KR102281717B1 - 진공 처리 장치 및 진공 처리 장치의 제어 방법 - Google Patents

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Abstract

진공 처리 장치가 아이들 상태로부터 복귀해서 얼마되지 않은 시점에 있어서 피처리체가 산화되는 것을 억제한다. 피처리체에 대해서 감압하에서 미리 결정된 처리를 행하는 진공 처리 장치로서, 실내가 감압되고 피처리체에 대해서 상기 미리 결정된 처리가 행해지는 진공 처리실이 형성된 처리 모듈과, 상기 진공 처리실과의 사이에서 게이트 밸브를 통해 마련된 실내가 감압 상태로 유지되며, 또한, 당해 실내에 상기 진공 처리실과의 사이에서 피처리체의 반송을 행하는 반송 기구가 마련된 진공 반송실이 형성된 진공 반송 모듈과, 적어도 산화 방지용으로 사용되는 미리 결정된 가스를 상기 진공 반송실에 공급하는 가스 공급 기구와, 상기 가스 공급 기구를 제어하는 제어부를 갖고, 상기 제어부는, 당해 진공 처리 장치에서 피처리체에 대한 상기 미리 결정된 처리가 행해지지 않은 아이들 상태에 있어서, 상기 진공 반송실에 상기 미리 결정된 가스가 공급되도록 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 상기 아이들 상태에 있어서의 당해 진공 반송실의 제1 산소 농도를, 당해 진공 반송실을 진공 상태로 하는 경우에서의 제2 산소 농도보다도 낮아지도록 조정한다.

Description

진공 처리 장치 및 진공 처리 장치의 제어 방법{VACUUM PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING VACUUM PROCESSING APPARATUS}
본 개시는, 진공 처리 장치 및 진공 처리 장치의 제어 방법에 관한 것이다.
특허문헌 1은, 성막 모듈에서 성막 처리가 완료된 기판을, 성막 모듈을 구성하는 진공 처리실과 로드 로크실의 사이에 마련되는 진공 반송실에서 반송하는데 있어서, 기판의 피처리면의 면내 전체에서 산화를 억제하도록 구성된 진공 처리 장치가 개시되어 있다. 이 진공 처리 장치는, 성막 처리가 완료된 기판의 반송 영역을 따라서, 당해 반송 영역의 전체에 걸쳐 기판의 피처리면측에 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부가 진공 반송실에 마련되어 있다. 이 구성에 기초하여, 피처리면을 불활성 가스에 노출시키면서 기판을 반송함으로써, 피처리면 전체에 있어서 수분의 부착을 억제하여, 피처리면 전체의 산화를 억제하고 있다.
일본 특허공개 제2016-4834호 공보
본 개시에 따른 기술은, 진공 처리 장치가 아이들 상태로부터 복귀해서 얼마되지 않은 시점에 있어서 피처리체가 산화되는 것을 억제한다.
본 개시의 일 형태는, 피처리체에 대해서 감압하에서 미리 결정된 처리를 행하는 진공 처리 장치로서, 실내가 감압되고 피처리체에 대해서 상기 미리 결정된 처리가 행해지는 진공 처리실이 형성된 처리 모듈과, 상기 진공 처리실과의 사이에 게이트 밸브를 통해 마련된 실내가 감압 상태로 유지되며, 또한, 당해 실내에 상기 진공 처리실과의 사이에서 피처리체의 반송을 행하는 반송 기구가 마련된 진공 반송실이 형성된 진공 반송 모듈과, 적어도 산화 방지용으로 사용되는 미리 결정된 가스를 상기 진공 반송실에 공급하는 가스 공급 기구와, 상기 가스 공급 기구를 제어하는 제어부를 갖고, 상기 제어부는, 당해 진공 처리 장치에서 피처리체에 대한 상기 미리 결정된 처리가 행해지지 않은 아이들 상태에 있어서, 상기 진공 반송실에 상기 미리 결정된 가스가 공급되도록 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 상기 아이들 상태에 있어서의 당해 진공 반송실의 제1 산소 농도를, 당해 진공 반송실을 진공 상태로 하는 경우에서의 제2 산소 농도보다도 낮아지도록 조정한다.
본 개시에 의하면, 진공 처리 장치가 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀해서 얼마되지 않은 시점에 있어서 피처리체가 산화되는 것을 억제할 수 있다.
도 1은, 진공 반송실이 진공 상태가 되도록 전환하고 나서의 경과 시간과, 당해 진공 반송실 내의 압력 및 산소 농도와의 관계를 나타내는 도면이다.
도 2는, 진공 반송실이 진공 상태가 되도록 한 아이들 상태로부터, 질소 가스 공급을 재개해서 복귀시켰을 때에 있어서의, 재개로부터의 경과 시간과, 진공 반송실 내의 압력 및 산소 농도와의 관계를 나타내는 도면이다.
도 3은, 제1 실시 형태에 따른 진공 처리 장치의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.
도 4는, 진공 반송실 내의 분위기를 제어하는 기구의 개략을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는, 진공 반송실 내의 설정 압력과 질소 가스 유량과의 관계를 나타내는 도면이다.
도 6은, 진공 반송실 내의 설정 압력과 당해 진공 반송실 내의 산소 농도와의 관계를 나타내는 도면이다.
도 7은, 제1 실시 형태의 변형예에 따른 진공 반송실의 개략 구성예를 나타내는 도면이다.
도 8은, 제2 실시 형태에 따른 진공 처리 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
반도체 장치의 제조 과정에서는, 반도체 웨이퍼(이하, 「웨이퍼」라고 함) 등의 피처리체에 대해서 성막 처리나 에칭 처리 등의 미리 결정된 처리가 감압하에서 행해진다. 이 처리를 행하는 진공 처리 장치로서는, 실내가 감압되고 상기 미리 결정된 처리가 행해지는 진공 처리실과, 진공 처리실과의 사이에서 피처리체의 반송을 행하는 반송 기구가 마련되고 실내가 감압 상태로 유지된 진공 반송실을 갖는 것이 있다.
특허문헌 1의 진공 처리 장치는, 성막 처리가 완료된 기판의 반송 영역을 따라서, 당해 반송 영역의 전체에 걸쳐 기판의 피처리면측에 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부가 진공 반송실에 마련되도록 구성되어 있다. 이 구성에 의해, 고온에서 성막 처리된 웨이퍼의 피처리면이, 성막 처리 후의 기판 반송 시에, 진공 반송실 내의 미량의 수분에 의해 산화되는 것을 방지하고 있다.
또한, 진공 처리 장치는, 진공 반송실에 마련된 웨이퍼의 반송 기구를 구성하는 반송 암으로의 성막이나 반송 암의 부식 방지 등을 목적으로 하여, 웨이퍼에 대해서 처리를 행할 때 진공 반송실에 질소 가스 등을 공급하고, 진공 반송실이 진공 처리실보다 양압이 되도록 압력 조절하는 경우가 있다.
그런데, 진공 처리 장치에는, 웨이퍼에 대해서 처리가 행해지지 않은 아이들 상태가 존재한다. 이 아이들 상태에서는, 종래, 진공 처리 장치의 진공 반송실에 대한 감압을 위한 배기는 행해지지만, 비용 삭감 등을 목적으로 하여, 진공 반송실에 대한 가스 공급을 정지하고 있었다. 즉, 아이들 상태에서는, 진공 반송실이 진공 상태(최고 진공도)가 되도록 하고 있었다. 그리고, 이와 같이 아이들 상태에 있어서 진공 반송실이 진공 상태가 되도록 하여도, 웨이퍼의 피처리면의 산화의 관점에서는 특별히 문제가 없었다.
그러나, 반도체 장치의 미세화는 더 진행되고 있으며, 종래에는 문제가 되지 않던 약간의 산화이더라도 반도체 장치의 전기적 특성에 영향을 미치는 경우가 있다.
또한, 본 발명자들이 예의 조사한바, 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같은 점이 판명되었다.
도 1은, 진공 반송실로의 질소 가스 공급을 정지하고 나서의 경과 시간, 즉, 진공 반송실이 진공 상태가 되도록 전환하고 나서의 경과 시간과, 당해 진공 반송실 내의 압력 및 산소 농도와의 관계를 나타내는 도면이다.
또한, 도 2는, 진공 반송실이 진공 상태가 되도록 한 아이들 상태로부터, 질소 가스 공급을 재개해서 복귀시켰을 때에 있어서의, 재개로부터의 경과 시간과, 진공 반송실 내의 압력 및 산소 농도와의 관계를 나타내는 도면이다.
도 1 및 도 2에 있어서, 횡축은 시각, 종축은, 진공 반송실 내의 압력 및 산소 농도를 나타낸다. 또한, 도 2의 결과를 얻기 위한 시험에서는, 웨이퍼에 대한 처리가 행해지는 동작 상태에 있어서 진공 반송실 내의 압력이 진공 처리실에 대해서 양압인 106Pa가 되도록, 당해 진공 반송실로의 질소 가스의 공급 압력을 제어하였다. 그리고, 진공 반송실 내의 압력이 106Pa로 안정되고 나서, 로드 로크실 내에서 대기하고 있는 웨이퍼를, 진공 반송실을 경유하여 진공 처리실 내로 반송하고, 진공 처리실에서 처리를 실시한 후에 진공 처리실로부터 진공 반송실로 되돌렸다.
도 1에 도시한 바와 같이, 질소 가스의 공급을 정지한 시각(23시경)부터 시간이 경과함과 함께, 진공 반송실 내의 산소 농도는 상승하고, 또한 당해 산소 농도는, 진공 반송실이 진공 상태가 되고 나서도 계속해서 상승하고 있었다. 도면의 예에서는, 질소 가스의 공급을 정지하고 나서 약 9시간 경과해 진공 반송실 내의 압력이 3.2Pa일 때, 산소 농도는 3.4ppm까지 상승하고 있었다.
또한, 도 2에 도시한 바와 같이, 질소 가스 공급을 재개해서 아이들 상태로부터 복귀시키고, 진공 반송실 내의 압력이 미리 결정된 압력(106Pa)이 되어 있어도, 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀해서 얼마되지 않은 시점에서는 진공 반송실 내의 산소 농도가 끝까지 내려가지 않고 있었다. 도시는 생략하였지만, 특히, 복귀 후 1매째의 웨이퍼에 대한 성막 처리 등의 미리 결정된 처리가 종료하고 당해 웨이퍼가 진공 처리실로부터 진공 반송실로 반출되는 시점에서, 진공 반송실 내의 산소 농도가 끝까지 내려가지 않고 있었다. 이와 같이, 아이들 상태일 때 진공 반송실 내의 산소 농도가 상승하면, 원래의 산소 농도로 되돌아가는데도 시간이 걸린다. 그리고, 진공 처리실로부터 진공 반송실로 되돌려지는 시점에 있어서 웨이퍼의 온도는 400℃ 이상으로 되는 경우가 있고, 당해 시점에 있어서 진공 반송실 내의 산소 농도가 높으면 산화에 의한 웨이퍼의 피처리면의 열화의 리스크가 증가하게 된다.
특허문헌 1은, 이 점에 관하여 개시하는 것은 아니다.
그래서, 본 개시에 따른 기술은, 진공 처리 장치가 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀해서 얼마되지 않은 시점에 있어서 피처리체가 산화되는 것을 억제한다.
이하, 본 실시 형태에 따른 기판 처리 장치 및 검사 방법을, 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 본 명세서 및 도면에 있어서, 실질적으로 동일한 기능 구성을 갖는 요소에 있어서는, 동일한 번호를 부여함으로써 중복 설명을 생략한다.
(제1 실시 형태)
도 3은, 진공 처리 장치(1)의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다. 진공 처리 장치(1)는, 피처리체로서의 웨이퍼(W)에 대해서, 예를 들어 성막 처리, 확산 처리, 에칭 처리 등의 미리 결정된 처리를 감압하에서 행하는 것이다.
진공 처리 장치(1)는, 복수의 웨이퍼(W)를 수용 가능한 캐리어 C가 반출입되는 캐리어 스테이션(10)과, 감압하에서 웨이퍼(W)에 미리 결정된 처리를 실시하는 복수의 각종 처리 모듈을 구비한 처리 스테이션(11)을 일체로 접속한 구성을 갖고 있다. 캐리어 스테이션(10)과 처리 스테이션(11)은, 2개의 로드 로크 모듈(12, 13)을 통해 연결되어 있다.
로드 로크 모듈(12, 13)은, 실내를 대기압 상태와 진공 상태로 전환되도록 구성된 로드 로크실(12a, 13a)을 갖는다. 로드 로크 모듈(12, 13)은, 후술하는 대기압 반송 모듈(20)과 진공 반송 모듈(30)을 연결하도록 마련되어 있다.
캐리어 스테이션(10)은, 대기압 반송 모듈(20)과 캐리어 적재대(21)를 갖고 있다. 또한, 캐리어 스테이션(10)에는, 웨이퍼(W)의 방향을 조절하는 오리엔타(도시생략)가 마련되어 있어도 된다.
대기압 반송 모듈(20)은, 실내가 대기압하로 되는 대기 반송실(22)을 형성하는 하우징을 갖는다. 대기 반송실(22)은, 로드 로크 모듈(12, 13)의 로드 로크실(12a, 13a)과 게이트 밸브 G1, G2를 통해 접속되어 있다. 대기 반송실(22) 내에는, 대기압하에서 로드 로크실(12a, 13a)과의 사이에서 웨이퍼(W)를 반송하는 웨이퍼 반송 기구(23)가 마련되어 있다. 웨이퍼 반송 기구(23)는, 웨이퍼(W)를 대략 수평으로 보유 지지하는 2개의 반송 암(23a, 23b)을 갖고 있다. 그리고, 웨이퍼 반송 기구(23)는, 반송 암(23a, 23b) 중 어느 것에 의해 웨이퍼(W)를 보유 지지하면서 반송하는 구성으로 되어 있다.
캐리어 적재대(21)는, 대기압 반송 모듈(20)에 있어서, 로드 로크 모듈(12, 13)의 반대측의 측면에 마련되어 있다. 도시한 예에서는, 캐리어 적재대(21)에는, 캐리어 C를 복수, 예를 들어 3개 적재할 수 있도록 되어 있다. 캐리어 적재대(21)에 적재된 캐리어 C 내의 웨이퍼(W)는, 대기압 반송 모듈(20)의 웨이퍼 반송 기구(23)의 반송 암(23a, 23b)에 의해 대기 반송실(22)에 대해서 반출입된다.
처리 스테이션(11)은, 진공 반송 모듈(30)과 처리 모듈(40 내지 43)을 갖고 있다.
진공 반송 모듈(30)은, 실내가 감압 상태(진공 상태)로 유지되는 진공 반송실(31)을 형성하는 하우징을 갖고, 해당 하우징은, 밀폐 가능하도록 구성되어 있으며, 예를 들어 평면으로 보아 대략 다각 형상(도시한 예에서는 육각 형상)을 이루도록 형성되어 있다. 진공 반송실(31)은, 로드 로크 모듈(12, 13)의 로드 로크실(12a, 13a)과 게이트 밸브 G3, G4를 통해 접속되어 있다. 진공 반송실(31) 내에는, 처리 모듈(40 내지 43)의 후술하는 진공 처리실(44 내지 47)과의 사이에서 웨이퍼(W)를 반송하는 웨이퍼 반송 기구(32)가 마련되어 있다. 웨이퍼 반송 기구(32)는, 웨이퍼(W)를 대략 수평으로 보유 지지하는 2개의 반송 암(32a, 32b)을 갖고 있으며, 이들 반송 암(32a, 32b) 중 어느 것에 의해 웨이퍼(W)를 보유 지지하면서 반송하는 구성으로 되어 있다.
도 4는, 진공 반송 모듈(30)의 진공 반송실(31) 내의 분위기를 제어하는 기구의 개략을 설명하기 위한 도면이다.
도 4에 도시한 바와 같이, 진공 반송 모듈(30)의 진공 반송실(31)을 형성하는 하우징(31a)의 예를 들어 저면에는, 배기구(31b)가 마련되어 있다. 배기구(31b)에는, 배기 기구(33)가 접속되어 있으며, 진공 반송실(31)은 이 배기 기구(33)에 의해 일정한 배기 속도로 배기된다. 배기 기구(33)는, 터보 분자 펌프 등을 포함하는 진공 배기 장치(33a)와, 진공 배기 장치(33a)와 진공 반송실(31)을 접속하는 배기관(33b)과, 배기관(33b) 내의 배기로를 개폐하는 개폐 밸브(33c)를 갖는다.
또한, 진공 반송실(31)을 형성하는 하우징(31a)의 예를 들어 천장면에는, 급기구(31c)가 마련되어 있다. 급기구(31c)에는, 미리 결정된 가스로서의 질소 가스를 진공 반송실(31)에 공급하는 가스 공급 기구(34)가 접속되어 있다. 상기 미리 결정된 가스는, 적어도 웨이퍼(W)의 피처리면의 산화 방지를 목적으로 한 것이며, 진공 반송실(31) 내의 압력 조정(압력 조절), 반송 암(32a, 32b)에 대한 성막 방지, 반송 암(32a, 32b)의 부식 방지 등도 목적으로 하고 있다. 가스 공급 기구(34)는, 질소 가스를 저류하는 가스 공급원(34a)과, 가스 공급원(34a)과 진공 반송실(31)을 접속하는 급기관(34b)을 갖는다. 급기관(34b)에는, 당해 급기관(34b) 내의 급기로를 개폐하는 개폐 밸브(34c)와, 가스 공급원(34a)으로부터 진공 반송실(31)로의 질소 가스의 공급 압력을 제어하는 압력 제어 밸브(34d)를 갖는다. 압력 제어 밸브(34d)는, 급기관(34b)에 있어서의 개폐 밸브(34c)보다 상류측에 마련된다. 압력 제어 밸브(34d)의 제어, 즉, 진공 반송실(31)로의 질소 가스의 공급 압력 제어는, 후술하는 제어부(100)에 의해 행해진다. 또한, 본 실시 형태에서는, 산화 방지 및 압력 조절을 위한 가스로서, 불활성 가스인 질소 가스를 사용하였지만, 아르곤 가스 등의 다른 불활성 가스를 사용해도 된다.
또한, 진공 반송실(31) 내에는 당해 진공 반송실(31) 내의 압력을 검출하는 압력 검출부로서의 압력 센서(35)가 마련되어 있다. 압력 센서(35)에서의 검출 결과는 제어부(100)로 출력된다.
전술한 바와 같이, 배기 기구(33)에 의한 배기 속도가 일정하기 때문에, 진공 반송실(31) 내의 압력은 가스 공급 기구(34)로부터 공급되는 질소 가스의 공급 압력에 따라서 변화한다. 따라서, 가스 공급 기구(34)로부터의 질소 가스의 공급 압력을 제어함으로써, 진공 반송실(31) 내의 압력은 조정된다.
도 3의 설명으로 되돌아간다.
진공 반송 모듈(30)의 진공 반송실(31)을 형성하는 하우징(31a)(도 4 참조)의 외측에는, 처리 모듈(40 내지 43), 로드 로크 모듈(12, 13)이, 상기 하우징(31a)의 주위를 둘러싸도록 배치되어 있다. 로드 로크 모듈(12), 처리 모듈(40 내지 43), 로드 로크 모듈(13)은, 예를 들어 로드 로크 모듈(12)로부터 평면으로 보아 시계 회전 방향으로 이 순서대로 배열되도록, 또한 상기 하우징(31a)의 측면부에 대해서 각각 대향하도록 하여 배치되어 있다.
처리 모듈(40 내지 43)은, 웨이퍼(W)에 대해서, 예를 들어 성막 처리, 확산 처리, 에칭 처리 등의 미리 결정된 처리를 감압하에서 실시한다. 또한, 처리 모듈(40 내지 43)은 각각, 감압하의 실내에서 웨이퍼(W)에 대해서 상기 미리 결정된 처리가 행해지는 진공 처리실(44 내지 47)을 형성하는 하우징을 갖는다. 진공 처리실(44 내지 47)은 각각, 진공 반송 모듈(30)의 진공 반송실(31)과 게이트 밸브로서의 게이트 밸브 G5 내지 G8을 통해 접속되어 있다.
또한, 처리 모듈(40 내지 43)로부터, 웨이퍼 처리의 목적에 따른 처리를 행하는 모듈을, 임의로 선택할 수 있다.
이상의 진공 처리 장치(1)에는, 제어부(100)가 마련되어 있다. 제어부(100)는, 예를 들어 컴퓨터이며, 프로그램 저장부(도시생략)를 갖고 있다. 프로그램 저장부에는, 진공 처리 장치(1)에 있어서의 웨이퍼 처리를 제어하는 프로그램이 저장되어 있다. 이 프로그램은, 컴퓨터로 판독 가능한 기억 매체 H에 기록되어 있던 것으로서, 당해 기억 매체 H로부터 제어부(100)로 인스톨된 것이어도 된다.
다음으로, 이상과 같이 구성된 진공 처리 장치(1)를 사용한 웨이퍼 처리에 대하여 설명한다.
복수의 웨이퍼(W)를 수납한 캐리어 C가, 진공 처리 장치(1)의 캐리어 스테이션(10)으로 반입되고, 캐리어 적재대(21)에 적재되면, 아이들 상태의 진공 처리 장치(1)를 동작 상태로 하기 위해서, 우선, 이하의 공정이 행해진다. 즉, 가스 공급 기구(34)로부터 진공 반송실(31)로의 질소 가스의 공급 형태가 아이들 상태의 것으로부터 동작 상태의 것으로 변경되고, 진공 반송실(31) 내의 압력이, 동작 상태일 때의 설정 압력(예를 들어 185Pa)으로 조정된다. 동작 상태일 때의 설정 압력은, 진공 처리실(44 내지 47)에 비하여 양압으로 되는 압력이다. 또한, 동작 상태에 있어서의 가스 공급 기구(34)로부터의 가스 공급은, 진공 반송실(31) 내의 압력이 상기 설정 압력으로 일정해지도록 제어된다. 이 제어는, 제어부(100)에 의한, 압력 제어 밸브(34d)를 통한 질소 가스의 가스 공급압의 조정에 의해 행해진다. 아이들 상태일 때의 질소 가스의 공급 형태에 대해서는 후술한다.
진공 반송실(31) 내의 압력 조절이 완료되면, 웨이퍼 반송 기구(23)에 의해, 캐리어 C로부터 1매의 웨이퍼(W)가 취출되어, 대기 반송실(22) 내로 반입된다. 그 후, 게이트 밸브 G1이 개방 상태로 되어, 대기 반송실(22) 내와 로드 로크실(12a) 내가 연통된다. 그리고, 웨이퍼(W)가, 웨이퍼 반송 기구(23)에 의해, 대기압하에서, 대기 반송실(22)로부터 로드 로크 모듈(12)의 로드 로크실(12a) 내로 반입된다.
로드 로크 모듈(12) 내에 반입되면, 게이트 밸브 G1이 폐쇄 상태로 되어 로드 로크실(12a) 내가 밀폐되고, 감압된다. 그 후, 게이트 밸브 G3이 개방 상태로 되어, 로드 로크실(12a) 내와, 상기 동작 상태일 때의 설정 압력으로 압력 조절된 진공 반송실(31) 내가 연통된다. 그리고, 웨이퍼 반송 기구(32)에 의해, 웨이퍼(W)가 로드 로크실(12a)로부터 반출되어, 진공 반송실(31) 내에 반입된다.
진공 반송실(31) 내에 반입되면, 게이트 밸브 G3이 폐쇄 상태로 된 후, 목적의 처리를 행하는 처리 모듈(여기서는, 처리 모듈(40)인 것으로 함)에 대한 게이트 밸브 G5가 개방 상태로 되어, 진공 반송실(31) 내와 진공 처리실(44)이 연통된다. 그리고, 웨이퍼 반송 기구(32)에 의해, 웨이퍼(W)가 진공 반송실(31)로부터 반출되어, 진공 처리실(44) 내에 반입된다.
진공 처리실(44) 내에 반입되면, 게이트 밸브 G5가 폐쇄 상태로 되어, 진공 처리실(44)이 밀폐된다. 그 후, 진공 처리실(44) 내에 있어서, 웨이퍼(W)에 대한 미리 결정된 처리가, 당해 웨이퍼(W)가 400℃ 이상으로 가열된 상태에서 실시된다.
미리 결정된 처리 종료 후, 게이트 밸브 G5가 개방 상태로 되어, 진공 처리실(44) 내와 진공 반송실(31) 내가 연통되고, 웨이퍼 반송 기구(32)에 의해 웨이퍼(W)가 다시 진공 반송실(31) 내로 되돌려진다. 이때, 진공 반송실(31) 내는 전술한 바와 같이 진공 처리실(44) 내에 대해서 양압인 설정 압력으로 압력 조절되어 있기 때문에, 진공 처리실(44) 내의 가스의 진공 반송실(31)로의 침입이 억제된다.
진공 반송실(31) 내에 웨이퍼(W)가 되돌아가면, 게이트 밸브 G5가 폐쇄 상태로 된 후, 게이트 밸브 G4가 개방 상태로 되어, 진공 반송실(31) 내와 로드 로크 모듈(13)의 로드 로크실(13a)이 연통된다. 그리고, 웨이퍼 반송 기구(32)에 의해, 웨이퍼(W)가 진공 반송실(31)로부터 로드 로크실(13a) 내로 반입된다.
로드 로크실(13a) 내에 반입되면, 게이트 밸브 G4가 폐쇄 상태로 된 후에 로드 로크실(13a) 내가 대기압으로 된다. 이어서, 게이트 밸브 G2가 개방 상태로 되어, 로드 로크실(13a) 내와, 대기 반송실(22) 내가 연통된다. 그 후, 웨이퍼 반송 기구(23)에 의해, 대기압하에서, 로드 로크실(13a)로부터 대기 반송실(22) 내로 반입된다. 그리고, 게이트 밸브 G2가 폐쇄 상태로 된 후, 웨이퍼 반송 기구(23)에 의해, 웨이퍼(W)가 대기 반송실(22)로부터 캐리어 C로 수납된다.
상술한 캐리어 C로부터 대기 반송실(22) 내로의 웨이퍼(W)의 반입 처리 이후의 일련의 처리는, 예를 들어 캐리어 C에 수납된 웨이퍼(W) 전부에 대해서 행해진다. 그리고, 캐리어 C에 수납된 웨이퍼(W) 전부에 대해서 상기 일련의 처리가 행해지면, 웨이퍼(W)를 수납한 캐리어 C가 진공 처리 장치(1)로부터 반출된다.
계속해서, 진공 처리 장치(1)에 있어서의 질소 가스의 공급 형태에 대하여, 특히, 웨이퍼(W)에 대한 처리가 행해지지 않은 아이들 상태일 때의 질소 가스의 공급 형태에 대하여 설명한다.
진공 처리 장치(1)가 동작 상태일 때는, 진공 처리실(44 내지 47)에 비하여 양압으로 되는 설정 압력으로 진공 반송실(31)이 압력 조절되도록, 질소 가스가 공급된다.
또한, 진공 처리 장치(1)는, 동작 상태 외에 아이들 상태를 취할 수 있다. 진공 처리 장치(1)가 아이들 상태로 되는 타이밍은, 예를 들어 1개의 캐리어 C(로트) 내의 웨이퍼(W) 전체에 대해서 상기 일련의 처리가 종료한 후, 다음 캐리어 C 내의 웨이퍼(W)에 대해서 상기 일련의 처리를 개시할 때까지의 동안이다.
종래의 진공 처리 장치에서는, 아이들 상태일 때, 전술한 바와 같이, 진공 반송실에 대한 가스 공급을 정지하고, 진공 반송실이 진공 상태가 되도록 하고 있었다.
그에 반하여, 본 실시 형태의 진공 처리 장치(1)에서는, 이하의 본 발명자들이 행한 시험의 결과를 근거로 하여, 아이들 상태에 있어서도 가스 공급 기구(34)로부터의 가스 공급이 행해지도록 가스 공급 기구(34)를 제어한다. 이에 의해, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 산소 농도를, 당해 진공 반송실(31)을 진공 상태로 하는 경우보다 낮아지도록 조정한다.
본 발명자들은, 진공 반송실(31) 내의 설정 압력이 진공 상태로부터 단계적으로 커지도록, 가스 공급 기구(34)로부터의 질소 가스의 공급 압력을 조정하고, 진공 반송실(31) 내의 설정 압력, 질소 가스 유량, 및 진공 반송실(31) 내의 산소 농도의 관계에 대하여 시험을 행하였다. 질소 가스 유량은, 가스 공급 기구(34)의 급기관(34b)에 있어서의 압력 제어 밸브(34d)의 하류측에 마련한 질량 유량계로 검출하고, 상기 산소 농도는, 진공 반송실(31) 내의 배기구(31b) 근방에 마련한 산소 농도 센서로 검출하였다.
도 5는, 상기 시험에서 얻어진, 진공 반송실(31) 내의 설정 압력과 질소 가스 유량과의 관계를 나타내는 도면이다. 도 5에 있어서, 횡축은 시각, 종축은 상기 설정 압력 및 질소 가스 유량을 나타낸다. 도 6은, 상기 시험에서 얻어진, 진공 반송실(31) 내의 설정 압력과 당해 진공 반송실(31) 내의 산소 농도와의 관계를 나타내는 도면이다. 도 6에 있어서, 횡축은 시각, 종축은 상기 설정 압력 및 상기 산소 농도를 나타낸다.
도 5, 도 6 및 전술한 도 1에 도시한 바와 같이, 진공 반송실(31)의 설정 압력이 크고 질소가 많이 공급되는 경우(185Pa, 220Pa의 경우), 진공 상태로 하는 경우에 비하여, 진공 반송실(31) 내의 산소 농도가 현저하게 저감되고 있다.
또한, 진공 반송실(31) 내의 설정 압력이 작고 질소가 소량 공급되는 경우 (106Pa, 53Pa, 26Pa의 경우)도, 진공 상태로 하는 경우에 비하여, 진공 반송실(31) 내의 산소 농도가 크게 저감되고 있다.
그리고, 질소 공급을 유지하고 있으면, 진공 반송실(31) 내의 압력이 유지될 뿐만 아니라, 진공 반송실(31) 내의 산소 농도도 상승하지 않고, 진공 반송실(31)의 설정 압력에 따른 산소 농도로 유지되고 있다.
이 시험 결과를 근거로 하여, 본 실시 형태에서는, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 산소 농도가, 당해 진공 반송실(31)을 진공 상태로 하는 경우처럼 높아지는 것을 방지하기 위해서, 아이들 상태에 있어서도 가스 공급 기구(34)로부터의 질소 가스 공급이 행해지도록 한다. 바꾸어 말하면, 본 실시 형태에서는, 아이들 상태에 있어서도 질소 가스 공급이 행해지도록 가스 공급 기구(34)를 제어하여, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 산소 농도를, 당해 진공 반송실(31)을 진공 상태로 하는 경우보다 낮아지도록 조정한다. 구체적으로는, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 설정 압력을, 당해 진공 반송실(31)의 산소 농도가 진공 상태 시보다도 낮아지는 압력(예를 들어, 26Pa)으로 한다. 그리고, 아이들 상태에 있어서 진공 반송실(31) 내가 당해 설정 압력으로 압력 조절되도록, 압력 센서(35)에서의 검출 결과에 기초하여, 가스 공급 기구(34)(구체적으로는 압력 제어 밸브(34d))를 제어한다. 이에 의해, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 산소 농도를 낮은 값으로 조정한다.
본 실시 형태의 진공 처리 장치(1)에서는, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 산소 농도가 예를 들어 0.1ppm 이하로 되도록, 가스 공급 기구(34)를 제어한다. 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 산소 농도가 0.1ppm 이하이면 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀해서 얼마되지 않은 시점이더라도, 진공 반송실(31)의 산소 농도가 0.01ppm 정도로 된다. 그 때문에, 상기 시점에서 진공 처리실(44 내지 47) 중 어느 것에 있어서 예를 들어 금속막의 성막 처리가 행해지고 그 후 당해 진공 처리실로부터 400℃ 이상의 고온의 웨이퍼(W)가 진공 반송실(31)로 반입되는 경우에 있어서, 웨이퍼(W) 상에 형성된 금속막이 산화되는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀해서 얼마되지 않을 때 성막 처리된 웨이퍼(W)라도, 진공 반송실(31)로 되돌려졌을 때, 당해 웨이퍼(W) 상에 성막된 금속막의 막 저항 등과 같은 전기적 성질이 악화되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀해서 얼마되지 않은 시점부터 다음에 아이들 상태가 될 때까지의 동안, 진공 반송실(31) 내의 산소 농도는 낮게 유지되기 때문에, 동일 캐리어(로트) 내에서, 웨이퍼(W) 상에 성막된 금속막의 전기적 성질이 변동되는 일이 없다.
또한, 도 5, 도 6에 도시한 바와 같이, 본 발명자들이 행한 상술한 시험에서는, 질소 가스 공급량과 진공 반송실(31) 내의 산소 농도는 비례 관계로 되지 않는다. 구체적으로는, 예를 들어 진공 반송실(31) 내의 설정 압력이 185Pa일 때에는 질소 가스는 1200sccm 이상의 유량이 필요하며, 이때의 진공 반송실(31) 내의 산소 농도가 0.012ppm이다. 그에 비하여, 진공 반송실(31) 내의 설정 압력이 26Pa일 때에 필요한 질소 가스의 유량은 32sccm이며, 이때의 진공 반송실(31) 내의 산소 농도는 0.066ppm이다. 즉, 약 1/40의 질소 가스의 유량으로 산소 농도의 상승이 약 5배 정도로 억제되고 있다. 그리고, 약1/40의 질소 가스의 유량으로 했을 때에도, 진공 반송실(31) 내의 산소 농도는, 진공 상태로 할 때의 약 1/50이다.
이 결과를 근거로 하여, 본 실시 형태의 진공 처리 장치(1)에 있어서, 동작 상태일 때보다도 아이들 상태일 때의 쪽이 진공 반송실(31)의 압력이 작아지도록 가스 공급 기구(34)를 제어하도록 해도 된다. 예를 들어, 동작 상태일 때의 진공 반송실(31)의 설정 압력을 185Pa로 하고, 아이들 상태일 때의 압력을 26Pa로 해도 된다. 이에 의해, 질소 가스의 사용량을 억제하면서, 아이들 상태로 전환했을 때의 산소 농도의 상승을 억제할 수 있다.
이상의 실시 형태에 의하면, 진공 처리 장치(1)는, 아이들 상태에 있어서도 질소 가스 공급이 행해지도록 가스 공급 기구(34)를 제어하여, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 산소 농도를, 당해 진공 반송실(31)을 진공 상태로 하는 경우보다 낮아지도록 조정한다. 그 때문에, 아이들 상태에 있어서도 진공 반송실(31)의 산소 농도가 낮으므로, 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀하고 나서 얼마되지 않더라도, 진공 반송실(31)의 산소 농도가 낮다. 따라서, 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀해서 얼마되지 않은 시점에서, 진공 반송실(31) 내에 있어서 웨이퍼(W)의 피처리면이 산화되는 것을 억제할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 설정 압력은, 당해 아이들 상태 중에 항상 일정하지 않아도 되며, 당해 아이들 상태 중의 미리 결정된 타이밍에 변경되어도 된다. 예를 들어, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 설정 압력은 당해 아이들 상태 중에 정기적으로 변경되어도 된다. 보다 구체적으로는, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 설정 압력을 소정 시간 경과마다 증대시키고, 질소 가스의 공급 압력 즉 공급량을 증가시키도록 해도 된다. 이에 의해, 아이들 상태에 있어서 진공 반송실(31)의 설정 압력을 일정하게 하고 질소 가스의 공급량을 일정하게 하면 진공 반송실(31) 내의 산소 농도가 상승하는 경우에도, 당해 산소 농도의 상승을 억제할 수 있다.
(제1 실시 형태의 변형예)
도 7은, 제1 실시 형태의 변형예에 따른 진공 반송실(31)의 개략 구성예를 나타내는 도면이다.
도 7의 진공 반송실(31)은, 전술한 도 4에 도시한 진공 반송실(31)의 각 구성 부재 외에, 도 7에 도시한 바와 같이, 진공 반송실(31) 내의 산소 농도를 검출하는 산소 농도 검출부로서의 산소 농도 센서(50)가 배기구(31b)의 근방에 마련되어 있다.
도 7의 진공 반송실(31)을 사용하는 경우에 있어서, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 설정 압력을, 당해 아이들 상태 중의 미리 결정된 타이밍에 변경할 때에는, 그 미리 결정된 타이밍을 산소 농도 센서(50)에서의 검출 결과에 기초하여 결정해도 된다. 즉, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 설정 압력이, 당해 아이들 상태 중에, 산소 농도 센서(50)에서의 검출 결과에 기초하여 변경되도록 해도 된다.
예를 들어, 산소 농도 센서(50)에서의 검출 결과가, 산소 농도가 높은 것을 나타내고 있는 경우에는, 진공 반송실(31)의 설정 압력을 변경하여 크게 하여, 보다 많은 질소 가스가 진공 반송실(31)에 공급되도록 한다. 이에 의해, 아이들 상태 중에 산소 농도가 높아져도 저하시킬 수 있다.
또한, 산소 농도 센서(50)를 배기구(31b)의 근방에 마련함으로써, 급기구(31c)의 근방에 마련하는 경우 등에 비하여, 진공 반송실(31) 내의 산소 농도를 보다 정확하게 검출할 수 있다.
(제2 실시 형태)
도 8은, 제2 실시 형태에 따른 진공 처리 장치의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 8에 도시한 본 실시 형태의 진공 처리 장치(60)는, 전술한 도 3 및 도 4의 진공 처리 장치(1)의 각 구성 부재 외에, 도 7의 것과 마찬가지로, 산소 농도 검출부로서의 산소 농도 센서(50)가 배기구(31b)의 근방에 마련되어 있다. 또한, 본 실시 형태의 진공 처리 장치(60)는, 제1 실시 형태의 진공 처리 장치(1)가 갖고 있던 압력 제어 밸브(34d) 대신에, 유량 제어부로서의 매스 플로우 컨트롤러(61)가 급기관(34b)에 마련되어 있다.
제1 실시 형태에서는, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 산소 농도를 진공 상태보다도 낮은 값으로 조정할 때, 목표의 산소 농도에 대응하는 진공 반송실(31)의 설정 압력이 설정되어 있었다. 그리고, 아이들 상태에 있어서, 설정 압력으로 진공 반송실(31)을 압력 조절하기 위해서, 압력 센서(35)에서의 검출 결과에 기초하여, 압력 제어 밸브(34d)를 제어하여 질소 가스의 진공 반송실(31)로의 공급 압력을 제어하고 있었다.
그에 반하여, 본 실시 형태의 진공 처리 장치(60)에서는, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 산소 농도를 진공 상태보다도 낮은 값으로 조정할 때, 진공 반송실(31) 내의 목표 산소 농도가 설정된다. 그리고, 아이들 상태에 있어서, 진공 반송실(31) 내의 산소 농도를 상기 목표의 산소 농도로 하기 위해서, 산소 농도 센서(50)에서의 검출 결과에 기초하여, 매스 플로우 컨트롤러(61)를 제어하여 질소 가스의 진공 반송실(31)로의 공급 유량을 제어한다.
본 실시 형태에 있어서도, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31)의 산소 농도가, 당해 진공 반송실(31)을 진공 상태로 하는 경우보다 낮아진다. 따라서, 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀해서 얼마되지 않은 시점에서, 진공 반송실(31) 내에 있어서 웨이퍼(W)의 피처리면이 산화되는 것을 억제할 수 있다.
또한, 본 실시예에서도 동작 상태에 있어서, 가스 공급 기구(34)로부터의 질소 가스 공급에 의해 진공 반송실(31) 내의 압력은 설정 압력으로 조정된다.
진공 반송실(31) 내의 압력이, 동작 상태일 때보다도 아이들 상태일 때의 쪽이 작아지도록, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실(31) 내의 목표 산소 농도를 설정해도 된다. 즉, 동작 상태에서 아이들 상태일 때의 질소 가스 공급 유량을 작게 해도 된다. 이에 의해, 아이들 상태에 있어서, 질소 가스의 소비량을 억제하면서, 진공 반송실(31)의 산소 농도의 상승을 억제할 수 있다.
(제1 및 제2 실시 형태의 변형예)
제1 실시 형태에서는, 압력 센서에서의 검출 결과에 기초하여 가스 공급 기구의 압력 제어 밸브를 제어하고, 제2 실시 형태에서는, 산소 농도 센서에서의 검출 결과에 기초하여 가스 공급 기구의 매스 플로우 컨트롤러를 제어하고 있었다. 이들을 대신하여, 압력 센서에서의 검출 결과에 기초하여 가스 공급 기구의 매스 플로우 컨트롤러를 제어해도 되고, 산소 농도 센서에서의 검출 결과에 기초하여 가스 공급 기구의 압력 제어 밸브를 제어하도록 해도 된다.
또한, 도 1에 도시한 실험 결과에서는, 전술한 바와 같이, 진공 반송실 내의 압력이 3.2Pa일 때, 진공 반송실 내의 산소 농도는 3.4ppm이었다. 대기압(1×104Pa)에서 20.6% 함유되는 산소가, 분압을 유지한 채 3.2Pa까지 감압된 경우, 산소 농도는 계산상 6.6ppm으로 된다. 이 계산상의 값보다 낮은 3.4ppm으로 된 이유로서는, 산소 농도 센서의 오차, 가스종에 의해 분자량이나 평균 자유 공정이 다름에 따라 발생하는 배기 펌프의 배기 효율, 가스종에 의한 시일면에서의 투과율의 차이 등이 생각된다.
금회 개시된 실시 형태 및 변형예는 모든 점에서 예시이지 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 상기 실시 형태는, 첨부의 청구범위 및 그 주지를 일탈하지 않고, 다양한 형태로 생략, 치환, 변경되어도 된다.
또한, 이하와 같은 구성도 본 개시의 기술적 범위에 속한다.
(1) 피처리체에 대해서 감압하에서 미리 결정된 처리를 행하는 진공 처리 장치로서,
실내가 감압되고 피처리체에 대해서 상기 미리 결정된 처리가 행해지는 진공 처리실이 형성된 처리 모듈과,
상기 진공 처리실과의 사이에 게이트 밸브를 통해 마련된 실내가 감압 상태로 유지되고, 또한, 당해 실내에 상기 진공 처리실과의 사이에서 피처리체의 반송을 행하는 반송 기구가 마련된 진공 반송실이 형성된 진공 반송 모듈과,
적어도 산화 방지용으로 사용되는 미리 결정된 가스를 상기 진공 반송실에 공급하는 가스 공급 기구와,
상기 가스 공급 기구를 제어하는 제어부를 갖고,
상기 제어부는,
당해 진공 처리 장치에서 피처리체에 대한 처리가 행해지지 않은 아이들 상태에 있어서, 상기 진공 반송실에 상기 미리 결정된 가스가 공급되도록 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 상기 아이들 상태에 있어서의 당해 진공 반송실의 산소 농도를, 당해 진공 반송실을 진공 상태로 하는 경우보다도 낮아지도록 조정하는, 진공 처리 장치.
상기 (1)에 의하면, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실의 산소 농도가 낮기 때문에, 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀하고 나서 얼마되지 않더라도, 진공 반송실의 산소 농도가 낮다. 따라서, 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀해서 얼마되지 않은 시점에서, 진공 반송실 내에 있어서 피처리체가 산화되는 것을 억제할 수 있다.
(2) 상기 제어부는,
당해 진공 처리 장치에서 피처리체에 대한 처리가 행해지는 동작 상태에 있어서, 상기 진공 반송실에 상기 미리 결정된 가스가 공급되도록 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 상기 동작 상태에 있어서의 당해 진공 반송실의 압력을, 상기 진공 처리실의 압력보다 커지도록 조정하며, 또한
상기 동작 상태보다도 상기 아이들 상태일 때의 쪽이, 상기 진공 반송실의 압력이 작아지도록 상기 가스 공급 기구를 제어하는, 상기 (1)에 기재된 진공 처리 장치.
상기 (2)에 의하면, 아이들 상태일 때의 가스 사용량을 억제하면서, 아이들 상태일 때의 산소 농도의 상승을 억제할 수 있다.
(3) 상기 진공 반송실의 압력을 검출하는 압력 검출부를 갖고,
상기 제어부는, 상기 아이들 상태에 있어서, 상기 압력 검출부에서의 검출 결과에 기초하여 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 상기 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 산소 농도를 조정하는, 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 진공 처리 장치.
(4) 상기 가스 공급 기구는, 상기 진공 반송실로의 상기 미리 결정된 가스의 공급 압력을 조정하는 압력 제어 밸브를 갖고,
상기 제어부는, 상기 아이들 상태에 있어서, 상기 압력 검출부에서의 검출 결과에 기초하여 상기 압력 제어 밸브를 제어하여, 당해 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 산소 농도를 조정하는, 상기 (3)에 기재된 진공 처리 장치.
(5) 상기 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 설정 압력은, 당해 아이들 상태 중에 미리 결정된 타이밍에 변경되는, 상기 (3) 또는 (4)에 기재된 진공 처리 장치.
(6) 상기 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 설정 압력은, 당해 아이들 상태 중에 정기적으로 변경되는, 상기 (5)에 기재된 진공 처리 장치.
(7) 상기 진공 반송실의 산소 농도를 검출하는 산소 농도 검출부를 갖고,
상기 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 설정 압력은, 당해 아이들 상태 중에, 상기 산소 농도 검출부에서의 검출 결과에 기초하여 변경되는, 상기 (5)에 기재된 진공 처리 장치.
(8) 상기 진공 반송실의 산소 농도를 검출하는 산소 농도 검출부를 갖고,
상기 제어부는, 상기 아이들 상태에 있어서, 상기 산소 농도 검출부에서의 검출 결과에 기초하여 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 당해 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 산소 농도를 조정하는, 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 진공 처리 장치.
(9) 상기 가스 공급 기구는, 상기 진공 반송실로의 상기 미리 결정된 가스의 공급 유량을 제어하는 유량 제어부를 갖고,
상기 제어부는, 상기 아이들 상태에 있어서, 상기 산소 농도 검출부에서의 검출 결과에 기초하여 상기 유량 제어부를 제어하여, 당해 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 산소 농도를 조정하는, 상기 (8)에 기재된 진공 처리 장치.
(10) 상기 처리 모듈의 상기 진공 처리실에 있어서, 피처리체가 400℃ 이상으로 가열된 상태에서 상기 미리 결정된 처리가 행해지는, 상기 (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 기재된 진공 처리 장치.
(11) 상기 제어부는, 상기 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 산소 농도가 설정값 이하로 되도록, 상기 가스 공급 기구를 제어하는, 상기 (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 기재된 진공 처리 장치.
(12) 상기 설정값은, 0.1ppm인, 상기 (11)에 기재된 진공 처리 장치.
상기 (12)에 의하면, 아이들 상태에 있어서의 진공 반송실의 산소 농도가 0.1ppm 이하이면 아이들 상태로부터 동작 상태로 복귀해서 얼마되지 않은 시점의 진공 반송실 내의 산소 농도를 매우 작게 할 수 있다. 따라서, 상기 시점에 있어서, 피처리체가 산화되는 것을 확실하게 억제할 수 있다.
(13) 피처리체에 대해서 감압하에서 미리 결정된 처리를 행하는 진공 처리 장치의 제어 방법으로서,
상기 진공 처리 장치는,
실내가 감압되고 피처리체에 대해서 상기 미리 결정된 처리가 행해지는 진공 처리실이 형성된 처리 모듈과,
상기 진공 처리실과의 사이에서 게이트 밸브를 통해 마련된 실내가 감압 상태로 유지되며, 또한, 당해 실내에 상기 진공 처리실과의 사이에서 피처리체의 반송을 행하는 반송 기구가 마련된 진공 반송실이 형성된 진공 반송 모듈과,
적어도 산화 방지용으로 사용되는 미리 결정된 가스를 상기 진공 반송실에 공급하는 가스 공급 기구를 갖고,
당해 제어 방법은,
상기 진공 처리 장치에서 피처리체에 대한 처리가 행해지지 않은 아이들 상태에 있어서, 상기 진공 반송실에 상기 미리 결정된 가스가 공급되도록 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 상기 아이들 상태에 있어서의 당해 진공 반송실의 산소 농도를, 당해 진공 반송실을 진공 상태로 하는 경우보다도 낮아지도록 조정하는 공정을 갖는, 진공 처리 장치의 제어 방법.

Claims (13)

  1. 피처리체에 대해서 감압하에서 미리 결정된 처리를 행하는 진공 처리 장치로서,
    실내가 감압되고 피처리체에 대해서 상기 미리 결정된 처리가 행해지는 진공 처리실이 형성된 처리 모듈과,
    상기 진공 처리실과의 사이에 게이트 밸브를 통해 마련된 실내가 감압 상태로 유지되며, 또한, 당해 실내에 상기 진공 처리실과의 사이에서 피처리체의 반송을 행하는 반송 기구가 마련된 진공 반송실이 형성된 진공 반송 모듈과,
    적어도 산화 방지용으로 사용되는 미리 결정된 가스를 상기 진공 반송실에 공급하는 가스 공급 기구와,
    상기 가스 공급 기구를 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 제어부는,
    당해 진공 처리 장치에서 피처리체에 대한 상기 미리 결정된 처리가 행해지지 않은 아이들 상태에 있어서, 상기 진공 반송실에 상기 미리 결정된 가스가 공급되도록 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 상기 아이들 상태에 있어서의 당해 진공 반송실의 제1 산소 농도를, 당해 진공 반송실을 진공 상태로 하는 경우에서의 제2 산소 농도보다도 낮아지도록 조정하는, 진공 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는,
    당해 진공 처리 장치에서 피처리체에 대한 상기 미리 결정된 처리가 행해지는 동작 상태에 있어서, 상기 진공 반송실에 상기 미리 결정된 가스가 공급되도록 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 상기 동작 상태에 있어서의 당해 진공 반송실의 압력을, 상기 진공 처리실의 압력보다 커지도록 조정하며, 또한
    상기 동작 상태보다도 상기 아이들 상태일 때의 쪽이, 상기 진공 반송실의 압력이 작아지도록 상기 가스 공급 기구를 제어하는, 진공 처리 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 진공 반송실의 압력을 검출하는 압력 검출부를 포함하고,
    상기 제어부는, 상기 아이들 상태에 있어서, 상기 압력 검출부에서의 검출 결과에 기초하여 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 상기 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 상기 제1 산소 농도를 조정하는, 진공 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 가스 공급 기구는, 상기 진공 반송실로의 상기 미리 결정된 가스의 공급 압력을 조정하는 압력 제어 밸브를 포함하고,
    상기 제어부는, 상기 아이들 상태에 있어서, 상기 압력 검출부에서의 검출 결과에 기초하여 상기 압력 제어 밸브를 제어하여, 당해 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 상기 제1 산소 농도를 조정하는, 진공 처리 장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 설정 압력은, 당해 아이들 상태 중에 미리 결정된 타이밍에 변경되는, 진공 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 설정 압력은, 당해 아이들 상태 중에 정기적으로 변경되는, 진공 처리 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 진공 반송실의 상기 제1 산소 농도를 검출하는 산소 농도 검출부를 포함하고,
    상기 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 설정 압력은, 당해 아이들 상태 중에, 상기 산소 농도 검출부에서의 검출 결과에 기초하여 변경되는, 진공 처리 장치.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 진공 반송실의 상기 제1 산소 농도를 검출하는 산소 농도 검출부를 포함하고,
    상기 제어부는, 상기 아이들 상태에 있어서, 상기 산소 농도 검출부에서의 검출 결과에 기초하여 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 당해 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 상기 제1 산소 농도를 조정하는, 진공 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 가스 공급 기구는, 상기 진공 반송실로의 상기 미리 결정된 가스의 공급 유량을 제어하는 유량 제어부를 포함하고,
    상기 제어부는, 상기 아이들 상태에 있어서, 상기 산소 농도 검출부에서의 검출 결과에 기초하여 상기 유량 제어부를 제어하여, 당해 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 상기 제1 산소 농도를 조정하는, 진공 처리 장치.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 처리 모듈의 상기 진공 처리실에 있어서, 피처리체가 400℃ 이상으로 가열된 상태에서 상기 미리 결정된 처리가 행해지는, 진공 처리 장치.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 아이들 상태에 있어서의 상기 진공 반송실의 상기 제1 산소 농도가 설정값 이하로 되도록, 상기 가스 공급 기구를 제어하는, 진공 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 설정값은 0.1ppm인, 진공 처리 장치.
  13. 피처리체에 대해서 감압하에서 미리 결정된 처리를 행하는 진공 처리 장치의 제어 방법으로서,
    상기 진공 처리 장치는,
    실내가 감압되고 피처리체에 대해서 상기 미리 결정된 처리가 행해지는 진공 처리실이 형성된 처리 모듈과,
    상기 진공 처리실과의 사이에 게이트 밸브를 통해 마련된 실내가 감압 상태로 유지되며, 또한, 당해 실내에 상기 진공 처리실과의 사이에서 피처리체의 반송을 행하는 반송 기구가 마련된 진공 반송실이 형성된 진공 반송 모듈과,
    적어도 산화 방지용으로 사용되는 미리 결정된 가스를 상기 진공 반송실에 공급하는 가스 공급 기구를 포함하고,
    당해 제어 방법은,
    상기 진공 처리 장치에서 피처리체에 대한 상기 미리 결정된 처리가 행해지지 않은 아이들 상태에 있어서, 상기 진공 반송실에 상기 미리 결정된 가스가 공급되도록 상기 가스 공급 기구를 제어하여, 상기 아이들 상태에 있어서의 당해 진공 반송실의 제1 산소 농도를, 당해 진공 반송실을 진공 상태로 하는 경우에서의 제2 산소 농도보다도 낮아지도록 조정하는 공정을 포함하는, 진공 처리 장치의 제어 방법.
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