KR102420993B1

KR102420993B1 - 리페어 장치

Info

Publication number: KR102420993B1
Application number: KR1020200080340A
Authority: KR
Inventors: 이종수; 변인재; 윤여홍; 김영재; 이혜원
Original assignee: 참엔지니어링(주)
Priority date: 2020-06-30
Filing date: 2020-06-30
Publication date: 2022-07-15
Also published as: CN113856929A; KR20220001877A

Abstract

본 발명은, 처리물을 안착시킬 수 있도록 형성되는 스테이지, 처리물의 리페어 영역에 수정물질을 토출할 수 있도록 스테이지의 상측에 경사지게 배치되는 노즐부, 리페어 영역을 관찰할 수 있도록 노즐부의 상측에 배치되는 촬영부, 촬영부와 노즐부 사이에 배치되는 대물렌즈부, 및 리페어 영역상의 패턴의 크기에 따라 촬영부의 촬영배율을 조절할 수 있도록 촬영부와 대물렌즈부 사이에 배치되는 광학부를 포함하는 리페어 장치로서, 작동 거리를 줄이지 않으면서 고배율로 처리물의 리페어 영역을 관찰할 수 있는 리페어 장치가 제시된다.

Description

리페어 장치{REPAIR APPARATUS}

본 발명은 리페어 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 작동 거리를 줄이지 않으면서 고배율로 처리물의 리페어 영역을 관찰할 수 있는 리페어 장치에 관한 것이다.

최근 출시되는 각종 전자제품들은 그 내부에 반도체 소자들을 포함한다. 이러한 반도제 소자들은 전자제품의 경량화 및 박형화 경향에 맞춰 크기가 점차 줄어들고 있으며, 그에 따라 내부의 패턴 라인의 폭도 점차 얇아지고 있다.

또한, LCD(Liquid Crystal Display)와 OLED(Organic Light Emitting Diodes)를 포함하는 평면 패널 디스플레이(Flat Panel Display, FPD)는 단위 면적당 더 많은 픽셀을 구형하기 위해, 각 픽셀을 구동하는 회로 소자들이 작아지고 있고, 이에 따라, 회로 소자들을 연결하는 패턴 라인의 폭도 더욱 얇아지고 있다.

이러한 추세에 맞추어 얇은 폭의 패턴 라인을 리페어할 수 있도록, 반도체와 평면 패널 디스플레이 등을 제조하는 설비에는 전기수력학적(electrohydrodynamic, EHD) 현상을 이용하여 노즐로부터 수정물질 예컨대 도전성 잉크를 미세하게 토출하여 기판상에 형성된 패턴 라인의 결함(defect)을 리페어할 수 있는 리페어 장치가 마련된다.

한편, 얇은 두께의 패턴 라인에 형성된 미세 결함을 리페어하는 중에 리페어 영역을 관찰하기 위해서는 고배율의 대물렌즈를 사용해야 한다. 이때, 고배율의 대물렌즈는 패턴 라인에 대한 작동 거리(Working Distance)가 짧기 때문에 기판에 가깝게 배치시켜야 한다. 따라서, 대물렌즈와 노즐이 구조적으로 간섭될 수 있다. 이에, 종래에는 패턴 라인의 결함을 리페어하며 리페어 영역을 고배율로 정밀하게 관찰하기가 어려운 문제점이 있었다.

본 발명의 배경이 되는 기술은 하기의 특허문헌에 게재되어 있다.

KR

10-2019-0000602

A

본 발명은 작동 거리를 줄이지 않으면서 고배율로 처리물의 리페어 영역을 관찰할 수 있는 리페어 장치를 제공한다.

본 발명의 실시 형태에 따른 리페어 장치는, 처리물을 안착시킬 수 있도록 형성되는 스테이지; 상기 처리물의 리페어 영역에 수정물질을 토출할 수 있도록 상기 스테이지의 상측에 경사지게 배치되는 노즐부; 상기 리페어 영역을 관찰할 수 있도록 상기 노즐부의 상측에 배치되는 촬영부; 상기 촬영부와 상기 노즐부 사이에 배치되는 대물렌즈부; 및 상기 리페어 영역상의 패턴의 크기에 따라 상기 촬영부의 촬영배율을 조절할 수 있도록 상기 촬영부와 상기 대물렌즈부 사이에 배치되는 광학부;를 포함한다.

상기 대물렌즈부는 상기 광학부의 출력단에 탈착 가능하게 장착될 수 있다.

상기 대물렌즈부는, 상기 촬영부와 상기 광학부가 이루는 광축에 교차하는 방향으로 이동 가능하게 설치되는 이동부재; 상기 광축에 위치할 수 있도록 상기 이동부재에 지지되고, 상기 교차하는 방향으로 나열되며, 서로 다른 고정배율을 가지는 복수개의 대물렌즈;를 포함할 수 있다.

상기 촬영부 및 상기 광학부가 이루는 광축이 상기 처리물의 일면과 이루는 각도는 60° 내지 90°의 범위일 수 있다.

상기 처리물의 일면은 곡면 및 평면 중 적어도 하나의 면을 포함할 수 있다.

상기 촬영배율은 0.5배 내지 175배의 범위일 수 있다.

상기 대물렌즈부의 고정배율은 2배 내지 50배의 범위 중에서 선택될 수 있다.

상기 대물렌즈부와 상기 처리물 간의 작동 거리는 15㎜ 내지 34㎜의 범위일 수 있다.

상기 광학부는, 상기 촬영부로부터 상기 스테이지를 향하는 방향으로 연장되는 통체; 상기 통체의 내부에 이동 가능하게 설치되는 복수개의 렌즈부재; 상기 복수개의 렌즈부재의 간격을 조절할 수 있도록, 상기 복수개의 렌즈부재와 연결되는 구동부재;를 포함할 수 있다.

상기 처리물은 일면에 패턴이 구비되는 기판을 포함하고, 상기 노즐부는 전기수력학적 현상을 이용하여 패턴의 결함에 수정물질을 토출 가능하도록 형성될 수 있다.

상기 촬영부 및 상기 광학부 사이에 배치되고, 2배의 배율을 가지는 컨버터렌즈;를 포함할 수 있다.

본 발명의 실시 형태에 따르면, 기판 상에 형성된 얇은 패턴의 미세 결함을 리페어함에 있어서, 패턴의 크기에 따라 배율을 가변할 수 있는 광학부를 촬영부와 대물렌즈부 사이에 마련할 수 있다. 이에, 대물렌즈부와 기판 사이의 작동 거리를 유지하면서 광학부를 이용하여 촬영부의 촬영배율을 원하는 배율로 크게 증가시킬 수 있다. 따라서, 작동 거리를 줄이지 않으면서 고배율로 기판의 리페어 영역을 관찰할 수 있고, 미세한 크기의 결함을 실시간으로 관찰하면서 원활하게 리페어할 수 있다.

도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 리페어 장치의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 제2실시 예에 따른 리페어 장치의 개략도이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니고, 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이다. 단지 본 발명의 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 도면은 과장될 수 있고, 도면상의 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다.

본 발명의 실시 예에 따른 리페어 장치는 평면 패널 디스플레이의 제조 공정 중의 잉크 리페어 공정을 위한 리페어 장치에 적용될 수 있다. 물론, 본 발명의 실시 예에 따른 리페어 장치는 전기수력학적 현상을 이용하여 다양한 액상 물질을 토출하여 처리물상에 패턴을 형성하는 각종 패턴 형성장치에도 적용될 수 있다.

도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 리페어 장치의 개략도이다.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제1실시 예에 따른 리페어 장치는, 처리물 예컨대 기판(1)을 안착시킬 수 있도록 형성되는 스테이지(100), 기판(1)의 리페어 영역(S)에 수정물질을 토출할 수 있도록 스테이지(100)의 상측에 경사지게 배치되는 노즐부(200), 리페어 영역(S)을 관찰할 수 있도록 노즐부(200)의 상측에 배치되는 촬영부(300), 촬영부(300)와 노즐부(200) 사이에 배치되는 대물렌즈부(400), 및 리페어 영역(S)상의 패턴의 크기에 따라 촬영부(300)의 촬영배율을 조절할 수 있도록 촬영부(300)와 대물렌즈부(400) 사이에 배치되는 광학부(500)를 포함한다.

또한, 리페어 장치는 스테이지(100), 노즐부(200), 촬영부(300), 및 광학부(500)와 연결되는 제어부(미도시)를 포함할 수 있다.

기판(1)은 일면 예컨대 상면에 각종 전자 소자가 제조되는 공정이 진행 중이거나 또는 종료된 기판일 수 있다. 여기서, 공정은 LCD, OLED 및 LED(light emitting diode)를 포함하는 각종 평면 패널 디스플레이와, 태양전지 및 반도체 칩 등을 제조하는 공정을 포함할 수 있다.

기판(1)의 일면상에는 소정의 도전성 패턴이 구비될 수 있다. 이때, 패턴의 두께 예컨대 선폭은 약 0.2㎛ 내지 1㎛의 크기일 수 있다. 패턴상에는 결함이 형성될 수 있다. 결함은 노즐부(200)로부터 토출되는 수정물질 예컨대 도전성 잉크에 의해 리페어될 수 있다. 도전성 잉크는 잉크 입자 및 용제를 포함할 수 있다. 잉크 입자는 금, 은, 백금, 크롬 등의 금속 입자 및 이들의 합금, 산화물 또는 이온을 포함할 수 있다. 용제는 휘발성 물질, 수용성 물질 또는 지용성 물질로 마련될 수 있다. 물론, 도전성 잉크는 전기수력학적 현상에 의해 기판(1)상에 미세한 크기로 분무되어 도전성 패턴을 형성 가능한 다양한 용액을 포함할 수 있다.

한편, 기판(1)의 일면은 곡면 및 평면 중 적어도 하나의 면을 포함할 수 있다. 즉, 기판(1)은 평판 형상이거나 굴곡진 형상이거나, 평판 형상과 굴곡진 형상을 모두 가지는 복합 형상의 기판(1)일 수 있다. 예컨대 평판 형상의 기판(1)은 평면 패널 디스플레이의 제조에 사용될 수 있고, 굴곡진 형상의 기판(1)은 자동차의 대시보드의 제조에 사용될 수 있다. 이러한 기판(1)의 일면 형상에 따라 스테이지(100)의 일면의 형상이 형성될 수 있다. 예컨대 기판(1)의 일면 형상과 스테이지(100)의 일면의 형상이 동일할 수 있다.

스테이지(100)는 일면 예컨대 상면에 기판(1)을 안착시킬 수 있도록 형성될 수 있다. 스테이지(100)는 테이블(미도시)상에 고정 설치되거나, 전후, 좌우 및 상하 이동이 가능하도록 테이블상에 설치될 수 있다. 이러한 스테이지(100)는 예컨대 판 타입으로 형성될 수 있고, 기판(1)을 지지할 수 있도록 기판(1)보다 큰 면적으로 형성될 수 있다. 스테이지(100)의 이동은 제어부에 의해 제어될 수 있다.

노즐부(200)는 전기수력학적 현상을 이용하여, 기판(1)상의 결함에 수정물질을 토출할 수 있도록 형성될 수 있다. 노즐부(200)는 수정물질을 토출할 수 있도록 형성되는 노즐몸체(210), 노즐몸체(210)를 지지할 수 있도록 스테이지(100)의 상측에 설치되는 홀더(미도시) 및 노즐몸체(210)와 연결되는 전원공급기(220)를 포함할 수 있다.

노즐몸체(210)는 상하 방향으로 경사지게 연장될 수 있다. 노즐몸체(210)는 내부에 수정물질이 저장될 수 있도록, 중공형으로 형성될 수 있다. 노즐몸체(210)의 하단에 토출구가 형성될 수 있다. 노즐몸체(210)는 글라스 및 사파이어 중 적어도 하나의 재질을 포함할 수 있다. 이에, 노즐몸체(210)는 토출구의 내경을 원하는 크기로 작게 형성할 수 있다. 노즐몸체(210)는 내부에 도전성 재질의 핀 예컨대 금속핀이 배치되거나, 외면에 도전성 재질의 막 예컨대 금속막이 코팅될 수 있다. 금속핀 및 금속막은 전극의 역할을 할 수 있다. 이때, 금속핀 및 금속막에 전원을 인가하여 노즐몸체(210)와 기판(1) 사이에 전기장을 형성할 수 있고, 노즐몸체(210)의 내부의 수정물질을 토출구로부터 토출시킬 수 있다. 이처럼 노즐몸체(210)는 미세량의 수정물질을 토출하여 기판(1)의 상면에 패턴을 형성할 수 있고, 기판(1)상의 결함을 리페어할 수 있다. 이때, 수정물질은 방울 혹은 분무 형태로 토출구로부터 토출될 수 있다.

홀더는 노즐몸체(210)를 장착시킬 수 있는 다양한 구조를 가질 수 있다. 예컨대 홀더는 서로 탈착 가능하게 결합될 수 있도록 형성된 복수개의 블록지그를 포함할 수 있고, 복수개의 블록지그의 결합면에 노즐몸체(210)가 장착될 수 있다. 이러한 홀더는 스테이지(100)에 대해 상대이동이 가능할 수 있다. 예컨대 홀더가 전후, 좌우 및 상하 방향으로 이동 가능하도록 테이블상에 설치될 수 있다. 물론, 홀더는 테이블상에 고정 설치되고, 스테이지(100)가 이동할 수도 있다.

전원공급기(220)는 노즐몸체(210)와 연결될 수 있고, 노즐몸체(210)의 전극에 수정물질의 토출을 위한 소정크기의 전압을 인가할 수 있다. 전원공급기(220)가 노즐몸체(210)의 전극에 전압을 인가하면, 기판(1)과 노즐몸체(210) 간에 전위치가 형성되고, 이에 따라, 전기장이 형성될 수 있다. 수정물질은 전기장에 의해 노즐몸체(210)로부터 미세량이 토출될 수 있다. 이때, 전원공급기(220)의 작동은 제어부에 의해 제어될 수 있다.

촬영부(300)는 스테이지(100)로부터 소정 높이 이격될 수 있고, 노즐부(200)의 상측에 배치될 수 있다. 촬영부(300)는 기판(1)상의 리페어 영역(S)을 관찰할 수 있다. 예컨대 촬영부(300)는 리페어 영역(S) 내의 패턴 및 결함의 모습과, 노즐부(200)의 토출구의 모습과, 노즐부(200)로부터 리페어 영역(S) 내의 결함 위치로 수정물질이 토출되는 모습과, 결함 위치에 토출된 수정물질의 모습을 관찰할 수 있다. 이러한 촬영부(300)는 예컨대 CCD 카메라(charge-coupled device camera)를 포함할 수 있다. 물론, 촬영부(300)는 리페어 영역(S)을 관찰할 수 있는 각종 이미지 센서를 포함할 수 있다. 촬영부(300)의 작동은 제어부에 의해 제어될 수 있다. 촬영부(300)에서 촬영된 이미지는 제어부로 전송될 수 있다.

촬영부(300)의 촬영배율은 광학부(500)의 배율과 대물렌즈부(400)의 배율에 의해 조절될 수 있다. 이때, 광학부(500)의 배율을 가변배율이라고 하고, 대물렌즈부(400)의 배율을 고정배율이라고 한다. 예컨대 고정배율을 20배로 하고, 가변배율을 6.4배로 하여, 촬영배율을 128배로 조절할 수 있다. 또한, 고정배율을 2배로 하고, 가변배율을 25배로 하여, 촬영배율을 50배로 조절할 수 있다. 이러한 촬영배율에 따라 촬영부(300)가 촬영하는 이미지의 해상도가 정해질 수 있다.

한편, 촬영부(300)의 촬영배율은 0.5배 내지 175배의 범위일 수 있다. 예컨대 촬영부(300)의 촬영배율이 0.5배 미만이면, 기판(1)상의 패턴 및 결함을 촬영한 이미지의 선명도가 원하는 선명도보다 저하될 수 있다. 이에, 패턴상의 미세 결함을 정밀하게 리페어하기 어려울 수 있다. 촬영부(300)의 촬영배율이 175배를 초과하면 대물렌즈부(400)와 기판(1) 사이의 작동 거리가 작아지게 되어, 대물렌즈부(400)와 노즐부(200)가 구조적으로 충돌할 수 있다. 촬영부(300)의 촬영배율이 0.5배 내지 175배의 범위가 되면, 대물렌즈부(400)와 노즐부(200)의 구조적 간섭을 방지할 수 있고, 패턴 및 결함의 선명한 이미지 즉, 고해상도의 이미지를 획득할 수 있다. 이에, 대물렌즈부(400) 하측에 노즐부(200)를 배치하여 수정물질을 토출하며, 촬영부(300)로 패턴 상의 결함을 선명한 이미지로 관찰할 수 있다.

대물렌즈부(400)는 기판(1)으로부터 상측으로 이격될 수 있도록 촬영부(300)와 스테이지(100) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 대물렌즈부(400)는 광학부(500)의 출력단에 탈착 가능하게 장착될 수 있다. 한편, 대물렌즈부(400)와 기판(1) 사이의 이격 거리를 작동 거리라고 한다. 작동 거리는 대물렌즈부(400)의 고정배율에 따라 정해질 수 있다. 예컨대 대물렌즈부(400)의 고정배율이 높을수록 작동 거리가 감소하고, 대물렌즈부(400)의 고정배율이 낮을수록 작동 거리가 증가할 수 있다.

대물렌즈부(400)는 촬영부(300)의 촬영배율의 범위의 상한값보다 작은 고정배율을 가지는 렌즈를 포함할 수 있다. 예컨대 대물렌즈부(400)는 175배의 배율보다 작은 고정배율을 가지는 렌즈를 포함할 수 있다. 이에, 작동 거리를 충분히 확보할 수 있고, 대물렌즈부(400)와 노즐부(200)와의 충돌을 방지할 수 있다.

예컨대 대물렌즈부(400)의 고정배율은 2배 내지 50배의 범위 중에서 선택될 수 있다. 대물렌즈(400)의 고정배율이 2배보다 작으면, 광학부(500)의 가변배율의 범위가 커져야 하고, 그에 따라 광학부(500)의 크기가 커질 수 있고, 구조가 복잡해질 수 있다. 대물렌즈(400)의 고정배율이 50배보다 크면, 작동 거리가 작아지게 되어 대물렌즈부(400)와 노즐부(200)가 구조적으로 충돌할 수 있다.

예컨대 대물렌즈부(400)의 고정배율이 2배 내지 50배의 범위가 됨에 따라, 광학부(500)의 크기가 커지는 것과 구조가 복잡해지는 것을 방지할 수 있고, 대물렌즈부(400)와 노즐부(200)가 충돌하는 것을 방지할 수 있다.

이러한 대물렌즈부(400)와 기판(1) 간의 작동 거리는 15㎜ 내지 34㎜의 범위일 수 있다. 대물렌즈부(400)와 기판(1) 간의 작동 거리가 15㎜보다 작으면 대물렌즈부(400)의 하측에 노즐부(200)를 배치시킬 공간을 확보하기 어렵다. 대물렌즈부(400)와 기판(1) 간의 작동 거리가 34㎜보다 크면 대물렌즈부(400)의 고정배율이 2배보다 작아지게 된다. 즉, 대물렌즈부(400)와 기판(1) 간의 작동 거리를 34㎜보다 크게 정하면, 고정배율이 2배 이상인 대물렌즈부(400)를 광학부(500)와 기판(1) 사이에 배치하기 어렵다.

광학부(500)는, 대물렌즈부(400)와 촬영부(300)의 사이에서 가변배율을 조절함으로써, 촬영부(300)의 촬영배율을 조절하는 역할을 한다. 광학부(500)는 복수개의 렌즈부재를 구비할 수 있고, 렌즈부재 간의 간격을 조절하여 가변배율을 조절할 수 있다. 광학부(500)는 대물렌즈부(400)를 통과한 광을 촬영부(300)로 안내할 수 있다.

구체적으로, 광학부(500)는 촬영부(300)로부터 스테이지(100)를 향하는 방향으로 연장되는 통체(530), 통체(530)의 내부에 이동 가능하게 설치되는 복수개의 렌즈부재(510), 복수개의 렌즈부재(510)의 간격을 조절할 수 있도록, 복수개의 렌즈부재(510)와 연결되는 구동부재(520)를 포함할 수 있다. 또한, 광학부(500)는 대물렌즈부(400)가 탈착 가능하게 장착될 수 있도록 통체(530)의 하부에 형성되는 결합부재(540)를 포함할 수 있다.

통체(530)는 내부에 복수개의 렌즈부재(510) 및 구동부재(520)가 장착될 수 있는 공간을 가질 수 있다. 통체(530)의 상단 및 하단에는 광이 통과될 수 있도록 투과창이 구비될 수 있다. 통체(530)의 하단의 투과창을 출력단이라고 할 수 있다. 통체(530)의 출력단을 상하 방향으로 마주보도록 대물렌즈부(400)가 장착될 수 있다. 이때, 결합부재(540)가 출력단의 외측을 둘러 연장형성되고, 대물렌즈부(400)는 결합부재(540)에 예컨대 나사 결합될 수 있다. 물론, 대물렌즈부(400)와 결합부재(540)의 결합 구조는 다양할 수 있다. 통체(530)의 상단의 투과창을 상하 방향으로 마주보도록 촬영부(300)가 배치될 수 있다. 촬영부(530)는 통체(530)의 상단에 장착될 수 있다.

복수개의 렌즈부재(510)는 통체(530)의 연장방향으로 나열될 수 있다. 복수개의 렌즈부재(520)는 예컨대 복수개의 튜브렌즈일 수 있다. 물론, 렌즈부재(520)의 종류는 다양할 수 있다. 구동부재(520)는 복수개의 렌즈부재(510)를 지지할 수 있고, 복수개의 렌즈부재(510) 간의 거리를 조절하여 가변배율을 조절할 수 있다. 즉, 복수개의 렌즈부재(510)는 구동부재(520)에 의해 상호 연동되어 서로 간의 거리를 조절할 수 있다. 이때, 촬영부(300)의 촬영배율을 0.5배 내지 175배의 범위 중에서 원하는 배율로 선택하고, 대물렌즈부(400)의 고정배율을 반영하여, 구동부재(520)가 복수개의 렌즈부재(510)의 거리를 조절함으로써 가변배율의 범위를 조절할 수 있다. 이러한 구동부재(520)는 모터를 포함할 수 있고, 이의 작동은 제어부에 의해 제어될 수 있다.

이처럼 본 발명의 실시 예에 따르면, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 광학부(500)의 통체(530)를 개방하지 않아도 구동부재(520)를 작동시켜 복수개의 튜브렌즈의 위치를 조정함으로써, 배율을 실시간으로 간단하게 조정할 수 있다.

반면, 본 발명의 실시 예에 따른 광학부(500)와 다르게, 구동부재(520)를 구비하지 않을 경우, 작업자가 통체(530)를 직접 개방하여 기존에 설치된 튜브렌즈를 예컨대 X2, X5, X10 등의 배율을 가진 다른 튜브렌즈로 교체하는 방식으로 배율을 조정해야 하므로, 배율의 조정이 본원발명에 비하여 복잡하고 어려울 수 있다.

한편, 촬영부(300) 및 광학부(500)가 이루는 광축(C, C')이 기판(1)의 일면과 이루는 각도(θ)는 60° 내지 90°의 범위일 수 있다. 이때, 광축(C, C')이 90°에 가까울수록 촬영부(300)가 기판(1)의 이미지를 선명하게 촬영할 수 있다. 광축(C, C')이 60°에 가까울수록 노즐부(200)로부터 대물렌즈부(400)를 멀리 이격시킬 수 있다. 광축(C, C')이 60°보다 작게 되면 리페어 영역(S) 내에 이미지 디포커싱 영역이 발생할 수 있다. 한편, 이미지 디포커싱 영역은 이미지의 왜곡이 발생하는 영역을 의미한다. 촬영부(300) 및 광학부(500)가 이루는 광축(C, C')이 기판(1)의 일면과 이루는 각도(θ)가 60° 내지 90°의 범위로 하여, 리페어 영역(S) 내에 이미지 디포커싱 영역이 발생하는 것을 억제 내지 방지할 수 있다.

이를 위해, 테이블상에 장착부(미도시)구비될 수 있고, 광학부(500)는 장착부에 지지되어 각도가 조절될 수 있다. 이때, 각도는 기판(1)의 일면에 대한 각도로서, 상세하게는 기판(1)상의 리페어 영역(S) 내의 중심 또는 결함 위치를 중심으로 하는 접평면과 이루는 각도를 의미할 수 있다.

본 발명의 실시 예에 따른 리페어 장치는 조명부(미도시)를 더 포함할 수 있다. 조명부는 스테이지(100)의 하측 혹은 내부에 위치하거나, 광학부(500)의 일측에 위치할 수 있다. 조명부가 스테이지(100)의 하측 혹은 내부에 위치하는 경우, 스테이지(100)의 적어도 일부는 투명한 재질로 형성될 수 있다. 조명부로부터 방출되는 광 예컨대 조명광은 스테이지(100)와 기판(1)을 투과하여 대물렌즈부(400)로 입사될 수 있다.

조명부가 광학부(500)의 일측에 위치하는 경우, 광학부(500)의 내부에는 빔 스플리터(미도시)가 구비될 수 있다. 조명부로부터 방출되는 조명광은 빔 스플리터에 의해 대물렌즈부(400)를 향하여 진행될 수 있다. 또한, 기판(1)으로부터 반사되는 광 예컨대 반사광은 대물렌즈부(400)와 빔 스플리터와 복수개의 렌즈부재(510)를 통과하여 촬영부(300)에 수집될 수 있다. 촬영부(300)는 수집된 반사광을 이용하여 이미지를 생성할 수 있다.

도 2는 본 발명의 제2실시 예에 따른 리페어 장치의 개략도이다.

본 발명의 제2실시 예에 따른 리페어 장치는 대물렌즈부(400)의 구조가 제1실시 예와 다를 수 있다. 한편, 이하에서 본 발명의 제1실시 예의 리페어 장치와 동일한 구조는 그 설명을 생략한다.

도 2를 참조하면, 대물렌즈부(400)는, 촬영부(300)와 광학부(500)가 이루는 광축(C, C')에 교차하는 방향으로 이동 가능하게 설치되는 이동부재(420), 광축(C, C')에 위치할 수 있도록 이동부재(420)에 지지되고, 광축(C, C')에 교차하는 방향으로 나열되며, 서로 다른 고정배율을 가지는 복수개의 대물렌즈(410, 410')를 포함할 수 있다. 즉, 대물렌즈부(400)는 리볼버 구조로 형성될 수 있다. 이때, 광학부(500)의 하단에서 결합부재(540)의 구조는 생략될 수 있다.

이동부재(420)는 리니어 모터를 포함할 수 있고, 광축(C, C')에 교차하는 방향으로 연장될 수 있다. 이동부재(420)는 광축(C, C')에 교차하는 방향으로 이동 가능하도록, 광학부(500)의 하단에 접촉 혹은 장착될 수 있다. 복수개의 대물렌즈(410, 410')는 광축(C, C')에 교차하는 방향으로 나열될 수 있고, 이동부재(420)의 이동에 의해 선택적으로 광축(C, C')에 배치될 수 있다. 이동부재(420)의 작동은 제어부에 의해 제어될 수 있다.

본 발명의 실시 예들에 따른 리페어 장치는 촬영부(300) 및 광학부(500) 사이에 배치되고, 2배의 배율을 가진 컨버터렌즈(미도시)를 더 포함할 수 있다. 컨버터렌즈는 촬영부(300)의 하단과 광학부(500)의 상단이 만나는 부분에 배치될 수 있고, 촬영부(300) 및 광학부(500) 중 적어도 하나에 탈착 가능하게 장착될 수 있고, 촬영부(300)와 광학부(500)가 이루는 광축(C, C')에 위치될 수 있다. 컨버터렌즈를 광축에 위치시킴으로써, 촬영부(300)의 촬영배율을 신속하게 두배로 증가시킬 수 있다.

본 발명의 상기 실시 예는 본 발명의 설명을 위한 것이고, 본 발명의 제한을 위한 것이 아니다. 본 발명의 상기 실시 예에 개시된 구성과 방식은 서로 결합하거나 교차하여 다양한 형태로 조합 및 변형될 것이고, 이에 의한 변형 예들도 본 발명의 범주로 볼 수 있음을 주지해야 한다. 즉, 본 발명은 청구범위 및 이와 균등한 기술적 사상의 범위 내에서 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 본 발명이 해당하는 기술 분야에서의 업자는 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 실시 예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.

100: 스테이지 200: 노즐부
300: 촬영부 400: 대물렌즈부
500: 광학부

Claims

처리물을 안착시킬 수 있도록 형성되는 스테이지;
전기수력학적 현상을 이용하여 상기 처리물의 리페어 영역에 수정물질을 토출할 수 있도록 상기 스테이지의 상측에 경사지게 배치되며, 잉크 리페어를 위한 노즐부;
상기 리페어 영역을 관찰할 수 있도록 상기 노즐부의 토출구의 상측에 배치되는 촬영부;
상기 촬영부와 상기 노즐부 사이에 배치되는 대물렌즈부; 및
상기 토출구로부터 수정물질이 토출되는 모습을 상기 촬영부로 관찰할 수 있도록 하기 위해, 상기 리페어 영역상의 패턴의 크기에 따라 상기 촬영부의 촬영배율을 조절할 수 있도록 상기 촬영부와 상기 대물렌즈부 사이에 배치되는 광학부;를 포함하고,
상기 광학부는 관찰을 위한 광을 투과시키는 통체를 포함하고,
상기 대물렌즈부는 상기 통체의 출력단에 탈착 가능하게 장착되며, 상기 출력단과 상기 토출구 사이에 배치될 수 있는 리페어 장치.
삭제
청구항 1에 있어서,
상기 대물렌즈부는,
상기 촬영부와 상기 광학부가 이루는 광축에 교차하는 방향으로 이동 가능하게 설치되는 이동부재;
상기 광축에 위치할 수 있도록 상기 이동부재에 지지되고, 상기 교차하는 방향으로 나열되며, 서로 다른 고정배율을 가지는 복수개의 대물렌즈;를 포함하는 리페어 장치.
청구항 1 또는 청구항 3에 있어서,
상기 촬영부 및 상기 광학부가 이루는 광축이 상기 처리물의 일면과 이루는 각도는 60° 내지 90°의 범위인 리페어 장치.
청구항 4에 있어서,
상기 처리물의 일면은 곡면 및 평면 중 적어도 하나의 면을 포함하는 리페어 장치.
청구항 1 또는 청구항 3에 있어서,
상기 촬영배율은 0.5배 내지 175배의 범위인 리페어 장치.
청구항 6에 있어서,
상기 대물렌즈부의 고정배율은 2배 내지 50배의 범위 중에서 선택되는 리페어 장치.
청구항 7에 있어서,
상기 대물렌즈부와 상기 처리물 간의 작동 거리는 15㎜ 내지 34㎜의 범위인 리페어 장치.
청구항 1 또는 청구항 3에 있어서,
상기 광학부는,
상기 통체의 내부에 이동 가능하게 설치되는 복수개의 렌즈부재;
상기 복수개의 렌즈부재의 간격을 조절할 수 있도록, 상기 복수개의 렌즈부재와 연결되는 구동부재;를 포함하고,
상기 통체는 상기 촬영부로부터 상기 스테이지를 향하는 방향으로 연장되는 리페어 장치.
청구항 1 또는 청구항 3에 있어서,
상기 처리물은 일면에 패턴이 구비되는 기판을 포함하고,
상기 노즐부는 패턴의 결함에 수정물질을 토출 가능하도록 형성되는 리페어 장치.
청구항 1 또는 청구항 3에 있어서,
상기 촬영부 및 상기 광학부 사이에 배치되고, 2배의 배율을 가지는 컨버터렌즈;를 포함하는 리페어 장치.