 파우더 제거효과를 얻을 수 있다.
한편, 상술한 잔류물 제거부(110)를 통과한 공정가스는 필터부(130)를 경유하여 몸통(140)의 상단부로 플로우된다. 이러한, 공정가스에는 스크러버(40)에서 사용되던 시수가 포함되어 있다.
이때, 몸통(140)의 상단부에는 시수를 차단하는 본 발명의 시수 차단부(120)가 배치된다.
여기서, 본 발명의 특징에 따르면, 시수 차단부(120)는 가스 분사를 위한 노즐(120a)과, 노즐(120a)을 지지하기 위해 몸통(140)에 고정되는 노즐 지지판(120b)으로 구성된다.
이때, 노즐(120a)은 도 5에 도시된 가스 공급부(400)와 제 2 공급관(3)을 통해 연결되어 시수를 차단하기 위한 소정의 가스를 공급받는다.
이러한 시수 차단부(120)의 동작을 설명한다.
먼저, 상술한 제 2 공급관(3)을 통해 소정의 가스가 공급되면, 노즐 지지대(120b)에 지지된 노즐(120a)은 공급된 가스를 몸통(140) 내부로 소정 양만큼 분사한다. 이에 따라, 몸통(140) 내부에는 가스가 누적되어 소정의 가스커튼(미도시)이 생성된다.
이때, 가스커튼은 습기를 차단하는 기능을 갖음으로써, 상술한 시수의 외부 누출을 차단한다.
이와 같이, 본 발명에서는 몸통(140) 내부에 시수 차단기능을 갖는 가스커튼이 형성되고, 이를 통해 시수의 외부 누출이 적절히 차단됨으로써, 시수의 외부 누출에 따른 예측하지 못한 유틸리티의 다운을 미연에 방지할 수 있다.
이때, 본 발명의 특징에 따르면, 시수 차단부(120)의 가스 분사량은 분당 20CC - 40CC, 좀더 바람직하게는 분당 30CC이다. 이에 따라, 가스커튼 형성에 기여하지 않는 과잉가스의 공급은 적절히 제어된다.
또한, 본 발명의 특징에 따르면, 상술한 가스는 화학적 친화성이 극미한 불활성 가스, 예컨대, 질소, 아르곤 가스이다. 이에 따라, 가스커튼은 공정가스와 예측하지 못한 화학반응 사고를 일으키지 않는다.
한편, 도 6에는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치가 도시되어 있다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치(200)는 배기관(2)에 연결된 몸통(280)과, 몸통(280)의 저부로부터 일정거리 이격된 제 1 격판(210)과, 제 1 격판(210)으로부터 일정거리 이격된 제 2 격판(220)과, 제 1 격판(210) 하단에 다수개 충진되어 배기관(2)으로부터 유입되는 가스 및 시수를 필터링하는 제 1 필터부(260)와, 제 1 격판(210) 및 제 2 격판(220) 사이에 설치되어 액체 분사를 통해 제 1 필터부(260)에 형성된 잔류물을 제거하는 잔류물 제거부(250)와, 제 2 격판(220) 상단에 다수개 충진되어 배기관(2)으로부터 유입되는 가스 및 시수를 필터링하는 제 2 필터부(270)와, 제 2 필터부(270)의 상단에 설치되어 가스 분사를 통해 누출되는 시수를 차단하는 시수 차단부(240)를 포함한다.
이때, 제 2 필터부(270) 및 시수 차단부(240) 사이에는 제 3 격판(230)이 설치된다.
이러한 본 발명의 제 2 실시예에서는 상술한 본 발명의 제 1 실시예와 달리, 다수개의 격판(210,220,230)에 의해 제 1·제 2 필터부(260,270), 잔류물 제거부(250), 시수 차단부(240)가 각각 분리되어 있다.
이러한 본 발명의 제 2 실시예의 경우, 상술한 격판(210,220,230)에 의해 전체 모듈(module)의 구조적인 안정화가 확보된다. 더욱이, 각 격판(210,220,230)에는 다수개, 예컨대, 약 50여개의 관통공(230a)이 형성됨으로써, 플로우되는 잔류물 양을 적절한 값으로 한정할 수 있고, 이에 따라, 잔류물의 갑작스런 흐름에 따른 소정의 공정사고를 미연에 방지할 수 있다.
이때, 본 발명의 특징에 따르면, 상술한 제 1·제 2·제 3 격판(210,220, 230)은 부식성 물질에 내성이 강한 PVC 재질 또는 스테인레스 재질로 이루어진다.
상술한 바와 같이, 공정 잔류물은 부식성이 높은 물질로 알려진 바, 본 발명의 각 격판(210,220,230)은 이러한 부식성에 강한 내성을 지님으로써, 장시간 공정 잔류물에 노출되더라도 예측하지 못한 손상을 입지 않는다.
또한 본 발명의 특징에 따르면, 각 격판(210,220,230)에 형성된 관통공(230a)의 지름은 2,5 - 3.5π, 좀더 바람직하게는 3π를 유지한다.
이에 따라, 상술한 잔류물량은 적절한 값으로 조절된다.
이와 같은, 본 발명의 제 2 실시예의 경우에도, 상술한 본 발명의 제 1 실시예와 마찬가지로 잔류물 제거부(250) 및 시수 차단부(240)가 형성되어 있음으로써, 배기관(2)에 형성되는 파우더를 적절히 제거시킬 수 있고, 또한 외부로 누출되는 시수를 적절히 차단시킬 수 있다.
이러한 본 발명은 공정가스를 이용하는 전 반도체 공정에서 두루 유용하다.
특히, 수용성 가스를 이용하는 반도체 공정의 경우, 시수의 사용이 빈번함으로, 본 발명의 효과가 더욱 증대된다.
그리고, 본 발명의 특정한 실시예가 설명 및 도시되었지만 본 발명이 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다.
이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 기술적사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 첨부된 특허청구의 범위안에 속한다 해야 할 것이다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치에서는 가스커튼 형성기능을 갖는 시수 차단장치 및 액체 분사기능을 갖는 잔류물 제거장치를 통해 첫째, 시수의 외부 배출을 차단시킬 수 있고, 둘째, 적절한 흡입 시수량을 유지할 수 있으며, 셋째, 흡기관를 통한 공정 잔류물의 누출을 방지할 수 있고, 넷째, 잦은 클리닝 작업을 줄일 수 있다.

Claims (26)

  1. 공정가스 공급부를 통해 소정의 공정가스를 공급받는 공정챔버와, 상기 공정챔버에서 유출되는 가스를 중화하여 소정의 배기관을 통해 배출하는 스크러버와, 상기 스크러버에서 유출되는 잔류물을 제거하는 잔류물 제거 및 차단장치를 포함하는 가스 배기 시스템에 있어서,
    상기 배기관에 연결된 몸통과;
    상기 몸통 내부에 다수개 충진되어 상기 배기관으로부터 유입되는 가스 및 시수를 필터링하는 필터부와;
    상기 몸통 내부의 상기 배기관쪽에 설치되어 상기 필터부에 형성된 잔류물을 제거하는 잔류물 제거부와;
    상기 몸통 내부의 상기 잔류물 제거부 상단에 설치되어 상기 필터부로부터 누출되는 시수를 차단하는 시수 차단부를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 잔류물 제거부는 액체 분사를 위한 사각통체 형상의 주분사부와; 상기 주분사부의 장측면 일단에 연장 형성된 다수개의 보조분사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 잔류물 제거부는 PVC 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 잔류물 제거부는 스테인레스 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 잔류물 제거부는 상기 몸통의 저부로부터-위치에 설치됨을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 잔류물 제거부는 상기 몸통의 저부로부터위치에 설치됨을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 잔류물 제거부는 상기 스크러버를 통해 상기 액체를 공급받는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 잔류물 제거부는 별도의 액체 공급부를 통해 상기 액체를 공급받는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 상기 잔류물 제거부에 공급되는 상기 액체의 공급압력은 0.5Kg/cm2- 1.5Kg/cm2인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 잔류물 제거부에 공급되는 상기 액체의 공급압력은 1Kg/cm2인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 액체는 H2O인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  12. 제 1 항에 있어서, 상기 시수 차단부는 가스 분사를 위한 노즐과; 상기 노즐을 지지하기 위해 상기 몸통에 고정되는 노즐 지지판을 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  13. 제 1 항에 있어서, 상기 시수 차단부는 PVC 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  14. 제 1 항에 있어서, 상기 시수 차단부는 스테인레스 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  15. 제 1 항에 있어서, 상기 시수 차단부의 상기 가스 분사량은 분당 20CC - 40CC인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 시수 차단부의 상기 가스 분사량은 분당 30CC인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  17. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서, 상기 시수 차단부에서 분사되는 상기 가스는 불활성 가스인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 불활성 가스는 질소인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  19. 제 17 항에 있어서, 상기 불활성 가스는 아르곤인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  20. 공정가스 공급부를 통해 소정의 공정가스를 공급받는 공정챔버와, 상기 공정챔버에서 유출되는 가스를 중화하여 소정의 배기관을 통해 배출하는 스크러버와, 상기 스크러버에서 유출되는 잔류물을 제거하는 잔류물 제거 및 차단장치를 포함하는 가스 배기 시스템에 있어서,
    상기 배기관에 연결된 몸통과;
    상기 몸통의 저부로부터 소정간격 이격된 제 1 격판과;
    상기 제 1 격판으로부터 소정간격 이격된 제 2 격판과;
    상기 제 1 격판 하단에 다수개 충진되어 상기 배기관으로부터 유입되는 가스 및 시수를 필터링하는 제 1 필터부와;
    상기 제 1 격판 및 상기 제 2 격판 사이에 설치되어 상기 제 1 필터부에 형성된 잔류물을 제거하는 잔류물 제거부와;
    상기 제 2 격판 상단에 다수개 충진되어 상기 배기관으로부터 유입되는 가스 및 시수를 필터링하는 제 2 필터부와;
    상기 제 2 필터부의 상단에 설치되어 상기 제 2 필터부로부터 누출되는 시수를 차단하는 시수 차단부를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  21. 제 20 항에 있어서, 상기 제 2 필터부 및 상기 가스 분사부 사이에는 소정의 제 3 격판이 더 설치되는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  22. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서, 상기 제 1 격판, 상기 제 2 격판 및 상기 제 3 격판에는 다수개의 관통공이 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  23. 제 22 항에 있어서, 상기 관통공의 지름은 2,5 - 3.5π인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  24. 제 23 항에 있어서, 상기 관통공의 지름은 3π인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  25. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서, 상기 제 1 격판, 상기 제 2 격판 및 상기 제 3 격판의 재질은 PVC인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
  26. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서, 상기 제 1 격판, 상기 제 2 격판 및 상기 제 3 격판의 재질은 스테인레스인 것을 특징으로 하는 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치.
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