TWI794734B - 決定基板之轉向的方法與曝光機台 - Google Patents

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Abstract

一種決定基板之轉向的方法，包含以下步驟。首先，將基板放置並定位於承載面上，使得基板的第二表面面向承載面，基板的第一表面背向承載面，且基板的第二表面上的第二標記對應於固定的第二影像擷取裝置。接著，藉由承載面上方的第一影像擷取裝置尋找基板的第一表面上的第一標記並擷取第一標記的一第一影像，以及藉由第二影像擷取裝置擷取第二標記的一第二影像。接著，翻轉基板並將基板放置於承載面上，使得基板的第一表面面向承載面，且第一標記對應於第二影像擷取裝置。接著，基於所擷取的第一影像，第二影像擷取裝置確認第一標記，以及基於所擷取的第二影像，第一影像擷取裝置尋找並確認第二標記。接著，基於第二影像擷取裝置所確認的第一標記與第一影像擷取裝置所確認的第二標記，決定翻轉後的基板的第二表面在承載面的一投影的轉向。

Description

決定基板之轉向的方法與曝光機台
本發明是有關於一種決定基板之轉向的方法，且特別是有關於一種應用此決定基板之轉向的方法的曝光機台。
傳統上的曝光機台可對於一基板的彼此相對的一第一表面與一第二表面進行曝光製程。當曝光機台對於基板的第一表面進行曝光時，基板的第二表面面向承載台的承載面。此時，固定於承載台之一背面(其相對於承載面)的兩影像擷取裝置分別透過承載台背面的兩窗口對於基板之第二表面上的兩標記(其鄰近於基板之第二表面的一邊緣)擷取影像。
當基板之第一表面完成曝光製程並且翻轉基板後，基板之第二表面朝上(亦即，基板之第二表面背向承載面)且位於承載台上方的另一影像擷取裝置相對於承載台作移動，此另一影像擷取裝置基於位於承載台之背面的兩影像擷取裝置先前所擷取的影像來尋找並確認基板之第二表面上的兩標記。基於此另一影像擷取裝置所確認的基板之第二表面上的兩標記，翻轉後的基板的第二表面可被定位與定向。因此，被定位與定向的基板的第二表面才可以進行後續的曝光製程，如此曝光完成後的基板的第一表面與第二表面上的圖案才可精準對位。
然而，習知的曝光機台中，固定於承載台之背面的兩影像擷取裝置之間的一距離為定值，所以習知的曝光機台所能定位與定向的基板會有尺寸上的限制。換言之，基板的第二表面上的兩標記的距離必須等於此定值，所以基板之第二表面上的被兩標記所鄰近的上述邊緣不得小於此定值。
本發明的一目的是提供一種決定基板之轉向的方法與應用此決定基板之轉向的方法的曝光機台，其中可被加工的基板的尺寸的範圍可較大。
本發明提供一種決定一基板之一轉向的方法，基板包含彼此相對的一第一表面與一第二表面以及一第一標記與一第二標記，其中第一標記位於第一表面上，且第二標記位於第二表面上，並且第一標記與第二標記彼此並非相對。上述包含以下步驟。首先，提供一承載台、一第一影像擷取裝置與一第二影像擷取裝置，其中承載台具有彼此相對的一承載面與一背面，第一影像擷取裝置配置於承載面上方且適於相對於承載台作移動，並且第二影像擷取裝置固定於背面上。
接著，將基板放置並定位於承載面上，使得基板的第二表面面向承載面，基板的第一表面背向承載面，且第二標記對應於第二影像擷取裝置。接著，藉由第一影像擷取裝置尋找第一標記並擷取第一標記的一第一影像，以及藉由第二影像擷取裝置擷取第二標記的一第二影像。接著，翻轉基板並將基板放置於承載面上，使得基板的第一表面面向承載面，基板的第二表面背向承載面，且第一標記對應於第二影像擷取裝置。
接著，基於所擷取的第一影像，第二影像擷取裝置確認第一標記，以及基於所擷取的第二影像，第一影像擷取裝置尋找並確認第二標記。接著，基於第二影像擷取裝置所確認的第一標記與第一影像擷取裝置所確認的第二標記，決定翻轉後的基板的第二表面在承載面的一投影的轉向(rotation)。
在本發明一實施例中，上述基板定位的方法更包含藉由一加工裝置對於基板的第一表面進行加工。
在本發明一實施例中，上述基板定位的方法更包含基於翻轉的基板的第二表面在承載面的投影的轉向，藉由加工裝置對於基板的第二表面進行加工。
在本發明一實施例中，上述加工裝置為一曝光裝置。
本發明提供一種曝光機台，適於對於一基板之彼此相對的一第一表面與一第二表面進行曝光，其中基板包含一第一標記與一第二標記，第一標記位於第一表面上，且第二標記位於第二表面上，並且第一標記與第二標記彼此並非相對。上述曝光機台包含一承載台、一第一影像擷取裝置與一第二影像擷取裝置。承載台具有彼此相對的一承載面與一背面。第一影像擷取裝置配置於承載面上方且適於相對於承載台作移動。第二影像擷取裝置固定於背面上。基板適於放置並定位於承載面上，使得基板的第二表面面向承載面，基板的第一表面背向承載面，且第二標記對應於第二影像擷取裝置。
上述曝光機台適於執行以下步驟。首先，藉由第一影像擷取裝置尋找第一標記並擷取第一標記的一第一影像，以及藉由第二影像擷取裝置擷取第二標記的一第二影像。接著，對於基板的第一表面進行曝光。接著，翻轉基板並將基板放置於承載面上，使得基板的第一表面面向承載面，基板的第二表面背向承載面，且第一標記對應於第二影像擷取裝置。
接著，基於所擷取的第一影像，第二影像擷取裝置確認第一標記，以及基於所擷取的第二影像，第一影像擷取裝置尋找並確認第二標記。接著，基於第二影像擷取裝置所確認的第一標記與第一影像擷取裝置所確認的第二標記，決定翻轉後的基板的第二表面在承載面的一投影的一轉向。最後，基於翻轉後的基板的第二表面在承載面的投影的轉向，對於基板的第二表面進行曝光。
200:曝光機台
210:承載台
212:承載面
214:背面
216、218:承靠條
220:第一影像擷取裝置
230:第二影像擷取裝置
300:基板
310:第一表面
312:第一標記
320:第二表面
322:第二標記
330、340、350:邊緣
S21至S29:步驟
圖1繪示本發明一實施例之一種曝光機台的立體示意圖。
圖2繪示圖1之基板的另一立體示意圖。
圖3繪示之本發明實施例之曝光機台的另一立體示意圖，其中基板已經翻轉。
圖4繪示本發明另一實施例之決定基板之轉向的方法的流程圖。
圖1繪示本發明一實施例之一種曝光機台的立體示意圖。圖2繪示圖1之基板的另一立體示意圖。請參考圖1與圖2，本發明實施例的曝光機台200可對於一基板300的彼此相對的一第一表面310與一第二表面320進行曝光製程。基板300包含一第一標記312與一第二標記322。第一標記312位於第一表面310上，且第二標記322位於第二表面320上。第一標記312與第二標記322彼此並非相對，亦即，第一標記312在第二表面320的一投影不會與第二標記322完全重疊，最佳是不會有所重疊。
曝光機台200包含一承載台210、一第一影像擷取裝置220與一第二影像擷取裝置230。承載台210具有彼此相對的一承載面212與一背面214。第一影像擷取裝置220配置於承載面212上方且適於相對於承載台210作移動，亦即承載台210可靜止且第一影像擷取裝置220可移動，或者承載台210可移動且第一影像擷取裝置220可靜止，或者承載台210與第一影像擷取裝置220皆可移動。第二影像擷取裝置230固定於承載台210的背面214上。
此外，基板300可放置並定位於承載台210的承載面212上，使得基板300的第二表面320面向承載面212，基板300的第一表面310背向承載面212(亦即，基板300之第一表面310朝上)，且第二標記322對應於第二影像擷取裝置230。本實施例中，在所有曝光製程進行前，基板300的定位方式是藉由將基 板300的相鄰兩邊緣330與340分別承靠於位於承載台210之承載面212上的兩承靠條216與218而完成。
此時，承載面212上方的第一影像擷取裝置220尋找基板300之第一表面310上的第一標記312並擷取第一標記312的一第一影像，且固定於承載台210之背面214的第二影像擷取裝置230透過承載台210之背面214的一窗口(未繪示)對於基板300之第二表面320上的第二標記322擷取一第二影像。接著，曝光機台對於基板300的第一表面310進行曝光。在此必須說明的是，若上述第一影像擷取裝置220與第二影像擷取裝置230分別擷取第一影像與第二影像的過程不會與基板300的第一表面310的曝光製程相互干擾，則第一影像擷取裝置220與第二影像擷取裝置230分別擷取第一影像與第二影像的過程與與基板300的第一表面310的曝光製程可同時進行。
圖3繪示之本發明實施例之曝光機台的另一立體示意圖。請參考圖1、圖2與圖3，當基板300之第一表面310完成曝光製程後，翻轉基板300並將基板300放置於承載台210之承載面212上，使得基板300的第一表面310面向承載面212，基板300的第二表面320背向承載面212(亦即，基板300之第二表面320朝上)，且第一標記312對應於第二影像擷取裝置230。此時，基板300的相鄰兩邊緣330與350可分別承靠於位於承載台210之承載面212上的兩承靠條216與218。然而，由於基板300的邊緣330、340與350可能無法完全平直或者相交的角度無法完全垂直，所以翻轉後的基板300的第二表面320在承載面212上的一投影有可能微幅轉向。
因此，接著，基於所擷取的上述第一影像，第二影像擷取裝置230確認基板300的第一表面310上第一標記312(可參見圖1)，以及基於所擷取的上述第二影像，第一影像擷取裝置220尋找並確認基板300的第二表面320上的第二標記322。接著，基於第二影像擷取裝置230所確認的第一標記312與第一影像擷取裝置220所確認的第二標記322，決定翻轉後的基板300的第二表面320在承載面212的投影的轉向。本實施例中，翻轉後的基板300的第二表面320在承載面212 的投影的轉向可以翻轉後的第二標記322在承載面212的投影的座標位置相對於翻轉後的第一標記312在承載面212的投影的座標位置所計算出的一向量作代表。
最後，基於翻轉後的基板300的第二表面320在承載面212的投影的轉向，對於基板300的第二表面320進行曝光。如此，曝光完成後的基板300的第一表面310與第二表面320上的圖案才可精準對位。
圖4繪示本發明另一實施例之決定基板之轉向的方法的流程圖。此決定基板之轉向的方法包含以下步驟。首先，執行步驟S21，提供一基板。基板包含彼此相對的一第一表面與一第二表面以及一第一標記與一第二標記，其中第一標記位於第一表面上，且第二標記位於第二表面上，並且第一標記與第二標記彼此並非相對。接著，執行步驟S22，提供一承載台、一第一影像擷取裝置與一第二影像擷取裝置。承載台具有彼此相對的一承載面與一背面，第一影像擷取裝置配置於承載面上方且適於相對於承載台作移動，並且第二影像擷取裝置固定於背面上。
接著，執行步驟S23，將基板放置並定位於承載面上，使得基板的第二表面面向承載面，基板的第一表面背向承載面，且第二標記對應於第二影像擷取裝置。接著，執行步驟S24，藉由第一影像擷取裝置尋找第一標記並擷取第一標記的一第一影像，以及藉由第二影像擷取裝置擷取第二標記的一第二影像。接著，選擇性的執行步驟S25，藉由一加工裝置(例如曝光裝置)對於基板的第一表面進行加工(例如曝光製程)。在此必須說明的是，若上述步驟S24不會與步驟S25相互干擾，則步驟S24與步驟S25可同時進行，或者步驟S25可先於步驟S24。
接著，執行步驟S26，翻轉基板並將基板放置於承載面上，使得基板的第一表面面向承載面，基板的第二表面背向承載面，且第一標記對應於第二影像擷取裝置。接著，執行步驟S27，基於所擷取的第一影像，第二影像擷取裝置確認第一標記，以及基於所擷取的第二影像，第一影像擷取裝置尋找並確 認第二標記。接著，執行步驟S28，基於第二影像擷取裝置所確認的第一標記與第一影像擷取裝置所確認的第二標記，決定翻轉後的基板的第二表面在承載面的一投影的一轉向。最後，選擇性的執行步驟S29，基於翻轉的基板的第二表面在承載面的投影的轉向，藉由加工裝置(例如曝光裝置)對於基板的第二表面進行加工(例如曝光製程)。
基於上述，本發明實施例的決定基板之轉向的方法與曝光機台至少具有以下的優點的其中之一。由於本發明實施例的基板之兩相對的表面上各有一標記，且固定在承載台之背面的影像擷取裝置僅需一個，所以與習知技術相較，本發明實施例的決定基板之轉向的方法與曝光機台中，承載台可承載的基板的尺寸的範圍可較大，亦即承載台可承載的基板的尺寸較不受限。
S21至S29:步驟

Claims (5)

  1. 一種決定一基板之一轉向的方法，其中該基板包含彼此相對的一第一表面與一第二表面以及一第一標記與一第二標記，該第一標記位於該第一表面上，且該第二標記位於該第二表面上，並且該第一標記與該第二標記彼此並非相對，上述方法包含： 提供一承載台、一第一影像擷取裝置與一第二影像擷取裝置，其中該承載台具有彼此相對的一承載面與一背面，該第一影像擷取裝置配置於該承載面上方且適於相對於該承載台作移動，並且該第二影像擷取裝置固定於該背面上； 將該基板放置並定位於該承載面上，使得該基板的該第二表面面向該承載面，該基板的該第一表面背向該承載面，且該第二標記對應於該第二影像擷取裝置； 藉由該第一影像擷取裝置尋找該第一標記並擷取該第一標記的一第一影像； 藉由該第二影像擷取裝置擷取該第二標記的一第二影像； 翻轉該基板並將該基板放置於該承載面上，使得該基板的該第一表面面向該承載面，該基板的該第二表面背向該承載面，且該第一標記對應於該第二影像擷取裝置； 基於所擷取的該第一影像，該第二影像擷取裝置確認該第一標記； 基於所擷取的該第二影像，該第一影像擷取裝置尋找並確認該第二標記； 基於該第二影像擷取裝置所確認的該第一標記與該第一影像擷取裝置所確認的該第二標記，決定翻轉後的該基板的該第二表面在該承載面的一投影的該轉向。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，更包含藉由一加工裝置對於該基板的該第一表面進行加工。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之方法，更包含基於翻轉後的該基板的該第二表面在該承載面的該投影的該轉向，藉由該加工裝置對於該基板的該第二表面進行加工。
  4. 如申請專利範圍第2或3項所述之方法，該加工裝置為一曝光裝置。
  5. 一種曝光機台，適於對於一基板之彼此相對的一第一表面與一第二表面進行曝光，其中該基板包含一第一標記與一第二標記，該第一標記位於該第一表面上，且該第二標記位於該第二表面上，並且該第一標記與該第二標記彼此並非相對，該曝光機台包含： 一承載台，具有彼此相對的一承載面與一背面； 一第一影像擷取裝置，配置於該承載面上方且適於相對於該承載台作移動；以及 一第二影像擷取裝置，固定於該背面上； 其中該基板適於放置並定位於該承載面上，使得該基板的該第二表面面向該承載面，該基板的該第一表面背向該承載面，且該第二標記對應於該第二影像擷取裝置； 其中，該曝光機台適於執行以下步驟： 藉由該第一影像擷取裝置尋找該第一標記並擷取該第一標記的一第一影像； 藉由該第二影像擷取裝置擷取該第二標記的一第二影像； 對於該基板的該第一表面進行曝光； 翻轉該基板並將該基板放置於該承載面上，使得該基板的該第一表面面向該承載面，該基板的該第二表面背向該承載面，且該第一標記對應於該第二影像擷取裝置； 基於所擷取的該第一影像，該第二影像擷取裝置確認該第一標記； 基於所擷取的該第二影像，該第一影像擷取裝置尋找並確認該第二標記； 基於該第二影像擷取裝置所確認的該第一標記與該第一影像擷取裝置所確認的該第二標記，決定翻轉後的該基板的該第二表面在該承載面的一投影的一轉向；以及 基於翻轉後的該基板的該第二表面在該承載面的該投影的該轉向，對於該基板的該第二表面進行曝光。
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