KR102575238B1 - 액세스 코너를 갖는 유방 압박 패들 - Google Patents

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Abstract

촬상 시스템 유방 압박 패들의 전방벽은 촬상 동안 환자의 흉벽에 인접하고 흉벽과 대면한다. 전방벽은 흉벽에 인접한 기준 표면을 갖는다. 만곡된 하부 계면에 연결된 하단벽은 흉벽으로부터 멀어지게 연장되어 압박된 유방의 상단에 인접해 있다. 전방 기준 표면으로부터 멀어지게 연장되는 2개의 외부 에지는 하단벽의 약간 상승된 중심 부분을 부분적으로 획정한다. 하단 기준 평면, 전방 기준 표면 및 하단 기준 평면에 실질적으로 직교하는 수직 기준 평면, 및 2개의 외부 에지 부분 중 적어도 하나에 근접하여 배치된 액세스 표면은 하단벽에 의해 각각 획정된다. 액세스 표면은 전방 기준 표면, 하단 기준 평면, 및 수직 기준 평면에 대해 직교하지 않는다.

Description

액세스 코너를 갖는 유방 압박 패들
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2018년 8월 10일자로 PCT 국제 특허 출원으로서 출원되었으며, 2017년 8월 11일자로 출원되었고 발명의 명칭이 "Breast Compression Paddle with Access Corners"인 미국 가특허 출원 제62/544,615호에 대한 우선권 및 그 이익을 주장하며, 상기 출원의 개시내용은 그 전체가 본 명세서에 참조로 포함된다.
x-선 유방 조영술 및 유방 단층 촬영술에서 중요한 관심사는, 유방이, x-선 촬상을 위해 유방을 고정시키고 유방 조직을 확산시키기에 충분한 힘으로, 통상적으로 2개의 강성 플라스틱 표면 사이에서 압박될 때 환자가 느낄 수 있는 불편함이다. 하나의 도전 과제는 촬상된 필드가 원하는 양의 유방 조직을 포함하는 것을 보장하는 것이다. 압박을 사용하는 이유는 다음을 포함한다: (1) x-선 플럭스 방향으로 유방을 더 얇게 하여 압박되지 않은 더 두꺼운 유방 부분을 촬상하는 데에 요구되는 레벨로부터 환자 방사선 노출을 감소시키는 것; (2) x-선 플럭스 방향으로 유방의 두께를 더 균일하게 하여 전체 유방 이미지에 걸쳐 이미지 평면에서 보다 균일한 노출을 촉진하는 것; (3) x-선 노출 동안 유방을 고정시켜 이미지 번짐을 감소시키는 것; 및 (4) 유방 조직을 흉벽으로부터 촬상 노출 필드로 가져와서 더 많은 조직을 촬상하는 것. 유방이 압박될 때, 통상적으로 기술자는 유방을 조작하고 적절하게 위치 설정하여 압박이 유방 조직을 흉벽을 향해 그리고 이미지 필드 밖으로 푸시하는 경향에 대응한다.
유방 조영술 및 단층 촬영술을 위한 표준 압박 방법은 패들의 표면이 서로 직교하는 이동 가능한 강성의 투명 플라스틱 압박 패들을 사용한다. 유방은 통상적으로 평탄한 유방 플랫폼 상에 위치되고 이어서 패들이 유방 위로 압박되며, 일반적으로 기술자 또는 다른 의료 종사자가 유방을 제자리에 유지하고 아마도 유방을 조작하여 수상기(image receptor)의 시야에서 적절한 조직 적용범위를 보장하고 유방의 확산을 돕는다. 그러나, 패들의 크기 및 형상은 흔히 기술자가 유방을 적절하게 유지하고 조작하지 못하게 한다. 즉, 압박 패들이 하강됨에 따라 기술자의 손이 압박 패들과 유방 사이에 낄 수 있어, 환자와 기술자 모두에게 스트레스를 줄 수 있다. 대안적으로, 기술자는 끼는 것을 피하기 위한 노력으로 유방을 너무 빨리 릴리스시켜 바람직하지 않은 압박을 초래할 수 있다. 양쪽 상황 모두 잠재적으로 시술 기간을 증가시키고 환자 위치 설정에 악영향을 미치며, 이미지 품질에 영향을 줄 수 있다.
하나의 양태에서, 본 기술은 촬상 시스템을 위한 유방 압박 패들에 관한 것으로, 유방 압박 패들은, 촬상 동안 환자의 흉벽에 인접하고 대면하도록 구성된 전방벽으로서, 전방벽은 흉벽에 인접한 전방 기준 표면을 갖는 것인 전방벽; 만곡된 하부 계면에 연결되고 흉벽으로부터 멀어지게 연장되며 압박된 유방의 상단의 길이에 인접하도록 구성되는 하단벽으로서, 하단벽은 중심 부분 및 중심 부분을 적어도 부분적으로 획정하는 2개의 외부 에지 부분을 갖고, 중심 부분은 2개의 외부 에지 부분에 비해 상승되어 있으며, 2개의 외부 에지 부분은 전방 기준 표면으로부터 멀어지게 연장되고, 하단벽은 하단 기준 평면을 획정하는 것인 하단벽; 전방 기준 표면 및 하단 기준 평면 각각에 실질적으로 직교하는 수직 기준 평면; 및 2개의 외부 에지 부분 중 적어도 하나에 근접하여 배치된 액세스 표면을 포함하고, 액세스 표면은 전방 기준 표면, 하단 기준 평면, 및 수직 기준 평면 각각에 대해 직교하지 않는다. 일 예에서, 전방벽은 상부 범위를 갖는 만곡된 계면을 가지며, 전방 기준 표면은 상부 범위에 접하게 연장된다. 다른 예에서, 액세스 표면은 2개의 액세스 표면을 갖는다. 하나의 액세스 표면은 2개의 외부 에지 부분 각각에 근접하여 배치된다. 또 다른 예에서, 2개의 외부 에지 부분 각각은 선형 부분 및 만곡된 부분을 갖는 윤곽선을 획정한다. 또 다른 예에서, 각각의 액세스 표면은 만곡된 부분에 근접한 2개의 외부 에지 부분 중 하나와 교차한다.
전술한 양태의 다른 예에서, 하단 기준 평면 위의 중심 부분의 높이는 전방벽으로부터의 거리가 증가함에 따라 감소된다. 일 예에서, 유방 압박 패들은 만곡된 상단 표면을 갖는다.
또 다른 양태에서, 본 기술은 촬상 시스템에 관한 것으로, 촬상 시스템은, 환자의 유방을 지지하도록 구성된 유방 플랫폼으로서, 상단 수평 표면 및 유방이 유방 플랫폼에 의해 지지될 때 환자의 흉벽에 인접하도록 구성된 전방 표면을 획정하는 것인 유방 플랫폼; 유방 플랫폼 및 전방 표면에 직교하여 배치된 수직 기준 평면; 유방 플랫폼 위의 미리 결정된 거리에 그리고 유방 플랫폼에 평행하게 배치된 수평 기준 평면; 수평 기준 평면 위에 배치된 x-선 소스; 및 플랫폼에 대해 유방을 압박하도록 유방 플랫폼과 x-선 소스 사이에 배치된 압박 패들을 포함하고, 압박 패들은, 유방이 유방 플랫폼에 의해 지지될 때 환자의 흉벽에 인접하도록 구성된 전방벽으로서, 수평 기준 평면은 전방벽의 수평 중간점 및 전방벽의 수직 중간점에 배치되는 것인 전방벽; 유방이 유방 플랫폼에 의해 지지될 때 환자의 유방에 인접하도록 구성된 하단벽; 하단벽 및 수평 기준 평면에 의해 획정되는 전방 단면으로서, 전방벽에 근접한 수평 기준 평면에 직교하여 배치된, 전방 단면; 및 하단벽 및 수평 기준 평면에 의해 획정되는 후방 단면으로서, 후방 단면은 전방벽으로부터 미리 결정된 거리에 배치되고, 전방 단면은 후방 단면과 상이한 것인 후방 단면을 갖는다. 일 예에서, 수직 기준 평면과 교차하는 하단벽의 일부는 전방 단면에서 수평 기준 평면 아래의 제1 거리 및 후방 단면에서 수평 기준 위치 아래의 제2 거리에 배치되고, 제1 거리는 제2 거리보다 작다. 다른 예에서, 촬상 시스템은 하단벽을 적어도 부분적으로 획정하는 2개의 외부 에지 부분을 포함하고, 2개의 외부 에지 부분은 제1 단면에서 수직 기준 평면으로부터 제1 거리에 그리고 후방 단면에서 수직 기준 평면으로부터 제2 거리에 배치되고, 제1 거리는 제2 거리보다 크다. 또 다른 예에서, 외부 에지 부분은 실질적으로 선형 부분 및 실질적으로 만곡된 부분을 갖는다. 또 다른 예에서, 제1 단면은 제1 경계에 의해 획정된 외부 윤곽을 포함하고 제2 단면은 제1 경계와 상이한 제2 경계에 의해 획정된 외부 윤곽을 포함한다.
또 다른 양태에서, 본 기술은 촬상 시스템에 관한 것으로, 촬상 시스템은, 환자의 유방을 지지하도록 구성된 유방 플랫폼으로서, 상단 수평 표면 및 유방이 유방 플랫폼에 의해 지지될 때 환자의 흉벽에 인접하도록 구성된 전방 표면을 획정하는 것인 유방 플랫폼; 유방 플랫폼 및 전방 표면에 직교하여 배치된 수직 기준 평면; 유방 플랫폼 위의 미리 결정된 거리에 그리고 유방 플랫폼에 평행하게 배치된 수평 기준 평면; 수평 기준 평면 위에 배치된 x-선 소스; 및 플랫폼에 대해 유방을 압박하도록 유방 플랫폼과 x-선 소스 사이에 배치된 압박 패들을 포함하고, 압박 패들은, 유방이 유방 플랫폼에 의해 지지될 때 환자의 흉벽에 인접하도록 구성된 전방벽으로서, 수평 기준 평면은 전방벽의 수평 중간점 및 전방벽의 수직 중간점에 배치되는 것인 전방벽; 유방이 유방 플랫폼에 의해 지지될 때 환자의 유방에 인접하도록 구성된 하단벽으로서, 하단벽은 접촉 표면을 갖고, 접촉 표면은 2개의 외부 에지 부분에 의해 적어도 부분적으로 획정되는 것인 하단벽; 및 하단벽 및 수평 기준 평면에 의해 획정된 복수의 단면을 포함하고, 복수의 단면은 수평 기준 평면에 직교하여 배치되며, 수직 기준 평면과 2개의 외부 에지 부분 사이의 거리는 전방벽으로부터의 단면 거리가 증가함에 따라 감소된다. 일 예에서, 기준 평면 아래의 접촉 표면의 거리는 전방벽으로부터의 단면 거리가 증가함에 따라 증가된다. 다른 예에서, 복수의 단면은 전방벽으로부터의 단면 거리가 증가함에 따라 형상이 변하는 외부 윤곽을 포함한다. 또 다른 예에서, 복수의 외부 윤곽은 전방벽으로부터의 단면 거리가 증가함에 따라 만곡된 형상으로부터 실질적으로 선형 형상으로 변화한다. 또 다른 예에서, 복수의 외부 윤곽은 벽으로부터의 단면 거리가 증가함에 따라 달라지는 폭을 포함한다. 전술한 양태의 다른 예에서, 폭은 벽으로부터의 단면 거리가 증가함에 따라 감소된다. 일 예에서, 압박 패들은 상단벽을 갖는다. 다른 예에서, 상단벽은 만곡된다. 다른 예에서, 상단벽은 만곡된다.
다른 양태에서, 본 기술은 촬상 시스템을 위한 유방 압박 패들에 관한 것으로, 유방 압박 패들은, 촬상 동안 환자의 흉벽에 인접하고 대면하도록 구성된 전방벽으로서, 전방벽은 전방벽 높이, 만곡된 하부 계면, 및 흉벽에 인접한 전방 기준 평면을 포함하는 것인 전방벽; 만곡된 하부 계면에 연결되고 흉벽으로부터 멀어지게 연장되며 압박된 유방의 상단의 길이에 인접하도록 구성되는 하단벽으로서, 하단벽은 중심 부분 및 중심 부분을 적어도 부분적으로 획정하는 2개의 외부 에지 부분을 포함하고, 2개의 외부 에지 부분은 전방 기준 평면으로부터 멀어지게 연장되며, 2개의 외부 에지 부분은 하단 기준 평면을 획정하는 것인 하단벽; 전방벽으로부터 원위에 있는 브래킷을 포함하고, 브래킷은 패들 상단 표면 및 브래킷 밑면 표면을 포함하며, 패들 상단 표면은 하단 기준 평면 위의 최대 패들 높이에 배치된 상단 기준 평면을 포함하고, 최대 패들 높이는 전방벽 높이보다 크다. 일 예에서, 브래킷은 전방벽에 대향하여 배치되고 패들 상단 표면과 브래킷 밑면 표면을 연결하는 후방 브래킷 벽을 포함하고, 후방 브래킷 벽은 전방벽 높이보다 큰 하단 기준 평면 위의 거리에서 종결된다. 다른 예에서, 브래킷 밑면 표면은 상단 기준 평면을 획정하는 패들 상단 표면 바로 아래에 배치된 패들의 일부를 포함한다. 또 다른 예에서, 유방 압박 패들은 패들 상단 표면 아래에 배치된 복수의 리브를 더 갖는다. 또 다른 예에서, 유방 압박 패들은 브래킷 밑면 표면과 하단벽을 연결하는 천이벽을 더 갖는다.
전술한 양태의 다른 예에서, 하단벽 및 천이벽은 상단 기준 평면을 향해 상향으로 연장되는 주변벽에 의해 실질적으로 둘러싸이고, 하단벽, 천이벽, 및 주변벽은 반-경계 체적(semi-bounded volume)을 획정한다. 일 예에서, 하단벽 및 천이벽은 반-경계 체적의 하부 표면을 포함하고, 하단벽에 인접한 하부 표면의 일부는 비-오목형이다. 다른 예에서, 천이벽에 근접한 하부 표면의 일부는 실질적으로 오목형이다. 또 다른 예에서, 천이벽에 근접한 하부 표면의 일부는 실질적으로 볼록형이다. 또 다른 예에서, 전방벽은 전방벽에 대해 일정 각도로 배치된 함입부를 포함한다.
다른 양태에서, 본 기술은 촬상 시스템을 위한 유방 압박 패들에 관한 것으로, 유방 압박 패들은, 전방 경계벽, 후방 경계벽, 및 전방 경계벽으로부터 후방 경계벽으로 연장되는 2개의 측방향 경계벽을 갖는 복수의 경계벽; 후방 경계벽으로부터 전방 경계벽으로부터 멀어지게 연장되는 브래킷 부분; 및 만곡된 계면에서 복수의 경계벽 각각에 연결된 하단벽을 갖고, 하단벽은 하단 기준 평면을 획정하는 적어도 3개의 지점을 포함하며, 전방 경계벽의 최상부는 하단 기준 평면 위의 전방 경계벽 높이에 배치되고, 후방 경계벽의 최상부는 하단 기준 평면 위의 후방 경계벽 높이에 배치되며, 전방 경계벽 높이는 상기 후방 경계벽 높이보다 작다. 일 예에서, 하단벽은 상승된 중심 부분 및 복수의 외부 에지 부분을 포함하고, 적어도 3개의 지점은 복수의 외부 에지 부분 상에 배치된다. 다른 예에서, 하단벽은 2개의 측방향 경계벽에 근접하여 배치된 2개의 외부 에지 부분, 및 2개의 외부 에지 부분과 실질적으로 동일한 높이인 중심 부분을 포함한다. 또 다른 예에서, 하단벽은 전방 경계벽의 근위에 배치된 근위 부분과 전방 경계벽으로부터 원위에 배치된 원위 부분을 포함하고, 원위 부분은 하단 기준 평면 위의 원위 부분 거리에 배치된다. 또 다른 예에서, 브래킷 부분은 후방 경계벽에 연결되고, 후방 경계벽과 대향하여 배치되며 후방 경계벽과 실질적으로 평행하게 배치된 후방 패들벽을 포함한다.
전술한 양태의 다른 예에서, 유방 압박 패들은 후방 경계벽으로부터 후방 패들벽까지 걸쳐 있는 복수의 리브를 더 갖는다. 일 예에서, 복수의 리브 중 적어도 하나는 하단벽의 적어도 일부와 접촉한다. 다른 예에서, 적어도 하단벽은 천이벽을 포함하고, 천이벽의 적어도 일부는 볼록형이다. 또 다른 예에서, 전방 경계벽은 전방 경계벽의 최상부에 근접하게 배치된 상부 폭 및 하단벽에 근접하게 배치된 하부 폭을 갖는 리세스를 획정하고, 상기 하부 폭은 상부 폭보다 크다. 또 다른 예에서, 리세스는 전방 경계벽에 대해 일정 각도로 배치된다.
다른 양태에서, 본 기술은 유방 압박 패들에 관한 것으로, 유방 압박 패들은, 환자 접촉 표면 및 환자 액세스 표면을 갖는 하단벽으로서, 유방의 압박 동안, 환자 접촉 표면은 유방과 접촉하고 환자 액세스 표면은 유방과 접촉하지 않도록 환자 접촉 표면으로부터 일정 거리에 배치되는 것인, 하단벽; 환자 접촉 표면과 환자 액세스 표면 사이에서 이들을 연결하는 천이벽으로서, 대체로 평활한 곡률인 것인, 천이벽; 유방의 압박 동안, 흉벽과 접촉하는 전방벽; 및 환자 접촉 표면과 전방벽 사이에서 이들을 연결하는 계면벽을 포함하고, 계면벽은 대체로 평활한 곡률이다.
이 요약은 아래의 상세한 설명에서 추가로 설명되는 일련의 개념을 단순화된 형태로 소개하기 위해 제공된다. 이 요약은 청구된 주제의 주요 특징 또는 필수 특징을 식별하도록 의도되지 않고 청구된 주제의 범위를 제한하는 데에 사용되도록 의도되지도 않는다.
모든 도면에서 동일한 번호는 동일한 요소 또는 동일한 유형의 요소를 나타낸다.
도 1은 유방 조영술 및/또는 단층 촬영술 시스템의 개략도이다.
도 2는 유방 조영술 및/또는 단층 촬영술 시스템의 부분 사시도이다.
도 3은 압박 패들 및 브래킷의 상부 사시도이다.
도 3a 및 도 3b는 압박 패들의 상부 및 하부 사시도이다.
도 3c 내지 도 3h는 도 3a 및 도 3b의 압박 패들의 다양한 도면이다.
도 4a 내지 도 4e는 도 3e의 압박 패들의 단면도이다.
도 5a 내지 도 5c는 각각 압박 패들의 다른 예의 사시도, 정면도 및 측면도이다.
도 6a 내지 도 6c는 각각 압박 패들의 다른 예의 사시도, 정면도 및 측면도이다.
도 7a 내지 도 7c는 각각 압박 패들의 다른 예의 사시도, 정면도 및 측면도이다.
도 8은 압박 패들의 다른 예의 후방 사시도이다.
도 9a 내지 도 9c는 압박 패들을 사용하는 방법을 도시한다.
도 1은 x-선으로 환자의 유방을 촬상하는 데에 압박 패들을 사용하는 유방 조영술 및/또는 단층 촬영술 시스템(5)의 개략도이다. 도 2는 구성요소가 도 1에 사용된 참조 번호로 식별되고 도 1과 동시에 설명되는 시스템(5)을 사시도로 도시한다. 환자의 유방(10)은 유방 플랫폼(12)과 압박 패들(16) 사이에서 x-선 촬상을 위해 고정된다. 플랫폼(12)은 하우징(14)의 상단 표면일 수 있다. 플랫폼(12) 및 패들(16)은 x-선 소스(24)로부터 나오는 촬상 빔(22)의 경로에 있는 유방 고정 유닛(20)을 형성한다. 빔(22)은 하우징(14)에 있는 수상기(26)에 충돌한다.
고정 유닛(20) 및 하우징(14)은 아암(28) 상에 지지된다. x-선 소스(24)는 아암(30) 상에 지지된다. 유방 조영술을 위해, 지지 아암(28 및 30)은 CC 및 MLO와 같은 상이한 촬상 배향들 사이에서 30a에서와 같은 축을 중심으로 한 유닛으로서 회전할 수 있어, 시스템(5)은 각 배향에서 유방 조영 투사 이미지(mammogram projection image)(Mp)를 촬상할 수 있다. 수상기(26)는 이미지(Mp)가 촬상되는 동안 하우징(14)에 대해 제자리에 유지된다. 고정 유닛(20)은 아암(28 및 30)을 상이한 촬상 배향으로 이동시키기 위해 유방(10)을 릴리스시킨다. 단층 촬영술을 위해, 지지 아암(28)은 제자리에 계속 있고 유방(10)은 제자리에 고정 및 유지되며, 적어도 소스 지지 아암(30)은 고정 유닛(20) 및 유방(10)에 대해 소스(24)를 30a와 같은 축을 중심으로 회전시킨다.
시스템은 유방(10)에 대한 각각의 빔(22)의 각도에서 유방(10)의 복수의 단층 촬영 투사 이미지를 촬상한다. 동시에, 수상기(26)는 소스 지지 아암(30)의 회전과 동기하여 유방 플랫폼(12)에 대해 틸팅될 수 있다. 틸팅은 코스(24)의 회전과 동일한 각도를 통해 이루어질 수 있지만, 바람직하게는 상이한 각도를 통해, 빔(22)이 복수의 이미지(Tp) 각각에 대해 수상기(26) 상의 실질적으로 동일한 위치에 유지되도록 선택된다. 틸팅은 축(32a)을 중심으로 있을 수 있으며, 이는 수상기(26)의 이미지 평면에 있을 수 있지만 그럴 필요는 없다.
일 실시예에서, 임의로, 또한 하우징(14) 내에 있거나 다른 방식으로 수상기(24)와 결합되는 틸팅 메커니즘(34)이 수상기(24)를 틸팅 운동으로 구동시킬 수 있다. 축(20a, 24a 및 26a)은 도 1에서 확인되는 바와 같이 좌우로 연장되고 바람직하게는 일치하지 않을 수 있다. 단층 촬영술 촬상을 위해, 유방 플랫폼(12)은 수평일 수 있거나, 또는 예를 들어 유방 조영술에서 종래의 MLO 촬상을 위한 것과 유사한 배향으로 수평에 대해 일정 각도로 있을 수 있다. 도 1의 시스템은 전적으로 유방 조영술 시스템, 또는 전적으로 단층 촬영술 시스템, 또는 유방 조영술 및 단층 촬영술 촬상을 모두 수행할 수 있는 "콤보" 시스템일 수 있다. 그러한 콤보 시스템의 예는 본 발명의 양수인에 의해 상표명 Selenia Dimensions로 제공된다. 그러한 콤보 시스템 또는 단층 촬영술 시스템의 비제한적인 예는 미국 특허 제7,869,563호; 제7,831,296호; 제7,583,786호; 제7,430,272호; 제7,245,694호; 및 제7,123,684호에 설명되어 있다. 시스템이 작동될 때, 수상기(26)는 촬상 빔(22)에 의한 조명에 응답하여 촬상 정보를 생성하고, 이 정보를 유방 x-선 이미지를 생성하기 위한 처리를 위해 이미지 프로세서(34)에 공급한다. 본 명세서에 설명된 압박 패들의 복잡한 형상을 감안하면, 이미지 프로세서는 2017년 9월 25일자로 출원되었고 발명의 명칭이 "Imaging with Curved Compression Elements"인 공동 소유의 PCT 공개 제WO 2018/089118호에 설명된 이미지 처리 기능을 이용할 수 있고, 그 개시내용은 그 전체가 본 명세서에 참조로 포함된다. 시스템 제어 및 작업 스테이션 유닛(38)은 시스템의 작동을 제어하고 사용자와 문답하여 명령을 수신하고 처리된 선 이미지를 포함하는 정보를 전달한다.
도 3은 압박 패들(201) 및 브래킷(202)을 포함하는 압박 요소(200)의 상부 사시도이고, 도 3a 및 도 3b는 압박 패들(201)의 상부 및 하부 사시도이다. 도 3c 내지 도 3h는 도 3a 및 도 3b의 압박 패들(201)의 다양한 도면이다. 도 3 내지 도 3h는 동시에 설명된다. 압박 패들(201)은 촬상 절차 동안 환자의 유방을 압박한다. 브래킷(202)은 압박 요소(200)를 촬상 시스템의 아암에 제거 가능하게 연결한다. 도시된 압박 패들(201)은 기술자가 압박 패들(201)의 하강 동안 환자의 유방에 대한 액세스를 개선하게 하도록 구성된다. 이 작동은 아래에서 더 상세하게 설명된다. 압박 패들(201)은 그러한 액세스를 가능하게 하는 다수의 피쳐를 포함한다.
압박 패들(201)의 하단벽(204)은 대체로 오목형 표면(206)을 포함하며, 이 표면은 대체로 유방 및/또는 압박된 유방에 대한 형상에 대응할 수 있다. 대체로 오목형 표면(206)은 압박 패들(201)의 둥근 측벽(208)들 사이에서 대체로 연장될 수 있다. 대안적으로, 하단 표면의 일부만이 대체로 오목형 표면을 포함하며, 이는 유방 조직의 윤곽과 일치하는 것에 일조한다. 대체로 오목형 표면(206)은 유방의 형상에 더 가깝게 대응하도록 유방에 인가된 힘을 보다 균등하게 분배하는 데에 일조한다. 그러한 구성은 유방이 압박될 때 환자에게 보다 편안함을 제공하는 데에 일조할 수 있다. 대체로 오목형 표면(206)은 하단 기준 평면(P)을 획정하는 외부 에지(210)(도 3b 및 도 3h에서 점선으로 도시됨) 뿐만 아니라 중심 부분(212)에 의해 획정된다. 다른 예에서, 압박 패들(201)의 최하부 부분(즉, 평탄한 표면 상에 위치될 때 압박 패들(201)이 안착될 수 있는 부분)이 하단 기준 평면(P)을 획정할 수 있다. 도시된 예에서, 외부 에지(210)의 형상은 압박 패들(201)의 전방벽(214)으로부터의 거리가 증가함에 따라 변한다. 확인될 수 있는 바와 같이, 전방벽(214)에 근접하여, 외부 에지(210)는 형태가 더욱 선형(210a)이고, 전방벽으로부터 더 멀어짐에 따라 형상이 더 만곡된다(210b). 다른 예에서, 외부 에지(210)는 그 전체 길이를 따라 형태가 선형일 수 있다. 이는 유방의 대략적인 외형을 모방하는 것이다. 중심 부분(212)은 외부 에지(210)와 동일 평면에 있지 않으므로, 중심 부분(212)은 하단 기준 평면(P)에 비해 상승되어 있거나 또는 그 위에 배치된다. 중심 부분(212)은 수평(예를 들어, 패들(201)의 하단 기준 평면(P)에 평행)일 수 있거나 둥근 전방벽(214)으로부터 후방 에지(216)(패들(201)이 브래킷(202)에 연결되는 곳)까지 하향 피치(pitched downward)될 수 있다. 촬상 절차 동안 환자에게 가장 가까운 둥근 전방벽(214)의 부분은 전방 기준 표면으로 지칭될 수 있다. 중심 부분(212)의 피치는 도 3f에 구체적으로 도시되어 있고 패들(201)을 유방의 형상에 더 합치시키는 데에 일조할 수 있다.
대체로 오목형 표면(206)은 또한 유방의 위치 설정 동안 뿐만 아니라 이미지 획득 동안 유방이 미끄러지고 움직이는 것을 방지하는 데에 일조할 수 있다. 예로서, 이 형태는 흔히 이미지 획득 동안 유방이 미끄러지게 되는 공지된 평탄한 압박 패들과 비교하여 유방을 더 양호하게 지지함으로써 MLO 위치에서 유방의 미끄러짐을 방지하는 데에 일조할 수 있다. 대체로 오목형 표면(206)은 평활한 곡률을 가질 수 있거나 또는 대체로 오목형인 임의의 다른 형상을 가질 수 있으며, 예를 들어 표면(206)은 압박 패들(201)의 사출 성형으로부터 리지, 선, 및/또는 다른 요소를 포함할 수도 있고, 표면은 대체로 사다리꼴 형상 등을 가질 수도 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 압박 패들(201)은 팽창 가능한 재킷 및/또는 젤 패드의 유무에 관계 없이 환자의 유방을 압박하는 데에 사용될 수 있다. 다른 예에서, 대체로 오목형 표면(206)은 전방벽(214)(즉, 가슴 대면 벽)으로부터 후방 에지(216)까지 균일하게 오목하지 않을 수 있다. 압박된 유방 조직은 후방 에지(216)까지 뒤로 연장되지 않을 수 있기 때문에, 오목한 상태는 후방 에지(216)에 비해 전방벽(214) 근방에서 더 클 수 있다. 예로서, 하단벽(204)은 전방벽(214) 근방에서 대체로 오목형일 수 있고 후방 에지(216) 근방에서 더 평탄할 수 있다. 추가적인 또는 대안적인 예에서, 대체로 오목형 표면(206)의 반경은 후방 에지(216) 근방의 하단벽(204)에 비해 전방벽(214) 근방에서 더 크다. 이 비균일성은 유두로부터 유방의 흉벽까지 보다 균일한 압박을 제공하는 데에 일조할 수 있다.
대체로, 본 명세서에 설명된 본 기술의 압박 패들은 유방 조영술 또는 다른 유방 x-선 촬상 동안 유방 압박을 받는 환자에게 보다 편안할 뿐만 아니라 적절한 환자 위치 설정을 위해 유방에 대한 더 큰 기술자 액세스를 제공할 수 있다. 유방의 위치 설정은 방사선 전문의에게 진단적으로 유용한 이미지를 생성하는 데에 중요하다. 본 명세서에 설명된 본 기술의 압박 패들은 대체로 공지된 평탄한 압박 패들과 동일한 팽팽함을 달성하기 위해 인가될 압박력이 덜 요구된다. 패들은 실질적으로 강성 또는 가요성 재료로 제조될 수 있다. 강성 재료를 사용하면 패들이 바람직하지 않게 변형되지 않고 유방을 충분히 압박하게 된다. 예를 들어, 패들(200)이 유방을 압박하거나 유방을 압박하지 않을 때 중심 부분(212)과 평면(P) 사이의 거리는 실질적으로 동일할 수 있다. 예를 들어, 오목형 표면(206)의 오목형 윤곽은 실질적으로 동일할 수 있다. 본 명세서에 개시된 특정 형상 및 윤곽은 유방 압박 동안 불편을 감소하거나 제거할 수 있고, 아래에 추가로 설명되는 바와 같이 유방에 대한 액세스를 증가시킬 수 있다.
2개의 둥근 측벽(208)은 압박 패들(201)의 만곡된 상단 표면(218)으로 천이되지만, 특정 예에서, 만곡된 상단 표면(218)이 이용되지 않고 패들이 실질적으로 사발 또는 판 형상일 수 있어 전방벽(219)의 상부 에지 및 둥근 측벽(208)이 상단 표면(218)이 도시된 곳에 근접한 위치에서 종결된다. 특히, 압박 패들(201)의 후방 에지(216)에 근접하여, 하단벽(204) 및 둥근 측벽(208)은 액세스 표면(220)으로 천이된다. 액세스 표면(220)은 하단벽(204) 및 둥근 측벽(208) 각각의 부존재를 정의한다. 이러한 부재는, 예를 들어 압박 패들(201)이 유방에 근접하여 배치되거나 일단 유방의 압박이 시작된 경우에 환자 유방에 대한 기술자의 액세스를 개선시킨다. 압박 패들(201)의 다양한 인접 표면들 사이의 천이는 환자의 불편을 제한하고 압박 패들(201)의 응력 위치를 감소시키도록 평활하다.
2개의 추가 기준 평면이 또한 명확성을 위해 도 3c, 도 3d, 도 3e, 도 3f 및 도 3h에 도시되어 있다. 이들 평면은 수직 기준 평면(V) 및 수평 기준 평면(H)을 포함한다. 수직 기준 평면(V) 및 수평 기준 평면(H)은 모두 압박 패들(201)의 만곡된 전방벽(214) 상의 중간점(M)을 통과한다. 중간점(M)은 압박 패들(201)의 축(A)을 따라 배치되며, 이는 수직 기준 평면(V)과 수평 기준 평면(H)의 교차에 의해 획정된다. 압박 패들(201)은 수직 기준 평면(V)의 양측에서 대칭적이다. 촬상 시스템에서 이용될 때, 수직 기준 평면(V)은 유방 플랫폼(도시되지 않음)과 실질적으로 직교하는 각도로 배치되고, 수평 기준 평면(H)은 유방 플랫폼과 실질적으로 평행하게 배치된다.
압박 패들(201)의 복잡한 윤곽은 유방을 편안하게 압박할 수 있게 하고, 또한 압박 절차 중에 유방에 대한 기술자의 액세스를 허용한다. 이를 통해 기술자는 필요에 따라 유방을 조작하거나 위치 설정할 수 있다. 압박 절차 뿐만 아니라 후속 촬상 동안, 전방벽(214)은 환자의 흉벽에 인접하고 흉벽과 대면한다. 환자 흉벽에 가장 가까운 전방벽(214)의 부분이 전방 기준 표면으로 지칭된다. 이 전방 기준 표면에 실질적으로 접하는 평면이 전방 기준 평면(R)으로 지칭되고 수직 기준 평면(V), 수평 기준 평면(H), 및 하단 기준 평면(B) 각각에 실질적으로 직교한다. 전방벽(214)은 하단벽(204)과 접경하는 만곡된 하부 계면을 포함한다. 이 만곡된 하부 계면은 상부 범위, 예를 들어 하단 기준 평면(P) 위의 만곡된 하부 계면의 가장 높은 위치를 가지며, 그 만곡된 표면은 압박 동안 환자에게 편안함을 증가시킨다. 전방 기준 표면은 이 상부 범위에 접하게 배치되어 편안함을 더 증가시킨다. 2개의 외부 에지 부분(210)은 하단 기준 평면(P)을 획정한다. 하단벽(204)은 흉벽으로부터 멀어지게 연장되고 압박된 유방의 상단 표면의 길이에 인접한다. 전술한 바와 같이, 하단벽(204)은 평탄하지 않고, 대신에 2개의 외부 에지 부분(210)과 동일 평면에 있지 않은 중심 부분(206)을 포함한다. 도 3f에 도시된 바와 같이, 하단 기준 평면(P) 위의 중심 부분(206)의 높이는 전방벽(214)으로부터의 거리가 환자의 편안함을 증가시킴에 따라 감소된다. 에지 부분(210)은 전방 기준 평면(R) 및 전방벽(214)으로부터 멀어지게 연장된다. 압박 패들(201)의 윤곽은 또한 본 명세서에 도시되고 설명된 다수의 기준 평면에 대해 획정될 수 있다. 예를 들어, 수직 기준 평면(V)은 전방 기준 평면(R) 및 하단 기준 평면(P) 각각에 실질적으로 직교한다. 압박 패들(201)은 기술자가 압박 절차 동안 유방에 대한 액세스를 개선할 수 있게 하는 복수의 액세스 표면(220)을 포함한다. 종래 기술의 압박 패들의 형상, 크기 및 구성은 흔히 유방에 대한 기술자의 액세스를 제한한다. 기껏해야, 이는 압박 동안 유방의 부적절한 위치 설정을 유발하여, 압박력의 제거, 유방의 재배치 시도, 및 재압박을 필요로 한다. 이는 시술 시간 뿐만 아니라 환자의 불안 및 불편함을 크게 증가시킬 수 있다. 최악의 경우, 기술자의 손이 유방과 압박 패들 사이에 끼이게 된다. 압박 패들(201)의 양측면 상에 하나 이상의 액세스 표면(220)을 통합하면 그러한 문제가 감소되거나 완전히 제거될 수 있다. 액세스 표면(220)은 2개의 외부 에지 부분(210), 즉 전방벽(214)의 원위에 있는 만곡된 부분에 근접하게 배치되고, 실질적으로 또는 전체적으로 평탄한 액세스 기준 표면에 의해 획정된다. 액세스 표면(220)의 형태는 액세스 표면이 전방 기준 평면(R), 하단 기준 평면(P), 및 수직 패들 평면(V) 각각에 대해 비직교 각도로 배치되도록 되어 있다.
도 3 내지 도 3h로부터 명백한 바와 같이, 본 명세서에 설명된 압박 패들(201)은 전방벽(214)으로부터의 거리가 증가함에 따라 변화하는 단면을 획정한다. 이들 변화하는 단면은, 전방벽(214)으로부터의 거리가 증가함에 따라 압박 패들(201)의 단면을 도시하는 도 4a 내지 도 4e에 더 도시되어 있다. 특정 단면의 위치는 도 3e에 도시되어 있다. 도 4a 내지 도 4e 각각에서, 수직 기준 평면(V), 수평 기준 평면(H), 및 하단 기준 평면(P)이 또한 도시되어 있다. 전방벽(214)의 중간점(M)이 또한 도시되어 있고, 수직 기준 평면(V)과 수평 기준 평면(H)의 교차점에 위치 설정된다. 이 교차점은 또한 압박 패들(201)의 축(A)을 획정한다. 사용 동안, 수평 기준 평면(H) 및 하단 기준 평면(P) 모두는 유방 압박 플랫폼 위의 미리 결정된 거리에 그리고 실질적으로 평행하게 배치된다. 수직 기준 평면(V)은 수직 기준 평면(V), 수평 기준 평면(H), 유방 플랫폼, 및 도시된 단면 각각에 실질적으로 직교한다. 추가로, 수평 기준 평면(H)은 또한 도시된 단면 각각에 직교한다. 각각의 단면은 전방 기준 평면(R)과 실질적으로 평행하다.
도 4a는 전방벽에 근접한 위치, 특히 전방벽(314)이 상단 표면(218) 및 하단벽(204)으로 천이되는 위치에서 압박 패들(201)의 단면을 도시한다. 이 단면은 상단벽(218), 하단벽(204) 및 둥근 측벽(208)에 의해 획정된다. 단면은 실질적으로 만곡되거나 또는 콩 형상인 제1 형상을 획정한다. 중심 부분(212)은 하단 기준 평면(P) 위의 거리(d)에 배치된다. 각각의 단면은 전방 기준 평면(R)과 실질적으로 평행하다.
도 4b 내지 도 4e에 도시된 각각의 연속적인 단면에서, 압박 패들(201)의 단면 형상이 변화한다. 단면이 압박 패들(201)의 브래킷 단부(216)에 접근함에 따라, 변화가 더 뚜렷해진다. 예를 들어, 확인될 수 있는 바와 같이, 거리(d)는 전방벽(214)으로부터의 거리(도 4b 내지 도 4e에 도시된 바와 같이) 증가함에 따라 감소된다. 또한, 도 4a의 단면에 원래 도시된 만곡된 형상이 변경된다. 특히, 도 4d 및 도 4e에서, 단면이 액세스 코너(220)를 형성함에 따라, 이 만곡된 형상의 둥근 외부 단부는 평탄해진다. 이전 설명에서, 압박 패들(201)의 단면은 압박 패들(201)의 전체 외부 표면에 의해 획정된다. 그러나, 다른 예에서, 단면은 패들(201)의 외부 표면의 일부에 의해서만 획정될 수 있다. 예를 들어, 단면은 수평 기준 평면(H) 및 그 수평 기준 평면(H) 아래에 배치된 표면에 의해 획정될 수 있다. 그러한 획정에 대한 한 가지 이유는 압박 패들(201)의 상단 표면(218)이 각각의 단면에서 크게 변하지 않기 때문이다. 그러한 획정에 대한 다른 이유는 상단 표면(218)이 항상 모든 압박 패들에 반드시 존재하는 것은 아니라는 점이다. 실제로, 도시된 도면은 상단 표면(218)을 비롯한 외부 표면에 의해 폐쇄된 중공형 내부를 갖는 소위 "중공형" 압박 패들을 도시한다. 다른 예에서, (액세스 표면(220)을 포함하지만 이에 제한되지 않는) 본 명세서에 도시되고 설명된 패들의 복잡한 하단 형상은 임의의 유형의 압박 패들에 이용될 수 있다. 예를 들어, "개방형" 상단을 이용하는 기존의 압박 패들(즉, 상단 표면을 포함하지 않는 패들)도 또한 본 명세서에 설명된 복잡한 하단 패들 형상으로부터 이익을 얻을 수 있다.
다시 도 4a 내지 도 4e를 참조하면, 압박 패들(201)의 형상은 압박 패들(201) 자체의 외부 윤곽 또는 단면에 기초하여 획정될 수 있다. 압박 패들(201)은 촬상 절차 동안 환자의 흉벽에 인접한 전방벽을 갖는다. 수평 기준 평면(H)은 (수평 및 수직 방향 모두에서) 전방벽의 중간점(M)에 배치된다. 하단벽(204)은 촬상 절차 동안 환자의 유방에 인접하도록 구성된다. 압박 패들(201)은 다수의 단면에 의해 획정될 수 있다. 전방 단면(예를 들어, 압박 패들(201)의 전방벽에 가장 가까운 단면)은 후방 단면과 상이할 수 있다. 후방 단면은, 예를 들어 브래킷에 근접한 압박 패들(201)의 단부에서 전방벽으로부터 미리 결정된 거리에 배치될 수 있다.
그들 사이의 차이를 정의할 수 있는 단면의 한 양태는 하단 기준 평면(P)에 대한 하단벽(204)의 위치이다. 전방벽에 근접하여, 단면은 수평 기준 평면(H) 아래의 제1 미리 결정된 거리에 배치된 수직 기준 평면(P)과 교차하는 중심 부분(212)을 갖는다. 후방 단면에서, 수직 기준 평면(P)과 교차하는 하단벽(204)의 일부는 수평 기준 평면(H) 아래의 제2 미리 결정된 거리에 배치된다. 하단 표면(204)이 피치되는 예에서, 제1 거리는 제2 거리보다 작다.
그들 사이의 차이를 정의할 수 있는 단면의 다른 양태는 외부 에지 부분(210)의 형태이다. 2개의 외부 에지 부분은 하단벽(204)을 적어도 부분적으로 획정하고, 제1 단면에서 수직 기준 평면(V)으로부터 제1 거리에 배치된다. 제2 단면에서, 2개의 외부 에지 부분(210)은 수직 기준 평면(V)으로부터 제2 거리에 배치된다. 그러한 예에서, 제1 거리는 제2 거리보다 크다. 단면의 형상이 제1 단면으로부터 제2 단면으로 그리고 제2 단면을 지나서 변화함에 따라, 외부 에지 부분(210)은 실질적으로 선형 부분(제1 단면에서) 및 실질적으로 만곡된 부분(제2 단면에서)을 포함한다. 이들은 도 3h에 도시된 외부 에지 부분의 선형 부분 및 만곡된 부분에 대응한다. 추가적으로, 도 4a 내지 도 4e는 단면을 획정하는 압박 패들(201) 경계의 외부 윤곽에 의해 획정될 수 있는 단면들 사이의 추가적인 차이를 도시한다. 예를 들어, 제1 단면은 (도 4a에 도시된 바와 같이) 제1 곡률(C1)을 가질 수 있는 제1 경계에 의해 획정된 외부 윤곽을 포함하고, 제2 단면은 제1 경계와 상이한 제2 경계에 의해 획정된 외부 윤곽을 포함한다. 도 4e에서, 이 제2 경계는 실질적으로 직선이거나 제1 곡률(C1)과 상이한 약간의 곡률을 가질 수 있는 선에 의해 획정된다.
압박 패들(201)의 복잡한 형상은 하단벽(204)의 형상에 의해 추가로 획정될 수 있다. 예를 들어, 하단벽(204)은 촬상 절차 동안 환자의 유방에 인접한 대체로 오목형 접촉 표면(206)을 포함할 수 있다. 접촉 표면(206)의 외부 범위는 2개의 외부 에지 부분(210)에 의해 적어도 부분적으로 획정될 수 있다. 외부 에지 부분(210)의 위치는 도 4a 내지 도 4e에 도시된 것과 같이 각각의 단면에서 달라질 수 있다. 도시된 바와 같이, 수직 기준 평면(V)과 2개의 외부 에지 부분(210) 사이의 거리는 전방벽(214)으로부터의 거리가 증가함에 따라 감소된다. 추가로, 수평 기준 평면(H) 아래의 접촉 표면(206)의 거리는 전방벽(214)으로부터의 거리가 증가함에 따라 증가된다. 도 4a 내지 도 4e에 도시된 바와 같이, 복수의 단면은 전방벽(214)으로부터의 거리가 증가함에 따라 형상이 변화하는 외부 윤곽을 포함한다. 예를 들어, 외부 윤곽은 (도 4a에 도시된 바와 같이) 곡률(C1)에 의해 획정된 만곡된 형상으로부터 전방벽(214)으로부터의 거리가 증가함에 따라 (도 4e에 도시된 바와 같이) 선(L)에 의해 획정된 실질적으로 선형 형상으로 변화한다. 외부 에지 부분(210)의 형태로 인해, 접촉 표면(206)의 폭은 전방벽(214)으로부터의 거리가 증가함에 따라 변화된다(예를 들어, 좁아지거나 감소된다).
도 3 내지 도 4e에 도시된 중공형 압박 패들의 특정 피쳐는 또한 상기 압박 패들의 상단 표면이 없는 패들에 통합될 수 있다. 그러한 압박 패들은, 예를 들어 미국 특허 제9,782,135호의 도 10a 내지 도 12e 및 도 14a 내지 도 15c에 도시되어 있으며, 그 개시내용은 그 전체가 본 명세서에 참조로 포함된다. 그러한 압박 패들은 대체로 단일벽 사출 성형 요소로 이루어지며, 상기 요소의 하단 표면이 유방을 압박한다. 단일벽 요소의 측면은 2개의 측방향 벽을 연결하는 전방벽을 갖는 사발형 형상을 형성하도록 상향으로 벤딩되거나 절첩된다. 사발형 형상의 후방벽은 압박 패들이 x-선 촬상 시스템의 압박 시스템에 연결되는 브래킷에 근접한다. 따라서, 단일벽 요소는 하단 압박 표면을 가지며; 그 요소의 상단 표면은 대체로 압박 패들의 사발형 구조의 하단을 형성한다. 그러한 패들은 사발형 구조의 전체 또는 일부에 걸쳐 평탄하거나 오목하거나 볼록한 표면을 가질 수 있다.
본 명세서에 개시된 기술은, 예를 들어, 위치 설정 및 압박 동안 기술자에게 유방에 대한 개선된 액세스를 제공하도록 압박 부분에 대해 브래킷 부분을 상승시킴으로써 그러한 사발형 압박 패들의 유용성을 개선시킬 수 있다. 이 개선된 액세스는 환자 접촉 표면 및 환자 액세스 표면을 갖는 하단벽을 포함하는 압박 패들의 결과이다. 유방을 압박하는 동안, 환자 접촉 표면은 유방과 접촉하고 있다. 그러나, 환자 액세스 표면은 유방과 접촉하지 않고 기술자가 유방에 액세스하도록 환자 접촉 표면 위의 일정 거리에 배치된다. 대체로 평활한 곡률을 갖는 천이벽은 환자 접촉 표면과 환자 액세스 표면 사이에 있고 이들을 연결한다. 날카로운 접촉점을 제거하는 것에 추가하여, 천이벽의 대체로 평활한 곡률은 또한 촬상 동안 압박 패들에 의해 형성될 수 있는 인위 구조를 감소시킬 수 있다. 압박 패들의 전방벽은 압박 동안 흉벽과 접촉하도록 구성된다. 계면벽은 환자 접촉 표면과 전방벽 사이에 있고 이들을 연결한다. 천이벽과 마찬가지로, 계면벽은 압력 또는 핀치 지점 뿐만 아니라 인위 구조를 감소 또는 제거하도록 대체로 평활한 곡률을 갖는다.
본 명세서에 설명된 압박 패들에 대해 x-선 반투명 재료가 이용되지만, 이미지 인위 구조는 여전히 특정 상황에서 형성될 수 있다. x-선 방사선이 통과해야 하는 재료의 양이 증가하기 때문에 수직 표면이 이미지에 인위 구조를 생성할 수 있다. 이와 같이, 아래의 예에서, 전방벽 및 측방향 측벽과 같은 수직 표면은 그러한 인위 구조의 생성을 방지하도록 촬상 영역의 외부에 배치된다. 한 표면에서 다른 표면으로의 날카로운 천이부(예를 들어, 코너 또는 교차 에지)도 유사한 이유로 이미지 인위 구조를 형성할 수 있다. 이와 같이, 아래에 설명된 압박 패들은 그러한 인위 구조를 감소 또는 방지하도록 촬상 영역의 모든 표면에서 평활한 윤곽을 이용한다.
아래에 설명된 압박 패들은 제조성 및 유방과 압박 패들의 합치성을 개선시키도록 추가 피쳐를 통합한다. 이들 피쳐는 그 강성을 증가시키도록 압박 패들의 브래킷 부분 아래에 리브 또는 다른 구조의 사용을 포함한다. 리브는 또한 압박 패들이 단일 사출 성형 프로세스로 형성되게 한다. 전술한 평활한 윤곽의 사용은 또한 패들의 응력점을 감소시키고, 패들의 압박 부분이 유방의 형상에 보다 양호하게 합치하게 한다. 패들의 압박 부분은 또한 전술한 리브가 없어서, 압박 부분이 유방의 압박 동안 편향되게 한다. 이들 평활한 형상 및 편향 능력은 평탄한 패들과 대체로 관련된 불편을 감소시키는 데에 일조한다.
도 5a 내지 도 5c는 각각 사발형 압박 패들(300)의 예의 사시도, 정면도 및 측면도이며, 동시에 설명된다. 압박 패들은 압박 부분(302) 및 브래킷 부분(304)을 포함한다. 압박 부분(302)은 압박 동안 환자의 흉벽에 근접하여 배치되도록 구성되고, 브래킷 부분(304)은 압박 패들(300)을 촬상 시스템의 압박 아암에 고정시키는 데에 사용된다. 브래킷 부분(304)은 압박 패들(300)의 적어도 일부 아래에 액세스 영역(306)을 획정하도록 압박 부분(302)에 비해 상승되어 있어, 기술자가 위치 설정 동안 환자의 유방에 보다 양호하게 액세스하게 한다. 액세스 영역(306)은 전체적으로 도 5a 및 도 5c에 점선으로 도시되어 있다. 물론, 압박 패들(300)은 3차원 물체이므로, 소위 "액세스 영역"은 실제로 압박 패들(300)의 브래킷 부분(304) 및 경사벽(이 경우, 천이벽(310)) 아래에 주로 개시된 체적이다. 전방벽(306)은 환자의 흉벽과 접촉하도록 배치된다. 하단벽(308)은 촬상 절차 동안 유방을 위한 압박 표면으로서 작용한다. 천이벽(310)은 브래킷 부분(304)을 향해 연장되고 액세스 영역(306)을 적어도 부분적으로 획정한다. 후방 브래킷 벽(312)은 전체로서 브래킷 부분(304)과 압박 패들(300) 모두의 최상부 범위를 획정하는 표면(314)으로부터 아래로 연장된다. 복수의 리브(315)는 후방 브래킷 벽(312)으로부터 연장되어 압박 패들(300)에 구조적 강성을 제공하고; 보다 구체적으로, 리브(315)는 브래킷 부분(304)에 구조적 강성을 제공한다. 압박 부분(302), 즉 개방된 사발형 구조의 형태는 유방의 압박 동안 압박 부분(302)의 굴곡을 허용한다. 경계벽(316)은 대체로 개방된 사발형 구조를 획정한다. 경계벽(316)은 전방 경계벽(316a), 측방향 경계벽(316b), 및 후방 경계벽(316c)을 포함한다. 전방 경계벽(316a)은 전방벽(306)과 대체로 동일한 공간을 차지한다.
위에서 언급한 바와 같이, 전방벽(306)은 촬상 동안 환자의 흉벽에 인접하고 흉벽과 대면하도록 구성된다. 전방벽(306)은 전방벽 높이(H), 하단벽(308)에 연결되는 만곡된 하부 계면(318), 및 전방 기준 평면(320)을 포함한다. 하단벽(308)은 흉벽으로부터 멀어지게 연장되고 촬상 동안 압박된 유방의 상단의 길이에 인접한다. 하단벽(308)은 대체로 중심 부분(322) 및 중심 부분(322)을 적어도 부분적으로 획정하는 2개의 외부 에지 부분(324)을 포함한다. 2개의 외부 에지 부분(324)은, 예를 들어 도 5c의 측면도에 가장 명확하게 도시된 바와 같이 전방 기준 표면(320)으로부터 멀어지게 연장된다. 대체로 중심 부분(322)은 2개의 외부 에지 부분(324)보다 더 큰 거리만큼 전방 기준 표면(320)으로부터 멀어지게 연장된다. 이와 같이, 하단벽(308)의 형상은 일반적으로 압박된 유방의 외부 형상에 대응한다. 2개의 외부 에지 부분(324)(또는 그 위에 배치된 적어도 3개의 지점)은 전방 기준 평면(320)에 실질적으로 직교하는 하단 기준 평면(326)을 획정한다. 이 경우에, 하단 기준 평면(326)은 대체로 패들(300)의 하단 표면과 실질적으로 일치하는 수평 평면이다. 브래킷 부분(304)은 전방벽(306)으로부터 원위에 있으며, 패들 상단 표면(314) 및 브래킷 밑면 표면(328)을 포함한다. 패들 상단 표면(314)은 하단 기준 평면(326)에 실질적으로 평행한 상단 기준 평면(330)을 획정한다. 상단 기준 평면(330)은 하단 기준 평면(326) 위의 최대 패들 높이(HP)에 배치된다. 이 최대 패들 높이(HP)는 전방벽 높이(H)보다 크며, 이는 다시 유방에 대한 기술자의 액세스를 개선시키는 데에 일조한다.
후방 브래킷 벽(312)은 전방벽(306)에 대향하여 배치되고 패들 상단 표면(314)과 브래킷 밑면 표면(328)을 연결하고, 후방 브래킷 벽은 전방벽 높이(H)보다 큰 하단 기준 평면(326) 위의 거리(332)에서 종결된다. 도 5a 내지 도 5c에 도시된 것과 같은 예에서, 브래킷 밑면 표면(328)은 상단 기준 평면(326)을 획정하는 평탄한 패들 상단 표면(314) 바로 아래에 배치되는 패들(300)의 일부로서 정의된다. 예에서, 복수의 리브(315) 각각의 최하부는 (다시, 평탄한 패들 상단 표면(314) 아래에서) 브래킷 밑면 표면(328)으로서 작용한다. 경사 천이벽(310)은 브래킷 밑면 표면(328)과 하단벽(308)을 연결한다. 압박 패들(300)의 브래킷 부분(304)은 압박 부분(302)보다 상당히 높아서, 위치 설정 및 압박 동안 기술자가 유방에 대한 액세스를 개선하게 한다.
압박 패들(300)을 예를 들어 도 5a의 관점에서 위쪽으로부터 볼 때, 하단벽(308) 및 천이벽(310)은 상단 기준 평면(330)을 향해 상향으로 연장되는 경계 또는 주변벽(316)에 의해 실질적으로 둘러싸인다. 따라서, 이 관점에서 볼 때, 하단벽(308), 천이벽(310), 및 경계 또는 주변벽(316)은 반-경계 체적(334)을 획정한다. 도시된 예에서, 하단벽(308) 및 천이벽(310)은 하단벽(308)이 오목하지 않은 반-경계 체적(334)의 하부 표면을 형성한다. 보다 구체적으로, 하단벽(308)은 실질적으로 평탄하다. 천이벽(310)은 위쪽으로부터 볼 때 실질적으로 볼록형이다. 2개의 측방향 경계벽(316b)은 전방 경계벽(316a)으로부터 후방 경계벽(316c)까지 연장되고, 천이벽(310)을 따라 대체로 상향으로 경사진다. 하단벽(308)은 만곡된 계면(318)에서 각각의 경계벽(316)에 연결된다. 전술한 바와 같이, 전방 경계벽(316a)의 최상부는 하단 기준 평면(326) 위의 전방 경계벽 높이(H)를 갖는다. 후방 경계벽(316c)의 최상부는 브래킷(304) 부분의 상단 표면(314)에 연결되고 그 높이와 대략 동일한 높이를 갖는다. 따라서, 하단 기준 평면(326) 위의 이 후방 경계벽 높이는 최대 패들 높이(HP)와 대략 동일하여, 전방 경계벽 높이(H)는 하단 기준 평면(326) 위의 후방 경계벽 높이보다 작다. 하단벽(308)의 2개의 외부 에지 부분(324)은 2개의 측방향 경계벽(316b)에 근접하여 배치된다. 하단벽(308)은 또한 전방 경계벽(316a)에 근접하여 배치되는 근위 부분(334) 및 이 예에서 근위 부분(336)과 대체로 동일한 높이인 전방 경계벽(316a)으로부터 원위에 배치된 원위 부분(336)을 포함한다. 도 5c에 도시된 바와 같이, 천이벽(310)의 높은 부분(337)은 하단 기준 평면(326) 위의 높은 부분 거리(338)에 배치된다. 도 5a 내지 도 5c의 압박 패들(300)에서, 높은 부분 거리(338)는 전방 경계벽 높이(H)보다 더 크다. 도 5a에 가장 명확하게 보일 수 있는 바와 같이, 후방 경계벽(316c)은 그 길이를 따라 대체로 만곡되고 그 곡률의 중간점에 근접하여 후방 패들벽(312)에 가장 가깝다. 리브(315)는 후방 경계벽(316c)으로부터 후방 패들벽(312)으로 연장되는 것으로 보여질 수 있다.
도 6a 내지 도 6c는 각각 압박 패들(400)의 다른 예의 사시도, 정면도 및 측면도이며, 동시에 설명된다. 압박 패들은 압박 부분(402) 및 브래킷 부분(404)을 포함한다. 압박 부분(402)은 압박 동안 환자의 흉벽에 근접하여 배치되도록 구성되고, 브래킷 부분(404)은 압박 패들(400)을 촬상 시스템의 압박 아암에 고정시키는 데에 사용된다. 브래킷 부분(404)은 압박 패들(400)의 적어도 일부 아래에 액세스 영역(406)을 획정하도록 압박 부분(402)에 비해 상승되어 있어, 전술한 바와 같이 기술자가 위치 설정 동안 환자의 유방에 보다 양호하게 액세스하게 한다. 전방벽(406)은 환자의 흉벽과 접촉하도록 배치된다. 하단벽(408)은 촬상 절차 동안 유방을 위한 압박 표면으로서 작용한다. 천이벽(410)은 브래킷 단부(404)를 향해 연장되고 액세스 영역(406)을 적어도 부분적으로 획정한다. 후방 브래킷 벽(412)은 브래킷 부분(404)과 압박 패들(400) 모두의 최상부 범위를 획정하는 표면(414)으로부터 아래로 연장된다. 복수의 리브(415)는 후방 브래킷 벽(412)으로부터 연장되어 압박 패들(400), 즉 브래킷 부분(404)에 구조적 강성을 제공한다. 압박 부분(402)의 개방된 사발형 형태는 유방의 압박 동안 압박 부분(402)의 굴곡을 허용한다. 경계벽(416)은 대체로 개방된 사발형 구조를 획정한다. 경계벽(416)은 전방 경계벽(416a), 측방향 경계벽(416b), 및 후방 경계벽(416c)을 포함한다. 전방 경계벽(416a)은 전방벽(406)과 대체로 동일한 공간을 차지한다.
위에서 언급한 바와 같이, 전방벽(406)은 촬상 동안 환자의 흉벽에 인접하고 흉벽과 대면하도록 구성된다. 전방벽(406)은 전방벽 높이(H), 하단벽(408)에 연결되는 만곡된 하부 계면(418), 및 전방 기준 평면(420)을 포함한다. 하단벽(408)은 흉벽으로부터 멀어지게 연장되고 촬상 동안 압박된 유방의 상단의 길이에 인접한다. 하단벽(408)은 대체로 중심 부분(422) 및 중심 부분(422)을 적어도 부분적으로 획정하는 2개의 외부 에지 부분(424)을 포함한다. 이 예에서, 대체로 중심 부분(422)은, 예를 들어 도 6c의 측면도에 가장 명확하게 도시된 바와 같이 전방 기준 표면(420)으로부터 멀어지게 연장되는 2개의 외부 에지 부분(424)에 비해 상승되어 있다. 2개의 외부 에지 부분(424)(또는 그 위에 배치된 적어도 3개의 지점)은 전방 기준 평면(420)에 실질적으로 직교하는 하단 기준 평면(426)을 획정한다. 이 경우에, 하단 기준 평면(426)은 대체로 패들(400)의 최하부 지점에 의해 획정되는 수평 평면이다. 브래킷 부분(404)은 전방벽(406)으로부터 원위에 있으며, 패들 상단 표면(414) 및 브래킷 밑면 표면(428)을 포함한다. 패들 상단 표면(414)은 하단 기준 평면(426)에 실질적으로 평행한 상단 기준 평면(430)을 획정한다. 상단 기준 평면(430)은 하단 기준 평면(426) 위의 최대 패들 높이(HP)에 배치된다. 이 최대 패들 높이(HP)는 전방벽 높이(H)보다 크고, 이에 따라 기술자의 액세스를 개선시킨다.
후방 브래킷 벽(412)은 전방벽(406)에 대향하여 배치되고 패들 상단 표면(414)과 브래킷 밑면 표면(428)을 연결하고, 후방 브래킷 벽(412)은 전방벽 높이(H)보다 큰 하단 기준 평면(426) 위의 거리(432)에서 종결된다. 도 6a 내지 도 6c에 도시된 것과 같은 예에서, 브래킷 밑면 표면(428)은 상단 기준 평면(426)을 획정하는 평탄한 패들 상단 표면(414) 바로 아래에 배치되는 패들(400)의 일부로서 정의된다. 예에서, 복수의 리브(415) 각각의 최하부는 (다시, 평탄한 패들 상단 표면(414) 아래에서) 브래킷 밑면 표면(428)으로서 작용한다. 이 예에서, 리브(415)는 전방벽 높이(H)보다 낮은 경사 천이벽(410) 상의 위치까지 연장된다. 경사 천이벽(410)은 브래킷 밑면 표면(428)과 하단벽(408)을 연결한다. 압박 패들(400)의 브래킷 단부(404)는 압박 단부(402)보다 상당히 높아서, 위치 설정 및 압박 동안 기술자가 유방에 대한 액세스를 개선하게 한다.
압박 패들(400)이, 예를 들어 도 6a의 관점에서 위쪽으로부터 볼 때, 하단벽(408) 및 천이벽(410)은 상단 기준 평면(430)을 향해 상향으로 연장되는 경계 또는 주변벽(416)에 의해 실질적으로 둘러싸인다. 따라서, 이 관점에서 볼 때, 하단벽(408), 천이벽(410), 및 경계 또는 주변벽(416)은 반-경계 체적(434)을 획정한다. 도시된 예에서, 하단벽(408) 및 천이벽(410)은 하단벽(408)이 오목하지 않은 반-경계 체적(434)의 하부 표면을 형성한다. 보다 구체적으로, 하단벽(408)은 도 6b에 도시된 바와 같이 볼록형이다. 천이벽(410)은 위쪽으로부터 볼 때 실질적으로 오목형이다. 2개의 측방향 경계벽(416b)은 전방 경계벽(416a)으로부터 후방 경계벽(416c)까지 연장되고, 천이벽(410)을 따라 대체로 상향으로 경사진다. 하단벽(408)은 만곡된 계면(418)에서 각각의 경계벽(416)에 연결된다. 전술한 바와 같이, 전방 경계벽(416a)의 최상부는 하단 기준 평면(426) 위의 전방 경계벽 높이(H)를 갖는다. 후방 경계벽(416c)의 최상부는 브래킷(404) 부분의 상단 표면(414)에 연결되고 그 높이와 대략 동일한 높이를 갖는다. 따라서, 하단 기준 평면(426) 위의 이 후방 경계벽 높이는 최대 패들 높이(HP)와 대략 동일하여, 전방 경계벽 높이(H)는 하단 기준 평면(426) 위의 후방 경계벽 높이보다 작다. 하단벽(408)의 2개의 외부 에지 부분(424)은 2개의 측방향 경계벽(416b)에 근접하여 배치된다. 하단벽(408)은 또한 전방 경계벽(416a)에 근접하여 배치되는 근위 부분(434) 및 전방 경계벽(416a)으로부터 원위에 배치된 원위 부분(436)을 포함한다. 원위 부분(436)은 천이벽(410)에 근접하고 하단 기준 평면(426) 위의 거리(d)에 배치된다. 이 거리(d)는 압박 부분(402)이 아래에 배치된 유방 지지 플랫폼과 접촉하지 않고 상향으로 굴곡되게 한다. 도 6c에 도시된 바와 같이, 천이벽(410)의 높은 부분(437)은 하단 기준 평면(426) 위의 높은 부분 거리(438)에 배치된다. 도 6a 내지 도 6c의 압박 패들(400)에서, 높은 부분 거리(438)는 전방 경계벽 높이(H)보다 더 크다. 도 6a에 가장 명확하게 보일 수 있는 바와 같이, 후방 경계벽(416c)은 후방 패들벽(412)과 대체로 평행하다. 리브(415)는 후방 경계벽(416c)으로부터 후방 패들벽(412)으로 연장되는 것으로 보여질 수 있다.
도 7a 내지 도 7c는 각각 압박 패들(500)의 다른 예의 사시도, 정면도 및 측면도이며, 동시에 설명된다. 압박 패들은 압박 부분(502) 및 브래킷 부분(504)을 포함한다. 압박 부분(502)은 압박 동안 환자의 흉벽에 근접하여 배치되도록 구성되고, 브래킷 부분(504)은 압박 패들(500)을 촬상 시스템의 압박 아암에 고정시키는 데에 사용된다. 브래킷 부분(504)은 압박 패들(500)의 적어도 일부 아래에 액세스 영역(506)을 획정하도록 압박 부분(502)에 비해 상승되어 있어, 전술한 바와 같이 기술자가 위치 설정 동안 환자의 유방에 보다 양호하게 액세스하게 한다. 전방벽(506)은 환자의 흉벽과 접촉하도록 배치된다. 하단벽(508)은 촬상 절차 동안 유방을 위한 압박 표면으로서 작용한다. 천이벽(510)은 브래킷 부분(504)을 향해 연장되고 액세스 영역(506)을 적어도 부분적으로 획정한다. 후방 브래킷 벽(512)은 브래킷 부분(504)과 압박 패들(500) 모두의 최상부 범위를 획정하는 표면(514)으로부터 아래로 연장된다. 복수의 리브(515)는 후방 브래킷 벽(512)으로부터 연장되어 압박 패들(500), 즉 브래킷 부분(504)에 구조적 강성을 제공한다. 압박 부분(502)의 개방된 사발형 형태는 유방의 압박 동안 압박 부분(502)의 굴곡을 허용한다. 경계벽(516)은 대체로 개방된 사발형 구조를 획정한다. 경계벽(516)은 전방 경계벽(516a), 측방향 경계벽(516b), 및 후방 경계벽(517c)을 포함한다. 전방 경계벽(516a)은 전방벽(506)과 대체로 동일한 공간을 차지한다.
위에서 언급한 바와 같이, 전방벽(506)은 촬상 동안 환자의 흉벽에 인접하고 흉벽과 대면하도록 구성된다. 전방벽(506)은 전방벽 높이(H), 하단벽(508)에 연결되는 만곡된 하부 계면(518), 및 전방 기준 평면(520)을 포함한다. 하단벽(508)은 흉벽으로부터 멀어지게 연장되고 촬상 동안 압박된 유방의 상단의 길이에 인접한다. 하단벽(508)은 대체로 중심 부분(522) 및 중심 부분(522)을 적어도 부분적으로 획정하는 2개의 외부 에지 부분(524)을 포함한다. 이 예에서, 대체로 중심 부분(522)은, 예를 들어 도 7c의 측면도에 가장 명확하게 도시된 바와 같이 전방 기준 표면(520)으로부터 멀어지게 연장되는 2개의 외부 에지 부분(524)에 비해 상승되어 있다. 2개의 외부 에지 부분(524)(또는 그 위에 배치된 적어도 3개의 지점)은 전방 기준 평면(520)에 실질적으로 직교하는 하단 기준 평면(526)을 획정한다. 이 경우에, 하단 기준 평면(526)은 대체로 패들(500)의 최하부 지점에 의해 획정되는 수평 평면이다. 브래킷(504)은 전방벽(506)으로부터 원위에 있으며, 패들 상단 표면(514) 및 브래킷 밑면 표면(528)을 포함한다. 패들 상단 표면(514)은 하단 기준 평면(526)에 실질적으로 평행한 상단 기준 평면(530)을 획정한다. 상단 기준 평면(530)은 하단 기준 평면(526) 위의 최대 패들 높이(HP)에 배치된다. 이 최대 패들 높이(HP)는 전방벽 높이(H)보다 크고, 이에 의해 기술자의 액세스를 개선시킨다.
후방 브래킷 벽(512)은 전방벽(506)에 대향하여 배치되고 패들 상단 표면(514)과 브래킷 밑면 표면(528)을 연결하고, 후방 브래킷 벽(512)은 전방벽 높이(H)보다 큰 하단 기준 평면(526) 위의 거리(532)에서 종결된다. 도 7a 내지 도 7c에 도시된 것과 같은 예에서, 브래킷 밑면 표면(528)은 상단 기준 평면(526)을 획정하는 평탄한 패들 상단 표면(514) 바로 아래에 배치되는 패들(500)의 일부로서 정의된다. 예에서, 복수의 리브(515) 각각의 최하부는 (다시, 평탄한 패들 상단 표면(514) 아래에서) 브래킷 밑면 표면(528)으로서 작용한다. 이 예에서, 리브(515)는 전방벽 높이(H)보다 낮은 경사 천이벽(510) 상의 위치까지 연장된다. 경사 천이벽(510)은 브래킷 밑면 표면(528)과 하단벽(508)을 연결한다. 압박 패들(500)의 브래킷 단부(504)는 압박 단부(502)보다 상당히 높아서, 위치 설정 및 압박 동안 기술자가 유방에 대한 액세스를 개선하게 한다.
압박 패들(500)이, 예를 들어 도 7a의 관점에서 위쪽으로부터 볼 때, 하단벽(508) 및 천이벽(510)은 상단 기준 평면(530)을 향해 상향으로 연장되는 경계 또는 주변벽(516)에 의해 실질적으로 둘러싸인다. 따라서, 이 관점에서 볼 때, 하단벽(508), 천이벽(510), 및 경계 또는 주변벽(516)은 반-경계 체적(534)을 획정한다. 도시된 예에서, 하단벽(508) 및 천이벽(510)은 하단벽(508)이 오목하지 않은 반-경계 체적(534)의 하부 표면을 형성한다. 보다 구체적으로, 하단벽(508)은 도 7b에 도시된 바와 같이 볼록형이다. 천이벽(510)은 위쪽으로부터 볼 때 실질적으로 오목형이다. 2개의 측방향 경계벽(516b)은 전방 경계벽(516a)으로부터 후방 경계벽(517c)까지 연장되고, 천이벽(510)을 따라 대체로 상향으로 경사진다. 하단벽(508)은 만곡된 계면(518)에서 각각의 경계벽(516)에 연결된다. 전술한 바와 같이, 전방 경계벽(516a)의 최상부는 하단 기준 평면(526) 위의 전방 경계벽 높이(H)를 갖는다. 후방 경계벽(516c)의 최상부는 브래킷(504) 부분의 상단 표면(514)에 연결되고 그 높이와 대략 동일한 높이를 갖는다. 따라서, 하단 기준 평면(526) 위의 이 후방 경계벽 높이는 최대 패들 높이(HP)와 대략 동일하여, 전방 경계벽 높이(H)는 하단 기준 평면(526) 위의 후방 경계벽 높이보다 작다. 하단벽(508)의 2개의 외부 에지 부분(524)은 2개의 측방향 경계벽(516b)에 근접하여 배치된다. 하단벽(508)은 또한 전방 경계벽(516a)에 근접하여 배치되는 근위 부분(534) 및 전방 경계벽(516a)으로부터 원위에 배치된 원위 부분(536)을 포함한다. 원위 부분(536)은 천이벽(510)에 근접하고 하단 기준 평면(526) 위의 거리(d)에 배치된다. 이 거리(d)는 압박 부분(502)이 아래에 배치된 유방 지지 플랫폼과 접촉하지 않고 상향으로 굴곡되게 한다. 도 7c에 도시된 바와 같이, 천이벽(510)의 높은 부분(537)은 하단 기준 평면(526) 위의 높은 부분 거리(538)에 배치된다. 도 7a 내지 도 7c의 압박 패들(500)에서, 높은 부분 거리(538)는 전방 경계벽 높이(H)보다 더 크다. 도 7a에 가장 명확하게 보일 수 있는 바와 같이, 후방 경계벽(517c)은 후방 패들벽(512)과 대체로 평행하다. 리브(515)는 후방 경계벽(516c)으로부터 후방 패들벽(512)으로 연장되는 것으로 보여질 수 있다.
도 8은 압박 패들(600)의 다른 예의 후방 표면 사시도이다. 압박 패들(600)은 압박 단부(602) 및 브래킷 단부(604)를 포함하고 도 5a 내지 도 5c의 압박 패들(300)과 대체로 일치하도록 구성된다. 그러나, 도 6a 내지 도 7c에 도시된 압박 패들(400, 500)은 그러한 리세스를 포함하도록 유사하게 수정될 수 있다. 이 예에서, 전방벽(606)은 리세스 또는 함입부(650)를 적어도 부분적으로 획정한다. 리세스(650)는 상부 폭(WU) 및 상부 폭(WU)보다 넓은 하부 폭(WL)에 의해 획정된다. 리세스(650)는 전방벽(606)의 각도에 대해 일정 각도로 또한 배치된 만곡된 벽(652)을 포함한다. 이 리세스(650)는 실리콘 또는 식염수 유방 임플란트를 포함하는 유방의 방해받지 않은 시야를 얻는 데에 특히 유리하다. 리세스(650)의 만곡된 벽(652)은 촬상 시스템의 초점 소스에 집중된다. 리세스(650)의 만곡된 벽(652)은 패들(600) 아래의 압박 영역으로부터 임플란트를 밀어낸다. 예에서, 상부 폭(WU)은 하부 폭(WL)의 약 50%일 수 있다. 다른 예에서, 상부 폭(WU)은 하부 폭(WL)의 약 45-60%, 약 40-70%, 또는 약 35-80%일 수 있다.
도 9a 내지 도 9c는 촬상 절차 전에 압박 패들(700)을 사용하는 방법을 도시한다. 도시된 도면에서, 명확성을 위해 환자의 몸통은 도시되지 않는다. 추가적으로, 도 3 내지 도 4e에 도시된 것과 유사한 압박 패들(700)이 도시되어 있다. 도 5a 내지 도 8에 도시된 다른 패들이 또한 전술한 바와 같이 패들 브래킷 아래에 위치한 액세스 영역으로 인해 유사한 결과로 이용될 수 있다. 도 9a 내지 도 9c에는, 플랫폼(702) 상의 유방(B) 및 유방(B)를 조작하는 기술자(T)의 대략적인 위치가 도시되어 있다. 유방이 플랫폼(702) 상에 위치되면, 압박 패들(700)이 도 9a에 도시된 바와 같이 하강될 때(L) 기술자(T)에 의해 제자리에 유지된다. 도 9b는 압박 패들(700)이 먼저 유방(B)과 접촉하는 상태를 도시한다. 기술자(T)는 필요에 따라 유방(B)을 위치 설정하도록 손을 움직일 수 있다(M). 종래 기술의 압박 패들에서, 압박 패들이 유방과 처음 접촉하는 이 위치는 기술자와 압박 패들 사이에 간섭을 유발하기 시작할 수 있다. 그러나, 본 압박 패들(700)의 액세스 코너(704)는 기술자(T)가 압박 패들(700)과의 최소(있다면)의 간섭으로 유방(B)에 대해 손을 움직이게 한다. 도 9c에서, 압박 패들(700)이 추가로 하강되어(L) 추가로 압박한다. 압박 패들(700), 즉 액세스 코너(704)의 형태로 인해, 기술자(T)는 손이 압박 패들(700)과 유방(B) 사이에 걸리는 것을 두려워하지 않고 유방(B)을 더 오래 조작하고 위치 설정할 수 있다. 따라서, 기술자(T)는 손을 빼내고(W) 촬상 절차를 시작하기 전에 유방(B)과의 접촉을 더 오래 유지할 수 있다.
본 개시내용은 가능한 기술 중 일부만이 도시된 첨부 도면을 참조하여 본 기술의 일부 예를 기술하였다. 그러나, 다른 양태가 많은 상이한 형태로 구현될 수 있으며 본 명세서에 기재된 예로 제한되는 것으로 해석되어서는 안된다. 오히려, 이들 예는 본 개시내용이 철저하고 완전하며 가능한 예의 범위를 본 기술 분야의 숙련자에게 충분히 전달하도록 제공되었다.
특정 예가 본 명세서에 설명되었지만, 본 기술의 범위는 이들 특정 예에 제한되지 않는다. 본 기술 분야의 숙련자는 본 기술의 범위 내에 있는 다른 예 또는 개선점을 인식할 것이다. 따라서, 특정 구조, 동작 또는 매체는 단지 예시적인 예로서만 개시되어 있다. 본 명세서에 달리 언급되지 않는 한, 본 발명에 따른 실시예는 또한 일반적으로 개시되어 있지만 조합으로 명시적으로 예시되지 않은 실시예의 요소 또는 구성요소를 조합할 수 있다. 본 기술의 범위는 다음의 청구범위 및 그 임의의 등가물에 의해 한정된다.

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  31. 유방 압박 패들이며,
    실질적으로 유방 압박 패들의 수직 방향을 따라 연장되는 복수의 경계벽으로서, 복수의 경계벽이 전방 경계벽, 후방 경계벽 및 전방 경계벽으로부터 후방 경계벽으로 연장되는 2개의 측방향 경계벽을 포함하는, 복수의 경계벽;
    전방 경계벽으로부터 멀어지게 후방 경계벽으로부터 연장되는 브래킷 부분; 및
    만곡된 계면에서 복수의 경계벽 각각에 연결된 하단벽으로서, 하단벽은 수직 방향에 대해 적어도 3개의 최하부 지점을 포함하고 수직 방향에 실질적으로 직교하는 하단 기준 평면을 획정하고, 전방 경계벽의 최상부는 하단 기준 평면 위의 전방 경계벽 높이에 배치되고, 후방 경계벽의 최상부는 하단 기준 평면 위의 후방 경계벽 높이에 배치되고, 전방 경계벽 높이가 후방 경계벽 높이보다 작은, 하단벽
    을 포함하는, 유방 압박 패들.
  32. 제31항에 있어서, 상기 하단벽은 상승된 중심 부분 및 복수의 외부 에지 부분을 포함하고, 적어도 3개의 지점은 복수의 외부 에지 부분 상에 배치되는, 유방 압박 패들.
  33. 제31항에 있어서, 상기 하단벽은 2개의 측방향 경계벽에 근접하여 배치된 2개의 외부 에지 부분, 및 2개의 외부 에지 부분과 실질적으로 동일한 높이인 중심 부분을 포함하는, 유방 압박 패들.
  34. 제31항에 있어서, 상기 하단벽은 전방 경계벽에 근접하여 배치된 근위 부분 및 전방 경계벽으로부터 원위에 배치된 원위 부분을 포함하고, 원위 부분은 하단 기준 평면 위의 원위 부분 거리에 배치되는, 유방 압박 패들.
  35. 제31항에 있어서, 상기 브래킷 부분은 후방 경계벽에 연결되고, 후방 경계벽과 대향하여 배치되며 후방 경계벽과 실질적으로 평행하게 배치된 후방 패들벽을 포함하는, 유방 압박 패들.
  36. 제35항에 있어서, 상기 후방 경계벽으로부터 후방 패들벽까지 걸쳐 있는 복수의 리브를 더 포함하는, 유방 압박 패들.
  37. 제36항에 있어서, 상기 복수의 리브 중 적어도 하나는 하단벽의 적어도 일부와 접촉하는, 유방 압박 패들.
  38. 제31항에 있어서, 적어도 하단벽은 천이벽을 포함하고, 천이벽의 적어도 일부는 볼록형인, 유방 압박 패들.
  39. 제31항에 있어서, 상기 전방 경계벽은 전방 경계벽의 최상부에 근접하게 배치된 상부 폭 및 하단벽에 근접하게 배치된 하부 폭을 갖는 리세스를 획정하고, 하부 폭이 상부 폭보다 큰, 유방 압박 패들.
  40. 제39항에 있어서, 상기 리세스는 전방 경계벽에 대해 일정 각도로 배치되는, 유방 압박 패들.
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