KR102417139B1 - 보상 필름, 광학 필름 및 표시 장치 - Google Patents

보상 필름, 광학 필름 및 표시 장치 Download PDF

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KR102417139B1
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Abstract

하기 화학식 1로 표현되는 제1 구조단위를 가지는 중합체를 포함하고 광탄성계수가 40x10-13 ㎠/dyn 이하인 보상 필름, 광학 필름 및 표시 장치에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure 112016001858452-pat00052

상기 화학식 1에서, Ar1, X, L1, R1은 명세서에서 정의한 바와 같다.

Description

보상 필름, 광학 필름 및 표시 장치{COMPENSATION FILM AND OPTICAL FILM AND DISPLAY DEVICE}
보상 필름, 광학 필름 및 표시 장치에 관한 것이다.
평판 표시 장치는 스스로 발광하는 발광 표시 장치와 별도의 광원을 필요로 하는 수광형 표시 장치로 나눌 수 있으며, 이들의 화질을 개선하기 위한 방법으로 보상 필름 또는 광학 필름이 사용될 수 있다.
일 구현예는 외력에 의한 광학 특성의 변화가 작은 보상 필름을 제공한다.
다른 구현예는 상기 보상 필름을 포함하는 광학 필름을 제공한다.
또 다른 구현예는 상기 보상 필름 또는 상기 광학 필름을 포함하는 표시 장치를 제공한다.
일 구현예에 따르면, 하기 화학식 1로 표현되는 제1 구조단위를 가지는 중합체를 포함하고 광탄성계수가 40x10-13 ㎠/dyn 이하인 보상 필름을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112016001858452-pat00001
상기 화학식 1에서,
Ar1은 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
X는 치환 또는 비치환된 아세틸레닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 시아노기를 포함하는 작용기이고,
L1은 단일결합, O, CO, COO, CONRa이고,
R1 및 Ra는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 제1 구조단위는 하기 화학식 2 또는 3으로 표현될 수 있다.
[화학식 2]
Figure 112016001858452-pat00002
[화학식 3]
Figure 112016001858452-pat00003
상기 화학식 2 및 3에서,
X는 치환 또는 비치환된 아세틸레닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 시아노기를 포함하는 작용기이고,
L1은 단일결합, O, CO, COO, CONRa이고,
L2는 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRb, SiRcRd, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
R1 내지 R7, Ra 내지 Rd는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 제1 구조단위는 하기 화학식 2a 또는 3a로 표현될 수 있다.
[화학식 2a]
Figure 112016001858452-pat00004
[화학식 3a]
Figure 112016001858452-pat00005
상기 화학식 2a 및 3a에서,
X는 치환 또는 비치환된 아세틸레닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 시아노기를 포함하는 작용기이고,
L1은 단일결합, O, CO, COO, CONRa이고,
L2는 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRb, SiRcRd, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
R1 내지 R9, Ra 내지 Rd는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 중합체는 하기 화학식 4 또는 5로 표현되는 제2 구조단위를 더 포함할 수 있다.
[화학식 4]
Figure 112016001858452-pat00006
[화학식 5]
Figure 112016001858452-pat00007
상기 화학식 4 및 5에서,
Ar2는 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
L3는 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRe, SiRfRg, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
R10 내지 R13, Re 내지 Rg 는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 화학식 4로 표현되는 제2 구조 단위는 하기 화학식 4a 또는 4b로 표현될 수 있다.
[화학식 4a]
Figure 112016001858452-pat00008
[화학식 4b]
Figure 112016001858452-pat00009
상기 화학식 4a 및 4b에서,
L4는 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRh, SiRiRj, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
R10, R11 및 R14 내지 R19, Rh 내지 Rj는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 화학식 5로 표현되는 제2 구조 단위는 하기 화학식 5a 또는 5b로 표현될 수 있다.
[화학식 5a]
Figure 112016001858452-pat00010
[화학식 5b]
Figure 112016001858452-pat00011
상기 화학식 5a 및 5b에서,
L3은 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRe, SiRfRg, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
L4는 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRh, SiRiRj, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
R12 내지 R19, Re 내지 Rj는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 제1 구조 단위와 상기 제2 구조 단위는 약 1:99 내지 99:1의 몰비로 포함될 수 있다.
상기 제1 구조 단위와 상기 제2 구조 단위는 약 20:80 내지 50:50의 몰비로 포함될 수 있다.
상기 보상 필름은 일축 또는 이축 연신되어 있을 수 있다.
상기 보상 필름은 1.01배 내지 5.00배 연신되어 있을 수 있다.
550nm 파장에 대한 상기 보상 필름의 면내 위상차는 약 10nm 내지 300nm일 수 있다.
상기 보상 필름은 약 5x10-13 ㎠/dyn 내지 약 40x10-13 ㎠/dyn의 광탄성계수를 가질 수 있다.
상기 보상 필름은 약 30x10-13 ㎠/dyn 이하의 광탄성계수를 가질 수 있다.
상기 보상 필름은 약 5x10-13 ㎠/dyn 내지 약 30x10-13 ㎠/dyn의 광탄성계수를 가가질 수 있다.
상기 보상 필름의 유리전이온도는 300℃ 이상일 수 있다.
다른 구현예에 따르면, 상기 보상 필름, 그리고 편광자를 포함하는 광학 필름을 제공한다.
상기 편광자는 소수성 고분자 수지와 이색성 염료의 용융 혼합물일 수 있다.
또 다른 구현예에 따르면, 상기 보상 필름 또는 상기 광학 필름을 포함하는 표시 장치를 제공한다.
외력에 의한 광학적 특성의 변화가 작은 보상 필름을 제공함으로써 신뢰성 높은 플렉서블 표시 장치를 구현할 수 있다.
도 1은 일 구현예에 따른 광학 필름의 개략적인 단면도이고,
도 2는 광학 필름의 외광 반사 방지 원리를 보여주는 개략도이고,
도 3은 일 구현예에 따른 유기 발광 표시 장치를 개략적으로 도시한 단면도이고,
도 4는 일 구현예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
이하, 구현예들에 대하여 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 구현예들은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 구현예에 한정되지 않는다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.
본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, '치환된'이란, 화합물 또는 작용기 중의 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자, 히드록시기, 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 카르복실기나 그의 염, 술폰산기나 그의 염, 인산이나 그의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C30 아릴기, C7 내지 C30 아릴알킬기, C1 내지 C30 알콕시기, C1 내지 C20 헤테로알킬기, C3 내지 C20 헤테로아릴알킬기, C3 내지 C30 사이클로알킬기, C3 내지 C15의 사이클로알케닐기, C6 내지 C15 사이클로알키닐기, C3 내지 C30 헤테로사이클로알킬기 및 이들의 조합에서 선택된 치환기로 치환된 것을 의미한다.
또한, 본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, '헤테로'란, N, O, S, Se 및 P에서 선택된 헤테로 원자를 1 내지 3개 함유한 것을 의미한다.
이하 일 구현예에 따른 보상 필름을 설명한다.
일 구현예에 따른 보상 필름은 하기 제1 구조 단위를 가지는 중합체를 포함한다.
[화학식 1]
Figure 112016001858452-pat00012
상기 화학식 1에서,
Ar1은 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
X는 치환 또는 비치환된 아세틸레닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 시아노기를 포함하는 작용기이고,
L1은 단일결합, O, CO, COO, CONRa이고,
R1 및 Ra는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 중합체는 폴리이미드 주쇄와 폴리이미드 주쇄에 대하여 실질적으로 수직 방향으로 위치한 높은 극성의 X 작용기를 가지는 제1 구조 단위를 포함함으로써 폴리이미드 주쇄 방향으로 발생한 복굴절률을 감소 또는 상쇄시킬 수 있으며, 이에 따라 주쇄 방향의 굴절률과 측쇄 방향의 굴절률을 조절함으로써 보상 필름의 복굴절률을 제어할 수 있다.
상기 제1 구조 단위는 예컨대 하기 화학식 2 또는 3으로 표현될 수 있다.
[화학식 2]
Figure 112016001858452-pat00013
[화학식 3]
Figure 112016001858452-pat00014
상기 화학식 2 및 3에서,
X는 치환 또는 비치환된 아세틸레닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 시아노기를 포함하는 작용기이고,
L1은 단일결합, O, CO, COO, CONRa이고,
L2는 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRb, SiRcRd, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
R1 내지 R7, Ra 내지 Rd는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 화학식 2로 표현되는 제1 구조 단위는 예컨대 하기 화학식 2a로 표현될 수 있고, 상기 화학식 3으로 표현되는 제1 구조 단위는 예컨대 하기 화학식 3a로 표현될 수 있다.
[화학식 2a]
Figure 112016001858452-pat00015
[화학식 3a]
Figure 112016001858452-pat00016
상기 화학식 2a 및 3a에서,
X, L1, L2, R1 내지 R7은 전술한 바와 같고,
R8 및 R9는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합일 수 있다.
상기 중합체는 제1 구조 단위와 상이한 제2 구조 단위를 더 포함할 수 있다.
상기 제2 구조 단위는 예컨대 하기 화학식 4 또는 5로 표현될 수 있다.
[화학식 4]
Figure 112016001858452-pat00017
[화학식 5]
Figure 112016001858452-pat00018
상기 화학식 4 및 5에서,
Ar2는 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
L3는 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRe, SiRfRg, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
R10 내지 R13, Re 내지 Rg는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 화학식 4로 표현되는 제2 구조 단위는 예컨대 하기 화학식 4a 또는 4b로 표현될 수 있다.
[화학식 4a]
Figure 112016001858452-pat00019
[화학식 4b]
Figure 112016001858452-pat00020
상기 화학식 4a 및 4b에서,
L4는 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRh, SiRiRj, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
R10, R11 및 R14 내지 R19, Rh 내지 Rj는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 화학식 5로 표현되는 제2 구조 단위는 예컨대 하기 화학식 5a 또는 5b로 표현될 수 있다.
[화학식 5a]
Figure 112016001858452-pat00021
[화학식 5b]
Figure 112016001858452-pat00022
상기 화학식 5a 및 5b에서,
L3은 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRe, SiRfRg, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
L4는 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRh, SiRiRj, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
R12 내지 R19, Re 내지 Rj는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
상기 중합체가 제1 구조 단위와 제2 구조 단위를 포함하는 경우, 상기 제1 구조 단위와 상기 제2 구조 단위는 약 1:99 내지 99:1의 몰비로 포함될 수 있다. 상기 범위로 포함됨으로써 원하는 광학 특성을 구현하면서도 유연성을 강화하여 필름으로 용이하게 제조될 수 있다. 상기 범위 내에서 예컨대 약 10:90 내지 90:10의 몰비로 포함될 수 있고 상기 범위 내에서 예컨대 약 10:90 내지 70:30의 몰비로 포함될 수 있고 상기 범위 내에서 예컨대 약 10:90 내지 50:50의 몰비로 포함될 수 있고, 상기 범위 내에서 예컨대 약 20:80 내지 50:50의 몰비로 포함될 수 있다.
상기 보상 필름은 상기 중합체 외에 상기 중합체와 상이한 적어도 하나의 중합체를 더 포함할 수 있다. 상기 보상 필름은 2종 이상의 중합체를 함께 포함함으로써 상기 보상 필름의 광학적 물리적 특성을 더욱 보강할 수 있다. 상기 중합체는 상기 보상 필름의 기능을 강화할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않으나, 예컨대 폴리이미드 주쇄를 가지는 중합체일 수 있다.
상기 보상 필름은 예컨대 일축 또는 이축 방향으로 연신되어 있을 수 있다. 예컨대 상기 보상 필름은 일축 연신되어 있을 수 있고, 예컨대 상기 보상 필름은 폴리이미드 주쇄 방향으로 일축 연신되어 있을 수 있다.
상기 보상 필름은 약 40x10-13 ㎠/dyn 이하의 광탄성계수(photoelastic coefficient)를 가질 수 있다. 여기서 광탄성계수는 투명한 물질에 외력(stress)이 가해졌을 때 그 외력에 따른 물질의 복굴절 변화량을 의미하며, 외력이 가해지는 강도나 방향에 따라 물질의 복굴절 변화 분포는 다양하게 방식으로 나타나게 된다. 일반적으로 투명한 물질의 위치에 따른 복굴절 변화 분포는 편광자 사이에 놓고 외력을 가했을 때 나타나는 색깔 변화를 통해 관찰할 수 있으며, 광탄성 계수는 복굴절 변화량을 측정하여 외력의 세기와 상관관계를 통해 도출한다.
상기 보상 필름은 상기 범위의 광탄성계수를 가짐으로써 보상 필름을 구부리거나 접었을 때 구부리거나 접힌 부분의 광학적 특성의 변화를 줄일 수 있고 이에 따라 폴더블(foldable) 표시 장치 또는 벤더블(bendable) 표시장치와 같은 플렉서블 표시 장치에 효과적으로 적용될 수 있다. 상기 광학적 특성은 반사율의 변화, 색감 변화 및/또는 위상차 변화 등으로 확인될 수 있다.
상기 보상 필름은 상기 범위 내에서 예컨대 약 5x10-13 ㎠/dyn 내지 40x10-13 ㎠/dyn의 광탄성계수를 가질 수 있다. 상기 보상 필름은 상기 범위 내에서 예컨대 약 30x10-13 ㎠/dyn 이하의 광탄성계수를 가질 수 있고, 상기 범위 내에서 예컨대 약 5x10-13 ㎠/dyn 내지 30x10-13 ㎠/dyn의 광탄성계수를 가질 수 있다.
상기 보상 필름은 굴절률 및 파장에 따른 광 흡수 특성을 변화시켜 소정의 위상차를 가질 수 있다.
상기 보상 필름의 위상차(R)는 면내 위상차(Ro)와 두께 방향 위상차(Rth)로 나타낼 수 있다. 보상 필름의 면내 위상차(Ro)는 보상 필름의 면내 방향으로 발생하는 위상차로, Ro=(nx-ny)d 로 표현될 수 있다. 보상 필름의 두께 방향 위상차(Rth)는 보상 필름의 두께 방향으로 발생하는 위상차로, Rth={[(nx +ny)/2]-nz}d으로 표현될 수 있다. 여기서 nx은 보상 필름의 면내 굴절률이 가장 큰 방향(이하 '지상축(slow axis)'이라 한다)에서의 굴절률이고, ny은 보상 필름의 면내 굴절률이 가장 작은 방향(이하 '진상축(fast axis)'이라 한다)에서의 굴절률이고, nz은 보상 필름의 지상축 및 진상축에 대한 수직 방향의 굴절률이고, d은 보상 필름의 두께이다.
보상 필름은 nx, ny, nz 및/또는 두께(d)를 변화하여 소정 범위의 면내 위상차 및 두께 방향 위상차를 가지도록 조절할 수 있다. 예컨대, 550nm 파장에 대한 상기 보상 필름의 면내 위상차(Ro)는 약 10nm 내지 300nm일 수 있다.
상기 보상 필름은 예컨대 약 300℃ 이상의 유리전이온도를 가질 수 있다. 상기 범위 내에서 예컨대 약 300℃ 내지 400℃의 유리전이온도를 가질 수 있다.
상기 보상 필름은 비교적 얇은 두께를 가질 수 있다. 상기 보상 필름은 예컨대 약 3㎛ 내지 200㎛의 두께를 가질 수 있으며, 상기 범위 내에서 예컨대 약 5㎛ 내지 150㎛의 두께를 가질 수 있으며, 상기 범위 내에서 예컨대 약 5㎛ 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있다.
상기 보상 필름은 실질적으로 투명한 중합체를 포함하므로 기판(substrate)으로 사용될 수도 있으며, 이에 따라 상기 보상 필름 하부에 별도의 기판이 생략될 수 있다. 따라서 더욱더 보상 필름의 두께를 줄일 수 있다. 이에 따라 폴더블 표시 장치 또는 벤더블 표시장치와 같은 플렉서블 표시 장치에도 효과적으로 적용되어 광학 특성 및 표시 특성을 개선할 수 있다.
상기 보상 필름은 예컨대 적어도 1종의 무수물과 적어도 1종의 디아민 화합물을 준비하는 단계, 상기 무수물과 상기 디아민 화합물을 중합하여 중합체를 준비하는 단계, 상기 중합체를 필름으로 준비하는 단계, 상기 필름을 연신하는 단계에 의해 제조될 수 있다.
상기 무수물은 예컨대 하기 화학식 A로 표현될 수 있다.
[화학식 A]
Figure 112016001858452-pat00023
상기 화학식 A에서, Ar1은 전술한 바와 같다.
상기 무수물은 예컨대 A-1 또는 A-2로 표현될 수 있다.
[화학식 A-1] [화학식 A-2]
Figure 112016001858452-pat00024
Figure 112016001858452-pat00025
상기 화학식 A-1 또는 A-2에서, L2 및 R2 내지 R7은 전술한 바와 같다.
상기 무수물은 예컨대 2,3,3’,4’-비페닐테트라카르복실산 이무수물(2,3,3’,4’-biphenyltetracarboxylic dianhydride), 2,3,3’,4’-디페닐설폰 테트라카르복실산 이무수물(2,3,3’,4’-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride), 3,4’-옥시디프탈릭 무수물(3,4’-oxydiphthalic anhydride), 3,3',4,4'-비페닐 테트라카르복실릭 이무수물(3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, BPDA), 바이시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카복실릭 이무수물(bicycle[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, BTDA), 3,3',4,4'-디페닐술폰 테트라카복실릭 이무수물(3,3',4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, DSDA), , 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴) 디프탈릭 무수물(4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA), 4,4'-옥시디프탈릭 무수물(4,4'-oxydiphthalic anhydride, ODPA), 파이로멜리틱 이무수물(pyromellitic dianhydride, PMDA), 및 4-((2,5-디옥소테드라하이드로퓨란-3-일)-1,2,3,4-테트라나프탈렌-1,2-디카르복실릭 무수물(4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride, DTDA) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 디아민 화합물은 예컨대 제1 디아민 화합물과 제2 디아민 화합물을 함께 포함할 수 있다.
상기 제1 디아민 화합물은 예컨대 하기 화학식 B로 표현될 수 있다.
[화학식 B]
Figure 112016001858452-pat00026
상기 화학식 B에서, X, L1 및 R1은 전술한 바와 같다.
상기 제1 디아민 화합물은 예컨대 하기 화학식 B-1로 표현될 수 있다.
[화학식 B-1]
Figure 112016001858452-pat00027
상기 화학식 B-1에서, R1, R8 및 R9는 전술한 바와 같다.
상기 제2 디아민 화합물은 예컨대 하기 그룹 1에 나열된 화합물 중 적어도 하나일 수 있다.
[그룹 1]
Figure 112016001858452-pat00028
상기 그룹 1에서,
R32 내지 R48은 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 플루오로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 옥시사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 옥시아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐, 니트로기 또는 이들의 조합이고,
X2 내지 X10은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, SO2, O, CO, COO, 하기 그룹 2에 나열된 기 또는 이들의 조합이고,
n35 내지 n37 및 n40 내지 n49는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이고,
n38 및 n39는 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수이다.
[그룹 2]
Figure 112016001858452-pat00029
상기 제2 디아민 화합물은 하기 그룹 3에 나열된 화합물에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
[그룹 3]
Figure 112016001858452-pat00030
Figure 112016001858452-pat00031
제1 디아민 화합물과 제2 디아민 화합물은 예컨대 약 1:99 내지 99:1의 몰비로 포함될 수 있으며, 상기 범위 내에서 예컨대 약 10:90 내지 90:10의 몰비로 포함될 수 있으며 상기 범위 내에서 예컨대 약 10:90 내지 70:30의 몰비로 포함될 수 있고 상기 범위 내에서 예컨대 약 10:90 내지 50:50의 몰비로 포함될 수 있고, 상기 범위 내에서 예컨대 약 20:80 내지 50:50의 몰비로 포함될 수 있다.
상기 무수물과 상기 디아민 화합물은 예컨대 약 1:9 내지 9:1의 몰비로 포함될 수 있고, 상기 범위 내에서 예컨대 약 3:7 내지 7:3의 몰비로 포함될 수 있고, 상기 범위 내에서 예컨대 약 5:5의 몰비로 포함될 수 있다.
상기 중합체를 준비하는 단계는 상기 무수물, 상기 디아민 화합물과 용매를 포함하는 조성물을 공지의 폴리이미드 합성 방법으로 수행될 수 있다. 상기 용매는 예컨대 비양자성 극성 용매일 수 있으며, 예컨대 디메틸설폭시드와 디에틸설폭시드와 같은 설폭시드 함유 용매, N,N-대메틸포름아미드와 N,N-디에틸포름아미드와 같은 포름아미드 함유 용매, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸메톡시아세트아미드, N,N-디에틸아세트아미드와 같은 아세트아미드 함유 용매, N-메틸-2-피롤리돈 (NMP), N-아세틸-2-피롤리돈, 및 N-비닐-2-피롤리돈과 같은 피롤리돈 함유 용매, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 자일레놀, 할로겐화 페놀, 및 카테콜과 같은 페놀 함유 용매, 헥사메틸포스포르 아미드, γ-부티롤락톤, 테트라하이드로티오펜 디옥사이드, N-메틸-δ-카프롤락탐, N,N,N’,N’-테트라메틸우레아, 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 중합체를 필름으로 준비하는 단계는 예컨대 몰드에 용융 중합체를 넣고 고압 프레스기로 가압하거나 티다이(T-die)를 통해 칠롤(chill roll)에 토출하여 수행될 수 있다.
상기 중합체를 필름으로 준비하는 단계는 예컨대 기재 위에 중합체 용액의 코팅 및 경화에 의해 수행될 수 있으며, 상기 코팅은 예컨대 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 코팅, 딥 코팅 등을 사용할 수 있고, 상기 경화는 예컨대 약 50 내지 120 ℃에서 수행될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 필름을 연신하는 단계는 예컨대 유리전이온도±50℃의 온도에서 수행될 수 있으며, 예컨대 50℃ 내지 500℃의 온도에서 약 1.01배 내지 5.00배의 연신율로 연신될 수 있다. 여기서 연신율은 필름의 연신 전 길이와 연신 후 길이의 비율을 말하는 것으로, 연신 후 보상 필름이 늘어난 정도를 의미한다.
전술한 보상 필름은 단독으로 사용되거나 다른 보상 필름과 함께 사용될 수 있다.
보상 필름은 편광 필름과 함께 사용되어 표시 장치의 외부 광의 반사를 방지하는 광학 필름으로 사용될 수 있다. 광학 필름은 예컨대 반사방지 필름일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
도 1은 일 구현예에 따른 광학 필름의 개략적인 단면도이고, 도 2는 광학 필름의 외광 반사 방지 원리를 보여주는 개략도이다.
도 1을 참고하면, 일 구현예에 따른 광학 필름(100)은 편광자(110)와 보상 필름(120)을 포함한다.
편광자(110)는 비편광된 광(incident unpolarized light)을 편광시킬 수 있으면 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 요오드 및/또는 이색성 염료를 포함하는 폴리비닐알코올(polyvinyl alcohol, PVA) 수지일 수 있다. 편광자(110)는 예컨대 연신 필름일 수 있다.
편광자(110)는 예컨대 고분자 수지와 이색성 염료를 포함하는 편광 필름일 수 있다. 고분자 수지는 예컨대 소수성 고분자 수지일 수 있으며, 예컨대 폴리올레핀을 포함할 수 있다. 편광자(110)는 예컨대 폴리올레핀과 이색성 염료의 용융 혼합물로 만들어진 일체형 연신 필름일 수 있다. 폴리올레핀은 일축 방향으로 연신되어 있을 수 있으며, 여기서 일축 방향은 이색성 염료의 길이 방향과 같을 수 있다. 이색성 염료는 폴리올레핀에 분산되어 있을 수 있으며, 폴리올레핀의 연신 방향을 따라 일 방향으로 배열될 수 있다. 이색성 염료는 소정 파장 영역에 대하여 두 개의 편광 직교 성분 중 하나의 편광 직교 성분만을 투과시킬 수 있다. 이색성 염료는 폴리올레핀 100 중량부에 대하여 약 0.01 내지 5 중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위로 포함됨으로써 편광 필름으로 형성시 투과도를 저하시키지 않으면서도 충분한 편광 특성을 나타낼 수 있다. 상기 범위 내에서 폴리올레핀 100 중량부에 대하여 약 0.05 내지 1 중량부로 포함될 수 있다.
편광자(110)는 예컨대 약 100㎛ 이하의 비교적 얇은 두께를 가질 수 있으며, 예컨대 약 50㎛ 이하의 두께를 가질 수 있으며, 예컨대 약 10㎛ 내지 약 50㎛의 두께를 가질 수 있다.
보상 필름(120)은 전술한 바와 같다.
보상 필름(120)은 편광자(110)를 통과한 빛을 원편광시켜 위상차를 발생시킬 수 있으며 빛의 반사 및/또는 흡수에 영향을 미칠 수 있다.
일 예로, 광학 필름(100)은 표시 장치의 일측 또는 양측에 구비될 수 있으며, 특히 표시 장치의 화면부 측에 배치되어 외부로부터 유입되는 광이 반사되는 것(이하 '외광 반사'라 한다)을 방지할 수 있다. 따라서 외광 반사에 의한 시인성 저하를 방지할 수 있다.
도 2는 광학 필름의 외광 반사 방지 원리를 보여주는 개략도이다.
도 2를 참고하면, 입사되는 비편광된 광(incident unpolarized light)은 편광자(110)을 통과하면서 두 개의 편광 직교 성분 중 하나의 편광 직교 성분, 즉 제1 편광 직교 성분만이 투과되고, 편광된 광은 보상 필름(120)을 통과하면서 원편광으로 바뀔 수 있다. 상기 원편광된 광은 기판, 전극 등을 포함한 표시 패널(50)에서 반사되면서 원편광 방향이 바뀌게 되고 상기 원편광된 광이 보상 필름(120)을 다시 통과하면서 두 개의 편광 직교 성분 중 다른 하나의 편광 직교 성분, 즉 제2 편광 직교 성분만이 투과될 수 있다. 상기 제2 편광 직교 성분은 편광자(110)를 통과하지 못하여 외부로 광이 방출되지 않으므로 외광 반사 방지 효과를 가질 수 있다.
광학 필름(100)은 보상 필름(120)의 일면에 위치하는 보정층(도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다. 보정층은 예컨대 색 변이 방지층(color shift resistant layer)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
광학 필름(100)은 가장자리를 따라 뻗어 있는 차광층(light blocking layer)(도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다. 차광층은 광학 필름(100)의 둘레를 따라 띠의 형태로 형성될 수 있으며, 예컨대 편광자(110)와 보상 필름(120) 사이에 위치할 수 있다. 차광층은 불투명한 물질, 예컨대 검은 색의 물질을 포함할 수 있다. 예컨대 차광층은 검은 색 잉크로 만들어질 수 있다.
전술한 보상 필름 또는 광학 필름(100)은 다양한 표시 장치에 적용될 수 있다.
일 구현예에 따른 표시 장치는 표시 패널, 그리고 표시 패널의 일면에 위치하는 보상 필름 또는 광학 필름을 포함한다. 표시 패널은 액정 표시 패널 또는 유기 발광 표시 패널일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
이하 표시 장치의 일 예로 유기 발광 표시 장치에 대하여 설명한다.
도 3은 일 구현예에 따른 유기 발광 표시 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 3을 참고하면, 일 구현예에 따른 유기 발광 표시 장치는 유기 발광 패널(400), 그리고 유기 발광 표시 패널(400)의 일면에 위치하는 보상 필름 또는 광학 필름(100)을 포함한다.
유기 발광 표시 패널(400)은 베이스 기판(410), 하부 전극(420), 유기 발광층(430), 상부 전극(440) 및 봉지 기판(450)을 포함할 수 있다.
베이스 기판(410)은 유리 또는 플라스틱으로 만들어질 수 있다.
하부 전극(420) 및 상부 전극(440) 중 하나는 애노드(anode)이고 다른 하나는 캐소드(cathode)일 수 있다. 애노드는 정공(hole)이 주입되는 전극으로, 일 함수(work function)가 높고 발광된 빛이 외부로 나올 수 있는 투명 도전 물질로 만들어질 수 있으며 예컨대 ITO 또는 IZO 일 수 있다. 캐소드는 전자(electron)가 주입되는 전극으로, 일 함수가 낮고 유기 물질에 영향을 미치지 않는 도전 물질로 만들어질 수 있으며 예컨대 알루미늄(Al), 칼슘(Ca) 및 바륨(Ba)에서 선택될 수 있다.
유기 발광층(430)은 하부 전극(420)과 상부 전극(440)에 전압이 인가되었을 때 빛을 낼 수 있는 유기 물질을 포함한다.
하부 전극(420)과 유기 발광층(430) 사이 및 상부 전극(440)과 유기 발광층(430) 사이에는 부대층(도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다. 부대층은 전자와 정공의 균형을 맞추기 위한 정공 전달층(hole transporting layer), 정공 주입층(hole injecting layer), 전자 주입층(electron injecting layer) 및 전자 전달층(electron transporting layer)을 포함할 수 있다.
봉지 기판(450)은 유리, 금속 또는 고분자로 만들어질 수 있으며, 하부 전극(420), 유기 발광층(430) 및 상부 전극(440)을 봉지하여 외부로부터 수분 및/또는 산소가 유입되는 것을 방지할 수 있다.
광학 필름(100)은 빛이 나오는 측에 배치될 수 있다. 예컨대 베이스 기판(410) 측으로 빛이 나오는 배면 발광(bottom emission) 구조인 경우 베이스 기판(410)의 외측에 배치될 수 있고, 봉지 기판(450) 측으로 빛이 나오는 전면 발광(top emission) 구조인 경우 봉지 기판(450)의 외측에 배치될 수 있다.
광학 필름(100)은 전술한 바와 같다. 도면에서는 광학 필름(100)이 적용된 예만 도시하였지만, 광학 필름(100) 대신 전술한 보상 필름이 적용될 수 있다.
이하 표시 장치의 일 예로 액정 표시 장치에 대하여 설명한다.
도 4는 일 구현예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 4를 참고하면, 일 구현예에 따른 액정 표시 장치는 액정 표시 패널(500), 그리고 액정 표시 패널(500)의 일면 또는 양면에 위치하는 광학 필름(100)을 포함한다.
액정 표시 패널(500)은 트위스트 네마틱(twist nematic, TN) 모드, 수직 배향(patterned vertical alignment, PVA) 모드, 평면 정렬 스위칭(in plane switching, IPS) 모드, OCB(optically compensated bend) 모드 등일 수 있다.
액정 표시 패널(500)은 제1 표시판(510), 제2 표시판(520) 및 제1 표시판(510)과 제2 표시판(520) 사이에 개재되어 있는 액정층(530)을 포함한다.
제1 표시판(510)은 예컨대 기판(도시하지 않음) 위에 형성되어 있는 박막 트랜지스터(도시하지 않음) 및 이에 연결되어 있는 제1 전기장 생성 전극(도시하지 않음)을 포함할 수 있고, 제2 표시판(520)은 예컨대 기판(도시하지 않음) 위에 형성되어 있는 색 필터(도시하지 않음) 및 제2 전기장 생성 전극(도시하지 않음)을 포함할 수 있다. 그러나 이에 한정되지 않고 색 필터가 제1 표시판(510)에 포함될 수도 있고, 제1 전기장 생성 전극과 제2 전기장 생성 전극이 제1 표시판(510)에 함께 위치할 수도 있다.
액정층(530)은 복수의 액정 분자를 포함할 수 있다. 액정 분자는 양 또는 음의 유전율 이방성을 가질 수 있다. 액정 분자가 양의 유전율 이방성을 가지는 경우 전기장이 없는 상태에서 그 장축이 제1 표시판(510)과 제2 표시판(520)의 표면에 대하여 거의 평행을 이루도록 배향되고 전기장이 인가된 상태에서 그 장축이 제1 표시판(510)과 제2 표시판(520)의 표면에 대하여 거의 수직을 이루도록 배향될 수 있다. 이와 반대로, 액정 분자가 음의 유전율 이방성을 가지는 경우 전기장이 없는 상태에서 그 장축이 제1 표시판(510)과 제2 표시판(520)의 표면에 대하여 거의 수직하게 배향되고 전기장이 인가된 상태에서 그 장축이 제1 표시판(510)과 제2 표시판(520)의 표면에 대하여 거의 평행하게 배향될 수 있다.
광학 필름(100)는 액정 표시 패널(500)의 외측에 위치하며, 도면에서는 액정 표시 패널(500)의 하부 및 상부에 각각 형성된 것으로 도시하였지만, 이에 한정되지 않고 액정 표시 패널(500)의 하부 및 상부 중 어느 하나에만 형성될 수도 있다. 도면에서는 광학 필름(100)이 적용된 예만 도시하였지만, 광학 필름(100) 대신 전술한 보상 필름이 적용될 수 있다.
이하 실시예를 통하여 상술한 본 발명의 구현예를 보다 상세하게 설명한다. 다만 하기의 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것이며 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니다.
보상 필름의 제조
실시예 1
[화학식 A-2a] [화학식 B-1a] [화학식 B-2a]
Figure 112016001858452-pat00032
Figure 112016001858452-pat00033
Figure 112016001858452-pat00034
화학식 B-1a로 표현되는 5-(페닐에티닐)벤젠-1,3-디아민(5-(phenylethynyl)benzene-1,3-diamine, R1) 0.857 g (2.6 mmol)과 화학식 B-2a로 표현되는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐(2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl, TFDB) 3.344 g (10.4 mmol)(2:8 몰비)로 다이메틸아세트아마이드(DMAc) 50ml에 녹여서 투명 용액을 준비한다. 이어서 상기 투명 용액에 화학식 A-2a로 표현되는 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈릭 안하이드라이드(4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA) 5.80 g (13.1 mmol)을 녹이고, 48시간 동안 상온에서 질소 상태에서 방치한다. 반응이 끝나면 2x25㎠ 유리판에 스핀 코팅하고, 2시간 동안 80℃ 오븐에서 건조한다. 이어서, 질소 분위기가 조성되는 오븐 내에 넣고 10℃/min의 속도로 온도를 상승시키고 300℃에서 1시간 동안 이미드화시켜 필름을 제조한다. 제조된 필름의 평균두께는 20㎛이다. 이어서 필름을 300 ℃에서 104 % 연신율로 연신하여 보상 필름을 제조한다.
실시예 2
화학식 B-1a로 표현되는 디아민 화합물과 화학식 B-2a로 표현되는 디아민 화합물을 3:7의 몰비로 포함한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 보상 필름을 제조한다.
실시예 3
화학식 B-1a로 표현되는 디아민 화합물과 화학식 B-2a로 표현되는 디아민 화합물을 4:6의 몰비로 포함한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 보상 필름을 제조한다.
실시예 4
화학식 B-1a로 표현되는 디아민 화합물과 화학식 B-2a로 표현되는 디아민 화합물을 5:5의 몰비로 포함한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 보상 필름을 제조한다.
비교예 1
화학식 B-1a로 표현되는 디아민 화합물과 화학식 B-2a로 표현되는 디아민 화합물 대신 화학식 B-2a로 표현되는 디아민 화합물만 1.45 g (13.4 mol) 사용한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 보상 필름을 제조한다.
실시예 5
[화학식 A-2b] [화학식 B-1a] [화학식 B-2b]
Figure 112016001858452-pat00035
Figure 112016001858452-pat00036
Figure 112016001858452-pat00037
화학식 B-1a로 표현되는 5-(페닐에티닐)벤젠-1,3-디아민(R1) 3.10 g (9.5 mmol)과 화학식 B-2b로 표현되는 m-페닐렌디아민(m-phenylenediamine, mPDA) 1.02 g (9.5 mmol) (5:5 몰비)을 다이메틸아세트아마이드(DMAc) 50 ml에 녹여서 투명 용액을 준비한다. 이어서 상기 투명 용액에 화학식 A-2b로 표현되는 4,4'-옥시디프탈릭 안하이드라이드 (4,4'-oxydiphthalic anhydride, ODPA) 5.87 g (18.9 mmol)을 녹이고, 48시간 동안 상온에서 질소 상태에서 방치한다. 반응이 끝나면 2x25㎠ 유리판에 스핀 코팅하고, 2시간 동안 80℃ 오븐에서 건조한다. 이어서, 질소 분위기가 조성되는 오븐 내에 넣고 10℃/min의 속도로 온도를 상승시키고 300℃에서 1시간 동안 이미드화시켜 필름을 제조한다. 제조된 필름의 평균두께는 20㎛이다. 이어서 필름을 300 ℃에서 104 % 연신율로 연신하여 보상 필름을 제조한다.
실시예 6
화학식 B-1a로 표현되는 디아민 화합물과 화학식 B-2b로 표현되는 디아민 화합물을 7:3의 몰비로 포함한 것을 제외하고 실시예 5와 동일한 방법으로 보상 필름을 제조한다.
비교예 2
화학식 B-1a로 표현되는 디아민 화합물과 화학식 B-2b로 표현되는 디아민 화합물 대신 화학식 B-2b로 표현되는 디아민 화합물만 2.58 g (23.9 mmol) 사용한 것을 제외하고 실시예 5와 동일한 방법으로 보상 필름을 제조한다.
실시예 7
[화학식 A-2b] [화학식 B-1a] [화학식 B-2a]
Figure 112016001858452-pat00038
Figure 112016001858452-pat00039
Figure 112016001858452-pat00040
화학식 B-1a로 표현되는 5-(페닐에티닐)벤젠-1,3-디아민(R1) 0.52 g (1.6 mmol)과 화학식 B-2a로 표현되는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐(TFDB) 4.57 g (14.3 mmol) (1:9 몰비)을 다이메틸아세트아마이드(DMAc) 50 ml에 녹여서 투명 용액을 준비한다. 이어서 상기 투명 용액에 화학식 A-2b로 표현되는 4,4'-옥시디프탈릭 안하이드라이드 (ODPA) 4.91 g (15.8 mmol)을 녹이고, 48시간 동안 상온에서 질소 상태에서 방치한다. 반응이 끝나면 2x25㎠ 유리판에 스핀 코팅하고, 2시간 동안 80℃ 오븐에서 건조한다. 이어서, 질소 분위기가 조성되는 오븐 내에 넣고 10℃/min의 속도로 온도를 상승시키고 300℃에서 1시간 동안 이미드화시켜 필름을 제조한다. 제조된 필름의 평균두께는 20㎛이다. 이어서 필름을 300 ℃에서 104 % 연신율로 연신하여 보상 필름을 제조한다.
실시예 8
화학식 B-1a로 표현되는 디아민 화합물과 화학식 B-2a로 표현되는 디아민 화합물을 2:8의 몰비로 포함한 것을 제외하고 실시예 7과 동일한 방법으로 보상 필름을 제조한다.
실시예 9
화학식 B-1a로 표현되는 디아민 화합물과 화학식 B-2a로 표현되는 디아민 화합물을 5:5의 몰비로 포함한 것을 제외하고 실시예 7과 동일한 방법으로 보상 필름을 제조한다.
비교예 3
화학식 B-1a로 표현되는 디아민 화합물과 화학식 B-2a로 표현되는 디아민 화합물 대신 화학식 B-2a로 표현되는 디아민 화합물만 5.08 g (15.9 mol) 사용한 것을 제외하고 실시예 7과 동일한 방법으로 보상 필름을 제조한다.
평가
평가 1
실시예 1 내지 9와 비교예 1 내지 3에 따른 보상 필름의 광탄성계수를 평가한다.
광탄성계수는 KOBRA 장비(KOBRA-WPR, Oji scientific instrument)을 사용하여 측정한다. 구체적으로, KOBRA 장비에 보상 필름의 한쪽 끝을 고정하고 반대편 끝에 추를 달고 무게를 늘려가면서 면내 위상차의 변화 기울기를 측정한다. 측정된 기울기는 하기 계산식을 통해 광탄성계수로 변환한다.
[계산식]
광탄성계수(㎠/dyn) = 기울기 x 1.5 x 10-9/9.8
그 결과는 표 1 내지 3과 같다.
R1: TFDB: 6FDA (몰비) 광탄성계수 (10-13 ㎠/dyn)
실시예 1 2:8:10 29.58
실시예 2 3:7:10 28.47
실시예 3 4:6:10 23.18
실시예 4 5:5:10 24.76
비교예 1 0:10:10 42.99
표 1을 참고하면, 실시예 1 내지 4에 따른 보상 필름은 비교예 1에 따른 보상 필름과 비교하여 광탄성계수가 크게 낮아지는 것을 확인할 수 있다. 구체적으로, 실시예 1 내지 4에 따른 보상 필름은 약 40x10-13 ㎠/dyn 이하의 광탄성계수를 만족하는 것을 확인할 수 있다.
R1: mPDA: ODPA (몰비) 광탄성계수(10-13 ㎠/dyn)
실시예 5 5:5:10 27.47
실시예 6 7:3:10 31.37
비교예 2 0:10:10 53.21
표 2를 참고하면, 실시예 5 및 6에 따른 보상 필름은 비교예 2에 따른 보상 필름과 비교하여 광탄성계수가 크게 낮아지는 것을 확인할 수 있다. 구체적으로, 실시예 5 및 6에 따른 보상 필름은 약 40x10-13 ㎠/dyn 이하의 광탄성계수를 만족하는 것을 확인할 수 있다.
R1:TFDB:ODPA(몰비) 광탄성계수(10-13 ㎠/dyn)
실시예 7 1:9:10 34.34
실시예 8 2:8:10 30.30
실시예 9 5:5:10 22.16
비교예 3 0:10:10 53.03
표 3을 참고하면, 실시예 7 내지 9에 따른 보상 필름은 비교예 3에 따른 보상 필름과 비교하여 광탄성계수가 크게 낮아지는 것을 확인할 수 있다. 구체적으로, 실시예 7 내지 9에 따른 보상 필름은 약 40x10-13 ㎠/dyn 이하의 광탄성계수를 만족하는 것을 확인할 수 있다.
평가 2
실시예 1 내지 4에 따른 보상 필름의 위상차를 평가한다.
위상차는 면내 위상 지연 및 두께 방향 위상 지연은 Axoscan 장비(Axometrics 사)를 이용하여 측정하며, 측정파장 범위는 400nm 내지 700nm이며, -70도 내지 70도를 5도 간격으로 입사각을 조절하여 측정한다.
그 결과는 표 4와 같다.
두께(㎛) 면내위상차(Ro,nm) 두께방향위상차(Rth,nm)
실시예 1 24 189.38 110.87
실시예 2 22 113.37 72.88
실시예 3 23 105.6 65.32
실시예 4 18 20.78 13.35
표 4를 참고하면, 실시예 1 내지 4에 따른 보상 필름은 소정의 면내 위상차 및 두께 방향 위상차를 가지는 것을 확인할 수 있다.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
110: 편광자
120: 보상 필름
50: 표시 패널
400: 유기 발광 표시 패널
410: 베이스 기판 420: 하부 전극
430: 유기 발광층 440: 상부 전극
450: 봉지 기판 500: 액정 표시 패널
510: 제1 표시판 520: 제2 표시판
530: 액정층

Claims (19)

  1. 하기 화학식 1로 표현되는 제1 구조단위를 가지는 중합체를 포함하고 광탄성계수가 40x10-13 ㎠/dyn 이하인 보상 필름:
    [화학식 1]
    Figure 112016001858452-pat00041

    상기 화학식 1에서,
    Ar1은 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
    X는 치환 또는 비치환된 아세틸레닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 시아노기를 포함하는 작용기이고,
    L1은 단일결합, O, CO, COO, CONRa이고,
    R1 및 Ra는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
  2. 제1항에서,
    상기 제1 구조단위는 하기 화학식 2 또는 3으로 표현되는 보상 필름:
    [화학식 2]
    Figure 112016001858452-pat00042

    [화학식 3]
    Figure 112016001858452-pat00043

    상기 화학식 2 및 3에서,
    X는 치환 또는 비치환된 아세틸레닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 시아노기를 포함하는 작용기이고,
    L1은 단일결합, O, CO, COO, CONRa이고,
    L2는 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRb, SiRcRd, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
    R1 내지 R7, Ra 내지 Rd는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
  3. 제2항에서,
    상기 제1 구조단위는 하기 화학식 2a 또는 3a로 표현되는 보상 필름:
    [화학식 2a]
    Figure 112016001858452-pat00044

    [화학식 3a]
    Figure 112016001858452-pat00045

    상기 화학식 2a 및 3a에서,
    X는 치환 또는 비치환된 아세틸레닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 시아노기를 포함하는 작용기이고,
    L1은 단일결합, O, CO, COO, CONRa이고,
    L2는 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRb, SiRcRd, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
    R1 내지 R9, Ra 내지 Rd는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
  4. 제1항에서,
    상기 중합체는 하기 화학식 4 또는 5로 표현되는 제2 구조단위를 더 포함하는 보상 필름:
    [화학식 4]
    Figure 112016001858452-pat00046

    [화학식 5]
    Figure 112016001858452-pat00047

    상기 화학식 4 및 5에서,
    Ar2는 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
    L3는 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRe, SiRfRg, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
    R10 내지 R13, Re 내지 Rg는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
  5. 제4항에서,
    상기 화학식 4로 표현되는 제2 구조 단위는 하기 화학식 4a 또는 4b로 표현되는 보상 필름:
    [화학식 4a]
    Figure 112016001858452-pat00048

    [화학식 4b]
    Figure 112016001858452-pat00049

    상기 화학식 4a 및 4b에서,
    L4는 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRh, SiRiRj, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
    R10, R11 및 R14 내지 R19, Rh 내지 Rj는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
  6. 제4항에서,
    상기 화학식 5로 표현되는 제2 구조 단위는 하기 화학식 5a 또는 5b로 표현되는 보상 필름:
    [화학식 5a]
    Figure 112016001858452-pat00050

    [화학식 5b]
    Figure 112016001858452-pat00051

    상기 화학식 5a 및 5b에서,
    L3는 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRe, SiRfRg, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
    L4는 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 2가의 헤테로고리기, O, CO, COO, CONRh, SiRiRj, S, SO2 또는 이들의 조합이고,
    R12 내지 R19, Re 내지 Rj는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 헤테로고리기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 히드록시기, 할로겐기, 니트로기 또는 이들의 조합이다.
  7. 제4항에서,
    상기 제1 구조 단위와 상기 제2 구조 단위는 1:99 내지 99:1의 몰비로 포함되는 보상 필름.
  8. 제4항에서,
    상기 제1 구조 단위와 상기 제2 구조 단위는 20:80 내지 50:50의 몰비로 포함되는 보상 필름.
  9. 제1항에서,
    상기 보상 필름은 일축 또는 이축 연신되어 있는 보상 필름.
  10. 제9항에서,
    상기 보상 필름은 1.01배 내지 5.00배 연신되어 있는 보상 필름.
  11. 제1항에서,
    550nm 파장에 대한 상기 보상 필름의 면내 위상차는 10nm 내지 300nm인 보상 필름.
  12. 제1항에서,
    상기 보상 필름은 5x10-13 ㎠/dyn 내지 40x10-13 ㎠/dyn의 광탄성계수를 가지는 보상 필름.
  13. 제1항에서,
    상기 보상 필름은 30x10-13 ㎠/dyn 이하의 광탄성계수를 가지는 보상 필름.
  14. 제13항에서,
    상기 보상 필름은 5x10-13 ㎠/dyn 내지 30x10-13 ㎠/dyn의 광탄성계수를 가지는 보상 필름.
  15. 제1항에서,
    상기 보상 필름의 유리전이온도는 300℃ 이상인 보상 필름.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 따른 보상 필름, 그리고
    편광자
    를 포함하는 광학 필름.
  17. 제16항에서,
    상기 편광자는 소수성 고분자 수지와 이색성 염료의 용융 혼합물인 광학 필름.
  18. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 따른 보상 필름을 포함하는 표시 장치.
  19. 제16항에 따른 광학 필름을 포함하는 표시 장치.


KR1020160002268A 2016-01-07 2016-01-07 보상 필름, 광학 필름 및 표시 장치 KR102417139B1 (ko)

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102147386B1 (ko) * 2019-07-25 2020-08-24 에스케이이노베이션 주식회사 폴리아미드이미드 필름

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001056469A (ja) 1999-08-19 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶配向膜、液晶性分子を配向させる方法、光学補償シートおよびｓｔｎ型液晶表示装置
JP2006003715A (ja) 2004-06-18 2006-01-05 Nitto Denko Corp 位相差フィルムの製造方法、位相差フィルム、偏光板、液晶表示装置および画像表示装置
CN102848643A (zh) 2012-09-11 2013-01-02 广东生益科技股份有限公司 二层法单面挠性覆铜板及其制作方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1343025B1 (en) * 2000-12-14 2011-02-09 FUJIFILM Corporation Optical film and polarising element
TW200506467A (en) 2002-12-19 2005-02-16 Nitto Denko Corp Birefringent optical film, elliptically polarizing plate using the same, and liquid crystal
US7719644B2 (en) * 2005-02-25 2010-05-18 Fujifilm Corporation Optical compensation sheet, polarizing plate and liquid crystal display
JP4628140B2 (ja) * 2005-03-03 2011-02-09 富士フイルム株式会社 セルロースアシレートフィルム、偏光板および液晶表示装置
JP2009053492A (ja) 2007-08-28 2009-03-12 Toray Ind Inc 積層フィルムおよび光学補償層付き偏光板
KR101091534B1 (ko) 2008-04-30 2011-12-13 주식회사 엘지화학 광학 필름 및 이를 포함하는 정보전자 장치
US8613986B2 (en) 2008-04-30 2013-12-24 Lg Chem, Ltd. Optical film and information technology apparatus comprising the same
KR101105424B1 (ko) 2008-04-30 2012-01-17 주식회사 엘지화학 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 광학 필름
CN102906130B (zh) 2010-05-28 2014-09-17 旭化成化学株式会社 热塑性丙烯酸系树脂及其成型体
JP5250082B2 (ja) * 2010-12-01 2013-07-31 富士フイルム株式会社 ポリマーフィルム、位相差フィルム、偏光板、液晶表示装置及び紫外線吸収剤
KR101573976B1 (ko) * 2012-01-17 2015-12-02 주식회사 엘지화학 액정 조성물
KR101960467B1 (ko) * 2012-03-09 2019-03-20 삼성전자주식회사 편광 필름용 이색성 염료, 편광 필름 및 상기 편광 필름을 포함하는 표시 장치
JP6549348B2 (ja) * 2012-11-06 2019-07-24 三星電子株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． 偏光フィルム、反射防止フィルムおよび表示装置
KR101999830B1 (ko) * 2013-03-11 2019-07-12 삼성전자주식회사 편광 필름 및 표시 장치
JP2015060173A (ja) 2013-09-20 2015-03-30 大日本印刷株式会社 プリズムシート、面光源装置、映像源ユニット、及び液晶表示装置
KR102118036B1 (ko) * 2013-11-06 2020-06-02 삼성전자주식회사 편광 필름용 조성물, 편광 필름 및 표시 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001056469A (ja) 1999-08-19 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶配向膜、液晶性分子を配向させる方法、光学補償シートおよびｓｔｎ型液晶表示装置
JP2006003715A (ja) 2004-06-18 2006-01-05 Nitto Denko Corp 位相差フィルムの製造方法、位相差フィルム、偏光板、液晶表示装置および画像表示装置
CN102848643A (zh) 2012-09-11 2013-01-02 广东生益科技股份有限公司 二层法单面挠性覆铜板及其制作方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HIGH PERFORM. POLYM. VOL.7, PP.23-40

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