KR102473797B1 - Co2 블라스트 클리닝 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 노즐을 통해 드라이아이스를 피세정물 표면에 고압으로 분사하여 피세정물의 표면에 손상을 입히지 않으면서 표면에 묻어 있거나 고착(固着)되어 있는 오염물질을 효과적으로 제거함은 물론 피세정물의 표면 형상과 크기에 따라 노즐의 위치를 조정할 수 있어서 표면 형상이 일정하지 않은 피세정물도 효율적으로 세정할 수 있는, CO2 블라스트 클리닝 장치를 제공하기 위한 것이다.

Description

CO2 블라스트 클리닝 장치{CO2 blast cleaning device}
본 발명은 드라이아이스를 이용한 클리닝 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 노즐을 통해 드라이아이스를 피세정물 표면에 고압으로 분사하여 표면에 묻어 있거나 고착(固着)되어 있는 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있는, CO2 블라스트 클리닝 장치에 관한 것이다.
반도체, 디스플레이, 이차전지 전극 등은 미세공정을 통해서 생산되기 때문에 초정밀 제조공정에서 부산물로 생성되는 아주 작은 먼지와 같은 파티클(particle)이라도 패턴 결함, 절연막 불량 등 제품에 치명적인 영향을 미칠 수 있으며, 반도체, 디스플레이 및 이차전지의 전극 등 제조공정에서 발생하는 파티클이나 오염물질을 제거하여 제품의 품질과 수율을 높이는 매우 중요한 공정이 세정(cleaning)공정이다.
현재 가장 널리 쓰이고 있는 세정방식이 화학적 용매를 사용하는 습식 클리닝(wet cleaning) 방식인데, 습식 클리닝 방식은 화학약품을 사용하기 때문에 환경오염 문제가 발생하게 되고, 세정공정의 속도가 느릴 뿐만 아니라 거대한 세정장비가 필요하며, 복잡하고 열악한 작업환경 등의 문제가 있어서 이를 대체하기 위하여 건식 클리닝(dry cleaning) 방법에 대한 연구가 활발히 진행되었다.
현재까지 제시된 건식 클리닝 방법으로는 레이저 또는 자외선 빔을 피세정물의 표면에 직접 조사하여 오염물질을 제거하는 방법, 진공에서 플라즈마(plasma)를 발생시켜 라디칼(radical)을 이용해 오염물질과 반응시켜 제거하는 플라즈마 클리닝 방법, 이산화탄소(CO2) 드라이아이스를 만들어 이를 강하게 분사시켜 표면을 클리닝하는 CO2 드라이아이스 클리닝(CO2 dry ice cleaning 또는 CO2 snow cleaning) 방법 등이 있다. 플라즈마 클리닝 방법은 부가적으로 진공장비가 요구되고, 진공상태에서 클리닝 작업이 이루어지기 때문에 크기가 큰 피세정물의 클리닝은 어렵다는 문제점이 있다.
드라이아이스(dry ice)란 상온에서 CO2 가스를 압축기를 통해 가압하여 54.4기압 정도의 압력에 이르면 CO2 가스는 액체 상태와 공존하는 평형상태가 되고, 이와 같은 액체 CO2 평형상태에서 순간적으로 대기압(1기압)으로 감압하면 단열팽창을 통해 고체와 기체가 평형상태에 도달하면서 고체 드라이아이스가 만들어진다. 드라이아이스 클리닝은 상온 고압 상태의 CO2를 노즐을 통해 대기압 상태로 분사시 순간적인 단열팽창에 의해 고체 드라이아이스가 만들어지며, 이때 만들어진 드라이아이스 입자의 크기는 매우 작은데, 미세 알갱이를 피세정물 표면에 고압으로 충돌시킴으로써 오염물질을 세정하는 방식이다.
건식 세정방식인 CO2 드라이아이스 클리닝 기술과 관련해서는 특허등록 제1533391호 "3차원 웨이퍼 표면 세정 방법 및 장치", 특허등록 제1659683호 "초순수 워터막과 드라이아이스를 이용한 웨이퍼 표면 세정 방법 및 장치", 공개특허 제2018-42525호 "이산화탄소를 이용한 세정장치 및 세정방법", 공개특허 제2018-42571호 "이산화탄소를 이용한 세정장치" 등의 기술이 출현하였는데, 상기 기술을 포함하여 지금까지 출현한 드라이아이스 클리닝 기술은 드라이아이스를 분사하는 노즐의 위치가 고정되어 있거나 일방향으로만 움직이기 때문에 피세정물의 표면에 굴곡이 있거나 형상이 일정하지 않은 형태인 경우에는 세정 효율이 떨어질 수밖에 없다는 문제가 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은, 노즐을 통해 드라이아이스를 피세정물 표면에 고압으로 분사하여 피세정물의 표면에 손상을 입히지 않으면서 표면에 묻어 있거나 고착(固着)되어 있는 오염물질을 효과적으로 제거함은 물론 피세정물의 표면 형상과 크기에 따라 노즐의 위치를 조정할 수 있어서 표면 형상이 일정하지 않은 피세정물도 효율적으로 세정할 수 있는, CO2 블라스트 클리닝 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명에 따른 CO2 블라스트 클리닝 장치는, 세정영역에 피세정물이 놓여지게 되고, 피세정물이 클리닝된 후 구동모터의 구동에 의해 피세정물을 자동 이송시키는 컨베이어벨트; 노즐유닛을 통해 피세정물에 분사될 드라이아이스를 생성할 CO2와 CDA(Clean Dry Air)의 압력과 유량을 조절하여 공급하는 CO2 공급장치; 피세정물의 표면에서 분리되어 제거된 파티클 및 오염물질을 석션(suction)하며, 내부에 노즐유닛이 배치되어 설치된 후드(hood); 상기 후드에서 석션된 파티클 및 오염물질을 플렉시블호스와 스틸(steel) 배관을 통해 집진(集塵)하게 되는 집진기를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 노즐유닛은 2∼4개의 노즐이 하나의 유닛을 형성하여 구성되며, 각 노즐에는 변위센서가 장착되어 있어서, 변위센서가 피세정물의 표면 형상과 위치를 감지하여 각 노즐이 Z축 방향으로 움직일 수 있도록 구성된다.
바람직하게는, 클리닝 장치는 갠트리(Gantry)를 더 구비하고 있어서, 갠트리가 구동되면서 상기 노즐유닛을 포함한 후드와 Z축이 Y축 방향으로 이동할 수 있도록 구성된다.
바람직하게는, 클리닝 장치는 간이용 세정노즐을 더 구비하고 있어서, 간이용 세정노즐을 통해 노즐유닛과 후드의 내부를 클리닝 할 수 있도록 구성된다.
바람직하게는, 후드의 내주면에는 균등 분포를 이루도록 석션홀이 형성되어 있다.
본 발명에 따른 CO2 블라스트 클리닝 장치는 피세정물 표면에 드라이아이스를 고압으로 분사하면 피세정물 표면이 급속 동결 수축되면서 열충격이 발생하여 오염층에 수많은 균열이 발생하고, 이 균열을 통해 드라이아이스가 침투하여 승화 팽창하면서 오염물질을 들어올려 제거하게 되므로 피세정물 표면에 전혀 손상을 입히지 않으면서 고착(固着)된 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있게 된다.
또한, 노즐 선단(先端)에 변위센서가 부착되어 있기 때문에 피세정물의 표면 형상에 따라 노즐의 높이를 조정할 수 있어서 표면 형상이 일정하지 않은 피세정물도 효율적으로 세정할 수 있다. 또, 간이 세정노즐을 별도로 설치하여 클리닝 작업을 하면서 피세정물에서 분리되어 노즐이나 후드의 내벽에 묻어 있을 수 있는 오염물질을 제거해 줌으로써 세정 효율을 더욱 높일 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 틀리닝 장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 노즐유닛 부분을 확대하여 도시한 도면이다.
도 3은 도 1의 측면도이다.
도 4는 도 1의 평면도이다.
본 발명에 따른 CO2 블라스트 클리닝 장치의 기술적 특징은, 피세정물의 표면 형상을 센서가 감지하여 드라이아이스를 분사하는 노즐의 위치를 조정할 수 있게 함으로써 표면 형상이 일정하지 않거나 굴곡이 있는 피세정물도 효율적으로 세정할 수 있게 했다는 점이다.
본 발명에 따른 클리닝 장치는 건식 세정장치로, 이차전지의 배터리 전극 제조시 사용되는 슬롯 코터 다이의 제작 전후 절삭유나 파티클 등의 제거 및 일정 기간 사용한 다이의 재연마시 립(lip) 부분에 부착되어 고형화된 슬러리(slurry)를 제거하는 데 매우 유용하며, 반도체와 디스플레이 등의 제조공정에서도 유용하게 활용될 수 있다. CO2 블라스트 클리닝은 절삭유 등과 같이 액상(液狀)의 오염물질의 클리닝도 가능하지만, 파티클 등이 눌러붙어서 고형화된 오염물질을 클리닝하는데 더 적합하다.
본 발명의 클리닝 장치는 피세정물 표면에 드라이아이스를 고압으로 분사하여 피세정물 표면에 묻어 있거나 고착(固着)된 파티클 및 오염물질을 제거하는 장치로, 피세정물이 놓여지고 클리닝 후 자동 이송시키는 컨베이어벨트(12)와, 드라이아이스를 생성할 CO2와 CDA(Clean Dry Air)를 공급할 CO2 공급장치(13)와, 제거된 파티클 및 오염물질을 석션하는 후드(hood)(14)와, 석션된 파티클 및 오염물질을 집진(集塵)하게 되는 집진기(16)를 기본적인 구성으로 구비하게 된다.
워크테이블(11) 상에 설치된 컨베이어벨트(12)는 세정영역에 피세정물(20)이 놓여지는 작업대 역할도 하면서, 피세정물이 세정된 후 구동모터(121)의 구동에 의해 피세정물을 자동 이송시키는 기능도 하게 된다. 세정영역은 노즐유닛(15)에서 드라이아이스를 분사하고 피세정물의 표면에서 분리된 파티클 및 오염물질을 석션하게 되는 영역으로, 세정영역에서 클리닝이 이루어진 후에 피세정물(20)을 이동시켜 클리닝된 부분을 포장한 다음, 소정의 장소로 컨베이어에 의해 이송되게 된다. 여기서 '세정영역'이란 작업대 역할을 하는 컨베이어벨트(12)에서 후드(14)의 하부에 위치하면서 피세정물(20)이 클리닝 작업을 위해 놓여지는 공간을 말한다.
CO2 공급장치(13)는 노즐유닛(15)을 통해 피세정물에 분사될 드라이아이스를 생성할 CO2와 CDA(Clean Dry Air)의 압력과 유량을 조절하여 공급하는 장치이다. 드라이아이스(dry ice)란 상온에서 CO2 가스를 압축기를 통해 가압하여 54.4기압 정도의 압력에 이르면 CO2 가스는 액체 상태와 공존하는 평형상태가 되고, 이와 같은 액체 CO2 평형상태에서 순간적으로 대기압(1기압)으로 감압하면 단열팽창을 통해 고체와 기체가 평형상태에 도달하면서 고체 드라이아이스가 만들어진다. 미설명부호 131은 CO2가 담겨져 있는 CO2 봄베(bombe)인데, CO2 공급장치(13)에 CO2를 공급하게 되며, CO2 공급장치(13)에 CO2를 공급하는 방식은 봄베가 아니고 유틸리티(utility)를 통한 공급도 가능하다.
드라이아이스 입자의 크기는 매우 작은데, 드라이아이스를 피세정물 표면에 고압으로 분사하면 드라이아이스와 충돌한 피세정물 표면은 급속 동결 수축되며 열충격이 발생하게 된다. 이로 인하여 오염물질층에 수많은 균열이 발생하고, 이 균열을 통해 드라이아이스가 침투하며, 승화 팽창하면서 오염물질을 들어올려 제거하게 되므로 피세정물 표면에 전혀 손상을 입히지 않으면서 고착(固着)된 오염물질만을 효과적으로 제거할 수 있게 된다. 오염물질이 유기 오염물질인 경우, 드라이아이스와 표면의 접촉면에 순간적으로 형성된 액체 이산화탄소는 유기 물질에 대한 매우 높은 용해력을 갖게 되므로 기름이나 플럭스 등과 같은 유기 오염물질도 매우 효과적으로 클리닝 할 수 있게 된다.
후드(hood)(14)는 피세정물의 표면에서 분리되어 제거된 파티클 및 오염물질을 석션(suction)하는 집진(集塵) 부스(booth)인데, 내부에는 노즐유닛(15)이 배치되어 설치된 구성이다. 도시하지는 않았지만, 후드(14)는 외주면과 내주면 사이에 일정 공간이 형성되어 있고, 내주면에는 석션을 위한 석션홀이 균등분포를 이루도록 형성되어 있으며, 석션을 위해 진공을 발생시키는 진공 발생부는 별도로 도시하지는 않았다. 후드(14)의 내주면에 형성된 석션홀을 통해 외주면과 내주면 사이에 형성된 공간으로 석션된 파티클이나 오염물질은 제1 및 제2플렉시블호스(161, 162)를 통해 연결박스(163)로 이송되었다가, 연결박스(163)와 집진기(16) 사이를 연결하고 있는 스틸(steel) 배관(164)을 통해 집진기(16)로 집진(集塵)되게 된다.
스틸 배관(164)은 스틸(steel)로 제작되어 위치가 고정되어 있는 배관이고, 후드(14)가 Y축(171)을 따라 움직일 수 있기 때문에 후드(14)와 연결박스(163) 사이를 연결하고 있는 제1 및 제2플렉시블호스(161, 162)는 플렉서블(flexible)한 재질로 제작되어야 한다.
본 발명의 클리닝 장치는 노즐 모듈을 움직여 주는 갠트리(Gantry)(17)를 구비하고 있는데, 피세정물의 폭에 따라 노즐유닛(15)을 포함한 후드(14)와 Z축(172)이 Y축(171) 방향으로 이동할 수 있도록 해주는 구성이다. 또한, 컨베이어벨트(12)에 의해 피세정물의 X축 방향 이동이 이루어지게 된다. 대면적을 갖는 피세정물은 물론 표면에 굴곡이나 요철 형태를 갖는 피세정물이라도 표면 형상과 위치에 따라 노즐의 위치를 조절하면서 드라이아이스를 분사하여 클리닝하므로 클리닝 효율을 더 향상시킬 수 있다.
노즐유닛(15)은 2∼4개의 노즐이 하나의 유닛을 형성하여 구성되며, 각 노즐에는 거리 측정 센서인 변위센서(152)가 장착되어 있어서, 변위센서(152)가 피세정물의 표면 형상과 위치를 감지하여 각 노즐이 수직방향인 Z축(172) 방향으로 움직일 수 있도록 구성되어 있다. 따라서 노즐의 선단(先端)과 피세정물 사이의 거리가 일정하게 유지되어 클리닝 효율을 높일 수 있게 된다. CO2 공급장치(13)에서 나온 CO2는 매니폴드(151)를 통해 노즐유닛(15)의 각 노즐로 공급되게 된다.
클리닝 장치는 간이용 세정노즐(18)을 더 구비할 수 있는데, 클리닝 작업을 하면서 피세정물에서 분리된 파티클이나 오염물질이 비산(飛散)되어 노즐이나 후드(14)의 내부에 묻어 있을 수 있으므로, 필요시 작업자가 수동으로 간이용 세정노즐(18)을 들고 노즐유닛(15)의 각 노즐과 후드(14)의 내부를 클리닝해 줌으로써 클리닝 효율을 더 높일 수 있게 된다.
이상의 설명은 본 발명을 예시적으로 설명한 것이고, 명세서에 게시된 실시예는 본 발명의 기술사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이므로 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 그러므로 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의해 해석되고, 그와 균등한 범위 내에 있는 기술적 사항도 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
10 : 프레임 11 : 워크테이블
12 : 컨베이어벨트 121 : 구동모터
13 : CO2 공급장치 131 : CO2 봄베
14 : 후드(hood)
15 : 노즐유닛 151 : 매니폴드
152 : 변위센서
16 : 집진기 161, 162 : 제1 및 제2플렉시블호스
163 : 연결박스 164 : 스틸(steel) 배관
17 : 갠트리(Gantry) 171 : Y축
172 : Z축
18 : 간이용 세정노즐
20 : 피세정물

Claims (5)

  1. 피세정물 표면에 드라이아이스를 분사하여 파티클 및 오염물질을 제거하는 CO2 블라스트 클리닝 장치에 있어서,
    상기 클리닝 장치는,
    세정영역에 피세정물이 놓여지게 되고, 피세정물이 클리닝된 후 구동모터의 구동에 의해 피세정물을 자동 이송시키는 컨베이어벨트;
    노즐유닛을 통해 피세정물에 분사될 드라이아이스를 생성할 CO2와 CDA(Clean Dry Air)의 압력과 유량을 조절하여 공급하는 CO2 공급장치;
    피세정물의 표면에서 분리되어 제거된 파티클 및 오염물질을 진공에 의해 석션(suction)하며, 내부에 노즐유닛이 배치되어 설치된 후드(hood);
    상기 후드에서 석션된 파티클 및 오염물질을 플렉시블호스와 스틸(steel) 배관을 통해 집진(集塵)하게 되는 집진기;
    를 포함하여 구성되며,
    상기 후드는 외주면과 내주면 사이에 일정 공간이 형성되어 있고, 내주면에는 석션을 위한 석션홀이 균등분포를 이루도록 형성되어 있으며, 후드와 연결박스 사이는 플렉시블호스로 연결되고, 연결박스와 집진기 사이는 스틸 배관에 의해 연결되는 것을 특징으로 하는 CO2 블라스트 클리닝 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 노즐유닛은 2∼4개의 노즐이 하나의 유닛을 형성하여 구성되며, 각 노즐에는 변위센서가 장착되어 있어서, 변위센서가 피세정물의 표면 형상과 위치를 감지하여 각 노즐이 Z축 방향으로 움직일 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 CO2 블라스트 클리닝 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 클리닝 장치는 갠트리(Gantry)를 더 구비하고 있어서, 갠트리가 구동되면서 상기 노즐유닛을 포함한 후드와 Z축이 Y축 방향으로 이동할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 CO2 블라스트 클리닝 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 클리닝 장치는 간이용 세정노즐을 더 구비하고 있어서, 간이용 세정노즐을 통해 상기 노즐유닛과 후드의 내부를 클리닝 할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 CO2 블라스트 클리닝 장치.
  5. 삭제
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116351778A (zh) * 2023-06-01 2023-06-30 宁德时代新能源科技股份有限公司 去除装置和电池生产系统

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140073767A (ko) * 2012-12-07 2014-06-17 이노크린 주식회사 세정 시스템
CN214160740U (zh) * 2020-12-22 2021-09-10 苏州睿智源自动化科技有限公司 半导体元件用干冰清洗设备

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140073767A (ko) * 2012-12-07 2014-06-17 이노크린 주식회사 세정 시스템
CN214160740U (zh) * 2020-12-22 2021-09-10 苏州睿智源自动化科技有限公司 半导体元件用干冰清洗设备

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116351778A (zh) * 2023-06-01 2023-06-30 宁德时代新能源科技股份有限公司 去除装置和电池生产系统

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