KR102166160B1 - Apparatus for collecting fluid - Google Patents
Apparatus for collecting fluid Download PDFInfo
- Publication number
- KR102166160B1 KR102166160B1 KR1020180152865A KR20180152865A KR102166160B1 KR 102166160 B1 KR102166160 B1 KR 102166160B1 KR 1020180152865 A KR1020180152865 A KR 1020180152865A KR 20180152865 A KR20180152865 A KR 20180152865A KR 102166160 B1 KR102166160 B1 KR 102166160B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- transmission shaft
- lifting support
- collection unit
- support member
- fluid
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68764—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a movable susceptor, stage or support, others than those only rotating on their own vertical axis, e.g. susceptors on a rotating caroussel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68792—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the construction of the shaft
Abstract
본 발명의 유체 수집 장치는 기판 스테이지, 수집 유닛 및 구동 어셈블리를 포함한다. 기판 스테이지는 기판을 고정하고 회전시키는데 사용되고, 수집 유닛은 기판의 유체를 수집하도록 기판 스테이지를 둘러싼다. 구동 어셈블리는 수집 유닛에 연결되어 수집 유닛을 승강시키는데 사용되며, 구동 어셈블리는 전동축, 전동축에 연결되는 동력 부재, 전동축과 수집 유닛에 연결되는 제1 승강 지지부재를 포함한다. 전동축은 장축을 가지고, 동력 부재는 장축을 중심으로 회전하도록 전동축을 구동하며, 장축을 중심으로 한 전동축의 회전은 제1 승강 지지부재를 구동하여 수집 유닛을 승강시킨다.The fluid collection apparatus of the present invention includes a substrate stage, a collection unit, and a drive assembly. The substrate stage is used to fix and rotate the substrate, and the collection unit surrounds the substrate stage to collect the fluid of the substrate. The drive assembly is connected to the collection unit and used to elevate the collection unit, and the drive assembly includes a transmission shaft, a power member connected to the transmission shaft, and a transmission shaft and a first lifting support member connected to the collection unit. The transmission shaft has a long axis, the power member drives the transmission shaft to rotate about the long axis, and rotation of the transmission shaft about the long axis drives the first lifting support member to lift the collection unit.
Description
본 발명은 습식 공정에 사용되는 설비에 관한 것이며, 특히는 사용 후의 유체를 수집할 수 있는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to equipment used in wet processes, and in particular to a device capable of collecting fluid after use.
현재 반도체 습식 공정에 사용되고 있는 설비, 예를 들면, 에칭 설비와 세정 설비는 사용 후의 에칭액과 세정액을 수집할 수 있도록 통상적으로 폐액 수집 장치를 포함한다. 현재 일부 습식 공정 설비는 또한 회전 가능한 작업대를 구비하며, 폐액 수집 장치는 수집 링을 포함한다. 기판, 예를 들면, 웨이퍼(wafer)는 상기 작업대에 고정될 수 있으며, 또한 작업대가 회전함에 따라 회전한다. 수집 링은 작업대를 둘러쌀 수 있도록 수직방향에서 오르내릴 수 있다. 이러한 방식으로, 회전중의 작업대에 발생하는 원심력으로 기판과 작업대 위의 액체(예를 들면, 에칭액과 세정액임)를 수집 링 내로 뿌리칠 수 있다. 또한 하나의 수집 링은 통상적으로 공압 실린더(Pneumatic cylinder) 또는 모터와 같은 두개의 동력원에 연결된다. 다시 말하면, 하나의 수집 링의 승강은 통상적으로 두개의 동력원으로 제어한다.Equipment currently used in the semiconductor wet process, for example, etching equipment and cleaning equipment typically include a waste liquid collection device to collect the used etching liquid and cleaning liquid. Currently some wet process equipment also has a rotatable worktable, and the waste liquid collection device includes a collection ring. A substrate, for example a wafer, may be fixed to the worktable and also rotates as the worktable rotates. The collection ring can be raised and lowered in a vertical direction to surround the workbench. In this way, it is possible to sprinkle the substrate and the liquid on the worktable (eg, etchant and cleaning liquid) into the collection ring with the centrifugal force generated on the worktable during rotation. Also, one collecting ring is typically connected to two power sources, such as a pneumatic cylinder or a motor. In other words, the lifting of one collecting ring is typically controlled by two power sources.
본 발명에서 제공하는 유체 수집 장치는 전동축 및 유체를 수집하는데 사용되는 수집 유닛을 포함하고, 유체 수집 장치는 전동축의 회전을 이용하여 수집 유닛을 승강시킨다. The fluid collection device provided by the present invention includes a transmission shaft and a collection unit used to collect fluid, and the fluid collection device raises and lowers the collection unit using the rotation of the transmission shaft.
본 발명에서 제공하는 유체 수집 장치는 기판 스테이지(substrate stage), 수집 유닛 및 구동 어셈블리를 포함한다. 기판 스테이지는 기판을 고정하고 회전시키는데 사용되고, 수집 유닛은 기판의 유체를 수집하도록 기판 스테이지를 둘러싼다. 구동 어셈블리는 수집 유닛에 연결되어 수집 유닛을 승강시키는데 사용되며, 구동 어셈블리는 전동축, 전동축에 연결되는 동력 부재, 전동축과 수집 유닛에 연결되는 제1 승강 지지부재를 포함한다. 전동축은 장축을 가지고, 동력 부재는 장축을 중심으로 회전하도록 전동축을 구동하며, 장축을 중심으로 한 전동축의 회전은 제1 승강 지지부재를 구동하여 수집 유닛을 승강시킨다.The fluid collection apparatus provided by the present invention includes a substrate stage, a collection unit, and a drive assembly. The substrate stage is used to fix and rotate the substrate, and the collection unit surrounds the substrate stage to collect the fluid of the substrate. The drive assembly is connected to the collection unit and used to elevate the collection unit, and the drive assembly includes a transmission shaft, a power member connected to the transmission shaft, and a transmission shaft and a first lifting support member connected to the collection unit. The transmission shaft has a long axis, the power member drives the transmission shaft to rotate about the long axis, and rotation of the transmission shaft about the long axis drives the first lifting support member to lift the collection unit.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 구동 어셈블리는 제2 승강 지지부재를 더 포함한다. 제1 승강 지지부재와 제2 승강 지지부재는 각각 전동축의 양단에 설치되고, 또한 모두 수집 유닛에 연결된다.In one embodiment of the present invention, the drive assembly further includes a second lifting support member. The first lifting support member and the second lifting support member are installed at both ends of the transmission shaft, respectively, and both are connected to the collection unit.
본 발명의 일실시예에 있어서, 유체 수집 장치는 복수의 수집 유닛 및 복수의 구동 어셈블리를 더 포함하고, 복수의 구동 어셈블리는 각각 복수의 수집 유닛에 연결되며, 각 구동 어셈블리는 그에 연결된 수집 유닛을 구동하여, 그에 연결된 수집 유닛이 승강하도록 하며, 따라서 복수의 수집 유닛은 제각기 승강한다. 구동 어셈블리의 수량은 수집 유닛의 수량과 같다.In one embodiment of the present invention, the fluid collection device further includes a plurality of collection units and a plurality of drive assemblies, and the plurality of drive assemblies are each connected to a plurality of collection units, and each drive assembly includes a collection unit connected thereto. Driven so that the collecting unit connected thereto is raised and lowered, and thus the plurality of collecting units respectively raise and lower. The quantity of drive assemblies is equal to the quantity of collection units.
본 발명의 일실시예에 있어서, 복수의 구동 어셈블리의 복수의 전동축은 서로 병렬된다.In one embodiment of the present invention, a plurality of transmission shafts of a plurality of drive assemblies are parallel to each other.
본 발명의 일실시예에 있어서, 각 수집 유닛은 링 형상을 갖고, 복수의 수집 유닛은 동심원으로 배열된다. 복수의 구동 어셈블리는 복수의 전동축, 복수의 제1 승강 지지부재, 복수의 제2 승강 지지부재를 더 포함하고, 복수의 전동축은 서로 다른 길이를 갖고 있으며, 그 중 하나의 제1 승강 지지부재와 그 중 하나의 제2 승강 지지부재는 각각 동일한 전동축의 양단에 설치된다.In one embodiment of the present invention, each collecting unit has a ring shape, and the plurality of collecting units are arranged concentrically. The plurality of drive assemblies further include a plurality of transmission shafts, a plurality of first lifting support members, and a plurality of second lifting support members, and the plurality of transmission shafts have different lengths, and one of the first lifting support members And one of the second lifting support members are installed at both ends of the same transmission shaft.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 전동축은 기판 스테이지의 아래에 수평으로 배치된다.In one embodiment of the present invention, the transmission shaft is disposed horizontally under the substrate stage.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제1 승강 지지부재는 수직 승강 로드 및 연결 로드를 포함한다. 수직 승강 로드의 양단은 각각 수집 유닛의 아래면과 연결 로드의 일단에 연결되고, 연결 로드의 타단은 전동축에 고정되어, 장축을 중심으로 회전하는 전동축으로 연결 로드를 회전시키며, 회전하는 연결 로드는 수직 승강 로드를 구동하여 수집 유닛을 승강시킨다.In one embodiment of the present invention, the first lifting support member includes a vertical lifting rod and a connecting rod. Both ends of the vertical lifting rod are connected to the bottom surface of the collecting unit and one end of the connecting rod, and the other end of the connecting rod is fixed to the transmission shaft, and the connecting rod is rotated by the transmission shaft rotating around the long axis, and the connecting rod rotates. The rod drives the vertical lifting rod to raise and lower the collecting unit.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 동력 부재와 제1 승강 지지부재는 서로 분리되어 있으며, 또한 전동축의 상이한 위치에 제각기 고정된다.In an embodiment of the present invention, the power member and the first lifting support member are separated from each other, and are respectively fixed to different positions of the transmission shaft.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 동력 부재는 기판 스테이지의 아래와 기판 스테이지의 주위에 설치된다.In one embodiment of the present invention, the power member is installed below the substrate stage and around the substrate stage.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 동력 부재는 기판 스테이지 아래에 수평으로 설치된다.In one embodiment of the present invention, the power member is installed horizontally under the substrate stage.
본 발명의 수집 유닛의 승강은 하나의 동력 부재로 전동축과 제1 승강 지지부재를 구동하여 실현되므로, 수집 유닛은 동기화된 승강동력을 가질 수 있다.Since the lifting of the collecting unit of the present invention is realized by driving the transmission shaft and the first lifting support member with one power member, the collecting unit can have a synchronized lifting power.
동력 부재의 구동을 이용하여, 전동축은 장축을 중심으로 회전할 수 있으며, 이와 동시에 제1 승강 지지부재를 구동하여 수집 유닛을 승강시킬 수 있다. 보다 싶이, 유체 수집 장치는 상기 전동축을 이용하여 단 하나의 동력 부재로 하나의 수집 유닛을 구동할 수 있다. 기존의 폐액 수집 장치와 비교하면, 본 발명의 유체 수집 장치는 보다 적은 수량의 동력 부재로 모든 수집 유닛을 승강시킬 수 있으므로, 본 발명은 동력 부재의 수량을 감소시킬 수 있고, 따라서 동력 부재의 설치 비용을 줄일 수 있다.By using the driving of the power member, the transmission shaft can rotate around the long axis, and at the same time, the first lifting support member can be driven to lift the collection unit. More desirably, the fluid collection device can drive one collection unit with only one power member using the transmission shaft. Compared with the existing waste liquid collection device, the fluid collection device of the present invention can raise and lower all the collection units with a smaller number of power members, so the present invention can reduce the number of power members, and thus installation of power members You can reduce the cost.
위에서 본 발명의 기술적 사항을 간단히 설명해 왔다. 본 발명의 기술적 수단을 보다 상세하게 설명하고, 당업자가 이 명세서의 내용에 따라 본 발명을 실시하고, 본 발명의 상기 특징과 이점을 용이하게 이해할 수 있도록 하기 실시예와 도면에 의하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.The technical matters of the present invention have been briefly described above. The technical means of the present invention will be described in more detail, and the present invention will be further described by the following examples and drawings so that those skilled in the art can practice the present invention according to the contents of this specification, and easily understand the features and advantages of the present invention It will be described in detail.
도 1a는 본 발명의 실시예에 따른 유체 수집 장치를 나타내는 단면도이다.
도 1b는 도 1a의 유체 수집 장치를 나타내는 입체도이다.
도 1c는 도 1a의 유체 수집 장치의 작동 상태를 나타내는 측면도이다.
도 1d는 도 1a의 유체 수집 장치의 작동 상태를 나타내는 측면도이다.
도 2a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유체 수집 장치를 나타내는 부분 단면도이다.
도 2b는 도 2a의 유체 수집 장치를 나타내는 부분 입체도이다.1A is a cross-sectional view showing a fluid collection device according to an embodiment of the present invention.
1B is a three-dimensional view showing the fluid collection device of FIG. 1A.
1C is a side view showing an operating state of the fluid collection device of FIG. 1A.
1D is a side view showing an operating state of the fluid collection device of FIG. 1A.
2A is a partial cross-sectional view showing a fluid collection device according to another embodiment of the present invention.
2B is a partial perspective view showing the fluid collection device of FIG. 2A.
도 1a는 본 발명의 실시예에 따른 유체 수집 장치를 나타내는 단면도이다. 도 1a를 참조하면, 유체 수집 장치(100)는 기판 스테이지(102)를 포함한다. 기판 스테이지(102)는 기판(5)을 놓는데 사용되며, 기판(5)은 웨이퍼(wafer)일 수 있으며, 예를 들면, 집적 회로 또는 태양 전지 패널을 제조하는데 사용되는 실리콘 웨이퍼, 또는 발광 다이오드를 제조하는데 사용되는 사파이어 또는 갈륨 아세나이드 웨이퍼(gallium arsenide wafer)일 수 있다. 또는 기판(5)은 액정 디스플레이를 제조하는데 사용되는 유리 기판일 수도 있다. 기판 스테이지(102)는 기판(5)을 고정하고 회전시키는데 사용되며, 기판 스테이지(102)는 정전 흡착, 진공 흡착 또는 기구 접촉 방식에 의해 기판(5)을 고정할 수 있다.1A is a cross-sectional view showing a fluid collection device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1A, the
일실시예로서 도 1a를 참조하면, 기판 스테이지(102)는 탑재부(102a)와 회전축(102b)을 포함하고, 회전축(102b)은 탑재부(102a)에 연결되며, 기판(5)은 탑재부(102a) 위에 놓을 수 있다. 회전축(102b)은 회전 기구(도시되지 않음)에 연결될 수 있고, 회전 기구는 모터와 전동부(transmission)를 구비할 수 있으며, 전동부는 예를 들면, 기어, 체인, 벨트 및 풀리(pulley) 중의 적어도 한가지를 포함할 수 있다. 모터가 구동될 때, 모터에 의해 발생된 기계적 에너지는 전동부를 통해 회전축(102b)에 전달되어 회전축(102b)을 회전시킬 수 있다. 이러한 방식으로, 회전하는 회전축(102b)은 탑재부(102a)를 회전시킴으로써 기판(5)을 회전시킬 수 있다.Referring to FIG. 1A as an embodiment, the
유체 수집 장치(100)는 식각 기계 또는 세정 기계(도시되지 않음)에 사용될 수 있고, 식각 기계와 세정 기계는 유체 공급 장치(도시되지 않음)를 포함할 수 있으며, 유체 공급 장치는 노즐(nozzle)를 가질 수 있다. 노즐은 기판 스테이지(102) 위에 배치되어 유체(예를 들어, 에칭액 또는 세정액임)가 노즐로부터 기판(5)의 상부 표면으로 흐르도록 하며, 따라서 습식 에칭 프로세스 또는 세정 프로세스를 수행하도록 한다. 기판 스테이지(102)는 기판(5)을 회전시킬 수 있고, 회전하는 기판(5)은 원심력을 발생할 수 있기 때문에, 원심력에 의해 기판(5)과 기판 스테이지(102)에 위치한 유체를 밖으로 뿌리칠 수 있다.The
도 1b는 도 1a의 유체 수집 장치를 나타내는 입체도이고, 도 1a는 도 1b의 1B-1B선에 따른 단면도이다. 도 1a와 도 1b를 참조하면, 유체 수집 장치(100)는 수집 유닛(104)을 더 포함한다. 수집 유닛(104)은 링 형상을 갖고, 수집 유닛(104)은 기판 스테이지(102) 주위를 둘러싼다. 예를 들면, 수집 유닛(104)의 형상은 타이어의 형상과 동일하거나 유사할 수 있다. 기판(5)이 회전할 때, 기판(5)과 기판 스테이지(102)에 위치한 유체를 수집 유닛(104)으로 뿌리칠 수 있다. 이와 같이, 수집 유닛(104)은 기판 스테이지(102)와 기판(5)의 유체를 수집하는데 사용될 수 있다.1B is a three-dimensional view showing the fluid collection device of FIG. 1A, and FIG. 1A is a cross-sectional view taken along
유체 수집 장치(100)는 구동 어셈블리(106)를 더 포함한다. 구동 어셈블리(106)는 수집 유닛(104)에 연결되어 수집 유닛(104)을 승강시킬 수 있다. 구체적으로 설명하면, 구동 어셈블리(106)는 전동축(101), 전동축(101)에 연결되는 동력 부재(103)를 포함한다. 전동축(101)은 장축(101a)을 중심으로 회전하고, 또한 기판 스테이지(102)의 아래에 수평으로 배치된다. 따라서 전동축(101)의 장축(101a)은 실질적으로 수평면을 따라 연장된다. 동력 부재(103)는 장축(101a)을 중심으로 회전하도록 전동축(101)을 구동할 수 있으며, 전동축(101)이 장축(101a)을 중심으로 자전(spin)하도록 한다. 구체적으로 설명하면, 동력 부재(103)는 동력원(103c) 및 크랭크(crank)(105)를 포함할 수 있으며, 동력원(103c)은 크랭크(105)에 피봇식으로 연결되어 크랭크(105)가 동력원(103c)에 상대하여 회전하도록 한다.The
도 1a와 도 1b에 도시된 실시예에 있어서, 동력원(103c)은 공압 실린더(pneumatic cylinder)일 수 있고, 실린더(103b)와 실린더(103b)에 삽입된 푸시 로드(push rod)(103a)를 포함하며, 푸시 로드(103a)의 단부는 크랭크(105)에 피봇식으로 연결되므로 크랭크(105)는 푸시 로드(103a)에 상대하여 회전할 수 있다. 크랭크(105)의 일단은 푸시 로드(103a)에 피봇식으로 연결되지만 크랭크(105)의 타단은 전동축(101)에 고정된다. 따라서, 크랭크(105)가 장축(101a)을 중심으로 회전할 때, 전동축(101)도 장축(101a)을 중심으로 회전한다.1A and 1B, the
다른 실시예에 있어서, 동력 부재(103)는 다른 수단에 의해 구현될 수 있다는 것을 알아야 한다. 예를 들어, 동력원(103c)은 액체압 실린더(예를 들어, 유압 실린더) 또는 모터로 변경될 수 있다. 또는 동력 부재(103)는 모터와 전동부를 포함할 수 있으며, 전동부는 기어, 풀리, 체인 및 벨트의 임의의 조합 일 수 있다. 예를 들어, 전동축(101)의 표면은 기어와 맞물리는(engage) 다수의 치형(teeth)을 가질 수 있고, 동력 부재(103)는 모터와 기어를 포함하며, 동력 부재(103)의 기어와 전동축의(101) 치형은 서로 맞물린다. 따라서, 동력 부재(103)의 모터가 작동할 때, 회전하는 기어는 치형을 이용하여 전동축(101)를 구동하여 이를 회전시킬 수 있다. 따라서, 동력 부재(103)는 도 1a와 도 1b에 도시된 바와 같은 요소에 제한되지 않는다.It should be noted that in other embodiments, the
구동 어셈블리(106)는 제1 승강 지지부재(107)를 더 포함한다. 제1 승강 지지부재(107)는 전동축(101)와 수집 유닛(104)에 연결된다. 장축(101a)을 중심으로 한 전동축(101)의 회전은 동력 부재(103)의 동력을 전달할 수 있으며, 또한 동력을 제1 승강 지지 부재(107)에 전달하여 제1 승강 지지 부재(107)를 구동하여 수집 유닛(104)을 상승 또는 하강시킨다. 즉, 동력 부재(103)에 의해 발생된 동력은 전동축(101)의 자전을 통해 제1 승강 지지부재(107)에 전달됨으로써 제 1 승강 지지부재(107)를 작동시켜 수집 유닛(104)을 상승 또는 하강시킨다. 제 1 승강 지지부재(107)는 수직 승강 로드(109) 및 연결 로드(111)를 포함한다. 수직 승강 로드(109)의 양단은 각각 수집 유닛(104)의 아래면과 연결 로드(111)의 일단에 연결되고, 수직 승강 로드(109)는 연결 로드(111)에 피봇식으로 연결된다. 연결 로드(111)의 타단은 전동축(101)에 고정되어 장축(101a)을 중심으로 회전하는 전동축(101)로 연결 로드(111)를 회전시키며, 회전하는 연결 로드(111)는 수직 승강 로드(109)를 구동하여 수집 유닛(104)을 상승 또는 하강시킨다.The
도 1b를 참조하면, 유체 수집 장치(100)는 안내 부재(119)를 더 포함할 수 있으며, 안내 부재(119)는 적어도 하나의 안내 구멍(도 1b에 도시되지 않음)을 갖는다. 수직 승강 로드(109)는 상기 안내 구멍에 삽입되어 안내 부재(119)를 관통한다. 수직 승강 로드(109)와 안내 구멍은 헐거운 끼움맞춤(clearance fit)으로 형성되므로, 수직 승강 로드(109)는 안내 부재(119)에 대해 이동할 수 있다. 안내 부재(119)는 수직 승강 로드(109)의 이동 방향을 안내할 수 있고, 수직 승강로드 (109)가 단지 상하로 움직이게 하며, 수직 승강 로드(109)의 이동 방향이 어긋나서 수집 유닛(104)이 전복되는 것을 회피할 수 있다.Referring to FIG. 1B, the
본 발명의 실시예에 있어서, 동력 부재(103)와 제1 승강 지지부재(107)는 서로 분리되어 있으며, 또한 각각 전동축(101)의 상이한 위치에 고정적으로 설치된다. 유체(예를 들면, 에칭액, 세정액 또는 기체)가 수집 유닛(104)으로부터 수직 승강 로드(109)를 따라 아래로 흐를 때, 유체는 아래에 있는 연결 로드(111)까지 흐를수 있지만, 동력 부재(103)까지 더 흐르기는 어렵다. 따라서 수집 유닛(104)으로부터 누출된 유체는 연결 로드(111)로 흐르기 어렵기 때문에, 동력 부재(103)는 누출된 유체에 의해 손상되기 어렵다. In the embodiment of the present invention, the
도 1c 내지 도 1d는 도 1a의 유체 수집 장치의 작동 상태를 나타내는 측면도이다. 도 1c와 도 1d를 참조하면, 동력 부재(103)는 기판 스테이지(102) 아래 및 기판 스테이지(102)의 주위에 수평으로 배치될 수 있다. 다시 말하면, 동력원(103c)은 기판 스테이지(102) 아래에 가로 놓일 수 있으며, 따라서 푸시 로드(103a)가 실질적으로 수평 방향으로 이동할 수 있도록 한다. 이와 같이, 동력원(103c)의 운행 기간에, 예를 들면, 푸시 로드(103a)가 신축하는 과정에서 동력 부재(103)의 높이(height)는 기본상 변함없고, 따라서 유체 수집 장치(100) 비교적 낮은 전체 높이를 유지할 수 있도록 하며, 공간 사용율을 개선하는데 도움이 된다.1C to 1D are side views showing an operating state of the fluid collection device of FIG. 1A. 1C and 1D, the
도 1c를 참조하면, 이를 예로 들면, 동력 부재(103)의 푸시 로드(103a)가 길게 뻗을 때, 수집 유닛(104)은 초기 높이(initial level)에 위치한다. 도 1d를 참조하면, 동력 부재(103)의 푸시 로드(103a)가 수축될 때, 크랭크(105)는 푸시 로드(103a)에 의해 구동되어 장축(101a)을 중심으로 회전한다(도 1b 참조). 크랭크(105)는 전동축(101)에 고정되어 있기 때문에, 회전하는 크랭크(105)는 전동축(101)를 회전시킬 수 있으며, 전동축(101)가 장축(101a)을 중심으로 회전하도록 한다. 도 1d에 도시된 바와 같이, 전동축(101)는 반시계 방향으로 회전한다. 연결 로드(111)의 일단은 전동축(101)에 고정되어 있기 때문에, 연결 로드(111)도 전동축(101)에 의해 구동되어 장축(101a)을 중심으로 회전할 수 있다. 따라서 회전하는 연결 로드(111)는 수직 승강 로드(109)를 구동하여 수직 승강 로드(109)를 상승시키며, 수직 승강 로드(109)에 의해 수집 유닛(104)을 상승시킨다. 이와 같이, 수집 유닛(104)은 유체 수집을 진행할 수 있는 높이까지 상승될 수 있다.Referring to FIG. 1C, for example, when the
도 1c를 참조하면, 같은 도리로 수축된 푸시 로드(103a)가 다시 연장될 때, 푸시 로드(103a)에 의해 구동되는 전동축(101)는 다시 회전하게 된다. 도 1c에 도시된 바와 같이, 전동축(101)는 시계 방향으로 회전한다. 회전하는 전동축(101)는 다시 연결 로드(111)를 구동시켜 연결 로드(111)가 회전하도록 하며, 따라서 연결 로드(111)에 의해 수직 승강 로드(109)를 하강시키며, 예를 들면, 초기 높이로 돌아가도록 한다. 보다 싶이, 하나의 수집 유닛(104)의 오르내림은 단 하나의 동력 부재(103)로 전동축(101)를 구동시킴으로써 달성할 수 있다. 기존의 폐액 수집 장치와 비교하면, 유체 수집 장치(10)는 보다 적은 수량의 동력 부재(103)로 수집 유닛(104)을 승강시킬 수 있다.Referring to FIG. 1C, when the
동력 부재(103)의 푸시 로드(103a)의 신축과 수집 유닛(104)의 승강 사이의 상호 작용 관계는 단지 하나의 실시예뿐이며, 이것에 한정되지 않고, 상기 상호 작용 관계는 배치 위치 설계에 따라 변경될 수 있다. 예를 들면, 도 1c와 도 1d에 도시된 실시예에 있어서, 동력원(103c)은 크랭크(105)의 좌측에 배치되지만, 다른 실시예에 있어서, 동력원(103c)은 크랭크(105)의 우측에 배치될 수도 있다. 이와 같이, 동력 부재(103)의 푸시 로드(103a)가 길게 뻗을 때, 수집 유닛(104)은 올라간다. 동력 부재(103)의 푸시 로드(103a)가 수축하면, 수집 유닛(104)은 내려온다.The interaction relationship between the expansion and contraction of the
다시 도 1b를 참조하면, 구동 어셈블리(106)는 제2 승강 지지부재(113)를 더 포함한다. 제1 승강 지지부재(107)와 제2 승강 지지부재(113)는 각각 전동축(101)의 양단에 설치되고, 또한 모두 수집 유닛(104)에 연결된다. 도 1b에 도시된 바와 같이, 제1 승강 지지부재(107)와 제2 승강 지지부재(113) 양자의 구조는 동일하거나 유사할 수 있다. 예를 들면, 제2 승강 지지부재(113)도 수직 승강 로드(109)와 연결 로드(121)를 포함한다. 제1 승강 지지부재(107)와 제2 승강 지지부재(113) 양자는 수집 유닛(104)의 동일한 직경 상에 위치하거나 또는 수집 유닛(104)의 그 중 하나의 직경에 인접할 수 있다. 또한, 제1 승강 지지부재(107)와 제2 승강 지지부재(113)는 하나의 동력 부재(103)의 작동에 의해 수집 유닛(104)을 동시에 승강시킬 수 있다. 이러한 방식으로, 제1 승강 지지부재(107)와 제2 승강 지지부재(113)는 수집 유닛(104)를 평온하게 상승 및 하강시킬 수 있으므로, 수집 유닛(104)이 뒤집히는 사고를 줄일 수 있다.Referring back to FIG. 1B, the driving
도 2a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유체 수집 장치를 나타내는 부분 단면도이고, 도 2b는 도 2a의 유체 수집 장치를 나타내는 부분 입체도이다. 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 상술한 실시예와 같이, 본 실시예에 따른 유체 수집 장치(200)는 상술한 실시예에 따른 유체 수집 장치(100)와 유사하다. 구체적으로 설명하면, 유체 수집 장치(100 및 200) 양자는 기판 스테이지(102)와 같은 동일한 구성 요소를 포함한다. 하지만 상술한 실시예에 따른 유체 수집 장치(100)와는 달리, 유체 수집 장치(200)는 복수의 수집 유닛(104), 복수의 구동 어셈블리(106), 복수의 제1 승강 지지부재(107) 및 복수의 제2 승강 지지부재(113)를 포함한다. 복수의 제1 승강 지지부재(107)는 복수의 전동축(101)의 동일한 단부에 집중되어 있고, 복수의 제2 승강 지지부재(113)는 복수의 전동축(101)의 타단에 집중되어 있다. 도 2b에 도시된 바와 같이, 그 중 하나의 제1 승강 지지부재(107)와 그 중 하나의 제2 승강 지지부재(113)는 각기 동일한 전동축(101)의 양단에 설치된다.2A is a partial cross-sectional view showing a fluid collection device according to another embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a partial three-dimensional view showing the fluid collection device of FIG. 2A. 2A and 2B, as in the above-described embodiment, the
복수의 수집 유닛(104)은 서로 다르다. 구체적으로 설명하면, 복수의 수집 유닛(104)의 크기(예를 들어, 외경)는 상이하고, 복수의 수집 유닛(104)은 동심원으로 배열될 수 있다. 복수의 구동 어셈블리(106)는 각각 복수의 수집 유닛(104)에 연결되고, 각 구동 어셈블리(106)는 그에 연결된 수집 유닛(104)을 구동하여, 그에 연결된 수집 유닛(104)이 오르내리도록 하며, 따라서 복수의 수집 유닛(104)은 제각기 승강한다. 구동 어셈블리의 수량(106)은 수집 유닛(104)의 수량과 같다. 도 2a와 도 2b를 예로 하면, 유체 수집 장치(200)에 포함된 수집 유닛(104)의 수량은 세개이고, 구동 어셈블리 (106)의 수량도 세개이다.The plurality of
복수의 수집 유닛(104)의 크기가 서로 다르기 때문에, 복수의 전동축(101)는 상이한 길이를 가지게 되며, 복수의 전동축(101)의 전동으로 대응하는 수집 유닛(104)을 각각 승강시킨다. 그러나, 다른 실시예에 있어서, 복수의 전동축(101)는 동일한 길이를 가질수 있으므로, 전동축(101)의 길이는 서로 다른 것에 제한되지 않는다. 복수의 전동축(101)는 서로 병렬되고, 수평면 상에 반듯이 놓여있으며, 즉 복수의 전동축(101) 의 장축(도 2a와 도 2b에 도시되지 않음)은 실질적으로 수평면을 따라 연장된다. 복수의 동력 부재(103)는 모두 기판 스테이지(102) 아래에 배치 될 수 있고, 각 구동 어셈블리(106)의 동력 부재(103)는 그에 대응하는 제1 승강 지지부재(107) 및 제2 승강 지지부재(113)와 서로 분리되어 수집 유닛(104)으로부터 누설된 유체가 복수의 동력 부재(103)에 손상주는 것을 방지한다.Since the plurality of
유체 수집 장치(200)는 복수의 지지판(115)을 더 포함할 수 있다. 일실시예로서 도 2b를 참조하면, 유체 수집 장치(200)에 포함되는 지지판(115)의 수량는 두개이며, 각 지지판(115)은 다수의 관통 구멍(115a)을 구비할 수 있다. 각 지지판(115)은 그 중 하나의 동력 부재(103)와 그 중 하나의 승강 지지부재(예를 들어, 제1 승강 지지부재(107) 또는 제2 승가 지지부재(113)) 사이에 위치하며, 두 지지판(115)은 서로 마주하여 배치된다. 서로 병렬된 복수의 전동축(101)는 복수의 관통 구멍(115a)을 각각 통과할 수 있고, 복수의 전동축(101)와 복수의 관통 구멍(115a)은 헐거운 끼움맞춤으로 형성됨으로써, 전동축(101)가 관통 구멍(115a) 안에서 자유롭게 회전하도록 한다.The
도 2b를 참조하면, 유체 수집 장치(200)는 적어도 하나의 안내 부재(119)를 더 포함할 수 있으며, 도 2b에 도시된 유체 수집 장치(200)는 한 쌍의 안내 부재(119)를 포함한다. 각 안내 부재(119)는 복수의 안내 구멍(119a)을 갖는다. 복수의 제1 승강 지지부재(107) 및 복수의 제2 승강 지지부재(113)에 포함된 수직 승강 로드(109)는 서로 병렬되고 복수의 안내 구멍(119a)을 각각 관통하며, 각 수직 승강 로드(109)는 안내 부재(119)에 상대하여 상하로 움직일 수 있다. 따라서 각 안내 부재(119)는 수직 승강 로드(109)의 이동 방향을 안내할 수 있고, 수직 승강로드 (109)가 단지 상하로 움직이게 하며, 수직 승강 로드(109)의 이동 방향이 어긋나서 수집 유닛(104)이 전복되는 것을 회피할 수 있다.2B, the
상술한 바와 같이, 본 발명은 동력 부재의 구동을 이용하여 전동축을 회전시킴으로써 승강 지지부재(예를 들어, 제1 승강 지지부재)를 구동시켜 수집 유닛을 상승 및 하강시킨다. 따라서, 전동축을 이용하여 단 하나의 동력 부재만으로 수집 유닛을 상하로 구동할 수 있다. 기존의 폐액 수집 장치와 비교하면, 본 발명의 유체 수집 장치는 보다 적은 수량의 동력 부재로 모든 수집 유닛을 승강시킬 수 있으므로, 본 발명은 동력 부재의 수량을 감소시킬 수 있고, 따라서 동력 부재의 설치 비용을 줄일 수 있다.As described above, the present invention drives the lifting support member (for example, the first lifting support member) by rotating the transmission shaft using the drive of the power member to raise and lower the collection unit. Therefore, it is possible to drive the collection unit up and down with only one power member using the transmission shaft. Compared with the existing waste liquid collection device, the fluid collection device of the present invention can raise and lower all the collection units with a smaller number of power members, so the present invention can reduce the number of power members, and thus installation of power members You can reduce the cost.
또한, 기존의 폐액 수집 장치에 있어서, 하나의 회수 링은 통상 두개의 동력원으로 제어하기 때문에, 회수 링을 안정적으로 상승 및 하강시키기 위해서는 두개의 동력원을 동기적으로 운행하도록 제어해야 한다. 그렇지 않으면 두개의 동력원이 동기적으로 운행하지 않으면 수집 링이 뒤집히는 경향이 있다. 그러나, 본 실시예에 있어서, 하나의 동력 부재로 하나의 수집 유닛의 승강을 구동하기 때문에, 복수의 동력 부재를 포함하는 유체 수집 장치에 있어서, 복수의 동력 부재가 동기적으로 운행하는지 여부를 제어하지 않아도 된다. 따라서, 기존의 폐액 수집 장치와 비교하면, 복수의 동력 부재가 동기적으로 운행하도록 제어하지 않아도 되므로, 본 발명의 유체 수집 장치는 조작 및 작동이 기존의 폐액 수집 장치보다 더 간단하다.In addition, in the existing waste liquid collecting apparatus, since one recovery ring is normally controlled by two power sources, it is necessary to control the two power sources to operate synchronously in order to stably raise and lower the recovery ring. Otherwise, the collection ring will tend to overturn if the two power sources are not running synchronously. However, in this embodiment, since one power member drives the lifting and lowering of one collection unit, in the fluid collection device including a plurality of power members, it is controlled whether or not the plurality of power members operate synchronously. You do not have to do. Therefore, compared with the conventional waste liquid collecting device, since it is not necessary to control a plurality of power members to operate synchronously, the operation and operation of the fluid collecting device of the present invention are simpler than that of the conventional waste liquid collecting device.
본 발명에 언급된 기판은 기판, 스테이지, 웨이퍼, 칩 등 형태일 수 있고, 그 형상은 원형 또는 사각형일 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 또한 본 발명의 유체 수집 장치는 기판의 습식 가공(에칭, 세정 및 건조 등), 예를 들면, 단일 기판의 습식 가공, 복수 기판의 습식 가공, 단일 사각형 칩의 납땜 하측의 금속 에칭, 박막형 웨이퍼의 지지/박리, 접착/박리 공정, 탄화 규소 재생 웨이퍼, 재생 실리콘 웨이퍼 등에 사용할 수 있지만, 이것에만 한정되는 것은 아니다.The substrate mentioned in the present invention may be in the form of a substrate, a stage, a wafer, a chip, or the like, and the shape may be circular or square, but is not limited thereto. In addition, the fluid collection device of the present invention is used for wet processing (etching, cleaning, drying, etc.) of a substrate, for example, wet processing of a single substrate, wet processing of a plurality of substrates, metal etching under soldering of a single square chip, and thin film wafers. Although it can be used for supporting/peeling, bonding/peeling process, silicon carbide recycled wafer, recycled silicon wafer, etc., it is not limited thereto.
상술한 실시예는 본 발명의 예시일뿐, 본 발명을 한정하고자 하는 것은 아니다. 상술한 실시예로 본 발명을 개시하지만, 상술한 실시예는 본 발명을 한정하고자 하는 것은 아니다. 이 기술 분야의 기술자는 본 발명의 요지를 이탈하지 않는 범위 내에서 공개된 상기 방법 및 기술적 사항을 통하여 본 발명의 실시예를 변경, 개량하고, 이것에 의하여 상기 실시예와 실질적으로 동일한 실시예를 획득할 수 있다. 본 발명의 요지를 이탈하지 않는 범위 내에서 본 발명의 기술 실질에 따라 상기 실시예에 대한 간단한 수정, 동등한 변경과 수정은 모두 본 발명의 범위에 포함된다. The above-described embodiments are only examples of the present invention, and are not intended to limit the present invention. Although the present invention is disclosed by the above-described embodiments, the above-described embodiments are not intended to limit the present invention. A person skilled in the art will change and improve the embodiments of the present invention through the above methods and technical matters disclosed within the scope not departing from the gist of the present invention, thereby making the embodiments substantially the same as those of the above embodiments. Can be obtained. Simple modifications, equivalent changes and modifications to the above embodiments according to the technical substance of the present invention within the scope not departing from the gist of the present invention are all included in the scope of the present invention.
100: 유체 수집 장치, 101: 전동축
102: 기판 스테이지 103: 동력 부재
104: 수집 유닛 106: 구동 어셈블리
107: 제1 승강 지지부재100: fluid collection device, 101: transmission shaft
102: substrate stage 103: power member
104: collection unit 106: drive assembly
107: first lifting support member
Claims (10)
상기 기판 스테이지는 기판을 고정하고 회전시키는데 사용되고,
상기 수집 유닛은 상기 기판의 유체를 수집하도록 상기 기판 스테이지를 둘러싸며,
상기 구동 어셈블리는 상기 수집 유닛에 연결되어 상기 수집 유닛을 승강시키는데 사용되고, 상기 구동 어셈블리는 전동축, 동력 부재, 제1 승강 지지부재를 포함하며,
상기 전동축은 장축을 중심으로 회전하고,
상기 동력 부재는 상기 전동축에 연결되고, 장축을 중심으로 회전하도록 상기 전동축을 구동하는데 사용되며,
상기 제1 승강 지지부재는 상기 전동축과 상기 수집 유닛에 연결되고, 상기 장축을 중심으로 한 상기 전동축의 회전은 상기 제1 승강 지지부재를 구동하여 상기 수집 유닛을 승강시키고,
상기 구동 어셈블리는 제2 승강 지지부재를 더 포함하고, 상기 제1 승강 지지부재와 상기 제2 승강 지지부재는 각각 상기 전동축의 양단에 설치되며, 또한 모두 상기 수집 유닛에 연결되는 것을 특징으로 하는 유체 수집 장치.A fluid collection device comprising a substrate stage, a collection unit, and a drive assembly,
The substrate stage is used to fix and rotate the substrate,
The collection unit surrounds the substrate stage to collect the fluid of the substrate,
The drive assembly is connected to the collection unit and used to elevate the collection unit, and the drive assembly includes a transmission shaft, a power member, and a first elevating support member,
The transmission shaft rotates around the long axis,
The power member is connected to the transmission shaft, and is used to drive the transmission shaft to rotate around a long axis,
The first lifting support member is connected to the transmission shaft and the collection unit, the rotation of the transmission shaft about the long axis drives the first lifting support member to lift the collection unit,
The drive assembly further includes a second lifting support member, wherein the first lifting support member and the second lifting support member are respectively installed at both ends of the transmission shaft, and both are connected to the collection unit. Fluid collection device.
상기 유체 수집 장치는 복수의 상기 수집 유닛 및 복수의 상기 구동 어셈블리를 더 포함하고, 복수의 상기 구동 어셈블리는 각각 복수의 상기 수집 유닛에 연결되며, 각 상기 구동 어셈블리는 그에 연결된 상기 수집 유닛을 구동하여, 복수의 상기 수집 유닛이 제각기 승강하도록 하며, 상기 구동 어셈블리의 수량은 상기 수집 유닛의 수량과 같은 것을 특징으로 하는 유체 수집 장치.The method of claim 1,
The fluid collection device further includes a plurality of the collection units and a plurality of the drive assemblies, each of the plurality of drive assemblies being connected to a plurality of the collection units, and each of the drive assemblies driving the collection units connected thereto And each of the plurality of collection units ascending and descending, and the quantity of the drive assembly is the same as the quantity of the collection unit.
복수의 상기 구동 어셈블리의 복수의 전동축은 서로 병렬되는 것을 특징으로 하는 유체 수집 장치.The method of claim 3,
A fluid collection device, characterized in that a plurality of transmission shafts of the plurality of drive assemblies are parallel to each other.
각 상기 수집 유닛은 링 형상을 갖고, 복수의 상기 수집 유닛은 동심원으로 배열되며, 복수의 상기 구동 어셈블리는 복수의 상기 전동축, 복수의 상기 제1 승강 지지부재, 복수의 상기 제2 승강 지지부재를 더 포함하고, 복수의 상기 전동축은 서로 다른 길이를 갖고 있으며, 그 중 하나의 상기 제1 승강 지지부재와 그 중 하나의 상기 제2 승강 지지부재는 각각 동일한 상기 전동축의 양단에 설치되는 것을 특징으로 하는 유체 수집 장치.The method of claim 3,
Each of the collection units has a ring shape, a plurality of the collection units are arranged in a concentric circle, and the plurality of the drive assemblies includes a plurality of the transmission shafts, a plurality of the first lifting support members, a plurality of the second lifting support members It further includes, wherein the plurality of transmission shafts have different lengths, and one of the first lifting support members and one of the second lifting support members are installed at both ends of the same transmission shaft. Fluid collection device, characterized in that.
상기 전동축은 상기 기판 스테이지의 아래에 수평으로 배치되는 것을 특징으로 하는 유체 수집 장치.The method of claim 1,
The transmission shaft is a fluid collection device, characterized in that disposed horizontally under the substrate stage.
상기 제1 승강 지지부재는 수직 승강 로드 및 연결 로드를 포함하고, 상기 수직 승강 로드의 양단은 각각 상기 수집 유닛의 아래면과 상기 연결 로드의 일단에 연결되며, 상기 연결 로드의 타단은 상기 전동축에 고정되어, 상기 장축을 중심으로 회전하는 상기 전동축으로 상기 연결 로드를 회전시키며, 회전하는 상기 연결 로드는 상기 수직 승강 로드를 구동하여 상기 수집 유닛을 승강시키는 것을 특징으로 하는 유체 수집 장치.The method of claim 6,
The first lifting support member includes a vertical lifting rod and a connection rod, both ends of the vertical lifting rod are connected to a lower surface of the collection unit and one end of the connection rod, respectively, and the other end of the connection rod is the transmission shaft The fluid collection device, characterized in that fixed to, rotating the connection rod with the transmission shaft rotating about the long axis, the rotating connection rod drives the vertical lifting rod to lift the collection unit.
상기 동력 부재와 상기 제1 승강 지지부재는 상기 전동축의 상이한 위치에 제각기 고정되는 것을 특징으로 하는 유체 수집 장치.The method of claim 1,
The fluid collection device, wherein the power member and the first lifting support member are respectively fixed to different positions of the transmission shaft.
상기 동력 부재는 상기 기판 스테이지의 아래와 상기 기판 스테이지의 주위에 설치되는 것을 특징으로 하는 유체 수집 장치.The method of claim 8,
The fluid collection device, wherein the power member is installed below the substrate stage and around the substrate stage.
상기 동력 부재는 상기 기판 스테이지 아래에 수평으로 설치되는 것을 특징으로 하는 유체 수집 장치.The method of claim 8,
The fluid collection device, characterized in that the power member is installed horizontally under the substrate stage.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW107141591A TWI693627B (en) | 2018-11-22 | 2018-11-22 | Fluid collection device |
TW107141591 | 2018-11-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200068110A KR20200068110A (en) | 2020-06-15 |
KR102166160B1 true KR102166160B1 (en) | 2020-10-16 |
Family
ID=71081933
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180152865A KR102166160B1 (en) | 2018-11-22 | 2018-11-30 | Apparatus for collecting fluid |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102166160B1 (en) |
TW (1) | TWI693627B (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102620706B1 (en) * | 2020-07-31 | 2024-01-03 | 세메스 주식회사 | Substrate processing apparatus and substrate processing method for supplying and recovering liquid |
TWI778786B (en) * | 2021-09-11 | 2022-09-21 | 辛耘企業股份有限公司 | Wafer processing method and carrier |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW439800U (en) * | 1999-12-14 | 2001-06-07 | Kauo Heng Prec Machinery Ind C | Linkage structure driven by the cam |
JP3587776B2 (en) * | 2000-10-10 | 2004-11-10 | 東京エレクトロン株式会社 | Coating device and coating method |
JP5375871B2 (en) * | 2011-04-18 | 2013-12-25 | 東京エレクトロン株式会社 | Liquid processing apparatus, liquid processing method, and storage medium storing computer program |
KR101927429B1 (en) * | 2012-06-14 | 2018-12-10 | 세메스 주식회사 | Substrate treating apparatus |
JP6281161B2 (en) * | 2013-09-27 | 2018-02-21 | 東京エレクトロン株式会社 | Liquid processing equipment |
-
2018
- 2018-11-22 TW TW107141591A patent/TWI693627B/en active
- 2018-11-30 KR KR1020180152865A patent/KR102166160B1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200068110A (en) | 2020-06-15 |
TWI693627B (en) | 2020-05-11 |
TW202020929A (en) | 2020-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102166160B1 (en) | Apparatus for collecting fluid | |
KR100919215B1 (en) | End effector and robot arm apparatus having the same | |
JP2012138510A (en) | Liquid processing apparatus, liquid processing method, and recording medium recording program for executing the liquid processing method | |
KR100900388B1 (en) | Processing table | |
KR20190049475A (en) | Wafer cleaning apparatus and method for cleaning wafer | |
CN108231635B (en) | Substrate processing apparatus | |
CN111211066B (en) | Fluid collecting device | |
CN106711060A (en) | Fluid collection device of rotary etching and cleaning machine | |
KR20120051315A (en) | Device for cleaning nozzle and method for cleaing nozzle using the same | |
CN110896041A (en) | Substrate processing apparatus and fluid supply device thereof | |
CN212392216U (en) | Exchange formula expands membrane wafer device | |
TWI688432B (en) | Substrate processing apparatus and fluid supply device thereof | |
TW201716155A (en) | Liquid collection apparatus for spin etcher | |
CN116995002B (en) | Wafer and glass stripping device, stripping and cleaning integrated equipment and stripping method | |
CN110875180A (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
KR101899392B1 (en) | A apparatus for elevating heavy parts | |
CN207265105U (en) | A kind of lighting-up equipment of OLED screen | |
CN117080156B (en) | Carrier device for wafer detection | |
CN216622599U (en) | Chip supporting device for chip detection | |
CN216859355U (en) | Wafer wax-dropping device | |
JP2561467B2 (en) | Wafer carrier | |
KR101071936B1 (en) | Pressing apparatus of wafer frame of auto-conversion type | |
CN216631827U (en) | Chip array substrate cleaning device | |
CN220358057U (en) | Wafer wax pasting mechanism | |
KR20110052172A (en) | Apparatus for transferring a substrate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right |