KR102373923B1 - 실리콘 엘라스토머 몰드의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 성형품의 제조에 사용될 수 있는 실리콘 엘라스토머로 이루어지는 네거티브 몰드의 제조를 위한 실리콘 조성물의 용도에 관한 것이다.

Description

실리콘 엘라스토머 몰드의 제조 방법
본 발명의 분야는 성형품의 제조에 사용하기 위한 실리콘 엘라스토머로부터 형성된 네거티브 몰드의 제조를 위한 실리콘 화합물의 용도에 관한 것이다.
실리콘 엘라스토머로부터 제조된 몰드의 제조에 사용될 수 있는 이성분 오르가노폴리실록산 조성물은 산업 시장 및 화학 문헌 (FR 1 418 114 및 JP 50066553) 에서 이미 제안되었다. 이들 조성물은 저점도의 디하이드록시디오르가노폴리실록산 오일 (FR 2 272 145 및 FR 2 300 114) 과 같은 다양한 첨가제 (이들을 처리하거나 엘라스토머로 변환하는 것을 용이하게 함) 를 포함할 수 있다.
특허 출원 EP 586 153 은 이러한 조성물에 일상적으로 사용되는 성분 이외에, 강화 공-충전제, 예컨대 CaO 및 SiO2 또는 실제로 CaSiO3 기반 침상 충전제; 및 세라믹 기반 구형 충전제, 특히 실리카-알루미나 세라믹을 포함하는 경화성 실리콘 조성물에 관한 것이다.
다른 접근법은 문헌 EP 787 766 에 기재되어 있다. 이 문헌은 입체 장애 페놀, 입체 장애 티오 비스페놀, 아연 디알킬 디티오포스페이트, 아연 디아릴 디티오포스페이트, 방향족 아민, 입체 장애 아민으로 구성되는 군으로부터 선택되는 첨가제, 또는 실제로 이들 화합물을 기반으로 하는 제제를 추가로 포함하는, 몰드를 제조하기 위해 축합에 의해 주위 온도에서 경화될 수 있는 실리콘 조성물을 기재하고 있다.
특허 출원 WO 03/074602 는 중축합에 의해 경화될 수 있는 실리콘 조성물에서 전처리된 실리카의 상기 조성물로부터 수득된 몰드에 대한 안정화제로서의 용도를 기재하고 있다.
특허 출원 WO 06/106238 은 실리콘 엘라스토머로 구성된 몰드의 안정화 방법을 교시하고 있다.
이러한 유형의 적용으로 공지된 엘라스토머를 제조하기 위해 경화될 수 있는 실리콘 조성물 중에서, 주위 온도로부터 경화되는 조성물은 에너지 소모 오븐에 배치될 필요가 없기 때문에 주의를 끄는 카테고리를 형성한다.
이들 실리콘 조성물은 2 개의 개별 그룹으로 분류된다: 단일성분 조성물 (RTV-1) 및 이성분 조성물 (RTV-2). "RTV" 라는 용어는 "실내 온도 가황" 의 약어이다.
경화 동안, 물 (RTV-1 의 경우 대기로부터 수분을 통해 공급되거나 RTV-2 의 경우 조성물의 일부로 도입됨) 은 중축합 반응이 일어나도록 하여 엘라스토머성 네트워크를 형성한다.
일반적으로, 단일성분 조성물 (RTV-1) 은 이들이 공기의 수분에 노출될 때 경화된다. 통상적으로, 중축합 반응 속도는 매우 느리다: 따라서 이러한 반응은 적절한 촉매에 의해 촉매된다.
이성분 조성물 (RTV-2) 과 관련하여, 이들은 두 성분, 기본 중합체 물질을 함유하는 제 1 성분 및 촉매를 함유하는 제 2 성분의 형태로 판매 및 저장된다. 두 성분은 사용하기 위해 혼합되고 혼합물은 비교적으로 경질인 엘라스토머 형태로 경화된다. 이들 이성분 조성물은 익히 공지되어 있고 특히 Walter Noll, "Chemistry and Technology of Silicones" 1968, 2nd edition, pages 395 내지 398 에 기재되어 있다.
이들 조성물은 본질적으로 4 가지 상이한 성분을 포함한다:
- 반응성 α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 중합체,
- 경화제, 일반적으로 실리케이트 또는 폴리실리케이트,
- 촉매, 및
- 물.
이러한 조성물의 기계적 특성은 충전제를 첨가함으로써 조정된다.
통상적으로, 축합 촉매는 유기 주석 화합물을 기반으로 한다. 실제로, 많은 주석-기반 촉매는 이러한 RTV-1 또는 RTV-2 를 경화시키기 위한 촉매로서 이미 제안되었다. 통상적인 중축합 촉매는 디알킬주석 화합물, 특히 디알킬주석 디카르복실레이트, 예컨대 디부틸주석 디라우레이트 및 디아세테이트, 알킬 티타네이트 화합물, 예컨대 테트라부틸 또는 테트라이소프로필 티타네이트, 및 티타늄 킬레이트를 포함한다 (EP-A-0 885 933, US-5 519 104, US-A-4 515 932, US-A-4 563 498, US-A-4 528 353).
그러나, 알킬주석-기반 촉매는 매우 효율적이고, 통상적으로 무색 액체이고 실리콘 오일에 가용성이지만, 독성 (복제에 대하여 독성 CMR2) 이라는 단점이 있다.
또한, 3D 프린팅의 발전과 함께 급속도로 발전하는 성형 산업에 직면하여, 연속적인 성형/탈형 사이클의 증가와 관련하여 새로운 제약이 나타나고 있다.
지속 가능한 개발을 위해, 주석의 부재 하에 중축합에 의해 경화되는 실리콘 조성물로부터 출발하여 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드의 제조 방법을 개선하면서, 상기 몰드가 수득될 때 수행되는 연속적인 성형/탈형 사이클에 대한 내성을 개선하는 것에 대한 지속적인 요구가 있다. 실리콘 조성물은 또한 적합한 경화 속도 및 양호한 저장 안정성을 가져야 한다. 바람직하게는, 복제될 마스터에 적용되는 이형제가 없는 경우, 실리콘으로부터 제조된 네거티브 몰드는 상기 마스터에 부착되지 않아야 한다.
따라서, 본 발명의 주요 목적 중 하나는 실리콘 엘라스토머가 예를 들어, 주석과 같은 금속 촉매를 함유하지 않고 산업적 생산 속도를 보장하기에 충분한 경화 속도로 물 (예를 들어 주위 수분) 의 존재하에 중축합 반응에 의해 경화되는 실리콘 조성물로부터 제조되는 성형품의 제조에 사용될 수 있는 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드의 제조를 위한 신규한 방법을 제안하는 것이다.
추가의 목적은 연속 성형/탈형 사이클에 대해 양호한 내성을 갖고 주석을 함유하지 않는 실리콘 조성물로부터 제조된 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드로부터 출발하여 성형품을 형성하는 신규한 방법을 제안하는 것이다.
추가의 목적은 수분의 존재하에 빠른 표면 응고 속도, 이어서 완전한 코어 응고, 즉 균질한 응고에 의해, 한편으로 복제될 마스터 그리고 다른 한편으로 성형품에 부착되지 않는 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드를 제조하기 위한 방식으로 실리콘 엘라스토머를 형성하기 위한, 주석 및 경화를 함유하지 않으므로 연속 성형/탈형 사이클에 대한 양호한 내성을 갖고 상이한 재료로부터의 성형품의 제조에 사용될 수 있는 실리콘 조성물을 제안하는 것이다.
본 발명은 또한 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리에틸렌, 폴리비닐 클로라이드, 폴리우레탄, 폴리우레탄 폼, 플라스터, 콘크리트, 왁스 및 비누와 같은 상이한 복제 재료로부터 제조된 성형품의 제조에 사용하기 위해 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드에 관한 것이다. 이 목록은 제한되지 않는다.
수득된 상이한 복제 재료로부터 성형된 부품은 대시보드, 팔걸이, 가구 또는 예술품과 같은 실용적이거나 장식적인 목적을 갖는 광범위한 물품을 나타낸다.
이들 목적은 특히 본 발명에 의해 달성되며, 이는 하기 단계 a) 내지 d) 를 포함하는 것을 특징으로 하는, 상이한 복제 재료로부터 제조된 성형품의 제조에 사용하기 위해 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 을 제조하는 방법에 관한 것이다:
a) 하기를 포함하고 금속 촉매를 함유하지 않는 중축합 반응에 의해 엘라스토머를 생성하도록 경화될 수 있는 폴리오르가노실록산 조성물 X 를 제조하는 단계:
- 중축합 반응에 의해 경화될 수 있는 적어도 하나의 폴리오르가노실록산 오일 A 를 포함하는 실리콘 베이스 B, 및
- 하기 일반식 (I) 을 갖는 유기 화합물인 적어도 하나의 중축합 촉매 C 의 촉매적 유효량:
(R")2NH
식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 기호 R" 는 1 내지 30 개의 탄소 원자를 함유하는 지방족 탄화수소 라디칼을 나타냄,
b) 상기 폴리오르가노실록산 X 를 임의로 이미 이형제로 덮여있는 복제될 마스터에 적용하는 단계,
c) 복제될 마스터의 외부 윤곽에 해당하는 임프레션인 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 를 형성하기 위해, 상기 폴리오르가노실록산 조성물 X 를 주위 공기에 의해 또는 물의 사전 첨가에 의해 공급된 수분의 존재하에 경화시키는 단계, 및
d) 복제될 마스터로부터 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 을 분리하는 단계.
본 발명에 따른 방법과 관련된 하나의 이점은 예를 들어 폴리우레탄 복제품을 탈형할 때, 네거티브 몰드 MN 에서 성형된 물품을 성형/탈형하는 사이클의 수가 바람직하게는 37 초과라는 것이다.
실리콘 엘라스토머에서의 성형 기술은 "마스터" 라 불리는 "포지티브" 모델로부터 "네거티브" 몰드, 즉 임프레션을 생성하는 것으로 이루어진다. 이에 의해 생성된 실리콘 엘라스토머 몰드는 크기 또는 언더컷에 대한 제한 없이 마스터로부터 많은 "복사본" 또는 "프린트" 또는 "복제품" 을 생성하는데 사용될 수 있다.
다양한 성형 기술이 당업자에게 공지되어 있다. 언급될 수 있는 성형 기술의 예는 다음과 같다:
- 액체 상태의 RTV-2 의 두 파트를 혼합한 후 밀봉된 카운터-몰드 내부의 초기 마스터 상에 조성물을 간단히 캐스팅하여 하나 이상의 파트으로부터 제조된 자가-지지 몰드의 제조를 위한 "블록 성형". 이 방법은 주요 언더컷이 없는 비교적 단순한 모양에 대하여 바람직하다;
- "1 또는 2-파트 쉘 성형", 및
- 일반적으로 큰 치수를 갖는 마스터 또는 마스터를 이동시킬 수 없는 경우, 경사, 수직 또는 돌출된 마스터의 임프레션을 취하는데 바람직한 "스탬핑 성형".
본 출원에서 본 발명에 따른 조성물을 사용하는 경우, 스패츌러, 브러시 또는 분무에 의한 적용을 위한 기술 또는 캐스팅 기술이 유용하다.
제조된 몰드는 마스터의 세부 사항을 정확하고 상세하게 복제하는 특별한 특징을 갖는다; 또한, 실리콘 고무의 비-점착성 특성으로 인해 이들은 탈형 속도를 개선할 수 있다.
그러나, 이형제는 성형 전에 복제될 품목에 적용될 수 있다. 이들 이형제는 당업자에게 잘 알려져 있다. 비-제한적인 예로서, 비누 수용액 또는 왁스 현탁액을 사용할 수 있다.
추가의 양태에서, 본 발명은 본 발명에 따른 단계 a) 내지 d) 를 포함하고, 하기 단계 e) 내지 h) 가 이어지는 것을 특징으로 하는 복제품 R 의 성형 방법에 관한 것이다:
e) 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 을 복제 재료로 충전하는 단계,
f) 복제될 마스터의 복제품 R 을 제조하기 위해, 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 내부에서 복제 재료를 경화시키는 단계,
g) 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 로부터 복제품 R 을 분리하는 단계, 및
h) 임의로, 새로운 복제품 R 을 형성하기 위해 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 을 단계 e) 내지 g) 에 다시 적용하는 단계.
본 발명에 따른 방법과 관련된 이점은 예를 들어 폴리우레탄 복제품을 탈형할 때 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 으로 수행될 수 있는 사이클 e) 내지 g) 의 수가 37 초과라는 것이다.
폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리에틸렌, 폴리비닐 클로라이드, 폴리우레탄, 폴리우레탄 폼, 플라스터, 콘크리트, 왁스 및 비누와 같은 다양한 복제 재료가 당업자에게 공지되어 있다. 이 목록은 제한되지 않는다. 성형 전에, 이들 복제 재료는 상이한 형태, 즉 다소 점성인 액체, 단일 또는 다수의 성분을 갖는 분산액, 현탁액이다.
보다 정확하게는, 본 발명은 하기를 포함하는 중축합 반응에 의해 주위 온도로부터 실리콘 엘라스토머를 형성하도록 가황될 수 있는 오르가노폴리실록산 조성물에 관한 것이다:
(a) 하기를 포함하는 중축합 반응에 의해 촉매의 존재하에 실리콘 엘라스토머로 경화될 수 있는 실리콘 베이스:
- 적어도 하나의 α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 A 100 중량부에 대하여,
- 0.1 내지 60 중량부의 적어도 하나의 경화제 AR, 및
- 0.001 내지 10 중량부의 물, 및
(b) 촉매적 유효량의 중축합 촉매 C.
본 발명에 따른 실리콘 베이스에 사용될 수 있는 반응성 α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 중합체 A 는 보다 특히 하기 식 (1) 을 갖는 것들이다:
Figure 112020009020041-pct00001
식 중:
- 동일하거나 상이할 수 있는 치환기 R1 은 각각 포화되거나 포화되지 않을 수 있고, 치환되거나 치환되지 않을 수 있는, 지방족, 시클릭 또는 방향족 1가 C1 내지 C13 탄화수소를 나타내고, 바람직하게는 R1 은 메틸이고;
- n 은 25℃ 에서 10 내지 1000000 mPa.s 의 동적 점도를 갖는 식 (1) 의 폴리오르가노실록산을 제공하기에 충분한 값을 갖는다.
본 발명의 맥락에서, 규소 원자에 결합된 치환기의 성질 및/또는 점도의 값이 상이한 복수의 하이드록실화 폴리오르가노실록산으로 구성된 혼합물이 반응성 폴리오르가노실록산 A 로서 사용될 수 있음을 이해해야 한다. 또한, 식 (1) 의 하이드록실화 폴리오르가노실록산은 임의로 식 R1SiO3 / 2 의 모티프 T 및/또는 식 SiO4 / 2 의 모티프 Q 를 최대 1% 의 비율로 포함할 수 있다는 것이 지적되어야 한다 (이들 % 는 100 개의 규소 원자 당 T 및/또는 Q 모티프의 개수를 나타냄).
25℃ 에서 10 내지 1000000 mPa.s, 바람직하게는 50 내지 200000 mPa.s 의 동적 점도를 갖는 반응성 선형 하이드록실화 디오르가노폴리실록산 중합체 A 가 사용된다.
이러한 기본 폴리오르가노실록산은 실리콘 제조업체가 판매하는 대부분의 제품이다. 또한, 이들의 제조 기술은 잘 알려져 있다: 예를 들어, 프랑스 특허 FR-A-1 134 005, FR-A-1 198 749, 및 FR-A-1 226 745 에 기재되어 있다.
본 명세서에서 해당 점도 모두는 "뉴턴(Newtonian)" 으로 알려진 25℃ 에서의 동적 점도 파라미터, 즉 그 자체에서 알려진 방식으로 브룩필드 점도계를 사용하여 속도 구배와 무관하게 측정된 점도에 대하여 충분히 낮은 전단 속도 구배에서 측정되는 동적 점도에 상응한다.
반응성 폴리오르가노실록산 (A) 에 대해 상기 언급된 치환기 R1 은 하기 라디칼로부터 선택될 수 있다:
- 1 내지 13 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬 및 할로알킬 라디칼, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 2-에틸헥실, 옥틸, 데실, 3,3,3-트리플루오로프로필, 4,4,4-트리플루오로부틸, 4,4,4,3,3-펜타플루오로부틸 라디칼,
- 5 내지 13 개의 탄소 원자를 함유하는 시클로알킬 및 할로시클로알킬 라디칼, 예컨대 시클로펜틸, 시클로헥실, 메틸시클로헥실, 프로필시클로헥실 라디칼, 2,3-디플루오로시클로부틸, 3,4-디플루오로-5-메틸시클로헵틸,
- 2 내지 8 개의 탄소 원자를 함유하는 알케닐 라디칼, 예컨대 비닐, 알릴, 부텐-2-일 라디칼,
- 6 내지 13 개의 탄소 원자를 함유하는 단핵 아릴 및 할로아릴 라디칼, 예컨대 페닐, 톨릴, 자일릴, 클로로페닐, 디클로로페닐, 트리클로로페닐 라디칼, 및
- 알킬 결합이 2 내지 3 개의 탄소 원자를 함유하는 시아노알킬 라디칼, 예컨대 β-시아노에틸 및 γ-시아노프로필 라디칼.
언급될 수 있는 라디칼 R1 의 예는 1 내지 8 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬 라디칼, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 헥실 및 옥틸, 비닐 라디칼, 및 페닐 라디칼이다.
언급될 수 있는 치환된 라디칼 R1 의 예는 3,3,3-트리플루오로프로필, 클로로페닐 및 베타시아노에틸 라디칼이다.
일반 산업 용도의 식 (1) 의 생성물에서, 적어도 60% 의 라디칼 R1 은 메틸 라디칼이고, 나머지 라디칼은 일반적으로 페닐 및/또는 비닐 라디칼이다.
하기 경화제 AR 이 언급될 수 있다:
- 하기 일반식 (2) 의 실란:
R2 kSi(OR3)(4-k)
(2)
식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 기호 R3 은 1 내지 8 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬 라디칼, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 2-에틸헥실 라디칼, C3-C6 옥시알킬렌 라디칼을 나타내고, 기호 R2 는 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형 지방족 탄화수소 기, 포화 또는 불포화 및/또는 방향족, 모노시클릭 또는 폴리시클릭 카르보시클릭 기를 나타내고, k 는 내지 0 또는 1 임;
- 식 (2) 의 실란의 부분 가수 분해 및 축합 생성물.
언급될 수 있는 C3-C6 옥시알킬렌 라디칼의 예는 하기 라디칼이다:
CH3OCH2CH2-
CH3OCH2CH(CH3)-
CH3OCH(CH3)CH2-
C2H5OCH2CH2CH2-
유리하게는, 기호 R2 는 하기를 포함하는 C1-C10 탄화수소 라디칼을 나타낸다:
- C1-C10 알킬 라디칼, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 2-에틸헥실, 옥틸, 데실 라디칼,
- 비닐, 알릴 라디칼, 및
- C5-C8 시클로알킬 라디칼, 예컨대 페닐, 톨릴 및 자일릴 라디칼.
(2) 의 경화제 AR 은 실리콘 시장에서 입수할 수 있는 제품이고; 또한, 주위 온도-경화 조성물에서의 이들의 사용은 공지되어 있으며; 이들은 특히 프랑스 특허 FR-A-1 126 411, FR-A-1 179 969, FR-A-1 189 216, FR-A-1 198 749, FR-A-1 248 826, FR-A-1 314 649, FR-A-1 423 477, FR-A-1 432 799 및 FR-A-2 067 636 에 언급되어 있다.
경화제 AR 중에서 보다 특히 바람직한 것은 알킬트리알콕시실란, 알킬 실리케이트 및 알킬 폴리실리케이트이며, 유기 라디칼은 1 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬 라디칼이다.
알킬 실리케이트는 메틸 실리케이트, 에틸 실리케이트, 이소프로필 실리케이트, n-프로필 실리케이트 및 이들 실리케이트의 부분 가수 분해 및 축합 생성물로부터 선택된 폴리실리케이트로부터 선택될 수 있으며; 이들은 하기 식을 갖는 많은 비율의 모티브로 구성된 중합체이다:
(R4O)3SiO1 /2, R4OSiO3 /2, (R4O)2SiO2 /2 및 SiO4 /2;
기호 R4 는 메틸, 에틸, 이소프로필 및/또는 n-프로필 라디칼을 나타낸다. 이들은 통상적으로 샘플의 가수 분해 생성물을 분석함으로써 확립되는 규소 함량을 기반으로 특징 분석된다.
사용될 수 있고 특히 언급될 수 있는 경화제 AR 의 다른 예는 하기 실란이다:
CH3Si(OCH3)3; C2H5Si(OC2H5)3; C2H5Si(OCH3)3
CH2=CHSi(OCH3)3; CH2=CHSi(OCH2CH2OCH3)3
C6H5Si(OCH3)3; [CH3][OCH(CH3)CH2OCH3]Si[OCH3]2
Si(OCH3)4; Si(OC2H5)4; Si(OCH2CH2CH3)4; Si(OCH2CH2CH2CH3)4
Si(OC2H4OCH3)4; CH3Si(OC2H4OCH3)3; ClCH2Si(OC2H5)3.
언급될 수 있는 경화제 AR 의 다른 예는 에틸 폴리실리케이트 또는 n-프로필 폴리실리케이트이다.
일반적으로, 식 (1) 의 반응성 중합체 100 중량부 당 식 (2) 의 경화제 0.1 내지 6 중량부가 사용된다.
촉매 C 로서 하기 일반식 (I) 의 2차 아민 계열로부터의 유기 화합물이 언급될 수 있다:
(R")2NH
식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 기호 R" 는 1 내지 30 개의 탄소 원자, 바람직하게는 4 내지 12 개의 탄소 원자, 보다 바람직하게는 6 내지 10 개의 탄소 원자를 함유하는 지방족 탄화수소 라디칼을 나타낸다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 방법의 단계 a) 동안, 중축합 촉매 C 는 일반식 (I) 을 갖는다:
(R")2NH
식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 기호 R" 는 6 내지 10 개의 탄소 원자, 바람직하게는 8 내지 10 개의 탄소 원자를 함유하는 지방족 탄화수소 라디칼을 나타낸다.
방금 설명한 촉매 C 는 이성분 화합물의 형태로 중축합 반응에 의해 경화될 수 있는 폴리오르가노실록산 베이스의 주위 온도로부터 실리콘 엘라스토머로의 경화를 가능하게 하거나 촉진하는데 사용되며, 촉매 시스템은 경화제 AR 와 함께 분획 중 하나에 도입되는 반면, 다른 분획은 반응성 폴리오르가노실록산 A 및 물을 함유한다.
본 발명에서, 용어 "주위 온도" 는 10℃ 내지 40℃ 범위의 온도를 의미한다.
다른 양태에 따르면, 본 발명은 하기를 포함하고 금속 촉매를 함유하지 않는 중축합 반응에 의해 엘라스토머를 생성하도록 경화될 수 있는 폴리오르가노실록산 조성물 X 에 관한 것이다:
- 실리콘 엘라스토머를 형성하기 위한 방식으로 중축합 반응에 의해 경화될 수 있는 적어도 하나의 폴리오르가노실록산 오일 A 를 포함하는 실리콘 베이스 B, 및
- 하기 일반식 (I) 을 갖는 유기 화합물인 적어도 하나의 중축합 촉매 C 의 촉매적 유효량:
(R")2NH
식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 기호 R" 는 6 내지 10 개의 탄소 원자, 바람직하게는 8 내지 10 개의 탄소 원자를 함유하는 지방족 탄화수소 라디칼을 나타낸다.
본 발명에서, 용어 "유효량의 적어도 하나의 중축합 촉매 C" 는 0.01 내지 50 중량부의 범위의 양의 중축합 촉매 C 를 의미한다.
본 발명에 따른 실리콘 엘라스토머 몰드의 제조 동안 사용되는 실리콘 조성물에 사용된 촉매는 하기를 동시에 수득할 수 있음을 의미한다:
- 파트 P1 + 파트 P2 의 혼합물을 사용하기에 충분히 긴 가용 시간 (20 분 내지 200 분),
- "빠른" 경화 (최대 +2 의 후-경화 및 SAH 24h x 100/SAH 14 일 > 68 %),
- 본 발명에 따른 방법에 의해 수득된 실리콘 엘라스토머 몰드는, 예를 들어 폴리우레탄으로부터 제조된 상당한 수의 부품이 성형될 수 있음을 의미한다 (연속 성형/탈형 사이클 수 > 37),
그리고 이들 모두는 주석-기반 화합물의 부재 하에 수득됨.
촉매를 함유하는 부분이 균질해야 하고 (투명한 단일상), 본 발명에 따른 방법에 의해 수득된 실리콘 엘라스토머 몰드는 복제될 마스터에 적용되는 이형제의 부재 하에 마스터에 부착되지 않아야 한다는 보충 조건을 만족시키기 위해, 중축합 촉매 C 는 하기 일반식 (I) 을 충족한다:
(R")2NH
식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 기호 R" 는 6 내지 10 개의 탄소 원자를 함유하는 지방족 탄화수소 라디칼을 나타냄.
본 발명에 따른 조성물은 또한 바람직하게는 규산질 충전제로부터 선택되는 강화 또는 반-강화 충전제 또는 패킹 충전제 CH 를 추가로 포함할 수 있다.
강화 충전제는 바람직하게는 발연 실리카 및 침전 실리콘으로부터 선택된다. 이들은 일반적으로 BET 방법을 사용하여 측정된 비표면적이 적어도 50 ㎡/g, 바람직하게는 70 ㎡/g 초과이고, 평균 1차 입자 치수가 0.1 ㎛ (마이크로미터) 미만이고, 겉보기 밀도가 200 g/리터 미만이다.
이들 실리카는 그대로 또는 이 용도에 통상적으로 사용되는 유기규소 화합물로 처리된 후에 혼입될 수 있다. 이들 화합물은 메틸폴리실록산, 예컨대 헥사메틸디실록산, 옥타메틸디실록산, 옥타메틸시클로테트라실록산, 메틸폴리실라잔, 예컨대 헥사메틸디실라잔, 헥사메틸시클로트리실라잔, 클로로실란, 예컨대 디메틸클로로실란, 트리메틸클로로실란, 메틸비닐디클로로실란, 디메틸비닐클로로실란, 알콕시실란, 예컨대 디메틸디메톡시실란, 디메틸비닐에톡시실란 및 트리메틸메톡시실란을 포함한다.
이 처리 동안, 실리카의 초기 중량은 20% 까지 증가할 수 있다.
반-강화 충전제 또는 패킹 충전제는 0.1 ㎛ (마이크로미터) 초과의 입자 직경을 가지며 분쇄 쿼츠, 소성 점토 및 규조토에서 선택된다.
주요 성분 A, AR, CCH 이외에, 비-반응성 선형 폴리오르가노실록산 중합체 E 는 본 발명에 따른 조성물의 물리적 특성 및/또는 이들 조성물을 경화시켜 수득되는 엘라스토머의 기계적 특성에 작용하는 것을 목적으로 도입될 수 있다.
이들 비-반응성 선형 폴리오르가노실록산 중합체 E 는 익히 공지되어 있으며; 특히 이들은 하기를 포함한다: 25℃ 에서 적어도 10 mPa.s 의 점도를 갖고, 본질적으로 디오르가노실록시 모티프 및 최대 1% 의 모노오르가노실록시 및/또는 실록시 모티프에 의해 형성되고, 규소 원자에 결합된 라디칼은 메틸, 비닐 및 페닐 라디칼에서 선택되고, 이들 유기 라디칼 중 적어도 60% 는 메틸 라디칼이고 최대 10% 는 비닐 라디칼인, α,ω-비스(트리오르가노실록시)디오르가노폴리실록산. 이들 중합체의 점도는 25℃ 에서 수 천만 mPa.s 만큼 높을 수 있으며; 따라서, 이들은 유체 내지 점성 외관을 갖는 오일 및 연질 내지 경질 검을 포함한다. 이들은 프랑스 특허 FR-A-978 058, FR-A-1 025 150, FR-A-1 108 764, 및 FR-A-1 370 884 에 보다 정확하게 기재된 통상적인 기술에 따라 제조된다. 바람직하게는, 25℃ 에서 10 mPa.s 내지 1000 mPa.s 의 점도를 갖는 α,ω-비스(트리메틸실록시) 디메틸폴리실록산 오일이 사용된다. 이들 중합체는 가소제로서 작용하고 반응성 α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 중합체 A 100 부 당 최대 70 부, 바람직하게는 5 내지 20 부의 양으로 도입될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 유리하게는 적어도 하나의 실리콘 수지 G 를 포함할 수 있다. 이들 실리콘 수지는 널리 공지되어 있고 시판되는 분지형 오르가노폴리실록산 중합체이다. 분자 당, 이들은 식 R'''3SiO1 /2 (모티프 M), R'''2SiO2 /2 (모티프 D), R'''SiO3 /2 (모티프 T) 및 SiO4 /2 (모티프 Q) 을 갖는 것들로부터 선택되는 적어도 2 개의 상이한 모티프를 갖는다. 라디칼 R''' 은 동일하거나 상이하고 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 비닐, 페닐, 3,3,3-트리플루오로프로필 라디칼로부터 선택된다. 바람직하게는, 알킬 라디칼은 1 내지 6 개의 탄소 원자를 포함한다 (한계치 포함). 언급될 수 있는 보다 특정한 라디칼 R''' 은 메틸, 에틸, 이소프로필, 티오부틸 및 n-헥실 라디칼이다. 이들 수지는 바람직하게는 하이드록실화되고, 이 경우 하이드록시 기의 중량 함량은 5 내지 500 meq/100 g 이다.
언급될 수 있는 수지의 예는 MQ 수지, MDQ 수지, TD 수지 및 MDT 수지이다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 폴리오르가노실록산 조성물 X 는 하기를 포함한다:
(a) 하기를 포함하는 중죽합 반응에 의해 촉매의 존재 하에 실리콘 엘라스토머를 형성하기 위해 경화될 수 있는 실리콘 베이스 B:
- 적어도 하나의 반응성 α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 중합체 A (여기서, 유기 라디칼은 바람직하게는 1 내지 20 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬; 3 내지 8 개의 탄소 원자를 함유하는 시클로알킬; 2 내지 8 개의 탄소 원자를 함유하는 알케닐 및 5 내지 8 개의 탄소 원자를 함유하는 시클로알케닐로 구성된 군으로부터 선택되는 탄화수소 라디칼임) 100 중량부에 대하여;
- 0.1 내지 60 중량부의, 폴리알콕시실란, 폴리알콕시실란 및 폴리알콕시실록산의 부분 가수 분해로부터 유도된 생성물로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 경화제 AR;
- 0 내지 250 중량부, 바람직하게는 5 내지 200 중량부의, 적어도 하나의 충전제 CH;
- 0.001 내지 10 중량부의 물,
- 0 내지 100 중량부의, 분자 당, 동일하거나 상이할 수 있는 규소 원자에 결합된 1가 유기 치환기가 알킬, 시클로알킬, 알케닐, 아릴, 알킬아릴렌 및 아릴알킬렌 라디칼로부터 선택되는 선형 단독중합체 또는 공중합체로 이루어진 적어도 하나의 선형 비-반응성 폴리오르가노실록산 중합체 E,
- 0 내지 20 중량부의 착색 베이스 또는 착색제 F,
- 0 내지 70 중량부의 폴리오르가노실록산 수지 G, 및
- 0 내지 20 부의, 가소제, 경화 억제제, 미네랄 오일, 항균제, 내열 첨가제, 예컨대 티타늄, 철 또는 산화 세륨과 같은 당업자에게 공지된 보조 첨가제 H, 및
(b) 0.01 내지 50 중량부의 중축합 촉매 C.
본 발명에 따른 실리콘 조성물 X 를 사용하기 위해, 각각의 조성물은 중축 합-경화된 엘라스토머를 제조하기 위해 서로 접촉된 두 파트 P1 및 P2 에 의해 형성된 이성분 시스템의 형태로 제조된다.
다른 양태에 따르면, 본 발명은 하기를 특징으로 하는 중축합 반응에 의해 주위 온도로부터 실리콘 엘라스토머를 제조하기 위해 가황될 수 있는 폴리오르가노실록산 조성물 X 의 전구체인 이성분 시스템에 관한 것이다:
- 상기 조성물을 형성하기 위해 혼합되도록 의도된 2 개의 별개의 파트 P1 및 P2 를 갖고,
- 이들 파트 중 하나는 촉매 C 를 포함하고 다른 파트는 촉매 C 를 포함하지 않고 하기를 포함한다:
- 반응성 α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 중합체(들) A 100 중량부 당, 및
- 0.001 내지 10 중량부의 물.
바람직한 구체예에 따르면, 본 발명에 따른 중축합 반응에 의해 주위 온도로부터 실리콘 엘라스토머를 형성하기 위해 가황될 수 있는 폴리오르가노실록산 조성물 X 의 전구체 이성분 시스템은 하기를 특징으로 한다:
- 파트 P1 이:
- 반응성 α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 중합체 (A) (여기서, 유기 라디칼은 바람직하게는 1 내지 20 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬; 3 내지 8 개의 탄소 원자를 함유하는 시클로알킬; 2 내지 8 개의 탄소 원자를 함유하는 알케닐 및 5 내지 8 개의 탄소 원자를 함유하는 시클로알케닐로 구성된 군으로부터 선택되는 탄화수소 라디칼임) 100 중량부 당;
- 0.001 내지 10 중량부의 물,
- 0 내지 200 중량부, 바람직하게는 5 내지 150 부의 적어도 하나의 충전제 (CH);
- 분자 당, 동일하거나 상이할 수 있고 규소 원자에 결합된 1가 유기 치환기가 알킬, 시클로알킬, 알케닐, 아릴, 알킬아릴렌 및 아릴알킬렌 라디칼로부터 선택되는 선형 단독중합체 또는 공중합체로 이루어진 적어도 하나의 선형 비-반응성 폴리오르가노실록산 중합체 (E) 0 내지 150 중량부,
- 0 내지 70 중량부의 폴리오르가노실록산 수지 (G), 및
- 0 내지 20 중량부의 착색 베이스 또는 착색제 F 를 포함하고;
- 파트 P2 가:
- 0.1 내지 60 중량부의, 폴리알콕시실록산, 폴리알콕시실록산 및 폴리알콕시실록산의 부분 가수 분해로부터 유도된 생성물로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 경화제 AR;
- 0.01 내지 50 중량부의 중축합 촉매 C,
- 0 내지 20 중량부의 착색 베이스 또는 착색제 F,
- 분자 당, 동일하거나 상이할 수 있고 규소 원자에 결합된 1가 유기 치환기가 알킬, 시클로알킬, 알케닐, 아릴, 알킬아릴렌 및 아릴알킬렌 라디칼로부터 선택되는 선형 단독중합체 또는 공중합체로 이루어진 적어도 하나의 선형 비-반응성 폴리오르가노실록산 중합체 (E) 0 내지 70 중량부, 및
- 0 내지 125 중량부, 바람직하게는 0.1 내지 40 부의, 적어도 하나의 충전제 CH
를 포함한다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 방법의 단계 d) 의 끝에서 수득된 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 에 관한 것이다.
본 발명은 또한 성형품의 제조를 위한 본 발명에 따른 방법의 단계 d) 의 끝에서 수득된 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 다른 장점 및 특징은 순전히 비-제한적인 예시에 의해 주어진 다음 실시예로부터 명백해질 것이다.
실시예
1) 사용한 출발 물질
페이스트 제조: 트리메틸실릴 기 (약 30%) 로 처리된 A200 발연 실리카 (Evonik 제공 - 200 ㎡/g) (CH1), 47V500 실리콘 오일 (약 42%) (E1) 및 48V14000 실리콘 오일 (약 28%) (A1) 의 혼합물.
Sifraco ® E600 (Sibelco 제공) = 쿼츠 = 실리카 가루, 결정질 실리카, 분쇄 실리카 (CH2)
Bluesil ® FLD 48V14000 (α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 오일), 점도 14000 mPa.s - MW 약 48 kg/mol (A1)
Bluesil ® FLD 48V3500 (α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 오일), 점도 3500 mPa.s - MW 약 30 kg/mol (A2)
Bluesil ® FLD 48V750 (α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 오일), 점도 750 mPa.s - MW 약 15 kg/mol (A3)
Bluesil ® RP 120PA (α,ω-디하이드록시디오르가노폴리실록산 오일), 점도 45 mPa.s - MW 약 0.5 kg/mol (A4)
Bluesil ® FLD 47V50 (비-관능성 실리콘 오일) 점도 50 mPa.s, MW 약 3 - 4 kg/mol (E1)
Base Color 552 (Sioen 제공) = TiO2 기반 흰색 기본 색상 (F1)
실란 51005 - 고급 또는 부분 축합된 에틸 실리케이트 (SiOEt4), 테트라에틸 에스테르, 가수 분해됨 (AR1)
Dynasilan ® P (Evonik 제공) 또는 프로필 실리케이트 또는 테트라 n-프로필오르토실리케이트 또는 테트라프로필 오르토실리케이트 (AR2)
Mediaplast ® VP 5071/A (Kettlitz Chemie 제공) - 폴리알킬벤젠 및 고분자량 탄화수소 (25% 내지 50% 의 알킬벤젠 (C10-C13) 포함) 의 혼합물 (H1)
디메틸주석 네오데카노에이트 (Momentive 제공)
데실아민 CAS 2016-57-1 (Sigma-Aldrich 제공) (C1)
도데실아민 CAS 124-22-1 (Sigma-Aldrich 제공) (C2)
디부틸아민 CAS 111-92-2 (Sigma-Aldrich 제공) (C3)
디헥실아민 CAS 143-16-8 (Sigma-Aldrich 제공) (C4)
디옥틸아민 CAS 1120-48-5 (Sigma-Aldrich 제공) (C5)
디이소노닐아민 CAS 28454-70-8 (Sigma-Aldrich 제공) (C6)
디도데실아민 CAS 3007-31-6 (Sigma-Aldrich 제공) (C7)
디데실아민 CAS 1120-49-6 (Sigma-Aldrich 제공) (C8)
2) 본 발명에 따른 실시예 비교예의 제조:
모든 조성물에서, 언급된 백분율 (%) 은 제형의 모든 성분의 총 중량에 대한 중량으로 표시된다.
실리콘 엘라스토머로 가황될 수 있는 폴리오르가노실록산 조성물의 이성분 전구체는 파트 P1 및 파트 P2 로 구성되었다.
파트 P1 의 제조
파트 P1 의 여러 성분을 DAC400 스피드 믹서 유형 기구를 사용하거나 플라스틱 포트에서 프로펠러를 사용하여 혼합하였다.
Figure 112020009020041-pct00002
파트 P2 의 제조
파트 P2 의 여러 성분을 유리 플라스크에서 수동으로 혼합하였다.
Figure 112020009020041-pct00003
Figure 112020009020041-pct00004
혼합물 P1 + P2 의 제조
비교 이성분 시스템 (Ck 로 표시함, k 는 1 내지 3 임), 및 본 발명에 따른 이성분 시스템 (Ex.m 으로 표시함, m 은 1 내지 11 임) 에서 사용한 파트 P1 및 P2 는 표 4 에 상세히 기재되어 있다.
Figure 112020009020041-pct00005
파트 P1 및 파트 P2 를 3 분 동안 스패츌러로 혼합한 다음, 1800 rpm 에서 20 초 동안 스피드 믹서 (플래니터리 믹서) 로 혼합하였다. 이어서, 결함 (버블) 이 없도록 혼합물을 진공 탈기시켰다.
중량비는 100 부의 P1 대 5 부의 P2 였다.
실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드의 제조:
예비-혼합된 제형 (파트 P1 및 파트 P2 의 혼합물) 을 포트의 바닥에 배치된 복제될 마스터에 적용하여 네거티브 몰드를 제조하였다.
45 g 의 파트 P1 및 2.25 g 의 파트 P2 를 3 분 동안 스패츌러로 혼합한 다음 1800 rpm 에서 20 초 동안 스피드 믹서로 혼합하였다. 이어서, 혼합물을 진공 벨 자에서 5 분 동안 탈기시켜 네거티브 몰드에 결함 (버블, 스패츌러로 혼합하는 동안 혼입된 공기) 이 없도록 하였다.
복제될 마스터 (높이 8 mm, 폭 35 mm, 길이 35 mm 의 평행육면체 직사각형) 를 높이 27 mm 및 내부 직경 63 mm 인 플라스틱 포트 (에탄올로 탈지함) 의 바닥 중앙에 위치시켰다.
마스터 + 포트를 영점 조정하고 40 내지 42 g 의 제형 P1 + P2 를 마스터에 적용하였다.
혼합물 P1+P2 의 경화 후, 대조 네거티브 몰드 (MN Ck 로 표시함, k 는 1 내지 3 임), 및 본 발명에 따른 네거티브 몰드 (MN m 로 표시함, m 은 1 내지 11 임) 가 수득되었다. 혼합물을 23℃ 에서 24 시간 동안 경화시켰다. 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드를 복제될 마스터로부터 분리하였다.
Figure 112020009020041-pct00006
복제품의 제조:
실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드를 폴리우레탄 캐스팅 수지 (복제 재료) 로 먼저 충전하였다.
Axson 의 F190 Fastcast 폴리우레탄 수지를 높이 48 mm 및 내부 직경 51 mm 의 투명한 플라스틱 포트 (혼합물의 균질성을 관찰할 수 있도록) 에서 제조하였다. 폴리올 부분을 충전하고 경사 분리를 수행하였다; 따라서, 사용하기 전에 스패츌러로 혼합되었다 (용기의 바닥에서 침강하지 않고 균질한 색상 및 외관). 이 작업은 수동으로 쉽게 수행할 수 있었다.
12.5 g ± 0.1 g 의 폴리올 파트 (백색) 및 12.5 g ± 0.1 g 의 이소시아네이트 파트 (갈색) 을 칭량하였다. 두 파트를 스패츌러로 1 분 동안 혼합하고 혼합물의 균질성을 점검하였다 (황색 혼합물이 수득됨). 이어서, 두 네거티브 몰드를 이 제제로 충전하였다 (복제될 마스터에 상응하는 공동을 가장자리까지 충전함).
제 1 복제품을 제조하기 위해 복제 재료를 실리콘 네거티브 몰드 내부에서 주위 온도에서 90 분 동안 경화시켰다.
네거티브 몰드의 각 가장자리를 떼어내어 실리콘 네거티브 몰드로부터 복제품을 분리하였다. 네거티브 몰드에 대한 접착성이 관찰되지 않았던 경우, 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드가 열화될 때까지 새로운 복제품이 계속 제조되었다.
3) 특성 분석
혼합물 P1 + P2 의 특성 분석 시험
실리콘 엘라스토머로부터 몰드를 제조할 수 있게 하는 혼합물 P1+P2 의 특성은 쇼어 A 경도로 표현되는 경화 속도 및 가용 시간을 특징으로 한다.
또한, 실리콘 엘라스토머는 몰드로부터의 제거를 용이하게 하기 위해 마스터에 부착되어서는 안 된다. 다수의 탈형 작업은 실리콘 엘라스토머 몰드의 내구성의 우수함을 나타낸다.
프랑스 표준 NF T 77 107 에 따른 가용 시간 측정 (" Techne Gelation Timer GT3" 사용)
샘플에 침지된 중량이 11.4 g 인 22 mm 직경의 플런저를 1 분의 주기로 교번하는 수직 이동으로 작동시켰다. 생성물의 컨시스턴시가 ½ 분 동안 디스크의 중량을 지지하기에 충분할 때, 겔 포인트에 도달하였다. 전기 접점은 시험 시작시 시작된 타이머를 정지시켰다. 이 시간 (분 (min) 으로 표시됨) 은 가용 시간으로 간주된다. 20 내지 200 min 의 가용 시간이 바람직하다.
경화 속도의 측정
경화 속도는 표준 DIN 53505 및 ISO 868 에 따라 쇼어 A 경도 (SAH) 를 사용하여 평가하였다. 이 경도는 일반적으로 파트 P1 + P2 를 혼합한 후 24 시간, 4 일 및 14 일 후에 측정하였다. 14 일 후 최종 경도의 68% 이상인 24 h 후 경도가 바람직하다. 경화의 균질성을 평가하기 위해 압자 위 및 아래에서 경도를 측정하였다. 바람직하게는, 2 쇼어 A 이하의 차이가 바람직하다.
후-경화는 14 일과 4 일 사이의 경도 차이를 나타낸다: 압자 아래에서 2 쇼어 A 이하의 차이가 바람직하다.
복제될 마스터에 대한 실리콘 엘라스토머 몰드의 접착성 시험:
네거티브 몰드를 제조하는 동안 실리콘 엘라스토머의 접착성 발달을 평가하기 위해 상이한 재료로부터 형성된 복제될 마스터를 사용하였다.
평가한 재료는 유기 플라스틱, 즉 폴리우레탄 및 플라스터였다. 각 재료에 대하여 사용한 마스터는 높이 8 mm, 폭 35 mm 및 길이 35 mm 의 평행육면체 직사각형이었다. 이 부품의 표면은 매끄러웠다.
24 시간 후, 탈형 동안 마스터에 대한 네거티브 몰드의 접착성을 정성적으로 평가하였다. 탈형에 대한 내성을 평가하기 위해, 네거티브 몰드의 각 가장자리를 차례로 떼어내어 마스터의 탈형을 수행하였다.
내성이 없는 경우, 접착성은 0 으로 평가되었다.
마스터를 제거하기 위해 약간의 힘을 가해야 한다면, 접착성은 + 로 평가되었다.
마스터를 제거하기 위해 큰 힘이 가해야 하지만 실리콘 몰드를 찢지 않고 마스터를 제거할 수 있는 경우, 접착성은 ++ 로 평가되었다.
실리콘 몰드를 찢지 않고 마스터를 탈형할 수 없는 경우, 접착성은 +++ 로 평가되었다.
복제품의 제조를 위해 네거티브 몰드를 사용하기 위해 0 또는 + 의 마크가 바람직하였다.
탈형 시험:
사용한 마스터는 높이 8 mm, 폭 35 mm 및 길이 35 mm 의 금속으로 제조된 평행육면체 직사각형이었다. 이 부품의 표면은 매끄러웠다.
시험 몰드는 예비-혼합된 제형 (파트 P1 및 파트 P2 의 혼합물) 을 포트의 바닥에 배치된 금속 부품 상에 캐스팅하는 방법으로 제조되었다.
24 시간 후, 마스터를 탈형하였다.
마스터의 탈형 6 일 후, 네거티브 몰드를 폴리우레탄 캐스팅 수지 (복제 재료) 로 먼저 충전하였다.
실리콘 엘라스토머 네거티브 몰드의 내성을 평가하기 위해 사용된 폴리우레탄 수지는 Axson 의 Fastcast F190 수지였다. 이 수지는 일단 주위 온도에서 혼합되면 (1:1 혼합물) 이성분 생성물의 형태이며, 가용 시간이 8 분이고 90 분 후에 탈형될 수 있다.
이어서, 매회 약 12.5 g 의 폴리우레탄 수지를 사용하여 3 내지 5 개의 폴리우레탄 복제품을 매일 제조하였다. 매회, 완전한 중합을 수득하기 위해 수지로부터 성형된 복제품을 최소 1.5 시간 동안 실리콘 엘라스토머 네거티브 몰드에 두었다.
탈형에 대한 내성을 평가하기 위해, 실리콘 엘라스토머 네거티브 몰드의 각 가장자리를 차례로 떼어내어 성형 수지 복제품의 탈형을 수행하였다.
실리콘 엘라스토머 네거티브 몰드의 열화 없이 (즉, 작은 실리콘 조각을 찢지 않고) 수득된 복제 수는 하기 표 중 하나에 제시되어 있다. 이는 여러 실리콘 엘라스토머 네거티브 몰드의 폴리우레탄 내성을 비교할 수 있게 한다.
수행된 여러 시험의 결과는 다음과 같다:
Figure 112020009020041-pct00007
Figure 112020009020041-pct00008
Figure 112020009020041-pct00009
Figure 112020009020041-pct00010
결론적으로, 본 발명에 따른 실리콘 엘라스토머 몰드의 제조 동안 사용되는 실리콘 조성물에 사용된 촉매는 하기를 동시에 수득하기 위해 사용될 수 있다:
- 파트 P1 + 파트 P2 혼합물을 사용하기에 충분히 긴 가용 시간 (20 분 내지 200 분),
- "빠른" 경화 (후-경화 최대 +2 및 24h 의 SAH 비율 x 100/SAH 14 일 > 68 %),
- 예를 들어 폴리우레탄으로부터 다수의 부품을 성형하는데 사용될 수 있는 본 발명에 따른 방법을 사용하여 수득된 실리콘 엘라스토머 몰드 (연속 성형/탈형 사이클 수 > 37),
그리고 이들 모두는 주석-기반 화합물의 부재 하에 수득됨.
촉매를 함유하는 부분이 균질해야 하고 (투명한 단일상), 본 발명에 따른 방법에 의해 수득된 실리콘 엘라스토머 네거티브 몰드는 복제될 마스터에 적용되는 이형제가 없는 경우에도 마스터에 부착되지 않아야 한다는 보충 조건을 만족시키기 위해, 중축합 촉매 C 는 하기 일반식 (I) 을 충족한다:
(R")2NH
식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 기호 R" 는 6 내지 10 개의 탄소 원자를 함유하는 지방족 탄화수소 라디칼을 나타냄.

Claims (7)

  1. 상이한 복제 재료로부터 제조되는 성형품의 제조에 사용하기 위한 실리콘 엘라스토머로부터 제조되는 네거티브 몰드 MN 의 제조 방법으로서,
    하기 단계 a) 내지 d) :
    a) 하기를 포함하고 금속 촉매를 함유하지 않는 중축합 반응에 의해 엘라스토머를 생성하도록 경화될 수 있는 폴리오르가노실록산 조성물 X 를 제조하는 단계:
    - 중축합 반응에 의해 경화될 수 있는 적어도 하나의 폴리오르가노실록산 오일 A 를 포함하는 실리콘 베이스 B, 및
    - 하기 일반식 (I) 을 갖는 유기 화합물인 적어도 하나의 중축합 촉매 C:
    (R")2NH
    식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 기호 R" 는 6 내지 10 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 포화 지방족 탄화수소 라디칼을 나타냄,
    b) 상기 폴리오르가노실록산 X 를 임의로 이미 이형제로 덮여있는 복제될 마스터에 적용하는 단계,
    c) 복제될 마스터의 외부 윤곽에 해당하는 임프레션인 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 를 형성하기 위해, 상기 폴리오르가노실록산 조성물 X 를 주위 공기에 의해 또는 물의 사전 첨가에 의해 공급된 수분의 존재하에 경화시키는 단계, 및
    d) 복제될 마스터로부터 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 을 분리하는 단계
    를 포함하고,
    네거티브 몰드 MN 가 마스터에 부착되지 않아야 하는 것을 특징으로 하는, 네거티브 몰드 MN 의 제조 방법.
  2. 복제품 R 의 성형 방법으로서, 제 1 항에 따른 단계 a) 내지 d) 를 포함하고, 하기 단계 e) 내지 g) :
    e) 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 을 복제 재료로 충전하는 단계,
    f) 복제될 마스터의 복제품 R 을 제조하기 위해, 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 내부에서 복제 재료를 경화시키는 단계, 및
    g) 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 로부터 복제품 R 을 분리하는 단계
    가 이어지고,
    네거티브 몰드 MN 가 마스터에 부착되지 않아야 하는 것을 특징으로 하는, 복제품 R 의 성형 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 단계 g) 후에 하기 단계 h) 가 이어지는 것을 특징으로 하는 복제품 R 의 성형 방법:
    h) 새로운 복제품 R 을 형성하기 위해 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN 을 단계 e) 내지 g) 에 다시 적용하는 단계.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 a) 동안, 중축합 촉매 C 가 하기 일반식 (I) 을 갖는 것을 특징으로 하는 방법:
    (R")2NH
    식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 기호 R" 는 8 내지 10 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 포화 지방족 탄화수소 라디칼을 나타냄.
  5. 마스터에 부착되지 않아야 하는 네거티브 몰드 MN 의 제조를 위한 폴리오르가노실록산 조성물 X 로서, 하기를 포함하고 금속 촉매를 함유하지 않는 중축합 반응에 의해 엘라스토머로 경화될 수 있는 폴리오르가노실록산 조성물 X :
    - 실리콘 엘라스토머를 형성하기 위한 방식으로 중축합 반응에 의해 경화될 수 있는 적어도 하나의 폴리오르가노실록산 오일 A 를 포함하는 실리콘 베이스 B, 및
    - 하기 일반식 (I) 을 갖는 유기 화합물인 적어도 하나의 중축합 촉매 C:
    (R")2NH
    식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 기호 R" 는 6 내지 10 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 포화 지방족 탄화수소 라디칼을 나타냄.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 방법의 단계 d) 의 끝에서 수득된 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN.
  7. 성형품의 제조에 사용되는, 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 방법의 단계 d) 의 끝에서 수득된 실리콘 엘라스토머로부터 제조된 네거티브 몰드 MN.
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