KR102644565B1 - 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 웨이퍼 위치 정렬 방법 - Google Patents

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Abstract

웨이퍼의 플랫존 정렬 및 웨이퍼 위치 정렬 방법은 카세트로부터 웨이퍼를 언로딩하여 정렬 유닛의 회전되는 회전축에 배치하는 단계; 상기 회전축을 회전시켜 상기 웨이퍼를 회전시키면서 상기 웨이퍼의 테두리를 촬영하여 상기 웨이퍼 중 곡면 테두리가 아닌 직선 테두리인 플랫존을 인식하는 단계; 상기 플랫존이 기준 위치에 배치되게 상기 웨이퍼를 정렬시키는 단계; 상기 회전축의 중심으로부터 상기 웨이퍼의 반지름 만큼 이격된 위치에 상기 플랫존과 평행한 가상의 기준선을 형성하는 단계; 상기 회전축을 상기 기준선에 대하여 90°회전시킨 후 상기 기준선 및 상기 기준선에 근접한 상기 웨이퍼의 곡면 테두리를 촬영하여 상기 기준선 및 곡면 테두리 사이의 제1 간격을 산출, 상기 회전축을 추가적으로 90°회전시킨 후 상기 기준선 및 상기 기준선에 근접한 상기 웨이퍼의 곡면 테두리를 촬영하여 상기 기준선 및 곡면 테두리 사이의 제2 간격을 산출 및 상기 회전축을 추가적으로 90°회전시킨 후 상기 기준선 및 상기 기준선에 근접한 상기 웨이퍼의 곡면 테두리를 촬영하여 상기 기준선 및 곡면 테두리 사이의 제3 간격을 산출하는 정렬 오차 산출 단계; 및 상기 제1 간격 및 상기 제3 간격을 평균한 제1 보정 데이터 및 상기 제2 간격인 제2 보정 데이터를 이용하여 상기 회전축의 회전 중심으로부터 벗어난 웨이퍼의 회전 중심의 위치 보정 데이터를 산출하는 단계를 포함한다.

Description

웨이퍼의 플랫존 정렬 및 웨이퍼 위치 정렬 방법{METHOD FOR ALIGNING FLATZONE OF WAFER AND ALIGNING POSITION OF WAFER}
본 발명은 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 웨이퍼 위치 정렬 방법에 관한 것으로, 특히 웨이퍼 얼라이너에 배치된 웨이퍼의 플랫존을 지정된 위치에 정렬한 후 연속하여 웨이퍼 얼라이너의 회전 중심 및 웨이퍼의 회전 중심을 정렬할 수 있는 복합 기능을 갖는 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 웨이퍼 위치 정렬 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조장치에 의하여 반도체 소자 공정이 수행되는 웨이퍼는 원형 형상으로 형성되며, 웨이퍼에는 테두리의 일부를 호 형상으로 절단시킨 플랫존(flat zone)이 형성된다.
웨이퍼에 형성되는 플랫존은 웨이퍼에 반도체 소자 제조 공정이 수행할 때 웨이퍼가 항상 지정된 위치에서 공정이 수행될 수 있도록 한다.
따라서, 웨이퍼들이 수납된 웨이퍼 카세트로부터 언로딩된 웨이퍼는 반도체 공정 설비에 투입되기 이전에 웨이퍼의 플랫존이 지정된 위치에 정렬되도록 플랫존 정렬 공정이 수행된다.
일반적으로 웨이퍼의 플랫존을 정렬하기 위해서는 얼라이너라는 장비가 사용되는데 얼라이너는 웨이퍼 카세트에 수납된 다수의 웨이퍼들이 수납된 상태에서 한 쌍의 회전 롤러의 상부에 각 웨이퍼들의 외주면이 동시 접속되도록 한 상태에서 회전 롤러들을 동일한 방향으로 회전시킴으로써 웨이퍼의 플랫존이 동일한 방향으로 정렬되도록 한다.
얼라이너에서 플랫존 정렬이 수행되면 한 쌍의 회전 롤러들의 길이 방향 양끝단부에 서로 마주보게 구비되는 레이저 빔 센서를 통해 웨이퍼의 플랫존이 제대로 얼라인먼트가 이루어졌는지를 체크한다.
그러나 이와 같이 웨이퍼 카세트에 수납된 웨이퍼의 플랫존을 정렬한 상태에서 트랜스퍼 암에 의하여 웨이퍼가 언로딩 된 후 공정 설비로 이송된 상태에서 웨이퍼의 플랫존이 저정된 위치로부터 틀어지게 배치될 수 있기 때문에 공정 설비에서 다시 웨이퍼의 플랫존을 정렬 및 웨이퍼의 위치를 다시 보정해야 한다.
공개특허 10-2008-0008443, 반도체 코팅설비의 웨이퍼 플랫존 정렬상태 검출장치, (공개일자: 2008년01월24일) 공개특허 10-2007-0013038, 반도체 소자 제조용 웨이퍼 카세트 스테이지 및 이를이용한 웨이퍼 플랫존 정렬 검사방법, (공개일자: 2007년01월30일)
본 발명은 웨이퍼 카세트에서 웨이퍼의 플랫존을 정렬하지 않고 반도체 소자 공정 설비에서 비젼 카메라를 이용하여 웨이퍼의 플랫존을 인식, 웨이퍼의 플랫존을 정렬, 비젼 카메라를 이용하여 웨이퍼의 회전 중심을 지정된 위치에 정렬하는 복합 기능을 수행할 수 있는 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 웨이퍼 위치 정렬 방법을 제공한다.
일실시예로서, 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 웨이퍼 위치 정렬 방법은 카세트로부터 웨이퍼를 언로딩하여 정렬 유닛의 회전되는 회전축에 배치하는 단계; 상기 회전축을 회전시켜 상기 웨이퍼를 회전시키면서 상기 웨이퍼의 테두리를 촬영하여 상기 웨이퍼 중 곡면 테두리가 아닌 직선 테두리인 플랫존을 인식하는 단계; 상기 플랫존이 기준 위치에 배치되게 상기 웨이퍼를 정렬시키는 단계; 상기 회전축의 중심으로부터 상기 웨이퍼의 반지름 만큼 이격된 위치에 상기 플랫존과 평행한 가상의 기준선을 형성하는 단계; 상기 회전축을 상기 기준선에 대하여 90°회전시킨 후 상기 기준선 및 상기 기준선에 근접한 상기 웨이퍼의 곡면 테두리를 촬영하여 상기 기준선 및 곡면 테두리 사이의 제1 간격을 산출, 상기 회전축을 추가적으로 90°회전시킨 후 상기 기준선 및 상기 기준선에 근접한 상기 웨이퍼의 곡면 테두리를 촬영하여 상기 기준선 및 곡면 테두리 사이의 제2 간격을 산출 및 상기 회전축을 추가적으로 90°회전시킨 후 상기 기준선 및 상기 기준선에 근접한 상기 웨이퍼의 곡면 테두리를 촬영하여 상기 기준선 및 곡면 테두리 사이의 제3 간격을 산출하는 정렬 오차 산출 단계; 및 상기 제1 간격 및 상기 제3 간격을 평균한 제1 보정 데이터 및 상기 제2 간격인 제2 보정 데이터를 이용하여 상기 회전축의 회전 중심으로부터 벗어난 웨이퍼의 회전 중심의 위치 보정 데이터를 산출하는 단계를 포함한다.
상기 플랫존을 인식하는 단계 및 상기 이미지 생성 단계는 상기 웨이퍼의 상부에 배치되어 상기 웨이퍼를 촬영하는 비젼 카메라에 의하여 수행된다.
상기 웨이퍼의 위치 보정 데이터를 산출하는 단계 이후, 상기 회전축으로부터 상기 웨이퍼를 이격시키는 단계; 및 상기 제1 및 제2 보정 데이터를 이용하여 상기 웨이퍼의 회전 중심 및 상기 회전축의 회전 중심을 정렬하는 단계를 더 포함한다.
상기 플랫존을 인식하는 단계는 상기 웨이퍼의 테두리를 인접한 2개의 영역에서 촬영하여 2개의 영상을 생성하는 단계; 2개의 상기 영상에 포함된 상기 웨이퍼의 테두리가 상기 직선 테두리인지 상기 곡선 테두리인지 판단하는 단계; 판단 결과 2개의 상기 영상에 포함된 상기 웨이퍼의 테두리가 각각 상기 직선 테두리일 경우 상기 기준 위치 및 상기 직선 테두리가 이루는 각도를 산출하는 단계; 상기 각도를 이용하여 상기 직선 테두리를 상기 기준 위치와 평행하게 상기 웨이퍼를 회전시켜 상기 직선 테두리의 각도를 보정하는 단계; 및 상기 웨이퍼의 테두리가 상기 직선 테두리인지 상기 곡선 테두리인지 판단하는 단계에서 2개의 상기 영상에 상기 직선 테두리가 포함되지 않을 경우 상기 웨이퍼를 지정된 각도로 회전시키고 2개의 상기 영상을 생성하는 단계를 다시 수행하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 웨이퍼 위치 정렬 방법은 웨이퍼의 테두리 부분에 1개의 비젼 카메라를 배치하고, 웨이퍼의 테두리를 1개의 비젼 카메라로 촬영하면서 웨이퍼의 플랫존을 인식, 플랫존을 지정된 위치에 정렬 및 웨이퍼의 회전 중심을 정렬 유닛의 회전 중심에 정렬할 수 있는 효과를 갖는다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 웨이퍼 위치 정렬 방법을 도시한 순서도이다.
도 2는 도 1의 웨이퍼 플랫존 인식 및 정렬 각도 산출 과정을 도시한 순서도이다.
도 3 내지 도 5는 웨이퍼의 플랫존을 인식하는 과정을 도시한 평면도이다.
도 6 내지 도 9는 본 발명의 일실시예에 따라 웨이퍼의 회전 중심을 정렬 유닛의 회전 중심에 정렬시키는 과정을 도시한 평면도이다.
이하 설명되는 본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고, 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에서 상세하게 설명하고자 한다.
그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
본 특허에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 특허에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
또한 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 구분하여 설명하기 위해 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
또한 본 특허에서 적어도 2개의 상이한 실시예들이 각각 기재되어 있을 경우, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 별다른 기재가 없더라도 각 실시예들은 구성요소의 전부 또는 일부를 상호 병합 및 혼용하여 사용할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 웨이퍼 위치 정렬 방법을 도시한 순서도이다.
도 1을 참조하면, 먼저 다수매의 웨이퍼가 적층 수납된 카세트로부터 웨이퍼를 트랜스퍼 암이 언로딩하여 웨이퍼를 정렬하는 정렬 유닛 중 웨이퍼를 회전시키는 회전축에 배치하는 단계가 수행된다. (단계 S10)
정렬 유닛은 웨이퍼를 흡착한 상태에서 회전시키는 회전축을 포함한다. 정렬 유닛은 웨이퍼를 회전시키면서 플랫존을 검출, 플랫존 정렬 및 웨이퍼의 회전중심을 정렬 유닛의 회전축에 정렬하는 역할을 한다.
트랜스퍼 암에 의하여 웨이퍼가 정렬 유닛이 회전축에 배치 및 고정된 상태에서, 웨이퍼의 테두리를 촬영할 수 있는 비젼 유닛이 웨이퍼의 테두리를 촬영하여 웨이퍼의 곡면 테두리가 아닌 직선 테두리인 플랫존(flat zone)을 인식 및 정렬 각도를 산출하는 단계가 수행된다. (단계 S20)
도 2는 도 1의 웨이퍼 플랫존 인식 및 정렬 각도 산출 과정을 도시한 순서도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 플랫존 인식 및 정렬 각도 산출 과정은 웨이퍼를 촬영하는 카메라인 비젼 유닛을 통해 웨이퍼의 테두리를 2군데서 촬영하여 웨이퍼의 인접한 2개의 웨이퍼 테두리 영상을 생성한다. (단계 S22)
도 3 내지 도 5는 웨이퍼의 플랫존을 인식하는 과정을 도시한 평면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 비젼 유닛(4)을 통해 웨이퍼(1)의 테두리를 인접하게 2곳을 촬영하여 생성된 2개의 이미지(2,3)들에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리가 모두 직선 테두리(플랫존)인지가 판단된다. (단계 S24)
2개의 영상 중 어느 하나의 영상(2)에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리에 대하여 접선(2a)을 형성한 후 수평에 대하여 접선(2a)이 이루는 각도(θ1) 및 2개의 영상 중 나머지 하나의 영상(3)에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리에 대하여 접선(3a)을 형성한 후 수평에 대하여 접선(3a)이 이루는 각도(θ2)를 비교한다.
비교 결과, 각도(θ1) 및 각도(θ2)의 각도가 동일하고, 기울기의 방향이 서로 다를 경우, 2개의 이미지(2,3)들에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리는 모두 곡선 테두리인 것으로 판단된다.
비젼 유닛(4)에 의하여 촬영된 2개의 영상(2.3)에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리가 모두 직선 테두리가 아닐 경우, 웨이퍼(1)를 지정된 각도 만큼 회전시키고(단계 S25), 2개의 웨이퍼의 테두리 영상을 생성하는 단계 S22를 다시 수행한다.
도 2 및 도 4를 참조하면, 비젼 유닛(4)을 통해 웨이퍼(1)의 테두리를 인접하게 2곳을 촬영하여 생성된 2개의 이미지(5,6)들에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리가 모두 직선 테두리인지가 판단된다.
2개의 영상 중 어느 하나의 영상(5)에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리에 대하여 접선(5a)을 형성한 후, 수평에 대하여 접선(5a)이 이루는 각도(θ3) 및 2개의 영상 중 나머지 하나의 영상(6)에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리에 대하여 접선(6a)을 형성한 후 수평에 대하여 접선(6a)이 이루는 각도(θ4)를 비교한다.
비교 결과, 각도(θ3) 및 각도(θ4)들의 각도가 서로 다를 경우, 2개의 이미지 (5,6)들에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리 중 어느 하나는 곡선 테두리이고, 어느 하나는 직선 테두리인것으로 판단된다.
비젼 유닛(4)에 의하여 촬영된 2개의 영상(5,6)에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리가 모두 직선 테두리가 아닐 경우, 웨이퍼(1)를 지정된 각도 만큼 회전시키고(단계 S25), 2개의 웨이퍼의 테두리 영상을 생성하는 단계 S22를 다시 수행한다.
도 2 및 도 5를 참조하면, 비젼 유닛(4)을 통해 웨이퍼(1)의 테두리를 인접하게 2곳을 촬영하여 생성된 2개의 이미지(7,8)들에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리가 모두 직선 테두리인지가 판단된다.
2개의 영상 중 어느 하나의 영상(7)에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리에 대하여 접선(7a)을 형성한 후, 수평에 대하여 접선(7a)이 이루는 각도(θ5) 및 2개의 영상 중 나머지 하나의 영상(8)에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리에 대하여 접선(8a)을 형성한 후 수평에 대하여 접선(8a)이 이루는 각도(θ6)를 비교한다.
비교 결과, 각도(θ5) 및 각도(θ6)들의 각도가 동일할 경우, 2개의 이미지 (7,8)들에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리는 모두 직선 테두리(플랫존)인 것으로 판단된다.
비젼 유닛(4)에 의하여 촬영된 영상(7,8)에 포함된 웨이퍼(1)의 테두리들이 모두 직선 테두리일 경우, 도 2에 도시된 직선 테두리의 정렬 각도를 산출하는 단계가 수행된다. (단계 S24)
본 발명의 일실시예에서, 직선 테두리(플랫존)의 정렬 각도(보정 각도)는, 예를 들어, 수평에 대하여 기울어진 각도인 각도(θ5)일 수 있다.
도 1을 다시 참조하면, 단계 S24에서 직선 테두리(플랫존)의 정렬 각도가 산출되면, 정렬 유닛의 회전축을 정렬 각도 만큼 회전시켜 웨이퍼의 직선 테두리인 플랫존을 기준 위치에 정렬하는 단계가 수행된다. (단계 S30)
웨이퍼의 직선 테두리인 플랫존이 기준 위치에 정렬되면, 이어서 웨이퍼의 회전 중심을 정렬 유닛의 회전축의 회전 중심에 정렬하는 과정이 단계 S40부터 시작된다.
도 6 내지 도 9는 본 발명의 일실시예에 따라 웨이퍼의 회전 중심을 정렬 유닛의 회전 중심에 정렬시키는 과정을 도시한 평면도이다.
도 1 및 도 6을 참조하면, 웨이퍼(1)의 직선 테두리인 플랫존(FZ)이 단계 S30에서 기준 위치에 정렬되면, 웨이퍼(1)의 회전 중심(WO)을 정렬 유닛의 회전축의 회전 중심(AO)에 정렬하기 위해서 정렬 유닛의 회전축의 회전 중심(AO)으로부터 웨이퍼(1)의 반지름 만큼 이격된 위치에는 기준선(RL)이 형성된다. 이때, 기준선(RL)은 플랫존(FZ)과 나란하게 배치된다.
예를 들어, 웨이퍼(1)의 회전 중심(WO)가 정렬 유닛의 회전축의 회전 중심(AO)에 정확하게 정렬된 경우 회전축이 90°, 180°및 270°회전되더라도 웨이퍼(1)의 곡면 테두리는 기준선(RL)으로부터 벗어나지 않게 된다.
반면, 웨이퍼(1)의 회전 중심(WO)이 정렬 유닛의 회전축의 회전 중심(AO)으로부터 제1 방향으로 A1만큼 이격되고, 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 A2 만큼 이격될 경우, 회전축이 90°, 180°및 270°회전될 경우 웨이퍼(1)의 곡면 테두리는 기준선(RL)으로부터 벗어나게 된다.
본 발명의 일실시예에서는 이와 같이 회전축이 90°, 180°및 270°회전됨에 따라 웨이퍼(1)의 곡면 테두리가 기준선(RL)으로부터 벗어나는 정도를 통해 웨이퍼의 위치 보정 데이터(좌표)를 산출하여 웨이퍼의 회전 중심(WO)이 회전축의 회전 중심(AO)과 일치되도록 한다.
도 6을 참조하면, 단계 S30에 의하여 웨이퍼(1)의 플랫존(FZ)은 기준 위치에 정렬되고, 플랫존(FZ)은 기준선(RL)과 나란하게 배치된다. 플랫존(FZ)은 기준선(RL)과 나란하게 배치되지만 웨이퍼의 회전 중심(WO)의 정렬 상태에 따라서 플랫존(FZ)과 기준선(RL) 사이의 간격은 웨이퍼(1)마다 다를 수 있다.
도 7을 참조하면, 정렬 유닛의 회전축은 기준선(RL)에 대하여 정확하게 90°만큼 회전되고, 플랫존(FZ)이 기준선(RL)에 대하여 수직하게 배치되면, 웨이퍼(1)의 곡면 테두리 중 기준선(RL)과 가장 근접한 웨이퍼(1)의 제1 부분(E1) 및 기준선(RL)이 이루는 제1 간격(G1)이 산출된다.
도 8을 참조하면, 정렬 유닛의 회전축은 다시 90°만큼 추가적으로 회전(총 180°회전)되고, 이로 인해 플랫존(FZ)은 기준선(RL)에 대하여 다시 평행하게 배치되는데, 회전된 웨이퍼(1)의 곡면 테두리 중 기준선(RL)과 가장 근접한 웨이퍼(1)의 제2 부분(E2) 및 기준선(RL)이 이루는 제2 간격(G2)가 산출된다.
도 9를 참조하면, 정렬 유닛의 회전축은 다시 90°만큼 추가적으로 회전(총 270°회전)되고, 이로 인해 플랫존(FZ)은 기준선(RL)에 대하여 다시 수직하게 배치되는데, 회전된 웨이퍼(1)의 곡면 테두리 중 기준선(RL)과 가장 근접한 웨이퍼(1)의 제3 부분(E2) 및 기준선(RL)이 이루는 제3 간격(G3)가 산출된다.
본 발명의 일실시예에서, 제1 내지 제3 간격을 산출하여 정렬 오차 산출 단계가 완료된다. (단계 S50)
정렬 오차 산출 단계에서 제1 내지 제3 간격이 각각 산출되면, 제1 내지 제3 간격을 이용하여 웨이퍼의 위치 보정 데이터가 산출된다.
구체적으로 웨이퍼(1)를 기준선에 대하여 90°회전하였을 때 산출된 제1 간격(G1) 및 웨이퍼(1)를 기준선에 대하여 270°회전하였을 때 산출된 제3 간격(G3)을 평균하여 제1 보정 데이터가 산출된다.
제1 보정 데이터는 도 1에서 웨이퍼(1)의 회전 중심(WO)이 정렬 유닛의 회전축의 회전 중심(AO)으로부터 제1 방향으로 이격된 간격인 A1와 동일하다.
웨이퍼(1)를 기준으로 기준선에 대하여 180°회전하였을 때 산출된 제2 간격에 의하여 제2 보정 데이터가 산출된다.
제2 보정 데이터는 도 1에서 웨이퍼(1)의 회전 중심(WO)이 정렬 유닛의 회전축의 회전 중심(AO)으로부터 제2 방향으로 이격된 간격 A2와 동일하다.
즉, 제1 보정 데이터인 간격 A1 및 제2 보정 데이터인 간격 A2에 의하여 정렬 유닛의 회전축의 회전 중심(AO)로부터 웨이퍼(1)의 회전 중심(WO)이 이격된 웨이퍼의 위치를 보정하기 위한 웨이퍼 위치 보정 데이터가 생성된다.
웨이퍼 위치 보정 데이터가 생성되면, 트랜스퍼 암을 이용하여 정렬 유닛의 회전축으로부터 웨이퍼(1)를 이격 또는 분리한다.(단계 S70)
회전축으로부터 웨이퍼(1)가 이격 또는 분리되면, 앞서 산출된 제1 및 제2 보정 데이터를 이용하여 웨이퍼(1)의 회전 중심(WO)이 회전축의 회전 중심(WO)과 일치되도록 웨이퍼(1)의 위치를 정렬한다.
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 웨이퍼의 테두리 부분에 1개의 비젼 카메라를 배치하고, 웨이퍼의 테두리를 1개의 비젼 카메라로 촬영하면서 웨이퍼의 플랫존을 인식, 플랫존을 지정된 위치에 정렬 및 웨이퍼의 회전 중심을 정렬 유닛의 회전 중심에 정렬할 수 있는 효과를 갖는다.
한편, 본 도면에 개시된 실시예는 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시예 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 자명한 것이다.

Claims (4)

  1. 카세트로부터 웨이퍼를 언로딩하여 정렬 유닛의 회전되는 회전축에 배치하는 단계;
    상기 회전축을 회전시켜 상기 웨이퍼를 회전시키면서 상기 웨이퍼의 테두리를 촬영하여 상기 웨이퍼 중 곡면 테두리가 아닌 직선 테두리인 플랫존을 인식하는 단계;
    상기 플랫존이 기준 위치에 배치되게 상기 웨이퍼를 정렬시키는 단계;
    상기 회전축의 중심으로부터 상기 웨이퍼의 반지름 만큼 이격된 위치에 상기 플랫존과 평행한 가상의 기준선을 형성하는 단계;
    상기 회전축을 상기 기준선에 대하여 90°회전시킨 후 상기 기준선 및 상기 기준선에 근접한 상기 웨이퍼의 곡면 테두리를 촬영하여 상기 기준선 및 곡면 테두리 사이의 제1 간격을 산출, 상기 회전축을 추가적으로 90°회전시킨 후 상기 기준선 및 상기 기준선에 근접한 상기 웨이퍼의 곡면 테두리를 촬영하여 상기 기준선 및 곡면 테두리 사이의 제2 간격을 산출 및 상기 회전축을 추가적으로 90°회전시킨 후 상기 기준선 및 상기 기준선에 근접한 상기 웨이퍼의 곡면 테두리를 촬영하여 상기 기준선 및 곡면 테두리 사이의 제3 간격을 산출하는 정렬 오차 산출 단계; 및
    상기 제1 간격 및 상기 제3 간격을 평균한 제1 보정 데이터 및 상기 제2 간격인 제2 보정 데이터를 이용하여 상기 회전축의 회전 중심으로부터 벗어난 웨이퍼의 회전 중심의 위치 보정 데이터를 산출하는 단계를 포함하며,
    상기 플랫존을 인식하는 단계는
    상기 웨이퍼의 테두리를 인접한 2개의 영역에서 촬영하여 2개의 영상을 생성하는 단계;
    2개의 상기 영상에 포함된 상기 웨이퍼의 테두리가 상기 직선 테두리인지 상기 곡면 테두리인지 판단하는 단계;
    판단 결과 2개의 상기 영상에 포함된 상기 웨이퍼의 테두리가 각각 상기 직선 테두리일 경우 상기 기준 위치 및 상기 직선 테두리가 이루는 각도를 산출하는 단계;
    상기 각도를 이용하여 상기 직선 테두리를 상기 기준 위치와 평행하게 상기 웨이퍼를 회전시켜 상기 직선 테두리의 각도를 보정하는 단계; 및
    상기 웨이퍼의 테두리가 상기 직선 테두리인지 상기 곡면 테두리인지 판단하는 단계에서 2개의 상기 영상에 상기 직선 테두리가 포함되지 않을 경우 상기 웨이퍼를 지정된 각도로 회전시키고 2개의 상기 영상을 생성하는 단계를 다시 수행하는 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 위치 정렬 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 플랫존을 인식하는 단계는 상기 웨이퍼의 상부에 배치되어 상기 웨이퍼를 촬영하는 비젼 카메라에 의하여 수행되는 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 위치 정렬 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼의 위치 보정 데이터를 산출하는 단계 이후,
    상기 회전축으로부터 상기 웨이퍼를 이격시키는 단계; 및
    상기 제1 및 제2 보정 데이터를 이용하여 상기 웨이퍼의 회전 중심 및 상기 회전축의 회전 중심을 정렬하는 단계를 더 포함하는 웨이퍼의 플랫존 정렬 및 위치 정렬 방법.
  4. 삭제
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