KR102169893B1 - Exposure apparatus and method of manufacturing article - Google Patents

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Abstract

기판의 주사 노광을 행하는 노광 장치는, 원판의 패턴을 상기 기판에 투영하는 투영 광학계와, 제어부를 갖는다. 투영 광학계는, 오목 거울과 볼록 거울을 포함하는 복수의 광학 부재와, 오목 거울의 면 형상을 조정하기 위하여 오목 거울의 이면의 복수 개소에 힘을 가하는 복수의 조정부와, 상기 광학 부재의 위치 및 자세의 적어도 어느 것을 계측하는 계측부를 포함한다. 제어부는, 계측부에 의해 계측된 계측 결과에 기초하여, 주사 노광의 실행 중에 오목 거울의 면 형상을 조정하도록 복수의 조정부의 제어를 행한다.An exposure apparatus that performs scanning exposure of a substrate has a projection optical system for projecting a pattern of an original plate onto the substrate, and a control unit. The projection optical system includes a plurality of optical members including a concave mirror and a convex mirror, a plurality of adjustment units for applying a force to a plurality of locations on the rear surface of the concave mirror in order to adjust the surface shape of the concave mirror, and a position and posture of the optical member It includes a measurement unit that measures at least any of. The control unit controls the plurality of adjustment units to adjust the surface shape of the concave mirror during the execution of the scanning exposure based on the measurement result measured by the measurement unit.

Description

노광 장치 및 물품의 제조 방법{EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE}An exposure apparatus and a manufacturing method of an article TECHNICAL FIELD [EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE}

본 발명은 노광 장치 및 물품의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus and a method for manufacturing an article.

FPD(플랫 패널 디스플레이) 등의 표시용 디바이스로서 액정 표시 패널이 다용되게 되었다. 액정 표시 패널은 노광 장치를 이용한 포트 리소그래피의 방법을 사용하여 제조된다. 최근 들어, 노광 장치의 고정밀도화가 요구되게 되고, 투영 광학계의 수차 보정의 필요가 생기게 되었다. 예를 들어, 반사경의 면 형상을 변형시킴으로써 수차를 보정하는 기술이 제안되어 있다(특허문헌 1, 특허문헌 2 참조).Liquid crystal display panels have come to be widely used as display devices such as flat panel displays (FPDs). The liquid crystal display panel is manufactured using the method of photolithography using an exposure apparatus. In recent years, high precision of an exposure apparatus has been required, and there has been a need to correct aberrations of a projection optical system. For example, a technique for correcting aberration by modifying the surface shape of a reflector has been proposed (refer to Patent Document 1 and Patent Document 2).

일본 특허 공개 제2004-056125호 공보Japanese Patent Publication No. 2004-056125 일본 특허 공개 제2006-128699호 공보Japanese Patent Publication No. 2006-128699

그러나, 특허문헌 1의 기술에서는, 투영 광학계의 수차를 계측하고, 계측된 수차를 보정하도록 면 형상을 결정하기 위하여, 상당한 계측 시간이 필요해져서, 스루풋의 관점에서 불리하다. 또한, 특허문헌 2의 기술에서는, 광학계의 특성으로서 광학 소자의 표면 형상의 불균일성에 의해 생기는 에러의 보정을 위하여, 변형 가능한 반사성 디바이스가 사용된다. 그러나, 디바이스의 고정밀화가 진행됨에 따라, 광학 소자의 표면 형상의 불균일성을 감안하여 충분히 조정된 투영 광학계를 사용한 노광 장치여도, 노광 중의 광학 부재의 변위에 의해 발생하는 광학 성능의 변화도 보정할 필요가 있다.However, in the technique of Patent Document 1, in order to measure the aberration of the projection optical system and determine the surface shape so as to correct the measured aberration, considerable measurement time is required, which is disadvantageous from the viewpoint of throughput. Further, in the technique of Patent Document 2, a deformable reflective device is used in order to correct an error caused by non-uniformity of the surface shape of an optical element as a characteristic of an optical system. However, as the device becomes more precise, it is necessary to correct the change in optical performance caused by the displacement of the optical member during exposure even in the exposure apparatus using the projection optical system sufficiently adjusted in consideration of the non-uniformity of the surface shape of the optical element. have.

본 발명은 스루풋과 결상 성능의 양립에 유리한 기술을 제공한다.The present invention provides a technique advantageous for both throughput and imaging performance.

본 발명의 일측면에 의하면, 기판의 주사 노광을 행하는 노광 장치이며, 원판의 패턴을 상기 기판에 투영하는 투영 광학계와, 제어부를 가지며, 상기 투영 광학계는, 오목 거울과 볼록 거울을 포함하는 복수의 광학 부재와, 상기 오목 거울의 면 형상을 조정하기 위하여 상기 오목 거울의 이면의 복수 개소에 힘을 가하는 복수의 조정부와, 상기 광학 부재의 위치 및 자세 중 하나 이상을 계측하는 계측 부를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 계측부에 의해 계측된 계측 결과에 기초하여, 상기 주사 노광의 실행 중에 상기 오목 거울의 면 형상을 조정하도록 상기 복수의 조정부의 제어를 행하는 노광 장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention, it is an exposure apparatus that performs scanning exposure of a substrate, and has a projection optical system for projecting a pattern of an original plate onto the substrate, and a control unit, wherein the projection optical system includes a plurality of concave mirrors and convex mirrors. An optical member, a plurality of adjustment units for applying a force to a plurality of locations on the rear surface of the concave mirror in order to adjust the surface shape of the concave mirror, and a measurement unit for measuring at least one of the position and posture of the optical member, the An exposure apparatus is provided in which the control unit controls the plurality of adjustment units to adjust the surface shape of the concave mirror during execution of the scanning exposure based on the measurement result measured by the measurement unit.

본 발명에 의하면, 스루풋과 결상 성능의 양립에 유리한 기술이 제공된다.According to the present invention, a technique advantageous for both throughput and imaging performance is provided.

본 발명의 다른 특징 및 장점은, 첨부된 도면을 참조로 한 이하의 설명에 의해 명백해질 것이다. 또한, 첨부된 도면에서는, 동일하거나 또는 유사한 구성에는, 동일한 참조 번호를 부여한다.Other features and advantages of the present invention will become apparent from the following description with reference to the accompanying drawings. In addition, in the accompanying drawings, the same reference numerals are assigned to the same or similar configurations.

첨부된 도면은 명세서에 포함되고, 그 일부를 구성하여, 본 발명의 실시 형태를 나타내고, 그 기술과 함께 본 발명의 원리를 설명하기 위하여 사용된다.
도 1은 실시 형태에서의 노광 장치의 개략 구성도.
도 2는 실시 형태의 조명 광학계가 갖는 슬릿 형상의 예를 나타내는 도면.
도 3은 마스크 위의 패턴의 예를 나타내는 도면.
도 4는 마스크 위의 패턴의 예를 나타내는 도면.
도 5는 비점 수차의 특성 예를 나타내는 도면.
도 6은 실시 형태에 있어서 오목 거울의 보정 처리의 흐름도.
도 7은 볼록 거울의 지지 구조의 예를 나타내는 도면.The accompanying drawings are included in the specification, constitute a part thereof, show embodiments of the present invention, and are used to explain the principles of the present invention together with the technology.
1 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus in an embodiment.
2 is a diagram showing an example of a slit shape of the illumination optical system of the embodiment.
3 is a diagram showing an example of a pattern on a mask.
Fig. 4 is a diagram showing an example of a pattern on a mask.
Fig. 5 is a diagram showing an example of characteristics of astigmatism.
6 is a flowchart of correction processing for a concave mirror in the embodiment.
7 is a diagram showing an example of a supporting structure for a convex mirror.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이하의 실시 형태에 한정되는 것이 아니고, 이하의 실시 형태는 본 발명의 실시의 구체예를 나타내는 것에 지나지 않는다. 또한, 이하의 실시 형태 중에서 설명되고 있는 특징의 조합 모두가 본 발명의 과제 해결을 위하여 필수적인 것만은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the present invention is not limited to the following embodiments, and the following embodiments are merely showing specific examples of the embodiments of the present invention. In addition, not all combinations of features described in the following embodiments are essential for solving the problems of the present invention.

도 1은, 실시 형태에서의 노광 장치의 개략 구성도이다. 본 실시 형태의 노광 장치는, 조명 광학계(IL)를 포함한다. 조명 광학계(IL)에는 광원이 포함되어 있고 엑시머 레이저나 고압 수은 램프 등으로부터 제조할 디바이스에 최적의 광원을 선택하는 것이 가능하다. 예를 들어 액정 표시 소자의 제조에는 고압 수은 램프를 사용하여 g선(436㎚), h선(405㎚), i선(365㎚)이 사용될 수 있다.1 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus in an embodiment. The exposure apparatus of this embodiment includes an illumination optical system IL. The illumination optical system IL contains a light source, and it is possible to select an optimal light source for the device to be manufactured from an excimer laser or a high-pressure mercury lamp. For example, in manufacturing a liquid crystal display device, a high-pressure mercury lamp may be used to use g-line (436 nm), h-line (405 nm), and i-line (365 nm).

원판인 마스크(1)에는, 예를 들어 액정 표시 소자를 제조하기 위하여 필요한 회로 패턴이 묘화되어 있다. 마스크(1)는 마스크 스테이지(2)에 탑재되어 있다. 마스크(1)는 조명 광학계(IL)로부터의 노광 광에 의해 조사된다. 마스크(1)를 투과한 노광 광은 투영 광학계(PO)를 통해, 기판(3) 위에 마스크(1)의 상을 결상한다.On the mask 1 which is an original plate, a circuit pattern necessary for manufacturing a liquid crystal display element, for example, is drawn. The mask 1 is mounted on the mask stage 2. The mask 1 is irradiated with exposure light from the illumination optical system IL. The exposure light transmitted through the mask 1 forms an image of the mask 1 on the substrate 3 through the projection optical system PO.

기판(3)은 기판 스테이지(4)에 탑재되어 있고, 마스크 스테이지(2)와 기판 스테이지(4)를 동기하여 주사함으로써 큰 영역이 노광 가능해진다. 기판(3)에는 노광 광에 감도가 있는 감광재가 도포되어 있어 현상 프로세스를 거침으로써 기판 위에 패턴을 형성하는 것이 가능하다. 투영 광학계(PO)는 1쌍의 오목 거울(5) 및 볼록 거울(6)을 포함한다. 마스크(1)로부터 나온 노광 광은, 오목 거울(5)에서 반사되어 볼록 거울(6)에서 반사되고 다시, 오목 거울(5)에서 반사되어, 기판(3) 위에 마스크(1)의 상이 결상된다. 투영 광학계(PO)는, 수차의 보정을 행하기 위하여 노광 광을 굴절시키는 굴절 부재(9)도 포함할 수 있다. 굴절 부재(9)는 예를 들면 평행 평판을 포함하고, 이 평행 평판을 광축에 대해 기울임으로써, 코마 수차나 비점 수차, 왜곡 수차의 보정을 행할 수 있다. 또한, 오목 거울(5)은 일체이거나 분할되어 있어도 된다.The substrate 3 is mounted on the substrate stage 4, and a large area can be exposed by synchronously scanning the mask stage 2 and the substrate stage 4. The substrate 3 is coated with a photosensitive material sensitive to exposure light, and it is possible to form a pattern on the substrate by passing through a developing process. The projection optical system PO includes a pair of concave mirrors 5 and convex mirrors 6. The exposure light emitted from the mask 1 is reflected by the concave mirror 5, reflected by the convex mirror 6, and reflected by the concave mirror 5 again, to form an image of the mask 1 on the substrate 3 . The projection optical system PO may also include a refractive member 9 that refracts exposure light in order to correct aberration. The refractive member 9 includes, for example, a parallel flat plate, and by tilting the parallel flat plate with respect to the optical axis, coma, astigmatism, and distortion can be corrected. Further, the concave mirror 5 may be integrated or divided.

도 1에 도시되는 오목 거울(5)과 볼록 거울(6)을 포함하는 투영 광학계(PO)는, 축외의 원호 형상의 양호한 화상 영역이 노광에 사용 가능하다. 조명 광학계(IL)에는 원호 형상의 양호한 화상 영역을 조명하기 위하여, 도 2에 도시된 바와 같은 원호 형상의 개구를 갖는 슬릿(11)을 포함하고 있다.In the projection optical system PO including the concave mirror 5 and the convex mirror 6 shown in Fig. 1, a good image area having an arc shape outside the axis can be used for exposure. The illumination optical system IL includes a slit 11 having an arc-shaped opening as shown in FIG. 2 in order to illuminate a good arc-shaped image area.

본 노광 장치의 좌표계로서, 기판(3)으로부터 마스크(1)로 향하는 방향으로 Z축을 취하고, 볼록 거울(6)로부터 오목 거울(5)로 향하는 방향으로 Y축을 취해, 오른손 좌표계를 이루도록 X축을 취한다. 또한, ωx를 X축 주위 플러스에 오른나사가 진행되는 회전 방향으로 취한다. ωy, ωz도 각각 Y축 주위 및 Z축 주위에 동일한 정의로 한다.As the coordinate system of this exposure apparatus, the Z axis is taken in the direction from the substrate 3 to the mask 1, the Y axis is taken in the direction from the convex mirror 6 to the concave mirror 5, and the X axis is taken to form the right-handed coordinate system. do. In addition, ωx is taken as the rotational direction in which the right-hand screw proceeds to the plus around the X axis. ωy and ωz also have the same definition around the Y axis and around the Z axis, respectively.

투영 광학계(PO)는, 오목 거울(5)의 면 형상을 조정하기 위하여 오목 거울의 이면의 복수 개소에 힘을 가하는 복수의 조정부(7)(구동 기구)를 구비한다. 조정부(7)에는, 압전 소자 등 임의의 것이 사용 가능하다. 복수의 조정부(7)를 구동시킴으로써 오목 거울(5)의 반사면의 형상을 변경하는 것이 가능하다. 면 형상이 변형하면 그 형상에 따라 투영 광학계(PO)의 광학 성능이 변화한다. 따라서, 복수의 조정부(7)를 제어함으로써 투영 광학계(PO)의 광학 성능을 제어하는 것이 가능하다.The projection optical system PO includes a plurality of adjustment units 7 (drive mechanisms) that apply force to a plurality of locations on the rear surface of the concave mirror 5 in order to adjust the shape of the surface of the concave mirror 5. Arbitrary things, such as a piezoelectric element, can be used for the adjustment part 7. It is possible to change the shape of the reflective surface of the concave mirror 5 by driving the plurality of adjustment units 7. When the surface shape is deformed, the optical performance of the projection optical system PO changes according to the shape. Therefore, it is possible to control the optical performance of the projection optical system PO by controlling the plurality of adjustment units 7.

투영 광학계(PO)는, 볼록 거울(6)의 위치 및 자세의 적어도 어느 것을 계측하기 위한 계측부(8)를 구비하고 있다. 계측부(8)는, 예를 들어 레이저를 이용한 측장기로 구성될 수 있다. 측장기는, 최적의 배치 및 개수를 선택함으로써, 위치(X, Y, Z) 및 자세(ωx, ωy, ωz)의 적어도 어느 것을 계측할 수 있다. 도 1에 도시하는 계측부(8)는, 볼록 거울(6)의 위치ㆍ자세의 계측을 행하고 있지만, 계측 대상으로 하는 광학 부재는, 볼록 거울(6) 외에, 오목 거울(5), 굴절 부재(9)를 포함하는 복수의 광학 부재 중의 적어도 어느 것이어도 된다. 또한, 복수의 계측부를 사용함으로써 복수의 광학 부재의 위치ㆍ자세를 동시에 측정하는 것도 가능하다.The projection optical system PO is provided with a measurement unit 8 for measuring at least any of the position and attitude of the convex mirror 6. The measurement unit 8 may be configured with a measuring device using a laser, for example. The measuring instrument can measure at least any of the positions (X, Y, Z) and attitudes (ωx, ωy, ωz) by selecting the optimal arrangement and number. The measurement unit 8 shown in FIG. 1 measures the position and posture of the convex mirror 6, but the optical members to be measured are not only the convex mirror 6, the concave mirror 5, the refractive member ( At least any of a plurality of optical members including 9) may be used. Further, by using a plurality of measurement units, it is also possible to simultaneously measure the position and posture of a plurality of optical members.

계측부(8)는 제어부(10)에 접속되어 있다. 제어부(10)는, 계측부(8)로부터의 계측 결과를 취득하고, 볼록 거울(6)의 위치ㆍ자세의 변화(이하, 간단히 「변위」라고도 함)에 대응한 광학 성능의 변화를 예측할 수 있다. 광학 성능은, 구면 수차나 상면 만곡이나 비점 수차, 코마 수차, 왜곡 수차(Distortion), 나아가 결상 위치의 X, Y 평면 내의 일률적인 어긋남 등을 포함할 수 있다.The measurement unit 8 is connected to the control unit 10. The control unit 10 acquires the measurement result from the measurement unit 8, and can predict a change in optical performance corresponding to a change in the position and posture of the convex mirror 6 (hereinafter, also simply referred to as "displacement"). . The optical performance may include spherical aberration, image surface curvature, astigmatism, coma aberration, distortion, and even deviation of the imaging position in the X and Y planes.

도 3 및 도 4에, 마스크(1) 위의 패턴의 예를 나타낸다. 도 3에 도시된 바와 같이, X 방향으로 긴 패턴을 H 패턴, 도 4에 도시된 바와 같은 Y 방향으로 긴 패턴을 V 패턴이라고 한다. 투영 광학계(PO)에 비점 수차가 존재하면 H 패턴과 V 패턴의 Z 방향의 결상 위치(포커스 위치)에 차이가 발생한다. 비점 수차가 존재함으로써 H 패턴과 V 패턴의 포커스 위치에 차이가 생기고, 결상 성능이 저하된다.3 and 4 show examples of patterns on the mask 1. As shown in FIG. 3, a pattern that is long in the X direction is called an H pattern, and a pattern that is long in the Y direction as shown in FIG. 4 is called a V pattern. When astigmatism exists in the projection optical system PO, a difference occurs in the imaging position (focus position) of the H pattern and the V pattern in the Z direction. The presence of astigmatism causes a difference in the focus positions of the H pattern and the V pattern, and the imaging performance deteriorates.

노광 장치가 설치되어 있는 바닥으로부터의 외란의 영향에 의해 투영 광학계(PO) 내의 각 광학 부재는 본래의 위치ㆍ자세로부터 어긋날 가능성이 있다. 예를 들어, 볼록 거울(6)은, 도 7에 도시된 바와 같이, 홀더(61)에 의해 보유 지지되어, 홀더(61)는 횡 방향(X축 방향)에 연장하는 막대 형상 부재인 샤프트(62)를 거쳐 고정 부재(63)에 의해 투영 광학계(PO)의 하우징을 구성하는 챔버 C의 내벽에 고정되어 있다. 샤프트(62)가 연장하는 방향은 종 방향(Z축 방향)이어도 된다. 혹은, 홀더(61)는 횡 방향 및 종 방향(또는 다른 방향)으로 각각 연장하는 복수의 샤프트에 의해 고정되어도 된다. 볼록 거울(6)이 주사 노광 시에 있어서의 외란의 영향을 받지 않기 위해서는 볼록 거울(6)의 지지 강성이 충분히 높을 것이 요구된다. 그러나, 볼록 거울(6)의 주위는 노광 광의 광로가 되어 있기 때문에, 샤프트(62)에 의해 광로를 차단하는 것은 최소한으로 둘 필요가 있다. 그로 인해, 샤프트(62)의 강성을 높이는 데에는 한도가 있고, 투영 광학계(PO)에 있어서의 광학 부재 중에서도 특히 볼록 거울(6)의 위치ㆍ자세는, 주사 노광 시에 있어서의 외란의 영향에 의해 어긋날 가능성이 높다. 또한, 볼록 거울(6)의 위치ㆍ자세가 어긋났을 경우에는, 볼록 거울(6) 자체의 위치ㆍ자세를 원상태로 되돌리면 되지만, 노광 광의 광로를 방해하지 않도록 그와 같은 기구를 배치하는 것은 곤란하다. 그래서 본 실시 형태에서는, 이하에 설명하는 바와 같이 예를 들어 볼록 거울(6)의 위치ㆍ자세의 변화에 수반하는 광학 특성의 변화를 보정하도록, 복수의 조정부(7)를 제어하여 오목 거울(5)의 면 형상을 변화시키기로 했다.Each optical member in the projection optical system PO may deviate from its original position and posture due to the influence of the disturbance from the floor on which the exposure apparatus is installed. For example, the convex mirror 6 is held by the holder 61, as shown in FIG. 7, so that the holder 61 is a shaft that is a rod-shaped member extending in the transverse direction (X-axis direction). It is fixed to the inner wall of the chamber C constituting the housing of the projection optical system PO by the fixing member 63 via 62). The direction in which the shaft 62 extends may be a longitudinal direction (Z-axis direction). Alternatively, the holder 61 may be fixed by a plurality of shafts each extending in the transverse and longitudinal directions (or other directions). In order for the convex mirror 6 not to be affected by disturbances during scanning exposure, the support rigidity of the convex mirror 6 is required to be sufficiently high. However, since the circumference of the convex mirror 6 is an optical path for exposure light, it is necessary to minimize the optical path being blocked by the shaft 62. Therefore, there is a limit to increasing the rigidity of the shaft 62, and among the optical members in the projection optical system PO, the position and posture of the convex mirror 6 in particular are affected by the disturbance during the scanning exposure. There is a high possibility of misalignment. In addition, when the position and posture of the convex mirror 6 is shifted, it is sufficient to return the position and posture of the convex mirror 6 itself to its original state, but it is difficult to arrange such a mechanism so as not to obstruct the optical path of the exposure light. Do. Therefore, in the present embodiment, as described below, the concave mirror 5 is controlled by controlling the plurality of adjustment units 7 so as to correct the change in optical characteristics accompanying the change in the position and posture of the convex mirror 6, for example. ).

볼록 거울(6) 등의 광학 부재가 본래의 위치ㆍ자세로부터 어긋나면, 그 어긋남량에 따라 결상 성능이 변화한다. 예를 들어, 볼록 거울(6)이 Y 방향으로 변화했을 때의 H 패턴과 V 패턴의 결상 위치(포커스 위치)의 차이를 나타낸 그래프가 도 5가 된다. 도 5의 횡축은, 도 2에 있어서의 슬릿의 X 방향의 위치를 나타내고, 종축은 H 패턴과 V 패턴의 포커스 위치의 차이(비점 수차량)를 나타내고 있다. 본 실시 형태에서는, 볼록 거울(6)의 Y 방향으로의 변화에 대한 비점 수차의 변화량을 나타냈지만, X 방향이나 Z 방향의 변위나 광학 부재의 자세 ωx, ωy, ωz와 다른 수차 등 임의의 조합 등이 가능하다.When an optical member such as the convex mirror 6 is shifted from its original position and posture, the imaging performance changes according to the shift amount. For example, a graph showing the difference between the imaging position (focus position) of the H pattern and the V pattern when the convex mirror 6 changes in the Y direction is shown in FIG. 5. The horizontal axis in Fig. 5 represents the position of the slit in the X direction in Fig. 2, and the vertical axis represents the difference (astigmatism amount) between the focus positions of the H pattern and the V pattern. In this embodiment, the amount of change in astigmatism with respect to the change in the Y direction of the convex mirror 6 is shown, but any combination such as displacement in the X direction or the Z direction, the attitude of the optical member ωx, ωy, ωz and other aberrations Etc. are possible.

실시 형태에 있어서, 볼록 거울(6)의 변위에 대한 비점 수차의 발생량의 예측은, 예를 들어 이하와 같이 행해진다. 미리 광학 시뮬레이션에 의해, 변위에 대한 비점 수차의 발생량을 구해 둔다. 이 변위와 비점 수차의 발생량의 대응 관계는 예를 들어 참조 테이블로서 제어부(10) 내의 메모리에 보유 지지된다. 그리고, 제어부(10)는, 이 대응 관계에 기초하여, 계측부(8)의 계측 결과에 대응하는 비점 수차의 발생량을, 투영 광학계(PO)에서 발생하고 있는 비점 수차의 발생량으로 예측할 수 있다. 혹은, 볼록 거울(6)의 변위를 계측부(8)에서 계측하고, 그 계측 결과를 기초로 광학 시뮬레이션을 행하고, 비점 수차의 발생량을 산출하는 것도 가능하다.In the embodiment, prediction of the generation amount of astigmatism with respect to the displacement of the convex mirror 6 is performed, for example, as follows. The amount of astigmatism with respect to displacement is determined in advance by optical simulation. The correspondence between the displacement and the amount of astigmatism generated is held in the memory in the control unit 10 as a reference table, for example. Then, the control unit 10 can predict the generation amount of astigmatism corresponding to the measurement result of the measurement unit 8 as the generation amount of astigmatism occurring in the projection optical system PO based on this correspondence relationship. Alternatively, it is possible to measure the displacement of the convex mirror 6 by the measurement unit 8, perform optical simulation based on the measurement result, and calculate the amount of astigmatism generated.

다음으로, 제어부(10)는, 예측된 수차를 보정하기 위한 오목 거울(5)의 면 형상을 결정한다. 본 실시 형태에서는, 비점 수차의 보정을 예로 들었지만, 전술한 코마 수차나 왜곡 수차 등 임의의 수차를 고려한 면 형상을 산출하는 것이 가능하다. 또한, 복수의 수차를 보정하기 위한 면 형상을 산출하는 것도 가능하다. 산출된 수차를 보정하기 위한 면 형상을 목표로 하여 오목 거울(5)의 면 형상이 변형되기 때문에, 제어부(10)는 복수의 조정부(7)의 각각의 구동량을 산출한다. 제어부(10)는, 산출된 구동량으로 각 조정부를 구동시킨다. 이에 의해 오목 거울(5)의 면 형상이 원하는 면 형상으로 변형되여, 볼록 거울(6)의 변위에 수반하는 비점 수차가 보정될 수 있다.Next, the control unit 10 determines the surface shape of the concave mirror 5 for correcting the predicted aberration. In the present embodiment, correction of astigmatism has been exemplified, but it is possible to calculate a surface shape in consideration of arbitrary aberrations such as coma aberration and distortion aberration described above. In addition, it is also possible to calculate a surface shape for correcting a plurality of aberrations. Since the surface shape of the concave mirror 5 is deformed aiming at the surface shape for correcting the calculated aberration, the control unit 10 calculates the driving amount of each of the plurality of adjustment units 7. The control unit 10 drives each adjustment unit with the calculated driving amount. Accordingly, the surface shape of the concave mirror 5 is transformed into a desired surface shape, so that astigmatism accompanying the displacement of the convex mirror 6 can be corrected.

상술한 보정은, 예를 들어 이하와 같이 행해질 수 있다. 먼저, 비노광 중인 기판 스테이지(4)의 스텝 구동 중이나 기판의 교환 중에, 제어부(10)는, 계측부(8)의 측정 결과에 기초하여 볼록 거울(6)의 변위를 구하고, 그 변위에 의해 발생하는 수차를 예측한다. 그 후, 제어부(10)는, 그 수차를 보정하기 위해 오목 거울(5)의 면 형상을 결정하고, 복수의 조정부(7)를 구동시킴으로써, 투영 광학계(PO)의 수차의 보정을 행한다.The above-described correction can be performed, for example, as follows. First, during step drive of the substrate stage 4 under exposure or during substrate exchange, the control unit 10 calculates the displacement of the convex mirror 6 based on the measurement result of the measurement unit 8, and is generated by the displacement. Predict the aberration After that, the control unit 10 determines the surface shape of the concave mirror 5 in order to correct the aberration, and corrects the aberration of the projection optical system PO by driving the plurality of adjustment units 7.

이상에서는, 구체적인 예로서 볼록 거울(6)이 Y 방향으로 변화한 경우의 비점 수차 보정에 대해 설명했다. 다른 예로서 볼록 거울(6)이 +ωx로 자세가 변화한 경우는, 결상 위치가 전체적으로 +Y 방향으로 변화한다. 예를 들어, 주사 노광 중에 외란에 의해 ±ωx 방향으로 볼록 거울(6)이 진동하면, 기판(3) 위에서의 결상 위치가 ±Y 방향으로 진동한다. 주사 노광 중에 결상 위치가 진동함으로써, 화상의 콘트라스트가 저하되고, 결상 성능이 저하된다. 그 보정을 위하여 노광 중에 볼록 거울(6)의 자세 ωx를 항상 계측하고, 그 자세 ωx의 변화에 의한 결상 위치의 변화를 제어부(10)에서 예측을 행한다. 그 예측에 기초하여, 그 결상 위치의 어긋남을 보정하기 위해 오목 거울(5)의 면 형상을 산출하고, 산출된 면 형상을 목표로 하여 복수의 조정부(7)를 구동시킴으로써 오목 거울(5)의 면 형상을 변형시킨다. 이러한 처리를 실시간으로 행함으로써, 기판(3) 위에서의 화상의 진동을 억제하는 것이 가능해진다. 그 결과, 콘트라스트의 저하를 방지하고 양호한 결상 성능을 얻는 것이 가능해진다.In the above, as a specific example, astigmatism correction in the case where the convex mirror 6 changes in the Y direction has been described. As another example, when the posture of the convex mirror 6 is changed by +ωx, the imaging position changes in the +Y direction as a whole. For example, when the convex mirror 6 vibrates in the ±ωx direction due to disturbance during the scanning exposure, the imaging position on the substrate 3 vibrates in the ±Y direction. By vibrating the imaging position during scanning exposure, the contrast of the image decreases and the imaging performance decreases. For the correction, the posture ωx of the convex mirror 6 is always measured during exposure, and the control unit 10 predicts the change in the imaging position due to the change in the posture ωx. Based on the prediction, the surface shape of the concave mirror 5 is calculated to correct the deviation of the imaging position, and by driving the plurality of adjustment units 7 targeting the calculated surface shape, the concave mirror 5 is Deform the face shape. By performing such processing in real time, it becomes possible to suppress the vibration of the image on the substrate 3. As a result, it becomes possible to prevent a decrease in contrast and obtain good imaging performance.

상술한, 계측부(8)에서의 계측, 결상 성능(수차)의 예측, 오목 거울의 면 형상의 산출 및 복수의 조정부의 구동은, 주사 노광의 실행 중 뿐만 아니라 주사 노광의 비실행시의 임의의 타이밍에 실시 가능하다. 또한, 이상에서 설명한 것 같이 수차의 변화뿐만 아니라, 결상 위치의 X, Y 평면 내의 어긋남에 관해서도 유효하다.The above-described measurement in the measurement unit 8, prediction of the imaging performance (aberration), calculation of the surface shape of the concave mirror, and driving of the plurality of adjustment units are performed not only during scanning exposure but also during non-execution of scanning exposure. It can be implemented at the timing. In addition, as described above, it is effective not only for a change in aberration but also for the displacement of the imaging position in the X and Y planes.

본 실시 형태에서는, 볼록 거울(6)의 변위에 대해 설명했지만, 예를 들어 굴절 부재(9)나 구동 기구를 구비한 오목 거울(5)의 변위를 측정하는 계측부를 구비함으로써, 굴절 부재(9)나 오목 거울(5)의 변위, 자세 변화에 따라 발생하는 결상 성능의 변화를 마찬가지의 방법으로 보정 가능해진다. 또한, 볼록 거울(6)이나 굴절 부재(9)나 오목 거울(5)의 복수의 광학 부재의 변위를 계측하고, 복수의 광학 부재가 변위함으로써 투영 광학계(PO)의 결상 성능이 어떻게 변화할지 예측하는 것도 가능하다. 복수의 광학 부재가 변위함으로써 예측된 결상 성능의 변화를 통합하여 보정하기 위한 오목 거울(5)의 면 형상을 산출하고, 산출된 결과로 부터 복수의 조정부(7)의 구동량을 산출해 복수의 조정부(7)를 구동하도록 해도 된다. 이에 의해, 복수의 광학 부재로 발생한 광학 성능의 변화의 보정이 가능해진다. 상술한 바와 같이, 계측하는 광학 부재와 변위의 방향이나 변화를 예측하는 수차는 임의로 선택해 조합하는 것이 가능하다.In the present embodiment, the displacement of the convex mirror 6 has been described. For example, by providing a measurement unit for measuring the displacement of the refractive member 9 and the concave mirror 5 provided with a drive mechanism, the refractive member 9 ), the displacement of the concave mirror 5, and the change in imaging performance that occurs due to a change in posture can be corrected in the same manner. In addition, the displacement of a plurality of optical members of the convex mirror 6, the refractive member 9, or the concave mirror 5 is measured, and the displacement of the plurality of optical members predicts how the imaging performance of the projection optical system (PO) will change. It is also possible to do. The surface shape of the concave mirror 5 is calculated for integrating and correcting the change in the predicted imaging performance due to the displacement of the plurality of optical members, and the driving amount of the plurality of adjustment units 7 is calculated from the calculated result. You may make it drive the adjustment part 7. This makes it possible to correct the change in optical performance caused by the plurality of optical members. As described above, it is possible to arbitrarily select and combine the optical member to be measured and the aberration predicting the direction or change of the displacement.

도 6은, 제어부(10)에 의한 오목 거울(5)의 보정 처리의 흐름도이다. 먼저, 제어부(10)는, 계측부(8)로부터 취득된 계측 데이터에 기초하여, 투영 광학계(PO)에 포함되는 광학 부재의 위치 X, Y, Z나 자세 ωx, ωy, ωz를 계측한다(S1). 다음에, 제어부(10)는, 계측된 위치ㆍ자세의 변화로부터 광학 성능(수차)의 변화를 예측한다(S2). 제어부(10)는, 예측된 광학 성능의 변화에 기초하여, 그 광학 성능의 변화를 보정하는 오목 거울(5)의 면 형상을 산출한다(S3). 다음으로 제어부(10)는, 산출된 면 형상을 목표로 하여 복수의 조정부(7)의 각각 구동량을 산출한다(S4). 그리고, 제어부(10)는, 산출된 구동량에 따라 복수의 조정부(7)를 구동한다(S5). 상기한 바와 같이 이 보정 처리는, 주사 노광의 실행 중에 행하여질 수 있다. 또한, 상기 보정 처리는, 주사 노광의 실행 중은 물론, 주사 노광의 비실행 중에도 행해져도 된다.6 is a flowchart of a correction process of the concave mirror 5 by the control unit 10. First, the control unit 10 measures the positions X, Y, Z and attitudes ωx, ωy, and ωz of the optical members included in the projection optical system PO based on the measurement data acquired from the measurement unit 8 (S1). ). Next, the control unit 10 predicts a change in optical performance (aberration) from the measured change in position and posture (S2). The control unit 10 calculates the surface shape of the concave mirror 5 for correcting the change in optical performance based on the predicted change in optical performance (S3). Next, the control unit 10 calculates the driving amount of each of the plurality of adjustment units 7 as the target of the calculated surface shape (S4). Then, the control unit 10 drives the plurality of adjustment units 7 according to the calculated driving amount (S5). As described above, this correction processing can be performed during execution of the scanning exposure. Further, the correction processing may be performed not only during scanning exposure but also during non-executing scanning exposure.

다음에, 상기의 실시 형태의 변형예를 설명한다. 기판의 변형 등은 노광 전에 계측이 가능하고, 노광 전의 계측 결과에 기초하여 구동 기구를 구동시켜 기판의 변형에 따른 결상 성능에 대한 영향은 보정이 가능해진다. 그러나, 투영 광학계에 포함되는 광학 부재는, 외란 등에 의해 항상 진동하고 있어, 노광 전에 광학 부재의 위치 등의 계측을 행하고, 그 결과로부터 수차를 예측하고, 구동 기구를 구동시켜 광학 성능의 보정을 행하는 것은 곤란하다. 결상 성능의 보정은 예를 들어, 측정 대상의 광학 부재의 위치 정보가 제어부(10)에 피드백되어 복수의 조정부(7)가 제어되지만, 주사 속도와 진동의 속도에 따라서는 복수의 조정부(7)를 피드백 제어하기에 충분한 시간을 취할 수 없는 경우가 발생할 수 있다.Next, a modified example of the above embodiment will be described. Deformation of the substrate can be measured before exposure, and the influence on the imaging performance due to deformation of the substrate can be corrected by driving a driving mechanism based on the measurement result before exposure. However, the optical member included in the projection optical system is always vibrating due to disturbances, etc., and the position of the optical member is measured before exposure, aberration is predicted from the result, and the driving mechanism is driven to correct the optical performance. It is difficult. In the correction of the imaging performance, for example, position information of the optical member to be measured is fed back to the control unit 10 to control the plurality of adjustment units 7, but depending on the scanning speed and the vibration speed, the plurality of adjustment units 7 There may be cases where it is not possible to take enough time to control the feedback.

주사 노광을 행하는 노광 장치의 경우, 마스크(1) 위의 한 점이 슬릿(11)으로부터 조사되는 노광 광의 아래를 통과하는 동안에 투영 광학계(PO)의 성능 변화의 평균값이 결상 성능의 변화로서 나타난다. 따라서, 노광 중의 모든 수차 변화의 보정을 행하지 않아도 노광 결과의 보정은 가능하다. 예를 들어, 제어부(10)는, 주사 노광에 의해 마스크(1)의 한 점이 노광 영역의 소정 부분(예를 들어, 절반의 영역)을 통과하는 동안에 있어서의 계측부(8)로의 각 계측점으로의 계측 결과를 취득한다. 제어부(10)는, 취득한 계측값의 평균값을 계산하고, 그 평균값으로부터 수차의 변화를 예측하여, 그 예측된 수차의 변화를 보정하는 오목 거울의 면 형상을 산출한다. 그리고, 제어부(10)는, 당해 주사 노광에 의해 마스크(1)의 한 점이 노광 영역의 상기 소정 부분을 제외한 나머지의 부분(나머지의 절반)을 통과하는 동안에, 산출된 면 형상을 목표로 하여 복수의 조정부(7)를 구동하도록 각 조정부를 제어한다. 이에 의해, 예를 들어 상반기 절반의 수차 변화 분의 보정이 행해지고, 결상 성능의 저하를 억제하는 것이 가능하다. 이상의 예에서는, 노광 영역을 절반 통과하는 경우의 위치의 평균값을 예로 했지만, 구동에 필요한 시간과 보정 정밀도로부터 최적의 양을 산출하도록 해도 된다.In the case of an exposure apparatus performing scanning exposure, an average value of the performance change of the projection optical system PO appears as a change in imaging performance while a point on the mask 1 passes under the exposure light irradiated from the slit 11. Therefore, the exposure result can be corrected without performing correction of all aberration changes during exposure. For example, the control unit 10, during the scanning exposure, one point of the mask 1 passes through a predetermined portion (for example, half of the area) of the exposure area to each measurement point to the measurement unit 8 Acquire measurement results. The control unit 10 calculates an average value of the acquired measurement values, predicts a change in aberration from the average value, and calculates a surface shape of a concave mirror for correcting the change in the predicted aberration. Then, the control unit 10 aims at the calculated surface shape while one point of the mask 1 passes through the remaining portion (half of the remaining) except for the predetermined portion of the exposure area by the scanning exposure. Each of the adjustment units is controlled to drive the adjustment unit 7 of. Thereby, for example, correction for the aberration change in half of the first half is performed, and it is possible to suppress a decrease in the imaging performance. In the above example, the average value of the position in the case of passing through the exposure area halfway was taken as an example, but the optimum amount may be calculated from the time required for driving and the correction accuracy.

<물품의 제조 방법의 실시 형태><Embodiment of manufacturing method of article>

본 발명의 실시 형태에 따른 물품의 제조 방법은, 예를 들어 반도체 디바이스 등의 마이크로 디바이스나 미세 구조를 갖는 소자 등의 물품을 제조하기에 적합하다. 본 실시 형태의 물품의 제조 방법은, 기판에 도포된 감광제에 상기의 노광 장치를 사용하여 잠상 패턴을 형성하는 공정(기판을 노광하는 공정)과, 이러한 공정에서 잠상 패턴이 형성된 기판을 현상하는 공정을 포함한다. 또한, 이러한 제조 방법은, 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 포함한다. 본 실시 형태의 물품의 제조 방법은, 종래의 방법에 비하여, 물품의 성능·품질·생산성·생산 비용 중 적어도 하나에서 유리하다.The manufacturing method of an article according to an embodiment of the present invention is suitable for manufacturing an article such as a micro device such as a semiconductor device or an element having a fine structure, for example. The manufacturing method of the article of the present embodiment includes a step of forming a latent image pattern on a photosensitive agent applied to a substrate using the above exposure apparatus (a step of exposing the substrate), and a step of developing a substrate on which the latent image pattern is formed in such a step. Includes. In addition, this manufacturing method includes other well-known processes (oxidation, film formation, vapor deposition, doping, planarization, etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging, etc.). The manufacturing method of the article of the present embodiment is advantageous in terms of at least one of performance, quality, productivity, and production cost of the article, compared to the conventional method.

본 발명이 예시적인 실시 형태에 관련하여 설명되었지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시 형태에 한정되지 않는 것으로 이해되어야 한다. 이어지는 청구 범위에는, 구성 및 기능의 모든 변형예 및 균등물이 포함되도록, 가장 넓은 해석이 부여되어야 한다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the present invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. In the claims that follow, the broadest interpretation is to be accorded so that all modifications and equivalents of construction and function are included.

Claims (10)

기판의 주사 노광을 행하는 노광 장치이며,
원판의 패턴을 상기 기판에 투영하는 투영 광학계와,
제어부를 갖고,
상기 투영 광학계는,
오목 거울과,
볼록 거울을 포함하는 복수의 광학 부재와,
상기 오목 거울의 면 형상을 조정하기 위하여 상기 오목 거울의 이면의 복수 개소에 힘을 가하는 복수의 조정부와,
상기 복수의 광학 부재 중 1개 이상의 광학 부재의 위치 및 자세 중 하나 이상을 계측하는 계측부를 포함하고,
상기 제어부는, 상기 주사 노광의 실행 중에 상기 계측부에 의해 계측된 상기 광학 부재의 위치 및 자세 중 하나 이상의 변화에 의해 발생한 상기 투영 광학계의 수차를 보정하도록, 상기 주사 노광의 실행 중에 상기 복수의 조정부의 제어를 행하는, 노광 장치.It is an exposure apparatus that performs scanning exposure of a substrate,
A projection optical system for projecting a pattern of the original plate onto the substrate,
Have a control unit,
The projection optical system,
With a concave mirror,
A plurality of optical members including convex mirrors,
A plurality of adjustment units for applying a force to a plurality of locations on the rear surface of the concave mirror to adjust the shape of the surface of the concave mirror,
A measurement unit for measuring at least one of a position and a posture of at least one optical member among the plurality of optical members,
The control unit is configured to correct the aberration of the projection optical system caused by a change in one or more of the position and posture of the optical member measured by the measurement unit during the execution of the scanning exposure, the plurality of adjustment units during the execution of the scanning exposure. An exposure apparatus that performs control. 제1항에 있어서,
상기 계측부는, 상기 볼록 거울의 위치 및 자세 중 하나 이상을 계측하는, 노광 장치.The method of claim 1,
The exposure apparatus, wherein the measurement unit measures at least one of a position and a posture of the convex mirror. 제1항에 있어서,
상기 볼록 거울은, 상기 투영 광학계의 하우징의 내벽에 막대 형상 부재를 개재하여 고정되어 있는, 노광 장치.The method of claim 1,
The exposure apparatus, wherein the convex mirror is fixed to an inner wall of the housing of the projection optical system via a rod-shaped member. 제1항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 계측부의 계측 결과에 기초하여 상기 투영 광학계의 수차를 예측하고,
예측된 상기 수차를 보정하기 위한 상기 오목 거울의 면 형상을 산출하고,
산출된 상기 면 형상을 목표로 하여 상기 복수의 조정부를 제어하는, 노광 장치.The method of claim 1,
The control unit,
Predicting the aberration of the projection optical system based on the measurement result of the measurement unit,
Calculate a surface shape of the concave mirror for correcting the predicted aberration,
An exposure apparatus for controlling the plurality of adjustment units by targeting the calculated surface shape. 제4항에 있어서,
상기 제어부는, 미리 구해진 상기 계측부의 계측 대상인 광학 부재의 위치 및 자세 중 하나 이상의 변화와 상기 투영 광학계의 수차의 대응 관계로부터, 상기 투영 광학계의 수차를 예측하는, 노광 장치.The method of claim 4,
The exposure apparatus, wherein the control unit predicts an aberration of the projection optical system from a correspondence relationship between a change in one or more of a position and a posture of an optical member that is a measurement target of the measurement unit, which is obtained in advance, and a aberration of the projection optical system. 제1항에 있어서,
상기 제어부는, 또한, 상기 주사 노광의 비실행 중에도, 상기 복수의 조정부의 제어를 행하는, 노광 장치.The method of claim 1,
The exposure apparatus, wherein the control unit further controls the plurality of adjustment units while the scanning exposure is not performed. 제1항에 있어서,
상기 복수의 광학 부재는, 상기 투영 광학계의 수차의 보정을 행하기 위하여 노광 광을 굴절시키는 굴절 부재를 포함하는, 노광 장치.The method of claim 1,
The plurality of optical members include a refracting member that refracts exposure light to correct aberration of the projection optical system. 제7항에 있어서,
상기 계측부는, 상기 굴절 부재의 위치 및 자세 중 하나 이상을 계측하는, 노광 장치.The method of claim 7,
The exposure apparatus, wherein the measurement unit measures at least one of a position and a posture of the refractive member. 제1항에 있어서,
상기 계측부는, 상기 주사 노광에 의해 상기 원판의 한 점이 노광 영역의 미리정해진 부분을 통과하는 동안에 계측을 행하고,
상기 제어부는,
상기 계측의 결과에 기초하여 상기 투영 광학계의 수차를 예측하고,
예측된 상기 수차를 보정하는 상기 오목 거울의 면 형상을 산출하고,
상기 주사 노광에 의해 상기 한 점이 상기 노광 영역의 상기 미리정해진 부분 이외의 부분을 통과하는 동안에, 산출된 상기 면 형상을 목표로 하여 상기 복수의 조정부를 제어하는, 노광 장치.The method of claim 1,
The measurement unit performs measurement while a point of the original plate passes through a predetermined portion of the exposure area by the scanning exposure,
The control unit,
Predicting the aberration of the projection optical system based on the measurement result,
Calculate the surface shape of the concave mirror correcting the predicted aberration,
An exposure apparatus, wherein the plurality of adjustment units are controlled by targeting the calculated surface shape while the one point passes through a portion other than the predetermined portion of the exposure area by the scanning exposure. 물품의 제조 방법이며,
노광 장치를 사용하여 기판을 노광하는 제1 공정과,
상기 제1 공정에서 노광된 기판을 현상하는 제2 공정을 갖고,
상기 제조 방법은, 상기 제2 공정에서 현상된 상기 기판으로부터 물품을 제조하고,
상기 노광 장치는, 상기 기판의 주사 노광을 행하는 노광 장치로서, 원판의 패턴을 상기 기판에 투영하는 투영 광학계와, 제어부를 갖고,
상기 투영 광학계는,
오목 거울과,
볼록 거울을 포함하는 복수의 광학 부재와,
상기 오목 거울의 면 형상을 조정하기 위하여 상기 오목 거울의 이면의 복수 개소에 힘을 가하는 복수의 조정부와,
상기 복수의 광학 부재 중 1개 이상의 광학 부재의 위치 및 자세 중 하나 이상을 계측하는 계측부를 포함하고,
상기 제어부는, 상기 주사 노광의 실행 중에 상기 계측부에 의해 계측된 상기 광학 부재의 위치 및 자세 중 하나 이상의 변화에 의해 발생한 상기 투영 광학계의 수차를 보정하도록, 상기 주사 노광의 실행 중에 상기 복수의 조정부의 제어를 행하는, 물품의 제조 방법.It is a method of manufacturing an article,
A first step of exposing the substrate using an exposure apparatus, and
Having a second process of developing the substrate exposed in the first process,
The manufacturing method comprises manufacturing an article from the substrate developed in the second process,
The exposure apparatus is an exposure apparatus that performs scanning exposure of the substrate, and has a projection optical system for projecting a pattern of an original plate onto the substrate, and a control unit,
The projection optical system,
With a concave mirror,
A plurality of optical members including convex mirrors,
A plurality of adjustment units for applying a force to a plurality of locations on the rear surface of the concave mirror to adjust the shape of the surface of the concave mirror,
A measurement unit for measuring at least one of a position and a posture of at least one optical member among the plurality of optical members,
The control unit is configured to correct the aberration of the projection optical system caused by a change in one or more of the position and posture of the optical member measured by the measurement unit during the execution of the scanning exposure, the plurality of adjustment units during the execution of the scanning exposure. A method of manufacturing an article that performs control.
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