KR102487599B1

KR102487599B1 - 사출 성형 시스템 및 사출 성형 방법

Info

Publication number: KR102487599B1
Application number: KR1020200084116A
Authority: KR
Inventors: 칭-하오 첸; 량-후이 예
Original assignee: 오트라젯 인크.
Priority date: 2019-07-09
Filing date: 2020-07-08
Publication date: 2023-01-11
Also published as: CN112208053B; CN112208053A; US11712826B2; EP3763505B1; JP2021014115A; EP3763505A1; KR20210007880A; TWI833027B; US20230311378A1; TW202102351A; JP6973757B2; TWM607840U; US20210008767A1

Abstract

[과제] 사출 성형 시스템 및 사출 성형 방법의 제공한다.
[해결수단] 본 발명의 사출 성형 시스템은, 혼합물을 생성하도록 구성된 압출 시스템과, 상기 압출 시스템에 연통 가능하고 또한 상기 혼합물을 토출하도록 구성된 토출구를 포함하는 토출 채널과, 상기 혼합물을 수취하도록 구성된 성형 장치를 포함하며, 각 성형 장치가 중공 공간과, 상기 중공 공간과 연통 가능하고, 상기 토출구와 걸어맞춤 가능한 공급 포트를 포함하며, 본 발명의 사출 성형 방법은, 혼합물을 생성하도록 구성된 압출 시스템과, 토출구를 포함하는 토출 채널과, 제1 성형 장치와, 제2 성형 장치를 제공하는 공정과, 상기 토출구와 상기 제1 성형 장치를 걸어맞춤시키는 공정과, 상기 혼합물을 상기 제1 성형 장치 내에 사출하는 공정과, 상기 토출구를 상기 제1 성형 장치로부터 이탈시키는 공정과, 상기 토출 채널을 상기 제1 성형 장치로부터 멀어지도록 상기 제2 성형 장치를 향하여 이동시키는 공정과, 상기 토출구와 상기 제2 성형 장치를 걸어맞춤시키는 공정과, 상기 혼합물을 상기 제2 성형 장치 내에 사출하는 공정과, 상기 토출구를 상기 제2 성형 장치로부터 이탈시키는 공정을 포함한다.

Description

사출 성형 시스템 및 사출 성형 방법{INJECTION MOLDING SYSTEM AND INJECTION MOLDING METHOD}

(관련 출원의 상호 참조)

본 출원은, 2019년 10월 15일 출원의 미국가특허출원 제62/915,287호, 2019년 12월 19일 출원의 미국가특허출원 제62/950,454호, 2020년 1월 21일 출원의 미국특허출원 제16/748,374호, 및 2019년 7월 9일 출원의 대만특허출원 제108,124,178에 대한 우선권을 주장하는 것으로, 상기 (가)특허출원의 개시를 참조에 의해 본 명세서에 원용한다.

본 발명은 사출 성형 시스템 및 사출 성형 방법에 관한 것으로, 특히, 발포 폴리머 성형품을 제조하기 위한 사출 성형 시스템 및 사출 성형 방법에 관한 것이다.

발포 고분자 재료에는, 높은 강도, 가벼움, 내충격성, 단열성 등, 많은 이점이 있다. 발포 폴리머 성형품은 사출 성형 또는 압출 성형으로 제조할 수 있다. 예를 들어, 고분자 재료를 용해하고, 발포제와 혼합하여 혼합물을 형성한 후, 이 혼합물에 힘 또는 압력이 가해져, 혼합물이 금형의 캐비티에 사출 또는 압출되고, 혼합물이 캐비티 내에서 발포 및 냉각되어 발포 폴리머 성형품이 형성된다.

그러나, 발포 폴리머 성형품을 금형으로부터 취출할 준비가 갖추어지기까지는, 혼합물을 캐비티 내에 일정 시간 두어 발포와 냉각을 기다릴 필요가 있다. 이 때문에, 발포 폴리머 성형품의 제조 효율을 높일 필요가 있다.

본 발명의 주요 목적은, 사출 성형 시스템 및 사출 성형 방법을 제공하는 것에 있다.

본 발명의 일 실시형태에 의하면, 사출 성형 시스템이 개시된다. 본 발명의 사출 성형 시스템은, 압출 시스템과, 토출 채널과, 복수의 성형 장치를 포함한다. 상기 압출 시스템은 고분자 재료와 발포제의 혼합물을 생성하도록 구성된다. 상기 토출 채널은 상기 압출 시스템과 연통 가능하고, 상기 압출 시스템으로부터 이격되게 배치된 토출구를 포함하며, 상기 혼합물을 토출하도록 구성된다. 상기 성형 장치는 상기 토출구로부터 상기 혼합물을 수취하도록 구성된다. 상기 복수의 각 성형 장치가 중공 공간과, 상기 중공 공간과 연통 가능하고, 상기 토출구와 걸어맞춤 가능한 공급 포트를 포함한다.

본 발명의 일 실시형태에 의하면, 사출 성형 방법이 개시된다. 본 발명의 사출 성형 방법은, 금형을 제공하는 공정을 포함하고, 그 중, 상기 금형이, 고분자 재료와 발포제의 혼합물을 생성하도록 구성된 압출 시스템과, 상기 압출 시스템에 연통 가능하고 또한 토출구를 포함하는 토출 채널과, 제1 성형 장치와, 상기 제1 성형 장치에 인접하여 배치된 제2 성형 장치를 포함하며, 그 중, 상기 제1 성형 장치가, 제1 중공 공간과, 상기 제1 중공 공간과 연접(連接) 가능하고 또한 상기 토출구와 걸어맞춤 가능한 제1 공급 포트를 포함하며, 상기 제2 성형 장치가, 제2 중공 공간과, 상기 제2 중공 공간과 연접 가능하고 또한 상기 토출구와 걸어맞춤 가능한 제2 공급 포트를 포함한다. 상기 사출 성형 방법은 또한, 상기 토출구와 상기 제1 공급 포트를 걸어맞춤시키는 공정과, 상기 토출구와 상기 제1 공급 포트를 통해 제1 분량의 상기 혼합물을 상기 제1 중공 공간 내에 사출하는 공정과, 상기 제1 공급 포트로부터 상기 토출구를 이탈시키는 공정을 포함한다. 상기 사출 성형 방법은 또한, 상기 토출 채널을 상기 제1 성형 장치로부터 멀어지도록 상기 제2 성형 장치를 향하여 이동시키는 공정과, 상기 토출구와 상기 제2 공급 포트를 걸어맞춤시키는 공정과, 상기 토출구와 상기 제2 공급 포트를 통해 제2 분량의 상기 혼합물을 상기 제2 중공 공간 내에 사출하는 공정과, 상기 제2 공급 포트로부터 상기 토출구를 이탈시키는 공정을 포함한다.

본 발명의 태양은 첨부한 도면과 이하의 상세한 설명으로부터 보다 이해될 것이다. 업계에서의 표준적 관행에 따라, 다양한 특징이 정확한 축척률은 아닌 것에 주의해야 한다. 실제로 다양한 특징의 치수는, 설명을 명확하게 하기 위해, 임의로 증감되어 있는 경우가 있다.

도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 2a는, 다양한 구성에서의 본 발명의 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 2b는, 다양한 구성에서의 본 발명의 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 2c는, 다양한 구성에서의 본 발명의 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 2d는, 다양한 구성에서의 본 발명의 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 2e는, 다양한 구성에서의 본 발명의 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 2f는, 다양한 구성에서의 본 발명의 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 2g는, 다양한 구성에서의 본 발명의 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 3은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 부분 개략도이다.
도 4는, 본 발명의 일 실시형태에 의한 도 3의 사출 성형 시스템의 부분 개략도이다.
도 5는, 본 발명의 일 실시형태에 의한 도 3의 사출 성형 시스템의 부분 개략도이다.
도 6은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 정면도이다.
도 7은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 8은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 9는, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 정면도이다.
도 10은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 11은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 도 10의 사출 성형 시스템의 부분 개략도이다.
도 12는, 본 발명의 일 실시형태에 의한 도 10의 사출 성형 시스템의 부분 개략도이다.
도 13은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 14는, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 15는, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 부분 개략도이다.
도 16은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 도 15의 사출 성형 시스템의 부분 개략도이다.
도 17은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 도 15의 사출 성형 시스템의 부분 개략도이다.
도 18은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 도 15의 사출 성형 시스템의 부분 개략도이다.
도 19는, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 개략도이다.
도 20은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 방법의 흐름도이다.
도 21은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 방법의 예시적인 운용을 나타내는 개략도이다.
도 22는, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 방법의 예시적인 운용을 나타내는 개략도이다.
도 23은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 방법의 예시적인 운용을 나타내는 개략도이다.
도 24는, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 방법의 예시적인 운용을 나타내는 개략도이다.
도 25는, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 방법의 예시적인 운용을 나타내는 개략도이다.
도 26은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 방법의 예시적인 운용을 나타내는 개략도이다.
도 27은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 방법의 예시적인 운용을 나타내는 개략도이다.
도 28은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 방법의 예시적인 운용을 나타내는 개략도이다.

이하, 본 발명의 다른 특징을 나타내기 위해 다른 실시형태 또는 실시예를 개시한다. 본 발명을 간이하게 나타내기 위해, 부재와 배치의 구체예를 이하에서 나타낸다. 당연히 이들은 예시적이며, 한정할 의도는 없다. 예를 들어, 이하의 설명에서, 제2 요소 상에서의 제1 요소의 형성에는, 제1 요소와 제2 요소가 직접 접촉한 실시형태를 포함하거나, 제1 요소와 제2 요소 사이에 다른 요소가 포함되어, 제1 요소와 제2 요소가 반드시 직접 접촉하지 않는 실시형태를 포함하는 경우가 있을 수 있다. 또한 본 발명은 다른 실시예에서 참조 부호(숫자 및(또는) 문자)를 반복 사용하는 경우가 있다. 이 반복은 간이성과 명확성을 목적으로 하며, 그 자체가 설명되어 있는 다른 실시예 및(또는) 구성 사이의 관계를 결정짓는 일은 없다.

또한, 「의 직하(beneath)」, 「의 하(below)」, 「의 하방(lower)」, 「의 상(above)」, 「의 상방(upper)」 공간적 상대어(spatially relative term)는, 도면에 나타나는 바와 같은 하나의 요소 또는 특징과 다른 요소 또는 특징과의 사이의 관계를 설명하기 위한 기술을 용이하게 하기 위해, 본 명세서에서 사용되는 경우가 있다. 공간적 상대어는, 도면에 묘사된 방향 외에 사용 또는 조작에서의 장치의 다양한 방향을 포함하는 것을 의도한다. 장치는 다른 방향을 향해도(90도 회전되어 있거나, 또는 다른 방향으로 되어 있어도) 되고, 본 명세서에서 사용되는 공간적 상대 기술 용어는 이에 따라 해석되어야 한다.

본 발명의 광범위로 나타내는 수치적 범위 및 파라미터는 근사치이지만, 구체예에 기재된 수치는 가능한 한 정확하게 보고한다. 단, 어떤 수치든 이들 각 시험 측정값에서 볼 수 있는 표준편차로부터 필연적으로 생기는 특정의 오차를 본질적으로 포함한다. 본 명세서에서 사용되는 「약」이라는 용어는, 통상 주어진 값 또는 범위의 10%, 5%, 1% 또는 0.5% 이내를 가리킨다. 또는, 「약」이라는 용어는, 통상의 기술자에 의해 검토되었을 때 허용 가능한 표본 평균의 표준오차 내를 가리킨다. 운용예/실시예를 제외하고, 또는 그 밖에 명시적으로 기재가 없는 한, 여기에 개시되어 있는 재료의 수량, 시간의 길이, 온도, 동작 조건, 양의 비율 등에 대한 모든 수치적 범위, 수량, 값, 비율은, 모든 경우에서 「약」이라는 용어에 의해 수정된다고 이해되어야 한다. 따라서, 특별히 그렇지 않은 것이 나타나지 않는 한, 본 발명 및 첨부한 청구범위에 기술되어 있는 수치 파라미터는, 원하는 바에 따라 변동할 수 있다. 마지막으로, 각 수치적 파라미터는, 보고된 유효한 숫자의 수를 고려하고, 또한 통상의 개산(槪算) 방법을 적용함으로써 해석되어야 한다. 본 명세서에서 범위는 하나의 종점으로부터 다른 하나의 종점까지, 또는 2개의 종점의 사이로서 나타난다. 본 명세서에 개시되는 모든 범위는, 별도로 그렇지 않다는 기재가 없는 한 종점을 포함한다.

도 1에 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(100)의 개략도를 나타낸다. 상기 사출 성형 시스템(100)은, 압출 시스템(10)과, 토출 채널(20)과, 복수의 성형 장치(30)를 포함한다. 상기 압출 시스템(10)은 고분자 재료와 발포제의 혼합물을 생성하도록 구성되고, 이 혼합물을 상기 토출 채널(20) 내에 사출하도록 구성된다. 상기 압출 시스템(10)은, 혼합 배럴(11)과, 사출구(12)를 포함한다. 상기 혼합 배럴(11)은, 상기 고분자 재료를 상기 발포제와 혼합하여 상기 혼합물을 형성하도록 구성되고, 상기 사출구(12)는 상기 혼합물을 압출하도록 구성된다.

상기 압출 시스템(10)은 상기 토출 채널(20)에 연결되거나, 또는 연접 가능하다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 혼합물은 고분자 중합체와 발포제를 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 발포제는, 가열 공정 중에 기체를 방출하고, 이에 의해 이 공정 후에 얻어지는 발포 폴리머 성형품에 기공을 형성하는, 물리 첨가제 또는 화학 첨가제이다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 발포제는 물리 발포제이다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 발포제는 초임계 유체(SCF)이다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 혼합 배럴(11)에 저장된 상기 혼합물을 상기 사출구(12)로부터 상기 토출 채널(20)에 사출할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 하나의 토출 채널(20)이 하나의 사출구(12)에 대응한다. 상기 혼합물이 하나의 압출 시스템(10) 또는 하나의 사출구(12)로부터 하나의 토출 채널(20)에 유입된다. 일부의 실시형태에 있어서, 하나의 사출구(12)가 복수의 토출 채널(20)에 대응한다. 일부의 실시형태에 있어서, 복수의 토출 채널(20)이 상기 사출구(12)에 연결되거나, 또는 연접 가능하다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 토출 채널(20)이 상기 사출구(12)에 장착된다. 상기 토출 채널(20)의 수량은 상기 혼합물의 성질에 기초하여 조정할 수 있다. 상기 토출 채널(20)은 서로 평행하게 연신되어, 서로 인접하여 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 토출 채널(20)이, 혼합 배럴(11)로부터 사출되는 다른 분량의 상기 혼합물을 수용할 수 있다. 상기 토출 채널(20)은 상기 성형 장치(30)에 동일하거나 또는 다른 분량의 상기 혼합물을 토출할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 토출 채널(20)이 다른 온도하에서 운용될 수 있다.

각 토출 채널(20)은 상기 사출구(12)로부터 이격된 토출구(21)를 구비하고 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 토출구(21)가 다른 폭 또는 직경을 가질 수 있고, 그 때문에 각 토출구(21)가 각각 상기 혼합물의 다른 유속을 가질 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출구(21)가 다른 분량의 상기 혼합물을 사출할 수 있다.

상기 토출 채널(20)은 동시에, 또는 개별적으로, 이동, 연신, 또는 끌어들여질 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)의 상기 토출구(21)가 상기 성형 장치(30)에 대해 출입 가능하다.

상기 성형 장치(30)의 수량은 필요에 따라 조정할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 하나의 성형 장치(30)가 하나의 토출 채널(20)에 대응한다. 상기 혼합물이 상기 압출 시스템(10)으로부터 하나의 토출 채널(20)을 통해 하나의 성형 장치(30)에 유입된다. 도 1은 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 하나의 성형 장치(30)에 대응한 2개의 토출 채널(20)을 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 임의의 적합한 수량의 토출 채널(20)을 이용할 수 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다. 또한, 도 1은 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 2개의 성형 장치(30a, 30b)만을 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 임의의 적합한 수량의 성형 장치(30a, 30b)를 이용할 수 있고, 이들 모든 조합이 실시형태의 범위 내에 포함되는 것이 의도되어 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다.

또한, 상기 성형 장치(30a, 30b)는 유사한 특징을 갖는 것으로서 나타나 있지만, 이는 예시를 목적으로 하며, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않고, 상기 성형 장치(30a, 30b)는 원하는 기능을 만족시키기 위해 유사한 구조 또는 다른 구조를 가질 수 있다.

각 성형 장치(30a, 30b)는, 상측 몰드 베이스(34)와, 이 상측 몰드 베이스(34)의 하방에 설치되는 금형을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 금형이, 상기 상측 몰드 베이스(34) 하방의 상형(32)과, 이 상형(32)에 상대하는 하형(33)과, 상기 상형(32)과 상기 하형(33)에 의해 정의되는 중공 공간(31)을 포함한다. 도 1은 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 하나의 금형을 포함하는 하나의 성형 장치(30)를 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 하나의 성형 장치(30)가 상기 상측 몰드 베이스(34) 하방에 복수의 금형을 포함할 수 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 중공 공간(31)이 상기 상형(32)과 상기 하형(33)에 의해 정의된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 상형(32)과 상기 하형(33)이 서로 보완하고, 또한 서로 분리 가능하다. 상기 하형(33)은 하형 캐비티를 포함하고, 상기 상형(32)은 상기 하형 캐비티에 상대하는 상형 캐비티를 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 중공 공간(31)이 상기 상형 캐비티와 상기 하형 캐비티에 의해 형성된다. 도 1은 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 하나의 상기 중공 공간(31)을 포함하는 하나의 금형을 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 하나의 금형이 복수의 중공 공간(31)을 포함할 수 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다. 예를 들어, 하나의 금형이 하나의 상형(32)과 하나의 하형(33)에 의해 정의되는 2개의 중공 공간(31)을 포함한다.

일부의 실시형태에 있어서, 적어도 하나의 공급 포트(35)가 상기 성형 장치(30a, 30b)에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)가 상기 상형(32) 또는 상기 하형(33)의 상방에 배치되고, 상기 중공 공간(31), 상기 상형 캐비티 또는 상기 하형 캐비티에 연통 가능하다. 도 1은 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 2개의 상기 공급 포트(35)가 하나의 금형에 포함되는 것을 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 하나의 금형이 하나의 중공 공간(31)에 연통 가능한 하나 이상의 공급 포트(35)를 포함할 수 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다.

상기 공급 포트(35)는 상기 토출구(21)에 결합하도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 복수의 상기 공급 포트(35)가 상기 성형 장치(30a, 30b)에 배치되고, 대응하는 상기 토출구(21)에 결합하도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)이 상기 상측 몰드 베이스(34)에 수취된다. 각 토출 채널(20)의 적어도 일부가 상기 상측 몰드 베이스(34)로 둘러싸이고, 상기 토출구(21)가 각각 상기 공급 포트(35)에 결합된다. 상기 토출 채널(20)로부터 상기 토출구(21)와 상기 공급 포트(35)를 통해 상기 중공 공간(31)에 상기 혼합물을 수송할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)가 다른 폭 또는 직경을 가질 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 혼합물이 상기 중공 공간(31)에 사출되고, 그 후 상기 중공 공간(31) 내에서 일정 시간 후 발포 폴리머 성형품이 형성된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 상측 몰드 베이스(34)가 대응하는 상기 토출 채널(20)을 수취하도록 구성된 개구(341)를 포함한다. 각 개구(341)가 상기 상측 몰드 베이스(34)를 관통하여 연신된다. 상기 상측 몰드 베이스(34)는, 나사, 체결구 등의 고정 수단에 의해, 상기 상형(32) 상에 탑재할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 상측 몰드 베이스(34)의 재료가 상기 상형(32)의 재료와 동일하다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 상측 몰드 베이스(34)의 폭이 상기 상형(32) 또는 상기 하형(33)의 폭보다 크다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 개구(341)의 수량은 상기 토출 채널(20)의 수량에 대응한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)의 길이(L)가, 상기 상측 몰드 베이스(34)의 두께(H), 상기 성형 장치(30a, 30b)를 보유지지하기 위한 조임력, 상기 성형 장치(30a, 30b)를 제조하기 위한 재료의 성질, 상기 혼합물의 유동성, 상기 혼합물의 온도 등의 요인에 관련된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 상측 몰드 베이스(34)의 두께(H)는, 상기 토출 채널(20)의 길이(L)보다 작다.

상기 혼합물의 유동성과 온도를 소정 범위 내로 유지하기 위해, 일부의 실시형태에 있어서, 상기 각 토출 채널(20)의 길이(L)는 상기 상측 몰드 베이스(34)의 두께(H)보다 크지만, 가능한 한 단축된다.

상기 성형 장치(30a, 30b)는 각각 하나 이상의 압력 조정 시스템(36)을 더 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a, 30b)가 각각 다른 수량의 상기 압력 조정 시스템(36)을 포함하거나, 또는 상기 압력 조정 시스템(36)을 포함하지 않을 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 내부 측벽이 상기 중공 공간(31)을 정의하고, 연접점(37)이 상기 중공 공간(31)에 연접된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 중공 공간(31)의 상기 내부 측벽이 상기 연접점(37)을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 연접점(37)이 상기 중공 공간(31)으로의 유체 또는 기체의 출입을 가능하게 하도록 구성된다.

상기 압력 조정 시스템(36)은, 제1 기체 관로(361)와, 제2 기체 관로(362)와, 기체원(363)과, 제1 밸브(364)와, 제2 밸브(365)와, 감압 유닛(366)을 포함할 수 있다. 상기 제1 기체 관로(361)의 일단이 상기 연접점(37)에 연결되고, 상기 제1 기체 관로(361)의 타단이 상기 기체원(363)에 연결된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 기체원(363)이 유체 또는 기체를 공급하도록 구성되고, 수요에 따라 적합한 유체 또는 기체를 공급할 수 있다. 예를 들어, 이러한 유체 또는 기체는, 공기, 비활성 기체 등으로 할 수 있지만, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.

상기 연접점(37)의 위치, 형상, 수량은 특별히 한정되지 않고, 수요에 따라 조정할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 연접점(37)이 구멍이다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 연접점(37)이 상기 내부 측벽 또는 상기 하형(33)의 상기 내부 바닥벽에 배치되고, 또한 상기 하형(33)을 관통한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 연접점(37)이 기체의 공급과 배출을 행하도록 구성되며, 그 중, 상기 제1 밸브(364)가 열리고, 또한 상기 제2 밸브(365)가 닫혀 있을 때, 상기 유체 또는 기체가 상기 중공 공간(31)에 공급되며, 상기 제1 밸브(364)가 닫히고, 또한 상기 제2 밸브(365)가 열려 있을 때, 상기 중공 공간(31) 내의 상기 유체 또는 기체의 적어도 일부가 배출된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)가 상기 상형(32)의 내부 상벽 또는 내부 측벽에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)와 상기 연접점(37)이 상기 중공 공간(31)의 반대 위치에 배치된다. 한정은 아니고 일례로서, 상기 공급 포트(35)가 상기 상형(32)의 상기 내부 상벽에 배치되고, 상기 연접점(37)이 상기 하형(33)의 상기 내부 바닥벽에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)가 상기 상형(32)의 상기 내부 상벽에 배치되고, 상기 연접점(37)이 상기 하형(33)의 상기 내부 측벽에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)가 상기 상형(32)의 상기 내부 측벽에 배치되고, 상기 연접점(37)이 상기 하형(33)의 상기 내부 측벽의 상기 공급 포트(35)와는 반대 위치에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)가 상기 연접점(37)으로부터 떨어져 있다.

상기 제1 밸브(364)가 상기 제1 기체 관로(361)에 배치되고, 또한 상기 기체원(363)으로부터의 상기 기체가 상기 제1 기체 관로(361)와 상기 연접점(37)을 개재하여 상기 중공 공간(31)에 들어가는지 여부를 제어하도록 구성된다. 상기 제2 기체 관로(362)가 상기 연접점(37)에 연결된다. 상기 제2 밸브(365)가 상기 제2 기체 관로(362)에 배치되고, 또한 상기 중공 공간(31)으로부터의 상기 기체가 상기 연접점(37)을 개재하여 상기 제2 기체 관로(362)를 지나 배출되는지 여부를 제어하도록 구성된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제2 기체 관로(362)의 일단이 상기 제1 기체 관로(361)에 연결되고, 상기 제1 기체 관로(361)를 개재하여 상기 연접점(37)에 연결된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제2 기체 관로(362)의 타단이 상기 중공 공간(31) 내의 압력보다 낮은 압력의 공간에 연통된다. 예를 들어, 외부 환경 또는 부압(負壓)의 공간으로 할 수 있지만, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 상기 제2 기체 관로(362)가 상기 제1 기체 관로(361)에 연결되는 위치는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 이들 2개는 상기 제1 기체 관로(361)가 상기 연접점(37)에 연결되어 있는 단부에 인접하는 일단에서 연결되어도 된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 밸브(364)와 상기 제2 밸브(365)는 동시에 개방되지 않는다.

상기 감압 유닛(366)은 상기 중공 공간(31) 내의 상기 압력을 감지하도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 발포 폴리머의 성질은 그 폴리머에서의 기공의 크기와 분포에 영향을 받고, 그 중, 상기 기공의 크기와 분포는 온도, 압력, 공급 속도에 관련되어 있다. 상기 감압 유닛(366)은 특정의 종류에 한정되지 않고, 압력을 감지할 수 있으며, 또한 상기 중공 공간(31) 내의 압력을 감지한 후, 압력에 관한 정보를 제공할 수 있으면 된다. 상기 압력 조정 시스템(36)은, 상기 압력에 관한 정보에 기초하여, 상기 기체가 상기 중공 공간(31)에 출입하는 조건을 바꾸고, 상기 중공 공간(31) 내의 압력을 조정하여, 얻어지는 상기 발포 폴리머 성형품이 원하는 소정의 형상과 성질을 가질 수 있도록 한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 감압 유닛(366)이 상기 중공 공간(31), 상기 제1 기체 관로(361) 또는 상기 제2 기체 관로(362) 내에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 감압 유닛(366)이 상기 중공 공간(31) 내에, 상기 공급 포트(35)로부터 멀어지도록 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 압력 조정 시스템(36)이 복수의 감압 유닛(366)을 가진다. 이 복수의 감압 유닛(366)의 수량과 위치는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 상기 중공 공간(31)의 상기 내부 측벽에 서로 간격을 두고 배치하거나, 및(또는) 상기 제1 기체 관로(361) 내의 임의의 위치, 및(또는) 상기 제2 기체 관로(362)의 임의의 위치로 할 수 있다. 단, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 사출 성형 시스템(100)은 제어 시스템(60)을 더 포함한다. 상기 제어 시스템(60)은 상기 압출 시스템(10), 상기 토출 채널(20), 상기 성형 장치(30a, 30b)를 제어하도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)은 상기 압출 시스템(10), 상기 토출 채널(20), 상기 성형 장치(30a, 30b)를 실시간으로 자동으로 제어한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)이 중앙 처리 장치(61)와, 이 중앙 처리 장치(61)와 전기적으로 접속되거나, 또는 통신 가능한 복수의 센서(62)를 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 센서(62)가 상기 사출 성형 시스템(100)의 도처(到處)에 배치되고, 적어도 하나의 처리 조건(예: 상기 토출 채널(20)을 통과하는 상기 혼합물의 유속 또는 점성, 상기 토출 채널(20)로부터 토출되는 상기 혼합물의 분량, 상기 중공 공간(31) 내의 압력 등)을 상기 사출 성형 시스템(100)의 소정의 위치(예: 각 성형 장치(30a, 30b)로의 압출의 순서, 상기 성형 장치(30a, 30b), 상기 토출구(21), 상기 공급 포트(35), 상기 중공 공간(31) 중 어느 하나에 대한 상기 토출 채널(20)의 얼라이먼트 등)에서 검출하도록 구성된다. 예를 들어, 적어도 하나의 센서(62)가 상기 토출구(21)에 설치되고, 그 토출구(21)에서 이러한 처리 조건을 검출한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 센서(62)가 이러한 처리 조건을 검출하고, 추가적인 분석을 위해 검출된 상기 처리 조건에 기초하여 신호 또는 데이터를 상기 중앙 처리 장치(61)에 송신하도록 구성된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)이 어느 성형 장치(30a, 30b)에 상기 토출 채널(20)이 연결되는지를 제어한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)과 상기 압출 시스템(10), 상기 토출 채널(20), 상기 성형 장치(30a, 30b)의 사이에 케이블(63)이 전기적으로 접속된다. 이 케이블(63)은 상기 성형 장치(30a, 30b)로부터 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)에 상기 신호를 전송하도록 구성된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)이 상기 감압 유닛(366)에 의해 감지된 상기 압력에 관한 정보를 처리하도록 구성되고, 또한 상기 압출 시스템(10)의 혼합 조건과 상기 토출 채널(20)의 압출의 분량과 타이밍을 조정하도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 감압 유닛(366)이 상기 압력에 관한 정보를 상기 제어 시스템(60)에 제공하고, 상기 제어 시스템(60)이 상기 압력에 관한 정보에 따라 상기 제1 밸브(364)와 상기 제2 밸브(365)를 조정한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)이 상기 압력에 관한 정보에 따라, 기체가 상기 중공 공간(31)에 출입하는 조건을 실시간으로 조정하고, 또한 상기 토출 채널(20)로부터 상기 중공 공간(31)에 사출되는 상기 혼합물의 타이밍과 분량을 조정하여, 상기 사출 성형 공정 중, 항상 사출의 양과 속도가 적절, 또는 소정의 범위 내이며, 상기 중공 공간(31) 내의 압력이 적절, 또는 소정의 범위 내가 되도록 한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)이 상기 공급 포트(35)의 공급 조건과, 상기 기체원(363)의 기체 공급 조건을 더 제어한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)과 상기 제1 밸브(364), 상기 제2 밸브(365), 상기 감압 유닛(366), 상기 공급 포트(35)가 전기적으로 접속된다.

도 2a에 도시된 바와 같이, 일부의 실시형태에 있어서, 하나의 압출 시스템(10)이 하나의 사출구(12)에 대응하고, 하나의 사출구(12)가 하나의 토출 채널(20)에 대응한다. 즉, 하나의 압출 시스템(10)이 하나의 사출구(12)에 연결되거나, 또는 연접 가능하고, 하나의 사출구(12)가 하나의 토출 채널(20)에 연결되거나, 또는 연접 가능하다. 이에 의해, 상기 압출 시스템(10)으로부터 상기 사출구(12)와 상기 토출 채널(20)을 통해 상기 혼합물을 상기 중공 공간(31)에 사출할 수 있다. 도 2a는 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 상기 혼합물을 하나의 금형의 하나의 중공 공간(31)에 사출할 수 있는 것을 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 하나의 상기 토출 채널(20)이 하나 이상의 중공 공간(31), 하나 이상의 금형, 또는 하나 이상의 성형 장치(30)에 대응할 수 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다.

도 2b에 도시된 바와 같이, 일부의 실시형태에 있어서, 하나의 압출 시스템(10)이 하나의 사출구(12)에 대응하고, 하나의 사출구(12)가 복수의 토출 채널(20)에 대응한다. 즉, 하나의 압출 시스템(10)이 하나의 사출구(12)에 연결되거나, 또는 연접 가능하고, 하나의 사출구(12)가 복수의 토출 채널(20)에 연결되거나, 또는 연접 가능하다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 사출구(12)가 상기 각 토출 채널(20)에 연결되거나, 또는 연접 가능하다. 상기 사출구(12)를 통해 상기 각 토출 채널에 상기 혼합물을 압출할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 각 토출 채널(20)이 동일하거나 또는 다른 분량의 상기 혼합물을 토출할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)이 서로 동일하거나 또는 다른 폭 또는 직경을 가진다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)이 서로 동일하거나 또는 다른 유속을 가진다. 일부의 실시형태에 있어서, 하나의 압출 시스템(10)이 하나 이상의 토출 채널(20)에 상기 혼합물을 공급할 필요가 있기 때문에, 상기 각 성형 장치(30)에 대해 충분한 양의 상기 혼합물을 소정의 시간 내에 제공하기 위해서는, 비교적 높은 압출력 또는 수송 속도를 구비한 상기 압출 시스템(10)이 필요하다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)의 수량이 상기 성형 장치(30)의 수량과 동일하다. 예를 들어 도 2b에 도시된 바와 같이, 2개의 성형 장치(30)에 대응한 2개의 토출 채널(20)이 있다. 도 2b는 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 2개의 토출 채널(20)과 2개의 성형 장치(30)를 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 적절한 수량의 상기 토출 채널(20)과 상기 성형 장치(30)를 이용할 수 있고, 이들 모든 조합이 실시형태의 범위 내에 포함되는 것이 의도되어 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30)의 상기 각 중공 공간(31)이 동일하거나 또는 다른 분량의 상기 혼합물을 수취한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30)의 상기 각 중공 공간(31)이 동시에, 또는 다른 타이밍에, 상기 혼합물을 수취한다. 예를 들어, 상기 토출 채널(20)(도 2b 좌측)이 밸브 또는 유사한 것에 의해 닫힘으로써, 상기 혼합물이 다른 토출 채널(20)(도 2b 우측)로부터 상기 중공 공간(31)(도 2b 우측)으로 유입될 때, 상기 중공 공간(31)(도 2b 좌측)에는 혼합물이 유입되지 않는다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 각 성형 장치(30)가 하나 이상의 상기 공급 포트(35)를 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 성형 장치(30)가 서로 동일한 수 또는 다른 수량의 상기 공급 포트(35)를 가진다. 예를 들어, 상기 성형 장치(30)(도 2b 좌측)가 대응하는 상기 토출 채널(20)에 연접 가능한 2개의 공급 포트(35)를 가지며, 다른 성형 장치(30)(도 2b 우측)가 대응하는 상기 토출 채널(20)에 연접 가능한 하나의 공급 포트(35)를 가진다. 즉, 하나의 토출 채널(20)이 하나 이상의 공급 포트(35)에 대응할 수 있다.

도 2c에 도시된 바와 같이, 일부의 실시형태에 있어서, 하나 이상의 압출 시스템(10)이 하나의 사출구(12)에 대응하고, 하나의 사출구(12)가 복수의 토출 채널(20)에 대응한다. 즉, 하나 이상의 압출 시스템(10)이 하나의 사출구(12)에 연결되거나, 또는 연접 가능하고, 하나의 사출구(12)가 복수의 토출 채널(20)에 연결되거나, 또는 연접 가능하다. 도 2c는 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 2개의 압출 시스템(10)을 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 적절한 수량의 상기 압출 시스템(10)을 이용할 수 있고, 이들 모든 조합이 실시형태의 범위 내에 포함되는 것이 의도되어 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다.

도 2b의 실시형태와 도 2c의 실시형태를 비교하면, 도 2c의 실시형태의 각 압출 시스템(10)은 하나의 상기 토출 채널(20)에 대해 상기 혼합물을 공급하는 것만 요구되기 때문에, 도 2c의 실시형태에서 필요로 하는 압출력 또는 수송 속도는 비교적 낮다.

도 2d에 도시된 바와 같이, 일부의 실시형태에 있어서, 하나의 압출 시스템(10)이 하나 이상의 사출구(12)에 대응하고, 하나 이상의 사출구(12)가 복수의 토출 채널(20)에 대응한다. 즉, 하나의 압출 시스템(10)이 하나 이상의 사출구(12)에 연결되거나, 또는 연접 가능하고, 하나 이상의 사출구(12)가 복수의 토출 채널(20)에 연결되거나, 또는 연접 가능하다. 도 2d는 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 2개의 사출구(12)를 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 적절한 수량의 상기 사출구(12)를 이용할 수 있고, 이들 모든 조합이 실시형태의 범위 내에 포함되는 것이 의도되어 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다.

도 2e에 도시된 바와 같이, 일부의 실시형태에 있어서, 각 성형 장치(30)가 하나 이상의 금형을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30)가 하나의 상측 몰드 베이스(34)와, 상기 상측 몰드 베이스(34) 하방의 복수의 금형을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 하나의 성형 장치(30)가 하나 이상의 토출 채널(20)에 대응한다. 도 2e는 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 2개의 금형을 포함하는 성형 장치(30)를 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 적절한 수량의 금형을 이용할 수 있고, 이들 모든 조합이 실시형태의 범위 내에 포함되는 것이 의도되어 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다.

일부의 실시형태에 있어서, 각 금형이 동시에, 또는 다른 타이밍에, 상기 혼합물을 수취한다. 예를 들어, 상기 토출 채널(20)(도 2e의 좌측과 우측)이 밸브 또는 유사한 것에 의해 닫힘으로써, 상기 혼합물이 다른 토출 채널(20)(도 2e 중앙)로부터 다른 금형의 상기 중공 공간(31)(도 2e 중앙)으로 유입될 때, 상기 금형의 상기 중공 공간(31)(도 2e의 좌측과 우측)에는 혼합물이 유입되지 않는다.

도 2f에 도시된 바와 같이, 일부의 실시형태에 있어서, 각 금형이 하나 이상의 중공 공간(31)을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 금형의 상기 중공 공간(31)은 서로 분리되어 있고, 서로 연접 불가능하다. 도 2f는 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 2개의 상기 중공 공간(31)을 포함하는 금형을 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 적절한 수량의 상기 중공 공간(31)을 이용할 수 있고, 이들 모든 조합이 실시형태의 범위 내에 포함되는 것이 의도되어 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 금형의 중공 공간(31)이 서로 동일하거나 또는 다른 부피를 가진다. 예를 들어, 상기 금형의 상기 중공 공간(31)(도 2f 좌측)의 부피는, 상기 금형의 다른 중공 공간(31)(도 2f 중앙)의 부피보다 크다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 중공 공간(31)이 동일한 양, 또는 다른 양으로, 상기 혼합물을 수취할 수 있다. 예를 들어, 상기 중공 공간(31)(도 2f 좌측)이 다른 중공 공간(31)(도 2f 중앙)보다 큰 분량의 상기 혼합물을 수취한다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 중공 공간(31)이 동시에, 또는 다른 타이밍에, 상기 혼합물을 수취할 수 있다. 예를 들어, 상기 토출 채널(20)(도 2f의 좌측과 우측)이 밸브 또는 유사한 것에 의해 닫힘으로써, 상기 혼합물이 다른 토출 채널(20)(중앙)로부터 상기 금형의 다른 중공 공간(31)(중앙)으로 유입될 때, 상기 금형의 상기 중공 공간(31)(도 2f의 좌측과 우측)에는 혼합물이 유입되지 않는다.

도 2g에 도시된 바와 같이, 일부의 실시형태에 있어서, 하나 이상의 토출 채널(20)이 상기 금형의 하나의 중공 공간(31)에 연접 가능하다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 각 토출 채널(20)이 동일하거나 또는 다른 분량의 상기 혼합물을 토출할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 토출 채널(20)이 서로 동일하거나 또는 다른 폭 또는 직경을 가진다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 토출 채널이 서로 동일하거나 또는 다른 유속을 가진다. 도 2g는 명확성과 간이성을 목적으로 하여, 2개의 토출 채널(20)을 통해 상기 혼합물을 상기 금형의 하나의 중공 공간(31)에 사출할 수 있는 것을 나타내고 있지만, 이 예는 예시를 목적으로 한 것뿐으로, 실시형태를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 통상의 기술자이면 적절한 수량의 상기 토출 채널(20)을 이용할 수 있고, 이들 모든 조합이 실시형태의 범위 내에 포함되는 것이 의도되어 있음을 용이하게 이해할 수 있을 것이다.

일부의 실시형태에 있어서, 각 중공 공간(31)이 동시에, 또는 다른 타이밍에, 상기 혼합물을 수취할 수 있다. 예를 들어, 상기 토출 채널(20)(도 2g의 좌측과 우측)이 밸브 또는 유사한 것에 의해 닫힘으로써, 상기 혼합물이 다른 토출 채널(20)(도 2g의 중앙)로부터 상기 금형의 상기 중공 공간(31)(도 2g의 좌측)으로 유입될 때, 상기 토출 채널(20)(도 2g의 좌측과 우측)로부터 상기 금형의 상기 중공 공간(31)(도 2g의 좌측과 우측)에는 혼합물이 유입되지 않는다.

도 3은 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(100)의 부분 개략도이다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30)가, 상기 중공 공간(31) 내의 압력을 조정하도록 구성된 통기 유닛(38)을 더 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 혼합물이 상기 중공 공간(31) 내에 사출된 후, 상기 금형의 캐비티 내의 압력이 증가하고, 상기 통기 유닛(38)이 일부 기체를 방출하여 상기 중공 공간(31)이 적합한 압력 범위 내로 유지되도록 확약할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 통기 유닛(38)이 상기 중공 공간(31) 내의 압력을 조정 또는 저하시키도록 구성된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 통기 유닛(38)이 상기 상형(32) 또는 상기 하형(33)의 내벽에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)와 상기 통기 유닛(38)이 상기 중공 공간(31)의 반대 위치에 배치된다. 한정은 아니고 일례로서, 상기 공급 포트(35)가 상기 상형(32)의 상기 내부 상벽에 배치되고, 상기 통기 유닛(38)이 상기 하형(33)의 상기 내부 바닥벽에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)가 상기 상형(32)의 상기 내부 상벽에 배치되고, 상기 통기 유닛(38)이 상기 하형(33)의 상기 내부 측벽에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)가 상기 상형(32)의 상기 내부 측벽에 배치되고, 상기 통기 유닛(38)이 상기 하형(33)의 상기 내부 측벽의 상기 공급 포트(35)와는 반대 위치에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)가 상기 통기 유닛(38)으로부터 떨어져 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)가 상기 상형(32)의 상기 내부 측벽 또는 상기 내부 상벽에 배치되고, 상기 압력 조정 시스템(36)과 상기 통기 유닛(38)이 상기 하형(33)의 2개의 상대하는 내부 측벽에 배치된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 통기 유닛(38)이, 기체 관로(381)와, 상기 기체 관로(381)에의 기체의 유입을 허가하고, 동시에 상기 혼합물이 상기 기체 관로(381)로 흘러넘치는 것을 방지하도록 구성된 셔터(382)를 포함한다. 상기 셔터(382)는 상기 중공 공간(31)으로부터 상기 기체 관로(381)에 들어가는 기체의 양을 제어할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 통기 유닛(38)이 밸브(383)를 더 포함한다. 상기 기체 관로(381)의 일단이 상기 중공 공간(31)에 연결되고, 상기 기체 관로(381)의 타단이 상기 중공 공간(31) 내의 압력보다 낮은 압력의 공간(외부 환경 또는 부압 공간 등)에 연접된다. 상기 밸브(383)가 닫혀 있을 때, 기체가 상기 중공 공간(31) 내에 머물고, 상기 밸브(383)가 열리면, 상기 기체가 상기 기체 관로(381)에 진입하여, 상기 밸브(383)를 통과할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 통기 유닛(38)이 복수의 기체 관로(381)를 포함하고, 상기 기체 관로(381)가 동일한 상기 밸브(383)에 연결된다. 상기 통기 유닛(38)의 위치와 수량은 특별히 한정되지 않고, 필요에 따라 조정할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 각 성형 장치(30)가 다른 수량의 상기 통기 유닛(38)을 포함하거나, 또는 통기 유닛(38)을 포함하지 않을 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)이 실시간으로 상기 통기 유닛(38)을 제어한다.

도 4와 도 5는 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(100)의 부분 개략도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 셔터(382)는 기체를 상기 기체 관로(381)에 진입시킬 수 있는 필터(384)를 포함할 수 있다. 이 필터(384)의 구멍 지름은, 기체가 상기 필터(384)를 통과할 수 있고, 또한 상기 혼합물 또는 상기 발포 폴리머 성형품이 상기 필터(384)를 통과할 수 없으면 되고, 필요에 따라 조정할 수 있다.

일부의 실시형태에 있어서, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 필터(384)가 복수의 슬릿(385)을 가지며, 이 슬릿(385)에 대응하여 상기 발포 폴리머 성형품 상에 마크를 형성할 수 있다. 상기 슬릿(385)의 크기와 형상은 유사하거나 또는 다를 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 필터(384)가 복수의 구멍(386)을 가지며, 이 구멍(386)에 대응하여 상기 발포 폴리머 성형품 상에 마크를 형성할 수 있다. 상기 구멍(386)의 크기와 형상은 유사하거나 또는 다를 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 이러한 마크는 돌기로 할 수 있다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a, 30b)는 선, 횡렬, 종렬, 원호, 곡선 또는 그 밖에 임의의 적절한 배치로 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a, 30b) 중 하나가 다른 하나의 상기 성형 장치(30a, 30b)에 인접된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 혼합물이 상기 압출 시스템(10)으로부터 상기 성형 장치(30a, 30b)에 특정의 순서로 사출된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)이 복수의 상기 성형 장치(30a, 30b) 상방에 배치된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)이 상기 각 성형 장치(30a, 30b)에 대해 이동 가능하다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a, 30b)가 고정된다. 일부의 실시형태에 있어서, 복수의 상기 각 성형 장치(30a, 30b)가 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)에 대해 이동 가능하다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)이 고정된다.

도 6은 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(100)의 정면(頂面)도이다. 도 7은 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(100)의 개략도이다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 6과 도 7에 도시된 바와 같이, 3개의 성형 장치(30a, 30b, 30c)가 일렬로 배치된다. 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)이 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c)의 배치에 따라 이동하여, 상기 혼합물이 상기 압출 시스템(10)으로부터 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c)에 차례로 사출된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)이 선형으로 이동 가능하다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)이 횡렬을 따라 이동하고 나서, 상기 성형 장치(30a)의 하나의 상방에서 정지하여, 대응하는 상기 성형 장치(30a)와 위치를 맞춘다. 위치맞춤 후, 상기 토출 채널(20)이 상기 성형 장치(30a)를 향하여 이동하여, 상기 토출 채널(20)이 상기 성형 장치(30a)와 걸어맞춤된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)이 상기 상측 몰드 베이스(34)의 상기 개구(341)와 각각 걸어맞춤된다. 걸어맞춤 후, 상기 혼합물이 상기 토출 채널(20)로부터 상기 성형 장치(30a) 내에 사출된다. 사출 후, 상기 토출 채널(20)이 상기 성형 장치(30a)로부터 이탈하고, 그 후 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)이 다음 상기 성형 장치(30b)를 향하여 이동한다.

도 8은 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(100)의 개략도이다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30b, 30c)가 겹쳐쌓인다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c)가 성형 스테이션(30S)에서 겹쳐쌓아 배치되고, 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)이 압출 스테이션(10S)에 배치된다. 각 성형 장치(30a, 30b, 30c)가 겹쳐쌓인 상태로부터 밖으로 이동하여 상기 성형 스테이션(30S)으로부터 나와, 상기 압출 스테이션(10S) 내로 슬라이딩하여, 상기 압출 시스템(10) 및 상기 토출 채널(20)과 위치를 맞출 수 있다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a)가 상기 성형 스테이션(30S)으로부터 나와 상기 토출 채널(20)과 위치를 맞추고, 다른 상기 성형 장치(30b, 30c)가 상기 성형 스테이션(30S) 내에 겹쳐쌓인 채로 머문다. 상기 압출 스테이션(10S)에서 상기 혼합물이 상기 성형 장치(30a)에 사출된 후, 상기 성형 장치(30a)가 이동하여 상기 성형 스테이션(30S)으로 되돌아가 냉각된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a)가 이동하여 다른 상기 성형 장치(30b, 30c)와의 겹쳐쌓인 상태로 되돌아간다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a)가 상기 압출 스테이션(10S)을 나온 후, 다른 상기 성형 장치(30b, 30c) 중 어느 하나가 겹쳐쌓인 상태로부터 밖으로 이동하여 상기 압출 스테이션(10S)과 위치를 맞춘다. 상기 성형 장치(30a)는 상기 성형 스테이션(30S)으로 되돌아가 냉각할 수 있다. 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c)가 상기 성형 스테이션(30S) 밖으로 이동하는 순서는 한정되지 않고, 수동 또는 자동으로 실행할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c)가 상기 성형 스테이션(30S) 밖으로 이동하는 순서가 소정의 순서로 실행된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30)가 원호형상으로 배치되고, 상기 토출 채널(20)이 이 원호의 중심에 배치되며, 또한 이 중심의 둘레를 회전 가능하다. 상기 토출 채널(20)이 회전되어 한 번에 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c) 중 어느 하나에 위치를 맞추고, 상기 혼합물이 상기 토출 채널(20)로부터 상기 각 성형 장치(30a, 30b, 30c)에 하나씩 사출된다. 상기 토출 채널(20)은 원호를 따라 이동되어, 상기 혼합물을 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c)에 차례로 사출할 수 있다.

도 9는 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(100)의 정면(頂面)도이다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)가 환상으로 배치된다. 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)는 중심축(C)의 둘레를 축방향으로 회전 가능하고, 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)를 중심축(C)의 둘레로 회전시킬 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)은 소정의 위치에 고정되고, 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)가 상기 중심축(C)의 둘레를 회전할 때, 상기 각 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)가 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)의 하방을 통과할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)는 상기 중심축(C)의 둘레를 축방향으로 회전되고, 상기 각 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)가 소정의 순서로 정지하여, 상기 토출 채널(20)과 위치를 맞춘다. 위치맞춤 후, 상기 혼합물을 상기 토출 채널(20)로부터 상기 토출 채널(20) 하의 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e) 중 어느 하나에 사출시킬 수 있다.

도 10은 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(200)의 개략도이다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 사출 성형 시스템(200)은, 상기 토출 채널(20)과 상기 각 복수의 성형 장치(30)의 걸어맞춤을 강화하도록 구성된 지지 유닛(40)을 더 포함한다. 상기 지지 유닛(40)은 상기 사출 성형 시스템(200) 상의 임의의 적합한 위치에 배치할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 지지 유닛(40)은 상기 토출 채널(20)을 지지하도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 지지 유닛(40)은 상기 혼합물의 사출 중, 상기 토출 채널(20)과 상기 성형 장치(30)의 분리를 방지하기 위해 이용된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)이 실시간으로 상기 지지 유닛(40)을 제어한다.

도 11은 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(200)의 부분 개략도이다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 지지 유닛(40)은, 서로 걸어맞춤하도록 구성된 제1 요소(41)와 제2 요소(42)를 포함하고, 그 중, 상기 제1 요소(41)가 상기 압출 시스템(10) 또는 상기 토출 채널(20)로부터 돌출되고, 상기 제2 요소(42)가 각 상기 복수의 성형 장치(30)에 배치되지만, 이에 한정되지 않는다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 요소(41)와 상기 제2 요소(42)는 서로 끼워맞춤할 수 있고, 예를 들어, 상기 제2 요소(42)가 상기 제1 요소(41)를 수취하도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 요소(41)가 상기 토출 채널(20) 상에 배치되고, 상기 제2 요소(42)가 각 성형 장치(30) 상에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제2 요소(42)가 상기 성형 장치(30)의 상기 상측 몰드 베이스(34) 상에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 요소(41)가 상기 압출 시스템(10) 또는 상기 토출 채널(20)의 일부이며, 상기 제2 요소(42)가 상기 성형 장치(30)의 일부이다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 요소(41)가 상기 압출 시스템(10)의 일부이며, 또한 상기 토출 채널(20)에 인접하여 배치되고, 상기 제2 요소(42)가 상기 성형 장치(30)의 상기 상측 몰드 베이스(34) 상방에, 또는 상기 상측 몰드 베이스(34)에 대면하여 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 요소(41)와 상기 제2 요소(42)가 서로 걸어맞춤되고, 이에 의해 상기 토출 채널(20)을 상기 성형 장치(30)의 상기 상측 몰드 베이스(34)와 긴밀하게 걸어맞춤할 수 있다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 혼합물의 사출 중에서의 상기 압출 시스템(10)과 상기 성형 장치(30)의 분리를 방지하기 위해, 걸어맞춤된 상기 제1 요소(41)가 상기 제2 요소(42)에 대한 힘을 받는다. 이 힘은 문턱값과 동일하거나, 또는 이 문턱값보다 크다. 이 문턱값은, 상기 중공 공간(31) 내의 압력과 상기 토출구(21)의 직경에 기초하여, 또는 그 밖의 요인에 기초하여 조정할 수 있다.

상기 제1 요소(41)의 위치와 수량은 요건에 따라 조정할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 상기 제2 요소(42)의 위치와 수량은 요건에 따라 조정할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제2 요소(42)의 위치와 수량은 상기 제1 요소(41)의 위치와 수량에 대응한다. 일 실시형태에 있어서, 상기 제1 요소(41)는 상기 토출 채널(20) 상의 임의의 적합한 위치에 배치할 수 있고, 상기 제2 요소(42)는 상기 성형 장치(30) 상의 임의의 적합한 위치에 배치할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제2 요소(42)가 상기 상형(32) 상방에 배치된다.

도 12는 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(200)의 부분 개략도이다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 12에 도시된 바와 같이, 상기 지지 유닛(40)은 잠금 상태와 잠금 해제 상태의 2가지 상태 중 어느 하나에 있을 수 있다. 상기 잠금 해제 상태에서, 상기 제1 요소(41)는 대응하는 상기 제2 요소(42)에 진입하지만, 상기 제2 요소(42)와 아직 잠금되지 않았다. 즉, 상기 지지 유닛(40)이 상기 잠금 해제 상태에 있을 때, 상기 제1 요소(41)는 아직 상기 제2 요소(42)로부터 이탈 가능하다. 상기 잠금 상태에서, 상기 제1 요소(41)는 대응하는 상기 제2 요소(42)에 진입하여 잠금되고, 상기 제1 요소(41)는 상기 제2 요소(42)로부터 이탈할 수 없다. 도 12에 상기 잠금 상태에 있는 상기 지지 유닛(40)을 나타낸다. 상기 지지 유닛(40)은 수동에 의해, 또는 자동으로 조작할 수 있다. 상기 지지 유닛(40)을 2가지 상태 사이에서 수동에 의해, 또는 자동으로 전환할 수 있다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 요소(41)가 상기 압출 시스템(10)에 회전 가능하게 고정된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 요소(41)가 연신부(411)와 아암부(412)를 포함한다. 상기 연신부(411)와 상기 아암부(412)는 화살표(A)로 나타내는 방향으로 회전 가능하다. 상기 연신부(411)는 상기 압출 시스템(10)에 고정되고, 상기 상형(32)을 향하여 제1 방향(Z)으로 연신된다. 상기 아암부(412)는 상기 연신부(411)에 결합되고, 상기 제1 방향(Z)에 실질적으로 직각인 제2 방향(X), 또는 상기 제1 방향(Z)에 실질적으로 직각인 제3 방향(Y)으로 연신된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 요소(41)는 역T자형이다. 상기 제1 요소(41)가 상기 제2 요소(42)에 진입한 후, 상기 지지 유닛(40)이 상기 제1 요소(41)의 상기 아암부(412)의 회전에 의해, 상기 잠금 해제 상태로부터 상기 잠금 상태로 변경된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 요소(41)는, 상기 제1 요소(41)의 상기 아암부(412)를 약 90도 회전시킴으로써, 상기 제2 요소(42)와 잠금된다. 도 12에 상기 아암부(412)가 약 90도 회전된 후, 상기 아암부(412)가 상기 제2 요소(42)와 잠금된 상태를 나타낸다. 그 결과, 상기 지지 유닛(40)이 상기 잠금 상태에 있고, 상기 토출 채널(20)이 상기 성형 장치(30)와 긴밀하게 걸어맞춤되며, 이에 의해 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)로부터 상기 성형 장치(30)로의 상기 혼합물의 사출을 개시할 수 있다.

도 13을 참조한다. 일부의 실시형태에 있어서, 사출 성형 시스템(300)의 상기 성형 장치(30)가, 상기 상형(32)을 상기 하형(33)에 긴밀하게 결합하도록 구성된 밀봉 요소(39)를 더 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 밀봉 요소(39)가 상기 하형(33) 하방에 배치되고, 상기 토출 채널(20)을 향하는 힘을 제공한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 혼합물의 사출 중에 상기 성형 장치(30)를 향하는 제1의 힘이 생성되고, 상기 밀봉 요소(39)가 이 제1의 힘에 반항하는 제2의 힘을 제공한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 밀봉 요소(39)가 상기 상형(32)과 상기 하형(33)의 사이에 배치된다. 상기 상형(32)과 상기 하형(33)의 사이, 또는 상기 상측 몰드 베이스(34)와 상기 상형(32)의 사이에 시일 링을 배치해도 된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)이 실시간으로 상기 밀봉 요소(39)를 제어한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)의 온도가 상기 성형 장치(30)의 온도와 다르다. 상기 토출 채널(20)의 상기 온도는, 상기 성형 장치(30)의 상기 온도보다 높다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)의 온도는 150℃와 200℃의 범위이며, 상기 성형 장치(30)의 온도는 20℃와 60℃의 범위로 할 수 있다.

도 14는 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(400)의 개략도이다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 14에 도시된 바와 같이, 상기 토출 채널(20)과 상기 성형 장치(30) 사이의 온도차를 유지하기 위해, 상기 사출 성형 시스템(400)은 상기 토출 채널(20)과 상기 성형 장치(30)의 사이에 배치된 단열재(70)를 더 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 단열재(70)는 상기 토출 채널(20)과 상기 상측 몰드 베이스(34)의 사이에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 단열재(70)는 상기 상측 몰드 베이스(34) 상에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 단열재(70)는 상기 토출구(21)와 상기 공급 포트(35)의 사이에 배치된다.

각 상기 토출 채널(20)은 상기 단열재(70) 내로 연신할 수 있고, 이에 의해 일부가 상기 단열재(70)로 둘러싸인다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 단열재(70)는 대응하는 상기 토출 채널(20)을 수취하도록 구성된 개구(71)를 포함한다. 상기 단열재(70)의 상기 개구(71)는 상기 상측 몰드 베이스(34)의 상기 개구(341)에 맞춰진다. 각 상기 개구(71)가 상기 단열재(70)를 관통하여 연신된다. 상기 단열재(70)는 나사 등에 의해 상기 상측 몰드 베이스(34) 상에 설치할 수 있다. 상기 단열재(70)는 유리 섬유 등의 비열전도성 재료를 포함할 수 있다. 상기 단열재(70)는 전체를 비금속 재료로 구성할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 단열재(70)의 융점은 상기 토출 채널(20)을 통과하여 유동하는 상기 혼합물의 온도보다 실질적으로 높다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 단열재(70)의 상기 융점은 180℃보다 실질적으로 높다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 단열재(70)의 폭은 상기 상측 몰드 베이스(34)의 폭보다 작다. 상기 단열재(70)의 두께는, 상기 성형 장치(30)와 상기 토출 채널(20)을 구성하는 재료의 성질, 상기 토출 채널(20)과 상기 상측 몰드 베이스(34)의 온도 등, 복수의 요인에 관련될 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 단열재(70)의 상기 두께는 상기 상측 몰드 베이스(34)의 상기 두께(H)보다 작다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)과 상기 성형 장치(30) 사이의 온도차를 유지하여, 상기 혼합물의 유동성을 유지하기 위해, 상기 토출 채널(20)은 상기 토출 채널(20)의 온도를 소정 범위 내로 유지하도록 구성된 가열 장치(72)를 더 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 상기 토출 채널(20)이 각각의 상에 배치된 상기 가열 장치(72)를 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 상기 토출 채널(20)이 상기 토출구(21) 주위에 배치된 상기 가열 장치(72)를 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 가열 장치(72)는 상기 토출 채널(20)이 상기 성형 장치(30)와 걸어맞춤될 때, 대응하는 상기 토출 채널(20)과 함께 상기 개구(71)와 상기 개구(341)에 진입할 수 있다. 상기 가열 장치(72)의 위치와 수량은 요건에 따라 조정할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 각 상기 토출 채널(20)은 다른 수량의 가열 장치(72)를 포함하거나, 또는 가열 장치(72)를 포함하지 않을 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 사출 성형 시스템(400)은 상기 압출 시스템(10)과, 상기 토출 채널(20)과, 하나의 성형 장치(30)를 포함하고, 그 중, 상기 토출 채널(20)이 상기 토출 채널(20)의 온도를 조정하도록 구성된 상기 가열 장치(72)를 포함한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 혼합물의 유동성을 유지하기 위해, 상기 성형 장치(30)가 상기 공급 포트(35)의 온도를 소정 범위 내로 유지하도록 구성된 가열 장치(73)를 더 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 가열 장치(73)는 상기 상측 몰드 베이스(34) 또는 상기 상형(32) 내에 배치된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 가열 장치(73)는 상기 공급 포트(35)에 인접하여 배치된다. 상기 가열 장치(73)의 위치와 수량은 요건에 따라 조정할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)로부터 상기 성형 장치(30)로 상기 혼합물이 유동하는 동안, 상기 공급 포트(35)는 상기 가열 장치(73)에 의해 소정 온도(예: 200℃ 이상)까지 가열할 수 있고, 그 후 상기 혼합물의 유동이 완료되면, 상기 공급 포트(35)는 소정 온도(예: 50℃ 이하)까지 즉시 냉각할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 공급 포트(35)는 상기 토출 채널(20)이 상기 성형 장치(30)로부터 이탈하면 냉각된다. 일부의 실시형태에 있어서, 전술한 즉시 냉각은, 상기 가열 장치(73)를 오프로 하거나, 상기 공급 포트(35)에 인접하여 배치된 냉각 부재를 온으로 함으로써 실장할 수 있다. 각 상기 성형 장치(30)는 다른 수량의 가열 장치(73)를 포함하거나, 또는 가열 장치(73)를 포함하지 않을 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 사출 성형 시스템은 상기 압출 시스템(10)과, 상기 토출 채널(20)과, 하나의 성형 장치(30)를 포함하고, 그 중, 상기 성형 장치(30)가, 상기 공급 포트(35)의 온도를 조정하도록 구성된 상기 가열 장치(73)를 포함한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)은 추가로, 상기 단열재(70)와, 상기 토출 채널(20)의 상기 가열 장치(72)와, 상기 성형 장치(30)의 상기 가열 장치(73)를 실시간으로 전기적으로 제어한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)은 상기 토출 채널(20)을 제어하여 상기 성형 장치(30) 중 어느 하나에 접속하고, 또한 상기 토출 채널(20)의 상기 가열 장치(72) 또는 상기 성형 장치(30)의 상기 가열 장치(73)를 제어하여 상기 토출 채널(20), 상기 토출구(21) 또는 상기 공급 포트(35)를 소정의 온도까지 가열한다.

도 15는 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(500)의 부분 상면도이다. 도 16은 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(500)의 부분 개략도이다. 상기 혼합물을 상기 성형 장치(30) 내에 사출한 후, 상기 토출 채널(20)이 상기 공급 포트(35)로부터 분리되는데, 이 시점에서 상기 성형 장치(30) 내의 상기 혼합물이 상기 성형 장치(30)로부터 상기 공급 포트(35)와 상기 개구(341)를 통해 흘러넘칠 우려가 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 15와 도 16에 도시된 바와 같이, 상기 사출 성형 시스템(500)은 상기 혼합물이 흘러넘치는 것을 방지하도록 구성된 커버(50)를 더 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 커버(50)는 상기 상형(32)의 상기 공급 포트(35)로부터 상기 혼합물이 흘러넘치는 것을 저지하도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 커버(50)는 상기 상형(32)의 상기 공급 포트(35)를 덮도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 커버(50)는 상기 상형(32)의 상기 공급 포트(35)와 상기 상측 몰드 베이스(34)의 상기 개구(341)로부터 상기 혼합물이 흘러넘치는 것을 저지하도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 커버(50)는 상기 상형(32)의 상기 공급 포트(35)와 상기 상측 몰드 베이스(34)의 상기 개구(341)를 덮도록 구성된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 커버(50)는 상기 토출 채널(20)이 상기 상측 몰드 베이스(34)로부터 이탈되면 바로 상기 공급 포트(35)를 덮도록 이동된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 커버(50)는 상기 성형 장치(30)에 장착된다. 상기 커버(50)는, 상기 성형 장치(30)와 상기 토출 채널(20)의 사이에 배치된 개별적인 요소 또는 모듈로 할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 커버(50)는 상기 상측 몰드 베이스(34)에 장착된다. 상기 커버(50)의 수량은 특별히 한정되지 않는다. 일부의 실시형태에 있어서, 이러한 수량은, 상기 상측 몰드 베이스(34)의 상기 개구(341)의 수량, 또는 상기 공급 포트(35)의 수량에 대응한다.

도 17과 도 18은 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템의 부분 개략도이다. 도 17과 도 18에 도시된 바와 같이, 상기 커버(50)는 제1 위치(51)와 제2 위치(52)의 사이에서 이동하도록 구성된다. 상기 제1 위치(51)에서, 상기 커버(50)는 상기 개구(341)와 대응하는 상기 공급 포트(35)로부터 떨어져 있고, 대응하는 상기 토출 채널(20)을 대응하는 상기 공급 포트(35)와 걸어맞춤시킬 수 있다. 상기 제2 위치(52)에서, 상기 커버(50)는 대응하는 상기 개구(341)와 대응하는 상기 공급 포트(35)를 덮고, 대응하는 상기 토출 채널(20)을 대응하는 상기 공급 포트(35)와 걸어맞춤시킬 수 없다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 커버(50)는 수동 또는 자동으로 조작할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 커버(50)의 이동은 수동 또는 자동으로 상기 제어 시스템(60)에 의해 실시간으로 제어할 수 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 커버(50)는 상기 토출 채널(20)이 상기 상측 몰드 베이스(34)로부터 이탈되면 바로, 상기 제1 위치(51)로부터 상기 제2 위치(52)로 이동되어, 상기 공급 포트(35)를 덮는다.

도 19에 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 시스템(600)의 개략도를 나타낸다. 상기 사출 성형 시스템(600)은, 압출 시스템(10)과, 토출 채널(20)과, 복수의 성형 장치(30a, 30b)를 포함한다. 상기 사출 성형 시스템(600)은, 지지 유닛(40)과, 커버(50)와, 제어 시스템(60)과, 단열재(70)와, 가열 장치(72, 73)를 더 포함한다. 각 상기 성형 장치(30)는, 중공 공간(31)과, 상형(32)과, 하형(33)과, 상측 몰드 베이스(34)와, 공급 포트(35)를 포함한다. 각 상기 성형 장치(30a, 30b)는, 상술한 바와 같이, 또는 도 1과 도 13에 도시된 바와 같이, 예를 들어, 압력 조정 시스템(36)과, 연접점(37)과, 통기 유닛(38) 및(또는) 밀봉 요소(39)를 더 포함할 수 있다.

본 명세서에서는, 사출 성형 방법이 개시된다. 일부의 실시형태에 있어서, 사출 성형은 상기 방법에 따라 실시된다. 상기 방법은, 복수의 조작을 포함하고, 설명과 도면은 이 조작의 순서를 한정한다고 간주하지 않는다. 도 20은 본 발명의 일 실시형태에 의한 사출 성형 방법의 흐름도이다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 20에 도시된 바와 같이, 상기 사출 성형 방법(900)은 다음 공정을 포함한다.

공정(901)은, 폴리머와 발포제의 혼합물을 생성하도록 구성된 압출 시스템과, 이 압출 시스템에 연통 가능하고 또한 토출구를 포함하는 토출 채널과, 제1 성형 장치와, 이 제1 성형 장치에 인접하여 배치된 제2 성형 장치를 제공하는 공정을 포함한다. 상기 제1 성형 장치가 제1 중공 공간과, 이 제1 중공 공간과 연통 가능하고, 상기 토출구와 걸어맞춤 가능한 제1 공급 포트를 포함한다. 상기 제2 성형 장치가 제2 중공 공간과, 이 제2 중공 공간과 연통 가능하고, 상기 토출구와 걸어맞춤 가능한 제2 공급 포트를 포함한다.

공정(902)은, 상기 토출구와 상기 제1 공급 포트를 걸어맞춤시키는 공정을 포함한다.

공정(903)은, 상기 토출구와 상기 제1 공급 포트를 통해 제1 분량의 상기 혼합물을 상기 제1 중공 공간 내에 사출하는 공정을 포함한다.

공정(904)은, 상기 제1 공급 포트로부터 상기 토출구를 이탈시키는 공정을 포함한다.

공정(905)은, 상기 토출 채널을 상기 제1 성형 장치로부터 멀어지도록 상기 제2 성형 장치를 향하여 이동시키는 공정을 포함한다.

공정(906)은, 상기 토출구와 상기 제2 공급 포트를 걸어맞춤시키는 공정을 포함한다.

공정(907)은, 상기 토출구와 상기 제2 공급 포트를 통해 제2 분량의 상기 혼합물을 상기 제2 중공 공간 내에 사출하는 공정을 포함한다.

공정(908)은, 상기 제2 공급 포트로부터 상기 토출구를 이탈시키는 공정을 포함한다.

상기 방법(900)은 상술한 실시형태에 한정되지 않는다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 사출 성형 방법(900)은, 상술한 도 1부터 도 19에 도시된 상기 사출 성형 시스템(100, 200, 300, 400, 500, 600) 중 어느 하나를 이용한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 사출 성형 방법(900)은, 폴리머와 발포제의 혼합물을 생성하도록 구성된 압출 시스템(10)과, 이 압출 시스템(10)에 연통 가능하고 또한 토출구(21)를 포함하는 토출 채널(20)과, 제1 성형 장치(30a)와, 이 제1 성형 장치(30a)에 인접하여 배치된 제2 성형 장치(30b)를 제공하는 공정(901)을 포함한다. 상기 제1 성형 장치(30a)가 제1 중공 공간(31)과, 이 제1 중공 공간(31)과 연통 가능하고, 상기 토출구(21)와 걸어맞춤 가능한 제1 공급 포트(35)를 포함한다. 상기 제2 성형 장치(30b)가 제2 중공 공간(31)과, 이 제2 중공 공간(31)과 연통 가능하고, 상기 토출구(21)와 걸어맞춤 가능한 제2 공급 포트(35)를 포함한다.

일부의 실시형태에 있어서, 도 6부터 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 제1 성형 장치(30a)와 상기 제2 성형 장치(30b)는, 선, 횡렬, 종렬, 원호, 곡선 또는 그 밖의 임의의 적절한 배치로 배치된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 감압 유닛(366)은, 상기 제1 중공 공간(31) 내의 압력이 대기압과 동일한 것을 감지한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 감압 유닛(366)은 상기 제1 중공 공간(31) 내의 압력을 계속적으로 감지하고, 기체가 상기 기체원(363)으로부터 적어도 상기 제1 기체 관로(361), 상기 제1 밸브(364), 상기 연접점(37)을 개재하여, 상기 제1 중공 공간(31)이 제1 소정 압력을 갖는 것을 상기 감압 유닛(366)이 감지할 때까지, 상기 제1 중공 공간(31)에 주입된다. 다음에, 상기 제1 밸브(364)가 폐쇄되고, 상기 제1 중공 공간(31) 내에 상기 기체의 주입이 정지된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 소정 압력은 상기 대기압보다 크다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 소정 압력은 상기 대기압보다 작다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 기체는 필요에 기초한 임의의 적절한 기체이며, 예를 들어 공기이다. 단, 본 발명은 이에 한정되지 않는다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 상형(32)은 상기 밀봉 요소(39)에 의해, 대응하는 상기 하형(33)에 밀봉된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 통기 유닛(38)의 상기 밸브(383)는 폐쇄된다. 상기 지지 유닛(40)은 잠금 해제 상태이다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 혼합물이 상기 중공 공간(31) 내에 사출되기 전에, 상기 커버(50)가 상기 제2 위치(52)에 배치되어, 상기 제1 공급 포트(35)를 피복한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 성형 장치(30a)와 상기 토출 채널(20)의 사이에는 온도차가 제공된다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 14에 도시된 바와 같이, 상기 토출 채널(20) 상에 배치된 상기 가열 장치(72)는, 상기 토출 채널(20)을 소정 온도까지 가열한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 상형(32) 내에 배치된 상기 가열 장치(73)는, 상기 공급 포트(35)를 소정 온도까지 가열한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 방법(900)은, 상기 토출구(21)와 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 제1 공급 포트(35)를 걸어맞춤시키는 공정(902)을 포함한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 도 19에 도시된 바와 같이, 공정(901)의 개시시에, 상기 압출 시스템(10)과 상기 토출 채널(20)은, 상기 성형 장치(30a, 30b)로부터 떨어져 있다.

도 21에 도시된 바와 같이, 상기 토출구(21)와 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 제1 공급 포트(35)의 걸어맞춤 전에, 상기 토출 채널(20)이 상기 제1 성형 장치(30a) 상방의 제1 위치까지 이동된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)은 상기 제1 성형 장치(30a) 상방의 상기 제1 위치로 수평으로 이동된다. 상기 제1 위치에서, 상기 토출 채널(20)은 대응하는 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 상측 몰드 베이스(34)의 상기 개구(341)와 위치가 맞춰진다. 일부의 실시형태에 있어서, 각 토출구(21)와 상기 상측 몰드 베이스(34)의 상표면 사이의 거리는 0보다 크다.

도 22에 도시된 바와 같이, 상기 토출 채널(20)과 대응하는 상기 개구(341)의 수직 방향의 위치맞춤 후, 상기 토출 채널(20)이 상기 제1 성형 장치(30a)를 향하여 이동되어, 대응하는 상기 상측 몰드 베이스(34)의 상기 개구(341)에 수취되고, 그 후, 상기 토출구(21)가 대응하는 상기 제1 공급 포트(35)에 결합된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)은 상기 제1 성형 장치(30a)를 향하여 수직으로 이동되어, 대응하는 상기 상측 몰드 베이스(34)의 상기 개구(341)에 받아들여진다.

상기 토출구(21)가 상기 제1 공급 포트(35)에 결합된 후, 상기 토출구(21)와 대응하는 상기 제1 공급 포트(35)가 상기 혼합물의 유동 경로를 형성함으로써, 상기 토출 채널(20)이 상기 제1 공급 포트(35)를 개재하여 상기 중공 공간(31)과 연통 가능해진다. 상기 제1 성형 장치(30a)로부터 상기 혼합물이 누출되는 일이 없도록, 상기 토출구(21)는 대응하는 상기 제1 공급 포트(35)와 긴밀하게 걸어맞춤될 필요가 있다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 혼합물을 상기 압출 시스템(10)에 의해 사출할 준비가 갖추어지면, 상기 토출 채널(20)이 상기 제1 성형 장치(30)와 위치맞춤되고, 상기 제1 성형 장치(30)의 상기 커버(50)가 상기 제2 위치(52)로부터 상기 제1 위치(51)로 슬라이딩된다. 상기 제2 위치(52)로부터 상기 제1 위치(51)로 상기 커버(50)가 이동된 후, 상기 토출구(21)는 대응하는 상기 제1 공급 포트(35)와 걸어맞춤할 수 있다. 상기 토출구(21)와 상기 제1 공급 포트(35)의 걸어맞춤 후, 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 중공 공간(31) 내의 압력이 소정 레벨까지 조정된다. 상기 제1 성형 장치(30a) 내의 압력이 상기 소정 레벨이 된 후, 사출이 개시된다. 상기 혼합물의 사출 중, 상기 커버(50)는 상기 제1 위치(51)에 머문다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 방법(900)은, 상기 토출구(21)를 상기 제1 공급 포트(35)에 걸어맞춤시키면서, 상기 지지 유닛(40)의 제1 요소(41)를 상기 지지 유닛(40)의 제2 요소(42) 내에서 상대적으로 회전시켜, 상기 지지 유닛(40)을 잠금 상태로 함으로써, 상기 토출 채널(20)을 상기 제1 성형 장치(30a)에 고정하는 공정을 더 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출구(21)가 상기 제1 공급 포트(35)에 결합되어 있을 때, 상기 제1 요소(41)는 상기 제2 요소(42) 내에 들어가고, 그 후 상기 제2 요소(42)로 잠금된다.

일부의 실시형태에 있어서, 공정(902)에서 상기 제1 중공 공간(31)은 상기 제1 소정 압력을 가지며, 상기 압력 조정 시스템(36)의 상기 제1 밸브(364)와 상기 제2 밸브(365) 및 상기 통기 유닛(38)의 상기 밸브(383)는 폐쇄되어 있다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 가열 장치(72)는 상기 토출 채널(20)을 가열하여 상기 토출 채널(20)의 온도를 소정 범위 내로 유지한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 가열 장치(73)는 상기 제1 공급 포트(35)를 가열하여, 상기 제1 공급 포트(35) 내의 온도를 상기 소정 범위 내로 유지한다.

공정(903)은, 상기 토출구(21)와 상기 제1 공급 포트(35)를 통해 제1 분량의 상기 혼합물을 상기 제1 중공 공간(31)에 사출하는 공정을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)은 상기 제1 분량의 상기 혼합물의 사출시, 적어도 일부가 상기 제1 성형 장치(30a)로 둘러싸인다.

일부의 실시형태에 있어서, 도 23에 도시된 바와 같이, 공정(903)에서, 상기 제1 분량의 상기 혼합물(M1)을 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 제1 중공 공간(31) 내에 사출하는 프로세스 중, 상기 제1 중공 공간(31) 내의 압력이 급속하게 변화하여, 상기 감압 유닛(366)이 상기 제1 중공 공간(31) 내의 상기 압력을 계속적으로 감지한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 분량의 상기 혼합물(M1)은 상기 제1 공급 포트(35)로부터 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 제1 중공 공간(31) 내에 사출되고, 이에 의해 상기 제1 중공 공간(31) 내의 상기 압력이 높아진다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 중공 공간(31) 내의 상기 압력은 상기 제1 소정 압력을 초과하여 상승된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 제1 중공 공간(31) 내의 상기 압력은, 상기 제1 소정 압력으로부터 제2 소정 압력까지 상승된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 분량의 상기 혼합물(M1)이 상기 제1 소정 압력을 갖는 상기 제1 중공 공간(31) 내에 사출된 후, 상기 중공 공간(31) 내의 상기 압력이 증가하기 때문에, 제2 소정 압력의 설정에 의해, 상기 제1 중공 공간(31)이 적절한 압력 범위 내로 유지되도록 확실히 한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 중공 공간(31)이 상기 제2 소정 압력에 도달하면, 상기 제1 분량의 상기 혼합물(M1)의 상기 제1 중공 공간(31) 내에의 사출이 정지된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 소정 압력을 갖는 상기 제1 중공 공간(31) 내에 상기 제1 분량의 상기 혼합물(M1)을 사출하는 프로세스는, 0.5~1초간만 지속한다. 사출 중 또는 사출이 완료된 순간에, 상기 제1 중공 공간(31) 내의 압력이 실시간으로 상기 감압 유닛(366)에 의해 감지되어, 상기 압력에 관한 정보가 제공된다. 상기 압력에 관한 정보에 기초하여 상기 압력 조정 시스템(36)이 상기 제1 중공 공간(31) 내의 상기 압력을 조정하고, 이에 의해 상기 제1 중공 공간(31) 내의 상기 압력을 상기 소정 압력 범위 내로 유지할 수 있다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 압출 시스템(10)이 상기 제1 성형 장치(30a)로부터 이탈하는 것을 방지하기 위해, 상기 지지 유닛(40)으로부터 힘이 가해진다. 일부의 실시형태에 있어서, 공정(903)에서 상기 혼합물이 상기 토출구(21)로부터 상기 성형 장치(30)에 사출될 때, 상기 성형 장치(30)가 사출 방향과 반대의 반력을 생성할 수 있고, 이 반력이 상기 토출 채널(20)과 상기 압출 시스템(10)에 전달되어, 상기 토출 채널(20)이 상기 성형 장치(30)로부터 이탈하기 쉬워질 우려가 있다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 지지 유닛(40)은 상기 사출 방향과 반대의 반력에 대한 지지를 제공한다.

일부의 실시형태에 있어서, 공정(903)에서 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 커버(50)는 사출 프로세스 동안, 상기 제1 위치(51)에 배치된다(도 17 참조).

일부의 실시형태에 있어서, 사출 프로세스 동안, 상기 토출 채널(20)의 온도는 상기 제1 성형 장치(30a)의 온도보다 높다. 일부의 실시형태에 있어서, 이러한 온도차가 상기 단열재(70)와 상기 가열 장치(72, 73)를 이용하여 유지된다.

일부의 실시형태에 있어서, 공정(903)은 상기 제1 중공 공간(31) 내에 기체가 주입된 후, 상기 제1 중공 공간(31)으로부터 상기 기체의 일부를 방출하는 공정을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 중공 공간(31) 내의 압력이 상기 제2 소정 압력보다 큰 것을 상기 감압 유닛(366)이 감지하면, 상기 제1 중공 공간(31) 내의 상기 기체의 일부가 상기 연접점(37) 및(또는) 상기 통기 유닛(38)을 개재하여, 상기 제1 중공 공간(31) 내의 압력이 소정 압력 범위 내가 될 때까지 방출된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 소정 압력 범위는 상기 제1 소정 압력과 상기 제2 소정 압력의 사이이다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제2 밸브(365)가 열리고, 상기 제1 중공 공간(31) 내의 상기 기체의 일부가 상기 제2 기체 관로(362)를 개재하여 방출된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 밸브(383)가 열리고, 상기 제1 중공 공간(31) 내의 상기 기체의 일부가 상기 셔터(382)를 통과하여, 상기 통기 유닛(38)의 상기 기체 관로(381)를 개재하여 방출된다.

공정(904)은, 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 제1 공급 포트(35)로부터 상기 토출구(21)를 이탈시키는 공정을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 중공 공간(31) 내에의 상기 혼합물의 사출 후, 상기 토출 채널(20)이 상기 제1 성형 장치(30a)로부터 이탈되어 멀어지도록 이동된다.

일부의 실시형태에 있어서, 도 24에 도시된 바와 같이, 상기 제1 공급 포트(35)로부터 상기 토출구(21)를 이탈시키기 전에, 상기 지지 유닛(40)이 상기 잠금 해제 상태로 바뀐다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 지지 유닛(40)은, 상기 지지 유닛(40)의 제1 요소(41)를 상기 지지 유닛(40)의 제2 요소(42) 내에서 상대적으로 회전시킴으로써 잠금 상태로부터 잠금 해제 상태로 변경되고, 상기 제1 성형 장치(30a)로부터 상기 토출 채널(20)이 잠금 해제된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출구(21)를 상기 제1 공급 포트(35)로부터 이탈시키는 동안, 상기 제1 요소(41)는 상기 제2 요소(42)로부터 잠금 해제된 후, 상기 제2 요소(42)로부터 분리된다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 방법(900)은, 상기 토출구(21)를 상기 제1 공급 포트(35)로부터 이탈시킬 때, 또는 그 후, 상기 제1 공급 포트(35)를 피복하는 공정을 더 포함한다. 상기 토출구(21)가 상기 제1 공급 포트(35)로부터 분리되면, 상기 커버(50)가 바로 상기 제1 위치(51)로부터 상기 제2 위치(52)로 슬라이딩하여, 상기 제1 성형 장치(30a) 내의 상기 혼합물이 상기 제1 공급 포트(35)로부터 흘러넘치지 않도록 한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 성형 장치(30a)의 상기 가열 장치(73)는, 상기 토출구(21)를 상기 제1 공급 포트(35)로부터 이탈시킨 후, 상기 제1 공급 포트(35)의 가열을 정지한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 가열 장치(72)는 상기 토출 채널(20)의 가열을 계속한다.

공정(905)은, 상기 토출 채널(20)을 상기 제1 성형 장치(30a)로부터 멀어지도록 상기 제2 성형 장치(30b)를 향하여 이동시키는 공정을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 25에 도시된 바와 같이, 상기 토출 채널(20)의 이동은, 상기 토출 채널(20)을 상기 제1 성형 장치(30a) 상방의 상기 제1 위치로부터 상기 제2 성형 장치(30b) 상방의 제2 위치까지 이동시키는 동작을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출 채널(20)은 상기 제1 성형 장치(30a)로부터 수직으로 멀어진 후, 상기 제2 성형 장치(30b) 상방의 상기 제2 위치로 수평으로 이동된다.

일부의 실시형태에 있어서, 공정(905)에서의 상기 제2 성형 장치(30b)의 설정은, 공정(901)과 공정(902)에서의 상기 제1 성형 장치(30a)의 설정과 유사하며, 여기서는 간소화를 위해 상세한 설명을 생략한다.

공정(906)은, 상기 토출구(21)를 상기 제2 성형 장치(30b)의 상기 제2 공급 포트(35)에 걸어맞춤시키는 공정을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 26에 도시된 바와 같이, 상기 토출 채널(20)은 상기 제2 성형 장치(30b)를 향하여 이동되어, 상기 제2 성형 장치(30b)의 상기 상측 몰드 베이스(34)의 대응하는 상기 개구(341)에 수취된 후, 상기 토출구(21)가 대응하는 상기 제2 공급 포트(35)에 결합된다.

공정(907)은, 상기 토출구(21)와 상기 제2 성형 장치(30b)의 상기 제2 공급 포트(35)를 통해 제2 분량의 상기 혼합물을 상기 제2 중공 공간 내에 사출하는 공정을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 27에 도시된 바와 같이, 상기 토출 채널(20)은 상기 제2 분량의 상기 혼합물(M2)의 사출시, 적어도 일부가 상기 제2 성형 장치(30b)로 둘러싸인다.

공정(908)은, 상기 제2 공급 포트(35)로부터 상기 토출구(21)를 이탈시키는 공정을 포함한다. 일부의 실시형태에 있어서, 도 28에 도시된 바와 같이, 상기 제2 중공 공간(31) 내에의 상기 혼합물의 사출 후, 상기 토출 채널(20)이 상기 제2 성형 장치(30b)로부터 이탈되어 멀어지도록 이동된다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출구(21)를 상기 제2 공급 포트(35)로부터 이탈시킬 때, 또는 그 후, 상기 제2 공급 포트(35)가 피복된다.

공정(906), 공정(907), 공정(908)은 공정(902), 공정(903), 공정(904)과 각각 유사하며, 유사한 상세에 대해서는 설명을 생략한다.

상술한 공정(901)부터 공정(908)에서, 상기 제어 시스템(60)은 상기 압출 시스템(10), 상기 토출 채널(20), 상기 제1 성형 장치(30a)와 제2 성형 장치(30b), 상기 지지 유닛(40), 상기 커버(50), 상기 단열재(70), 상기 가열 장치(72, 73)를 실시간으로 자동으로 제어한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)은 상기 압출 시스템(10)의 이동을 제어한다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 제어 시스템(60)은 상기 제1 성형 장치(30a)와 제2 성형 장치(30b)의 이동을 제어한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 성형 장치(30a) 내에 상기 제1 분량의 상기 혼합물을 사출하는 기간과, 상기 제2 성형 장치(30b) 내에 상기 제2 분량의 상기 혼합물을 사출하는 기간의 차는, 상기 제1 공급 포트(35)로부터 상기 제1 중공 공간(31) 내로 상기 제1 분량의 상기 혼합물이 유동하는 제1 기간과, 상기 제1 중공 공간(31) 내의 상기 제1 분량의 상기 혼합물을 냉각하는 제2 기간의 합계보다 실질적으로 짧다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제2 성형 장치(30b)에 인접하여 배치된 제3 성형 장치(30c)가 제공된다. 이 제3 성형 장치(30c)는 제3 중공 공간(31)과, 이 제3 중공 공간(31)과 연통 가능하고, 상기 토출구(21)와 걸어맞춤 가능한 제3 공급 포트(35)를 포함한다. 상기 방법(900)은, 상기 토출구(21)와 상기 제3 공급 포트(35)를 걸어맞춤시키는 것, 상기 토출구(21)와 상기 제3 공급 포트(35)를 통해 제3 분량의 상기 혼합물을 상기 제3 중공 공간(31) 내에 사출하는 것, 상기 제3 공급 포트(35)로부터 상기 토출구(21)를 이탈시키는 것을 포함하는 공정을 더 포함한다. 이러한 공정은 공정(902), 공정(903), 공정(904)과 유사하며, 유사한 상세에 대해서는 설명을 생략한다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 제1 성형 장치(30a) 내에 상기 제1 분량의 상기 혼합물을 사출하는 상기 기간과, 상기 제2 성형 장치(30b) 내에 상기 제2 분량의 상기 혼합물을 사출하는 상기 기간의 차는, 상기 제2 공급 포트(35)로부터 상기 제2 중공 공간(31) 내로 상기 제2 분량의 상기 혼합물이 유동하는 제3 기간과, 상기 제2 중공 공간(31) 내의 상기 제2 분량의 상기 혼합물을 냉각하는 제4 기간의 합계보다 실질적으로 짧다.

일부의 실시형태에 있어서, 상기 토출구(21)를 상기 제3 공급 포트(35)로부터 이탈시킬 때, 또는 그 후, 상기 제3 공급 포트(35)가 피복된다.

상기 방법(900)은 상술한 실시형태에 한정되지 않는다. 일부의 실시형태에 있어서, 상기 사출 성형 방법(900)은, 상술한 도 1부터 도 19에 도시된 상기 성형 장치(100, 200, 300, 400, 500) 중 어느 하나를 이용한다.

도 9에 도시된 바와 같이, 일부의 실시형태에 있어서, 공정(905)에서 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)는 중심축(C)의 둘레를 회전하여, 상기 성형 장치(30a)가 상기 토출 채널(20)로부터 멀어짐과 동시에, 다음 성형 장치(30b)가 상기 토출 채널(20)을 향하여 이동된다. 상기 성형 장치(30b)가 상기 토출 채널(20)의 하방에서 정지하고, 상기 토출 채널(20)과 위치를 맞추어, 상기 토출 채널(20)에 걸어맞춤된다. 위치맞춤과 걸어맞춤 후, 상기 혼합물이 상기 토출 채널(20)로부터 상기 제2 성형 장치(30b) 내에 사출된다.

일부의 실시형태에 있어서, 공정(908) 후, 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)가 상기 중심축(C)의 둘레를 회전하여, 상기 성형 장치(30b)가 상기 압출 시스템(10)의 상기 토출 채널(20)로부터 멀어짐과 동시에, 상기 성형 장치(30c)가 상기 토출 채널(20)을 향하여 이동된다. 상기 위치맞춤, 걸어맞춤, 사출의 공정이 반복된다. 각 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)에 상기 혼합물이 충전된 후, 상기 토출 채널(20)이 상기 성형 장치(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)로부터 이탈된다.

전술한 설명은 통상의 기술자가 본 발명의 형태를 보다 이해할 수 있도록 몇 가지의 실시형태의 특징을 개략 설명한 것이다. 통상의 기술자는 본 발명을 기초로 사용하여, 여기서 설명한 실시형태와 동일한 목적을 실행하거나, 및(또는) 동일한 이점을 달성하기 위해, 다른 프로세스 및 구조의 설계 또는 변경을 행할 수 있을 것이다. 또한, 통상의 기술자는 이러한 동등한 구조가 본 발명의 요지와 범위를 벗어나지 않으며, 또한 본 발명의 요지와 범위로부터 벗어나지 않고, 본 발명의 여러 가지 변경, 치환, 및 개변이 가능한 것을 이해해야 할 것이다.

또한, 본 발명의 범위는, 프로세스, 기계, 제조, 물질의 조성, 수단, 방법, 및 본 명세서에 기재된 단계의 특정의 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 통상의 기술자이면 본 발명의 개시로부터 용이하게 이해하는 바와 같이, 프로세스, 기계, 제조, 물질의 조성, 수단, 방법, 또는 단계는, 현재 기존의 또는 나중에 개발되는, 실질적으로 동일한 기능을 하거나, 본 발명에 따라 이용할 수 있는 것과 같은 본 명세서에 기재된 대응하는 실시형태와 같이, 실질적으로 동일한 결과를 달성한다. 따라서, 첨부한 청구범위는, 그 범위 내에 이러한 프로세스, 기계, 제조, 물질의 조성, 수단, 방법, 및 단계를 포함하는 것을 의도하고 있다.

100, 200, 300, 400, 500, 600 사출 성형 시스템
10S 압출 스테이션
10 압출 시스템
11 혼합 배럴
12 사출구
20 토출 채널
21 토출구
30 성형 장치
30S 성형 스테이션
30a, 30b, 30c, 30d, 30e 성형 장치
31 중공 공간
32 상형
33 하형
34 상측 몰드 베이스
341 개구
35 공급 포트
36 압력 조정 시스템
361 제1 기체 관로
362 제2 기체 관로
363 기체원
364 제1 밸브
365 제2 밸브
366 감압 유닛
37 연접점
38 통기 유닛
381 기체 관로
382 셔터
383 밸브
384 필터
385 슬릿
386 구멍
39 밀봉 요소
40 지지 유닛
41 제1 요소
411 연신부
412 아암부
42 제2 요소
50 커버
51 제1 위치
52 제2 위치
60 제어 시스템
61 중앙 처리 장치
62 센서
63 케이블
70 단열재
71 개구
72, 73 가열 장치
C 중심축
M1, M2 혼합물
H 두께
L 길이
Z 제1 방향
X 제2 방향
Y 제3 방향
900 사출 성형 방법
901, 902, 903, 904, 905, 906, 907, 908 공정

Claims

사출 성형 시스템으로서, 압출 시스템과, 복수의 토출 채널과, 복수의 성형 장치를 포함하고,
상기 압출 시스템이 고분자 재료와 발포제의 혼합물을 생성하도록 구성되며,
상기 복수의 각 토출 채널은, 상기 압출 시스템과 연통 가능하고, 상기 압출 시스템으로부터 이격되게 배치된 토출구를 포함하며, 상기 혼합물을 토출하도록 구성되고,
상기 복수의 토출 채널은 동일하거나 다른 분량의 상기 혼합물을 토출하도록 구성되며,
상기 복수의 성형 장치가 상기 토출구들로부터 상기 혼합물을 수취하도록 구성되며, 그 중, 상기 복수의 각 성형 장치가,
하나의 중공 공간과,
상기 중공 공간과 연통 가능하고, 상기 토출구들 각각에 대응하여 걸어맞춤 가능한 복수의 공급 포트를 포함하며,
상기 토출구들은 동일하거나 다른 폭을 가지며,
상기 복수의 토출 채널은 상기 복수의 공급 포트에 각각 걸어맞춤 가능하며, 상기 복수의 토출 채널 모두는 상기 중공 공간과 연통 가능한 것을 특징으로 하는 사출 성형 시스템.
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 성형 장치가, 선, 횡렬, 원호 또는 곡선형상을 따라 배치되는 것을 특징으로 하는 사출 성형 시스템.
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 토출 채널이 상기 복수의 각 성형 장치에 대해 이동 가능한 것을 특징으로 하는 사출 성형 시스템.
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 각 성형 장치가 상기 압출 시스템과 상기 복수의 토출 채널에 대해 이동 가능한 것을 특징으로 하는 사출 성형 시스템.
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 토출 채널을 제어하여, 상기 복수의 각 성형 장치 내에 상기 혼합물을 차례로 토출시키도록 구성된 제어 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 사출 성형 시스템.
사출 성형 방법으로서,
고분자 재료와 발포제의 혼합물을 생성하도록 구성된 압출 시스템과, 상기 압출 시스템에 연통 가능한 복수의 토출 채널과, 제1 성형 장치와, 상기 제1 성형 장치에 인접하여 배치된 제2 성형 장치를 제공하며, 그 중, 상기 토출 채널들은 각각 토출구를 포함하며, 상기 토출구들과 상기 제1 성형 장치 사이에 단열재가 배치되고, 상기 제1 성형 장치가, 하나의 제1 중공 공간과, 상기 제1 중공 공간과 연접 가능하고 또한 상기 토출구들 각각에 대응하여 걸어맞춤 가능한 복수의 제1 공급 포트를 포함하며, 상기 제2 성형 장치가, 하나의 제2 중공 공간과, 상기 제2 중공 공간과 연접 가능하고 또한 상기 토출구들 각각에 대응하여 걸어맞춤 가능한 복수의 제2 공급 포트를 포함하는 공정과,
상기 토출 채널들을 가열하는 공정과,
상기 토출 채널들을 상기 단열재 및 상기 제1 성형 장치를 향하여 이동시키는 공정과,
상기 각 토출 채널의 적어도 일부가 상기 단열재로 둘러싸이도록 상기 단열재에 의해 상기 토출 채널들을 수취하는 공정과,
상기 토출구들과 상기 제1 공급 포트들을 각각 걸어맞춤시키는 공정과,
상기 토출구들과 상기 제1 공급 포트들을 통해 제1 분량의 상기 혼합물을 상기 제1 중공 공간 내에 사출하는 공정과,
상기 제1 공급 포트들 및 상기 단열재로부터 상기 토출구들을 이탈시키는 공정과,
상기 토출 채널들을 상기 제1 성형 장치 및 상기 단열재로부터 멀어지도록 상기 제2 성형 장치를 향하여 이동시키는 공정과,
상기 토출구들과 상기 제2 공급 포트들을 각각 걸어맞춤시키는 공정과,
상기 토출구들과 상기 제2 공급 포트들을 통해 제2 분량의 상기 혼합물을 상기 제2 중공 공간 내에 사출하는 공정과,
상기 제2 공급 포트들로부터 상기 토출구들을 이탈시키는 공정을 포함하며,
상기 제1 분량의 상기 혼합물을 사출하는 공정 중에, 상기 토출 채널들 각각의 온도는 상기 제1 성형 장치의 온도보다 높으며, 상기 제1 성형 장치와 상기 토출 채널들 중 하나 사이의 온도차가 상기 단열재를 이용하여 유지되는 것을 특징으로 하는 사출 성형 방법.
청구항 6에 있어서,
상기 토출 채널들의 이동이, 상기 제1 성형 장치 상방의 제1 위치로부터 상기 제2 성형 장치 상방의 제2 위치까지의 상기 토출 채널들의 이동을 포함하는 것을 특징으로 하는 사출 성형 방법.
청구항 6에 있어서,
상기 제1 중공 공간 내에 상기 제1 분량의 상기 혼합물을 사출하는 기간과, 상기 제2 중공 공간 내에 상기 제2 분량의 상기 혼합물을 사출하는 기간의 차가, 상기 제1 공급 포트들로부터 상기 제1 중공 공간 내로 상기 제1 분량의 상기 혼합물이 유동하는 제1 기간과, 상기 제1 중공 공간 내의 상기 제1 분량의 상기 혼합물을 냉각하는 제2 기간의 합계보다 실질적으로 짧은 것을 특징으로 하는 사출 성형 방법.
청구항 6에 있어서,
상기 제1 중공 공간 내에 상기 제1 분량의 상기 혼합물을 사출하는 기간과, 상기 제2 중공 공간 내에 상기 제2 분량을 사출하는 상기 기간의 차가, 상기 제2 공급 포트들로부터 상기 제2 중공 공간 내로 상기 제2 분량의 상기 혼합물이 유동하는 제3 기간과, 상기 제2 중공 공간 내의 상기 제2 분량의 상기 혼합물을 냉각하는 제4 기간의 합계보다 실질적으로 짧은 것을 특징으로 하는 사출 성형 방법.
청구항 6에 있어서,
상기 토출구들을 상기 제1 공급 포트들로부터 이탈시킬 때, 또는 그 후, 상기 제1 공급 포트들을 피복하는 공정과,
상기 토출구들을 상기 제2 공급 포트들로부터 이탈시킬 때, 또는 그 후, 상기 제2 공급 포트들을 피복하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 사출 성형 방법.