KR19980702614A - 가변 높이 구조면을 갖는 광지향막과 이러한 막으로 구성된물품 - Google Patents

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Abstract

광지향막(50)은 제1 표면과 제2 구조면(52)을 포함한다. 이 구조면(52)은 기준면으로부터 제1 거리에 배열된 피크를 가지는 복수의 프리즘부(56)를 가지는 제1 대역과 기준면으로부터 제1 거리 이하에 배열된 피크를 가지는 복수의 프리즘부(54)를 가지는 제2 대역을 적어도 포함하는 프리즘 대역의 반복되는 패턴을 포함한다. 이 제1 대역의 폭은 약 300 미크론 이하인 것이 바람직하다.

Description

가변 높이 구조면을 갖는 광지향막과 이러한 막으로 구성된 물품
몇몇 광학 디스플레이 디자이너는 디스플레이 표면에 거의 수직방향으로 즉 '축상'으로 광학 디스플레이를 방사하는 광량을 증가시키기위해 광지향막을 사용해왔다. 통상 광지향막이 사용된 것은 평면과 대향 구조면을 가지며, 이 대향구조면은 선형 프리즘 어레이를 포함한다. 축광량을 증가시키면 소정의 축광휘도를 발생시키기 위해 요구되는 에너지량을 줄이게 된다. 이러한 특징은 만약 광학 디스플레이가, 예를 들어, 랩탑 컴퓨터, 계산기, 디지탈 손목시계 혹은 셀 방식 전화와 같이 배터리로 작동되는 광원을 가진다면 이 광원이 통상 소비되는 전력의 중요한 부분이 되므로 특히 중요하다.
또한 알려진 바와같이, 서로 인접한 2개의 광지향막 시트를 대략 서로 직각이 되도록한 프리즘에 배열하여 추가로 디스플레이의 축에 수직으로 다량의 광을 증가시킨다. 이 구조가 효과적으로 디스플레이를 투과하는 다량의 축광을 증가시키는 반면에, 이 구조는 어떤 조건하에서 디스플레이의 표면을 가로질러 고르지 않은 광을 전송할 수 있다. 이러한 고르지 않은 광 전송은 가시적으로 명백히 빛나는 점, 광선(streaks), 혹은 디스플레이의 표면에 있는 선(접촉이나 매우 가까운 접촉, 광지향막의 인접한 시트 표면 사이에서 광학 결합의 원인이 되는 상태)에 의해 명백해진다. 디스플레이의 표면을 가로질러 전해지는 광 강도가 그렇게 뚜렷하고 명백한 변화를 나타내는 것은 바람직하지 않다.
이러한 강도의 변화는 특히 '미네소타 마이닝 매뉴팩쳐링 컴퍼니'사가 제조한 휘도 향상 필름(Brightness Enhancement Film)과 같은 윤곽이 뚜렷한 차단 영역을 가진 광지향막에서 특히 알수 있다. 이 필름은 필름 표면의 수직인 축으로부터 특정 편향각 범위 내에서 전송되는 광의 휘도가 비례적으로 감소되는 것을 나타낸다. 비례적으로 낮은 휘도 광의 각 범위는 차단 영역으로 간주될 수 있다. 디스플레이는 축에서 보여질 때, 광학 결합에 의해 전해진 다량의 광은 필름을 통과한 전체 광량에 비해 작다. 대조적으로, 디스플레이가 차단 영역 내에 있는 축을 따라 보여질 때, 광학 결합에 의해 전해진 다량의 광은 이 필름을 통과한 전체 광량에 비하여 비례적으로 더 커진다. 따라서, 균일하지 않은 광 전송은 대체로 이 필름의 차단 영역 내에 있는 각 범위에서 보여질 때 좀더 명백해진다.
이 필름의 표면을 가로지르는 광학 결합의 가시도를 줄이는 하나의 방법은 광을 흩뜨리는 확산기를 사용하는 것이다. 그러나, 이 방법은 디스플레이 표면에 수직으로 투광되는 광의 양을 줄이게된다. 이 방법은 대부분의 환경에서 바람직하지 않은 것으로 간주된다.
따라서, 장치의 광학 수행도를 줄이지 않고 인접한 광지향막 시트 사이에서 바람직하지 않은 광학 결합을 줄이는 광학 디스플레이 장치에 사용하는 광지향 물품에 대한 기술이 요구된다. 따라서, 필름의 구조면과 인접면 사이에서 발생되는 바람직하지 않은 광학 결합을 제어하는 광지향막 구조를 위한 기술이 필요하다.
본 발명은 광지향막에 관한 것으로서, 특히 가변 높이 구조면을 가진 광지향막과 이러한 막으로 구성되는 광지향 물품에 관한 것이다.
도 1은 종래 기술에 따른 광지향막의 대표적인 실시예에 대한 투시도.
도 2는 서로 인접하게 위치하고 약 90°로 교차된 프리즘부를 가진 도 1에 도시된 2개의 광지향막 시트로 구성된 광지향 장치의 원거리 투시도.
도 3은 다양한 높이의 프리즘부를 가진 본 발명에 따른 광지향막에 대한 한 실시예의 단면도.
도 4는 다양한 높이의 프리즘부를 가진 본 발명에 따른 광지향막에 대한 또다른 실시예의 단면도.
도 5는 본 발명에 따른 광지향막의 또다른 실시예에 대한 단면도.
도 6은 프리즘부가 상이한 높이와 상이한 깊이를 갖는 본 발명에 따른 실시예의 단면도.
도 7은 본 발명에 따른 광지향막을 포함하는 광학 디스플레이의 단면도.
도 8은 본 발명에 따른 제2 응용 필름을 나타내는 광 유도장치 어셈블리에 대한 단면도.
본 발명은 광지향막의 새로운 구조를 제공하는데, 광지향막은 제1 면과 프리즘 요소의 어레이를 포함하는 대향하는 구조면을 가진다. 소정의 실시예에서, 어레이는 반복되는 프리즘 대역 패턴을 포함하는데, 프리즘 대역은 적어도 제1 대역과 제2 대역을 가지며, 여기서 제1 대역은 상기 면에서 제1 거리에 배치된 첨두를 가진 다수의 프리즘 요소를 가지며, 제2 대역은 상기 면에서 더 작은 거리에 배치된 첨두를 가진다. 각 대역에 있는 프리즘 요소의 높이는 소정의 실행 목적에 맞게 조절할 수 있다. 또한, 각각의 대역폭도 소정의 실행 목적에 맞게 조절할 수 있다. 그러나, 제1 대역 폭은 약 200 내지 300 미크론인 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 구조는 광지향막의 제2 시트가 2개의 시트 부근을 물리적으로 제어함으로써 필름의 구조면에 일접하여 위치할 때, 가시적 광학 결합의 발생을 막는다. 이러한 구조는 필름의 제1 대역에서 광학 결합을 집중시키고, 정상적인 가시조건하에서 인간의 눈으로 실제로 분해할 수 없게된다. 광학 결합은 필름 표면에 수직인 축방향으로 재투영되는 전체 광량을 줄이지 않고 막을 수 있다는 것은 선행기술에 대한 본 발명의 명백한 이점이다.
또한 본 발명은 본 발명에 따른 적어도 하나의 광지향막 시트를 포함하는 광지향 물품을 포함하는 것이다. 이 광지향 물품은 서로 소정의 비례적인 각도로 배열된 제1 및 제2 시트의 프림즘부에 본 발명에 따라 구성된 시트 구조면에 가까이 인접한 제2 광지향 시트를 위치시킴으로써 구성된다. 실질적으로 이러한 소정의 각도는 약 70° 내지 90°이며, 대략 90°가 알맞다. 이롭게는 본 발명에 따라 구성된 광지향 물품은 이 물품의 표면에 수직인 축방향으로 재투영되는 광량을 줄이지 않고 가시적으로 명백한 광학 결합을 막는다.
본 발명의 또다른 이점은 첨부된 도면을 참조로하여 기술될 것이다.
도 1은 종래 기술에 따른 광지향막의 대표적인 실시예이다. 이 필름(10)은 중합체, 아크릴, 폴리 탄산 에스테르, UV-식각 아크릴과 같은 물질로 제조될 수 있으며, 평면(14)과 이 평면에 대향하는 구조면(12)을 가진다. 구조면(12)은 나란이 배열된 선형 프리즘 요소(16)를 가지며, 필름의 길이 방향으로 뻗은 다수의 피이크(17:peak)와 그루브(18:groove)를 형성한다. 일반적으로, 상대적으로 높은 입사각에서 이 필름의 평면(14)에 투사된 광은 필름의 평면(14)과 구조면(12)에서 굴절되며 이 필름의 평면에 직각인 축방향으로 회절된다. 부가적으로 임계각보다 더 크게 구조면을 비추는 빛은 프리즘부(16)의 제2 구조면(20)이나 측면으로 부터 완전하게 내부로 반사되고, 디스플레이로 되돌아가며, 반사표면에 의해 재생될 수 있다. 굴절과 총 내부 반사를 조합함으로써, 상기 필름(10)은 축상의 빛을 증가시키고, 축을 벗어나는 빛의 양을 감소시킨다.
앞서 기술한 것처럼, 제1 시트에 가깝게 인접한 광지향막의 제2 시트를 대략 90°정도로 교차되게한 프리즘부에 두어 상기 필름의 평면에 대략 수직인 빛의 양을 추가로 증가시키는 것은 공지되있다. 도 2는 광지향막의 교차하는 시트의 방향을 도시한다. 일반적으로, 상부 시트(10')의 바닥 평면(14')은 하부 시트(10)의 구조면(12)과 접촉하거나 혹은 매우 근접하게 된다.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 원리에 입각한 광지향막의 새로운 구조로 된 대표적인 실시예를 도시한다. 이 도면들은 비례적인 것이 아니며, 특히 구조면의 크기는 목적한 것을 나타내기 위하여 매우 강조된 것임을 인지하여야 한다. 비록 각각의 실시예는 광지향막 자체로 사용될 수 있고, 특히 개시된 필름은 광지향막의 제2 시트와 교차되어 도 2에 도시된 부분들에 상당한 광지향 부를 형성할 때 유용하다.
도 3에 있어서, 본 발명에 따른 광지향막의 한 실시예의 대표적인 교차부를 도시한다. 상기 필름(30)은 제1 표면(32)과 대향하는 구조면(34)을 가지는데, 이 구조면은 선형으로 연장하는 복수의 프리즘부(36)를 포함한다. 각 프리즘부(36)는 제1 측면(38, 38')과 제2 측면(38)을 가지며, 이 면의 상부 에지는 교차하여 뾰족한 부분을 만들거나, 프리즘부(36)에 세모꼴의 정점(apex:42)을 만든다. 프리즘부(36)에 인접한 측표면(38, 38')의 바닥 에지는 교차하여 프리즘부 사이를 선으로 연장하는 그루브(groove:44)를 형성한다. 도 3에 도시된 실시예에 있어서, 프리즘 정점(42)으로부터 2면각은 대략 90° 정도이지만, 이 2면각의 각도는 소정의 광학 파라미터에 따라 변화될 수 있음을 알 수 있다. 2면각을 가진 프리즘부를 사용하는 기술에 있어서 이 2면각은 70° 내지 110°가 된다는 것은 공지되어있다.
필름(30)의 구조면(34)은 보통의 기준면으로 부터 상이하게 이격되는 뾰족한 끝을 가지는 복수의 교차되는 프리즘부를 가지는 것으로 묘사될 수 있다. 기준 면은 독립적으로 선택될 수 있다. 기준 면의 하나의 예로 제1 표면(32)을 가진 면을 들 수 있다. 다른 예로는 구조면의 그루부에서 가장 아래의 바닥부에 의해 나타내지며, 점선(39)으로 표시된다. 도 3에 도시된 실시예에 있어서, 좀더 짧은 프리즘부는 이 점선으로부터 측정했을 때, 대략 폭이 50 미크론이고 높이가 25 미크론이 되며, 좀더 기다란 프리즘부는 폭이 50 미크론이고, 높이가 26 미크론이 된다. 특히, 좀더 기다란 프리즘부를 가지는 대역의 폭은 약 1 미크론 내지 300 미크론이 된다. 대조적으로, 좀더 짧은 프리즘부를 가지는 대역의 폭은 중요하지 않으며, 개시된 실시예에 있어서, 200 미크론 내지 4000 미크론이 된다. 그러나 모든 주어진 실시예에서 좀더 짧은 프리즘부의 대역은 적어도 좀더 기다란 프리즘부의 대역만큼은 넓지 않은 것이 바람직하다. 도 3에 도시된 장치는 단지 예이고 본 발명의 범주를 제한하는 것은 아니다. 예를 들어, 이 프리즘부의 폭과 높이는 실행할 수 있는 한계값 내에서 변할 수 있으며, 대략 1 미크론 내지 175 미크론까지 연장된 범주에서 정밀한 프리즘을 만드는 것은 실행가능하다. 부가적으로, 2면의 각은 변화될 수 있으며, 이 프리즘 축은 비스듬히 기울여 소정의 광학 효과를 얻을 수 있다.
대체로, 광지향막의 제2 시트는 구조면(34)에 인접하여 위치할 때, 물리적으로 시트(30)의 근처는 더 기다란 프리즘부의 첨단부에 의해 제한된다. 기다란 프리즘부와 짧은 프리즘부 사이에 약 0.5 미크론과 같은 작은 변화를 주는 것은 짧은 프리즘부의 대역에 바람직하지 않은 광학 결합이 발생하지 않도록 한다. 따라서, 인접한 표면 근처를 물리적으로 제어하기 위하여 가변 높이 구조면(34)을 사용하는 것은 원하지 않는 광학 결합에 영향받기 쉬운 구조면(34)의 표면 영역을 줄인다. 대신에, 광학 결합은 기다란 프리즘부를 가지는 대역 내에서만 발생된다.
본 발명의 제2 관점은 제1 대역의 폭이 약 200 내지 300 미크론 이한인 것이 바람직하다는 것이다. 수직의 시각 조건하에서, 인간의 눈은 약 200 내지 300 미크론 이하의 폭 영역에서 발생되는 광의 명암도의 작은 변화를 분석하지 못한다. 따라서, 제1 대역의 폭은 약 200 내지 300 미크론 이하로 줄여질 때, 이 대역에서 발생되는 어떤 광학 결합은 수직의 시각 상태에서 인간의 눈에 검출되지 않는다.
비록 본 발명의 바람직한 실시예는 인접한 프리즘부의 높이를 변화시킴으로써 가변 높이 구조면을 실행하지만, 가변 높이 구조면은 프리즘의 선을 따라 하나 이상의 프리즘부의 높이를 변화시킴으로써 실행될 수 있으며, 이웃면 상의 높이를 변형시킬 때 개시되는 정점을 가지는 프리즘부의 부분을 가지는 교차하는 대역을 만들도록 연장될 수 있다. 또한, 이러한 2개의 특징은 조합되어 양 면을 따라 상대적으로 더 길고 또 짧은 피크의 교차대역을 가지는 구조면을 만들 수 있다.
도 4는 도 3과 유사한 본 발명의 제2 실시예를 나타내는데, 더 기다란 단일 프리즘부(56)를 가지는 대역에 의해 분리된 상대적으로 더 짧은 프리즘부(54)의 대역을 가지는 구조면(52)을 포함하는 필름(50)을 제외한다. 도 3에 도시된 실시예와 같이, 프리즘부를 더 길게하여 필름의 제2 시트를 물리적으로 구조면(52)에 근접하게하는 것을 제한하여, 가시적인 웨트-아웃(wet-out) 상태가 발생할 가능성을 줄인다. 인간의 눈은 광지향막의 면 높이에 민감하고, 더 긴 프리즘부의 비례적인 넓은 대역은 필름 면에 가시선처럼 나타날 것이다. 이 가시선은 물질적으로 필름의 광학 수행도에 영향을 미치지 않기 때문에 이 가시선은 어떤 환경에서는 바람직하지 않을 수 있다. 더 기다란 프리즘부의 대역의 폭을 줄여서 인간의 눈으로하여금 더 기다란 프리즘부에 의해 생성된 필름에 나타나는 이 가시선이 검출될 가능성을 줄인다.
도 5는 본 발명에 따른 광지향막의 대표적인 실시예로서 프리즘부는 거의 같은 크기이지만 반복되는 계단 단계(stair step)나 경사 패턴(slope pattern)으로 나열된다. 도 5에 도시된 필름(60)은 제1 표면(62)을 가지며, 대향하는 구조면(64)은 대체로 선형인 복수의 프리즘부(66)를 가진다. 각 프리즘부는 대향하는 측면(68,68')을 가지며, 상부 에지에서 교차하여 프리즘 피크(70)를 나타낸다. 대향하는 측면(68,68')에 의해 나타난 2면각은 대략 90°이다. 이 실시예에서 가장 높은 프리즘은 제1 대역으로 간주될 수 있고, 인접한 프리즘은 제2 대역으로 간주될 수 있다. 다시말해, 제1 대역은 약 200 내지 300 미크론 이하가 바람직하다. 앞에 개시된 실시예와 유사하게, 매우 인접한 구조면(64)에 위치한 제2 필름의 물리적인 근접은 프리즘부의 가장 높은 피크에의해 제한되며, 다음으로 이러한 표면들 사이의 바람직하지 않은 광학 결합의 발생 가능성을 줄인다.
도 6은 본 발명에 따른 광지향막의 또다른 실시예를 도시한다. 도 6에 개시된 필름(80)은 제1 표면(82)과 대향하는 구조면(84)을 가진다. 이 필름은 비례적으로 더 짧은 프리즘부를 가지는 제2 대역이 상이한 높이를 가진 프리즘부를 가지는 것으로 특성화될 수 있다. 앞에 개시된 실시예와 유사하게, 도 6에 도시된 필름은 제2 대역의 바람직하지 않은 결합을 매우 인접한 면을 물리적으로 근접을 제어함으로써 방지한다. 도 6에 도시된 구조면은 추가적으로 프리즘부의 높이의 변화로 발생되는 필름 표면의 선이 사람의 눈에 나타나는 것을 줄이는 장점을 제공한다.
교차 부분에서, 도 7은 본 발명의 원리에 따른 광지향막을 통합하는 디스플레이(100)의 대표적인 실시예를 도시한다. 디스플레이(100)는 케이스(112)와, 광원(116), 광지향막(118)의 제1 시트, 광지향막(118')의 제2 시트, 광 차단 장치(126) 및 투명한 커버 시트(128)를 가진다. 도 7에 도시된 실시예에서, 광원(116)은 전장발광 패널이지만, 예를 들어 랩탑 컴퓨터에 사용되는 형광 백라이팅이나 몇몇 계산기에 사용되는 무급전 반사 디스플레이와 같은 다른 광원도 본발명의 범주에 속한다. 부가적으로, 도 7에 도시된 광 차단 장치(126)는 액정 장치이지만, 다른 광 차단 장치는 본 발명의 범주에 속한다.
제1 광지향막(118)은 도 3에 도시된 실시예이다. 도 8은 비례하여 그려진 것이 아니며 특히 광지향막(118)의 구조면의 크기는 예를위해 매우 강조되었다. 도 7에 도시된 것처럼, 광지향막(118)의 구조면의 더 높은 피크는 광지향막(118')의 제2 시트를 제1 광지향막에 물리적으로 근접시켜 제어한다. 상술한 것처럼, 광학 결합은 비례적으로 더높은 피크를 가지는 대역에서 응집되며, 폭이 약 50 내지 300 미크론인 것이 바람직하다.
도 8은 본 발명에 따른 광지향막의 또다른 유용한 응용 시트를 도시한다. 도 8은 광학적 디스플레이에 흔히 사용되는 광 유도 장치(150)를 개략도로 도시한 것이다. 광 유도 장치는 광원(152)과, V-형태의 광 유도장치(154), 확산 반사기(156) 및 광지향막 시트(158)를 포함한다. 대체로, 광원(152)에서 나오는 광은 광 유도장치(154) 안으로 조명된다. 임계각도보다 더 큰 각도로 광 유도장치(154)의 표면을 투영하는 광선은 전부 내부에 반사되고, 광 유도장치(154)를 따라 퍼진다. 대조적으로, 임계각보다 작은 각일 때 광 유도장치의 표면을 투과하는 광선은 투과되고 굴절된다.
광 유도장치(154)의 바닥면을 투과하는 광선은 확산 반사기(156)에 의해 반사되고, 재생 사용된다. 광 유도장치(154)의 상부 표면을 투과하는 광선은 액정장치와 같은 광 차단 장치를 통해 투과되어 디스플레이 상에 이미지를 생성한다.
알려진 바와같이, 광지향막은 도 8에 도시된 광 유도장치(154)에 인접하여 위치한 구조면을 가지며, 광 유도장치 어셈블리(150)에 남는 축광량을 증가시킨다. 그러나 도 1에 도시된 것처럼 본래의 광지향막은 광학 결합을 인가하여 광지향막의 구조면과 광 유도장치(154)의 상부 표면 사이에 발생시킨다. 광지향막(158)은 광지향막(158)의 구조면을 광 유도장치(154)에 근접하도록 제어함으로써 가시적인 광학 결합의 발생을 막는다.
비록 필름에 사용되는 특정한 물질은 변경되지만, 이 물질은 근본적으로 투명하여 높은 광 투과성을 확실하게한다. 이러한 목적으로 사용되는 유용한 중합물질은 예를 들어, 각각 약 1.493과 1.586의 굴절력을 가진 아크릴과 폴리 탄산 에스테르와 같은 것을 통상적으로 이용한다. 다른 유용한 중합체는 폴리프로필렌, 폴리우레탄, 폴리스티렌 및 폴리비닐 염화물과 같은 것을 포함한다. 특정 물질은 중요하지 않지만, 높은 굴절력을 가진 물질이 일반적으로 바람직하다.
본 발명에 따른 필름은 다양한 방법으로 제조될 수 있다. 통상적인 방법은 다이아몬드 세공 도구와 같은 정밀한 도구를 이용하여, 기계적인 기판에 주형을 새기고 엠보싱이나 UV 큐어링 공정을 이용하여 주형을 부본 뜬다. 제조 공정에 따라, 이러한 필름은 두께가 4밀 내지 20밀로 측정된다.
다음은 본 발명의 실시예이다.
실시예 1
이 실시예는 주기적으로 상승되는 구조를 가진 구조면이 있는 광지향막의 광학 수행도가 대체로 같은 높이의 피크를 가진 구조면이 있는 광지향막의 광학 수행도와 유사한지의 여부를 결정하도록 수행된다. 이러한 결정하기 위하여 도 1에 도시된 것과 같은 표준 광지향막의 표준 시트의 광학 수행도는 상기 거론된 두 개의 구조면 형태의 광학 수행도와 비교한다. 결과는 표 1에 나타낸다.
패턴 이득 이득 이득 이득 이득 이득 이득 평균
B1 S1 B2 S2 B3 S3 B4 게인
평방 375.6 576.7 373 571.8 370.4 568.9 368.6 53.9%
체적 370.7 568.9 368.9 565.9 365.7 557.5 363.4 53.6%
표준 370.4 567.7 367.2 563.3 365.1 561.3 364 53.8%
평방 369.8 567.7 367.8 563.3 364.5 560.4 363.4 53.9%
체적 366 562.1 364.8 560.1 363.4 558.1 362.8 53.8%
표준 365.4 561.3 364.2 559.5 363.1 556.6 361.9 53.8%
표준 365.4 559.2 363.7 556.3 362.2 555.7 361.3 53.4%
체적 364 557.8 362.2 554.5 361.3 555.1 360.5 53.5%
평방 365.1 561.6 363.4 558.6 361.9 552.5 360.5 53.7%
평균
표준 53.6%
체적 53.6%
평방 53.7%
제1 실시예 형태는 6개의 기다란 프리즘부의 연속적인 대역을 가지며, 폭이 약 200 미크론이고, 도 3 포스트 패턴에 도시된 짧은 프리즘부의 61 열에 인접한다. 제2 실시예 구조면은 도 4에 도시된 프리즘과 유사한 램프 구조와 같다. 우선적으로, 휘도 미터는 노출된 백라이트 상에 4개의 상이한 위치에서 축상 휘도(평방 미터당 칸델라)를 측정하는데 사용된다. 결과는 B1, B2, B3 및 B4로 표시된 종행에 기록된다. 다음 광지향막의 시트는 백라이트 상에 위치하며, 휘도 미터는 같은 4개의 위치에서 축상 휘도를 측정하는데 사용된다. 이 결과는 S1, S2, S3 및 S4로 표시된 종행에 기록된다. 축상 휘도의 평균 증가율은 평균으로 표시된 종횡에 축상 휘도를 퍼센트로 표현된다. 이러한 절차는 각 필름에 대해 여러번 반복되며, 결과는 구조면 형태 사이에 광학 수행도의 중요한 변화가 없다는 것을 나타낸다.
실시예 2
이 실시예는 서로서로 가깝게 인접한 2개의 광지향막이 약 90°가 되도록 위치시켜 구성된 광지향막의 광학 수행도에 있도록한 주기적으로 연장된 프리즘부를 가진 극소구조면의 효과를 결정하도록 수행된다. 다시말해, 표준 광지향막은 상기 거론된 2개의 구조면 형태와 비교된다. 제1 실시 구조면은 연속하는 6개의 비례적으로 더 기다란 프리즘부의 대역을 가지며, 약 폭이 200 미크론이고, 짧은 프리즘부의 61 열에 인접한다. 제2 실시 구조면은 도 4에 개시된 것과 유사한 램프 구조와 같다. 우선적으로, 휘도 미터는 4개의 구석과 중앙의 광에 따라 노출된 백라이트상에 5군데의 상이한 위치에서 축상 휘도(평방 미터당 칸델라 값)를 측정하는데 사용된다. 다음으로, 2개의 교차된 표준 광지향막 시트는 백라이트 상에 위치되고, 앞서 같은 5군데의 위치에서 축상 휘도를 측정한다. 이 절차는 2개의 교차하는 실시 구조면의 시트에 대해 반복된다. 5개의 상이한 측정 위치에서의 휘도 값(평방 미터당 칸델라 값)은 다음과 같다.
필름을 사용하여 발생된 휘도의 증가는 노출된 백라이트에 대한 다중 휘도 측정값으로 표현될 수 있으며, 종종 고아 지향 필름을 사용하여 발생된 '게인'으로 거론될 수 있으며, 다음과 같다.
따라서, 2개의 교차하는 광지향막의 시트로 구성된 광지향막의 광학 수행도는 연장된 구조를 이 필름의 구조면에 통합함으로써 줄어들지 않는다.
또한, 이 실시예는 웨트-아웃(wet-out) 상에서 실시 구조면의 영향을 평가하도록 산정된다. 교차하는 필름은 복수의 유리판 사이에 놓여지고, 시트 표면에 비례적으로 압력을 적용한다. 그때 유리판은 라이트박스의 상부에 놓여지고, 필름은 웨트-아웃 패턴을 관찰하여 분석된다. 선행 실시로 일관되고 도 1에 따라 표준 광지향막의 웨트-아웃 패턴은 이 필름의 표면에 걸쳐 기례적으로 더높은 강도로 랜덤하게 나타난다.
그러나 이 실시 표면의 웨트-아웃 패턴은 비례적으로 더높은 프리즘의 대역과 동시발생하는 매우 얇은 라인처럼 나타난다. 이러한 대역의 폭을 줄임으로써, 웨트-아웃 패턴은 정상적인 시각 조건하에서 인간의 눈으로 분해할 수 없도록 될 것이다.

Claims (13)

  1. 제1 표면과;
    상기 제1 표면에 대향하며, 피크에 접하는 대향면을 각각 포함하고 반복되는 패턴을 갖는 복수의 프리즘 대역이 있는 프리즘부 어레이를 갖는 구조적 표면을 구비하는데;
    상기 반복되는 패턴을 갖는 복수의 프리즘 대역은, 기준면으로부터 제1 거리 만큼 이격되어 위치한 피크를 갖는 제1 프리즘부의 적어도 일부를 포함하는 제1 대역과, 상기 제1 대역에 인접하며 상기 기준면으로부터 상기 제1 대역보다 적은 제2 거리만큼 이격된 피크를 갖는 제1 프리즘부의 적어도 일부를 포함하는 제2 대역을 구비하는 것을 특징으로 하는 광지향막.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 거리는 1 미크론 내지 175 미크론인 것을 특징으로 하는 광지향막.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제2 거리는 1 미크론 내지 174.5 미크론인 것을 특징으로 하는 광지향막.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제2 거리는 적어도 상기 제1 거리 이하인 대략 0.5 미크론인 것을 특징으로 하는 광지향막.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제2 거리는 적어도 대략 1.0 광파장까지 상기 제1 거리 이하인 것을 특징으로 하는 광지향막.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제2 거리는 적어도 대략 2.0 광파장까지 상기 제1 거리 이하인 것을 특징으로 하는 광지향막.
  7. 제1항에 있어서, 상기 제2 거리는 상기 제1 거리의 대략 33 내지 95 퍼센트인 것을 특징으로 하는 광지향막.
  8. 제1항에 있어서, 상기 제1 대역은 폭이 대략 300 미크론 이하인 것을 특징으로 하는 광지향막.
  9. 제1항에 있어서, 상기 제2 대역은 폭이 200 내지 4000 미크론인 것을 특징으로 하는 광지향막.
  10. 제1항에 있어서, 광학 결합은 상기 제1 대역에서 주로 발생되는 것을 특징으로 하는 광지향막.
  11. 제1항에 있어서, 상기 제2 대역은 상기 기준면보다 위에 상이한 높이로 배열된 피크를 가지는 복수의 프리즘을 포함하는 것을 특징으로 하는 광지향막.
  12. 제1 표면과 상기 표면에 대향하는 구조면을 가지는 제1 광지향막 시트를 포함하는데, 상기 구조면은 제1 주축을 따라 향한 프리즘부의 선형 배열을 포함하고, 상기 어레이는 반복되는 패턴의 프리즘 대역을 포함하며, 기준면에서 제1 거리만큼 배열된 피크를 가진 제1 프리즘부의 적어도 일부분으로 구성된 제1 대역과 상기 제1 대역에 인접하고 상기 제1 거리 이하인 기준면으로부터 제2 거리만큼 배열된 피크를 가지는 제1 프리즘부의 적어도 일부분으로 구성된 제2 대역을 적어도 포함하고;
    상기 제1 광지향막 시트에 인접하여 배열된 제1 표면을 가지고, 제2 주축을 따라 향한 프리즘부의 선형 배열을 가지는 상기 제1 표면에 대향하는 구조면을 가지는며, 상기 제1 주축은 소정의 각도 범위 내에 상기 제2 주축을 교차하는 제2 광지향막 시트를 포함하는 것을 특징으로 하는 광지향 물품.
  13. 광원과;
    조망 스크린과;
    상기 광원으로부터 상기 조망 스크린에 광을 직접 투영하는 광 전달 장치를 포함하는데, 상기 광 전달 장치는 적어도 제1 광지향막 시트를 포함하며, 상기 필름은 제1 표면과 상기 제1 표면에 대향하는 구조면을 포함하고 피크에서 교차하는 대향하는 면을 각각 가지는 프리즘부의 배열을 가지며, 상기 배열은 프리즘 대역의 반복되는 패턴을 포함하는데: 기준면으로부터 제1 거리에 배열되는 피크를 가지는 제1 프리즘부의 적어도 일부분을 구성하는 제1 대역과; 상기 제1 대역에 인접하고 제1 거리 이하인 기준면으로부터 제2 거리에 배열된 피크를 가지는 제1 프리즘부의 적어도 일부분을 포함하는 제2 대역을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 디스플레이.
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