KR102666025B1 - 패키지 및 패키지 형성 방법 - Google Patents

패키지 및 패키지 형성 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102666025B1
KR102666025B1 KR1020230116744A KR20230116744A KR102666025B1 KR 102666025 B1 KR102666025 B1 KR 102666025B1 KR 1020230116744 A KR1020230116744 A KR 1020230116744A KR 20230116744 A KR20230116744 A KR 20230116744A KR 102666025 B1 KR102666025 B1 KR 102666025B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chip
coupler
layer
electrically connected
package
Prior art date
Application number
KR1020230116744A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20230131457A (ko
Inventor
리 웨이핑
Original Assignee
상하이 이부 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 상하이 이부 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 filed Critical 상하이 이부 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드
Publication of KR20230131457A publication Critical patent/KR20230131457A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102666025B1 publication Critical patent/KR102666025B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/50Multistep manufacturing processes of assemblies consisting of devices, each device being of a type provided for in group H01L27/00 or H01L29/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/561Batch processing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3114Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed the device being a chip scale package, e.g. CSP
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/481Internal lead connections, e.g. via connections, feedthrough structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5389Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates the chips being integrally enclosed by the interconnect and support structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L24/14Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0233Structure of the redistribution layers
    • H01L2224/02333Structure of the redistribution layers being a bump
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0237Disposition of the redistribution layers
    • H01L2224/02371Disposition of the redistribution layers connecting the bonding area on a surface of the semiconductor or solid-state body with another surface of the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • H01L2224/0237Disposition of the redistribution layers
    • H01L2224/02372Disposition of the redistribution layers connecting to a via connection in the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/07Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
    • H01L2224/08Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/081Disposition
    • H01L2224/0812Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding
    • H01L2224/08135Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/08145Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/14Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
    • H01L2224/141Disposition
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16135Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/16145Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Auxiliary Devices For And Details Of Packaging Control (AREA)

Abstract

본 발명은 패키지 및 패키지 형성 방법을 제공한다. 패키지 형성 방법은 캐리어의 상부에 정면이 아래를 향하는 복수의 제1 칩 및 상기 복수의 제1 칩 사이의 복수의 칩 커플러를 포함하는 제1 칩층을 배치하는 단계; 상기 제1 칩층에 정면이 아래를 향하는 복수의 제2 칩을 포함하는 제2 칩층을 배치하여 조립하는 단계; 상기 캐리어의 상부에서 모든 칩층에 대해 몰딩 처리를 수행하는 단계; 상기 캐리어를 제거하여 패키지 본체를 형성하고, 상기 패키지 본체의 하부에 재배선층과 범프를 추가하는 단계; 및 상기 패키지 본체를 분할하여 복수의 상기 패키지를 형성하는 단계를 포함한다.

Description

패키지 및 패키지 형성 방법{A package and a method of forming the package}
본 발명은 반도체 기술분야에 관한 것으로서, 특히 패키지 및 패키지 형성 방법에 관한 것이다.
현재, 반도체 집적회로에 필요한 기능이 갈수록 많아지고, 필요한 계산 속도가 빨라지고 있는 추세하에 업계에서는 칩 적층 기술에서 더욱 효과적인 해결방안을 모색하기 위해, 칩 적층 기술의 연구에 투자를 확대하기 시작하였다. 그러나 종래의 웨이퍼 레벨 패키징(WLP) 기술은 칩 적층을 구현할 수 없다. 종래의 칩 적층 기술에서 적층은 대부분 최종 조립 과정에서 완료되고, 또한 실리콘 관통 비아(TSV, Through Silicon Via), 유리 관통 비아(TGV,Through Glass Via), 몰드 관통 비아(TMV,Through Mold Via) 또는 와이어 본드(Wire-bond) 등 기술을 이용하여 적층된 칩의 수직 연결을 구현해야 한다. 종래의 적층 기술은 패키징 공정이 비교적 복잡하고 원가가 높다.
본 발명의 실시예는 패키지를 형성하는 방안을 제공하며, 상기 패키지는 적층되는 복수의 칩을 포함한다.
일 측면으로, 본 발명은 패키지 형성방법을 제공하며, 상기 방법은 캐리어의 상부에 정면이 아래를 향하는 복수의 제1 칩 및 상기 복수의 제1 칩 사이의 복수의 칩 커플러를 포함하는 제1 칩층을 배치하는 단계; 상기 제1 칩층에 정면이 아래를 향하는 복수의 제2 칩을 포함하는 제2 칩층을 배치하여 조립하는 단계; 상기 캐리어의 상부에서 상기 제1 칩층과 상기 제2 칩층에 대해 몰딩 처리를 수행하는 단계; 상기 캐리어를 제거하여 패키지 본체를 형성하고, 상기 패키지 본체의 하부에 재배선층과 범프를 추가하는 단계; 및 상기 패키지 본체를 분할하여 복수의 상기 패키지를 형성하는 단계;를 포함할 수 있다.
상기 패키지는 제1 칩, 제2 칩 및 분할된 칩 커플러를 포함할 수 있으며, 상기 제2 칩은 상기 제1 칩의 상부에 배치되어 상기 분할된 칩 커플러의 상부에 조립되고, 상기 제2 칩은 상기 분할된 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 패키지는 제1 칩, 제2 칩과 칩 커플러를 포함할 수 있으며, 상기 제2 칩은 상기 제1 칩의 상부에 배치되어 상기 칩 커플러의 상부에 조립되고, 상기 제2 칩은 상기 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다.
다른 측면으로, 본 발명은 패키지 형성 방법을 제공하며, 상기 방법은, 캐리어의 상부에 복수의 제1 칩 커플러와 정면이 아래를 향하는 복수의 제1 칩을 포함하는 제1 칩층을 배치하는 단계; 상기 제1 칩층의 상부에 각각 정면이 아래를 향하는 복수의 제2 칩 및 복수의 제2 칩 커플러를 포함하는 적어도 하나의 제2 칩층을 배치하여 조립하는 단계; 상기 적어도 하나의 제2 칩층에 정면이 아래를 향하는 복수의 제3 칩을 포함하는 제3 칩층을 배치하여 조립하는 단계; 상기 캐리어의 상부에서 상기 제1 칩층, 상기 적어도 하나의 제2 칩층과 상기 제3 칩층에 대해 몰딩 처리를 수행하는 단계; 상기 캐리어를 제거하여 패키지 본체를 형성하고, 상기 패키지 본체의 하부에 재배선층과 범프를 추가하는 단계; 및 상기 패키지 본체를 분할하여 복수의 상기 패키지를 형성하는 단계;를 포함할 수 있다.
상기 패키지는 제1칩, 적어도 하나의 제2 칩, 제3 칩, 분할된 제1 칩 커플러 및 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러를 포함할 수 있으며, 상기 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러는 상기 분할된 제1 칩 커플러의 상부에 조립되고, 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 제1 칩의 상부에 배치되고, 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩의 상부에 배치되며, 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 상기 분할된 제1 칩 커플러를 통해 상기 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 상기 분할된 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있으며, 또한 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 분할된 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 상기 분할된 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 패키지는 제1 칩, 적어도 하나의 제2 칩, 제3 칩, 제1 칩 커플러와 적어도 하나의 제2 칩 커플러를 포함할 수 있으며, 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러는 상기 제1 칩 커플러의 상부에 조립되고, 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 제1 칩의 상부에 배치되고, 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩의 상부에 배치되며, 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러, 상기 제1 칩 커플러를 통해 상기 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러, 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있으며, 또한 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러, 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 복수의 제1 칩 커플러 중의 일부 제1 칩 커플러는 그 위에 적층되는 적어도 하나의 제2 칩 커플러와 일체형으로 성형될 수 있다.
상기 복수의 제1 칩 커플러 중의 일부 제1 칩 커플러는 그 위에 적층되는 적어도 하나의 제2 칩 커플러와 수평 방향에서의 면적이 동일할 수 있다.
상기 복수의 제1 칩 커플러 중의 일부 제1 칩 커플러는 그 위에 적층되는 적어도 하나의 제2 칩 커플러와 수평 방향에서의 면적이 상이할 수 있다.
다른 일 측면에서, 본 발명은 제1측과 제2측을 포함하는 재배선층; 상기 재배선층의 제1측에 설치되는 복수의 범프; 정면과 배면을 포함하며, 상기 정면이 상기 재배선층의 제2측에 배치되어 조립되는 제1 칩; 상기 재배선층의 제2측에 배치되어 조립되며, 각각 상기 제1 칩의 양측에 수평으로 배치되어 조립되는 제1 칩 커플러 및 제2 칩 커플러; 및 각각 정면과 배면을 포함하며, 상기 제1칩의 배면과 상기 제1 칩 커플러의 상부에 정면이 아래를 향하도록 배치되어 조립되는 제2칩, 상기 제1 칩의 배면과 상기 제2 칩 커플러의 상부에 정면이 아래를 향하도록 배치되어 조립되는 제3 칩을 포함하며, 상기 패키지는 몰딩 처리되어 몰드 구조를 형성하는 패키지를 제공한다. 여기서, 상기 제2 칩은 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결되고, 상기 제3 칩은 상기 제2 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결된다.
또 다른 일 측면으로, 본 발명은 제1측과 제2측을 포함하는 재배선층; 상기 재배선층의 제1측에 설치되는 복수의 범프; 정면과 배면을 포함하며, 상기 정면이 상기 재배선층의 제2측에 배치되어 조립되는 제1 칩; 상기 재배선층의 제2측에 배치되어 조립되며, 상기 제1 칩의 측면에 수평으로 배치되어 조립되는 제1 칩 커플러; 상기 제1 칩 커플러의 상부에 배치되어 조립되는 적어도 하나의 제2 칩 커플러; 정면과 배면을 포함하며, 상기 정면이 아래를 향하도록 상기 제1칩의 배면에 배치되고 상기 제1 칩 커플러의 상부에 조립되는 적어도 하나의 제2 칩; 및 상기 적어도 하나의 제2 칩의 배면의 상부에 배치되어 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러의 상부에 조립되는 제3 칩을 포함하며, 상기 패키지는 몰딩 처리되어 몰드 구조를 형성하는 패키지를 제공한다. 여기서, 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러, 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러와 상기 제1 칩 커플러를 통해 상기 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러를 통해 상기 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있으며, 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러, 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다.
또 다른 일 측면으로, 본 발명은 제1측과 제2측을 포함하는 재배선층; 상기 재배선층의 제1측에 설치되는 복수의 범프; 정면과 배면을 포함하며, 상기 정면이 상기 재배선층의 제2측에 배치되어 조립되는 제1 칩; 상기 재배선층의 제2측에 배치되어 조립되며, 상기 제1 칩의 일측에 수평으로 배치되어 조립되는 제1 칩 커플러; 상기 재배선층의 제2측에 배치되어 조립되며, 상기 제1 칩의 타측에 수평으로 배치되어 조립되는 크로스층 칩 커플러; 정면과 배면을 포함하며, 상기 정면이 아래를 향하도록 상기 제1칩의 배면의 상부에 배치되고 상기 제1 칩 커플러의 상부에 조립되는 적어도 하나의 제2 칩; 상기 제1 칩 커플러의 상부에 배치되어 조립되는 적어도 하나의 제2 칩 커플러; 및 상기 적어도 하나의 제2 칩의 배면의 상부에 배치되어 상기 크로스층 칩 커플러의 상부에 조립되는 제3 칩을 포함하며, 상기 패키지는 몰딩 처리되어 몰드 구조를 형성하는 패키지를 제공한다. 여기서, 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러, 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있으며, 상기 제3 칩은 상기 크로스층 칩 커플러, 상기 재배선층, 상기 제1 칩 커플러와 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러를 통해 상기 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 상기 제3 칩은 상기 크로스층 칩 커플러, 상기 재배선층과 상기 제1 칩 커플러를 통해 상기 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있으며, 여기서, 상기 제3 칩은 상기 크로스층 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다.
본 발명의 실시예는 칩 커플러와 원스탑형 WLP 공정을 이용하여 칩의 적층을 구현하므로, 기능칩에 TSV 등의 칩을 수직으로 연결하는 기술을 사용할 필요가 없다. 따라서, 3차원 다층 칩 패키지의 복잡성과 제조비용이 절감된다.
상기 설명은 단지 본 발명의 기술방안을 보다 명확하게 이해하고 명세서의 내용에 따라 실시할 수 있도록 본 발명의 기술방안에 대해 개략적으로 기술한 것에 불과하다. 본 발명의 상기 및 기타 목적, 특징과 장점이 더욱 명확하고 쉽게 이해될 수 있도록, 이하 본 발명의 구체적인 실시방식을 상세히 설명한다.
첨부도면을 참조한 본문의 상세한 설명을 통해, 본 발명의 예시적 실시방식의 상기 및 기타 목적, 특징과 장점이 쉽게 이해될 것이다. 도면에서 예시적이되 비제한적인 방식으로 본 발명의 일부 실시방식을 도시하였다.
도면에서, 동일하거나 대응되는 부호는 동일하거나 또는 되응되는 부분을 나타낸다.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 패키지를 형성하는 단면 설명도이다.
도 4 내지 도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 패키지를 형성하는 단면 설명도이다.
도 6 내지 도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 패키지를 형성하는 단면 설명도이다.
도 9 내지 도 11은 본 발명의 제4 실시예에 따른 패키지를 형성하는 단면 설명도이다.
도 12 내지 도 13은 본 발명의 제5 실시예에 따른 패키지를 형성하는 단면 설명도이다.
도 14는 본 발명의 실시예에 따라 패키지를 형성하는 방법의 흐름도이다.
이하 공개 내용은 본 발명의 각기 다른 특징을 구현하기 위한 많은 상이한 실시예 또는 구현예를 제공한다. 아래에서 본 발명을 단순화하기 위해 어셈블리와 배치의 구체적인 구현예를 기술하였다. 물론 이들은 단지 구현예일 뿐 본 발명을 제한하고자 하는 것이 아니다. 예를 들어, 아래의 설명에서, 제2 부재의 상부 또는 위에 제1 부재를 형성하는 경우, 제1 부재와 제2 부재를 직접 접촉시켜 형성되는 실시예를 포함할 수도 있고, 제1 부재와 제2 부재 사이에 별도의 부재를 형성함으로써, 제1 부재와 제2 부재를 직접 접촉시키지 않는 실시예를 포함할 수도 있다. 또한, 본 발명은 각 실시예에서 참고 부호 및/또는 문자 부호를 중복할 수 있으며, 상기 중복은 간단 명료의 목적을 위한 것일 뿐, 그 자체가 토론하는 각 실시예 및/또는 구성 간의 관계를 나타내는 것이 아니다.
또한, 설명의 편의를 위하여, 여기에서는 "…의 아래에", "…의 하부에", "하부", "…의 위에", "상부", "…의 상부에" 등 공간적 상대성 용어를 사용하여 도시된 바와 같은 하나의 소자 또는 부재와 다른(또는 다른 일부) 소자 또는 부재의 관계를 기술할 수 있다. 도시된 방위 이외에, 공간적 상대성 용어의 목적은 사용 중이거나 조작 중인 디바이스의 다른 방위를 포함시키고자 하는데 있다. 디바이스는 기타 방식으로 방향이 정해질 수 있으며(90도 회전 또는 기타 방위에), 본문에서 사용된 공간적 상대성 기술어 역시 마찬가지로 상응한 해석을 할 수 있다. 또한, 본문에서, "조립"이라는 용어는 각 전자 디바이스 사이에서 전기적인 연결을 구현하는 것을 의미한다. 용어 "칩"은 각종 유형의 칩, 예를 들어 논리 칩, 저장 칩 등을 의미할 수 있다.
도 14는 본 발명의 실시예에 따른 패키지 형성 방법의 흐름도이다. 상기 방법은 이하 4개의 단계를 포함한다:
단계 100: 캐리어에 칩층을 배치하여 조립하는 단계.
단계 200: 칩층에 대해 몰딩 처리를 수행하는 단계.
단계 300: 캐리어를 제거하여 패키지 본체를 형성하고, 재배선층과 범프를 추가하는 단계.
단계 400: 패키지 본체를 분할하여 패키지를 형성하는 단계.
일부 실시예에서, 캐리어는 표면 평탄도가 매우 높은 부재로서, 적어도 하나의 칩층을 캐리어상에 적층할 수 있다. 칩층에 대해 몰딩 처리를 수행한 후, 캐리어에 몰드 구조를 형성할 수 있으며, 일부 실시예에서, 몰딩 처리를 위한 재료는 실리카계 또는 유리 충전재를 첨가하거나 또는 첨가하지 않은 에폭시 수지, 유기중합체 또는 기타 화합물을 원료로 하는 고체 또는 액체 몰딩 재료를 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 캐리어를 제거하는 단계, 재배선층과 범프를 추가하는 단계와 패키지 본체를 분할하는 단계는 웨이퍼 레벨 패키징(WLP)에 이미 알려진 단계이다.
이하 상기 방법을 바탕으로 각 첨부도면을 참조하여 본 발명의 각 실시예에 대해 설명한다.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 패키지를 형성하는 단면 설명도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 캐리어(10)에 2개의 칩층을 배치한다. 제1 칩층은 복수의 제1 칩(11)과 복수의 칩 커플러(13)를 포함하고, 제2 칩층은 복수의 제2 칩(12)을 포함한다.
먼저 제1 칩(11)과 칩 커플러(13)를 수평방향에서 간격을 두고 캐리어(10)에 배치한 다음, 제2 칩(12)을 제1 칩(11)과 칩 커플러(13)상에 배치하여 조립할 수 있다. 칩은 정면과 배면을 포함한다. 당업계에서는 예컨대 범프를 구비한 표면을 정면으로 간주한다. 일부 실시예에서, 제1 칩(11)과 제2 칩(12)은 정면이 아래를 향하도록 배치된다.
본문에서, 칩 커플러는 상이한 전자 디바이스를 전기적으로 연결하기 위한 것일 수 있으며, 상기 전자 디바이스는 예를 들어 칩, 재배선층과 기타 칩 커플러 등 각종 디바이스를 포함한다. 칩 커플러에 연결되는 전자 디바이스는 일반적으로 칩 커플러와 동일한 칩층에 위치하지 않는다. 일부 실시예에서, 칩 커플러는 유리 또는 실리콘 등의 재료로 제작될 수 있으며, 일부 실시예에서, 칩 커플러는 능동 커플링 디바이스 또는 수동 커플링 디바이스일 수 있다. 예를 들어 칩 커플러는 수직방향에서 약간의 비아홀(18)을 구비할 수 있으며, 비아홀(18)에 전도성 매질을 충전할 수 있다. 일부 실시예에서, 칩 커플러의 상부 표면과 하부 표면에 모두 전도성 트레이스를 설치할 수 있으며, 이에 따라 하나의 표면에서 상이한 비아홀이 전기적으로 연결된다.
상이한 칩층 사이에 접착점(adhesive dot)을 더 설치할 수 있으며, 예를 들어 도 1에 도시된 바와 같은 접착점(14)이다. 접착점은 상이한 칩층을 격리 및 고정시키기 위한 것이다. 일부 실시예에서, 접착점은 비전도성 매질로 제작되며, 일부 실시예에서는 접착점에 대한 설명을 생략할 것이다.
도 2는 단계 200과 300을 실시한 후의 패키지 본체의 구조를 도시한 것이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 2개의 칩층은 몰딩 처리되어 몰드 구조(15)를 형성한다. 캐리어(10)를 제거한 후, 패키지 본체의 하부에 재배선층(16)을 추가하고, 또한 재배선층(16) 아래에 범프(17)를 추가할 수 있다.
도 3은 단계 400을 실시한 후의 패키지 구조를 도시한 것이다.
상기 패키지는 2개의 분할된 칩 커플러, 2개의 제2 칩 및 하나의 제1 칩을 포함한다. 2개의 제2 칩은 각각 2개의 분할된 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다.
도 4 내지 도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 패키지를 형성하는 단면 설명도이다. 제2 실시예는 제1 실시예의 변형체이다.
도 4는 단계 200과 300을 실시한 후의 패키지 본체의 구조를 도시한 것이다. 패키지 본체는 복수의 제1 칩(21), 복수의 제2 칩(22)과 복수의 칩 커플러(23)를 포함한다.
도 5는 단계 400을 실시한 후의 패키지 구조를 도시한 것이다.
상기 패키지는 하나의 칩 커플러, 하나의 제2 칩과 하나의 제1 칩을 포함한다. 제2 칩은 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다.
도 6 내지 도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 패키지를 형성하는 단면 설명도이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 캐리어(30)상에 3개의 칩층을 배치한다. 제1 칩층은 복수의 제1 칩(31)과 복수의 제1 칩 커플러(33)를 포함한다. 제2 칩층은 복수의 제2 칩(32)과 복수의 제2 칩 커플러(34)를 포함한다. 제3 칩층은 복수의 제3 칩(35)을 포함한다.
먼저 복수의 제1 칩(31)과 복수의 제1 칩 커플러(33)를 캐리어(10)상에 배치한 다음, 복수의 제2 칩(32)과 복수의 제2 칩 커플러(34)를 제1 칩(11)과 칩 커플러(13)상에 배치하여 조립하며, 마지막으로 복수의 제3 칩(35)을 복수의 제2 칩(32)과 복수의 제2 칩 커플러(34)상에 배치하여 조립할 수 있다. 일부 실시예에서, 제1 칩(31), 제2 칩(32)과 제3 칩(35)은 정면이 아래를 향하도록 배치된다.
일부 실시예에서, 도 6 내지 도 8에 도시된 패키지 구조는 복수의 제2 칩층을 포함할 수 있다. 복수의 제2 칩층 중의 각 층은 복수의 제2 칩과 복수의 제2 칩 커플러를 포함한다. 다층의 제2 칩 커플러는 제1 칩 커플러(33)상에 적층될 수 있다. 일부 실시예에서, 다층의 제2 칩 커플러와 제1 칩 커플러(33)에 의해 형성되는 스택에서, 각 층의 칩 커플러는 수평방향에서의 면적이 완전히 같지 않을 수 있다. 예를 들어 다층의 제2 칩 커플러와 제1 칩 커플러(33)에 의해 형성되는 스택에서, 어느 한 층 중의 칩 커플러의 수평방향에서의 면적은 상기 칩 커플러 하부에 위치한 칩 커플러의 수평방향에서의 면적보다 작거나 또는 클 수 있다.
도 7은 단계 200과 300을 실시한 후의 패키지 본체의 구조를 도시한 것이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 3개의 칩층은 몰딩 처리되어 몰드 구조를 형성한다. 캐리어(30)를 제거한 후, 패키지 본체의 하부에 재배선층(36)을 추가하고, 재배선층(36) 아래에 범프(37)를 추가할 수 있다.
도 8은 단계 400을 실시한 후의 패키지의 구조를 도시한 것이다.
상기 패키지는 하나의 분할된 제1 칩 커플러, 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 하나의 제3 칩, 하나의 제2 칩 및 하나의 제1 칩을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 상기 패키지는 하나의 분할된 제1 칩 커플러, 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 하나의 제3 칩, 적어도 하나의 제2 칩 및 하나의 제1 칩을 포함할 수 있다.
분할된 제1 칩 커플러의 표면에 전도성 트레이스를 설치할 수 있기 때문에, 제3 칩은 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러와 분할된 제1 칩 커플러를 통해 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있다. 제3 칩은 또한 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 분할된 제1 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다. 적어도 하나의 제2 칩은 분할된 제1 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 적어도 하나의 제2 칩은 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 분할된 제1 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다.
도 9 내지 도 11은 본 발명의 제4 실시예에 따른 패키지를 형성하는 단면 설명도이다.
도 9에 도시된 바와 같이, 캐리어(40)에 3개의 칩층을 배치한다. 제1 칩층은 복수의 제1 칩(41), 복수의 제1 칩 커플러(44), 복수의 크로스층 칩 커플러(45)를 포함하며, 여기서 크로스층 칩 커플러(45)의 두께는 적어도 하나의 칩층을 초과한다. 제2 칩층은 복수의 제2 칩(42)을 포함하고, 제3 칩층은 복수의 제3 칩(43)을 포함한다. 일부 실시예에서, 크로스층 칩 커플러는 함께 적층되는 복수의 칩 커플러일 수도 있고, 일체형으로 성형된 칩 커플러일 수도 있다. 일부 실시예에서, 복수의 칩 커플러가 함께 적층된 경우, 그 중의 각 칩 커플러는 수평방향에서의 면적이 같을 수도 있고 다를 수도 있다. 일부 실시예에서, 크로스층 칩 커플러가 일체형으로 성형된 경우, 크로스층 칩 커플러는 사다리꼴 형상, 피라미드 형상 또는 기타 형상을 구비할 수 있다.
먼저 복수의 제1 칩(41), 복수의 크로스층 칩 커플러(45)와 복수의 제1 칩 커플러(44)를 캐리어(40)상에 배치한 다음, 복수의 제2 칩(42)을 복수의 제1 칩(41)과 복수의 제1 칩 커플러(44)상에 배치하여 조립하고, 마지막으로 복수의 제3 칩(43)을 복수의 제2 칩(42)과 복수의 크로스층 칩 커플러(45)상에 배치하여 조립할 수 있다. 일부 실시예에서, 제1 칩(41), 제2 칩(42)과 제3 칩(43)은 정면이 아래를 향하도록 배치된다.
일부 실시예에서, 도 9 내지 도 11에 도시된 패키지 구조는 복수의 제2 칩층을 포함할 수 있다. 복수의 제2 칩층 중의 각 층은 복수의 제2 칩과 복수의 제2 칩 커플러를 포함하고, 다층의 제2 칩 커플러는 제1 칩 커플러(44)상에 적층될 수 있다. 일부 실시예에서, 다층의 제2 칩 커플러와 제1 칩 커플러(44)에 의해 형성되는 스택 중, 각 층의 칩 커플러는 수평방향에서의 면적이 완전히 같지 않을 수 있다. 예를 들어, 다층의 제2 칩 커플러와 제1 칩 커플러(44)에 의해 형성되는 스택 중, 어느 한 층 중의 칩 커플러의 수평방향에서의 면적은 상기 칩 커플러 하부에 위치한 칩 커플러의 수평방향에서의 면적보다 작거나 또는 클 수 있다.
도 10은 단계 200과 300을 실시한 후의 패키지 본체의 구조를 도시한 것이다.
도 10에 도시된 바와 같이, 3개의 칩층은 몰딩 처리되어 몰드 구조를 형성한다. 캐리어(40)를 제거한 후, 패키지 본체의 하부에 재배선층(46)을 추가하고, 재배선층(46) 아래에 범프(47)를 추가할 수 있다.
도 11은 단계 400을 실시한 후의 패키지의 구조를 나타낸 것이다.
상기 패키지는 하나의 분할된 제1 칩 커플러, 하나의 분할된 크로스층 칩 커플러, 하나의 제3 칩, 하나의 제2 칩 및 하나의 제1 칩을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 상기 패키지는 하나의 분할된 제1 칩 커플러, 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 하나의 분할된 크로스층 칩 커플러, 하나의 제3 칩, 적어도 하나의 제2 칩 및 하나의 제1 칩을 포함할 수 있다.
적어도 하나의 제2 칩은 분할된 제1 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 적어도 하나의 제2 칩은 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 분할된 제1 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다. 제3 칩은 분할된 크로스층 칩 커플러, 재배선층, 분할된 제1 칩 커플러와 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러를 통해 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 제3 칩은 분할된 크로스층 칩 커플러, 재배선층과 분할된 제1 칩 커플러를 통해 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있다. 제3 칩은 분할된 크로스층 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩과 전기적으로 연결될 수 있다.
도 12 내지 도 13은 본 발명의 제5 실시예의 패키지를 형성하는 단면 설명도이며, 도 5 실시예는 제4 실시예의 변형체이다.
도 12는 단계 200과 300을 실시한 후의 패키지 본체의 구조를 도시한 것이다.
도 12에 도시된 바와 같이, 패키지 본체의 칩층은 몰딩 처리되어 몰드 구조를 형성한다. 패키지 본체는 3개의 칩층, 복수의 범프(56)와 재배선층(57)을 포함한다. 제1 칩층은 복수의 제1 칩(51), 복수의 제1 칩 커플러(55), 복수의 크로스층 칩 커플러(54)를 포함하며, 여기서 크로스층 칩 커플러(54)의 두께는 적어도 하나의 칩층을 초과한다. 제2 칩층은 복수의 제2 칩(52)을 포함한다. 제3 칩층은 복수의 제3 칩(53)을 포함한다. 일부 실시예에서, 복수의 칩 커플러가 함께 적층된 경우, 그 중의 각 칩 커플러는 수평방향에서의 면적이 같을 수도 있고 다를 수도 있다. 일부 실시예에서, 크로스층 칩 커플러가 일체형으로 성형된 경우, 크로스층 칩 커플러는 사다리꼴 형상, 피라미드 형상 또는 기타 형상을 구비할 수 있다.
먼저 복수의 제1 칩(51), 복수의 크로스층 칩 커플러(54)와 복수의 제1 칩 커플러(55)를 캐리어상에 배치한 다음, 복수의 제2 칩(52)을 복수의 제1 칩(51)과 복수의 제1 칩 커플러(55)상에 배치하여 조립하고, 마지막으로 복수의 제3 칩(53)을 복수의 제2 칩(52)과 복수의 크로스층 칩 커플러(54)상에 배치하여 조립할 수 있다. 일부 실시예에서, 제1 칩(51), 제2 칩(52)과 제3 칩(53)은 정면이 아래를 향해 배치된다.
일부 실시예에서, 도 12 내지 도 13에 도시된 바와 같은 패키지 구조는 복수의 제2 칩층을 포함할 수 있다. 복수의 제2 칩층 중의 각 층은 복수의 제2 칩과 복수의 제2 칩 커플러를 포함하고, 다층의 제2 칩 커플러는 제1 칩 커플러(55)상에 적층될 수 있다. 일부 실시예에서, 다층의 제2 칩 커플러와 제1 칩 커플러(55)에 의해 형성되는 스택 중, 각 층의 칩 커플러는 수평방향에서의 면적이 완전히 같지 않을 수 있다. 예를 들어, 다층의 제2 칩 커플러와 제1 칩 커플러(55)에 의해 형성되는 스택 중, 어느 한 층 중의 칩 커플러의 수평방향에서의 면적은 상기 칩 커플러 하부에 위치한 칩 커플러의 수평방향에서의 면적보다 작거나 또는 클 수 있다.
도 13은 단계 400을 실시한 후의 패키지의 구조를 도시한 것이다.
상기 패키지는 하나의 제1 칩 커플러, 하나의 크로스층 칩 커플러, 하나의 제3 칩, 하나의 제2 칩 및 하나의 제1 칩을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 상기 패키지는 하나의 제1 칩 커플러, 적어도 하나의 제2 칩 커플러, 하나의 크로스층 칩 커플러, 하나의 제3 칩, 적어도 하나의 제2 칩 및 하나의 제1 칩을 포함할 수 있다.
적어도 하나의 제2 칩은 제1 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 적어도 하나의 제2 칩은 적어도 하나의 제2 칩 커플러, 제1 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있다. 제3 칩은 크로스층 칩 커플러, 재배선층, 제1 칩 커플러와 적어도 하나의 제2 칩 커플러를 통해 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 제3 칩은 크로스층 칩 커플러, 재배선층과 제1 칩 커플러를 통해 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있다. 제3 칩은 크로스층 칩 커플러와 재배선층을 통해 제1 칩과 전기적으로 연결될 수 있다.
본 발명의 각 실시예에서, 각각의 칩은 칩 커플러 및/또는 재배선층을 이용하여 상호 연결할 수 있을 뿐만 아니라, 칩 커플러, 및/또는 재배선층 및 범프를 이용하여 패키지 외부의 각종 회로구조에 연결할 수도 있다.
당업자가 공지하는 바와 같이, 범프는 전도성 재료 또는 솔더로 제조될 수 있으며, 전도성 재료는 Cu, Ni, Au, Ag 등 또는 기타 합금재료를 포함하고, 기타 재료를 포함할 수도 있다. 일부 실시예에서, 범프는 패드 형식을 구비할 수도 있고, 기타 가능한 형식을 구비할 수도 있다.
이상으로 당업자가 본 발명의 각 측면을 더욱 잘 이해할 수 있도록, 일부 실시예의 특징을 개략적으로 설명하였다. 당업자라면, 이들 실시예가 용이하게 사용될 수 있으며, 본 발명을 기초로 하여 본문에 소개된 실시예와 동일한 목적을 실시 및/또는 동일한 장점을 구현하기 위한 기타 공정과 구조로 설계하거나 또는 수정할 수 있음을 이해하여야 한다. 당업자는 또한 이러한 동등한 구조가 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않으며, 또한 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않는 한, 본문에서 다양한 변화, 교체 및 변경이 가능하다는 것을 인식하여야 한다.
30: 캐리어
31: 제1 칩
32: 제2 칩
33: 제1 칩 커플러
34: 제2칩 커플러
35: 제3 칩
36: 재배선 층
37: 범프

Claims (12)

  1. 패키지 형성 방법에 있어서, 상기 방법은,
    캐리어의 상부에 복수의 제1 칩 커플러와 정면이 아래를 향하는 복수의 제1 칩을 포함하는 제1 칩층을 배치하는 단계;
    상기 제1 칩층의 상부에 각각 정면이 아래를 향하는 복수의 제2 칩 및 복수의 제2 칩 커플러를 포함하는 적어도 하나의 제2 칩층을 배치하여 조립하는 단계;
    상기 적어도 하나의 제2 칩층에 정면이 아래를 향하는 복수의 제3 칩을 포함하는 제3 칩층을 배치하여 조립하는 단계;
    상기 캐리어의 상부에서 상기 제1 칩층, 상기 적어도 하나의 제2 칩층과 상기 제3 칩층에 대해 몰딩 처리를 수행하는 단계;
    상기 캐리어를 제거하여 패키지 본체를 형성하고, 상기 패키지 본체의 하부에 재배선층과 범프를 추가하는 단계; 및
    상기 패키지 본체를 분할하여 복수의 상기 패키지를 형성하는 단계;를 포함하고,
    상기 제3 칩층을 배치하여 조립하는 단계는,
    2개의 제3 칩은 단부가 이웃하도록 상기 2개의 제3 칩을 상기 제2 칩 커플러 위에 배치하며,
    상기 패키지를 형성하는 단계는,
    상기 2개의 제3 칩의 단부 사이를 통과하여 상기 제1 칩 커플러 및 상기 제2 칩 커플러를 분할하는 단계를 포함하는, 패키지 형성 방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 제1 칩 커플러와 상기 복수의 제2 칩 커플러는 수직 방향에서 적어도 하나의 비아홀을 포함하도록 설치되는, 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 패키지는 제1칩, 적어도 하나의 제2 칩, 제3 칩, 분할된 제1 칩 커플러 및 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러를 포함하며,
    상기 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러는 상기 분할된 제1 칩 커플러의 상부에 조립되고, 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 제1 칩의 상부에 배치되고, 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩의 상부에 배치되며,
    상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 상기 분할된 제1 칩 커플러를 통해 상기 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있고,
    상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 상기 분할된 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있으며, 또한
    상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 분할된 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 적어도 하나의 분할된 제2 칩 커플러, 상기 분할된 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있는, 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제2 칩층을 배치하여 조립하는 단계는,
    상기 복수의 제2 칩 커플러를 상기 복수의 제1 칩 커플러의 중앙에 각각 배치하는 것을 포함하는, 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 제1 칩 커플러 중의 일부 제1 칩 커플러는 그 위에 적층되는 적어도 하나의 제2 칩 커플러와 일체형으로 성형될 수 있는, 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 제1 칩 커플러 중의 일부 제1 칩 커플러는 그 위에 적층되는 적어도 하나의 제2 칩 커플러와 수평 방향에서의 면적이 동일할 수 있는, 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 제1 칩 커플러 중의 일부 제1 칩 커플러는 그 위에 적층되는 적어도 하나의 제2 칩 커플러와 수평 방향에서의 면적이 상이할 수 있는, 방법.
  9. 패키지에 있어서,
    제1측과 제2측을 포함하는 재배선층;
    상기 재배선층의 제1측에 설치되는 복수의 범프;
    정면과 배면을 포함하며, 상기 정면이 상기 재배선층의 제2측에 배치되어 조립되는 제1 칩;
    상기 재배선층의 제2측에 배치되어 조립되며, 상기 제1 칩의 측면에 수평으로 배치되어 조립되는 제1 칩 커플러;
    상기 제1 칩 커플러의 상부에 배치되어 조립되는 적어도 하나의 제2 칩 커플러;
    정면과 배면을 포함하며, 상기 정면이 아래를 향하도록 상기 제1칩의 배면에 배치되고 상기 제1 칩 커플러의 상부에 조립되는 적어도 하나의 제2 칩; 및
    상기 적어도 하나의 제2 칩의 배면의 상부에 배치되어 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러의 상부에 조립되는 제3 칩을 포함하며,
    상기 패키지는 몰딩 처리되어 몰드 구조를 형성하고,
    상기 제3 칩의 측단부는 상기 몰드 구조 내부에 위치하며,
    상기 제1 칩 커플러 및 상기 제2 칩 커플러는 상기 제3 칩의 측단부 보다 수평으로 더욱 연장되어 상기 몰드 구조의 측면에 노출되는, 패키지.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 상기 적어도 하나의 제2 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러, 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연될 수 있고,
    상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러와 상기 제1 칩 커플러를 통해 상기 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있거나, 또는 상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러를 통해 상기 적어도 하나의 제2 칩에 전기적으로 연결될 수 있으며,
    상기 제3 칩은 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러, 상기 제1 칩 커플러와 상기 재배선층을 통해 상기 제1 칩에 전기적으로 연결될 수 있는, 패키지.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 제1 칩의 상부에 설치된 제1 비전도성 접착점; 및
    상기 제2 칩의 상부에 설치된 제2 비전도성 접착점을 포함하고,
    상기 제2 칩은 일측이 상기 제1 칩 커플러의 상부에 조립되며 타측이 상기 제1 비전도성 접착점에 고정되고,
    상기 제3 칩은 일측이 상기 제2 칩 커플러의 상부에 조립되며 타측이 상기 제2 비전도성 접착점에 고정되는, 패키지.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 제1 칩 커플러와 상기 적어도 하나의 제2 칩 커플러는 수직 방향에서 적어도 하나의 비아홀을 포함하도록 설치되는, 패키지.
KR1020230116744A 2020-11-27 2023-09-04 패키지 및 패키지 형성 방법 KR102666025B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011352636.4A CN112420529B (zh) 2020-11-27 2020-11-27 封装件及形成封装件的方法
CN202011352636.4 2020-11-27
KR1020210163984A KR102665954B1 (ko) 2020-11-27 2021-11-25 패키지 및 패키지 형성 방법

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210163984A Division KR102665954B1 (ko) 2020-11-27 2021-11-25 패키지 및 패키지 형성 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20230131457A KR20230131457A (ko) 2023-09-13
KR102666025B1 true KR102666025B1 (ko) 2024-05-20

Family

ID=74842606

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210163984A KR102665954B1 (ko) 2020-11-27 2021-11-25 패키지 및 패키지 형성 방법
KR1020230116743A KR20230132417A (ko) 2020-11-27 2023-09-04 패키지 및 패키지 형성 방법
KR1020230116745A KR102666026B1 (ko) 2020-11-27 2023-09-04 패키지 및 패키지 형성 방법
KR1020230116744A KR102666025B1 (ko) 2020-11-27 2023-09-04 패키지 및 패키지 형성 방법

Family Applications Before (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210163984A KR102665954B1 (ko) 2020-11-27 2021-11-25 패키지 및 패키지 형성 방법
KR1020230116743A KR20230132417A (ko) 2020-11-27 2023-09-04 패키지 및 패키지 형성 방법
KR1020230116745A KR102666026B1 (ko) 2020-11-27 2023-09-04 패키지 및 패키지 형성 방법

Country Status (3)

Country Link
KR (4) KR102665954B1 (ko)
CN (1) CN112420529B (ko)
TW (1) TWI782803B (ko)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101425510A (zh) 2007-11-01 2009-05-06 育霈科技股份有限公司 半导体元件的叠层封装结构及其方法
US20100133704A1 (en) 2008-12-01 2010-06-03 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor Device and Method of Forming an Interposer Package with Through Silicon Vias
US20140225273A1 (en) 2013-02-11 2014-08-14 Oracle International Corporation Chip package for high-count chip stacks
JP2017515314A (ja) 2014-05-09 2017-06-08 クアルコム,インコーポレイテッド PoPパッケージのための基板ブロック
US20190057940A1 (en) * 2016-03-16 2019-02-21 Intel Corporation Stairstep interposers with integrated shielding for electronics packages
CN110114874A (zh) 2016-12-30 2019-08-09 英特尔Ip公司 微电子设备中堆叠管芯的互连结构

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI122217B (fi) * 2008-07-22 2011-10-14 Imbera Electronics Oy Monisirupaketti ja valmistusmenetelmä
KR101060117B1 (ko) * 2009-09-14 2011-08-29 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 적층 칩 반도체 패키지
KR101703747B1 (ko) * 2009-12-30 2017-02-07 삼성전자주식회사 적층 구조의 반도체 칩들을 구비하는 반도체 메모리 장치, 반도체 패키지 및 시스템
KR101236798B1 (ko) * 2011-02-16 2013-02-25 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 웨이퍼 레벨 적층형 반도체 패키지 제조 방법
US8963339B2 (en) * 2012-10-08 2015-02-24 Qualcomm Incorporated Stacked multi-chip integrated circuit package
CN104885217A (zh) * 2012-10-23 2015-09-02 泰塞拉公司 两个或多个晶元的多晶元堆叠
KR102208622B1 (ko) * 2013-10-18 2021-01-28 삼성전자 주식회사 반도체 장치 및 이를 포함하는 전자 장치
CN103887291B (zh) * 2014-04-02 2017-01-04 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 三维扇出型PoP封装结构及制造工艺
KR102171286B1 (ko) * 2014-07-11 2020-10-29 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 그 제조방법
CN104810332A (zh) * 2015-05-05 2015-07-29 三星半导体(中国)研究开发有限公司 一种扇出晶圆级封装件及其制造方法
CN105118823A (zh) * 2015-09-24 2015-12-02 中芯长电半导体(江阴)有限公司 一种堆叠型芯片封装结构及封装方法
US10050024B2 (en) * 2016-06-17 2018-08-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Semiconductor package and manufacturing method of the same
US10109617B2 (en) * 2016-07-21 2018-10-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Solid state drive package
KR102600106B1 (ko) * 2016-09-13 2023-11-09 삼성전자주식회사 반도체 패키지의 제조 방법
KR102556517B1 (ko) * 2018-08-28 2023-07-18 에스케이하이닉스 주식회사 브리지 다이를 포함하는 스택 패키지
KR20200102883A (ko) * 2019-02-22 2020-09-01 에스케이하이닉스 주식회사 브리지 다이를 포함한 시스템 인 패키지
US10770433B1 (en) * 2019-02-27 2020-09-08 Apple Inc. High bandwidth die to die interconnect with package area reduction
US11139249B2 (en) * 2019-04-01 2021-10-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Semiconductor devices and methods of forming the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101425510A (zh) 2007-11-01 2009-05-06 育霈科技股份有限公司 半导体元件的叠层封装结构及其方法
US20100133704A1 (en) 2008-12-01 2010-06-03 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor Device and Method of Forming an Interposer Package with Through Silicon Vias
US20140225273A1 (en) 2013-02-11 2014-08-14 Oracle International Corporation Chip package for high-count chip stacks
JP2017515314A (ja) 2014-05-09 2017-06-08 クアルコム,インコーポレイテッド PoPパッケージのための基板ブロック
US20190057940A1 (en) * 2016-03-16 2019-02-21 Intel Corporation Stairstep interposers with integrated shielding for electronics packages
CN110114874A (zh) 2016-12-30 2019-08-09 英特尔Ip公司 微电子设备中堆叠管芯的互连结构

Also Published As

Publication number Publication date
CN112420529B (zh) 2022-04-01
CN112420529A (zh) 2021-02-26
KR20220075183A (ko) 2022-06-07
KR20230131457A (ko) 2023-09-13
TW202221806A (zh) 2022-06-01
KR20230131458A (ko) 2023-09-13
TWI782803B (zh) 2022-11-01
KR20230132417A (ko) 2023-09-15
KR102666026B1 (ko) 2024-05-20
KR102665954B1 (ko) 2024-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101366455B1 (ko) 반도체 장치, 패키징 방법 및 구조
CN106558573A (zh) 半导体封装结构及形成该半导体封装结构的方法
US20120146216A1 (en) Semiconductor package and fabrication method thereof
US10354974B2 (en) Structure and formation method of chip package structure
US20130256915A1 (en) Packaging substrate, semiconductor package and fabrication method thereof
KR102666025B1 (ko) 패키지 및 패키지 형성 방법
KR102573578B1 (ko) 패키지 및 그 형성 방법
KR102612873B1 (ko) 패키지 및 그 형성 방법
KR102702578B1 (ko) 패키지 및 이의 형성 방법
US12087737B2 (en) Method of forming chip package having stacked chips
TWI810754B (zh) 封裝件及其形成方法
US11676826B2 (en) Semiconductor die package with ring structure for controlling warpage of a package substrate
US20240203968A1 (en) Chip package integration with hybrid bonded bridge die
KR20220167977A (ko) 반도체 패키지
KR20130015391A (ko) 적층 반도체 패키지

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right