KR102375083B1 - 코팅된 절삭 공구 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기재 및 코팅을 포함하는 코팅된 절삭 공구에 관한 것으로, 코팅은 PVD 층 (A) 을 포함하고, 상기 PVD 층 (A) 은 화학식 Ti1-xSixCaNbOc 의 화합물이고, 0.10 < x ≤ 0.30, 0 ≤ a ≤ 0.75, 0.25 ≤ b ≤ 1, 0 ≤ c ≤ 0.2, a+b+c = 1 이고, PVD 층 (A) 은 NaCl 구조 고용체이다. 또한, 본 발명은, 약 -40 ~ 약 -450 V 의 펄스형 바이어스 전압을 기재에 인가하고 또한 약 12% 미만의 듀티 사이클 및 10 kHz 미만의 펄스형 바이어스 주파수를 사용하는 음극 아크 증발에 의해 PVD 층 (A) 을 제조하는 방법에 관한 것이다.

Description

코팅된 절삭 공구 및 방법
본 발명은 (Ti,Si)(C,N,O) 층을 포함하는 코팅된 절삭 공구에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이것을 제조하는 방법에 관한 것이다.
물리 기상 증착 (PVD) 은 예를 들어 초경합금의 기재에 내마모성 코팅을 얻기 위한 충분히 공지된 기술이다. 이러한 코팅은 인서트 및 드릴과 같은 금속 기계가공을 위한 절삭 공구로서 사용된다. 여러 PVD 프로세스들이 개발되었다. 일 주요 프로세스는 음극 아크 증발 프로세스이다.
일반적으로 사용되는 PVD 프로세스는 아크 증발, 마그네트론 스퍼터링 및 이온 도금을 포함한다. 다른 PVD 프로세스들에 비해 아크 증발 프로세스의 이점은 아래에 놓이는 기재 또는 층에 대한 보다 양호한 접착 및 더 높은 증착 속도를 일반적으로 포함한다.
하지만, 아크 증발 프로세스에 의해 만들어진 층에서, 위에서 배율로 보았을 때, 별개의 결정립의 임의의 특징들이 보이지 않으면서 "얼룩 (smeared out)" 을 나타내는 격자 결함이 풍부한 코팅들이 일반적으로 얻어진다. 점 결함과 같은 결함은 코팅에서 증가된 잔류 압축 응력으로 이어진다.
다른 한편으로, 스퍼터링된 층에서, 이것은 더 낮은 밀도, 더 높은 결정도, 및 때로는 표면 상의 결정 패싯들 (crystals facets) 이 얻어질 수도 있다.
아크 증발 프로세스에서, 아크 전류는 금속 타켓 또는 타겟들에 인가되어, 진공 챔버 내에 금속 증기 또는 플라즈마를 형성한다. 바이어스 전압이 기재에 인가되는 동안, 타겟은 캐소드 표면으로서 작용한다. 아크는 점화되고, 기화된 캐소드 물질이 기재를 향해 높은 속도로 캐소드를 떠나는 작은 방출 영역이 형성된다. 통상적인 셋 업에서, 코팅 내에 존재하는 원하는 금속 또는 금속들의 조합의 타켓 또는 타켓들이 사용되고, 증착 프로세스는 어느 화합물이 코팅되어야 하는지에 따라 반응성 가스의 존재에서 수행된다. 일반적으로, 금속 니트라이드가 필요한 경우 반응성 가스로서 질소가 사용되고, 금속 카바이드의 경우에 메탄 또는 에탄이 사용되고, 금속 카르보니트라이드의 경우에 질소와 함께 메탄 또는 에탄이 사용되고, 또한 금속 카르복시니트라이드를 증착시키기 위해서는 산소가 추가된다.
코팅되는 기재에 인가된 바이어스 전압은 DC 모드에서 또는 시변 모드에서 인가될 수 있다. 시변 모드는 펄스 모드일 수 있고, 여기에서 전압은 예를 들어 교대하는 바이어스 전압이 턴 온되고 바이어스 전압이 턴 오프됨으로써 시간에 걸쳐 달라진다. 증착 동안 바이어스 펄스 기간에 대한 총 시간 중에서 "온-타임", 즉 바이어스가 인가되는 시간의 비율은 "듀티 사이클" 이라 불린다.
펄스 모드에서 바이어스 전압의 주파수는 또한 달라질 수 있고, kHz 로 일반적으로 표현된다.
PVD 층에서 일정 레벨의 압축 잔류 응력이 여러번 요구됨에도 불구하고, 이것은 아래에 놓이는 층 또는 기재에 대한 접착에 악영향을 미치는 위험으로 인해 바람직하게는 너무 높지 않아야 한다.
(Ti,Si)N 코팅은 금속 기계 가공을 위한 절삭 공구 분야에서 일반적으로 사용된다. (Ti,Si)N 은 집중적으로 연구된 재료 시스템이다. 예를 들어, Flink 등은 Si 함량이 (Ti,Si)N 코팅의 미세구조에 대한 주요 정의 파라미터임을 설명한다. (Ti1-xSixN 에서) x ≤ 0.1 의 경우, 종래의 코팅은 주상이고 또한 NaCl 고용체 상태에 있지만, x > 0.1 의 경우, 성장은 Si(Ti)Nx 매트릭스 상 (조직 상; tissue phase) 에서 Ti(Si)N 나노칼럼들 (nanocolumns) 을 갖는 나노 복합재료 성장으로 변한다. 조직 상의 두께는 Si 함량에 의존하지만, 규칙적으로 1 ~ 5 nm 의 정도로 존재한다.
여기에는, 코팅이 기재에 대한 접착 및 내박리성 (flaking resistance) 의 관점에서 훌륭한 특성들을 가지면서, 또한 크레이터 내마모성 및/또는 플랭크 내마모성과 같은 훌륭한 내마모성을 가지는 (Ti,Si)N 코팅된 절삭 공구들에 대한 지속적인 요구가 존재한다.
더욱이, 여기에는, 기재에 대한 양호한 접착과 같은 아크 증발 증착된 층으로부터의 일반적인 이점들을 가지는 것 이외에, 낮은 점결함 밀도와 같은 낮은 레벨의 격자 결함들을 추가로 가지는 아크 증발 증착된 (Ti,Si)N 층에 대한 필요성이 존재한다.
정의
용어 "듀티 사이클" 은, 바이어스 전압이 완전 펄스 기간 ("온-타임" + "오프-타임") 동안 "온", 즉 활성인 시간의 백분율을 의미한다.
용어 "펄스형 바이어스 주파수" 는 초당 완전 펄스 기간의 수를 의미한다.
용어 "FWHM" 는 "Full Width at Half Maximum" 을 의미하고, 이는 그의 피크 강도 절반에서 X-선 회절 피크의 폭 (각도 (2세타)) 이다.
용어 "FWQM" 는 "Full Width at Quarter Maximum" 을 의미하고, 이는 그의 피크 강도 1/4 에서 X-선 회절 피크의 폭 (각도 (2세타)) 이다.
놀랍게도, Si 함량이 더 높으면서 여전히 고용체 내에 잔류하고, 따라서 나노결정 상태 (nanocrystalline state) 에 진입하지 않는 (Ti,Si)N PVD 층들이 제공될 수 있다는 것이 발견되었다.
본 발명은 기재 및 코팅을 포함하는 코팅된 절삭 공구에 관한 것으로, 코팅은 PVD 층 (A) 을 포함하고, 상기 PVD 층 (A) 은 화학식 Ti1-xSixCaNbOc 의 화합물이고, 0.10 < x ≤ 0.30, 0 ≤ a ≤ 0.75, 0.25 ≤ b ≤ 1, 0 ≤ c ≤ 0.2, a+b+c = 1 이고, PVD 층 (A) 은 NaCl 구조 고용체이다.
화학식 Ti1-xSixCaNbOc 에서, 적합하게는, 0.11 ≤ x ≤ 0.27, 또는 0.12 ≤ x ≤ 0.25, 또는 0.13 ≤ x ≤ 0.24, 또는 0.14 ≤ x ≤ 0.23, 또는 0.15 ≤ x ≤ 0.22, 또는 0.16 ≤ x ≤ 0.22, 또는 0.17 ≤ x ≤ 0.22 이다.
화학식 Ti1-xSixCaNbOc 에서, 적합하게는, 0 ≤ a ≤ 0.5, 0.5 ≤ b ≤ 1, 0 ≤ c ≤ 0.1, 또는 0 ≤ a ≤ 0.25, 0.75 ≤ b ≤ 1, 0 ≤ c ≤ 0.05, 또는 0 ≤ a ≤ 0.1, 0.9 ≤ b ≤ 1, 0 ≤ c ≤ 0.02, 또는 a = 0, b = 1, c = 0, a+b+c = 1 이다.
PVD 층 (A) 의 NaCl 구조 고용체의 존재는 예를 들어 TEM (Transmission Electron Microscopy) 분석에 의해 검출될 수 있다.
본 발명은 또한 기재 상에 코팅을 제조하는 방법에 관한 것으로, 코팅은 음극 아크 증발에 의해 증착되는 PVD 층 (A) 을 포함하고, PVD 층 (A) 은 화학식 Ti1-xSixCaNbOc 의 화합물이고, 0.10 < x ≤ 0.30, 0 ≤ a ≤ 0.75, 0.25 ≤ b ≤ 1, 0 ≤ c ≤ 0.2, a+b+c = 1 이고, PVD 층 (A) 은 NaCl 구조 고용체이고, PVD 층 (A) 은 약 -40 ~ 약 -450 V 의 펄스형 바이어스 전압을 기재에 인가하고 약 12% 미만의 듀티 사이클 및 약 10 kHz 미만의 펄스형 바이어스 주파수를 이용함으로써 증착된다.
일 실시형태에서, 듀티 사이클은 약 11% 미만일 수 있다. 또한, 듀티 사이클은 약 1.5 ~ 약 10%, 또는 약 2 ~ 약 10% 일 수 있다.
일 실시형태에서, 듀티 사이클은 약 10% 미만일 수 있다. 또한, 듀티 사이클은 1.5 ~ 약 8%, 또는 약 2 ~ 약 6% 일 수 있다.
"오프-타임" 동안, 전위는 적절하게 플로팅 (floating) 된다.
펄스형 바이어스 주파수는 약 0.1 kHz 초과일 수 있거나, 약 0.1 ~ 약 8 kHz, 또는 약 1 ~ 약 6 kHz, 또는 약 1.5 ~ 약 5 kHz, 또는 약 1.75 ~ 약 4 kHz 일 수 있다.
펄스형 바이어스 전압은 약 -40 ~ 약 -450 V, 또는 약 -50 ~ 약 -450 V 일 수 있다.
사용되는 펄스형 바이어스 전압에 대한 가장 최적의 범위는 사용되는 특정 PVD 반응기에 따라 달라질 수도 있다.
일 실시형태에서, 펄스형 바이어스 전압은 약 -55 ~ 약 -400 V, 또는 약 -60 ~ 약 -350 V, 또는 약 -70 ~ 약 -325 V, 또는 약 -75 ~ 약 -300 V, 또는 약 -75 ~ 약 -250 V, 또는 약 -100 ~ 약 -200 V 일 수 있다.
다른 실시형태에서, 펄스형 바이어스 전압은 약 -45 ~ 약 -400 V, 또는 약 -50 ~ 약 -350 V, 또는 약 -50 ~ 약 -300 V 일 수 있다.
펄스형 바이어스 전압은 적합하게는 단극성이다.
PVD 층 (A) 은 적합하게는 400 ~ 700℃, 또는 400 ~ 600℃, 또는 450 ~ 550℃ 의 챔버 온도에서 증착된다.
PVD 층 (A) 은, 적합하게는, US 2013/0126347 A1 에서 개시된 바와 같이, 캐소드들 모두가 그들 주위에 배치된 링 형상의 애노드를 구비하는 캐소드 어셈블리들이 장착되고 또한 타겟 표면으로부터 나와서 애노드에 진입하는 필드 라인들을 갖는 자기장을 제공하는 시스템을 사용하는 PVD 진공 챔버에서 증착된다.
PVD 층 (A) 의 증착 동안 가스 압력은 약 0.5 ~ 약 15 Pa, 또는 약 0.5 ~ 약 10 Pa, 또는 약 1 ~ 약 5 Pa 일 수 있다.
기재는 초경 합금, 서멧, 세라믹, 입방정 질화붕소 및 고속도강의 그룹으로부터 선택될 수 있다.
기재는 적합하게는 절삭 공구로서 형상화된다.
절삭 공구는 금속 기계가공을 위한 절삭 공구 인서트, 드릴, 또는 솔리드 엔드 밀 (solid end mill) 일 수 있다.
본원에 개시된 PVD 층 (A) 의 추가의 가능한 특징들은 코팅된 절삭 공구에서 규정된 PVD 층 (A) 및 방법에서 규정된 PVD 층 (A) 모두에 관한 것이다.
PVD 층 (A) 의 X-선 회절 분석을 수행할 때에 매우 예리한 회절 피크들이 나타난다. 이는 높은 결정도를 의미한다. 또한, 이는 바람직한 (111) 면외 결정학적 배향을 적합하게 얻는다.
PVD 층 (A) 은 적합하게는 XRD 회절에서 입방정 (111) 피크에 대한 FWHM 값이 ≤ 0.4 도 (2세타), 또는 ≤ 0.35 도 (2세타), 또는 ≤ 0.3 또 (2세타), 또는 ≤ 0.25 도 (2세타), 또는 ≤ 0.2 도 (2세타), 또는 ≤ 0.18 도 (2세타) 이다.
PVD 층 (A) 은 적합하게는 XRD 회절에서 입방정 (111) 피크에 대한 FWQM (Full Width at Quarter Maximum) 가 ≤ 0.45 도 (2세타), 또는 ≤ 0.4 도 (2세타), 또는 ≤ 0.35 도 (2세타), 또는 ≤ 0.3 도 (2세타) 이다.
PVD 층 (A) 은 적합하게는 XRD 회절에서 입방정 (200) 피크에 대한 FWHM 값이 ≤ 0.5 도 (2세타), 또는 ≤ 0.45 도 (2세타), 또는 ≤ 0.4 도 (2세타), 또는 ≤ 0.35 도 (2세타) 이다.
PVD 층 (A) 은 적합하게는 X-선 회절에서 피크 높이 강도 I(111)/I(200) 의 비가 ≥ 0.3, 또는 ≥ 0.5, 또는 ≥ 0.7, 또는 ≥ 0.8, 또는 ≥ 0.9, 또는 ≥ 1, 또는 ≥ 1.5, 또는 ≥ 2, 또는 ≥ 3, 또는 ≥ 4 이다.
FWHM 및 FWQM 값들을 결정하기 위해 사용되는 (111) 피크뿐만 아니라, 본원에서 사용된 피크 높이 강도 I(111) 및 I(200) 는 Cu-Kα2 가 스트리핑된다.
PVD 층 (A) 은 적합하게는 잔류 응력이 > - 3 GPa, 또는 > -2 GPa, 또는 > -1 GPa, 또는 > -0.5 GPa, 또는 > 0 GPa 이다.
PVD 층 (A) 은 적합하게는 잔류 응력이 < 4 GPa, 또는 < 3 GPa, 또는 < 2 GPa, 또는 < 1.5 GPa, 또는 < 1 GPa 이다.
PVD 층 (A) 의 잔류 응력은 I.C. Noyan, J.B. Cohen, Residual Stress Measurement by Diffraction and Interpretation, Springer-Verlag, New York, 1987 (pp 117-130) 에 의해 개시된 바와 같은 충분히 공지된 sin2ψ 를 이용하는 X-선 회절 측정에 의해 평가된다. 또한 예를 들어 Nondestructive Methods, Elsevier, Amsterdam, 1997 에 의한 V Hauk, Structural and Residual Stress analysis 를 참조한다. 측정은 (200) 반사에 대한 CuKα-복사를 이용하여 수행된다. 측면 경사 기술 (ψ-기하학적 형상) 은 선택된 sin2ψ 범위 내에서 등거리의 6 개 ~ 11 개, 바람직하게는 8 개의 ψ-각도들로 사용되었다. 90°의 Φ-섹터 내에서 Φ-각도들의 등거리 분포가 바람직하다. 2 축 응력 상태를 확인하기 위하여, 샘플은 Φ = 0 및 90°에 대해 회전되어야 하고, ψ 에서 틸팅 (tilted) 되어야 한다. 전단 응력의 가능한 존재를 조사하는 것이 권장되고, 따라서 양자의 네거티브 및 포지티브 ψ-각도들이 측정되어야 한다. Euler 1/4-cradle 의 경우에, 이는 상이한 ψ-각도들에 대해 Φ = 180 및 270°에서 샘플을 측정함으로써 달성된다. 측정은 가능한 한 편평한 표면에서, 바람직하게는 절삭 공구 인서트의 플랭크 측에서 수행되어야 한다. 잔류 응력 값들의 계산을 위해, Possion's ratio, υ = 0.22 및 Young's modulus, E = 447 GPa 가 사용되어야 한다. 데이터는 Pseudo-Voigt-Fit 기능에 의해 바람직하게는 (200) 반사를 로케이팅하는 Bruker AXS 의 DIFFRACPlus Leptos v. 7.8 와 같은 상업적으로 이용가능한 소프트웨어를 사용하여 평가된다. 전체 응력 값은 얻어진 2 축 응력의 평균으로서 계산된다.
PVD 층 (A) 은 적합하게는 표면 상에 패시티드 결정립들을 포함한다. 패시티드는 본원에서 그레인 상에 편평한 면들이 있다는 것을 의미한다.
PVD 층 (A) 의 패시티드 결정립들은 적합하게는 PVD 층 (A) 의 표면적의 > 50%, 또는 > 75%, 또는 > 90% 를 차지한다.
PVD 층 (A) 의 두께는 약 0.5 ~ 약 20 ㎛, 또는 약 0.5 ~ 약 15 ㎛, 또는 약 0.5 ~ 약 10 ㎛, 또는 약 1 ~ 약 7 ㎛, 또는 약 2 ~ 약 5 ㎛ 이다.
PVD 층 (A) 은 적합하게는 아크 증발 증착된 층이다.
PVD 층 (A) 은 적합하게는 본 발명의 방법에 따라 증착된다.
일 실시형태에서, 코팅은 기재에 가장 가까운, 예컨대 TiN, CrN 또는 ZrN 의 최내측 결합층을 포함한다. 결합층의 두께는 약 0.1 ~ 약 1 ㎛, 또는 약 0.1 ~ 약 0.5 ㎛ 일 수 있다.
일 실시형태에서, 코팅은 기재에 가장 가까운, 예컨대 TiN, CrN 또는 ZrN 의 최내측 결합층을 포함한다. 결합층의 두께는 약 0.1 ~ 약 1 ㎛, 또는 약 0.1 ~ 약 0.5 ㎛ 일 수 있다. 최내측 결합층은 PVD 층 (A) 을 증착하는데 사용되는 상이한 프로세스 파라미터, 예를 들어 펄스형 바이어스 대신 DC 바이어스를 이용하여 증착될 수도 있고, 이러한 최내측 결합층은 실질적으로 PVD 층 (A) 과 동일한 원소 조성을 가질 수도 있다.
코팅된 절삭 공구의 기재는 초경 합금, 서멧, 세라믹, 입방정 질화붕소 및 고속도강의 그룹으로부터 선택될 수 있다.
코팅된 절삭 공구는 금속 기계가공을 위한 절삭 공구 인서트, 드릴, 또는 솔리드 엔드 밀일 수 있다.
도 1 은 샘플들 1 ~ 4 의 코팅들에 대한 결합된 X-선 회절도를 도시한다.
도 3 은 (111) 피크 주위에서 샘플 2 에 대한 X-선 회절도의 확대 부분을 도시한다.
도 4 는 (111) 피크 주위에서 샘플 3 에 대한 X-선 회절도의 확대 부분을 도시한다.
도 5 는 (111) 피크 주위에서 샘플 4 에 대한 X-선 회절도의 확대 부분을 도시한다.
실시예
실시예 1:
기하학적 형상 SNMA120804 의 소결된 초경 합금 절삭 공구 인서트 블랭크 상에 (Ti,Si)N 층이 증착되었다. 초경 합금의 조성은 10 wt% Co, 0.4 wt% Cr 및 잔부 WC 였다. 초경 합금 블랭크는 Advanced Plasma Optimizer 업그레이드를 갖는 Oerlikon Balzer INNOVA 시스템인 PVD 진공 챔버 내에서 코팅되었다. PVD 진공 챔버는 6 개의 캐소드 어셈블리들이 장착되어 있다. 어셈블리들은 각각 하나의 Ti-Si 합금 타켓으로 구성됐다. 캐소드 어셈블리들은 챔버 내에서 두 개의 레벨로 배치되었다. 캐소드들은 모두 (US 2013/0126347 A1 에 개시된 바와 같이) 주위에 배치된 링 형상의 애노드를 구비하고, 또한 타겟 표면으로부터 나와서 애노드에 진입하는 필드 라인들을 갖는 자기장을 제공하는 시스템을 구비한다 (US 2013/0126347 A1 참고).
챔버는 높은 진공 (10-2 Pa 미만) 으로 펌핑 다운되었고, 또한 챔버 내에 위치된 히터들에 의해 350 ~ 500 ℃, 이러한 특수한 경우에 500℃ 로 가열되었다. 그런 다음, 블랭크들은 Ar 플라즈마에서 30 분 동안 에칭되었다.
4 개의 상이한 증착들은 타켓들 내에서 Ti 대 Si 의 관계의 변화로 만들어졌다. 사용된 타겟들은 Ti0.90Si0.10, Ti0.85Si0.15, Ti0.80Si0.20, 및 Ti0.75Si0.25 였다.
챔버 압력 (반응 압력) 은 3.5 Pa 의 N2 가스로 설정되었고, (챔버 벽들에 대한) -300 V 의 단극성 펄스형 바이어스 전압은 블랭크 어셈블리에 인가되었다. 펄스형 바이어스 주파수는 1.9 kHz 였고, 듀티 사이클은 3.8% 였다 ("온-타임" 에서는 20 ㎲ 이고, "오프-타임" 에서는 500 ㎲ 임). 캐소드들은 120 분 동안 (각각) 150 A 의 전류에서 아크 방전 모드로 작동되었다. 약 3 ㎛ 의 두께를 가지는 층은 증착되었다.
증착된 PVD 층들의 실제 조성은 EDX (Energy Dispersive Spectroscopy) 를 사용하여 측정되었고, 각각 Ti0.91Si0.09N, Ti0.87Si0.13N, Ti0.82Si0.18N 및 Ti0.78Si0.22N 이였다.
X-선 회절 (XRD) 분석은, 통합된 평행 빔 Montel 미러를 갖는 IμS X-선 소스 (Cu-Kα, 50.0 kV, 1.0 mA) 및 2D 검출기 (VANTEC-500) 가 장착된 Bruker D8 Discover 회절계를 이용하여 코팅된 인서트의 플랭크 면에 대해 수행되었다. 코팅된 절삭 공구 인서트들은 샘플 홀더들 내에 탑재되어, 샘플들의 플랭크 면이 샘플 홀더의 기준면에 대해 평행했고 또한 플랭크 면이 적절한 높이에 있었다는 것을 보장하였다. 코팅된 절삭 공구로부터 회절 강도는 관련된 피크가 발생하는 2 θ 주위에서 측정되어서, 적어도 35°~ 50°가 포함된다. 배경 분리 및 Cu-Kα2 스트리핑을 포함하는 데이터 분석은 PANalytical's X'Pert HighScore Plus 소프트웨어를 이용하여 수행되었다. Pseudo-Voigt-Fit 기능은 피크 분석에 대해 사용되었다. 얻어진 피크 강도들에 대해 박막 보정이 적용되지 않았다. PVD 층에 속하지 않는 임의의 회절 피크, 예컨대 WC 와 같은 기재 반사와의 (111) 또는 (200) 피크의 가능한 피크 오버랩은 피크 강도 및 피크 폭을 결정할 때에 소프트웨어 (결합된 피크들의 디콘볼루션) 에 의해 보상되었다.
도 1 은 예리한 (111) 피크를 나타내는 코팅 샘플들 1 ~ 4 에 대한 결합된 X-선 회절 (Cu-Kα2 는 스트리핑되지 않음) 을 도시한다. PVD 층에서 Si 함량이 증가함에 따라 (111) 피크의 위치 변화는 또한 분명하게 나타난다. 이것은 NaCl 구조를 유지하면서 격자 파라미터가 변화하고, 즉 모든 샘플들에 대해 (Ti,Si)N 고용체가 있다는 증거이다. 도 2 ~ 도 4 는 (111) 피크 주위에서 샘플들 2 ~ 4 에 대한 회절 (Cu-Kα2 가 스트리핑됨) 의 확대 부분들을 도시한다.
샘플들에 대한 FWHM 및 FWQM 값들이 계산되었다.
결과들은 표 1 에 도시된다.
표 1 SEM 분석 및 XRD 분석으로부터의 결과들
Figure 112018072166522-pct00001
실시예 2:
새로운 세트의 (Ti,Si)N 코팅된 절삭 공구들은 실시예 1 에서와 동일한 조성 및 기하학적 형상 SNMA120804 이지만 약간 상이한 장비를 이용하여 소결된 초경 합금 절삭 공구 인서트 상에 (Ti,Si)N 을 증착시킴으로써 제공되었다.
실시예 1 에서와 동일한 조성 및 기하학적 형상 SNMA120804 의 소결된 초경 합금 절삭 공구 블랭크들이 제공되었다.
(Ti,Si)N 층은 실시예 1 에서와는 상이한 제조자의 진공 챔버에서 음극 아크 증발에 의해 증착되었다. 진공 챔버는 4 개의 아크 플랜지들로 구성되었다. 선택된 TiSi 조성의 타켓들은 서로 마주하는 모든 플랜지들에 탑재되었다. 모든 타켓들은 동일한 TiSi 조성을 갖는다. 코팅되지 않는 블랭크들은 PVD 챔버에서 3 중 회전을 겪는 핀들 상에 탑재되었다.
타겟들 내에서 Ti 대 Si 의 관계를 변화시키면서 증착이 형성된다. 사용된 타겟들은 Ti0.90Si0.10, Ti0.85Si0.15, 및 Ti0.80Si0.20 였다. 상이한 Si 함량을 갖는 세 개의 코팅들 (샘플들 5 ~ 7) 은 펄스형 바이어스를 이용하여 본원에서 주장되는 방법에 따라 제조되었다 (표 2 에서 사용된 프로세스 파라미터 참조).
첫째로, 가장 얇은 (약 0.1 ㎛) (Ti,Si)N 층은 DC 바이어스를 이용하여 증착되었다. 프로세스 파라미터들은 표 2 에 나타내어 진다.
표 2
Figure 112018072166522-pct00002
둘째로, (Ti,Si)N 의 메인 층은 펄스형 바이어스를 이용하여 증착된 샘플들 5 ~ 7 에 대한 것이었다. 프로세스 파라미터들은 표 3 에 나타내어 진다.
표 3
Figure 112018072166522-pct00003
최내측 DC 모드 증착과 펄스 모드에 의한 메인 층의 증착 사이의 중간 단계가 사용되었고, 이는 초기 DC 모드 증착을 계속하지만 4 Pa 에서 10 Pa 로 압력을 램핑 (ramping) 하고 또한 DC 모드를 메인 층에 대해 사용되는 펄스 모드로 램핑하는 것으로 구성된다. 램핑 시간은 10 분이었다.
최내측 (Ti,Si)N 층 (DC 증착 + 램핑됨) 의 층 두께는 약 0.1 ㎛ 였다.
메인 (Ti,Si)N 층의 층 두께는 각 샘플에 대해 약 2.5 ㎛ 였다.
그런 다음, 상이한 Si 함량을 갖는 세 개의 추가의 샘플들 8 ~ 10 이 전체 층에 대해 DC 바이어스를 갖는 프로세스를 이용하여 (Ti,Si)N 층을 플랭크들 상에 증착시킴으로써 제조되었다 (표 4 에서 사용된 프로세스 파라미터들 참조).
표 4
Figure 112018072166522-pct00004
(Ti,Si)N 의 층 두께는 각 샘플에 대해 약 2.5 ㎛ 였다.
X-선 회절 (XRD) 분석은 이전의 실시예들에서와 동일한 장비 및 절차를 이용하여 코팅된 인서트들의 플랭크 면에 대해 수행되었다.
샘플들의 (111) 피크 및 (200) 피크에 대한 FWHM 값들뿐만 아니라, I(111)/I(200) 의 비가 결정되었다.
결과들은 표 5 에 나타내어 진다.
표 5 XRD 분석으로부터 결과들
Figure 112018072166522-pct00005
* 타겟 조성에 기초함
일반적으로 샘플들 5 ~ 7 과 비교할 때 그리고 또한 Si 함량을 증가시킬 때 샘플들 8 ~ 10 에 대한 더 넓은 (200) 피크는 훨씬 더 많은 나노결정 미세구조를 나타낸다.

Claims (12)

  1. 기재 및 코팅을 포함하는 코팅된 절삭 공구로서,
    상기 코팅은 PVD 층 (A) 을 포함하고,
    상기 PVD 층 (A) 은 화학식 Ti1-xSixCaNbOc 의 화합물이고,
    0.10 < x ≤ 0.30, 0 ≤ a ≤ 0.75, 0.25 ≤ b ≤ 1, 0 ≤ c ≤ 0.2, a+b+c = 1 이고,
    상기 PVD 층 (A) 은 NaCl 구조 고용체이며,
    상기 PVD 층 (A) 은 X-선 회절에서 입방정 (111) 피크에 대한 FWHM 값이 0.35 도 (2 세타) 이하인, 코팅된 절삭 공구.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 화학식 Ti1-xSixCaNbOc 에서, 0.12 ≤ x ≤ 0.25 인, 코팅된 절삭 공구.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 PVD 층 (A) 은 X-선 회절에서 입방정 (111) 피크에 대한 FWHM 값이 0.25 도 (2세타) 이하인, 코팅된 절삭 공구.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 PVD 층 (A) 은 잔류 응력이 -3 GPa 초과인, 코팅된 절삭 공구.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 PVD 층 (A) 은 표면 상에 패시티드 (faceted) 결정립들을 포함하는, 코팅된 절삭 공구.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 PVD 층 (A) 의 두께는 0.5 ~ 20 ㎛ 인, 코팅된 절삭 공구.
  7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 PVD 층 (A) 은 아크 증발 증착된 층인, 코팅된 절삭 공구.
  8. 기재 상에 코팅을 제조하는 방법으로서,
    상기 코팅은 음극 아크 증발에 의해 증착된 PVD 층 (A) 을 포함하고,
    상기 PVD 층 (A) 은 화학식 Ti1-xSixCaNbOc 의 화합물이고,
    0.10 < x ≤ 0.30, 0 ≤ a ≤ 0.75, 0.25 ≤ b ≤ 1, 0 ≤ c ≤ 0.2, a+b+c = 1 이고,
    상기 PVD 층 (A) 은 NaCl 구조 고용체이며,
    상기 PVD 층 (A) 은 X-선 회절에서 입방정 (111) 피크에 대한 FWHM 값이 0.35 도 (2 세타) 이하이고,
    상기 PVD 층 (A) 은, -40 ~ -450 V 의 펄스형 바이어스 전압을 상기 기재에 인가함으로써 그리고 12 % 미만의 듀티 사이클 및 10 kHz 미만의 펄스형 바이어스 주파수를 이용함으로써 증착되는, 기재 상에 코팅을 제조하는 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 듀티 사이클은 2 ~ 10 % 인, 기재 상에 코팅을 제조하는 방법.
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 펄스형 바이어스 주파수는 0.1 ~ 8 kHz 인, 기재 상에 코팅을 제조하는 방법.
  11. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 펄스형 바이어스 전압은 -50 ~ -350 V 인, 기재 상에 코팅을 제조하는 방법.
  12. 삭제
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6858347B2 (ja) * 2017-07-28 2021-04-14 株式会社タンガロイ 被覆切削工具
EP3650584A1 (en) * 2018-11-08 2020-05-13 Walter Ag An industrial pvd method for producing a coated cutting tool
JP7268691B2 (ja) * 2021-01-27 2023-05-08 株式会社タンガロイ ドリル

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3480086B2 (ja) * 1994-10-21 2003-12-15 三菱マテリアル株式会社 硬質層被覆切削工具
JP2005271190A (ja) * 2003-12-05 2005-10-06 Sumitomo Electric Hardmetal Corp 表面被覆切削工具
US9997338B2 (en) * 2005-03-24 2018-06-12 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Method for operating a pulsed arc source
SE0500994L (sv) * 2005-04-29 2006-10-30 Seco Tools Ab Tunt slitstarkt skikt
SE529223C2 (sv) * 2005-05-06 2007-06-05 Seco Tools Ab Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas
SE529161C2 (sv) 2005-06-22 2007-05-22 Seco Tools Ab Skärverktyg med kompositbeläggning för finbearbetning av härdade stål
WO2008037556A2 (en) * 2006-09-26 2008-04-03 Oerlikon Trading Ag, Truebbach Workpiece with hard coating
CA2665044C (en) * 2006-10-10 2016-08-23 Oerlikon Trading Ag, Truebbach Layer system with at least one mixed crystal layer of a polyoxide
WO2008130316A1 (en) * 2007-04-18 2008-10-30 Sandvik Intellectual Property Ab A coated cutting tool and a method of making thereof
US8129040B2 (en) * 2007-05-16 2012-03-06 Oerlikon Trading Ag, Truebbach Cutting tool
SE531704C2 (sv) * 2007-07-13 2009-07-14 Seco Tools Ab Finkornig hårdmetall för svarvning av varmhållfasta superlegeringar (HRSA)
EP2098611B1 (en) * 2008-03-07 2013-02-13 Seco Tools AB Layered coated cutting tool
EP2262924B1 (en) * 2008-03-07 2014-12-03 Seco Tools AB Thermally stabilized (ti, si)n layer for cutting tool insert
JP2009220239A (ja) * 2008-03-18 2009-10-01 Mitsubishi Materials Corp 硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具
JP4388582B2 (ja) * 2008-06-09 2009-12-24 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜層及びその形成方法
JP5654562B2 (ja) * 2009-04-03 2015-01-14 サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ 高温を生じる金属切削用途のためのコーティングされた切削工具
SE533884C2 (sv) * 2009-06-01 2011-02-22 Seco Tools Ab Nanolaminerat belagt skärverktyg
US8911867B2 (en) * 2009-06-18 2014-12-16 Oerlikon Metaplas Gmbh Protective coating, a coated member having a protective coating as well as method for producing a protective coating
JP2012001383A (ja) * 2010-06-16 2012-01-05 Ngk Spark Plug Co Ltd セラミックス焼結体および切削インサート
US10253407B2 (en) * 2010-06-22 2019-04-09 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Arc deposition source having a defined electric field
US9416440B2 (en) * 2011-09-30 2016-08-16 Cemecon Ag Coating of substrates using HIPIMS
EP2634285A1 (en) * 2012-02-29 2013-09-04 Sandvik Intellectual Property AB Coated cutting tool
EP2636764B1 (en) * 2012-03-07 2014-07-09 Seco Tools Ab Nanolaminated coated cutting tool
WO2014101517A1 (zh) * 2012-12-26 2014-07-03 Wu Shanghua 一种采用物理气相沉积工艺在氮化硅切削刀具表面制备Al2O3涂层及其复合涂层的方法
CN103586520B (zh) * 2013-10-17 2016-01-27 厦门金鹭特种合金有限公司 一种涂层切削刀具及其制作方法
CN108368618B (zh) * 2015-12-22 2020-12-11 山特维克知识产权股份有限公司 制造pvd层的方法和涂覆的切削工具

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Publication number Publication date
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KR20180089533A (ko) 2018-08-08
RU2018126628A (ru) 2020-01-23
US11440102B2 (en) 2022-09-13
CN108368601A (zh) 2018-08-03
JP6960406B2 (ja) 2021-11-05

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