KR102384530B1 - 치과 임플란트 - Google Patents

Abstract

본 발명은 연조직을 보존하고 골 성장을 촉진하는 치과 임플란트(30; 130; 230; 330; 430)를 개시하며, 이는 치관측 단부(31; 131; 431) 및 근첨 단부(32; 132; 332; 432)를 갖는 세장형 임플란트 몸체; 수나사산(40; 140; 240; 440); 및 깊이를 갖는 적어도 하나의 나선형 플루트를 포함한 플루트 구성부(50; 150; 350; 450)를 포함하고, 근첨 단부는 뭉툭한 팁(39; 139; 339)을 형성하며, 나선형 플루트는 수나사산과 반대 방향으로 나선을 그리고, 플루트는 뭉툭한 팁의 면에서 종료된다.

Description

치과 임플란트{DENTAL IMPLANT}

본 발명은 연조직을 보존하고, 골 성장 및 골 증대(bone augmentation)를 촉진하는 치과 임플란트에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 임플란트 시스템 및 상기 임플란트를 식립하는 방법에 관한 것이다.

전통적인 보철물 대신에 임플란트-지지 치아 또는 임플란트-지지 의치를 요청하는 환자들의 점유율이 증가하고 있다. 이는 식립 부위에서 원하는 생물역학적 및 생물학적 특성들을 제공하는 식립을 달성하는 데 필요한 방법들 및 치과 임플란트들의 진행중인 진보 및 개선의 결과이다. 지금은, 치과 임플란트들이 기능뿐 아니라 심미적인 면에서도 오래 지속되는 해결책을 제공할 수 있다.

이 치아 대체물(dental replacement)들에 대한 증가적인 요구는 이 분야의 기술이 원하는 결과들을 달성하도록 더 진보된 치료를 필요로 할 수 있는 환자들을 위한 새롭고 더 우수한 해결책들을 개발하게 한다. 식립의 유리한 결과를 위해 가장 중요한 인자들 중 하나는 임플란트를 고정하기 위해 필요할 수 있는 골량(bone quantity) 및 골질이다.

일반적으로, 치조제(alveolar ridge) 또는 치조궁(alveolar arch)의 폭은 중심 치아에 대해 약간 좁은 것으로부터 대구치(molar teeth)의 위치에서 비교적 넓게 변화한다. 또한, 식립에 적용가능한 치조제의 피질층 아래에서 이용가능한 뼈 조직의 양 사이에 큰 차이들이 존재한다. 이 점에 있어서, 흔히 하악골이 임플란트에 대한 높은 단기 및 장기 안정성을 달성하기 위해 보철 치아로부터 전달되는 힘들이 치조골로 전해질 수 있도록 임플란트의 식립에 충분한 골량 및 골질을 제공한다.

반면에, 상악골은 임플란트를 고정하는 데 제공되는 골량 및 골질이 더 적을 수 있다. 특히, 후방 상악골에서의 치조골은 상악동으로 인해 감소된 높이를 갖는다. 그럼에도 불구하고, 상악골의 이 부분에서는, 골내 임플란트(endosseous implant)를 고정하기 위해 충분한 안정성이 달성되어야 한다.

오늘날까지, 이 문제를 해결하기 위해 2 가지 독립적인 접근법들이 주로 존재하였다. 제 1 접근법은 수술 기술(surgical technique)들을 이용하는 뼈 조직의 증대에 의존하며, 제 2 접근법은 임플란트의 디자인을 적합하게 하는 데 집중한다. 후자에 대해서는, 예를 들어 골유착을 자극하기 위해 임플란트의 표면 또는 치수들과 같은 임플란트의 특징부(feature)들의 치수들을 변화시키는 것이 가능하다. 골유착에 대한 긍정적인 효과를 입증했던 표면의 성공적인 예시는 Nobel Biocare®에 의해 개발되고 매매되는 TiUnite® 표면이다.

골 증대에 관하여, 종래 기술에 의해 제안되는 많은 기술이 존재한다. 이 기술들은 상이한 소스들로부터의 이식 재료의 도입에 기초한다. 상악동저(sinus floor)를 증대시키는 데 사용되는 이식 재료의 예시들은 자가골(Autografts), 동종골(Allografts), 이종골(Xenografts) 및 합성골(Alloplasts)이다. 이 재료들은 일반적으로 일단 식립되면 높은 생존율을 갖는다는 것이 나타났다(Jensen, O.T.; "Report of the Sinus Consensus Conference of 1996"; Int J Oral Maxillofac Implants. 1998; 13 Suppl:11-45. Review 참조). 하지만, 자가골은 추가적인 수술을 필요로 하여, 환자에게 외이식 부위에서만이 아닌 추가적인 위험 및 고통을 가하고, 및/또는 제한된 이용가능성을 갖는다. 동종골, 이종골 및 합성골을 이용하면, 항상 외인성 재료에 노출되는 신체와 연계되어 남는 잔류 위험이 존재한다. 또한, 외부 부하에 대한 뼈 조직의 적응 및 리모델링에서의 잠재력에 관한 이 재료들 대부분의 장기적 결과들은 아직 충분히 이해되지 않는다.

더 최근에는, 상악동의 측방 피질벽(lateral cortical wall)에서 윈도우를 이용하는 원스텝(one-step) 수술 기술이 개발되었다. 이 윈도우를 통해 상악동에 접근한 후, 골막기자(periosteal elevator)를 삽입하여 점막을 들어올리고 이를 제 자리에 유지시킴으로써 상악동과 점막 사이에 공간이 생성된다. 이 단계 이후, 치과 임플란트(TiUnite, Mk Ⅲ, Branemark System, Nobel Biocare AB, Gothenburg, Sweden)들이 치조제로 삽입되어, 후속하여 윈도우를 폐쇄하기에 앞서 제거되는 골막기자의 위치를 차지한다(Lundgren, S 외; "Bone Reformation with Sinus Membrane Elevation: A New Surgical Technique for Maxillary Sinus Floor Augmentation"; Clin Implant Dent Relat Res. 2004; 6(3): 165-73).

이 수술 기술을 한 단계 더 전진시키기 위해, 통합적 접근법이 개발되었다. 이 접근법은 앞서 언급된 2 가지 방식의 단순 조합을 넘어 연장되어, 임플란트의 디자인에 대한 상기 기술을 고려함으로써 상악골의 후방 구역에서 치과 임플란트에 안정성을 제공한다(WO 2004/010891 A1 참조).

더 구체적으로, WO 2004/010891 A1에서의 중간 임플란트는 점막의 파열을 방지하는 한편, 사전설정된 양의 가골(callus)이 상악동 내에 형성될 때까지 치조골 조직에 대해 이격되어 유지되도록 디자인된다. 이 가골은 석회화되고, 이에 따라 뼈 조직으로 변하여, 임플란트에 작용하는 부하들을 견디도록 더 높은 부피의 뼈를 제공할 것이다. 또한, 임플란트는 뼈 조직의 형성을 자극하는 것으로 알려진 성장 촉진 물질(growth stimulating substance)들을 지닌다. 하지만, 이 물질들은 그 생산뿐만 아니라 그 제한된 보존 기간으로 인해 높은 비용을 발생시킨다. 또한, 이들이 혈액과 직접 접촉하기 때문에, 이들은 체계적으로(systematically) 작용할 가능성을 갖고, 이에 따라 광범위한 조절을 거친다.

따라서, 상악골에서 골 질량을 증가시키는 앞서 언급된 증대 기술에 기초하여, 덜 침습성(invasive)인 수술 기술들을 적용하도록 선택사항을 제공하는 임플란트가 필요하다. 또한, 골 성장을 자극할 수 있고, 조직, 특히 점막에 불필요하거나 비생산적인 손상을 가하지 않는 임플란트를 개발하는 것이 바람직하다.

이 점에 있어서, US 6,604,945 B1은 임플란트에 및 그 주위에 뼈 조직 성장을 촉진하는 방식으로 임플란트를 끼워넣는 방법 및 장치를 개시한다. 이는 뼈-조각 수집 드릴(bone-fragment collecting drill)에 의해 달성되도록 의도된다. 수집된 뼈 조각들은 식립 홀에 임플란트를 설치하기에 앞서 홀들을 통해 나선형 채널들로 패킹(pack)된다. 증대에 사용되는 뼈 재료는 자가 조직이고, 뼈 재료의 수집은 여전히 임플란트의 삽입에 선행하는 단계들 동안 수행되어야 한다.

US 6,273,722 B1은 제 자리에 임플란트를 단단히 고정하도록 뼈 조직의 성장률을 개선하기 위해 환자의 턱 뼈로 뚫리는 홀에 프레스 피팅(press fit)되는 직경의 몸체를 갖고, 몸체 직경으로 기계가공된 나선형 홈을 갖는 치과 임플란트를 개시한다. 임플란트의 초기 피팅 시 유지력을 증가시키기 위해 얕은 높이의 반대로 감긴 나선형 나사산(shallow height oppositely wound helical thread)이 추가될 수 있다. 그래도 아직, US '722의 임플란트는 프레스 피트 임플란트(press fit implant)이며, 즉 정밀한 직경을 갖는 식립 홀이 준비되어야 한다. US '945와 대조적으로, 상기 홀을 생성하기 위해 제거되는 뼈 조직은 완전히 손실된다.

임플란트, 임플란트 시스템 및 상기 임플란트를 식립하는 방법이 본 명세서에 첨부된 독립 청구항들에서 정의된다. 또한, 앞서 열거된 목적들을 다루는 실시예들이 종속 청구항들에서 언급된다.

본 발명에 의해 제공되는 임플란트는 연조직을 보존하고 골 성장을 촉진하는 치과 임플란트이다. 이는 치관측 단부(coronal end) 및 근첨 단부(apical end)를 갖는 세장형 임플란트 몸체(elongated implant body), 수나사산(external thread), 및 나선형 플루트(helical flute)를 포함한다. 상기 임플란트의 근첨 단부는 뭉툭한 팁(blunt tip)을 형성한다. 나선형 플루트는 수나사산과 반대 방향으로 나선을 그리며, 플루트는 뭉툭한 팁의 면에서 종료된다(exit). 더 구체적으로, 나선형 플루트는 수나사산과 반대 방향으로 나선을 그리며, 플루트는 뭉툭한 팁의 면에서 점점 좁아진다(taper off).

본 발명에 따른 임플란트는 식립 부위로 나사고정되는 한편, 나선형 플루트는 뼈 잔해로서 삽입 동안 절삭되는 뼈 조직을 수집한다. 이 뼈 잔해는 골 증대 및 골 회복, 즉 수술 후에 일어나는 치유 반응을 촉진하기 위해 임플란트의 근첨 주변부(apical periphery)에 축적되도록 삽입 방향으로 수송된다.

플루트가 임플란트로부터 길이 방향으로 먼 쪽을 향하는 뭉툭한 팁에서 종료되기 때문에, 과도한 뼈 잔해가 임플란트 앞의 공간으로 버려질 수 있다. 이 공간은 임플란트의 삽입에 앞서 준비된 식립 홀일 수 있거나, 또는 상기 임플란트의 진입 측(entry side)에 마주하여 놓인 뼈의 측(뼈의 후방 측이라고도 함)에 생성되는 공간일 수 있다.

또한, 뭉툭한 상기 임플란트의 팁은 상기 임플란트의 근첨 단부 앞에 위치되는 연조직의 손상 또는 천공(piercing)을 방지한다. 따라서, 임플란트는 상악동과 같은 뼈의 후방 측에서 나갈 때 연조직을 손상시키지 않는다는 장점을 갖는다.

또 다른 실시예에서, 상기 치과 임플란트의 플루트는 치관측 플랭크(coronal flank) 및 근측 플랭크(apical flank)를 가질 수 있고, 상기 치관측 플랭크는 절삭 에지(cutting edge)를 제공한다.

나선형 플루트의 치관측 플랭크가 절삭 에지를 제공하기 때문에, 절삭 에지는 종래 기술로부터 통상적으로 알려진 절삭 에지들보다 훨씬 더 길다. 또한, 이는 수나사산과 반대 방향으로 나선을 그리는 나선형 플루트로 인한 것이다. 셀프-태핑 특징부(self-tapping feature)를 제공하는 것 외에, 이는 또한 직경을 증가시키기 위해 식립 홀의 내벽으로부터 뼈 조직을 절삭하고, 이로 인해 상기 플루트 내에서 증가된 양의 뼈 잔해를 수집하는 것을 용이하게 한다.

임플란트의 또 다른 실시예에서, 치관측 플랭크와 상기 임플란트의 길이방향 축선에 대한 법선 간의 임플란트의 길이방향 단면에서 측정된 바와 같은 각도는 1°내지 5°, 바람직하게는 2°내지 3°이다.

따라서, 치관측 플랭크는 근첨 단부의 방향으로 임플란트의 길이방향 축선으로부터 경사(inclination)를 갖는다. 이러한 방식으로 기울어지는 치관측 플랭크는 뼈 조직의 절삭 및 후속하여 임플란트의 중심을 향해 플루트의 깊은 부분(depths)으로 뼈 조직을 이동시키는 것을 용이하게 한다.

또 다른 실시예에서, 치과 임플란트는 플루트의 치관측 플랭크와 근측 플랭크 사이의 플루트 기저부(flute base)를 포함한다. 바람직하게는, 플루트 기저부는 치관측 단부의 방향으로 길이방향 축선을 향해 경사진다.

정의된 바와 같이 경사지는 플루트 기저부는 치관측 플랭크 상에서 뼈 잔해의 더 확실한 수집을 허용한다. 다시 말하면, 뼈 잔해는 뼈로 임플란트를 삽입하는 동안에 치관측 플랭크를 향해 지향될 것이다.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 플루트는 나사산보다 더 깊은, 바람직하게는 40 % 내지 200 %, 더 바람직하게는 60 % 내지 150 % 더 깊은 깊이를 갖는다.

플루트의 깊이가 나사산의 높이보다 더 깊기 때문에, 임플란트의 최종 위치와 겹치는 뼈 조직이 절삭되고, 이는 임플란트의 주변부에서 뼈 조직을 증대시키는 데 도움이 될 수 있는 뼈 잔해의 양을 증가시킨다. 다시 말하면, 나사산의 깊이보다 깊은 플루트의 깊이는 플루트의 치관측 플랭크의 절삭 에지가 상기 수나사산의 골(root)을 따라 진행할 것을 보장한다.

또 다른 바람직한 실시예에서, 플루트의 피치는 수나사산의 피치보다 더 크거나 이와 동일하다.

이 구성은 적어도 부분적으로 임플란트에 대해 삽입 방향으로 이동되는 뼈 잔해를 유도하고, 이는 특히 근첨 주변부에서 임플란트의 뼈 증대 특성들을 개선시킨다.

또 다른 실시예에서, 치과 임플란트에는 적어도 2 개의 나선형 플루트들이 제공된다.

치과 임플란트의 디자인에서 1보다 많은 나선형 플루트를 통합시키는 것은, 임플란트의 삽입 동안 절삭력들이 기본적으로 대칭적이라는 효과를 갖는다. 이는 길이방향 축선을 따라 임플란트의 삽입을 용이하게 한다.

또 다른 바람직한 실시예에서, 나사산은 치관 방향으로 플루트를 넘어 연장된다.

따라서, 식립 홀의 입구에 위치되는 임플란트의 치관측 단부는 플루트에 의해 영향을 받지 않는 프레스 피트를 제공한다.

또 다른 실시예에서, 임플란트 몸체는 치관측 부분(coronal section) 및 근측 부분(apical section)을 포함하고, 치관측 부분 및 근측 부분은 니(knee)에 의해 분리되며, 적어도 근측 부분은 근첨 단부를 향해 점감한다.

이는 증가된 양의 뼈 잔해를 절삭하게 하고, 근측 부분에서 식립 홀의 직경을 증가시키며, 이때 치관측 부분의 주 목적은 식립 홀로 치관측 부분의 임플란트를 프레스 피팅함으로써 식립 후 임플란트에 1차 안정성을 제공하는 것이다.

또 다른 실시예에서, 치관측 부분의 원뿔각(cone angle)은 근측 부분의 원뿔각보다 작다.

이 실시예에서, 근측 부분 및 치관측 부분은 일반적으로 원뿔대(frusta-conical) 형상을 갖는다. 이 근측 부분은 주로 뼈 잔해를 제공하는 반면, 치관측 부분은 치과 임플란트와 주위 뼈 조직, 특히 치조궁의 피질골 사이에 프레스 피트를 증가시키도록 구성된다. 더 구체적으로, 치관측 부분의 절삭 깊이는 임플란트 직경의 증가가 주위 뼈 조직을 절삭하기보다는 이를 포함하는 경향이 있도록 근측 부분에서보다 낮다.

본 발명의 또 다른 실시예에서, 셀프-태핑 플루트 및 나사산 구성은 근첨 단부에서 시작하고, 니에서 최대 높이로 확장된다.

플루트 및 나사산의 증가적인 높이로 인해 더 많은 뼈 잔해를 제공하는 것 외에, 이는 또한 1차 안정 동안 프레스 피트를 제공하는 나사산의 높은 견인력의 이용가능성을 유도한다.

또 다른 실시예에서, 하나의 골과 다음 골 사이의 나사산의 폭은 치관측 단부를 향해 증가할 수 있다.

더 많은 뼈 잔해를 제공하는 것 외에, 이는 상기 임플란트의 치관측 단부에서, 특히 치관 방향으로 점감하는 절삭 플루트 후 증가된 프레스 피트를 제공할 수도 있다. 나사산의 증가된 폭은 프레스 피트 힘의 증가를 야기하는 뼈 조직의 추가적인 압박을 제공한다.

또 다른 실시예에서, 뭉툭한 팁은 근첨 단부에 형성되는 곡면 돌출부(curved protrusion)를 포함하고, 돌출부는 바람직하게는 대칭이다.

곡선 돌출부로서 치과 임플란트의 뭉툭한 팁을 디자인하는 것은, 한편으로는 상기 팁과 접촉하는 연조직의 온전함이 보호되고, 다른 한편으로는 임플란트가 식립 홀의 기저부에 도달하고 뼈의 후방 측으로 전해져야 하는 경우에 삽입 방향으로 임플란트의 앞에 위치되는 뼈 조직을 옮기는 것을 더 쉽게 하는 장점을 갖는다.

또 다른 실시예에서, 임플란트는 그 치관측 단부에서 보철물 인터페이스(prosthetic interface)를 포함한다.

임플란트의 치관측 단부에 인터페이스를 포함하는 것은 종래 기술로부터 알려진 다양한 가능한 수복 기술들을 제공한다.

본 발명의 또 다른 실시예에서, 플랭크, 수나사산 및 플루트 중 적어도 하나는 적어도 하나의 홈을 포함한다.

이 홈들은 골 성장을 촉진하기 때문에 뼈 조직에 임플란트를 고정하는 데, 특히 프레스 피트의 효과가 뼈 리모델링으로 인해 감소한 후 장기적 안정화에 유리한 것으로 나타났다.

또한, 본 발명은 본 발명에 따른 치과 임플란트 및 보철물을 포함하는 임플란트 시스템을 제공한다.

이러한 임플란트 시스템은 각 환자의 요구에 개별적으로 반응하기 위해 의치의 수복 기술을 구성하도록 전문가에게 필요한 툴을 제공한다.

임플란트 시스템의 일 실시예에서, 보철물은 지대주, 지대주 나사, 브릿지 및 보철 치아 중 적어도 하나를 포함한다.

또한, 본 발명은 청구항 1 내지 청구항 15 중 어느 하나에 따른 치과 임플란트를 식립하는 방법을 제공하고, 이는 다음 단계들: 즉, 임플란트가 배치되어야 하는 잇몸 조직으로 절개를 수행하는 단계; 치조궁으로 식립 홀을 뚫는 단계; 임플란트의 뭉툭한 팁이 식립 홀의 입구가 위치되는 곳 맞은편에서 상악동을 덮는 점막에 닿을 때까지 홀에 임플란트를 배치하고 치조궁으로 임플란트를 나사고정하는 단계; 상악동저와 점막 사이에 빈 공간(void space)을 제공하는 단계; 임플란트의 뭉툭한 팁으로 점막을 지지하는 단계; 적어도 부분적으로 빈 공간을 뼈 잔해로 채우는 단계(85); 및 절개를 밀봉하는 단계를 포함한다.

이 방법의 결과로서, 최종 임플란트의 식립 및 골 증대가 단 하나의 절차에서 달성될 수 있다. 또한, 점막은 온전하게 남고, 상악동에서 보호되는 빈 공간을 제공하며, 이때 악영향을 받지 않고 골 증대가 발생할 수 있다. 또한, 본 발명의 임플란트를 이용한 골 증대는 상악동저와 점막 사이의 빈 공간으로의 임플란트의 삽입 동안 수송되는 자가 뼈 조직에만 기초할 수 있다.

상기 방법의 또 다른 실시예에서, 홀은 임플란트의 뭉툭한 팁으로 하여금 수나사산의 근측 플랭크가 치조궁에 닿을 때까지 진입하게 하는 입구에서의 직경을 갖는 블라인드 홀(blind hole)이다.

이러한 방식으로 홀을 준비하는 것이 임플란트에서 나사고정하기 시작한 직후 뼈 잔해의 절삭을 허용한다.

또 다른 실시예에서, 플루트는 임플란트가 상기 치조궁으로 나사고정되는 경우에 임플란트 앞의 빈 공간에 뼈 잔해를 제공한다.

빈 공간에 추가적인 조직이 제공될 수 있지만, 자가 뼈 조직의 장점을 충분히 이용하기 위해 상기 식립 홀로 삽입되는 동안에 공간으로 임플란트의 플루트에 의해 수송된 뼈 잔해만을 이용하는 것이 바람직하다.

본 발명의 또 다른 실시예에서, 상기 방법은 상기 임플란트 상에 보철물을 배치하는 단계를 포함한다.

상기 임플란트 상에 보철물을 배치함으로써, 아마도 정의된 치유 주기 후 치료가 마무리된다.

다음에서, 유사한 특징들을 갖거나 유사한 기능들로 지향되는 특징부들은 연계된 참조 번호들로 표기된다.
도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 치과 임플란트를 포함한 임플란트 시스템의 측면도;
도 1b는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 치과 임플란트를 포함한 임플란트 시스템의 측면도;
도 2는 도 1b의 교차선 Ⅱ-Ⅱ를 따르는 길이 방향으로의 임플란트 시스템의 단면도;
도 3은 본 발명에 따른 치과 임플란트의 또 다른 실시예의 근첨 단부의 평면도;
도 4a는 본 발명에 따른 치과 임플란트의 제 1 실시예의 또 다른 측면도;
도 4b는 본 발명에 따른 치과 임플란트의 제 3 실시예의 측면도;
도 4c는 본 발명에 따른 치과 임플란트의 제 2 실시예의 또 다른 측면도;
도 5a는 치조궁에 접근하는 경우의 식립 부위의 사시도;
도 5b는 식립 홀의 준비 동안의 도 5a의 식립 부위의 사시도;
도 5c는 본 발명에 따른 치과 임플란트의 나사고정 동작을 나타내는 식립 부위의 확대 사시도;
도 5d는 치조궁 내에서의 그 최종 위치의 치과 임플란트를 나타내는 식립 부위의 사시도;
도 5e는 치유 및 치과 보철물의 설치 후 식립 부위의 사시도;
도 6a는 치조궁에 접근하는 경우의 개구부(fenestration)를 갖는 식립 부위의 단면도;
도 6b는 상악동 막의 상승 후 식립 부위의 단면도;
도 6c는 상악동 막의 상승 후 존재하는 준비된 격실(compartment)로의 뼈를 통한 삽입 후 부위에서 치과 임플란트의 식립 부위의 단면도;
도 6d는 치조궁 내에서의 그 최종 위치의 치과 임플란트 및 회복된 개구부를 나타내는 식립 부위의 단면도;
도 6e는 치유 동안의 식립 부위의 단면도; 및
도 6f는 치유 후의 식립 부위의 단면도이다.

도 1a는 지대주(10), 지대주 나사(20), 및 본 발명에 따른 치과 임플란트(30)를 포함한 임플란트 시스템을 나타낸다. 하지만, 지대주(10) 및 지대주 나사(20)는 본 기술분야의 여하한의 다른 보철 구성요소들로 대체될 수 있다.

도 1a의 치과 임플란트(30)는 실질적으로 원뿔대 형상을 갖는다. 이 일반적인 형상은 단지 아래에서 알 수 있는 바와 같이(예를 들어, 도 4a 내지 도 4c, 및 도 5c 내지 도 5e) 본 발명의 바람직한 일반적인 형상들 중 하나이다.

임플란트(30)의 몸체는 치관측 단부(31) 및 근첨 단부(32)를 포함한다. 치관측 단부(31)에, 지대주 및 지대주 나사(20)와 같은 보철 구성요소들을 장착하는 인터페이스(160)(도 2 참조)가 존재한다. 예를 들어, US 6,733,291 B1, US 2011/0020767 A1, US 2012/0021381 A1, US 8,038,442 B2 또는 US 4,960,381 A에 정의된 바와 같은 보철 구성요소에 대한 인터페이스가 포함될 수 있다.

근첨 단부(32)에서, 임플란트(30)에는 뭉툭한 팁(39)이 제공된다.

치과 임플란트(30)에는 수나사산(40)이 제공되며, 이는 근첨 단부(32)에서 시작하고 치관측 단부(31)를 향해 임플란트(30)의 외측면을 따라 나선을 그린다. 수나사산(40)의 나사산 프로파일은 임플란트(30)의 길이를 따라 변할 수 있다. 근첨 단부(32)에서, 나사산 프로파일은 치관측 단부(31)에서의 나사산 프로파일에 비해 감소된 나사산 깊이를 가질 수 있다. 중간에서, 나사산 깊이들은 점진적으로 증가한다. 나선형 플루트와 조합되는 이러한 나사산 지오메트리가 임플란트(30)에 셀프-태핑 특징부를 제공하는 한가지 방식이다.

도 1a에 나타낸 나사산(40)은 이중 나사산이다. 대안적으로, 치과 임플란트(30)의 외측면을 따라 한줄, 세줄 또는 네줄 나사산들이 제공될 수 있다. 하지만, 바람직하게는 이중 나사산이 사용된다.

두줄 이상의 나사산들이 임플란트(30)의 특징에 대해 유리한 효과를 갖는다. 더 구체적으로는, 임플란트(30)를 따라 복수의 나사산(40)을 이용함으로써, 임플란트(30)에서 나사고정하는 동안 오정렬의 위험이 크게 감소된다. 예를 들어, 이중 나사산(40)은 삽입 처음에도 임플란트(30)의 회전 중심이 임플란트(30)의 길이방향 축선(2)과 실제로 동일하도록 대칭적으로 뼈 조직에 진입한다. 결과적으로, 삽입 동안 임플란트(30)가 기울 가능성이 감소된다.

또한, 두줄 이상의 나사산(40)들은 임플란트(30)를 조이는 동안에 뼈 조직의 대칭적 부하를 제공한다. 또한, 뼈 조직은 더 적은 마모를 겪는데, 이는 예를 들어 이중 나사산(40)의 리드(lead)가 단일 나사산(40)의 피치보다 커서, 나사산 플랭크(42, 43)의 더 적은 길이가 도 5b의 식립 홀(86)에서의 진입 지점을 지나도록 하기 때문이다. 간명함을 위해, 피치라는 용어는 이후 단일 나사산의 2 개의 마루(crest)들 간의 거리, 및 이중 나사산의 동일한 나사산에 속하는 2 개의 마루들 간의 거리에 대해 사용된다.

근첨 단부에서, 임플란트(30)는 뭉툭한 팁(39)을 포함한다. 뭉툭한 팁(39)은 상기 팁(39)과 접촉하는 연조직이 손상되거나 천공되지 않도록 형성된다.

또한, 본 발명에 따른 임플란트에 수나사산(40)과 반대 방향으로 나선을 그리는 적어도 하나의 나선형 절삭 플루트(50)가 제공된다. 절삭 플루트(50)는 치관측 플랭크(51), 근측 플랭크(53), 및 치관측 플랭크(51)와 근측 플랭크(53)의 내측 에지들을 연결하는 플루트 기저부(52)를 포함한다. 절삭 플루트의 프로파일은 적어도 부분적으로 곡면일 수 있음을 이해할 것이다. 또한, 플루트 기저부(52)는 치관측 플랭크(51) 또는 근측 플랭크(53)와 합쳐질 수 있다. 또 다른 실시예에서, 치관측 플랭크(51)는 길이방향 축선(2)에 가장 가까운 지점에서 근측 플랭크(53)에 직접 연결될 수 있다. 하지만, 이 구성들 모두에서, 치관측 플랭크(51)는 절삭 에지(54)를 구성하고, 절삭 플랭크로서 작용할 것이다.

바람직하게는, 치관측 플랭크(51)는 근측 플랭크(53)보다 (측면에서 볼 때) 더 길다. 결과로서, 도 1a의 플루트 기저부(52)는 상기 임플란트(30)의 길이방향 축선(2)과 평행하게 진행하지 않는다. 그 대신, 플루트 기저부(52)는 치관측 단부(31)의 방향으로 중심축(2)을 향해 경사진다. 다시 말하면, 상기 플루트 기저부(52)의 임플란트(30)의 외측면, 즉 임플란트(30)의 인벨로프 표면(envelope surface)으로부터 측정된 바와 같은 깊이가 치관측 단부(31)로부터 근첨 단부(32)로 감소한다.

도 1a에서 알 수 있는 바와 같이, 절삭 플루트는 근첨 단부(32)로부터 치관측 단부(31)를 향해 임플란트(30)의 외측면을 따라 나선형으로 진행하고, 바람직하게는 중심축(2)을 따라 길이방향 단면에서 보이는 바와 같이 나사산(40)의 적어도 하나의 마루가 남는 높이에서 종료된다. 하지만, 바람직하게는, 나선형 플루트(50)의 점감 후 중심축(2)을 따라 치관측 방향으로, 임플란트(30)의 외측면을 따르는 나사산(40)의 2 개의 마루가 남는다.

또한, 나선형 플루트(50)는 바람직하게는 적어도 두 번 임플란트(30)를 포위(circumvent)한다. 플루트의 피치는 나사산의 2 내지 4 피치, 바람직하게는 2.5 내지 3.5 나사산 피치 간격 내에 있을 것이다.

근첨 단부(32)에서, 나선형 플루트(50)는 바람직하게는 뭉툭한 팁 부분(39) 내에서 종료된다. 다시 말하면, 나선형 플루트(50)는 길이 방향으로 임플란트(30)로부터 멀리 향하는 뭉툭한 팁 부분(39)에서 개방(open up)된다(도 3b 참조). 나선형 플루트(50)와 뭉툭한 팁(39) 사이에 형성된 에지들은 챔퍼처리(chamfer)되거나 둥글게 될 수 있다.

임플란트(30)를 따라 제공되는 단 하나의 나선형 플루트(50)가 존재할 수 있다. 하지만, 바람직하게는 임플란트(30)를 따라 1보다 많은 플루트(50)가 제공된다. 수나사산(들)(40)과 반대 방향으로 나선을 그리고 길이방향 축선 주위에 대칭으로 분포되는 플루트들의 유리한 수는 2 개임이 발견되었다.

절삭 플루트는 수나사산(40)과 반대 방향으로 임플란트(30)의 외측면을 따라 나선을 그린다. 따라서, 플루트(50)는 수나사산(40)과 교차한다. 수나사산(40)과의 이 교차는 치관측 플랭크(51)가 절삭 에지(54)를 형성하도록 한다. 상기 절삭 에지(54)는 수나사산(40)이 셀프-태핑일 수 있게 한다.

치관측 플랭크(51)에 속하는 절삭 에지(54)에서 절삭이 수행되고, 치관측 플랭크(51)는 근측 플랭크(53)보다 더 길다. 수나사산 지오메트리의 전체 단면을 따라 진행하는 절삭 에지(54)를 제공하기 위해, 절삭 플루트(50)는 수나사산(40)보다 깊은 깊이를 가져야 한다. 바람직하게는, 플루트는 수나사산(40)의 깊이보다 적어도 40 % 내지 200 % 더 깊은 깊이를 갖는다. 결과적으로, 근측 플랭크(53)의 깊이는 나사산(40)의 깊이보다 적어도 40 % 더 깊어야 한다.

또한, 2 개의 절삭 플루트들은 이들의 대칭적 구성이 주위 뼈 조직에 암나사산(female thread)을 생성하는 동안에 절삭 에지에 의해 야기되는 절삭력들의 대칭적 분포를 제공한다는 한가지 장점을 갖는다.

또한, 임플란트를 따라 나선을 그리는 절삭 플루트(50)는, 절삭 에지(54)의 길이가 통상적으로 임플란트의 길이 방향을 따라 진행하는 종래 기술로부터 알려진 절삭 플루트들에 비해 증가된다는 장점을 갖는다. 이러한 절삭 에지(54)의 증가된 길이는 절삭력들의 고른 분포 및 절삭되는 뼈 조직 및 나선형 플루트(50)에서의 그 수집의 더 균등한 분포를 제공한다.

바람직하게는, 또한 도 1a 및 도 1b에서 보이는 바와 같이, 절삭 플루트(50, 150)의 리드는 각각 수나사산(40, 140)의 리드보다 더 높다. 플루트(50, 150)의 리드가 수나사산(40, 140)의 리드보다 더 높기 때문에, 삽입 방향에 대해 임플란트(130) 자체보다 더 짧은 거리에서 뼈 잔해의 적어도 일부가 수송된다. 더 구체적으로는, 뼈 조직이 절삭 에지에 의해 절삭되고, 후속하여 플루트(50, 150) 내에 위치된다. 하지만, 절삭된 뼈 조직은 적어도 절삭 플루트(50, 150)에 완전히 부착되는 것이 아니라, 그 대신 임플란트(30, 130)의 근첨 방향으로 이동하는 경향이 있을 것이다. 결과적으로, 뼈 잔해는 임플란트의 삽입 동안 상기 임플란트(30, 130)의 근첨 단부(31, 131)를 향해 수송될 것이다.

상기 임플란트(30)의 식립을 위해 준비된 홀은 적어도 임플란트(30)로 하여금, 식립 홀의 주위 림(rim)이 나사산(40)의 근측 플랭크에 닿을 때까지 부분적으로 뼈 조직에 삽입되게 하는 직경을 갖는다.

도 1a의 임플란트의 근첨 단부에서, 뭉툭한 팁(39)은 일반적으로 길이 방향으로 임플란트로부터 멀리 향하는 평면으로서 형성된다. 당연히, 평탄한 표면을 도 3에 나타낸 바와 같은 곡면 돌출부로 대체하는 것이 본 발명의 범위 내에 있다. 또한, 이러한 둥글게 된 팁이 점막과 같은 연조직에 대한 보호를 제공한다.

또한, 팁을 둥글게 하면, 임플란트가 상악동으로 진입하는 경우 점막에 대한 지지가 증가한다. 다시 말하면, 둥글게 된 구성의 뭉툭한 팁은 상악동저와 점막 사이에 제공되는 공간을 생성하거나 유지하기 위해 점막을 지지할 뿐만 아니라, 인장 상태에서 점막의 형상에 적응된다. 간단명료하게, 뭉툭한 팁을 갖는 임플란트는 텐트용 기둥(post)처럼 작용한다.

도 1a의 임플란트(30)는 근첨 단부(32)를 향해 점감하는 원뿔대 형상을 갖는다. 이러한 형상은 임플란트(30)의 외측면을 따라 뼈 조직을 연속적으로 절삭할 수 있게 한다. 더 구체적으로는, 임플란트의 삽입에 앞서 준비된 식립 홀의 직경은 바람직하게는 가능한 한 작게 선택된다. 이는 임플란트(30)로 하여금, 임플란트(30)의 셀프-태핑 나사산(14)이 식립 홀의 주변 림에 접촉할 때까지 뭉툭한 팁으로 삽입되게 한다. 이 방식으로, 홀은 식립 홀로의 임플란트의 초기 안내를 제공한다.

후속하여, 뼈 조직의 절삭은 식립 홀로의 임플란트의 나사고정 시 시작한다. 이해하는 바와 같이, 임플란트(30)의 원뿔형은 나사산 지오메트리를 절삭할 뿐만 아니라, 동시에 사전제작된 식립 홀의 직경을 증가시키는 절삭 에지(54)를 유도한다. 따라서, 임플란트(30)는 특히 플루트(50)의 깊이가 수나사산(40)의 높이보다 큰 경우, 식립 동안 드릴처럼 작용될 수도 있다.

바람직하게는, 임플란트는 뼈에서 나가 상악동으로 진입한다. 다시 말하면, 임플란트(30)는 뼈를 통과할 수 있다. 하지만, 뼈에서 나갈 때, 상악동 내부에서 뼈를 덮는 연조직 막은 손상되지 않아야 한다. 이는 임플란트(30)에 뭉툭한 팁(39)을 제공함으로써 달성된다. 또한, 대안적인 절차들이 본 발명에 따른 임플란트를 이용하여 이루어진다는 것이 인지된다. 또한, 개구부를 통한 임플란트의 삽입에 앞서 막을 들어올리는 것이 절차 동안 연조직 막이 손상되는 위험을 감소시키는 데 도움이 될 수 있다는 것이 인지된다. 이러한 원리를 따르는 방법이 도 6a 내지 도 6f에 개시된다. 현재 바람직한 방법을 따라, 임플란트를 삽입하기에 앞서 막이 들어올려짐이 인정된다. 임플란트의 뭉툭한 팁은 임플란트의 삽입 후 막이 관통되는 위험을 최소화한다.

홀을 확장하고 나사산(40)을 절삭하는 것으로부터의 뼈 잔해가 플루트(50)에서 수집되기 때문에, 이는 적어도 부분적으로 홀의 출구를 향해 상악동으로, 즉 뭉툭한 팁의 전면을 점감시키는 플루트에 의해, 및 뼈의 홀을 지나, 즉 상악동에서 연장되는 플루트의 부분에 의해 이동될 것이다.

상악동저와 점막 사이에 생성된 빈 공간은 이로 인해 부분적으로 뼈 잔해로 채워지고, 이는 새로운 뼈의 형성을 향상시키며, 이에 따라 임플란트의 안정성을 개선한다. 특히, 본 발명의 치과 임플란트는 뼈 조직 내에서 개선된 안정성을 제공하는 골 증대를 사용하는 것이 유리한 환자들에게 사용될 수 있다.

이제 도 1b를 참조하면, 도 1a에 나타낸 것과 유사한 임플란트의 또 다른 실시예가 개시된다. 이 점에 있어서, 도 1a의 치과 임플란트에 대해 앞서 설명된 특징, 장점 및 효과가 도 1b의 임플란트에도 적용된다. 또한, 앞선 실시예의 특징부들에 대응하는 특징부들이 연계된 참조 번호들로 표시되며, 즉 참조 번호들은 100만큼 증가되었다. 또한, 이는 아래에서 설명되는 모든 다른 실시예들에 적용된다. 예를 들어, 플루트(50)의 앞서 설명된 특징들은 본 실시예의 플루트(150) 및, 예를 들어 도 3의 플루트(350)에도 적용된다. 마찬가지로, 수나사산(40)에 대해 설명된 구조적 특징들 및 그 변형들이 수나사산(140 또는 440)에도 적용된다(도 5c 참조).

도 1b에 나타낸 치과 임플란트(130)의 실시예는 치관측 부분(133) 및 근측 부분(134)을 포함한다. 치관측 부분(133)은 원뿔대이지만, 원통형일 수도 있다. 반면에, 근측 부분(134)은 바람직하게는 임플란트(130)의 근첨 주변부에서 이후 골 증대에 사용되도록 뼈 잔해의 형태로 뼈 조직을 축적하기 위해 원뿔대로 디자인된다. 치관측 부분(133)과 근측 부분(134) 사이에는, 근측 부분(134) 및 치관측 부분(133) 각각의 원뿔각들 δ 및 γ의 차이로 인해 니(135)가 존재한다. 도 1b에 나타낸 바와 같이, 근측 부분(134)의 원뿔각(δ)은 치관측 부분(133)의 원뿔각(γ)보다 크다.

결과로서, 주위 뼈 조직으로 암나사산을 절삭하는 것 외에, 근측 부분(134)은 식립 홀의 직경을 증가시키는 데도 도움이 된다. 대조적으로, 치관측 부분(133)은 주로 프레스 피트를 생성함으로써 1차 안정성을 제공하기 위해 의도된다. 다시 말하면, 뼈 조직은 나사산(140)의 표면과 주위 뼈 조직 사이에 프레스 피트를 발생시키기 위해 압박된다. 이는 치관 방향에서 니(135)를 가로지른 후 플루트(150)가 폭이 가늘어지기 시작하게 함으로써 달성될 수 있다. 비결은 뼈 잔해의 배출을 위해 뭉툭한 팁으로 완전히 연장되는 플루트를 갖는 것이며, 점감은 상악동 빈 공간으로의 배출을 용이하게 하기 위해 사용될 수 있다.

하지만, 바람직하게는, 플루트(150)는 중심축(102)을 따르는 길이방향 단면에서 보이는 바와 같이 니를 지나 수나사산(140)의 끝에서 두번째 나사산까지 연장된다.

바람직하게는, 수나사산(140)의 최종 지오메트리는 니(135)의 높이에 도달된다. 이는 단지 나사산 플랭크들(도 2 참조)의 높이에 적용될 수도 있다. 하지만, 나사산 골과 인접한 나사산 골 사이의 나사산의 폭은 근첨 단부(132)로부터 시작하여 니(135)를 지나, 심지어 치관측 단부(131)까지 증가할 수 있다. 수나사산(140)의 이러한 디자인은 추가적으로 임플란트의 1차 안정성을 제공한다. 이러한 나사산의 지오메트리에 관한 더 상세한 내용들은 NobelActive US 8,038,442 B2 및 US 2012/0021381로부터 얻을 수 있다.

이제 도 3b를 참조하면, 뭉툭한 팁의 정면도가 도시된다. 뭉툭한 팁의 이 실시예는 임플란트(330)의 근첨 단부(332)에서의 곡면 돌출부에 의해 형성된다. 절삭 플루트(들)(350)는 임플란트(330)의 뭉툭한 팁에서 종료된다. 이에 따라, 뼈 잔해가 플루트의 근첨 단부 밖으로, 예를 들어 상악동저와 상악동 막 사이의 빈 공간으로 수송될 수 있다.

도 2는 도 1b에 나타낸 라인 Ⅱ-Ⅱ을 따라 임플란트(130)의 길이방향 단면을 나타낸다. 도 2에 상세히 도시된 바와 같이, 절삭 에지(154)를 갖는 치관측 플랭크는 임플란트의 길이방향 축선의 법선에 대해 각도(α)만큼 기울어진다. 따라서, 절삭 에지(154)에 의해 절삭된 뼈 조직은 임플란트(130)의 삽입 동안 식립 홀의 주변 벽에서 뼈가 절삭되는 동안에 플루트 기저부(152)의 방향으로 전해진다.

도 4a 내지 도 4c는 치과 임플란트에 적용되는 상이한 형상들을 나타낸다. 도 4a에 나타낸 실시예는 도 1a에 나타낸 실시예에 대응한다. 이 실시예에서, 치관측 및 근측 부분은 전체 임플란트(30)가 실질적으로 원뿔대 형상을 갖도록 동일한 원뿔각을 갖는다. 대조적으로, 도 4b에 나타낸 임플란트(230)는 그 길이를 따라 기본적으로 원통형이도록 디자인된다. 또한, 도 4c의 실시예는 도 1b 및 도 2의 임플란트(130)의 또 다른 측면도를 나타낸다.

다음에서, 본 발명에 따른 임플란트의 식립을 위한 절차가 더 상세히 설명될 것이다.

도 5a에서, 식립을 위한 홀이 뚫리는 아래놓인 뼈를 노출시키는 절개가 잇몸 조직으로 이루어진다.

도 5b에서, 식립 홀(86)을 뚫기 위해 드릴(70)이 사용된다. 도 5b의 드릴(70)은 스텝 드릴(step drill)로서 도시되지만, 스텝이 없는 드릴이 사용될 수도 있다. 바람직하게는, 식립 홀(86)은 치조궁의 후방 측에 위치되는 점막이 손상되는 것을 방지하기 위해 뚫는 단계 동안 관통 홀로서 준비되지 않는다. 하지만, 연조직을 손상시키지 않는 드릴이 치조궁에 걸쳐 연장되는 관통 홀로서 식립 홀(86)을 생성하는 데 사용될 수 있다.

도 5c는 본 발명에 따른 임플란트(430)의 삽입을 나타낸다. 당연히, 앞서 설명된 다른 실시예들 중 어느 하나가 대신 사용될 수 있다. 식립 홀(86)이 임플란트(430)의 직경에 비해 작은 크기(undersize)이기 때문에, 플루트(450)의 치관측 플랭크가 식립 홀(86)의 내벽으로부터 뼈 잔해(80)를 절삭한다. 참조 부호(80)에서 화살표로 나타낸 바와 같이, 뼈 잔해(80)는 상기 임플란트가 식립 홀(86)로 나사고정되는 동안에 나선형 플루트를 따라 임플란트(430)의 근첨 단부(432)를 향해 몰린다.

도 5d를 참조하면, 치조궁(84)의 표면 위로 점막(81)을 들어올림으로써 빈 공간(83)이 생성되었다. 홀(86)의 측에서의 뼈 잔해가 임플란트(430)의 근첨 단부를 향해 수송되기 때문에, 이는 상기 공간(83)으로 연장되는 플루트의 부분에서 또는 플루트 구성부(450)가 종료되는 곳에서 플루트를 나감으로써 빈 공간(83)에 진입한다. 뼈 잔해의 축적(85)은 상악동저와 상악동 막 사이의 공간에서 골 증대를 자극한다.

상악동 막(81)은 임플란트(430)에서 나사고정함으로써, 또는 앞선 부분에서 예시된 바와 같이 당업자에 의해 알려진 여하한의 다른 수단 또는 기술에 의해 치조궁으로부터 들어올려졌을 수 있다.

식립 후, 잇몸 조직은 방해받지 않는 치유 과정을 위해 접착제에 의해, 또는 봉합 또는 클램프(clamps)와 같은 결찰 수단에 의해 간헐적으로 폐쇄될 수 있다. 대안적으로, 중간 또는 최종 보철물이 상기 임플란트(430) 상에 배치될 수 있다.

일단 치유되면, 보철물(90)이 고정된 임플란트(430)에 부착될 수 있다. 도 5d의 참조 부호(85)에서 알 수 있는 바와 같이, 상악동 막(81)에 손상을 야기하지 않고 골 증대가 성공적으로 달성되었다.

당업자라면, 본 발명에 따른 임플란트가 골유착을 향상시키도록 변형된 표면 또는 그 표면의 적어도 일부분 상의 코팅 중 적어도 하나를 포함할 수 있음을 이해할 것이다. 일 예시는 Nobel Biocare®에 의해 제공되는 TiUnite® 표면이다.

앞서 설명된 바와 같이, 본 발명은 불충분한 골질 또는 골량을 갖는 경우에 적용될 수 있는 새로운 세대의 임플란트를 제공한다. 당업자라면 이해하는 바와 같이, 앞선 실시예들은 단지 설명하기 위해 의도되는 반면, 보호 범위는 다음의 독립 청구항들에 의해 정의된다. 바람직한 실시예들을 정의하는 특징들의 또 다른 조합들이 종속 청구항들에서 언급된다.

Claims (21)

1. 연조직을 보존하고 골 성장을 촉진하는 치과 임플란트(30; 130; 230; 330; 430)에 있어서:
   치관측 단부(coronal end portion: 31; 131; 431) 및 근첨 단부(apical end portion: 32; 132; 332; 432)를 갖는 세장형 임플란트 몸체(elongated implant body),
   수나사산(external thread: 40; 140; 240; 440), 및
   깊이를 갖는 플루트 구성부(flute arrangement: 50; 150; 350; 450)
   를 포함하고,
   상기 근첨 단부는 뭉툭한 팁(blunt tip: 39; 139; 339)을 형성하며,
   플루트 구성부는 상기 수나사산과 반대 방향으로 나선을 그리는 적어도 하나의 나선형 플루트이고, 상기 플루트는 상기 뭉툭한 팁의 면에서 종료(exit)되며, 상기 나선형 플루트는 상기 나사산보다 더 깊은 깊이를 갖는 치과 임플란트.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 나선형 플루트는 상기 수나사산(40; 140; 240; 440)보다 더 깊은, 바람직하게는 40 % 내지 200 %, 더 바람직하게는 60 % 내지 150 % 더 깊은 깊이를 갖는 치과 임플란트.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 플루트의 피치(pitch)는 여전히 반대 방향만으로의 상기 수나사산(40; 140; 240; 440)의 피치보다 더 크거나 동일하지만, 바람직하게는 상기 플루트의 피치는 적어도 하나의 나사산의 2 내지 4 피치, 더 바람직하게는 2.5 내지 3.5 피치 범위 내에 있는 치과 임플란트.
4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 임플란트(30; 130; 230; 330; 430)에는 적어도 2 개의 나선형 플루트들(50a,b; 150; 350; 450)이 제공되는 치과 임플란트.
5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 수나사산(40; 140; 240; 440)은 치관 방향으로 상기 플루트 구성부(50; 150; 350; 450)를 지나 연장되는 치과 임플란트.
6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 플루트는 치관측 플랭크(coronal flank: 51; 151) 및 근측 플랭크(apical flank: 53; 153)를 갖고, 상기 치관측 플랭크는 절삭 에지(cutting edge: 54; 154)를 제공하는 치과 임플란트.
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 치관측 플랭크(51; 151)와 상기 임플란트의 길이방향 축선(2; 102; 302)에 대한 법선 간의 상기 임플란트(30; 130; 230; 330; 430)의 길이방향 단면에서 측정된 바와 같은 각도(α)는 0°내지 5°, 바람직하게는 1°내지 3°인 치과 임플란트.
8. 제 6 항에 있어서,
   상기 플루트 구성부(50; 150; 350; 450)의 치관측 플랭크(51; 151)와 근측 플랭크(53; 153) 사이의 플루트 기저부(flute base: 52; 152)를 더 포함하고, 상기 플루트 기저부는 상기 임플란트(30; 130; 230; 330; 430)의 길이방향 단면에서 측정된 바와 같이, 바람직하게는 상기 치관측 단부(31; 131; 431)의 방향으로 길이방향 축선을 향해 경사지는 치과 임플란트.
9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 임플란트는 치관측 부분(coronal section: 133) 및 근측 부분(apical section: 134)을 포함하고, 상기 치관측 부분 및 상기 근측 부분은 니(knee: 135)에 의해 분리되며, 적어도 상기 근측 부분은 상기 근첨 단부(132)를 향해 점감(taper)하는 치과 임플란트.
10. 제 9 항에 있어서,
    상기 치관측 부분(133)의 원뿔각(cone angle: γ)은 상기 근측 부분(134)의 원뿔각(δ)보다 작은 치과 임플란트.
11. 제 9 항에 있어서,
    상기 수나사산(40; 140; 240; 440)은 상기 근첨 단부(32; 132; 332; 432)에서 시작하고, 상기 니(135)에서 상기 임플란트 몸체로부터의 최대 높이를 갖는 치과 임플란트.
12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    나사산 플랭크의 높이는 상기 치관측 단부(31; 131; 431)를 향해 증가할 수 있는 치과 임플란트.
13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 뭉툭한 팁(39; 139; 339)은 상기 근첨 단부(32; 132; 332; 432)에 형성되는 곡면 돌출부(curved protrusion)를 포함하고, 상기 돌출부는 바람직하게는 대칭인 치과 임플란트.
14. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 임플란트(30; 130; 230; 330; 430)는 치관측 단부(31; 131; 431)에서 보철물 인터페이스(prosthetic interface: 60)를 포함하는 치과 임플란트.
15. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 수나사산(40; 140; 240; 440) 및 상기 플루트 구성부(50; 150; 350; 450) 중 적어도 하나는 적어도 하나의 홈(41; 141)을 포함하는 치과 임플란트.
16. 임플란트 시스템에 있어서:
    제 1 항 또는 제 2 항에 따른 치과 임플란트(30; 130; 230; 330; 430), 및 적어도 하나의 보철물(90)을 포함하는 임플란트 시스템.
17. 제 16 항에 있어서,
    상기 보철물(90)은 지대주(abutment: 10; 110), 지대주 나사(20; 120), 브릿지, 바(bar) 및 보철 치아 중 적어도 하나를 포함하는 임플란트 시스템.
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