KR102507867B1 - 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드 - Google Patents

Abstract

실시예는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드에 관한 것이다.
실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드는 왁스패턴의 사출용 고무몰드 패턴을 포함하는 고무몰드에 있어서, 상기 고무몰드 패턴은, 제1 패턴공간을 포함하여 상기 왁스패턴이 형성될 왁스패턴 공간이 형성되며, 상기 고무몰드 패턴은, 상기 제1 패턴공간 내측 또는 외측에 배치되는 스트레처블(stretchable) 몰드패턴을 포함할 수 있다.

Description

정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드{A Rubber Mold for injecting a precise wax pattern}

실시예는 고무몰드에 관한 것으로, 보다 상세하게는 산업용 정밀부품이나 반지, 귀걸이 등의 주얼리 제작에 사용되는 정밀 왁스패턴을 사출하기 위한 왁스 몰드에 관한 것이다.

산업용 정밀부품이나 주얼리 제품을 대량 생산하는데 사용되는 공법에는 로스트-왁스 캐스팅(Lost-wax casting) 또는 인베스트먼트 캐스팅(investment casting) 공법이 있다.

로스트-왁스 캐스팅 공법은 석조제의 매몰제로 만든 주조체 안에 융점이 낮은 왁스(wax)를 탈납(lost)시킨 후 탈납된 공간에 용해된 금속을 부어 넣어 산업용 정밀부품이나 주얼리를 만드는 공법이다. 이때 사용되는 왁스를 사출 왁스(injection wax)라고 한다.

이 사출 왁스를 전용 왁스 사출기(wax injector)와 고무 몰드(rubber mold)를 이용해 대량으로 만들어 낸 후 왁스 트리(wax tree)를 만들어 주조하게 된다.

예를 들어, 종래기술에서 산업용 정밀부품이나 주얼리 제품을 생산하는 공정에서 로스트-왁스 캐스팅 공법이 적용되는 경우 왁스 사출 공정, 주물 공정, 세공 공정, 광 작업 공정, 도금 공정 순으로 진행되고 있다.

한편, 사출 왁스는 종류가 다양하나 그 요구되는 주요 기술적 특성들에는 조각 작업성(Carvability), 유연성(Flexibility), 흐름성(Followability), 이형성(releasability) 등이 있다.

조각 작업성(Carvability)은 왁스가 공구에 달라붙지 않거나 조각 작업을 하는 동안 유지되는 능력이다. 유연성 (Flexibility)은 왁스를 손이나 공구를 이용하여 휘었을 때 부러지지 않고 버티는 능력이다. 흐름성(Followability)은 공간을 채우고 디테일을 더욱 정확하게 재현할 수 있는 능력이다.

한편, 사출 왁스의 이형성(releasability)은 왁스패턴이 변형이나 손상이 없이 고무 몰드에서 잘 분리되어 빠져나오도록 하는 능력이다.

그런데 앞서 설명된 로스트-왁스 캐스팅 공법에 의하면 사출왁스가 탈납된 공간에 대응되어 제품인 주얼리가 만들어 진다.

즉, 사출왁스에 의해 형성된 '왁스패턴의 형태'대로 산업용 정밀부품이나 주얼리 '제품'이 주조되므로 고무 몰드에서 왁스패턴의 변형이나 손상 없이 분리되어 빠져나오는 이형성 (releasability)은 매우 중요하고 핵심적인 특성이 된다.

그런데, 종래기술에서는 이형제를 첨가하는 수준으로 이형성을 개선하고 있으나, 왁스패턴 자체가 복잡한 형상인 경우에는 이형제 만으로는 왁스패턴의 형태를 보존하기 어려운 점이 문제가 있다.

또한 종래기술에서는 이형제 외에 고무 몰드의 구조 등을 개선하는 방안에 대한 연구가 부족한 실정이며 왁스패턴 형태가 유지되지 못하거나 손상되어 최종 산업용 정밀부품이나 주얼리 제품의 품질이 저하되거나 불량이 발생하는 문제가 있다.

실시예는 왁스패턴의 변형이나 손상이 없이 고무몰드에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 우수한 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드를 제공하고자 함을 기술적 과제로 한다.

실시예의 기술적 과제는 본 항목에 기재된 것에 한정되지 않으며, 이건 발명의 설명을 통해 파악되는 기술적 과제를 포함한다.

실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드는 왁스패턴의 사출용 고무몰드 패턴을 포함하는 고무몰드에 있어서, 상기 고무몰드 패턴은, 제1 패턴공간을 포함하여 상기 왁스패턴이 형성될 왁스패턴 공간이 형성되며, 상기 고무몰드 패턴은, 상기 제1 패턴공간 내측 또는 외측에 배치되는 스트레처블(stretchable) 몰드패턴을 포함할 수 있다.

실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드는 제1-2 고무몰드 패턴(210B)과, 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)에 맞물려 결합되는 제2 고무몰드 패턴(220)을 포함할 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 제1 패턴공간(210h1)을 포함하며, 상기 제2 고무몰드 패턴(220)은 제2 패턴공간(220h1)을 포함하여 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)과 상기 상기 제2 고무몰드 패턴(220)이 맞물린 상태에서 상기 제1 패턴공간(210h1)과 상기 제2 패턴공간(220h1)이 상하로 배치됨으로써 왁스패턴(410)이 형성될 왁스패턴 공간이 형성될 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 상기 제1 패턴공간(210h1) 외측에 배치되는 제2 스트레처블(stretchable) 몰드패턴(210p2)을 포함할 수 있다.

상기 제1 패턴공간(210h1)에 채워지는 소정의 왁스패턴(410)이 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)에서 분리될 때 상기 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)이 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제1 고무몰드 몸체(211)로부터 부분적으로 분리되어 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어나고 원래형태로 복귀될 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)은 제2 장식부 몰드패턴(210p2p)을 포함할 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제2 장식부 몰드패턴(210p2p)은 소정의 패턴 원본(110)의 패턴 원본장식부(111b)의 외측 형상에 대응되는 형상을 포함할 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 상기 제1 패턴공간(210h1) 내측에 배치되는 제1 스트레처블(stretchable) 몰드패턴(210p1)을 포함할 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)이 제1 고무몰드 몸체(211)로부터 부분적으로 분리되고 늘어나고 원래형태로 복귀될 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)은 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)을 포함할 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 제1 패턴공간(210h1)과 연결되는 제1 탕로(210h2) 및 상기 제1 탕로(210h2)와 연결되는 제1 주입구(210h3)를 포함할 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 제1 고무몰드 몸체(211)와, 상기 제1 고무몰드 몸체(211)의 외곽 둘레에 배치된 제1 요철패턴(213); 및 상기 제1 고무몰드 몸체(211)의 모서리에 배치된 제1 오목부(212)를 포함할 수 있다.

상기 제2 고무몰드 패턴(220)은 제2 고무몰드 몸체(221); 상기 제2 고무몰드 몸체(221)의 모서리에 배치된 제2 돌출부(222); 상기 제2 고무몰드 몸체(221)의 외곽 둘레에 배치된 제2 요철패턴(223)을 포함하며, 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제1 오목부(212)는 상기 제2 고무몰드 패턴(220)의 제2 돌출부(222)와 맞물려서 고무몰드(200)가 형성될 수 있다.

실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드에 의하면 왁스패턴의 변형이나 손상이 없이 고무몰드에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 우수한 특별한 기술적 효과가 있다.

예를 들어, 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200)가 적용되는 경우, 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 왁스패턴(410)의 변형이나 손상이 없이 제1 고무몰드(200)에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 우수한 기술적 효과가 있다.

또한 제1 실시예와 같이 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)이 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)을 구비하고, 상기 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)도 제1 고무몰드 몸체(211)로부터 분리되고 늘어나고 원래형태로 복귀되는 스트레처블 기능을 가짐으로써 왁스 패턴(410)의 왁스패턴 장식부가 정밀하면서 신속히 분리될 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.

또한 제2 실시예의 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제1 패턴공간(210h1)에 채워지는 왁스패턴(410)을 분리될 때, 상기 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 왁스패턴(410)의 변형이나 손상이 없이 제2 고무몰드(202)에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 매우 우수한 특별한 기술적 효과가 있다.

또한 제2 실시예의 제1-2 고무몰드 패턴(210B)에서 왁스패턴(410)을 분리할 때, 상기 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)뿐만 아니라 상기 제2 장식부 몰드패턴(210p2p)은 상기 제1 고무몰드 몸체(211)로부터 분리되고 늘어나고 원래형태로 복귀됨으로써 이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 장식부패턴(411b)을 구비하는 왁스패턴(410)을 보다 쉽고 정밀하게 분리해낼 수 있다.

실시예의 기술적 효과는 본 항목에 기재된 것에 한정되지 않으며, 이건 발명의 설명을 통해 파악되는 기술적 효과를 포함한다.

도 1은 실시예에 따른 산업용 정밀부품 또는 주얼리의 전체적인 제조공정도.
도 2는 실시예에 따른 산업용 정밀부품 또는 주얼리 제조공정에서 왁스 사출공정의 상세도.
도 3a 내지 도 5는 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200) 제작공정도.
도 6a는 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드의 분리 사시도.
도 6b는 도 6a에 도시된 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드에 대응되는 사진.
도 6c는 도 6b의 제1 고무몰드 패턴 및 제2 고무몰드 패턴이 맞물린 상태의 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.
도 7a는 제1 실시예에서 제1 고무몰드 패턴의 상세도.
도 7b 내지 도 7d는 제1 실시예에서 제1 고무몰드 패턴의 제1 사진 내지 제3 사진.
도 7e는 제1 실시예에서 제1 고무몰드 패턴과 제2 고무몰드 패턴이 분리된 상태에서 왁스 패턴이 보이는 상태 사진.
도 7f는 제1 실시예의 제1 고무몰드 패턴으로부터 분리된 왁스 패턴을 포함한 사진.
도 8a는 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드의 분리 사시도.
도 8b는 도 8a에 도시된 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드에 대응되는 사진.
도 9a는 제2 실시예에서 제1-2 고무몰드 패턴의 상세도.
도 9b 내지 도 9e는 도 9a에 대응되는 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드의 제1 사진 내지 제4 사진.
도 9f는 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드에서 왁스 패턴이 분리되는 작업 상태 사진.
도 9g는 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드에서 왁스 패턴이 분리된 후의 상태 사진.
도 10은 제2 실시예가 적용된 경우의 분리된 왁스 패턴과 비교 왁스 패턴의 사진.

이하에서는 도면을 참조하여 상기 과제를 해결하기 위한 실시예에 따른 발명을 보다 상세하게 설명한다.

이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 단순히 본 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되는 것으로서, 그 자체로 특별히 중요한 의미 또는 역할을 부여하는 것은 아니다. 따라서, 상기 "모듈" 및 "부"는 서로 혼용되어 사용될 수도 있다.

제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.

본 출원에서, "포함한다", "가지다" 또는 “구비한다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

도 1은 실시예에 따른 산업용 정밀부품 또는 주얼리의 전체적인 제조공정도이며, 도 2는 실시예에 따른 산업용 정밀부품 또는 주얼리 제조공정에서 왁스 사출공정의 상세도이다.

도 1을 참조하면, 실시예에 따른 산업용 정밀부품 또는 주얼리의 제조공정은 왁스 사출 공정, 주물 공정, 세공 공정, 광 작업 공정, 도금 공정 등을 포함할 수 있으며, 전체적인 공정을 설명 후 이건 발명의 기술적 과제를 해결하기 위한 왁스 사출공정을 상술하기로 한다.

이하 주얼리 기술에 대한 실시예로 설명하나 이건 발명이 주얼리 기술에 한정되는 것은 아니다.

도 1을 참조하면, 실시예에 따른 주얼리의 제조공정은 왁스 사출 공정, 주물 공정, 세공 공정, 광 작업 공정, 도금 공정 등을 포함할 수 있으며, 전체적인 공정을 설명 후 이건 발명의 기술적 과제를 해결하기 위한 왁스 사출을 상술하기로 한다.

<왁스 사출 공정>

우선 왁스 사출 공정은 제품의 대량생산을 위한 기초작업이 되는 공정이다.

실시예에서 왁스 사출공정에 사용되는 사출용 왁스(wax)는 수지 합성물일 수 있으며, 그 색상은 밀랍 색상과 비슷할 수 있다.

왁스 사출공정은 왁스 사출기(Wax injector)에 장착된 고무몰드에 용융된 왁스를 삽입 사출하여 대상제품에 대응되는 원형 패턴(110)(도 3b 참조)과 같은 형태의 왁스패턴(wax pattern)(410)(도 3c 참조)을 대량 생산할 수 있다. 왁스 사출 공정은 이후에서 보다 상세설명 하기로 한다.

<주물(casting) 공정>

주물 공정은 왁스패턴(410)의 형태를 금속의 형태의 제품으로 바꾸는 작업이다.

예를 들어, 석고재질의 매몰제로 만든 주조체 안에 융점이 낮은 왁스 패턴(410)을 탈납(lost)시킨 후 탈납된 공간에 용해된 금속을 부어 넣어 산업용 정밀 부품 또는 주얼리로 제품화하는 과정이다.

예를 들어, 은(Ag) 제품의 주얼리의 경우 주물작업의 온도는 약 400~500℃범위에서 작업할 수 있으며, 은(Ag) 100%로 작업하지 않고 은(Ag) 외에 합금을 소정 % 포함시켜 은의 무른 성질을 상쇄할 수 있다.

<세공 공정>

세공공정은 금속 표면처리, 연마, 셋팅 공정 등을 포함할 수 있다. 세공공정은 주물에서 나온 주얼리 제품을 좀더 다듬어 주는 과정으로서 주얼리 제품에 불필요한 부분을 제거해주거나, 주얼리 제품의 불규칙한 표면을 줄이나 사포를 사용하여 매끄럽게 다듬어주거나 또는 주얼리 제품의 장식부에 다이아, 진주 등의 장식을 셋팅하는 공정을 포함한다.

<광 작업 공정>

추가적으로 산업용 주얼리 제품의 표면을 좀더 정밀하게 래핑하여 광을 내주는 작업이다.

<도금 공정>

도금 공정은 주얼리 제품의 변색을 방지하거나 주얼리 제품을 좀더 고급스럽게 보이도록 만드는 작업이다. 도금 공정으로는 전기도금 공정을 사용할 수 있으며, 주얼리 제품 상에 합금물이 포함된 도금막을 형성하여 광택을 만들어 주거나 높은 경도를 유지시켜주어 주얼리 제품의 변색을 막아줄 수 있다.

이하 제1 실시예 내지 제2 실시예를 통해 이건 발명의 '정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드'에 대해 상술하기로 한다.

<제1 실시예>

도 2는 실시예에 따른 주얼리 제조공정에서 왁스 사출공정의 상세도이며, 도 3a 내지 도 7f는 실시예에 따른 왁스 사출공정에서 제1 정밀 왁스패턴 사출용 고무몰드 제작 공정도이다.

도 2를 참조하면, 실시예에서 왁스 사출공정은 왁스 준비단계, 고무몰드 제작공정, 왁스의 사출공정, 왁스패턴의 분리공정을 포함할 수 있다.

우선, 실시예의 왁스 준비단계에서 사용되는 사출 왁스는 수지 합성물로 원래 색상은 밀랍 색상과 비슷할 수 있다. 이에 따라 각 사출 왁스 제품을 기능별로 구분하기 위하여 염색하여 색으로 나눌 수 있다.

예를 들어, 실시예에서 사출 왁스로 청록색 왁스(Turquise Wax) 또는 청색 왁스(Blue Wax or Plasti-Flex Wax)가 사용될 수 있고, 또한 하늘색 왁스(Aqua Wax), 분홍색 왁스 (Pink Wax), 빨간색 왁스 (Red Wax) 등이 사용될 수 있다.

앞서 기술한 바와 같이, 사출 왁스의 특성 중에 이형성(releasability)은 변형이나 손상이 없이 고무 몰드에서 왁스패턴(410)이 잘 빠져나오도록 하는 중요한 능력이다.

왁스패턴(410)은 이후에 탈납된 후 탈납된 공간에 주물공정을 통해 주얼리 제품이 만들어 지는 것이므로 왁스패턴(410)의 형태대로 주얼리 제품이 제조된다. 이에 따라 고무 몰드에서 왁스패턴(410)의 변형이나 손상 없이 분리되어 빠져나오는 이형성 (releasability)은 매우 중요한 특성이다.

이에 따라 실시예는 왁스패턴(410)의 변형이나 손상이 없이 고무몰드에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 우수한 정밀 왁스패턴 사출용 고무몰드를 제공하고자 함을 기술적 과제로 하며, 이후 설명되는 고무몰드의 구조를 개선함으로써 이러한 기술적 과제를 효과적으로 해결할 수 있다.

다시 도 2를 참조하면, 왁스패턴(410)을 사출하기 위한 고무몰드 제작공정을 진행하고, 그 이후 왁스 사출기에 실시예에 따른 고무몰드(200)(도 6a 내지 도 6c 참조)를 장착하여 왁스의 사출공정을 진행한다. 이후 실시예에 따른 고무몰드(200)에서 왁스패턴(410)의 분리공정을 진행한다.

예를 들어, 왁스사출 작업 온도는 약 60~80℃ 범위일 수 있으며, 사출작업 압력은 2~20psi 일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 실시예에 의하면 왁스 사출기(Wax injector)에 왁스를 입력한 후 실시예에 따른 고무몰드(200)에 사출하여 원형 패턴(110)과 같은 형태의 왁스패턴(410) 제품을 대량 생산할 수 있다.

이후 도 3a 내지 도 5를 참조하여 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200) 제작공정을 상세히 설명하기로 한다.

우선 도 3a와 같이 몰드 틀(120)과 제1 패턴 원본(110)을 준비한다. 상기 몰드 틀(120)에는 제1 패턴 원본(110)이 삽입된 상태에서 고무몰드 물질이 채워지게 된다(도 4a 내지 도 4d 참조).

도 3b는 실시예에서 제1 패턴 원본(110)의 사진이며, 제1 패턴 원본(110)이 이러한 형태에 한정되는 것은 아니며, 도 3d와 같이 다른 형태의 제2 패턴 원본(110B)도 가능하다.

실시예에서 제1 패턴 원본(110)의 형태는 최종 주얼리 제품의 형태에 대응된다.

구체적으로 제1 패턴 원본(110)의 형태는 도 3c의 왁스패턴(410)의 형태에 대응되며 왁스패턴(410)은 최종 주얼리 제품의 형태에 대응되므로 제1 패턴 원본(110)의 형태는 최종 주얼리 제품의 형태에 대응된다.

도 3b를 참조하면, 실시예에서 상기 제1 패턴 원본(110)은 패턴 원본몸체(111)와 탕도(112)를 포함할 수 있다. 상기 탕도(112)는 금속 재질로 형성될 수 있으며 상기 패턴 원본몸체(111)에 용접 등으로 결합될 수 있다. 상기 탕도(112)를 통해 사출용 왁스가 고무몰드(200)에 흘러 들어갈 수 있다.

도 3b를 참조하면, 실시예에서 패턴 원본(110)의 패턴 원본몸체(111)는 패턴 원본부(111a)와 패턴 원본장식부(111b)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 패턴 원본부(111a)는 반지에 대응될 수 있으며, 상기 패턴 원본장식부(111b)는 반지에 결합되는 장식형태이거나 다이아, 진주 등의 장식물이 장착되는 장착부에 대응될 수 있다.

예를 들어, 도 3b에서 패턴 원본장식부(111b)는 그 자체가 장식형태인 예이며, 도 3d에서 제2 패턴 원본(110B)의 제2 패턴 원본장식부(111c)는 다이아, 진주 등의 장식물이 장착될 수 있는 장착부일 수 있다.

다음으로 도 4a와 같이 몰드 틀(120)에 반쯤 제1 고무물질(215a)을 채우고 제1 패턴 원본(110)을 고정시켜 줄 수 있다. 상기 제1 패턴 원본(110)에는 제2 탕도부(115)를 결합하여 이후 진행되는 왁스 사출공정에서 왁스가 원활히 탕도(112)로 삽입될 수 있도록 할 수 있다. 이때 비눗물 등으로 몰드 틀(120) 안쪽에 코팅해주면 고무몰드가 경화된 후 분리가 용이할 수 있다.

이후 도 4b와 같이 몰드 틀(120)의 나머지 절반을 제2 고무물질(215b)로 채워준다.

이후 도 4c와 같이 제1 고무물질(215a)과 제2 고무물질(215b)이 결합되고, 튀어나온 고무물질은 칼 등으로 긁어서 몰드 틀(120)과 비슷한 높이로 맞출 수 있으며, 이를 통해 1차 고무물질(215)이 제조될 수 있다.

다음으로 도 4d와 같이, 소정의 프레스(미도시)에 1차 고무물질(215)의 경화공정을 진행하여 제1 패턴 원본(110)이 포함된 상태의 2차 고무물질(217)을 제조할 수 있다.

예를 들어, 소정의 경화기에 1차 고무물질(215)을 경화시키면서 압착시킨 상태에서 경화공정을 진행할 수 있다. 1차 고무물질(215)의 경화 시간과 온도는 각 고무 특성에 따라 온도와 시간을 설정할 수 있다. 1차 고무물질(215)에 열이 가해지면 고무가 팽창하면서 밖으로 일부 돌출될 수 있어 제거작업을 진행할 수 있다.

다음으로 도 5와 같이 2차 고무물질(217)을 이용하여 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200)의 제조공정을 진행할 수 있다.

예를 들어, 고정장치(320)로 2차 고무물질(217)을 고정한 상태에서 메스(310) 등으로 2차 고무물질(217)를 절단하여 제1 고무몰드 패턴(210A)과 제2 고무몰드 패턴(220)으로 분리함으로써 제1 패턴 원본(110)을 제거하여 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200) 제조 공정을 진행할 수 있다.

다음으로 도 6a는 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200)의 분리 사시도이며, 도 6b는 도 6a에 도시된 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200)에 대응되는 사진이고, 도 6c는 도 6b의 제1 고무몰드 패턴(210A) 및 제2 고무몰드 패턴(220)이 맞물린 상태의 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200)의 사진이다.

도 6a와 도 6b를 참조하면, 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200)는 제1 고무몰드 패턴(210A) 및 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)에 맞물려 결합되는 제2 고무몰드 패턴(220)을 포함할 수 있다.

이때 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)과 상기 제2 고무몰드 패턴(220)은 소정의 왁스패턴(410)이 사출될 패턴공간을 포함할 수 있다.

이러한 패턴공간에 사출용 왁스가 사출되어 제1 패턴 원본(110)에 대응되는 모양과 형태의 왁스패턴(410)이 형성될 수 있다.

예를 들어, 도 6a를 참조하면, 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)은 제1 패턴공간(210h1)을 포함하며, 상기 제2 고무몰드 패턴(220)은 제2 패턴공간(220h1)을 포함할 수 있다.

상기 제1 고무몰드 패턴(210A)과 상기 상기 제2 고무몰드 패턴(220)이 맞물린 상태에서 상기 제1 패턴공간(210h1)과 상기 제2 패턴공간(220h1)이 상하로 배치됨으로써 왁스패턴(410)이 형성될 왁스패턴 공간이 형성될 수 있다.

또한 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)은 제1 패턴공간(210h1)과 연결되는 제1 탕로(210h2)를 포함하며, 상기 제1 탕로(210h2)와 연결되는 제1 주입구(210h3)를 포함할 수 있다.

상기 제2 고무몰드 패턴(220)도 제2 패턴공간(220h1)과 연결되는 제2 탕로(220h2)를 포함하며, 상기 제2 탕로(220h2)와 연결되는 제2 주입구(220h3)를 포함할 수 있다.

제1 실시예에서 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)은 제1 고무몰드 몸체(211)와, 제1 오목부(212), 제1 요철패턴(213)을 포함할 수 있다. 또한 제1 실시예에서 상기 제2 고무몰드 패턴(220)은 제2 고무몰드 몸체(221)와, 제2 돌출부(222), 제2 요철패턴(223)을 포함할 수 있다.

상기 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 오목부(212)는 상기 제2 고무몰드 패턴(220)의 제2 돌출부(222)와 맞물려서 제1 고무몰드(200)가 될 수 있다.

제1 실시예에 의하면 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 오목부(212)와 상기 제2 고무몰드 패턴(220)의 제2 돌출부(222)가 견고히 맞물림으로써 제1 고무몰드(200)에 왁스 주입공정이 진행될 때 왁스패턴(410)이 형성될 왁스패턴 공간이 정밀하게 유지됨으로써 정밀한 왁스패턴(410)을 제조할 수 있다.

또한 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 요철패턴(213)은 상기 제2 고무몰드 패턴(220)의 제2 요철패턴(223)과 맞물려서 제1 고무몰드(200)가 견고히 결합될 수 있도록 할 수 있다.

제1 실시예에 의하면 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 요철패턴(213)이 상기 제2 고무몰드 패턴(220)의 제2 요철패턴(223)과 맞물림으로써 양 패턴의 결합방향을 용이하게 파악할 수 있으며 왁스 주입공정이 진행될 때 왁스패턴 공간이 견고하며 정밀하게 유지됨으로써 정밀한 왁스패턴(410)을 제조할 수 있다.

다음으로 도 6a와 도 6b를 참조하면 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)은 상기 제1 패턴공간(210h1) 내측에 배치되는 제1 스트레처블(stretchable) 몰드패턴(210p1)을 포함할 수 있다. 상기 제1 스트레처블(stretchable) 몰드패턴(210p1)은 제1 가변형 몰드패턴(210p1)으로 칭해질 수도 있다.

구체적으로 도 7a는 제1 실시예에서 제1 고무몰드 패턴(210A)의 상세도이며, 도 7b는 도 7a에 대응되는 제1 사진(210A1)이다. 도 7b에서 도면번호 330은 제1 고무몰드 패턴(210A)을 들어주는 임의의 도구이다.

제1 실시예에 따른 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)은 상기 제1 패턴공간(210h1) 내측에 배치되는 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)을 포함할 수 있다.

또한 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)은 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)을 포함할 수 있다.

상기 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)은 패턴 원본(110)의 패턴 원본장식부(111b)에 대응되는 형상일 수 있다.

이를 통해 제1 실시예에 의하면 상기 제1 패턴공간(210h1)에 채워지는 왁스패턴(410)이 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)에서 분리될 때, 상기 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 왁스패턴(410)의 변형이나 손상이 없이 제1 고무몰드(200)에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 매우 우수한 특별한 기술적 효과가 있다.

특히 종래 기술에 의하면, 왁스패턴의 분리작업에서 정밀한 패턴인 장식부 패턴 영역이 고무몰드에서 잘 분리되지 않거나 패턴이 손상되거나 꺾이는 문제가 있었다.

그런데 제1 실시예와 같이 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)이 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)을 구비하고, 상기 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)도 제1 고무몰드 몸체(211)로부터 분리되고 늘어나고 원래형태로 복귀되는 스트레처블 기능을 가짐으로써 왁스 패턴(410)의 왁스패턴 장식부가 정밀하면서 신속히 분리될 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.

도 7c와 도 7d는 제1 실시예에서 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제2 사진(210A2), 제3 사진(210A3)이다.

또한 도 7e는 제1 실시예에서 제1 고무몰드 패턴(210A)과 제2 고무몰드 패턴(220)이 분리된 상태에서 왁스 패턴(410)이 보이는 상태 사진이며, 도 7f는 제1 실시예의 제1 고무몰드 패턴(210A)으로부터 분리된 왁스 패턴(410)을 포함한 사진이다.

도 7e와 도 7b 내지 도 7d를 참조하면, 왁스패턴(410)이 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)에서 분리될 때, 상기 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 도 7f와 같이 왁스패턴(410)의 변형이나 손상이 없이 제1 고무몰드(200)에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 매우 우수한 특별한 기술적 효과가 있다.

도 7f에서는 왁스패턴(410) 및 제1 패턴 원본(110)과 함께 비교 왁스패턴(41R)이 포함되어 있다.

도 7f를 참조하면 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200)를 이용하는 경우 왁스 패턴(410)이 제1 패턴 원본(110)에 대응되도록 매우 정밀하게 제조될 수 있다.

예를 들어, 도 7f와 같이 패턴 원본(110)의 패턴 원본몸체(111)는 패턴 원본부(111a)와 패턴 원본장식부(111b)를 포함할 수 있다.

제1 실시예의 고무몰드(200)가 적용된 왁스 패턴(410) 역시 왁스패턴 몸체(411)와 왁스패턴 탕도부(412)를 포함할 수 있다.

이때 왁스패턴 몸체(411)는 왁스패턴 원본부(411a)와 왁스패턴 장식부(411b)를 포함한다.

이때 제1 실시예가 적용된 왁스패턴 원본부(411a)의 형태는 패턴 원본(110)의 패턴 원본부(111a)와 정밀하게 대응되는 형태와 모양을 유지할 뿐만 아니라, 왁스패턴(410)이 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)에서 분리될 때, 도 7a 내지 도 7d와 같이 상기 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 미세하고 복잡한 모양의 왁스패턴 장식부(411b)의 형태도 패턴 원본 장식부(111b)와 정밀하게 대응되는 형태와 모양을 유지할 수 있다.

반면, 도 7f를 참조하면, 제1 실시예가 적용되지 않은 내부 비공개기술에 따른 비교 왁스패턴(40R)이 포함되어 있고, 비교 왁스패턴(40R)은 비교 왁스패턴 몸체(41)와 비교 왁스패턴 탕도부(42)를 포함한다.

이때 비교 왁스패턴 몸체(41)는 비교 왁스패턴 원본부(41a)와 비교 왁스패턴 장식부(41b)를 포함한다.

도 7f의 비교 왁스패턴(40R)을 살펴보면 비교 왁스패턴(40R)이 비공개 내부기술(스트레처블 몰드패턴 비 구비)의 고무몰드 패턴(미도시)에서 분리될 때, 제1 실시예에 따른 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)을 구비하지 못하므로 비교 왁스패턴(40R)이 비공개 내부기술의 고무몰드 패턴(미도시)으로부터 용이하게 분리되지 못하여 비교 왁스패턴 장식부(41b)가 손상된 상태로 분리됨을 알 수 있다.

특히 비교 기술에 의하면, 왁스패턴의 분리작업에서 정밀한 패턴인 왁스패턴 장식부(41b)가 고무몰드에서 잘 분리되지 않거나 패턴이 손상되거나 꺽기는 문제가 있었다.

이에 따라 비공개 내부기술의 고무몰드 패턴(미도시)이 적용되는 경우 비교 왁스패턴(40R)은 제1 패턴 원본(110)의 형태를 유지하지 못하므로 최종 주얼리 제품의 품질이 떨어지거나 불량이 발생한다.

반면, 제1 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(200)가 적용되는 경우, 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 왁스패턴(410)의 변형이나 손상이 없이 제1 고무몰드(200)에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 우수한 기술적 효과가 있다.

특히 제1 실시예와 같이 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)이 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)을 구비하고, 상기 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)도 제1 고무몰드 몸체(211)로부터 분리되고 늘어나고 원래형태로 복귀되는 스트레처블 기능을 가짐으로써 왁스 패턴(410)의 왁스패턴 장식부가 정밀하면서 신속히 분리될 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.

<제2 실시예>

다음으로 도 8a는 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드 (202)의 분리 사시도이며, 도 8b는 도 8a에 도시된 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(202)에 대응되는 사진이다.

또한 도 9a는 제2 실시예에서 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 상세도이며, 도 9b 내지 도 9e는 도 9a에 대응되는 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드의 제1 사진 내지 제4 사진(210B1, 210B2, 210B3, 210B4)이다.

제2 실시예는 제1 실시예의 기술적 특징을 채용할 수 있다.

예를 들어, 도 8a와 도 8b를 참조하면 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(202)는 제1-2 고무몰드 패턴(210B) 및 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)에 맞물려 결합되는 제2 고무몰드 패턴(220)을 포함할 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 제1 패턴공간(210h1)을 포함하며, 상기 제2 고무몰드 패턴(220)은 제2 패턴공간(220h1)을 포함할 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)과 상기 제2 고무몰드 패턴(220)이 맞물린 상태에서 상기 제1 패턴공간(210h1)과 상기 제2 패턴공간(220h1)이 상하로 배치됨으로써 왁스패턴(410)이 형성될 왁스패턴 공간이 형성될 수 있다.

또한 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 제1 패턴공간(210h1)과 연결되는 제1 탕로(210h2)를 포함하며, 상기 제1 탕로(210h2)와 연결되는 제1 주입구(210h3)를 포함할 수 있다.

상기 제2 고무몰드 패턴(220)도 제2 패턴공간(220h1)과 연결되는 제2 탕로(220h2)를 포함하며, 상기 제2 탕로(220h2)와 연결되는 제2 주입구(220h3)를 포함할 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 제1 고무몰드 몸체(211)와, 제1 오목부(212), 제1 요철패턴(213)을 포함할 수 있다. 또한 상기 제2 고무몰드 패턴(220)은 제2 고무몰드 몸체(221)와, 제2 돌출부(222), 제2 요철패턴(223)을 포함할 수 있다.

상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제1 오목부(212)는 상기 제2 고무몰드 패턴(220)의 제2 돌출부(222)와 맞물려서 제2 고무몰드(202)가 될 수 있다.

또한 상기 제1 고무몰드 패턴(210A)의 제1 요철패턴(213)은 상기 제2 고무몰드 패턴(220)의 제2 요철패턴(223)과 맞물려서 제2 고무몰드(202)가 견고히 결합될 수 있다.

다음으로 도 9a와 도 9b를 참조하면 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 상기 제1 패턴공간(210h1) 내측에 배치되는 제1 스트레처블(stretchable) 몰드패턴(210p1)을 포함할 수 있다.

이때 제1 실시예와 달리, 제2 실시예의 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 상기 제1 패턴공간(210h1) 외측에 배치되는 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)을 포함할 수 있다.

또한 상기 제2 실시예의 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)은 제2 장식부 몰드패턴(210p2p)을 포함할 수 있다.

상기 제2 실시예의 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제2 장식부 몰드패턴(210p2p)은 패턴 원본(110)의 패턴 원본장식부(111b)의 외측 형상에 대응되는 형상일 수 있다.

도 9b 내지 도 9d는 도 9a에 대응되는 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(210B)의 제1 사진 내지 제3 사진(210B1, 210B2, 210B3)이다.

또한 도 9f는 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(210B)에서 왁스 패턴(410)이 분리되는 작업 상태 사진이고, 도 9g는 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(210B)에서 왁스 패턴(410)이 분리된 후의 상태 사진이고, 도 10은 제2 실시예가 적용된 경우의 분리된 왁스 패턴(410)과 비교 왁스 패턴(41R)의 사진이다.

도 9f와 도 9g를 참조하면, 제2 실시예의 제1 패턴공간(210h1)에 채워지는 왁스패턴(410)이 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)에서 분리될 때, 상기 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 왁스패턴(410)의 변형이나 손상이 없이 제2 고무몰드(202)에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 매우 우수한 특별한 기술적 효과가 있다.

특히 제2 실시예는 다이아몬드, 진주 등의 장식을 구비한 반지, 귀걸이 등의 주얼리 제작에 사용되는 왁스패턴(410)을 사출하기 위한 왁스 몰드에 관한 것일 수 있다.

다시 도 9a와 도 9b내지 도 9d를 참조하면, 제2 실시예에 따른 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 상기 제1 패턴공간(210h1) 외측에 배치되며 상기 왁스패턴(410)의 장식부패턴(411b)에 대응되는 제2 장식부 몰드패턴(210p2p)을 포함하는 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)을 포함할 수 있다.

이를 통해 왁스패턴(410)을 제2 고무몰드(202)에서 분리할 때, 상기 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)뿐만 아니라 상기 제2 장식부 몰드패턴(210p2p)은 상기 제1 고무몰드 몸체(211)로부터 분리되고 늘어나고 원래형태로 복귀됨으로써 이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 장식부패턴(411b)을 구비하는 왁스패턴(410)을 보다 쉽고 정밀하게 분리해낼 수 있다.

도 10의 사진에는 제2 실시예가 적용된 왁스 패턴(410)과 비교 왁스패턴(41R)이 포함되어 있다.

도 10을 참조하면 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(202)를 이용하는 경우 왁스 패턴(410)이 제1 패턴 원본(110)에 대응되도록 매우 정밀하게 제조될 수 있다.

예를 들어, 제1 원본 패턴(110)에 대응되는 왁스 패턴(410)은 왁스패턴 몸체(411)와 왁스패턴 탕도부(412)를 포함할 수 있다. 이때 왁스패턴 몸체(411)는 왁스패턴 원본부(411a)와 왁스패턴 장식부(411b)를 포함한다.

이때 제2 실시예가 적용된 왁스패턴 원본부(411a)의 형태는 패턴 원본(110)의 패턴 원본부(111a)와 정밀하게 대응되는 형태와 모양을 유지할 뿐만 아니라, 왁스패턴(410)이 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)에서 분리될 때, 도 9b 내지 도 9d와 같이 상기 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 미세하고 복잡한 모양의 왁스패턴 장식부(411b)의 형태도 패턴 원본 장식부(111b)와 정밀하게 대응되는 형태와 모양을 유지할 수 있다.

반면, 도 10를 참조하면, 제2 실시예가 적용되지 않은 내부 비공개기술에 따른 비교 왁스패턴(40R)이 포함되어 있다.

비교 왁스패턴(40R)은 비교 왁스패턴 몸체(41)와 비교 왁스패턴 탕도부(42)를 포함한다. 이때 비교 왁스패턴 몸체(41)는 비교 왁스패턴 원본부(41a)와 비교 왁스패턴 장식부(41b)를 포함한다.

도 10의 비교 왁스패턴(40R)을 살펴보면 비교 왁스패턴(40R)이 비공개 내부기술의 고무몰드 패턴(미도시)에서 분리될 때, 제2 실시예에 따른 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)을 구비하지 못하므로 비교 왁스패턴(40R)이 비공개 내부기술의 고무몰드 패턴(미도시)으로부터 용이하게 분리되지 못하여 비교 왁스패턴 장식부(41b)가 심하게 손상된 상태로 분리됨을 알 수 있다.

특히 비교 기술에 의하면, 왁스패턴의 분리작업에서 정밀한 패턴인 왁스패턴 장식부(41b)가 고무몰드에서 잘 분리되지 않거나 패턴이 손상되거나 꺾이는 문제가 있다.

이에 따라 비공개 내부기술의 고무몰드 패턴(미도시)이 적용되는 경우 비교 왁스패턴(40R)은 제1 패턴 원본(110)의 형태를 유지하지 못하므로 최종 주얼리 제품의 품질이 떨어지거나 불량이 발생한다.

반면, 제2 실시예에 따른 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드(202)가 적용되는 경우, 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 왁스패턴(410)의 변형이나 손상이 없이 제2 고무몰드(202)에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 우수한 기술적 효과가 있다.

특히 제2 실시예와 같이 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)이 제2 장식부 몰드패턴(210p2p)을 구비하고, 상기 제2 장식부 몰드패턴(210p2p)도 제1 고무몰드 몸체(211)로부터 분리되고 늘어나고 원래형태로 복귀되는 스트레처블 기능을 가짐으로써 왁스 패턴(410)의 왁스패턴 장식부(41b)가 정밀하면서 신속히 분리될 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.

다시 도 9e를 참조하면, 도 9e는 제2 실시예에서 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제4 사진(210B4)이다.

제2 실시예에 의하면 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)은 상기 제1 패턴공간(210h1) 내측에 배치되는 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)을 더 포함할 수 있다.

이를 통해 제2 실시예에 의하면 상기 제1 패턴공간(210h1)에 채워지는 왁스패턴(410)이 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)에서 분리될 때, 상기 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)과 제2 스트레처블 몰드패턴(210p2)이 상기 왁스패턴(410)과 함께 상측으로 형태가 늘어남으로써 왁스패턴(410)의 변형이나 손상이 없이 제2 고무몰드(202)에서 잘 분리되어 빠져나오는 이형성(releasability)이 매우 우수한 특별한 기술적 효과가 있다.

제2 실시예에서 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)은 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)을 구비할 수 있다.

이에 따라 제2 실시예와 같이 상기 제1-2 고무몰드 패턴(210B)의 제1 스트레처블 몰드패턴(210p1)이 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)을 구비하고, 상기 제1 장식부 몰드패턴(210p1p)도 제1 고무몰드 몸체(211)로부터 분리되고 늘어나고 원래형태로 복귀되는 스트레처블 기능을 가짐으로써 왁스 패턴(410)의 왁스패턴 장식부가 정밀하면서 신속히 분리될 수 있는 특별한 기술적 효과가 있다.

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 실시예를 한정하는 것이 아니며, 실시예가 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 설정하는 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (10)

1. 왁스패턴의 사출용 고무몰드 패턴을 포함하는 고무몰드에 있어서,
   상기 고무몰드 패턴은, 제1 패턴공간을 포함하여 상기 왁스패턴이 형성될 왁스패턴 공간이 형성되며,
   상기 고무몰드 패턴은, 상기 제1 패턴공간의 외측에 배치되는 제2 스트레처블(stretchable) 몰드패턴을 포함하며,
   상기 제2 스트레처블 몰드패턴은 제2 장식부 몰드패턴을 포함하는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.
2. 제1항에 있어서,
   상기 제1 패턴공간 내측에 배치되는 제1 스트레처블(stretchable) 몰드패턴을 더 포함하는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.
3. 제1항에 있어서,
   상기 제1 패턴공간에 채워지는 상기 왁스패턴이 상기 고무몰드 패턴에서 분리될 때 상기 제2 스트레처블 몰드패턴이 상기 고무몰드 패턴의 제1 고무몰드 몸체로부터 부분적으로 분리되어 상기 왁스패턴과 함께 상측으로 형태가 늘어나고 원래형태로 복귀되는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.
4. 제2항에 있어서,
   상기 제1 스트레처블 몰드패턴이 상기 고무몰드 패턴의 제1 고무몰드 몸체로부터 부분적으로 분리되고 늘어나고 원래형태로 복귀되는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.
5. 제4 항에 있어서,
   상기 고무몰드 패턴의 제1 스트레처블 몰드패턴은 제1 장식부 몰드패턴을 포함하는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.
6. 제1 항에 있어서,
   상기 고무몰드 패턴은 상기 제1 패턴공간과 연결되는 제1 탕로; 및
   상기 제1 탕로와 연결되는 제1 주입구를 포함하는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.
7. 제1 항에 있어서,
   상기 고무몰드 패턴은,
   제1 고무몰드 몸체와,
   상기 제1 고무몰드 몸체의 외곽 둘레에 배치된 제1 요철패턴을 포함하는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.
8. 제7 항에 있어서,
   상기 고무몰드 패턴은,
   상기 제1 고무몰드 몸체의 모서리에 배치된 제1 오목부를 포함하는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.
9. 제7 항에 있어서,
   상기 고무몰드 패턴은,
   상기 제1 고무몰드 몸체에 형성된 제1 고무몰드 패턴과 맞물린 상태로 결합되는 제2 고무몰드 패턴을 더 포함하는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.
10. 제9 항에 있어서,
    상기 제2 고무몰드 패턴은,
    제2 고무몰드 몸체;
    상기 제2 고무몰드 몸체의 모서리에 배치된 제2 돌출부; 및
    상기 제2 고무몰드 몸체의 외곽 둘레에 배치된 제2 요철패턴;을 포함하는 정밀 왁스패턴의 사출용 고무몰드.

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