KR102275736B1 - 드라이 필름 포토 레지스트용 감광성 수지 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 드라이필름 포토레지스트용 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 광중합 개시제, 알카리 현상성 바인더 폴리머, 분자 내에 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 광중합성 화합물을 포함하고, 상기 광중합 개시제는 2,4,5-트리아릴이미다졸 2량체 또는 아크리딘 화합물을 포함하며, 상기 광중합성 화합물은 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 드라이필름 포토레지스트용 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 조성물을 포함하는 포토레지스트는 특히 현상 공정에서 발생하는 슬러지를 현저히 억제하고, 소량의 노광 에너지량으로도 노광시킬 수 있는 장점이 있다.

Description

드라이 필름 포토 레지스트용 감광성 수지 조성물 {Photosensitive resin composition for Dry Film Photoresist}
본 발명은 드라이 필름 포토 레지스트용 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 광중합 개시제, 알칼리 현상성 바인더 폴리머, 및 광중합성 화합물을 포함하는 드라이 필름 포토 레지스트용 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
감광성 수지 조성물은 인쇄회로기판(Printed Circuit Board, PCB)이나 Lead Frame에 사용되고 있는 드라이 필름 포토 레지스트(Dry Film Photorsist, DFR)나 액상 포토 레지스트(Liquid Photoresist Ink) 등의 형태로 사용되고 있다.
현재는 인쇄회로기판(PCB)나 리드 프레임 제조뿐만 아니라 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 립 베리어(Rib barrier)나 기타 디스플레이의 ITO 전극, Bus Address 전극, Black Matrix 제조 등에도 DFR이 널리 사용되고 있다.
PCB, 리드 프레임(Lead Frame) 등을 제조하는 데 있어서, 가장 중요한 공정 중 하나가 원판인 구리 적층판(Copper Clad Lamination Sheet, 이하 CCLS라 칭함), Copper Foil에 회로를 형성하는 공정이다. 이 공정에 사용되는 이미지 전사 방식을 포토 리소그라피(Photo Lithography)라 하며, 이 포토 리소그라피를 하기 위해서 쓰이는 원본 이미지판을 Artwork(PCB, Lead Frame 제조부분에서 통상적으로 사용되는 용어), Photomask(반도체 제조부분에서 통상적으로 사용되는 용어)라 부르고 있다.
그리고 이 Artwork의 이미지에 빛이 통과하는 부분과 그렇지 못한 부분으로 되어 있으며, 이를 이용하여 이미지를 전사한다. 이 이미지 전사 공정을 노광 공정이라 한다.
Artwork의 이미지는 빛의 투과와 비투과에 의해서 CCLS 또는 Copper Foil로 전사되는데, 이때 이 빛을 받아서 이미지를 형성해 주는 물질이 포토레지스트(Photoresist, 이하 PR이라 칭함)이다. 따라서 PR은 Artwork의 이미지를 전사하기 전에 CCLS, Copper Foil에 라미네이션 또는 코팅되어 있어야 한다.
노광 공정 시 통상적으로 PCB, Lead Frame 업체에서는 PR을 초고압 수은 램프가 발하는 i선 (365nm)을 포함하는 자외선(ultra Violet, 이하 UV라 칭함)으로 노광함으로써 노광 부분을 중합 경화시킨다. 최근에는 레이저에 의한 직접 묘화, 즉, Artwork를 필요로 하지 않는 마스크리스 노광이 급격한 확산을 보이고 있다. 마스크리스 노광의 광원으로는 파장 350~410nm의 광, 특히 i선(365nm) 또는 h선(405nm)이 사용되는 경우가 많다. 그러나 통상적으로 실시되는 초고압 수은등 노광에 비해 마스크리스 노광은 노광하는 시간이 길어서 노광 시간을 짧게 하는 고감도의 PR이 요구되고 있다.
최근에는 감광성 수지 조성물에 있어서 초고압 수은등이나 Laser Direct 노광에 대한 감도가 높고, 현상공정에서 현상액에 대한 내성이 증가하여 고밀도의 회로 형성이 가능하며, 현상공정에서 발생하는 슬러지를 억제하여 양호한 현상성을 가지는 감광성 수지 조성물을 필요로 하고 있다.
이와 관련된 기술로, 대한민국 공개특허 제2012-0157531호는 n-페닐 글리신을 포함하는 광중합성 화합물을 적용한 기술을 제시하였으나, 슬러지 억제 기능에 대해서는 개시한 바가 없었다.
본 발명은 현상액에 대한 내성을 가져 세선 밀착성 및 해상성을 향상시키고, 특히 현상공정에서 발생하는 슬러지를 억제하는 특성을 장점으로 가지며, Laser Direct 노광기에서 소량의 노광 에너지량으로도 노광시킬 수 있는 드라이필름 포토레지스트용 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 바람직한 제 1 구현예는, [A]광중합 개시제 0.5 내지 20 중량%, [B]알카리 현상성 바인더 폴리머 30 내지 70 중량%, [C] 분자 내에 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 광중합성 화합물 10 내지 50 중량%를 포함하고, 상기 [A]광중합 개시제는 2,4,5-트리아릴이미다졸 2량체 또는 아크리딘 화합물을 포함하며, 상기 광중합성 화합물은 하기 화학식 1 또는, 화학식 2로 표현되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 드라이필름 포토레지스트용 감광성 수지 조성물이다.
<화학식 1>
Figure 112015031368854-pat00001
상기 식에서, m은 10 이하의 정수이며, n은 5 이하의 정수이다.
<화학식 2>
Figure 112015031368854-pat00002
상기 식에서, n은 7 내지 10의 정수이다.
상기 화학식 1 또는, 화학식 2로 표현되는 화합물은 광중합성 화합물 총 중량에 대하여, 10 내지 50 중량%로 포함하는 것일 수 있다.
상기 제 1 구현예에 의한 알칼리 현상성 바인더 폴리머의 평균분자량은 30,000 내지 150,000이고, 유리전이온도는 60 내지 150 ℃인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 바람직한 제 2 구현예는 상기 조성물을 포함하는 드라이 필름 포토레지스트이다.
본 발명은 드라이필름 포토레지스트에 포함되는 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 구체적으로는 현상액에 대한 내성을 가져 세선 밀착성 및 해상성을 향상시키고, 특히 현상공정에서 발생하는 슬러지를 억제하는 특성을 장점으로 가지며, Laser Direct 노광기를 사용하는 경우 소량의 노광 에너지량으로도 노광시킬 수 있어 노광 공정의 속도가 전체 생산 속도를 좌우하는 업체나, PCB, 리드 프레임, PDP, 및 기타 디스플레이 소자 등에 이미지를 생성하는 데 있어서 생산성을 극대화시킬 수 있는 장점이 있다.
본 발명에 따른 바람직한 제 1 구현예는, [A]광중합 개시제 0.5 내지 20 중량%, [B]알카리 현상성 바인더 폴리머 30 내지 70 중량%, [C] 분자 내에 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 광중합성 화합물 10 내지 50 중량%를 포함하고, 상기 [A]광중합 개시제는 2,4,5-트리아릴이미다졸 2량체 또는 아크리딘 화합물을 포함하며, 상기 광중합성 화합물은 하기 화학식 1 또는, 화학식 2로 표현되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 드라이필름 포토레지스트용 감광성 수지 조성물이다.
<화학식 1>
Figure 112015031368854-pat00003
식 중, m은 10 이하의 정수이며, n은 5 이하의 정수를 나타낸다.
<화학식 2>
Figure 112015031368854-pat00004
상기 식에서, n은 7 내지 10의 정수이다.
본 발명에서는 상기 화학식 1 또는, 화학식 2로 표시되는 화합물을 감광성 수지 조성물 중에 1 내지 20중량%로, 바람직하게는 1.5 내지 15중량%로 포함한다. 상기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 화합물의 함량이 1중량% 미만일 경우 그 효과가 미흡할 수 있고, 20중량%를 초과하는 경우 노광 후 현상 공정에서의 현상시간이 급격히 감소하는 단점이 발생할 수 있다.
본 발명의 분자 내에 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 광중합성 화합물은 상기 화학식 1 또는, 화학식 2로 표시되는 화합물 이외에도 말단에 적어도 2개의 에틸렌기를 갖는 단량체를 포함할 수 있다.
상기 말단에 적어도 2개의 에틸렌기를 갖는 단량체로는 에틸렌글리콜디메타크릴레이트(ethylene glycol dimethacrylate), 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트(diethylene glycol dimethacrylate), 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트(tetraethylene glycol dimethacrylate), 프로필렌글리콜디메타크릴레이트(propylene glycol dimethacrylate), 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트(polypropylene glycol dimethacrylate), 부틸렌글리콜디메타크릴레이트(butylene glycol dimethacrylate), 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트(neopentyl glycol dimethacrylate), 1,6-헥산글리콜디메타크릴레이트(1,6-hexane glycol dimethacrylate), 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트(trimethyolpropane trimethacrylate), 글리세린 디메타크릴레이트(glycerin dimethacrylate), 펜타에리트리톨 디메타크릴레이트(pentaerythritol dimethacrylate), 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트(pentaerythritol trimethacrylate), 디펜타에리트리톨 펜타메타크릴레이트(dipentaerythritol pentamethacrylate), 2,2-비스(4-메타크릴옥시디에톡시페닐)프로판(2,2-bis(4-methacryloxydiethoxyphenyl)propane), 2-히드록시-3-메타크릴로일옥시프로필 메타크릴레이트(2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl methacrylate), 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르 디메타크릴레이트(ethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate), 디에틸렌글리콜 디글리시딜에테르 디메타크릴레이트(diethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate), 프탈산 디글리시딜에스테르 디메타크릴레이트(phthalic acid diglycidyl ester dimethacrylate), 글리세린 폴리글리시딜에테르 폴리메타크릴레이트(glycerin polyglycidyl ether polymethacrylate) 및 우레탄기를 함유한 다관능 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 광중합성 올리고머의 함량은 감광성 수지 조성물 중에 10 내지 70중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 광중합성 올리고머의 함량이 상기 범위 내에 있는 경우 광감도와 해상도, 밀착성을 강화하는 효과를 얻을 수 있다.
[D] 기타 첨가제
본 발명의 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 기타 첨가제를 더 포함할 수 있는데, 기타 첨가제로는 가소제로서 프탈산 에스테르 형태의 디부틸 프탈레이트, 디헵틸 프탈레이트, 디옥틸 프탈레이트, 디알릴 프탈레이트; 글리콜 에스테르 형태인 트리에틸렌 글리콜 디아세테이트, 테트라에틸렌 글리콜 디아세테이트; 산 아미드 형태인 p-톨루엔 설폰아미드, 벤젠설폰아미드, n-부틸벤젠설폰아미드; 트리페닐 포스페이트 등을 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서 감광성 수지 조성물의 취급성을 향상시키기 위해서, 류코 염료나 착색 물질을 넣을 수 도 있다.
류코 염료로는, 트리스(4-디메틸아미노-2-메틸페닐)메탄, 트리스(4-디메틸아미노-2메틸페닐)메탄, 플루오란 염료를 들 수 있다. 그중에서도, 류코 크리스탈 바이올렛을 사용한 경우, 콘트라스트가 양호하여 바람직하다. 류코 염료를 함유하는 경우의 함유량은, 감광성 수지 조성물 중에 0.1 ~10 질량%가 바람직하다. 콘트라스트의 발현이라는 관점에서, 0.1질량% 이상이 바람직하고, 또, 보존 안정성을 유지한다는 관점에서, 10질량% 이하가 바람직하다.
착색 물질로는, 예를 들어 푸크신, 프탈로시아닌 그린, 오라민 염기, 파라마젠타, 크리스탈 바이올렛, 메틸 오렌지, 나일 블루 2B, 빅토리아 블루, 말라카이트 그린, 다이아몬드 그린, 베이직 블루 20을 들 수 있다. 착색 물질을 함유하는 경우의 첨가량은, 감광성 수지 조성물 중에 0.001 ~ 1 질량%가 바람직하다. 0.001 질량% 이상의 함량에서는, 취급성 향상이라는 효과가 있고, 1 질량% 이하의 함량에서는, 보존 안정성을 유지한다는 효과가 있다.
그 외에 기타 첨가제로는 열중합 금지제, 염료, 변색제(discoloring agent), 밀착력 촉진제 등을 더 포함할 수 있다.
본 발명에서는 상기와 같은 조성으로 된 드라이 필름 포토레지스트용 감광성 수지 조성물을 제조하여, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 같은 통상의 기재 필름 위에 통상의 코팅 방법을 이용하여 두께 10 내지 400㎛로 감광성 수지층을 코팅시킨 다음, 건조시킨다. 건조시킨 감광성 수지층 위에 폴리에틸렌과 같은 통상의 보호 필름을 이용하여 라미네이션시킨다. 또한, 드라이 필름을 노광, 현상시켜 각각의 물성을 평가하는 방법으로 수행한다. 상기 노광은 UV, 가시광선 레이저 등을 포함하는 Laser Direct 노광기를 이용하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
[ 실시예 ]
실시예 1~5, 비교예 1~7
드라이 필름 포토레지스트용 감광성 수지 조성물은 하기 표 1과 같은 조성에 따라 조합 및 코팅하여 평가하였다. 우선 광중합 개시제류들을 용매인 메틸에틸케톤(MEK)과 메탄올(MeOH)에 녹인 후 광중합성 모노머와 알칼리 현상성 바인더 폴리머를 첨가하여 기계적 교반기를 이용하여 약 1시간 정도 혼합한 후 PET 필름 위에 감광성 수지 조성물을 코팅 바(bar)를 이용하여 코팅하고, 코팅된 감광성 수지 조성물층은 열풍오븐을 이용하여 건조시키는데 이때 건조 온도는 80℃, 건조 시간은 5분이고, 건조후 막 두께는 30㎛이다. 건조가 완료된 필름은 감광성 수지층 위에 보호필름(PE)를 이용하여 라미네이션시켰다.
드라이 필름의 반응성은 드라이 필름을 CCL위에 라미네이션 장비(Hakuto Mach610i)를 이용하여 110℃, 라미네이션 롤 압력 4kgf/㎠, 속도 2.0m/min로 라미네이션시킨 후에 드라이 필름의 표면위에 Stuffer Step Tablet을 위치시킨 후, INPREX IP-3600H를 이용하여 노광시키고, Na2CO3 1중량% 수용액, 30℃, 스프레이 압력 1.5kgf/㎠의 조건에서 현상시켰다.
드라이 필름의 회로물성은 주어진 감도에서 KOLON Test Artwork을 이용하여 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
성분(함량: 중량%) 비교예 실시예
1 2 3 4 5 6 1 2 3 4 5
용매 메틸에틸케톤(MEK) 20 20 20 20 20 20 20 20 20 20 20
광중합
개시제		 BCIM(1) 3.5 3.5 3.5 - 3.5 3.5 3.5 3.5 - - 3.5
9,10-디부톡시안트라센 0.5 0.5 0.5 1.5 0.5 0.5 0.5 0.5 - - 0.5
9-페닐아크리딘 - - - - - - - - 1.5 1.5 -
BMPS(2) 1.0 1.0 1.0 - - 1.0 1.0 1.0
n-페닐글리신 - - - 0.5 0.5 0.5 - - 0.5 0.5 0.5
착색제 루코 크리스탈 바이올렛 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
톨루엔술폰산1수화물 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3
다이아몬드 그린 GH 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
광중합성 올리고머 BPE-500(신나카무라)(3) 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7 7
M281(미원상사)(4) 6 9 6 6 6 6 6 6 6 6 6
A-TMPT-3EO(5) 7
 4 4 5 - - 4 4 5 3 -
A(6)(NOF사) - - - 3 - - 3 - 3 5 -
B(7)(NOF사) - - - - - - - 3 - - -
C(8)(NOF사) - - 3 - - - - - - - -
PDP-400(NOF사) (9) 7 4 -
PDT-650(NOF사) (10) - 3 7
바인더
폴리머		 KOLON BP-1(11)
(고형분 50%)		 55 55 55 55 55 55 55 55 55 55 55
(주)
(1)BCIM : 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비스이미다졸
(2)BMPS : Tribromomethyl Phenyl sulfone
(3)BPE-500 :(2,2-bis[4-(methacryloxypolyethoxy)phenyl]propane
(4)M281 : polyethylene glycol dimethacrylate
(5)A-TMPT-3EO : trimethylolpropane triacrylate
[6~8]55PET-800 : Poly (ethyleneglycol tetramethyleneglycol) methacrylate
(6)A : 본 발명 화학식 1에서 m=10, n=5
(7)B : 본 발명 화학식 1에서 m=8, n=2
(8)C : 본 발명 화학식 1에서 m=8, n=0
(9)PDP-400 : Polypropyleneglycol dimethacrylate
(10)PDT-650 : Polytetramethyleneglycol dimethacrylate(본 발명 화학식 2에서 n=9)
(11)KOLON BP-1 : Methacryliacid : Acrylc acid : Methylmethacrylate = 10:10:80 비율의 선형고분자
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 드라이 필름 포토 레지스트를 이용하여 다음과 같이 동판에 대한 노광량, 광감도, 세선 밀착력, 해상도, 박리성을 측정하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
(1) 노광량
노광장치 INPREX IP-3600H를 사용하여 노광하였다.
(2) 광감도
반응성의 측도로 사용되는 감도는 Stouffer Graphic Arts Equipment Co.의 21단 스텝 tablet을 사용하여 레지스트를 기준으로 하여 측정하였다.
(3) 세선 밀착력
제조된 감광성 드라이 필름 레지스트의 PE 필름을 제거하고 난 후, 가열압착롤러를 이용하여 동판에 라미네이션시켰다. 여기에 5㎛ 단위로 나누어져 있는 10~60㎛의 배선패턴을 가지는 포토툴을 이용하여 노광하고 현상한 후 레지스트의 밀착력을 측정하였다.
밀착력의 배선패턴은 Line/Space=x:400(단위:㎛)이며, 독립 세선 중 사행을 제외한 직선의 최소값을 읽은 것이다.
(4) 해상도
Line/Space=10:10 ~ 60:60(단위:㎛)의 배선패턴을 가지는 포토툴을 이용하여 노광하고 현상한 후 레지스트의 해상도를 측정하였다. 해상도는 노광 후의 현상에 의해서 형성된 레지스트 패턴에 있어서, 미노광부가 깨끗하게 제거된 패턴의 최소값을 읽은 것이다.
(5) 슬러지 억제성
슬러지 억제성은 제조된 감광성 드라이 필름 레지스트의 PET와 PE 필름을 제거하고 난 후, 1㎡를 1리터의 Na2CO3 1중량% 수용액에 용해시키고, 순환식 스프레이 장치를 이용하여 4시간 동안 스프레이를 한다. 그리고 1일간 방치하여 슬러지 발생을 관찰한다.
A - 슬러지가 전혀 보이지 않는다.
B - 스프레이 장치 일부에 슬러지가 보인다.
C - 스프레이 장치 전체에 슬러지가 보인다.
구분 비교예 실시예
1 2 3 4 5 6 1 2 3 4 5
노광량 (mJ/㎠) 20 20 20 50 30 30 20 20 14 14 30
광감도(X/21단스텝 tablet) 5 5 5 5 6 6 5 5 7 7 6
세선밀착력 (㎛) 30 35 35 50 20 25 25 25 25 20 20
해상도 (㎛) 35 30 35 30 30 25 20 25 25 25 20
슬러지 억제성 A A A A C C A A A A A
상기 표 2에서 보는 바와 같이 실시예와 비교예의 노광량 수치인 20, 50 mJ/㎠ 와 대비할 때, 실시예 1, 2는 20 mJ/㎠으로 동등한 수준이고, 실시예 3, 4는 보다 적은 14 mJ/㎠ 이하의 적은 노광량을 보이는 것을 확인할 수 있다. 이를 볼 때, 광중합 개시제로 2,4,5-트리아릴이미다졸 2량체 또는 아크리딘 화합물을 포함하면 소량의 노광 에너지량으로 노광시키는 장점을 획득할 수 있다.
또한, 상기 표 2에서 보는 바와 같이 실시예 1 내지 4와 비교예를 대비할 때, 광감도는 실시예들의 감도가 비교예들에 비해서 동등 수준이거나 우수한 것이 나타나고, 세선밀착력은 실시예 모두 25 ㎛이하이며, 해상도는 25 ㎛이하로 동등한 수준이거나 우수하다는 것을 확인할 수 있다.
또한, 화학식 2로 표시되는 분자내에 PO결합을 가지는 PDP-400이 포함된 비교예 5의 경우 매우 우수한 세선밀착력을 보였지만, 슬러지 억제성이 현저히 떨어지는 것을 확인하였다. 반면, 실시예 5는 동일 광감도에서 비교예 5 내지 6에 비해 세선밀착력 및 해상도가 향상되고 슬러지 억제성 또한 우수함을 확인하였다.
이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.

Claims (7)

  1. [A] 광중합 개시제 0.5 내지 20 중량%,
    [B] 알카리 현상성 바인더 폴리머 30 내지 70 중량%, 및
    [C] 분자 내에 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 광중합성 화합물 10 내지 50 중량%를 포함하고,
    상기 [A]광중합 개시제는 2,4,5-트리아릴이미다졸 2량체 또는 아크리딘 화합물을 포함하며,
    상기 [B]알칼리 현상성 바인더 폴리머의 유리전이온도는 60 내지 150 ℃이고,
    상기 [C]광중합성 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 드라이필름 포토레지스트용 감광성 수지 조성물:
    <화학식 1>
    Figure 112021012285937-pat00005

    상기 식에서, m은 10 이하의 정수이며, n은 5 이하의 자연수이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 화학식 1 로 표시되는 화합물은, 상기 [C]광중합성 화합물 총 중량에 대하여, 10 내지 50 중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는, 드라이필름 포토레지스트용 감광성 수지 조성물.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 1 항 및 제 2 항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 포함하는 드라이 필름 포토레지스트.
  6. [A] 광중합 개시제 0.5 내지 20 중량%,
    [B] 알카리 현상성 바인더 폴리머 30 내지 70 중량%, 및
    [C] 분자 내에 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 광중합성 화합물 10 내지 50 중량%를 포함하고,
    상기 [A]광중합 개시제는 2,4,5-트리아릴이미다졸 2량체 또는 아크리딘 화합물을 포함하며,
    상기 [B]알칼리 현상성 바인더 폴리머의 유리전이온도는 60 내지 150 ℃이고,
    상기 [C]광중합성 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하며,
    상기 화학식 2 로 표시되는 화합물은, 상기 [C]광중합성 화합물 총 중량에 대하여, 35 내지 50 중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는, 드라이필름 포토레지스트용 감광성 수지 조성물:
    <화학식 2>
    Figure 112021012285937-pat00006

    상기 화학식 2에서, n은 7 내지 10의 정수이다.
  7. 제 6 항에 따른 조성물을 포함하는 드라이 필름 포토레지스트.
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