KR102150258B1 - Electronic element and sheet material - Google Patents

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Abstract

본 발명의 전자 소자는, 실장면을 구비하는 배선 기판과, 상기 배선 기판의 상기 실장면 상에 실장된 복수의 전자 부품을 구비하는 전자 기판과, 상기 전자 기판에 적층되고 도전성을 구비하는 시트상의 기재와, 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 설치되고 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 구비하는 시트재와, 상기 시트재의 상기 기재를 접지함과 동시에, 상기 시트재와 상기 전자 기판을 고정하는 그랜드부를 가진다. 이것에 의해, 전자 부품으로부터의 발열의 제거가 용이하고, 박형이고 신뢰성이 높은 전자 소자를 제공할 수 있다. The electronic device of the present invention includes a wiring board having a mounting surface, an electronic board including a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board, and a sheet-like layer laminated on the electronic board and having conductivity. A sheet material having a substrate, at least one insulating layer provided on the electronic substrate side of the substrate and having a size including at least one electronic component, and the substrate of the sheet material are grounded, and the It has a sheet member and a ground portion for fixing the electronic substrate. Thereby, it is easy to remove heat generation from an electronic component, and it is possible to provide a thin, highly reliable electronic element.

Description

전자 소자 및 시트재{ELECTRONIC ELEMENT AND SHEET MATERIAL}Electronic element and sheet material {ELECTRONIC ELEMENT AND SHEET MATERIAL}

본 발명은 전자 소자 및 시트재에 관한 것이다. The present invention relates to an electronic device and a sheet material.

스마트폰 등의 전자 기기에서는, 배선 기판 상에 탑재된 전자 부품을, 예를 들면, 전자파 등으로부터 보호하기 위해서, 도전성을 가지는 상자(箱)상의 실드관(缶)을, 전자 부품을 가리도록 배선 기판 상에 마련하는 것이 행해진다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).In electronic devices such as smartphones, in order to protect electronic components mounted on a wiring board from, for example, electromagnetic waves, a conductive box-shaped shield tube is provided to cover the electronic components. It is provided on the substrate (see, for example, Patent Document 1).

일본 특허 제4857927호Japanese Patent No. 4 579 927

그렇지만, 이러한 실드관은, 일반적으로 금속으로 구성되기 때문에, 사이즈를 작게 하는(특히, 박형화하는) 것에 한계가 있다. 따라서, 실드관을 배선 기판에 설치하여 이루어지는 전자 소자, 또는 전자 소자를 조립한 전자 기기의 박형화의 요구에 더 대응할 수 없다고 하는 문제가 있다. However, since such a shield tube is generally made of metal, there is a limit to reducing the size (especially, thinning). Accordingly, there is a problem in that it cannot further meet the demand for thinning of an electronic device formed by mounting a shield tube on a wiring board or an electronic device in which the electronic device is assembled.

또한, 금속제의 실드관은, 경질이며, 그 유연성이 없거나 매우 낮다. 이 때문에, 실드관을 배선 기판에 설치(접합)할 때에, 전자 부품이 파손하는 것을 방지할 수 있도록, 실드관과 전자 부품과의 사이에, 일정한 사이즈를 구비하는 간극(間隙)을 마련할 필요가 있다. 이것도, 전자 소자의 박형화의 장해가 되고 있다. Further, the shield pipe made of metal is rigid and has no or very low flexibility. For this reason, when installing (joining) the shield tube to the wiring board, it is necessary to provide a gap having a certain size between the shield tube and the electronic component so as to prevent damage to the electronic component. There is. This is also an obstacle to thinning of electronic devices.

게다가, 이러한 전자 소자에서는, 상기 간극을 마련함으로, 전자 부품의 발열을 효율적으로 제거하기 어렵다고 하는 문제도 있다. In addition, in such an electronic device, there is also a problem that it is difficult to efficiently remove heat from the electronic component by providing the gap.

따라서, 본 발명은 전자 부품으로부터의 발열의 제거가 용이하고, 박형이고 신뢰성이 높은 전자 소자, 및, 충분한 전자파 실드 효과를 발휘함과 동시에, 얻어지는 전자 소자의 박형화가 가능한 시트재를 제공하는 것이다. Accordingly, the present invention is to provide an electronic element that is easy to remove heat from an electronic component and is thin and highly reliable, and a sheet material capable of exhibiting a sufficient electromagnetic wave shielding effect and reducing the thickness of the obtained electronic element.

이러한 목적은, 이하의 본 발명에 의해 달성된다. This object is achieved by the following invention.

본 발명의 전자 소자는, 실장면을 구비하는 배선 기판과, 상기 배선 기판의 상기 실장면 상에 실장된 복수의 전자 부품을 구비하는 전자 기판과, The electronic device of the present invention includes a wiring board having a mounting surface, an electronic board having a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board,

상기 전자 기판에 적층되고 도전성을 구비하는 시트상의 기재와, 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 설치되고 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 구비하는 시트재와, A sheet material comprising a sheet-like substrate laminated on the electronic substrate and having conductivity, and at least one insulating layer provided on the electronic substrate side of the substrate and having a size including at least one electronic component;

상기 시트재의 상기 기재를 접지함과 동시에, 상기 시트재와 상기 전자 기판을 고정하는 그랜드부를 가지는 것을 특징으로 한다. And a ground portion for fixing the sheet member and the electronic substrate while grounding the substrate of the sheet member.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 그랜드부는 상기 배선 기판의 상기 실장면 측에 설치된 그랜드 배선을 포함하고, In the electronic device of the present invention, the ground portion includes a ground wiring provided on the mounting surface side of the wiring board,

상기 절연층은 평면시(視)로 상기 기재보다 작은 사이즈를 구비하고, The insulating layer has a size smaller than that of the substrate in plan view,

상기 기재는 상기 절연층으로부터 노출되는 노출 영역에서, 상기 그랜드 배선에 접촉하고 있는 것이 바람직하다. It is preferable that the base material is in contact with the ground wiring in an exposed area exposed from the insulating layer.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 배선 기판의 상기 실장면은 상기 그랜드 배선에 의해 구획되고 소정의 상기 전자 부품을 실장하는 복수의 실장 영역을 구비하고, In the electronic device of the present invention, the mounting surface of the wiring board is partitioned by the ground wiring and includes a plurality of mounting regions for mounting the predetermined electronic component,

상기 적어도 1개의 절연층은 각 상기 실장 영역에 대응해서 설치된 복수의 상기 절연층을 포함하는 것이 바람직하다. It is preferable that the at least one insulating layer includes a plurality of the insulating layers provided corresponding to each of the mounting regions.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 기재는 경화성 수지의 경화물과, 상기 경화물에 분산된 도전성 입자를 포함하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the substrate includes a cured product of a curable resin and conductive particles dispersed in the cured product.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 경화성 수지는 열경화성 수지 및 광경화성 수지 중 적어도 한쪽인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the curable resin is preferably at least one of a thermosetting resin and a photocurable resin.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 도전성 입자의 평균입경은 1~100 ㎛인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the average particle diameter of the conductive particles is preferably 1 to 100 µm.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 기재는 상기 경화성 수지의 경화물과 상기 도전성 입자를 포함하는 본체부와, 상기 본체부와 접촉하여 설치되는 금속막을 구비하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the substrate includes a body portion including the cured product of the curable resin and the conductive particles, and a metal film provided in contact with the body portion.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 금속막은 평면시로 상기 절연층과 거의 같은 사이즈를 구비하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the metal film has substantially the same size as the insulating layer in plan view.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 금속막은 평면시로 상기 본체부와 거의 같은 사이즈를 구비하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the metal film has substantially the same size as the body portion in plan view.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 금속막의 평균 두께는 상기 기재의 평균 두께의 0.004~2500%인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the average thickness of the metal film is preferably 0.004 to 2500% of the average thickness of the substrate.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 기재는 상기 절연층에 접촉하여 설치되고 제1도전성 입자를 함유하는 제1부분과, 상기 제1부분의 상기 절연층과 반대 측에 설치되고 상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량보다 많은 양으로 제2도전성 입자를 함유하는 제2부분을 가지는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the substrate is provided in contact with the insulating layer and provided with a first portion containing a first conductive particle, and a first portion of the first portion disposed on a side opposite to the insulating layer and formed of the first conductive particle. It is preferable to have a second portion containing the second conductive particles in an amount greater than the content in the first portion.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 기재의 평균 두께는 2~500 ㎛인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the average thickness of the substrate is preferably 2 to 500 µm.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연층의 상기 전자 기판 측의 면은 평활면으로 구성되어 있는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the surface of the insulating layer on the side of the electronic substrate is formed of a smooth surface.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연층의 상기 전자 기판 측의 면은 조(粗)면으로 구성되어 있는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the surface of the insulating layer on the side of the electronic substrate is formed of a rough surface.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연층의 평균 두께는 상기 기재의 평균 두께를 100으로 했을 때에 50~200의 비율인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the average thickness of the insulating layer is preferably a ratio of 50 to 200 when the average thickness of the substrate is 100.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연층은 수지와, 상기 수지에 분산되고, 상기 수지의 열전도율보다 열전도율이 높은 열전도성 입자를 포함하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the insulating layer preferably includes a resin and thermally conductive particles dispersed in the resin and having a higher thermal conductivity than the thermal conductivity of the resin.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 열전도성 입자의 구성 재료는 산화알루미늄, 질화알루미늄, 질화붕소 중 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the material constituting the thermally conductive particles contains at least one of aluminum oxide, aluminum nitride, and boron nitride.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 열전도성 입자의 상기 절연층 중의 함유량은 25~95 중량%인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the content of the thermally conductive particles in the insulating layer is preferably 25 to 95% by weight.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 기재의 상기 전자 기판과 반대 측에 설치되고 상기 기재를 보호하는 기능을 구비하는 보호층을 더 가지는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable to further have a protective layer provided on the side opposite to the electronic substrate of the substrate and having a function of protecting the substrate.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 시트재는, 상기 전자 기판에 적층하기 전 상태에서, 상기 전자 부품의 가장자리가 접촉하는 제1영역의 평균 두께가, 상기 제1영역 이외의 제2영역의 평균 두께보다 커지도록 구성되어 있는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, in the state before the sheet material is laminated on the electronic substrate, the average thickness of the first region where the edge of the electronic component contacts is greater than the average thickness of the second region other than the first region. It is preferable that it is configured to be large.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 복수의 전자 부품은, 병설된 2 이상의 상기 전자 부품을 포함하고, In the electronic device of the present invention, the plurality of electronic components include two or more of the electronic components arranged in parallel,

상기 시트재는 상기 전자 기판에 적층하기 전 상태에서, 상기 병설된 전자 부품의 가장 자리부에 연속해 접촉하는 직선상을 이루는 제1영역의 평균 두께가, 상기 제1영역 이외의 제2영역의 평균 두께보다 커지도록 구성되어 있는 것이 바람직하다. In the state before the sheet material is laminated on the electronic substrate, the average thickness of the first region forming a straight line continuously in contact with the edge of the parallel electronic component is an average of the second regions other than the first region. It is preferable to be configured to be larger than the thickness.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 시트재를 상기 전자 기판에 적층하기 전 상태에서, 상기 시트재의 상기 제1영역에서의 평균 두께를 A[㎛]로 하고, 상기 제2영역에서의 평균 두께를 B[㎛]로 했을 때, A/B가 1.05~3인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, in the state before the sheet material is laminated on the electronic substrate, the average thickness of the sheet material in the first region is A [µm], and the average thickness in the second region is B When it is set as [micrometer], it is preferable that A/B is 1.05-3.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 시트재는 상기 전자 기판 측에서, 상기 기재의 가장 자리부에 대응하는 위치에, 상기 절연층과 분리하여 설치되는 적어도 1개의 절연부를 더 가지는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the sheet material further has at least one insulating portion provided separately from the insulating layer at a position corresponding to the edge of the substrate on the side of the electronic substrate.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 적어도 1개의 절연부는, 상기 기재의 가장 자리부를 따라서, 서로 간격을 두어서 설치된 복수의 상기 절연부를 포함하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the at least one insulating portion includes a plurality of the insulating portions provided at intervals from each other along the edge of the substrate.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연부는 상기 기재의 가장 자리부를 따라서 틀 모양으로 형성되어 있는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the insulating portion is formed in a frame shape along the edge of the substrate.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연부의 평균 두께는 상기 절연층의 평균 두께보다 작은 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the average thickness of the insulating portion is smaller than the average thickness of the insulating layer.

본 발명의 전자 소자에서는, 상기 시트재의 상기 절연부가 설치된 부분은 상기 전자 기판으로부터 상기 시트재를 분리할 때에 파지되는 파지부를 구성하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the portion of the sheet material provided with the insulating portion constitutes a gripping portion that is gripped when the sheet material is separated from the electronic substrate.

또한, 본 발명의 시트재는 실장면을 구비하는 배선 기판과, 상기 배선 기판의 상기 실장면 상에 실장된 복수의 전자 부품을 구비하는 전자 기판에 적층하고, 그랜드부를 개재시켜 상기 전자 기판에 고정하도록 하여 사용되는 시트재로, In addition, the sheet material of the present invention is laminated on a wiring board having a mounting surface and an electronic board including a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board, and fixed to the electronic board through a ground portion. It is a sheet material used by

상기 시트재를 상기 전자 기판에 적층한 상태에서, 상기 그랜드부에 접촉하는 도전성을 구비하는 시트상의 기재와, A sheet-like substrate having conductivity in contact with the ground portion in a state in which the sheet material is laminated on the electronic substrate;

상기 시트재를 상기 전자 기판에 적층한 상태에서, 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 위치하고, 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 가지는 것을 특징으로 한다. In a state in which the sheet material is laminated on the electronic substrate, it is characterized in that it has at least one insulating layer positioned on the side of the electronic substrate of the substrate and having a size including at least one of the electronic components.

본 발명의 시트재에서는, 상기 기재는, 상기 절연층에 접촉하여 설치되고, 점착성을 구비하는 제1부분과, 상기 제1부분의 상기 절연층과 반대 측에 설치된 제2부분을 가지는 것이 바람직하다. In the sheet material of the present invention, it is preferable that the substrate has a first portion provided in contact with the insulating layer and provided with adhesiveness, and a second portion provided on a side opposite to the insulating layer of the first portion. .

본 발명의 시트재에서는, 상기 제1부분은, 제1수지와, 상기 제1수지에 분산된 제1도전성 입자를 함유하고, 상기 제2부분은, 제2수지와, 상기 제2수지에 상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량보다 많은 양으로 분산된 제2도전성 입자를 함유하는 것이 바람직하다. In the sheet material of the present invention, the first portion contains a first resin and first conductive particles dispersed in the first resin, and the second portion is the second resin and the second resin. It is preferable to contain the second conductive particles dispersed in an amount larger than the content in the first portion of the first conductive particles.

본 발명의 시트재에서는, 상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량은 상기 제1수지 100중량부에 대해서 1~100중량부인 것이 바람직하다. In the sheet material of the present invention, the content of the first conductive particles in the first portion is preferably 1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the first resin.

본 발명의 시트재에서는, 상기 제2도전성 입자의 상기 제2부분 중의 함유량은 상기 제2수지 100중량부에 대해서 100~1500중량부인 것이 바람직하다. In the sheet material of the present invention, the content of the second conductive particles in the second portion is preferably 100 to 1500 parts by weight based on 100 parts by weight of the second resin.

본 발명의 시트재에서는, 상기 제1도전성 입자의 형상과, 상기 제2도전성 입자의 형상이 상이한 것이 바람직하다. In the sheet material of the present invention, it is preferable that the shape of the first conductive particles and the shape of the second conductive particles are different.

본 발명의 시트재에서는, 상기 제1도전성 입자의 형상은 수지(樹枝)상 또는 구상인 것이 바람직하다. In the sheet material of the present invention, it is preferable that the shape of the first conductive particles be resinous or spherical.

상기 구성의 본 발명에 의하면, 높은 유연성을 구비하는 시트재를 사용함으로써, 이 시트재를 배선 기판에 적층할 때에, 전자 부품의 파손을 고려할 필요가 없다. 이 때문에, 시트재와 전자 부품이 밀착 또는 접촉할 때까지, 그러한 간격을 좁히는 것이 가능하게 된다. 이것에 의해, 시트재를 전자 기판에 적층하여 이루어지는 전자 소자의 박형화를 더욱 도모할 수 있다. 게다가 전자 부품의 발열을 시트재를 개재시켜 효율적으로 제거할 수도 있다. According to the present invention having the above configuration, when a sheet material having high flexibility is used, it is not necessary to consider damage to an electronic component when the sheet material is laminated on a wiring board. For this reason, it becomes possible to narrow such an interval until the sheet material and the electronic component come into close contact with each other. Thereby, it is possible to further reduce the thickness of the electronic device formed by laminating the sheet material on the electronic substrate. In addition, heat generation of electronic components can be efficiently removed through a sheet material.

따라서, 본 발명에 의하면, 전자 부품으로부터의 발열의 제거가 용이하고, 박형이고 신뢰성이 높은 전자 소자, 및, 충분한 전자파 실드 효과를 발휘함과 동시에, 얻어지는 전자 소자의 박형화가 가능한 시트재를 제공할 수 있다. Accordingly, according to the present invention, it is possible to provide an electronic device that is easy to remove heat from an electronic component, is thin and has high reliability, and a sheet material capable of exhibiting a sufficient electromagnetic shielding effect and reducing the thickness of the obtained electronic device. I can.

도 1은 본 발명의 전자 소자의 구성을 나타내는 분해 사시도이다.
도 2는 제1실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합된 상태)을 나타내는 종단면도(도 1 중 A-A선 단면도)이다.
도 3은 제2실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다.
도 4는 제3실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다.
도 5는 제4실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 도((a)는 절연층 부근을 나타내는 평면도, (b)는 (a) 중 B-B선 단면에서의 중앙부를 나타내는 도)이다.
도 6은 제4실시형태의 시트재의 다른 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 평면도이다.
도 7은 제5실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 도((a)는 평면도, (b)는 (a) 중 C-C선 단면에서의 중앙부 및 단부를 나타내는 도)이다.
도 8은 제5실시형태의 시트재의 다른 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 평면도이다.
도 9는, 제6실시형태의 전자 소자의 단부의 구성을 나타내는 종단면도이다.
도 10은, 제7실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다.
1 is an exploded perspective view showing the configuration of an electronic device of the present invention.
Fig. 2 is a longitudinal sectional view (a cross-sectional view taken along line AA in Fig. 1) showing the configuration of the sheet material of the first embodiment (a state bonded to an electronic substrate).
Fig. 3 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of a sheet material according to a second embodiment (state before being bonded to an electronic substrate).
Fig. 4 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of a sheet material according to the third embodiment (a state before being bonded to an electronic substrate).
Fig. 5 is a diagram showing the configuration of the sheet material of the fourth embodiment (a state before being bonded to the electronic substrate) ((a) is a plan view showing the vicinity of the insulating layer, and (b) is a central part of the cross section taken along line BB in (a) Is shown).
6 is a plan view showing another configuration (a state before being bonded to an electronic substrate) of the sheet material of the fourth embodiment.
Fig. 7 is a diagram showing the configuration of a sheet material of the fifth embodiment (a state before being bonded to an electronic substrate) ((a) is a plan view, (b) is a view showing the center and end portions in the cross section of the CC line in (a)) to be.
Fig. 8 is a plan view showing another configuration (a state before being bonded to an electronic substrate) of the sheet material according to the fifth embodiment.
9 is a longitudinal sectional view showing the configuration of an end portion of an electronic element according to a sixth embodiment.
Fig. 10 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of a sheet material according to the seventh embodiment (a state before being bonded to an electronic substrate).

이하, 본 발명의 전자 소자 및 시트재에 대해서, 첨부 도면에 나타내는 적합한 실시형태에 근거하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, the electronic device and sheet material of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

도 1은, 본 발명의 전자 소자의 구성을 나타내는 분해 사시도이다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 1 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. 1 is an exploded perspective view showing the configuration of an electronic device of the present invention. In the following, for convenience of explanation, the upper side is referred to as "upper" and the lower side is referred to as "lower" in FIG. 1.

본 발명의 전자 소자(10)는 전자 기판(100)과, 전자 기판(100)에 접합(적층)된 시트재(1)를 가진다. 우선, 시트재(1)의 설명에 앞서, 전자 기판(100)에 대해 설명한다. 또한, 전자 기판(100)으로서는, 예를 들면, 플렉서블 프린트 기판, 리지드 프린트 기판, 리지드 플렉서블 기판 등을 들 수 있다. The electronic device 10 of the present invention has an electronic substrate 100 and a sheet material 1 bonded (laminated) to the electronic substrate 100. First, prior to the description of the sheet material 1, the electronic substrate 100 will be described. Moreover, as the electronic board 100, a flexible printed circuit board, a rigid printed circuit board, a rigid flexible board, etc. are mentioned, for example.

전자 기판(100)은 실장면(101)을 구비하는 배선 기판(110)과, 이 배선 기판(110)의 실장면(101) 상에 실장된 복수의 반도체 칩(전자 부품)(120)을 구비하고 있다. 또한, 반도체 칩(120)으로서는, 예를 들면, CPU 칩, 메모리 칩, 전원 칩, 음원 칩 등을 들 수 있다. The electronic board 100 includes a wiring board 110 having a mounting surface 101 and a plurality of semiconductor chips (electronic components) 120 mounted on the mounting surface 101 of the wiring board 110 Are doing. Moreover, as the semiconductor chip 120, a CPU chip, a memory chip, a power supply chip, a sound source chip, etc. are mentioned, for example.

배선 기판(110)은 기판(111)과, 이 기판(111) 상에 형성된 배선(112) 및 그랜드 배선(그랜드부)(113)으로 구성되어 있다. 배선(112)의 일단부는 전원에 접속되고, 타단부는 반도체 칩(120)의 단자에 접속되어 있다. 그랜드 배선(113)은 배선(112)을 피하도록 틀 모양으로 형성되어 접지되어 있다. 본 실시형태에서는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 이 그랜드 배선(113)에 의해, 실장면(101)이 제1~ 제3실장 영역(101a~101c)으로 구획되어 있다. 이러한 실장 영역(101 a~101 c)에는, 각각 소정의 반도체 칩(120)이 실장되어 있다. The wiring board 110 is composed of a substrate 111, a wiring 112 formed on the substrate 111 and a ground wiring (grand portion) 113. One end of the wiring 112 is connected to a power supply, and the other end is connected to a terminal of the semiconductor chip 120. The ground wiring 113 is formed in a frame shape so as to avoid the wiring 112 and is grounded. In this embodiment, as shown in FIG. 1, the mounting surface 101 is divided into first to third mounting regions 101a to 101c by the ground wiring 113. In these mounting regions 101a to 101c, predetermined semiconductor chips 120 are mounted, respectively.

이러한 구성의 전자 기판(100)에 시트재(1)가 접합되어 있다. 이하, 시트재(1)에 대해 설명한다. The sheet material 1 is bonded to the electronic substrate 100 having such a configuration. Hereinafter, the sheet member 1 will be described.

<제1실시형태><First Embodiment>

우선, 시트재(1)의 제1실시형태에 대해 설명한다. First, a first embodiment of the sheet member 1 will be described.

도 2는, 제1실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합된 상태)을 나타내는 종단면도(도 1 중 A-A선 단면도)이다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 2 중의 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. Fig. 2 is a longitudinal sectional view (a cross-sectional view taken along line A-A in Fig. 1) showing a configuration (a state of being bonded to an electronic substrate) of a sheet material according to the first embodiment. In addition, hereinafter, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 2 is referred to as "upper" and the lower side is referred to as "lower".

도 2에 나타낸 바와 같이, 시트재(1)는 도전성을 구비하는 시트상의 기재(2)와, 기재(2)의 하면(한쪽의 면)에 설치된 절연층(3)과, 기재(2)의 상면(다른 한쪽의 면)에 설치된 하드 코트층(4)을 가지고 있다. 이러한 시트재(1)는 절연층(3)을 전자 기판(100) 측으로 전자 기판(100)에 접합되어 있다. As shown in Fig. 2, the sheet material 1 includes a sheet-like substrate 2 having conductivity, an insulating layer 3 provided on the lower surface (one side) of the substrate 2, and the substrate 2 It has a hard coat layer 4 provided on the upper surface (the other side). This sheet material 1 is bonded to the electronic substrate 100 with the insulating layer 3 on the side of the electronic substrate 100.

기재(2)는 도전성을 가지고 있으면 좋고, 금속막으로 구성할 수도 있지만, 본 실시형태와 같이, 수지(21)의 고화물 또는 경화물과 도전성 입자(22)를 포함하는 수지막으로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 기재(2)는 이러한 금속막과 수지막의 막의 조합이어도 좋고, 2종 이상이 다른 수지막의 조합이어도 좋다. 이러한 조합의 구성에 대해서는, 후의 실시형태에서 나타낸다. 또한, 기재(2)를 금속막으로 구성하는 경우, 이 금속막은 도전성 입자(22)로 꼽는 금속과 마찬가지의 것을 이용해 형성할 수 있다. The substrate 2 may be formed of a metal film as long as it has conductivity, but, as in the present embodiment, a resin film comprising a solid or cured product of the resin 21 and conductive particles 22 It is desirable. Further, the base material 2 may be a combination of such a metal film and a resin film, or a combination of two or more different resin films. The configuration of such a combination is shown in the following embodiments. In addition, when the base material 2 is constituted by a metal film, the metal film can be formed using the same metal as the electroconductive particle 22.

또한, 기재(2)는 배선 기판(110)의 종류(목적)에 따라, 그 도전성을 등방 도전성 또는 이방 도전성으로 설정할 수 있다. 또한, 등방 도전성이란, 기재(2)가 그 두께 방향 및 면 방향으로 도전성을 가지는 것을 말하고, 이방 도전성이란, 기재(2)가 그 두께 방향에만 도전성을 가지는 것을 말한다. In addition, the substrate 2 may have an isotropic conductivity or anisotropic conductivity according to the type (purpose) of the wiring substrate 110. In addition, isotropic conductivity means that the substrate 2 has conductivity in its thickness direction and in the plane direction, and anisotropic conductivity means that the substrate 2 has conductivity only in its thickness direction.

수지(21)로서는, 예를 들면, 열가소성 수지, 경화성 수지 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 조합해 이용할 수 있다. 또한, 경화성 수지로서는, 예를 들면, 열경화성 수지, 광경화성 수지, 혐기 경화성 수지, 반응 경화성 수지 등을 들 수 있지만, 열경화성 수지 및 광경화성 수지 중 적어도 한쪽이 바람직하다. 수지(21)로서 경화성 수지, 특히, 열경화성 수지 및 광경화성 수지 중 적어도 한쪽을 이용하는 것에 의한 효과는, 후에 설명한다. As the resin 21, for example, a thermoplastic resin, a curable resin, or the like can be exemplified, and one or two or more of them can be used in combination. In addition, examples of the curable resin include a thermosetting resin, a photocurable resin, an anaerobic curable resin, a reaction curable resin, and the like, but at least one of a thermosetting resin and a photocurable resin is preferable. The effect of using at least one of a curable resin, particularly a thermosetting resin and a photocurable resin, as the resin 21 will be described later.

열가소성 수지로서는, 예를 들면, 폴리올레핀계 수지, 비닐계 수지, 스티렌·아크릴계 수지, 디엔계 수지, 테르펜계 수지, 석유계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 불소계 수지 등을 들 수 있다. As a thermoplastic resin, for example, polyolefin resin, vinyl resin, styrene/acrylic resin, diene resin, terpene resin, petroleum resin, cellulose resin, polyamide resin, polyurethane resin, polyester resin , Polycarbonate resin, fluorine resin, and the like.

열경화성 수지로서는 가열에 의한 가교 반응에 이용할 수 있는 관능기를 1분자 중에 1개 이상 가지는 수지이면 좋다. 이 관능기로서는, 예를 들면, 수산기, 페놀성 수산기, 메톡시메틸기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기, 옥세타닐기, 옥사졸린기, 옥사진기, 아질리딘기, 티올기, 이소시아네이트기, 블록화 이소시아네이트기, 블록화 카르복실기, 실라놀기 등을 들 수 있다. The thermosetting resin may be a resin having one or more functional groups per molecule that can be used for a crosslinking reaction by heating. As this functional group, for example, a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, a methoxymethyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazoline group, an oxazine group, azilidin group, thiol group, isocyanate group, blocked isocyanate group, blocked Carboxyl group, silanol group, etc. are mentioned.

이러한 열경화성 수지의 구체예로서는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 말레인산 계 수지, 폴리부타디엔계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 요소계 수지, 에폭시계 수지, 옥세탄계 수지, 페녹시계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 페놀계 수지, 크레졸계 수지, 멜라민계 수지, 알키드계 수지, 아미노계 수지, 폴리젖산계 수지, 옥사졸린계 수지, 벤조옥사진계 수지, 실리콘계 수지, 불소계 수지 등을 들 수 있다. Specific examples of such thermosetting resins include acrylic resins, maleic acid resins, polybutadiene resins, polyester resins, polyurethane resins, urea resins, epoxy resins, oxetane resins, phenoxy resins, and polyimide. Resin, polyamide resin, polyamideimide resin, phenol resin, cresol resin, melamine resin, alkyd resin, amino resin, polylactic acid resin, oxazoline resin, benzoxazine resin, silicone resin Resin, fluorine resin, etc. are mentioned.

또한, 열경화성 수지를 이용하는 경우, 기재(2)는 열경화성 수지 이외에, 필요에 따라서, 상기 관능기와 반응하여 화학적 가교를 형성하는 수지 또는 저분자 화합물과 같은 경화제를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 경화제로서는, 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 페놀 노볼락 수지 등의 페놀계 경화제, 디시안디아미드, 방향족 디아민 등의 아민계 경화제와 같은 비교적 고온에서 경화 반응을 진행시킬 수 있는 경화제, 이소시아네이트계 경화제, 에폭시계 경화제, 아질리딘 계 경화제, 금속 킬레이트계 경화제 등의 비교적 저온(예를 들면, 120℃ 이하)에서 경화 반응을 진행시킬 수 있는 경화제를 들 수 있다. Further, in the case of using a thermosetting resin, it is preferable that the base material 2 includes a curing agent such as a resin or a low molecular compound that reacts with the functional group to form a chemical crosslinking, as needed, in addition to the thermosetting resin. Although not particularly limited as such a curing agent, for example, a phenolic curing agent such as a phenol novolak resin, a curing agent capable of advancing the curing reaction at a relatively high temperature such as an amine curing agent such as dicyandiamide and an aromatic diamine, and isocyanate-based A curing agent capable of advancing the curing reaction at a relatively low temperature (for example, 120° C. or less), such as a curing agent, an epoxy curing agent, an aziridine curing agent, and a metal chelate curing agent, may be mentioned.

또한, 이러한 경화제 중 1종을 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합해 이용하도록 해도 좋다. 경화제의 종류, 이들의 조합 및 함유량 등을 적당히 선택함으로써, 전자 기판(100)에 적층하기 전(사용 전)의 시트재(1)에서의 기재(2)의 경화의 정도(완전 경화 상태 또는 반경화 상태), 유동성의 정도(고체 상태 또는 겔 상태) 및 점착성의 정도(고점착성, 저점착성 또는 비점착성) 중 적어도 1개를 제어할 수 있다. In addition, one of these curing agents may be used alone, or two or more of these curing agents may be used in combination. The degree of curing of the substrate 2 in the sheet material 1 before lamination on the electronic substrate 100 (before use) (fully cured state or radius) by appropriately selecting the type of curing agent, their combination and content, etc. It is possible to control at least one of the degree of formation), the degree of fluidity (solid state or gel state), and the degree of tackiness (high tack, low tack, or non-tack).

한편, 광경화성 수지로서는 빛에 의해 가교 반응을 일으키는 불포화 결합을 1분자 중에 1개 이상 가지는 수지이면 좋다. 광경화성 수지의 구체예로서는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 말레인산계 수지, 폴리부타디엔계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 옥세탄계 수지, 페녹시계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 페놀계 수지, 알키드계 수지, 아미노계 수지, 폴리젖산계 수지, 옥사졸린계 수지, 벤조옥사진계 수지, 실리콘계 수지, 불소계 수지 등을 들 수 있다. On the other hand, the photocurable resin may be a resin having one or more unsaturated bonds causing a crosslinking reaction by light. Specific examples of the photocurable resin include, for example, acrylic resins, maleic acid resins, polybutadiene resins, polyester resins, polyurethane resins, epoxy resins, oxetane resins, phenoxy resins, polyimide resins, poly Amide resins, phenol resins, alkyd resins, amino resins, polylactic acid resins, oxazoline resins, benzoxazine resins, silicone resins, and fluorine resins.

본 실시형태의 기재(2)에서는, 이러한 수지(21)의 고화물 또는 경화물에 도전성 입자(22)가 분산되어 있다. 이러한 구성에 의해, 기재(2)(시트재(1))는, 전자파 실드 효과를 발휘한다. 도전성 입자(22)로서는, 예를 들면, 금속 입자, 탄소 입자, 도전성 수지 입자 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. In the base material 2 of this embodiment, the electroconductive particle 22 is dispersed in the solidified product or hardened|cured material of such resin 21. With such a configuration, the substrate 2 (sheet material 1) exhibits an electromagnetic wave shielding effect. Examples of the conductive particles 22 include metal particles, carbon particles, conductive resin particles, and the like, and one type or two or more of them can be used in combination.

금속 입자를 구성하는 금속으로서는, 예를 들면, 금, 백금, 은, 동, 니켈, 알루미늄, 철 또는 이들의 합금, 혹은, ITO, ATO 등을 들 수 있지만, 가격과 도전성의 면에서 동이 바람직하다. 또한, 금속 입자는, 금속으로 구성된 핵체와, 이 핵체를 피복하고, 금속으로 구성된 피복층을 구비하는 입자여도 좋다. 이러한 금속 입자로서는, 예를 들면, 동으로 구성된 핵체를, 은으로 구성된 피복층으로 피복하여 이루어지는 은 코트 동 입자 등을 들 수 있다. Examples of the metal constituting the metal particles include gold, platinum, silver, copper, nickel, aluminum, iron, or an alloy thereof, or ITO, ATO, etc., but copper is preferable in terms of price and conductivity. . Further, the metal particles may be particles having a nucleus body composed of a metal, and a coating layer composed of a metal covering the nucleus body. Examples of such metal particles include silver-coated copper particles formed by covering a nucleus body composed of copper with a coating layer composed of silver.

또한, 탄소 입자를 구성하는 탄소로서는, 예를 들면, 아세틸렌블랙, 켓첸블랙, 퍼네스블랙, 카본 나노 튜브, 카본 나노 섬유, 그래파이트, 풀러렌, 그라펜 등을 들 수 있다. 또한, 도전성 수지 입자를 구성하는 도전성 수지로서는, 예를 들면, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리아세틸렌, 폴리티오펜 등을 들 수 있다. Further, examples of carbon constituting the carbon particles include acetylene black, Ketjen black, furnace black, carbon nanotube, carbon nanofiber, graphite, fullerene, graphene, and the like. Further, examples of the conductive resin constituting the conductive resin particles include poly(3,4-ethylenedioxythiophene), polyacetylene, and polythiophene.

도전성 입자(22)의 평균입경은 1~100 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 3~75 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하고, 5~50 ㎛ 정도인 것이 더욱 바람직하다. 도전성 입자(22)의 평균입경을 상기 범위로 함으로써, 기재(2) 중의 도전성 입자(22)의 충전율을 향상할 수 있다. 이 때문에, 기재(2)(시트재(1))의 전자파 실드 효과를 보다 높일 수 있다. 또한, 예를 들면, 수지(21)와 혼합해 수지 조성물을 조제했을 때에, 그 유동성이 양호해지기 때문에, 기재(2)에의 성형성이 향상한다. The average particle diameter of the conductive particles 22 is preferably about 1 to 100 µm, more preferably about 3 to 75 µm, and even more preferably about 5 to 50 µm. By making the average particle diameter of the electroconductive particle 22 into the said range, the filling rate of the electroconductive particle 22 in the base material 2 can be improved. For this reason, the electromagnetic wave shielding effect of the substrate 2 (sheet material 1) can be further enhanced. In addition, for example, when the resin composition is mixed with the resin 21 to prepare a resin composition, the fluidity thereof becomes good, so that the moldability to the substrate 2 is improved.

또한, 도전성 입자(22)의 형상은 구상, 침상, 플레이크상, 수지상 등 중 어떠한 형상이어도 좋다. 또한, 도전성 입자(22)의 평균입경은, 일반적인 레이저 회절법, 산란법 등에 의해 측정해 구할 수 있고, 그 미립자 집합체의 투영 면적에 동일한 원을 가정했을 때의 직경의 평균치를 평균입경으로 할 수 있다. In addition, the shape of the electroconductive particle 22 may be any shape, such as a spherical shape, a needle shape, a flake shape, and a resin shape. In addition, the average particle diameter of the conductive particles 22 can be measured and obtained by a general laser diffraction method, a scattering method, etc., and the average diameter value when the same circle is assumed for the projected area of the fine particle aggregate can be taken as the average particle diameter. have.

도전성 입자(22)의 기재(2) 중의 함유량은 특히 한정되지 않지만, 수지(21)의 100중량부에 대해서 100~1500중량부인 것이 바람직하고, 100~1000중량부인 것이 보다 바람직하다. 도전성 입자(22)의 기재(2) 중의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 도전성 입자(22)의 종류에 상관 없이, 기재(2)에 필요하고 충분한 도전성을 부여할 수 있어 기재(2)의 전자파 실드 효과를 충분히 높일 수 있다. 또한, 수지(21)와, 도전성 입자(22)를 포함하는 수지 조성물의 유동성이 높아져, 기재(2)를 보다 형성하기 쉬워지므로 바람직하다. Although the content of the conductive particles 22 in the substrate 2 is not particularly limited, it is preferably 100 to 1500 parts by weight, more preferably 100 to 1000 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin 21. By making the content of the conductive particles 22 in the substrate 2 within the above range, it is possible to impart necessary and sufficient conductivity to the substrate 2 regardless of the type of the conductive particles 22, thereby shielding the electromagnetic wave of the substrate 2 The effect can be sufficiently increased. Moreover, since the fluidity of the resin composition containing the resin 21 and the electroconductive particle 22 becomes high, and the base material 2 becomes easier to form, it is preferable.

또한, 기재(2)의 평균 두께도 특히 한정되지 않지만, 2~500 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 5~100 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 기재(2)의 평균 두께를 상기 범위로 함으로써, 기재(2)의 기계적 강도의 저하를 방지하면서, 기재(2)의 박형화를 도모할 수 있다. Further, the average thickness of the substrate 2 is also not particularly limited, but it is preferably about 2 to 500 µm, and more preferably about 5 to 100 µm. By setting the average thickness of the substrate 2 in the above range, it is possible to reduce the thickness of the substrate 2 while preventing a decrease in the mechanical strength of the substrate 2.

또한, 기재(2)는, 예를 들면, 착색제(안료, 염료), 난연제, 충전제(무기 첨가제), 활제, 블로킹 방지제, 금속 불활성화제, 증점제, 분산제, 실란 커플링제, 방청제, 동해방지제, 환원제, 산화방지제, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소포제, 레벨링 조정제 등을 함유해도 좋다. In addition, the base material 2 is, for example, a colorant (pigment, dye), a flame retardant, a filler (inorganic additive), a lubricant, an anti-blocking agent, a metal deactivator, a thickener, a dispersant, a silane coupling agent, a rust inhibitor, an antifreeze agent, a reducing agent. , Antioxidants, tackifying resins, plasticizers, ultraviolet absorbers, antifoaming agents, leveling adjusters, and the like may be contained.

착색제로서는, 예를 들면, 유기 안료, 카본블랙, 군청, 변병(弁柄), 아연화(亞鉛華), 산화 티탄, 흑연 등을 들 수 있다. 난연제로서는, 예를 들면, 할로겐 함유 난연제, 인 함유 난연제, 질소 함유 난연제, 무기 난연제 등을 들 수 있다. 충전제로서는, 예를 들면, 유리 섬유, 실리카, 탈크, 세라믹 등을 들 수 있다. Examples of the colorant include organic pigments, carbon black, ultramarine blue, stool, zinc oxide, titanium oxide, graphite, and the like. Examples of the flame retardant include halogen-containing flame retardants, phosphorus-containing flame retardants, nitrogen-containing flame retardants, and inorganic flame retardants. Examples of the filler include glass fiber, silica, talc, and ceramic.

또한, 활제로서는, 예를 들면, 지방산 에스테르, 탄화수소 수지, 파라핀, 고급 지방산, 지방산 아미드, 지방족 알코올, 금속 비누, 변성 실리콘 등을 들 수 있다. 블로킹 방지제로서는, 예를 들면, 탄산칼슘, 실리카, 폴리메틸실세스퀴옥산, 규산 알루미늄염 등을 들 수 있다. In addition, examples of the lubricant include fatty acid esters, hydrocarbon resins, paraffins, higher fatty acids, fatty acid amides, aliphatic alcohols, metal soaps, and modified silicones. Examples of the blocking inhibitor include calcium carbonate, silica, polymethylsilsesquioxane, and aluminum silicate salts.

이러한 기재(2)의 하면(전자 기판(100)측의 면)에는, 절연층(3)이 설치되어 있다. 본 실시형태에서는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 기재(2)의 하면에는, 실장면(101)(배선 기판(110))의 제1실장 영역(100a)에 대응하는 제1절연층(3a)과, 제2실장 영역(100b)에 대응하는 제2절연층(3b)과. 제3실장 영역(100c)에 대응하는 제3절연층(3c)이 설치되어 있다. An insulating layer 3 is provided on the lower surface of the substrate 2 (the surface on the electronic substrate 100 side). In this embodiment, as shown in FIG. 1, on the lower surface of the base material 2, a first insulating layer 3a corresponding to the first mounting region 100a of the mounting surface 101 (wiring substrate 110) And, a second insulating layer 3b corresponding to the second mounting region 100b; A third insulating layer 3c corresponding to the third mounting region 100c is provided.

제1~제3절연층(3a~3c)(이하, 이들을 총칭하여, 간단히 「절연층(3)」이라고 함)은 각각 평면시로 기재(2)보다 작고, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 적층한 상태에서, 1개 이상의 반도체 칩(120)을 포함하는 사이즈를 구비하고 있다. 이러한 구성에 의해, 기재(2)의 하면은, 제1~제3절연층(3a~3c)으로부터 노출되는 띠상의 노출 영역(2a)이 형성되어 있다. 따라서, 이 노출 영역(2a)은 배선 기판(110)의 그랜드 배선(113)의 형상에 대응하는 형상을 이루고 있다. 시트재(1)를 배선 기판(110)에 접합된 상태로, 노출 영역(2a)이 그랜드 배선(113)에 접촉하고, 기재(2)가 접지된다. 즉, 기재(2)의 노출 영역(2a)은 시트재(1)를 배선 기판(110)에 접속(접합)하는 접속부(접합부)를 구성한다. The first to third insulating layers 3a to 3c (hereinafter collectively referred to as "insulation layer 3") are each smaller than the base material 2 in plan view, and the sheet material 1 is used as an electronic substrate. In the state of being stacked on (100), a size including one or more semiconductor chips 120 is provided. With such a configuration, on the lower surface of the substrate 2, a band-shaped exposed region 2a exposed from the first to third insulating layers 3a to 3c is formed. Accordingly, this exposed region 2a has a shape corresponding to the shape of the ground wiring 113 of the wiring board 110. With the sheet material 1 bonded to the wiring board 110, the exposed area 2a contacts the ground wiring 113, and the base material 2 is grounded. That is, the exposed region 2a of the substrate 2 constitutes a connection portion (joining portion) that connects (joins) the sheet material 1 to the wiring board 110.

예를 들면, 기재(2)가 수지(21)로서 경화성 수지를 함유하는 경우, 기재(2)의 노출 영역(2a)을 배선 기판(110)의 그랜드 배선(113)에 접촉시킨 후, 경화성 수지를 경화시킴으로써, 그 경화물에 의해 당해 접촉 부분에서 시트재(1)와 전자 기판(100)을 접합(고정)할 수 있다. For example, when the substrate 2 contains a curable resin as the resin 21, the exposed region 2a of the substrate 2 is brought into contact with the ground wiring 113 of the wiring board 110, and then curable resin By curing, the sheet material 1 and the electronic substrate 100 can be bonded (fixed) to the contact portion by the cured product.

절연층(3)은 충분한 절연성을 구비하고 있으면 좋고, 경질 수지나 경화성 수지(특히, 열경화성 수지)를 이용해 형성할 수 있다. 경질 수지의 구체예로서는, 예를 들면, 아크릴, 폴리우레탄, 폴리우레탄우레아, 에폭시, 에폭시에스테르, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리페닐렌설파이드 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 조합해 이용할 수 있다. 한편, 경화성 수지로서는, 수지(21)로 꼽은 경화성 수지와 마찬가지의 것을 이용할 수 있다. The insulating layer 3 just needs to have sufficient insulation, and can be formed using a hard resin or a curable resin (in particular, a thermosetting resin). Specific examples of the hard resin include, for example, acrylic, polyurethane, polyurethaneurea, epoxy, epoxy ester, polyester, polycarbonate, polyphenylene sulfide, and the like, and one or two or more of them are combined. It can be used. On the other hand, as the curable resin, the same curable resin as the resin 21 can be used.

또한, 경화성 수지로서 열경화성 수지를 이용하는 경우, 절연층(3)은 기재(2)로 기재한 것과 마찬가지의 경화제를 함유해도 좋다. 이것에 의해, 전자 기판(100)에 적층하기 전(사용 전)의 시트재(1)에서의 절연층(3)의 경화의 정도(완전 경화 상태 또는 반 경화 상태), 유동성의 정도(고체 상태 또는 겔 상태) 및 점착성의 정도(고점착성, 저점착성 또는 비점착성) 중 적어도 1개를 제어할 수 있다. Further, when a thermosetting resin is used as the curable resin, the insulating layer 3 may contain a curing agent similar to that described for the base material 2. Thereby, the degree of curing of the insulating layer 3 in the sheet material 1 before lamination on the electronic substrate 100 (before use) (fully cured state or semi-cured state), and the degree of fluidity (solid state) Alternatively, at least one of the gel state) and the degree of tackiness (high tackiness, low tackiness, or non-tackiness) can be controlled.

또한, 절연층(3)은, 예를 들면, 착색제(안료, 염료), 난연제, 충전제(무기 첨가제), 활제, 블로킹 방지제, 금속 불활성화제, 증점제, 분산제, 실란 커플링제, 방청제, 동해방지제, 환원제, 산화방지제, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소포제, 레벨링 조정제 등을 함유해도 좋다. In addition, the insulating layer 3 is, for example, a colorant (pigment, dye), a flame retardant, a filler (inorganic additive), a lubricant, an anti-blocking agent, a metal deactivator, a thickener, a dispersant, a silane coupling agent, a rust inhibitor, an antifreeze agent, You may contain a reducing agent, an antioxidant, a tackifying resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a defoaming agent, a leveling adjuster, and the like.

절연층(3)의 평균 두께는 특히 한정되지 않지만, 기재(2)의 평균 두께를 100으로 했을 때에 50~200 정도의 비율인 것이 바람직하고, 75~150 정도의 비율인 것이 보다 바람직하다. 구체적으로는, 절연층(3)의 평균 두께는 1~1000 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 3~200 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 이것에 의해, 절연층(3)은 충분한 절연성을 유지하면서, 절연층(3)(시트재(1))에 전자 기판(100)의 표면에 대한 우수한 추종성을 부여할 수 있다. The average thickness of the insulating layer 3 is not particularly limited, but when the average thickness of the substrate 2 is 100, it is preferably a ratio of about 50 to 200, and more preferably a ratio of about 75 to 150. Specifically, the average thickness of the insulating layer 3 is preferably about 1 to 1000 µm, more preferably about 3 to 200 µm. Thereby, the insulating layer 3 can give the insulating layer 3 (sheet material 1) excellent followability with respect to the surface of the electronic substrate 100 while maintaining sufficient insulating property.

또한, 반도체 칩(120)으로부터의 방열을 촉진시키는 관점에서는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 절연층(3)과 반도체 칩(120)의 표면이 밀착하고 있는 것이 바람직하지만, 절연층(3)의 평균 두께와 기재(2)의 평균 두께의 관계를 상기 범위로 함으로써, 절연층(3)의 반도체 칩(120)의 표면에 대한 밀착성을 보다 향상할 수 있다. 또한, 절연층(3)을 반도체 칩(120)의 표면에 밀착시키기 위해서는, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합할 때에, 이 조작을 감압하 또는 진공하에서 실시하도록 하면 좋다. In addition, from the viewpoint of promoting heat dissipation from the semiconductor chip 120, as shown in FIG. 2, it is preferable that the surfaces of the insulating layer 3 and the semiconductor chip 120 are in close contact. By setting the relationship between the average thickness and the average thickness of the substrate 2 in the above range, the adhesion of the insulating layer 3 to the surface of the semiconductor chip 120 can be further improved. Further, in order to bring the insulating layer 3 into close contact with the surface of the semiconductor chip 120, when bonding the sheet material 1 to the electronic substrate 100, this operation may be performed under reduced pressure or under vacuum.

또한, 절연층(3)의 하면(반도체 칩(120)과의 접촉면)은 평활면으로 구성되어도, 조면으로 구성되어도 좋다. 절연층(3)의 하면(전자 기판(100) 측의 면)을 평활면으로 구성하면, 절연층(3)과 반도체 칩(120)의 표면의 접촉 면적을 증대시킬 수 있어 시트재(1)에 의한 방열 효과를 향상시킬 수 있다. 한편, 절연층(3)의 하면을 조면으로 구성하면, 절연층(3)과 반도체 칩(120)의 표면의 접촉 면적을 약간 감소시킬 수 있어, 전자 기판(100)의 리사이클 시에, 반도체 칩(120)으로부터 절연층(3)(시트재(1))을 보다 용이하게 제거할 수 있게 된다. Further, the lower surface of the insulating layer 3 (a contact surface with the semiconductor chip 120) may be formed of a smooth surface or a rough surface. When the lower surface of the insulating layer 3 (the surface on the side of the electronic substrate 100) is configured as a smooth surface, the contact area between the insulating layer 3 and the surface of the semiconductor chip 120 can be increased, and the sheet material 1 It is possible to improve the heat dissipation effect. On the other hand, if the lower surface of the insulating layer 3 is made of a rough surface, the contact area between the insulating layer 3 and the surface of the semiconductor chip 120 can be slightly reduced, and thus, when the electronic substrate 100 is recycled, the semiconductor chip The insulating layer 3 (sheet material 1) can be more easily removed from the 120.

한편, 기재(2)의 상면(전자 기판(100)으로 반대 측의 면)에는, 기재(2)를 보호하는 기능을 구비하는 하드 코트층(보호층)(4)이 설치되어 있다. 이것에 의해, 기재(2)의 파손을 적합하게 방지할 수 있다. On the other hand, a hard coat layer (protective layer) 4 having a function of protecting the substrate 2 is provided on the upper surface of the substrate 2 (the surface opposite to the electronic substrate 100 ). Thereby, damage to the base material 2 can be suitably prevented.

이러한 하드 코트층(4)는, 예를 들면, α,β-불포화 이중결합을 가지는 2관능 이상의 다관능 또는 단관능 모노머, 비닐형 모노머, 아릴형 모노머, 단관능 (메타)아크릴 모노머, 다관능 (메타)아크릴 모노머와 같은 라디칼 중합계 모노머의 중합물(경화물)로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 이러한 모노머의 중합물로 하드 코트층(4)를 구성함으로써, 하드 코트층(4)의 강도가 증대하고, 기재(2)의 파손을 방지하는 효과가 보다 향상한다. Such a hard coat layer 4 is, for example, a bifunctional or more polyfunctional or monofunctional monomer having an α,β-unsaturated double bond, a vinyl type monomer, an aryl type monomer, a monofunctional (meth)acrylic monomer, a polyfunctional It is preferably composed of a polymer (cured product) of a radical polymerization monomer such as a (meth)acrylic monomer. By constituting the hard coat layer 4 from a polymer of such a monomer, the strength of the hard coat layer 4 increases, and the effect of preventing the substrate 2 from being damaged is further improved.

또한, α,β-불포화 이중결합을 가지는 2관능 이상의 모노머는, 예를 들면 분자량이 1000 미만인 비교적 저분자량의 모노머(이른바 협의의 모노머)이고, 예를 들면 중량평균분자량이 1000 이상 10000 미만인 비교적 고분자량의 올리고머 또는 프레폴리머여도 좋다. 여기서, α,β-불포화 이중결합을 가지는 올리고머로서는, 예를 들면, 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트, 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트, 에폭시 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴화 말레인산 변성 폴리부타디엔 등을 들 수 있다. In addition, a bifunctional or higher monomer having an α,β-unsaturated double bond is, for example, a relatively low molecular weight monomer with a molecular weight of less than 1000 (so-called a narrow monomer), for example, a relatively high molecular weight of 1000 or more and less than 10,000. It may be an oligomer or prepolymer of molecular weight. Here, as an oligomer having an α,β-unsaturated double bond, for example, polyester (meth)acrylate, polyurethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, (meth)acrylate maleic acid-modified polybutadiene, etc. Can be mentioned.

비닐형 모노머로서는, 예를 들면, 스티렌, α-메틸스틸렌, 디비닐 벤젠, N-비닐피롤리돈, 아세트산 비닐, N-비닐 포름알데히드, N-비닐 카프로락탐, 알킬비닐에테르 등을 들 수 있다. 또한, 아릴형 모노머로서는, 예를 들면, 트리메타크릴 이소시아누레이트, 트리아릴 시아누레이트 등을 들 수 있다. Examples of vinyl-type monomers include styrene, α-methylstyrene, divinyl benzene, N-vinylpyrrolidone, vinyl acetate, N-vinyl formaldehyde, N-vinyl caprolactam, and alkyl vinyl ether. . Moreover, as an aryl-type monomer, trimethacryl isocyanurate, triaryl cyanurate, etc. are mentioned, for example.

단관능 (메타)아크릴 모노머로서는, 예를 들면, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸 2-히드록시에틸 프탈레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸 헥사히드로프탈레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필 프탈레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 카르비톨 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸 (메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 부탄디올 모노 (메타)아크릴레이트, 부톡시 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 카프로락톤 (메타)아크릴레이트, 세틸 (메타)아크릴레이트, 크레졸 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로 펜테닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로 펜테닐 옥시 에틸 (메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 (메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페닐 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 이소아밀 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 이소부틸 (메타)아크릴레이트, 이소데실 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소스테아릴 (메타)아크릴레이트, 이소미리스틸 (메타)아크릴레이트, 라우록시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 메톡시 디프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시 트리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시 트리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메틸 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 벤조에이트 (메타)아크릴레이트, 노닐 페녹시 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 노닐 페녹시 폴리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 (메타)아크릴레이트, 옥톡시폴리에틸렌글리콜 폴리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 옥틸 (메타)아크릴레이트, 파라 쿠밀 페녹시 에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 퍼플루오로 옥틸 에틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시 (메타)아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시 에틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시 헥사 에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시 테트라에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 스테아릴 (메타)아크릴레이트, 호박산 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 테트라플루오로 프로필 (메타)아크릴레이트, 테트라히드로프르푸릴 (메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐 (메타)아크릴레이트, 트리데실 (메타)아크릴레이트, 트리플루오로에틸 (메타)아크릴레이트, β-카르복시에틸 (메타)아크릴레이트, ω-카르복시-폴리카프로락톤 (메타)아크릴레이트, 또는, 이들의 유도체나 변성품 등을 들 수 있다. As a monofunctional (meth)acrylic monomer, for example, 2-(meth)acryloyloxyethylphthalate, 2-(meth)acryloyloxyethyl 2-hydroxyethyl phthalate, and 2-(meth)acryloyl Oxyethyl hexahydrophthalate, 2-(meth)acryloyloxypropyl phthalate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl carbitol (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate , 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-methoxyethyl (meth)acrylate, 3-methoxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (Meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, butanediol mono (meth)acrylate, butoxy ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, caprolactone (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylic Rate, cresol (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl oxyethyl (meth)acrylate, diethylene Glycol monoethyl ether (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, dipropylene glycol (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isoamyl (meth)acrylate, Isobornyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate, isomiristyl (meth)acrylate, Lauroxy polyethylene glycol (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, methoxy dipropylene glycol (meth)acrylate, methoxy tripropylene glycol (meth)acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth)acrylate, Methoxy triethylene glycol (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, neopentyl glycol benzoate (meth) acrylate, nonyl phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, nonyl phenoxy polypropylene glycol (meth) acrylic Rate, octafluoropentyl (meth)acrylate, octoxypolyethylene glycol Polypropylene glycol (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, paracumyl phenoxy ethylene glycol (meth)acrylate, perfluoro octyl ethyl (meth)acrylate, phenoxy (meth)acrylate, phenoxy di Ethylene glycol (meth)acrylate, phenoxy ethyl (meth)acrylate, phenoxy hexa ethylene glycol (meth)acrylate, phenoxy tetraethylene glycol (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate, stearyl ( Meth)acrylate, succinic acid (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, t-butylcyclohexyl (meth)acrylate, tetrafluoropropyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylic Rate, tribromophenyl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, trifluoroethyl (meth)acrylate, β-carboxyethyl (meth)acrylate, ω-carboxy-polycaprolactone (meth) Acrylates, or derivatives and modified products thereof.

다관능 (메타)아크릴 모노머로서는, 예를 들면, 1,3-부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 F 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 헥사히드로푸탈산 디(메타)아크릴레이트, 히드록시피바린산 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 히드록시피바린산에스테르 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 디(메타)아크릴레이트, 푸탈산 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올 디(메타)아크릴레이트, 디메틸올디시클로펜탄 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리글리세롤 디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 인산 트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 벤조에이트 트리(메타)아크릴레이트, 트리스((메타)아크릴로일옥시에틸) 이소시아누레이트, 디(메타)아크릴화 이소시아누레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨히드록시 펜타(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 또는, 이들의 유도체나 변성품 등을 들 수 있다. As a polyfunctional (meth)acrylic monomer, for example, 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, and 1,6-hexanediol di(meth)acrylic Rate, 1,9-nonandiol di(meth)acrylate, bisphenol A di(meth)acrylate, bisphenol F di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, hexahydrophthalic acid di(meth) )Acrylate, hydroxypibaric acid neopentyl glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, hydroxypibaric acid ester neopentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth) )Acrylate, di(meth)acrylate of futal acid, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, polytetramethylene glycol di(meth)acrylate, bisphenol A diglycidyl ether Di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, tricyclodecanedimethanol di(meth)acrylate, dimethyloldicyclopentane di(meth)acrylate, Neopentyl glycol modified trimethylolpropane di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, triglycerol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, glycerol tri(meth)acrylate , Pentaerythritol tri(meth)acrylate, phosphoric acid tri(meth)acrylate, trimethyrolpropane tri(meth)acrylate, trimethyrolpropane benzoate tri(meth)acrylate, tris((meth)acryloyl Oxyethyl) isocyanurate, di(meth)acrylated isocyanurate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritolhydroxy penta(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate , Pentaerythritol tetra(meth)acrylate, or derivatives or modified products thereof, and the like.

또한, 하드 코트층(4)은, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리 부틸렌테레프탈레이트(PBT)와 같은 폴리에스테르계 수지, 폴리메틸 메타 아크릴레이트와 같은 아크릴계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체와 같은 폴리올레핀계 수지 등의 열가소성 수지로 구성할 수도 있다. In addition, the hard coat layer 4 is, for example, a polyester resin such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), an acrylic resin such as polymethyl metaacrylate, polyethylene, and polypropylene. , And a thermoplastic resin such as a polyolefin resin such as an ethylene-vinyl acetate copolymer.

또한, 하드 코트층(4)은, 예를 들면, 착색제(안료, 염료), 난연제, 충전제(무기 첨가제), 활제, 블로킹 방지제, 금속 불활성화제, 증점제, 분산제, 실란 커플링제, 방청제, 동해방지제, 환원제, 산화방지제, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소포제, 레벨링 조정제 등을 함유해도 좋다. In addition, the hard coat layer 4 is, for example, a colorant (pigment, dye), a flame retardant, a filler (inorganic additive), a lubricant, an anti-blocking agent, a metal deactivator, a thickener, a dispersant, a silane coupling agent, a rust inhibitor, an antifreeze agent. , A reducing agent, an antioxidant, a tackifying resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a defoaming agent, a leveling adjuster, and the like.

하드 코트층(4)을 모노머의 중합물(경화물)로 구성하는 경우, 하드 코트층(4)의 평균 두께는, 특히 한정되지 않지만, 0.1~10 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 0.5~5 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 한편, 하드 코트층(4)을 열가소성 수지의 고화물으로 구성하는 경우, 하드 코트층(4)의 평균 두께는, 1~50 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 5~30 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 하드 코트층(4)의 평균 두께를 상기 범위로 함으로써, 시트재(1)의 가효성을 유지하면서, 기재(2)의 파손을 보다 확실히 방지할 수 있다. When the hard coat layer 4 is composed of a polymer (cured product) of a monomer, the average thickness of the hard coat layer 4 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 10 μm, and about 0.5 to 5 μm It is more preferable that it is. On the other hand, when the hard coat layer 4 is composed of a solidified product of a thermoplastic resin, the average thickness of the hard coat layer 4 is preferably about 1 to 50 µm, more preferably about 5 to 30 µm. . By making the average thickness of the hard coat layer 4 into the said range, damage of the base material 2 can be prevented more reliably, while maintaining the potency of the sheet material 1.

또한, 보호층은 하드 코트층(4)으로 한정되는 것이 아니고, 외부로부터의 응력이나 충격을 흡수 하는 쿠션층, 인쇄층 등이어도 좋고, 이들 층을 조합한 적층체이어도 좋다. In addition, the protective layer is not limited to the hard coat layer 4, and may be a cushion layer, a printing layer, or the like absorbing external stress or impact, or a laminate in which these layers are combined.

이상과 같은 시트재(1)는, 예를 들면, 다음과 같이 하여 제조할 수 있다. The sheet material 1 as described above can be manufactured as follows, for example.

우선, 하드 코트층용 수지 조성물을 박리 시트 상에 도공한 후, 경화 또는 고화시킨다. 이것에 의해, 하드 코트층(4)을 얻는다. First, after coating the resin composition for a hard coat layer on a release sheet, it is made to harden or solidify. Thereby, the hard coat layer 4 is obtained.

다음으로, 기재용 수지 조성물을 하드 코트층(4) 상에 도공한 후, 반경화, 경화 또는 고화시킨다. 이것에 의해, 기재(2)를 얻는다. 이 상태에서, 기재(2)는 점착성을 가지고 있어도, 가지지 않아도 좋다. Next, after coating the resin composition for a base material on the hard coat layer 4, it is made to semi-harden, harden, or solidify. Thereby, the base material 2 is obtained. In this state, the base material 2 may or may not have adhesiveness.

다음으로, 절연층용 수지 조성물을 기재(2) 상에 도공한 후, 반경화, 경화 또는 고화시킨다. 이것에 의해, 절연층(3)을 얻는다. 이 상태에서, 절연층(3)은 점착성을 가지고 있어도, 가지지 않아도 좋다. Next, after coating the resin composition for an insulating layer on the substrate 2, it is semi-cured, cured or solidified. Thereby, the insulating layer 3 is obtained. In this state, the insulating layer 3 may or may not have adhesiveness.

각 수지 조성물을 도공하는 방법으로서는, 예를 들면, 그라비아 코트 방식, 키스 코트 방식, 다이 코트 방식, 립 코트 방식, 콤마 코트 방식, 브레이드 방식, 롤 코트 방식, 나이프 코트 방식, 스프레이 코트 방식, 바 코트 방식, 스피 코트 방식, 딥 코트 방식 등을 사용할 수 있다. As a method of coating each resin composition, for example, gravure coat method, kiss coat method, die coat method, lip coat method, comma coat method, braid method, roll coat method, knife coat method, spray coat method, bar coat A method, a speed coat method, a deep coat method, or the like can be used.

또한, 시트재(1)는 각층을 개별적으로 형성한 후, 이들 층을 서로 접합해 형성하도록 해도 좋다. Further, the sheet material 1 may be formed by bonding these layers together after forming each layer individually.

또한, 시트재(1)에 있어서는, 기재(2)와 하드 코트층(보호층)(4) 사이에는, 예를 들면, 열전도층, 수증기 배리어층, 산소 배리어층, 저유전율층, 고유전율층, 저유전정접층(低誘電正接層), 고유전정접층(高誘電正接層), 내열성층 등 중 하나 이상의 층을 마련하도록 해도 좋다. In addition, in the sheet material 1, between the substrate 2 and the hard coat layer (protective layer) 4, for example, a heat conductive layer, a water vapor barrier layer, an oxygen barrier layer, a low dielectric constant layer, and a high dielectric constant layer , A low dielectric loss tangent layer, a high dielectric loss tangent layer, and a heat-resistant layer may be provided.

이러한 시트재(1)는 다음과 같이 하여 전자 기판(100)에 접합된다. This sheet material 1 is bonded to the electronic substrate 100 as follows.

우선, 절연층(3)을 전자 기판(100) 측으로 시트재(1)를 전자 기판(100)에 적층한 상태로 한다. 다음으로, 이 상태에서 시트재(1)를 전자 기판(100)에 대해서 가열 압착하면, 절연층(3)이 반도체 칩(120)의 표면에 밀착함과 동시에, 기재(2)의 노출 영역(2a)이 그랜드 배선(113)에 접촉하여 시트재(1)가 전자 기판(100)에 고정(접합)된다. 이것에 의해, 전자 소자(10)를 얻을 수 있다. 또한, 가열 압착을 감압 하 또는 진공 하에서 실시함으로써, 절연층(3)의 반도체 칩(120)의 표면에의 밀착도가 높아진다. 그 결과, 시트재(1)에 의한 전자파 실드 효과뿐만 아니라, 양호한 방열 효과도 발휘된다. First, the insulating layer 3 is placed on the electronic substrate 100 and the sheet material 1 is laminated on the electronic substrate 100. Next, when the sheet material 1 is heated and pressed against the electronic substrate 100 in this state, the insulating layer 3 comes into close contact with the surface of the semiconductor chip 120 and the exposed area of the substrate 2 ( 2a) contacts the ground wiring 113 and the sheet material 1 is fixed (bonded) to the electronic substrate 100. Thereby, the electronic element 10 can be obtained. Further, by performing heat compression bonding under reduced pressure or under vacuum, the degree of adhesion of the insulating layer 3 to the surface of the semiconductor chip 120 is increased. As a result, not only the electromagnetic wave shielding effect by the sheet material 1 but also a good heat dissipation effect is exhibited.

또한, 기재(2)가 열경화성 수지를 함유하고, 반경화 상태인 경우, 상기 가열 가압에 의해 열경화성 수지가 경화하여 그 경화물에 의해 기재(2)의 노출 영역(2a)이 그랜드 배선(113)에 강고하게 접합된다. 또한, 열경화성 수지의 경화에 의해, 기재(2)(시트재(1)) 자체의 기계적 강도도 향상한다. 또한, 기재(2)가 광경화성 수지를 함유하는 경우, 상기 가열 압착 후, 기재(2)의 노출 영역(2a)에 빛(활성 방사선)을 조사한다. 이것에 의해, 광경화성 수지가 경화하여 그 경화물에 의해 기재(2)의 노출 영역(2a)가 그랜드 배선(113)에 강고하게 접합된다. 게다가, 기재(2)가 금속막으로 구성되는 경우, 상기 가열 압착에 앞서, 그랜드 배선(113) 상에 경납(땜납)을 마련하도록 함으로써, 기재(2)의 노출 영역(2a)이 그랜드 배선(113)에 경납을 개재시켜 강고하게 접합된다. In addition, when the substrate 2 contains a thermosetting resin and is in a semi-cured state, the thermosetting resin is cured by the above heating and pressurization, and the exposed region 2a of the substrate 2 is formed by the cured product. Is firmly bonded to Further, the mechanical strength of the substrate 2 (sheet material 1) itself is improved by curing the thermosetting resin. Further, when the substrate 2 contains a photocurable resin, light (activating radiation) is irradiated to the exposed region 2a of the substrate 2 after the above heating and compression bonding. Thereby, the photocurable resin is cured, and the exposed region 2a of the substrate 2 is firmly bonded to the ground wiring 113 by the cured product. In addition, when the base material 2 is made of a metal film, prior to the heating and compression bonding, a brazing (solder) is provided on the ground wiring 113 so that the exposed area 2a of the base material 2 becomes the ground wiring ( 113) is firmly bonded through a braid.

이러한 전자 소자(10)는 반도체 칩(120)으로부터의 발열의 제거가 용이하고, 박형이고, 높은 신뢰성을 구비하고 있어, 예를 들면, 스마트폰 등의 휴대 전화, 개인용 컴퓨터, 타블렛 단말, LED 조명, 유기 EL 조명, 액정 TV, 유기 ELTV, 디지털 카메라, 디지털 비디오 카메라, 자동차 등의 차재 부품 등에 사용할 수 있다. Such an electronic device 10 is easy to remove heat from the semiconductor chip 120, is thin, and has high reliability, and, for example, mobile phones such as smartphones, personal computers, tablet terminals, LED lighting , Organic EL lighting, liquid crystal TV, organic ELTV, digital camera, digital video camera, can be used for automotive parts such as automobiles.

<제2실시형태><Second Embodiment>

다음으로, 본 발명의 제2실시형태에 대해 설명한다. Next, a second embodiment of the present invention will be described.

도 3은 제2실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다. 이하, 제2실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 3 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. Fig. 3 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of a sheet material according to a second embodiment (state before being bonded to an electronic substrate). Hereinafter, although the 2nd embodiment is demonstrated, it demonstrates centering on the difference with the said 1st embodiment, and the description is abbreviate|omitted about the same thing. In addition, in the following, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 3 is referred to as "upper", and the lower side is referred to as "lower".

제2실시형태의 시트재(1)는 절연층(3)(제1~ 제3절연층(3a~3c))의 구성이 다른 것 이외에는, 상기 제1실시형태와 같다. 즉, 도 3에 나타낸 바와 같이, 제2실시형태의 절연층(3)은 수지(31)와, 이 수지(31)에 분산되고 수지(31)의 열전도율보다 열전도율이 높은 열전도성 입자(32)를 포함한다. 절연층(3)이 열전도성 입자(32)를 포함함으로써, 시트재(1)의 열전도성이 향상되어 시트재(1)에 의한 방열 효과가 보다 증대한다. The sheet material 1 of the second embodiment is the same as the first embodiment, except that the configuration of the insulating layer 3 (first to third insulating layers 3a to 3c) is different. That is, as shown in Fig. 3, the insulating layer 3 of the second embodiment is a resin 31 and thermally conductive particles 32 that are dispersed in the resin 31 and have a higher thermal conductivity than the thermal conductivity of the resin 31. Includes. When the insulating layer 3 contains the thermally conductive particles 32, the thermal conductivity of the sheet material 1 is improved, and the heat dissipation effect by the sheet material 1 is further increased.

열전도성 입자(32)의 구성 재료로서는, 예를 들면, 산화칼슘, 산화마그네슘, 산화알루미늄과 같은 금속 산화물, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘과 같은 금속 수산화물, 질화알루미늄, 질화붕소와 같은 금속 질화물, 탄산칼슘, 탄산마그네슘과 같은 금속 탄산염, 규산칼슘과 같은 금속 규산염, 결정성 실리카, 비결정성 실리카, 탄화규소와 같은 규소 화합물 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 조합해 이용할 수 있다. As a constituent material of the thermally conductive particles 32, for example, metal oxides such as calcium oxide, magnesium oxide, and aluminum oxide, metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, metal nitrides such as aluminum nitride and boron nitride, and calcium carbonate. , Metal carbonates such as magnesium carbonate, metal silicates such as calcium silicate, crystalline silica, amorphous silica, silicon compounds such as silicon carbide, and the like, and one or two or more of them may be used in combination.

이 중에서도, 열전도성 입자(32)의 구성 재료로서는, 산화알루미늄, 질화알루미늄 및 질화 붕소 중 적어도 1종이 바람직하고, 내열성 및 절연 신뢰성이 높으므로 산화알루미늄이 보다 바람직하다. 또한, 구상 산화알루미늄은, 절연층(3) 중에 최밀 충전할 수 있는 점에서 우수하고, 충전량을 많이 했을 경우에도, 절연층(3)의 탄성율이 불필요하게 상승하는 것을 방지할 수 있는 점에서 특히 바람직하다. 또한, 열전도성 입자(32)는, 복수 종류의 입자를 포함하고 있어도 좋다. Among these, as the constituent material of the thermally conductive particles 32, at least one of aluminum oxide, aluminum nitride, and boron nitride is preferable, and aluminum oxide is more preferable because of high heat resistance and insulation reliability. In addition, spherical aluminum oxide is excellent in that it can be filled in the insulating layer 3 as closely as possible, and even when the amount of filling is increased, the elastic modulus of the insulating layer 3 can be prevented from unnecessarily increasing. desirable. In addition, the thermally conductive particles 32 may contain a plurality of types of particles.

열전도성 입자(32)의 평균입경은 특히 한정되지 않지만, 0.1~250 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 0.5~100 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 이러한 평균입경의 열전도성 입자(32)는 절연층(3)에 균일하게 분산시켜 쉽기 때문에, 절연층(3)의 열전도성을 보다 높일 수 있다. Although the average particle diameter of the thermally conductive particles 32 is not particularly limited, it is preferably about 0.1 to 250 µm, more preferably about 0.5 to 100 µm. Since the thermally conductive particles 32 of such average particle diameter are easily uniformly dispersed in the insulating layer 3, the thermal conductivity of the insulating layer 3 can be further improved.

또한, 열전도성 입자(32)의 형상은 구상, 침상, 플레이크상, 수지상 등 중 어떠한 형상이라도 좋다. 또한, 열전도성 입자(32)의 평균입경은 일반적인 레이저 회절법, 산란법 등에 의해 측정해 구할 수 있고, 그 미립자 집합체의 투영 면적에 동일한 원을 가정했을 때의 직경의 평균치를 평균입경으로 할 수 있다. In addition, the shape of the thermally conductive particles 32 may be any of a spherical shape, a needle shape, a flake shape, and a resin shape. In addition, the average particle diameter of the thermally conductive particles 32 can be measured and obtained by a general laser diffraction method, a scattering method, etc., and the average particle diameter can be taken as the average particle diameter when the same circle is assumed for the projected area of the particle aggregate. have.

열전도성 입자(32)의 절연층(3) 중의 함유량은 특히 한정되지 않지만, 25~95 중량% 정도인 것이 바람직하고, 35~85 중량% 정도인 것이 보다 바람직하다. 열전도성 입자(32)의 절연층(3) 중의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 절연층(3)의 기계적 강도가 저하되는 것을 방지하면서, 절연층(3)의 열전도성을 충분히 향상할 수 있다. Although the content of the thermally conductive particles 32 in the insulating layer 3 is not particularly limited, it is preferably about 25 to 95% by weight, and more preferably about 35 to 85% by weight. By setting the content of the thermally conductive particles 32 in the insulating layer 3 in the above range, the thermal conductivity of the insulating layer 3 can be sufficiently improved while preventing the mechanical strength of the insulating layer 3 from lowering.

또한, 수지(31)로서는 상기 제1실시형태에서, 절연층(3)으로 사용 가능한 수지와 마찬가지의 것을 이용할 수 있다. 또한, 절연층(3)은 상기 제1실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 경화제를 함유해도 좋다. In addition, as the resin 31, the same resin that can be used for the insulating layer 3 in the first embodiment can be used. Further, the insulating layer 3 may contain the same curing agent as described in the first embodiment.

이상과 같은 제2실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. Also in the second embodiment as described above, the same functions and effects as in the first embodiment are exhibited.

<제3실시형태><Third Embodiment>

다음으로, 본 발명의 제3실시형태에 대해 설명한다. Next, a third embodiment of the present invention will be described.

도 4는 제3실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다. 이하, 제3실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 4 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. Fig. 4 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of a sheet material according to a third embodiment (state before being bonded to an electronic substrate). Hereinafter, a third embodiment will be described, but a description will be given focusing on differences from the first embodiment, and the description will be omitted for similar matters. In addition, in the following, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 4 is referred to as "upper" and the lower side is referred to as "lower".

제3실시형태의 시트재(1)는 기재(2)의 구성이 다르다는 것 이외에는 상기 제1실시형태와 같다. 즉, 도 4(a) 및 (b)에 나타낸 바와 같이, 제3실시형태의 기재(2)는 수지(21)와 도전성 입자(22)를 포함하는 본체부(20)와, 이 본체부(20)의 절연층(3) 측에서 본체부(20)와 접촉하여 설치되는 금속막(23)을 구비하고 있다. 기재(2)가 금속막(23)을 포함함으로써, 기재(2)(시트재(1))의 전자파 실드 효과 및 방열 효과가 보다 적합하게 발휘된다. The sheet member 1 of the third embodiment is the same as the first embodiment, except that the configuration of the base material 2 is different. That is, as shown in Figs. 4(a) and (b), the substrate 2 of the third embodiment includes a main body 20 including a resin 21 and conductive particles 22, and the main body ( The metal film 23 is provided in contact with the main body 20 from the insulating layer 3 side of 20). When the base material 2 contains the metal film 23, the electromagnetic wave shielding effect and the heat dissipation effect of the base material 2 (sheet material 1) are more suitably exhibited.

이러한 금속막(23)은 도전성 입자(22)로 꼽은 금속으로 형성된 금속박을 본체부(20)에 점착(접합)하는 방법, 도전성 입자(22)로 꼽은 금속 산화물(예를 들면, ITO, ATO)을 증착 또는 스퍼터링 함으로써, 증착막 또는 스퍼터링막을 본체부(20)상에 형성하는 방법, 도전성 페이스트(예를 들면, 은 페이스트)를 인쇄함으로써, 본체부(20) 상에 인쇄막을 형성하는 방법 등에 의해 얻을 수 있다. 또한, 금속막(23)을 금속박으로 구성하는 경우, 도전성과 비용의 면에서 각종 동박이 바람직하고, 압연 동박 또는 전해 동박이 보다 바람직하다. The metal film 23 is a method of adhering (bonding) a metal foil formed of metal picked into the conductive particles 22 to the body part 20, metal oxide picked up by the conductive particles 22 (for example, ITO, ATO). By evaporating or sputtering, a method of forming a vapor-deposited film or sputtering film on the body part 20, a method of forming a printing film on the body part 20 by printing a conductive paste (for example, silver paste), etc. I can. In addition, when the metal film 23 is made of a metal foil, various copper foils are preferable from the viewpoint of conductivity and cost, and rolled copper foil or electrolytic copper foil is more preferable.

또한, 금속막(23)의 평균 두께는 특히 한정되지 않지만, 기재(2)의 평균 두께의 0.004~2500% 정도인 것이 바람직하고, 0.025~75% 정도인 것이 바람직하다. 금속막(23)의 평균 두께를 상기 범위로 함으로써, 기재(2)(시트재(1))의 가효성이 저하되는 것을 방지하면서, 기재(2)의 전자파 실드 효과 및 방열 효과가 충분히 발휘된다. In addition, the average thickness of the metal film 23 is not particularly limited, but it is preferably about 0.004 to 2500%, and preferably about 0.025 to 75% of the average thickness of the substrate 2. By making the average thickness of the metal film 23 in the above range, the electromagnetic shielding effect and the heat dissipation effect of the substrate 2 are sufficiently exhibited while preventing the potency of the substrate 2 (sheet material 1) from deteriorating. .

금속막(23)의 구체적인 평균 두께는 다음과 같은 것이 바람직하다. 예를 들면, 금속막(23)을 증착막으로 구성하는 경우, 그 평균 두께는, 50~300 nm 정도인 것이 바람직하고, 75~200 nm 정도인 것이 보다 바람직하다. 금속막(23)을 스퍼터링막으로 구성하는 경우, 그 평균 두께는 20~80 nm 정도인 것이 바람직하고, 25~70 nm 정도인 것이 보다 바람직하다. 또한, 금속막(23)을 금속박 또는 인쇄 막으로 구성하는 경우, 그 평균 두께는 0.01~20 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 0.1~15 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. It is preferable that the specific average thickness of the metal film 23 is as follows. For example, when the metal film 23 is formed of a vapor deposition film, the average thickness is preferably about 50 to 300 nm, more preferably about 75 to 200 nm. When the metal film 23 is composed of a sputtering film, the average thickness is preferably about 20 to 80 nm, more preferably about 25 to 70 nm. In addition, when the metal film 23 is composed of a metal foil or a printing film, the average thickness is preferably about 0.01 to 20 µm, more preferably about 0.1 to 15 µm.

또한, 금속막(23)은 도 4(a)에 나타낸 바와 같이, 평면시로 절연층(3)과 거의 같은 사이즈이어도 좋고, 도 4(b)에 나타낸 바와 같이, 평면시로 본체부(20)와 거의 같은 사이즈이어도 좋다. 도 4(a)에 나타내는 구성의 경우, 노출 영역(2a)의 본체부(20)를 이용하여 시트재(1)를 전자 기판(100)에 강고하게 접합할 수 있다. 한편, 도 4(b)에 나타내는 구성의 경우, 노출 영역(2a)에서의 금속막(23)을, 예를 들면, 레이저 조사 등에 의해 배선 기판(110)의 그랜드 배선(113)과 금속 접합할 수 있다. 이 때문에, 시트재(1)와 전자 기판(100) 사이의 매우 높은 접합이 가능해진다. In addition, the metal film 23 may be substantially the same size as the insulating layer 3 in a plan view, as shown in Fig. 4(a), and as shown in Fig. 4(b), the main body 20 ) May be about the same size. In the case of the configuration shown in FIG. 4A, the sheet material 1 can be firmly bonded to the electronic substrate 100 by using the body portion 20 of the exposed region 2a. On the other hand, in the case of the configuration shown in Fig. 4(b), the metal film 23 in the exposed region 2a is metal-bonded with the ground wiring 113 of the wiring board 110 by, for example, laser irradiation. I can. For this reason, very high bonding between the sheet material 1 and the electronic substrate 100 becomes possible.

또한, 이러한 금속막(23)은 메쉬 형상, 펀칭에 의해 형성된 복수의 관통공을 가지는 형상을 이루고 있어도 좋다. 이러한 형상을 이룸으로써, 금속막(23)에 수증기 투과성을 부여할 수 있다. Further, such a metal film 23 may have a mesh shape or a shape having a plurality of through holes formed by punching. By achieving such a shape, it is possible to impart water vapor permeability to the metal film 23.

이상과 같은 제3실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. Also in the third embodiment as described above, the same actions and effects as in the first embodiment are exhibited.

또한, 금속막(23)은, 본체부(20)에 접촉하도록 설치되어 있으면 좋고, 절연층(3) 측을 대신하여, 하드 코트층(4) 측에 설치해도 좋고, 본체부(20)의 두께 방향 도중의 임의의 위치에 마련하도록 해도 좋고, 이들의 조합이어도 좋다. In addition, the metal film 23 may be provided so as to be in contact with the main body 20, and may be provided on the hard coat layer 4 side instead of the insulating layer 3 side. It may be provided at an arbitrary position in the middle of the thickness direction, or a combination thereof may be used.

<제4실시형태><Fourth Embodiment>

다음으로, 본 발명의 제4실시형태에 대해 설명한다. Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.

도 5는 제4실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 도((a)는 절연층(3a) 부근을 나타내는 평면도, (b)는 (a) 중 B-B선 단면에서의 중앙부를 나타내는 도), 도 6은 제4실시형태의 시트재의 다른 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 평면도이다. 이하, 제4실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 5(b) 및 도 6 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. 5 is a diagram showing the configuration of the sheet material of the fourth embodiment (a state before being bonded to the electronic substrate) ((a) is a plan view showing the vicinity of the insulating layer 3a, and (b) is a cross section taken along line BB in (a). FIG. 6 is a plan view showing another configuration (a state before being bonded to an electronic substrate) of the sheet material of the fourth embodiment. Hereinafter, although the 4th embodiment is demonstrated, it demonstrates centering on the difference with the said 1st embodiment, and the description is abbreviate|omitted about the same thing. In the following, for convenience of explanation, the upper side is referred to as "upper" and the lower side is referred to as "lower" in FIGS. 5(b) and 6.

제4실시형태의 시트재(1)는 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합되기 전 상태(시트재(1)의 사용전 상태)로, 절연층(3)의 두께가 불균일한 것 이외에는 상기 제1실시형태와 같다. 즉, 도 5(a) 및 (b)에 나타낸 바와 같이, 제4실시형태의 절연층(3)은 전자 기판(100)에 접합(적층)했을 때에, 반도체 칩(120)의 가장자리가 접촉하는 제1영역(33)의 평균 두께가, 제1영역(33) 이외의 제2영역(34)의 평균 두께보다 커지고 있다. 도 5(a) 및 (b)의 구성에서는, 제1영역(33)은 반도체 칩(120)의 외주 형상에 대응하여 평면시로 사각형의 틀 모양을 이루고 있다. The sheet material 1 of the fourth embodiment is in a state before the sheet material 1 is bonded to the electronic substrate 100 (the state before the use of the sheet material 1), and the thickness of the insulating layer 3 is uneven. It is the same as the first embodiment except for the above. That is, as shown in Figs. 5 (a) and (b), when the insulating layer 3 of the fourth embodiment is bonded (laminated) to the electronic substrate 100, the edge of the semiconductor chip 120 is in contact. The average thickness of the first region 33 is greater than the average thickness of the second regions 34 other than the first region 33. In the configurations of FIGS. 5A and 5B, the first region 33 has a rectangular frame shape in plan view corresponding to the outer circumferential shape of the semiconductor chip 120.

이러한 구성에 의해, 반도체 칩(120)의 가장자리가 접촉함으로써 연장되는 시트재(1)의 부분(제1영역(33))에, 연장량을 보완할 만큼 충분한 두께가 확보된다. 이 때문에, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합할 때에, 예로 시트재(1)가 제1영역(33)에서 연장되도, 시트재(1)가 파단하는 것을 방지할 수 있다. With this configuration, a thickness sufficient to compensate for the amount of extension is ensured in the portion of the sheet material 1 (first region 33) that extends by contacting the edge of the semiconductor chip 120. For this reason, when bonding the sheet material 1 to the electronic substrate 100, even if the sheet material 1 extends from the first region 33, for example, it is possible to prevent the sheet material 1 from being broken.

시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합되기 전 상태에서, 시트재(1)의 제1영역(33)에서의 평균 두께를 A[㎛]로 하고, 제2영역(34)에서의 평균 두께를 B[㎛]로 했을 때, A/B가 1.05~3 정도인 것이 바람직하고, 1.05~1.4 정도인 것이 보다 바람직하고, 1.1~1.25 정도인 것이 더욱 바람직하다. 이것에 의해, 절연층(3)(시트재(1))의 파단을 보다 확실히 방지할 수 있다. In the state before the sheet material 1 is bonded to the electronic substrate 100, the average thickness in the first area 33 of the sheet material 1 is set to A [µm], and in the second area 34 When the average thickness is set to B [µm], A/B is preferably about 1.05 to 3, more preferably about 1.05 to 1.4, and still more preferably about 1.1 to 1.25. Thereby, fracture of the insulating layer 3 (sheet material 1) can be prevented more reliably.

이러한 절연층(3)은 상기 제1실시형태에 기재한 방법에 의해, 절연층(3)의 기재(2) 측의 균일한 두께 부분을 형성한 후, 당해 부분의 제1영역(33) 상에, 사각형의 테두리 형상을 겹쳐 쌓아 형성함으로써 얻을 수 있다. This insulating layer 3 is formed on the first region 33 of the insulating layer 3 after forming a uniform thickness portion of the insulating layer 3 on the substrate 2 side by the method described in the first embodiment. In addition, it can be obtained by stacking and forming a rectangular frame shape.

이상과 같은 제4실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. Also in the fourth embodiment as described above, the same functions and effects as in the first embodiment are exhibited.

또한, 제1영역(33)은 도 5(a)에 나타내는 영역으로 한정되지 않고, 시트재(1)의 파단이 특별히 생기기 쉬운 영역으로 하면 좋다. 예를 들면, 도 1에 나타내는 전자 기판(100)에서는, 지면 앞측에, 2개의 반도체 칩(120)이 좌우 방향으로 병설되어 있지만, 이 경우, 제1영역(33)은 도 6에 나타낸 바와 같이, 병설된 2개의 반도체 칩(120)의 가장 자리부를 따라서 연속해 접촉하는 직선상 영역으로 할 수 있다. 일반적으로, 반도체 칩(120)이 밀집해서 배치되는 개소에서, 시트재(1)가 연장되는 정도가 커진다. 이 때문에, 도 6에 나타내는 2개의 반도체 칩(120)을 넘는 직선상 영역을 제1영역(33)으로 하고, 이 제1영역(33)에서의 절연층(3)(시트재(1))의 두께를 크게 함으로써, 시트재(1)의 파단을 충분히 방지할 수 있다. In addition, the first region 33 is not limited to the region shown in Fig. 5A, and may be a region in which the sheet material 1 is particularly easily fractured. For example, in the electronic substrate 100 shown in FIG. 1, two semiconductor chips 120 are arranged side by side in the left and right directions on the front side of the paper, but in this case, the first region 33 is as shown in FIG. , It can be set as a linear region which is in continuous contact along the edge of the two semiconductor chips 120 arranged in parallel. In general, in a location where the semiconductor chips 120 are densely arranged, the extent to which the sheet material 1 is extended increases. For this reason, the linear region beyond the two semiconductor chips 120 shown in Fig. 6 is set as the first region 33, and the insulating layer 3 (sheet material 1) in the first region 33 By increasing the thickness of the sheet material 1, fracture of the sheet material 1 can be sufficiently prevented.

또한, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합되기 전 상태에서, 시트재(1)는 그 제1영역(33)의 평균 두께가 제2영역(34)의 평균 두께보다 커지고 있으면 좋고, 이러한 구성은, 절연층(3)의 두께를 부분적으로 크게 형성하는 것을 대신하여, 기재(2)의 두께를 부분적으로 크게 형성하는 것, 하드 코트층(4)의 두께를 부분적으로 크게 형성하는 것, 혹은, 이러한 조합에 의해 실현될 수도 있다. In addition, in the state before the sheet material 1 is bonded to the electronic substrate 100, the sheet material 1 needs to have the average thickness of the first region 33 larger than the average thickness of the second region 34 , This configuration is to partially increase the thickness of the substrate 2, instead of forming a partially larger thickness of the insulating layer 3, to partially increase the thickness of the hard coat layer 4 Thing, or it may be realized by such a combination.

<제5실시형태><Fifth Embodiment>

다음으로, 본 발명의 제5실시형태에 대해 설명한다. Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.

도 7은 제5실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 도((a)는 평면도, (b)는 (a) 중 C-C선 단면에서의 중앙부 및 단부를 나타내는 도), 도 8은, 제5실시형태의 시트재의 다른 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 평면도이다. 이하, 제5실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 7(b) 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. Fig. 7 is a diagram showing the configuration of a sheet material of the fifth embodiment (a state before being bonded to an electronic substrate) ((a) is a plan view, (b) is a view showing the center and end portions in the cross section of the CC line in (a)) 8 is a plan view showing another configuration (a state before being bonded to an electronic substrate) of the sheet material of the fifth embodiment. Hereinafter, the fifth embodiment will be described, but the differences from the first embodiment will be mainly described, and the description will be omitted for similar matters. In the following, for convenience of explanation, the upper side is referred to as "upper" and the lower side is referred to as "lower" in FIG. 7B.

제5실시형태의 시트재(1)는 기재(2)의 하면의 가장 자리부를 따라서, 절연층(3)으로 분리하여 설치되는 절연부(35)를 가지는 것 이외에는 상기 제1실시형태와 같다. 즉, 도 7(a) 및 (b)에 나타낸 바와 같이, 절연부(35)는 제1~ 제3절연층(3 a~3 c)을 둘러싸도록, 기재(2)의 하면의 가장 자리부를 따라서 사각형의 틀 모양으로 형성되어 있다. 이러한 구성에 의해, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합(적층)한 상태에서, 시트재(1)의 가장자리에서 기재(2)와 배선 기판(110)의 실장면(101)이 직접 접촉하는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 기재(2)와 배선 기판(110) 사이에서의 본의가 아닌 단락을 방지하여 신뢰성이 높은 전자 소자(10)를 얻을 수 있다. The sheet material 1 of the fifth embodiment is the same as the first embodiment except that it has an insulating portion 35 separated and provided by an insulating layer 3 along the edge of the lower surface of the base material 2. That is, as shown in Figs. 7(a) and (b), the insulating portion 35 is at the edge of the lower surface of the substrate 2 so as to surround the first to third insulating layers 3a to 3c. Therefore, it is formed in the shape of a square frame. With this configuration, in a state in which the sheet material 1 is bonded (laminated) to the electronic board 100, the substrate 2 and the mounting surface 101 of the wiring board 110 at the edge of the sheet material 1 Direct contact can be prevented. For this reason, an unintentional short circuit between the substrate 2 and the wiring board 110 can be prevented, and the electronic device 10 with high reliability can be obtained.

또한, 전자 기판(100)의 리사이클 시에, 시트재(1)를 전자 기판(100)으로부터 떼어낼 때, 시트재(1)의 절연부(35)가 형성된 부분을 견지함으로써, 떼어내는 조작의 계기가 되어, 그 떼어내는 조작을 용이하게 실시할 수 있게 된다. 즉, 시트재(1)의 절연부(35)가 설치된 부분은 시트재(1)가 적층된 전자 기판(100)으로부터 시트재(1)를 분리할 때에 파지되는 파지부를 구성한다. 특히, 도 7(a)에 나타내는 구성에서는, 절연부(35)가 기재(2)의 가장 자리부를 따라서 틀 모양으로 형성되어 있기 때문에, 시트재(1) 사방의 어느 개소로부터도, 떼어내는 조작을 개시할 수 있다. In addition, when the electronic substrate 100 is recycled, when the sheet material 1 is removed from the electronic substrate 100, by maintaining the portion where the insulating portion 35 of the sheet material 1 is formed, As an opportunity, it becomes possible to easily perform the operation to remove it. That is, the portion of the sheet material 1 in which the insulating portion 35 is provided constitutes a gripping portion that is gripped when the sheet material 1 is separated from the electronic substrate 100 on which the sheet material 1 is stacked. In particular, in the configuration shown in Fig. 7(a), since the insulating portion 35 is formed in a frame shape along the edge of the base material 2, the operation to remove the sheet material 1 from any point on all sides. Can be initiated.

이러한 절연부(35)의 구성 재료는 상기 제1실시형태의 절연층(3)으로 꼽은 경질 수지와 마찬가지의 것을 이용하는 것이 바람직하다. 절연부(35)를 경질 수지로 구성함으로써, 절연부(35)가 배선 기판(110)의 실장면(101)에 접합되는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 시트재(1)를 전자 기판(100)으로부터 떼어낼 때에, 시트재(1)의 절연부(35)가 형성된 부분을 보다 용이하고, 확실히 파지시킬 수 있다. It is preferable to use the same material as the hard resin used in the insulating layer 3 of the first embodiment as a material for the insulating portion 35. By constituting the insulating portion 35 with a hard resin, it is possible to prevent the insulating portion 35 from being bonded to the mounting surface 101 of the wiring board 110. For this reason, when removing the sheet material 1 from the electronic substrate 100, the portion of the sheet material 1 where the insulating portion 35 is formed can be more easily and reliably gripped.

또한, 절연부(35)의 평균 두께는 절연층(3)의 평균 두께보다 작게 설정되어 있는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 절연부(35)를 배선 기판(110)의 실장면(101)에 가볍게 접촉한 상태로 할 수 있다. 이 때문에, 시트재(1)를 전자 기판(100)으로부터 떼어낼 때에, 시트재(1)의 절연부(35)가 형성된 부분을 파지시키기 더욱 쉬워진다. In addition, it is preferable that the average thickness of the insulating portion 35 is set smaller than the average thickness of the insulating layer 3. In this way, the insulating portion 35 can be brought into light contact with the mounting surface 101 of the wiring board 110. For this reason, when removing the sheet material 1 from the electronic substrate 100, it becomes easier to grip the portion of the sheet material 1 where the insulating portion 35 is formed.

또한, 이러한 절연부(35)는, 예를 들면, 절연층(3)과 마찬가지의 방법으로 형성할 수 있고, 절연층(3)과 동일한 공정으로 형성해도 좋고, 절연층(3)과는 다른 공정으로 형성하도록 해도 좋다. In addition, such an insulating portion 35 can be formed by the same method as the insulating layer 3, for example, may be formed by the same process as the insulating layer 3, and different from the insulating layer 3 You may make it form by process.

이상과 같은 제5실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. Also in the fifth embodiment as described above, the same actions and effects as in the first embodiment are exhibited.

또한, 도 8에 나타낸 바와 같이, 기재(2)에, 그 가장 자리부를 따라서, 서로 간격을 두어 형성한 복수의 이부(耳部)(24)를 마련하고, 각 이부(24)의 하면에 절연부(35)를 마련하도록 해도 좋다. 즉, 기재(2)의 가장 자리부를 따라서, 서로 간격을 두어 복수의 절연부(35)를 마련하도록 해도 좋다. 이러한 구성에 의하면, 전자 기판(100)을 전자 기기의 케이스 내에, 이부(24)를 접어 구부린 상태로 수납할 수 있게 된다. 이 때문에, 전자 기기의 조립 작업에서 이부(24)가 방해가 되는 것을 방지할 수 있다. In addition, as shown in Fig. 8, a plurality of teeth 24 formed at intervals from each other along the edges of the substrate 2 are provided, and insulated on the lower surface of each teeth 24 You may make it provide the part 35. That is, along the edge of the substrate 2, a plurality of insulating portions 35 may be provided at intervals from each other. According to this configuration, the electronic substrate 100 can be accommodated in the case of the electronic device in a state where the tooth portion 24 is folded and bent. For this reason, it is possible to prevent the ear part 24 from being disturbed in the assembly work of the electronic device.

또한, 전자 기판(100)의 리사이클 시에 떼어내는 조작의 계기로 하는 관점에서는, 이부(24)(절연부(35))를 1개만 마련하도록 해도 좋다. In addition, from the viewpoint of triggering an operation to be removed at the time of recycling of the electronic substrate 100, only one tooth portion 24 (insulation portion 35) may be provided.

<제6실시형태><Sixth Embodiment>

다음으로, 본 발명의 제6실시형태에 대해 설명한다. Next, a sixth embodiment of the present invention will be described.

도 9는 제6실시형태의 전자 소자의 단부의 구성을 나타내는 종단면도이다. 이하, 제6실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 9 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. 9 is a longitudinal sectional view showing the configuration of an end portion of an electronic element according to a sixth embodiment. Hereinafter, a sixth embodiment will be described, but a description will be given focusing on differences from the first embodiment, and the description will be omitted for similar matters. In addition, in the following, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 9 is referred to as "upper" and the lower side is referred to as "lower".

도 9(a)에 나타낸 바와 같이, 제6실시형태의 시트재(1)는 금속막으로 구성된 기재(2)와, 기재(2)의 하면(한쪽의 면)에 설치된 절연층(3)을 가지는 2층 구성이다. 또한, 그랜드 배선(113)의 상면에는, 그랜드 배선(113)의 긴 방향을 따라서, 복수의 도전성 핀(114)이 소정의 간격으로 설치되어 있다. 각 도전성 핀(114)은 침선(針先)(정부(頂部))를 윗쪽으로 향해서 배치되어 있다. As shown in Fig. 9(a), the sheet material 1 of the sixth embodiment includes a substrate 2 made of a metal film and an insulating layer 3 provided on the lower surface (one side) of the substrate 2 Eggplant is a two-tiered structure. Further, on the upper surface of the ground wiring 113, a plurality of conductive pins 114 are provided at predetermined intervals along the long direction of the ground wiring 113. Each of the conductive pins 114 is arranged with a needle wire (top) facing upward.

이러한 구성에 의하면, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 적층할 때에, 기재(2)의 노출 영역(2a)을 도전성 핀(114)에 의해 꿰뚫어, 그랜드 배선(113)에 접촉시킨다. 이것에 의해, 기재(2)를 접지함과 동시에, 시트재(1)와 전자 기판(100)을 고정할 수 있다. 따라서, 본 실시형태에서는, 그랜드 배선(113)과 도전성 핀(114)에 의해 그랜드부가 구성되어 있다. According to this configuration, when the sheet material 1 is laminated on the electronic substrate 100, the exposed region 2a of the substrate 2 is pierced with the conductive pin 114 and brought into contact with the ground wiring 113. Thereby, while the base material 2 is grounded, the sheet material 1 and the electronic board 100 can be fixed. Therefore, in this embodiment, a ground portion is constituted by the ground wiring 113 and the conductive pin 114.

또한, 도전성 핀(114)은 그랜드 배선(113)과 일체적으로 형성해도 좋다. 또한, 그랜드 배선(113)을 생략하고, 도전성 핀(114)을 직접 접지해도 좋다. 이러한 도전성 핀(114)은, 제1실시형태의 도전성 입자(22)로 꼽은 금속과 마찬가지의 것을 이용해 형성할 수 있다. Further, the conductive pin 114 may be formed integrally with the ground wiring 113. Further, the ground wiring 113 may be omitted and the conductive pin 114 may be directly grounded. Such a conductive pin 114 can be formed using the same metal as the metal inserted into the conductive particles 22 of the first embodiment.

또한, 도 9(b)에 나타낸 바와 같이, 기재(2)의 노출 영역(2a)을 그랜드 배선(113)에 접촉시킨 후, 노출 영역(2a)을 도전성 핀(114)에 의해 배선 기판(110)(기판(111))을 향해서 자통하도록 구성해도 좋다. In addition, as shown in Fig. 9(b), after the exposed region 2a of the substrate 2 is brought into contact with the ground wiring 113, the exposed region 2a is connected to the wiring board 110 by conductive pins 114. ) (Substrate 111).

이상과 같은 제6실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. 또한, 시트재(1)는, 제1~ 제5실시형태의 시트재(1)와 마찬가지의 구성이어도 좋은 것은 말할 필요도 없다. Also in the sixth embodiment as described above, the same actions and effects as in the first embodiment are exhibited. In addition, it goes without saying that the sheet member 1 may have the same configuration as the sheet member 1 of the first to fifth embodiments.

<제7실시형태><Seventh embodiment>

다음으로, 본 발명의 제7실시형태에 대해 설명한다. Next, a seventh embodiment of the present invention will be described.

도 10은 제7실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다. 이하, 제7실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 10 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. Fig. 10 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of a sheet material according to the seventh embodiment (a state before being bonded to an electronic substrate). Hereinafter, a seventh embodiment will be described, but a description will be given focusing on differences from the first embodiment, and the description will be omitted for similar matters. In addition, in the following, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 10 is referred to as "upper" and the lower side is referred to as "lower".

제7실시형태의 시트재(1)는 기재(2)의 구성이 다른 것 이외에는 상기 제1실시형태와 같다. 즉, 도 10에 나타낸 바와 같이, 제7실시형태의 기재(2)는, 절연층(3)에 접촉하여 설치되는 하층(제1부분)(2X)과, 이 하층(2X) 상(절연층(3)과 반대측)에 설치된 상층(제2부분)(2Y)을 가지고 있다. The sheet member 1 of the seventh embodiment is the same as that of the first embodiment except that the configuration of the base material 2 is different. That is, as shown in FIG. 10, the base material 2 of the seventh embodiment includes a lower layer (first part) 2X provided in contact with the insulating layer 3, and the upper (insulating layer) 2X. It has an upper layer (second part) (2Y) installed on the opposite side of (3).

하층(2X)은 수지(제1수지)(25)와, 이 수지(25)에 분산된 도전성 입자(제1도전성 입자)(26)를 함유하고, 상층(2Y)은 수지(제2수지)(21)와, 이 수지(21)에 분산된 도전성 입자(제2도전성 입자)(22)를 함유한다. 또한, 도전성 입자(22)의 상층(2Y) 중 함유량이, 도전성 입자(25)의 하층(2X) 중 함유량보다 많아지도록 설정되어 있다. The lower layer 2X contains a resin (first resin) 25, and the conductive particles (first conductive particles) 26 dispersed in the resin 25, and the upper layer 2Y contains a resin (second resin). (21) and electroconductive particle (second electroconductive particle) 22 dispersed in this resin 21 are contained. In addition, the content in the upper layer 2Y of the electroconductive particle 22 is set to be greater than the content in the lower layer 2X of the electroconductive particle 25.

이러한 구성에 의해, 상층(2Y)에는, 높은 전자파 실드성을 발휘시킬 수 있음과 동시에, 하층(2X)에는, 수지(25)의 종류 등에 따라 점착성을 부여할 수 있다. 따라서, 본 실시형태의 시트재(1)를 전자 기판(100)에 적층할 때, 하층(2X)의 점착성을 이용함으로써, 시트재(1)(기재(2))의 노출 영역(2a)을 그랜드 배선(113)에 점착하여 고정할 수 있다. With such a configuration, high electromagnetic wave shielding properties can be exhibited to the upper layer 2Y, and adhesiveness can be imparted to the lower layer 2X depending on the type of the resin 25 or the like. Therefore, when laminating the sheet material 1 of the present embodiment on the electronic substrate 100, by using the adhesiveness of the lower layer 2X, the exposed area 2a of the sheet material 1 (substrate 2) is It can be fixed by adhering to the ground wiring 113.

이 때문에, 제1실시형태와 같이, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 대해서 가열 압착하는 실시를 생략하는 것, 즉, 작업자의 수작업으로 시트재(1)를 전자 기판(100)에 점착할 수 있다. 따라서, 전자 기판(100)의 생산 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 가열 압착하는 실시를 생략할 수 있기 때문에, 이 때의 가열에 의해 반도체 칩(120)이 열화 하는 것을 방지할 수 있어, 보다 신뢰성이 높은 전자 소자(10)를 얻을 수 있다. For this reason, as in the first embodiment, the operation of heat-pressing the sheet material 1 to the electronic substrate 100 is omitted, that is, the sheet material 1 is transferred to the electronic substrate 100 manually by an operator. It can stick. Accordingly, the production efficiency of the electronic substrate 100 can be improved. In addition, since the heating and compression bonding can be omitted, the semiconductor chip 120 can be prevented from deteriorating due to heating at this time, and the electronic element 10 with higher reliability can be obtained.

수지(25)로서는, 하층(2X)에 의해 높은 점착성을 부여하는 관점에서는, 유리 전이 온도가 0℃ 이하의 수지(고무를 포함함)가 바람직하고, 유리 전이 온도가 -10℃ 이하의 수지(고무를 포함함)가 보다 바람직하고, 유리 전이 온도가 -20℃ 이하의 수지(고무를 포함함)가 더욱 바람직하다. 이러한 수지(고무를 포함함)의 구체예로서는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지와 같은 각종 수지, 천연고무, 합성고무와 같은 각종 고무, 스티렌 블록 공중합체와 같은 각종 열가소성 엘라스토머 등을 들 수 있다. 또한, 하층(2X)은 상기 제1실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 경화제를 함유해도 좋다. As the resin 25, from the viewpoint of imparting high tackiness by the lower layer 2X, a resin having a glass transition temperature of 0°C or less (including rubber) is preferable, and a resin having a glass transition temperature of -10°C or less ( Rubber) is more preferable, and a resin (including rubber) having a glass transition temperature of -20°C or less is still more preferable. Specific examples of such resins (including rubber) include, for example, various resins such as acrylic resins and urethane resins, various rubbers such as natural rubber and synthetic rubber, and various thermoplastic elastomers such as styrene block copolymers. . Further, the lower layer 2X may contain a curing agent similar to that described in the first embodiment.

하층(2X)은 등방 도전성 또는 이방 도전성 중 어느 도전성을 가지고 있어도 좋지만, 이방 도전성을 가지는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 상층(2Y)에 흐르는 전류를 하층(2X)을 개재시켜 그랜드 배선(113)에 의해 원활히 전할 수 있어 기재(2)(시트재(1))의 전자파 실드 효과가 보다 적합하게 발휘된다. 수지(25)에 분산되는 도전성 입자(26)로서는, 상기 제1실시형태에서 기재한 도전성 입자(22)와 마찬가지의 종류 및 평균입경의 입자를 이용할 수 있다. Although the lower layer 2X may have either isotropic conductivity or anisotropic conductivity, it is preferable to have anisotropic conductivity. Thereby, the current flowing in the upper layer 2Y can be smoothly transmitted through the ground wiring 113 through the lower layer 2X, and the electromagnetic shielding effect of the substrate 2 (sheet material 1) is more suitably exhibited. do. As the conductive particles 26 dispersed in the resin 25, particles of the same type and average particle diameter as the conductive particles 22 described in the first embodiment can be used.

도전성 입자(26)의 형상도, 상기 제1실시형태에서 기재한 도전성 입자(22)와 마찬가지의 형상으로 할 수 있지만, 수지상 또는 구상인 것이 바람직하다. 수지상 또는 구상의 도전성 입자(26)이면, 그 하층(2X) 중 함유량이 비교적 적어도, 하층(2X)에 필요하고 충분한 도전성을 부여할 수 있다. 또한, 도전성 입자(26)의 하층(2X) 중 함유량을 소량으로 함으로써, 하층(2X)의 점착성을 보다 향상할 수 있다. 게다가, 수지상 또는 구상의 도전성 입자(26)를 이용함으로써, 하층(2X)에 이방 도전성을 부여하기 쉬워진다. 또한, 수지상의 도전성 입자(26) 및 구상의 도전성 입자(26)는 이들 중 어느 한쪽만을 이용해도 좋고, 쌍방을 조합해 이용해도 좋다. The shape of the electroconductive particle 26 can also be made into the same shape as the electroconductive particle 22 described in the said 1st Embodiment, but it is preferable that it is a resin shape or spherical shape. If it is the dendritic or spherical electroconductive particle 26, the content in the lower layer 2X is relatively at least, and necessary and sufficient electroconductivity can be provided to the lower layer 2X. Moreover, by making the content in the lower layer 2X of the electroconductive particle 26 into a small amount, the adhesiveness of the lower layer 2X can be improved more. Moreover, by using the resinous or spherical electroconductive particle 26, it becomes easy to impart anisotropic conductivity to the lower layer 2X. Moreover, the dendritic electroconductive particle 26 and the spherical electroconductive particle 26 may use only either one of these, and may be used combining both.

도전성 입자(26)의 하층(2X) 중 함유량은, 수지(25)의 100중량부에 대해서 1~100중량부인 것이 바람직하고, 10~50중량부인 것이 보다 바람직하다. 도전성 입자(26)의 하층(2X) 중 함유량을 상기 범위로 함으로써, 하층(2X)에 필요하고 충분한 도전성을 부여할 수 있어 기재(2)의 전자파 실드 효과를 충분히 높일 수 있다. 또한, 수지(25)와 도전성 입자(26)를 포함하는 수지 조성물의 유동성이 높아져, 하층(2X)을 형성하기 보다 쉬워지므로 바람직하다. The content in the lower layer 2X of the electroconductive particle 26 is preferably 1 to 100 parts by weight, and more preferably 10 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin 25. By making the content in the lower layer 2X of the electroconductive particle 26 into the said range, necessary and sufficient electroconductivity can be provided to the lower layer 2X, and the electromagnetic wave shielding effect of the base material 2 can be fully improved. Moreover, since the fluidity of the resin composition containing the resin 25 and the electroconductive particle 26 becomes high, and it becomes easier to form the lower layer 2X, it is preferable.

한편, 하층(2X) 상에 설치된 상층(2Y)이 함유하는 수지(21) 및 도전성 입자(22)는 상기 제1실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 구성으로 할 수 있다. 또한, 상층(2Y)은 상기 제1실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 경화제를 함유해도 좋다. On the other hand, the resin 21 and the conductive particles 22 contained in the upper layer 2Y provided on the lower layer 2X can have the same configuration as described in the first embodiment. Further, the upper layer 2Y may contain a curing agent similar to that described in the first embodiment.

상층(2Y)도, 등방 도전성 또는 이방 도전성 중 어느 도전성을 가지고 있어도 좋지만, 등방 도전성을 가지는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 상층(2Y)에서 확실히 전자파를 포착하여, 변환된 전류를 신속히 하층(2X)에 전할 수 있다. 특히, 하층(2X)을 상층(2Y)의 등방 도전성과 다른 도전성인 이방 도전성으로 함으로써, 하층(2X)과 상층(2Y)에 다른 역할을 분담시킬 수 있어, 기재(2)(시트재(1))의 전자파 실드 효과가 보다 적합하게 발휘되게 된다. The upper layer 2Y may also have either isotropic conductivity or anisotropic conductivity, but it is preferable to have isotropic conductivity. Thereby, electromagnetic waves can be reliably captured by the upper layer 2Y, and the converted current can be quickly transmitted to the lower layer 2X. In particular, by making the lower layer 2X an anisotropic conductivity that is different from the isotropic conductivity of the upper layer 2Y, different roles can be assigned to the lower layer 2X and the upper layer 2Y, and the base material 2 (sheet material 1 )), the electromagnetic shielding effect is more appropriately exhibited.

상층(2Y)에 등방 도전성을 부여하는 관점에서는, 도전성 입자(22)의 형상은, 도전성 입자(26)와 다른 형상(특히, 플레이크상)인 것이 바람직하다. 플레이크상의 도전성 입자(22)이면, 상층(2Y)은 도전성 입자(22)를 다량으로 함유할 수 있어 충분한 등방 도전성을 가질 수 있다. From the viewpoint of imparting isotropic conductivity to the upper layer 2Y, it is preferable that the shape of the electroconductive particle 22 is a shape different from that of the electroconductive particle 26 (particularly, a flake shape). If it is the flake-shaped electroconductive particle 22, the upper layer 2Y can contain the electroconductive particle 22 in a large amount, and can have sufficient isotropic conductivity.

도전성 입자(22)의 상층(2Y) 중의 함유량은, 수지(21)의 100중량부에 대해서 100~1500중량부인 것이 바람직하고, 100~1000중량부인 것이 보다 바람직하다. 도전성 입자(22)의 상층(2Y) 중의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 상층(2Y)에 필요하고 충분한 도전성을 부여할 수 있어, 기재(2)의 전자파 실드 효과를 충분히 높일 수 있다. 또한, 수지(21)와 도전성 입자(21)를 포함하는 수지 조성물의 유동성이 높아져, 상층(2Y)을 형성하기 보다 쉬워지므로 바람직하다. The content in the upper layer 2Y of the conductive particles 22 is preferably 100 to 1500 parts by weight, and more preferably 100 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin 21. By setting the content in the upper layer 2Y of the electroconductive particle 22 in the above range, necessary and sufficient conductivity can be provided to the upper layer 2Y, and the electromagnetic wave shielding effect of the substrate 2 can be sufficiently increased. Moreover, since the fluidity of the resin composition containing the resin 21 and the electroconductive particle 21 becomes high, and it becomes easier to form the upper layer 2Y, it is preferable.

또한, 본 실시형태의 기재(2)에 있어서, 하층(2X)의 평균 두께를 Tx[㎛]로 하고, 상층(2Y)의 평균 두께 Ty[㎛]로 했을 때, 이러한 비 Ty/Tx는, 특히 한정되지 않지만, 1~7.5 정도인 것이 바람직하고, 2~5 정도인 것이 보다 바람직하다. 비 Ty/Tx를 상기 범위로 함으로써, 보다 높은 전자파 실드 효과를 발휘하는 기재(2)를 얻을 수 있다. 구체적으로는, 하층(2X)의 평균 두께는, 0.5~150 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 1.5~25 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하고, 상층(2Y)의 평균 두께는, 1.5~350 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 3.5~75 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. In addition, in the base material 2 of the present embodiment, when the average thickness of the lower layer 2X is Tx [µm] and the average thickness Ty [µm] of the upper layer 2Y, such a ratio Ty/Tx is: Although it does not specifically limit, it is preferable that it is about 1 to 7.5, and it is more preferable that it is about 2-5. By setting the ratio Ty/Tx to the above range, the substrate 2 exhibiting a higher electromagnetic shielding effect can be obtained. Specifically, the average thickness of the lower layer 2X is preferably about 0.5 to 150 µm, more preferably about 1.5 to 25 µm, and the average thickness of the upper layer 2Y is about 1.5 to 350 µm. It is preferable, and it is more preferable that it is about 3.5-75 micrometers.

또한, 상층(2Y)은 상기 제3 및 제6실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 금속막으로 구성해도 좋다. Further, the upper layer 2Y may be formed of a metal film similar to that described in the third and sixth embodiments.

이러한 기재(2)의 하면(전자 기판(100) 측의 면)에는, 절연층(3)이 설치되어 있다. 이 절연층(3)은 상기 제1 또는 제2실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 구성으로 할 수 있는 것 이외에 상기 상층(2Y)과 마찬가지의 수지(21)와 경화제를 함유하는 수지 조성물을 이용해 형성할 수 있다. 또한, 절연층(3)은 점착성을 가지고 있어도, 가지지 않아도 좋다. An insulating layer 3 is provided on the lower surface of the substrate 2 (the surface on the electronic substrate 100 side). This insulating layer 3 is formed using a resin composition containing the same resin 21 and a curing agent as the upper layer 2Y in addition to having the same configuration as described in the first or second embodiment. can do. In addition, the insulating layer 3 may or may not have adhesiveness.

상술한 바와 같이, 본 실시형태의 시트재(1)는 바람직하게는 작업자의 수작업으로 전자 기판(100)에 점착된다. 이 때, 절연층(3)이 점착성을 가지면, 시트재(1)의 전자 기판(100)에 대한 위치 결정을 용이하게 실시할 수 있어, 전자 소자(10)의 생산 효율을 보다 향상시킬 수 있는 한편, 절연층(3)이 점착성을 가지지 않으면, 일단 시트재(1)를 전자 기판(100)에 점착해도 전자 기판(100)으로부터 떼어내기 쉽고, 시트재(1)의 전자 기판(100)에 대한 위치 수정을 용이하게 실시할 수 있다. As described above, the sheet material 1 of the present embodiment is preferably adhered to the electronic substrate 100 manually by an operator. At this time, if the insulating layer 3 has adhesiveness, the positioning of the sheet material 1 with respect to the electronic substrate 100 can be easily performed, and thus the production efficiency of the electronic device 10 can be further improved. On the other hand, if the insulating layer 3 does not have adhesiveness, it is easy to remove from the electronic substrate 100 even if the sheet material 1 is adhered to the electronic substrate 100 once, and the sheet material 1 is easily removed from the electronic substrate 100. It is possible to easily perform position correction.

또한, 하층(2X), 상층(2Y) 및 절연층(3) 중 적어도 1개의 층이 반경화 상태 및/또는 겔 상태인 경우, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 고정(적층)한 후, 이러한 상태의 층을 후 경화시켜도 좋다. 이것에 의해, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합할 수 있음과 동시에, 시트재(1)의 기계적 강도를 향상시킬 수도 있다. In addition, when at least one of the lower layer 2X, the upper layer 2Y, and the insulating layer 3 is in a semi-cured state and/or a gel state, the sheet material 1 is fixed to the electronic substrate 100 (lamination). After that, the layer in this state may be post-cured. Thereby, the sheet material 1 can be bonded to the electronic substrate 100 and the mechanical strength of the sheet material 1 can be improved.

예를 들면, 하층(2X)을, 유리 전이 온도가 0℃ 이하의 수지(고무를 포함함)와, 상기 제1실시형태에서 기재한 바와 같은 비교적 저온에서 경화 반응을 진행시킬 수 있는 제1경화제와, 이 제1경화제보다 높은 온도에서 경화 반응을 진행시킬 수 있는 제2경화제와, 도전성 입자(26)를 함유하는 수지 조성물을 이용해 형성하면, 시트재(1)의 사용 전에, 제1경화제의 작용에 의해 하층(2X)을 겔 상태(반고체 상태)로 하고, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 고정(적층)한 후의 후경화에 의해, 제2경화제의 작용에 의해 하층(2X)을 고체 상태로 할 수 있다. For example, the lower layer (2X), a resin (including rubber) having a glass transition temperature of 0°C or less, and a first curing agent capable of advancing the curing reaction at a relatively low temperature as described in the first embodiment. Wow, when formed using a resin composition containing a second curing agent capable of advancing a curing reaction at a higher temperature than the first curing agent and the conductive particles 26, prior to use of the sheet material 1, the first curing agent is The lower layer 2X is made into a gel state (semi-solid state) by the action, and the sheet material 1 is fixed (laminated) to the electronic substrate 100, and then post-cured, by the action of the second curing agent. ) Can be made into a solid state.

또한, 시트재(1)는 상기 제1실시형태와 마찬가지로 하여, 하드 코트층(4), 상층(2Y), 하층(2X) 및 절연층(3)을, 순차로, 각층을 구성하는 수지 조성물을 도공에 의해 형성해 제조할 수 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 하층(2X)이 점착성을 가지기 때문에, 시트재(1)는, 미리 하드 코트층(4), 상층(2Y) 및 하층(2X)이 적층된 적층체를 작성해 두어, 별도로 작성한 절연층(3)을 적층체의 하층(2X)에 점착함으로써 제조해도 좋다. In addition, the sheet material 1 is a resin composition constituting each layer in the same manner as in the first embodiment, the hard coat layer 4, the upper layer 2Y, the lower layer 2X, and the insulating layer 3 in sequence. Can be formed by coating and manufactured. In addition, in this embodiment, since the lower layer 2X has adhesiveness, the sheet material 1 has prepared a laminate in which the hard coat layer 4, the upper layer 2Y, and the lower layer 2X are laminated in advance, You may manufacture by bonding the separately created insulating layer 3 to the lower layer 2X of a laminated body.

이상과 같은 제7실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. Also in the seventh embodiment as described above, the same actions and effects as in the first embodiment are exhibited.

또한, 하층(2X)과 상층(2Y)의 사이에는, 1개 이상의 임의의 목적의 중간층을 마련해도 좋다. 이러한 중간층으로서는, 예를 들면, 하층(2X)과 상층(2Y)의 밀착성을 향상시키기 위한 밀착층, 상기 제3실시형태의 금속막(23) 등을 들 수 있다. 중간층으로서 밀착층을 마련하는 경우, 이러한 밀착층은, 예를 들면, 하층(2X)을 구성하는 수지 조성물과 상층(2Y)을 구성하는 수지 조성물의 혼합물로 구성하는 것이 바람직하다. In addition, one or more intermediate layers for any purpose may be provided between the lower layer 2X and the upper layer 2Y. Examples of such an intermediate layer include an adhesion layer for improving the adhesion between the lower layer 2X and the upper layer 2Y, the metal film 23 of the third embodiment, and the like. In the case of providing an adhesive layer as an intermediate layer, it is preferable that such an adhesive layer is constituted by, for example, a mixture of a resin composition constituting the lower layer 2X and a resin composition constituting the upper layer 2Y.

이상, 본 발명의 전자 소자 및 시트재를 도시의 실시형태에 근거해 설명했지만, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 전자 소자 및 시트재를 구성하는 각부는, 마찬가지의 기능을 발휘할 수 있는 임의의 구성의 것으로 치환할 수 있다. 또한, 임의의 구성물이 부가되어 있어도 좋다. As mentioned above, although the electronic element and the sheet material of this invention were demonstrated based on the illustrated embodiment, this invention is not limited to these. For example, each part constituting the electronic element and the sheet material can be replaced with an arbitrary configuration capable of exhibiting the same function. In addition, an arbitrary structure may be added.

또한, 전자 소자 및 시트재는, 상기 제1~ 제7실시형태 중 임의의 구성을 조합해도 좋다. 또한, 상기 각 실시형태의 시트재는, 하드 코트층(보호층)을 가지지만, 하드 코트층(보호층)은 필요에 따라서 마련하면 좋고, 생략할 수도 있다. 또한, 그랜드부는 시트재의 기재를 접지(기준 전위로 접속)할 수 있으면 좋고, 그 형태나 형상은, 특히 한정되는 것은 아니다. In addition, the electronic element and the sheet material may be combined with any of the configurations of the first to seventh embodiments. In addition, although the sheet material of each of the above embodiments has a hard coat layer (protective layer), a hard coat layer (protective layer) may be provided as necessary or may be omitted. In addition, the ground portion should be capable of grounding (connecting at a reference potential) the base material of the sheet material, and the shape or shape is not particularly limited.

또한, 시트재는, 1개의 절연층을 구비하고, 이 1개의 절연층에서 모든 전자 부품을 가리는 구성이어도 좋고, 1개의 시트재로 1개의 전자 부품을 가리는 구성이 되고 있어도 좋다. In addition, the sheet material may have one insulating layer, and may be configured to cover all electronic components with one insulating layer, or may be configured to cover one electronic component with one sheet material.

*또한, 시트재를 구성하는 각부(각층)에는, 전자 기판에 접합(적층)할 때에, 약간 연장되는 개소도 존재하지만, 각부의 두께를 평균치(평균 두께)로서 규정했을 경우, 그 값은, 전자 기판에 접합되는 전후에 거의 같다. *In addition, in each portion (each layer) constituting the sheet material, when bonding (laminating) to an electronic substrate, there is also a portion extending slightly, but when the thickness of each portion is defined as an average value (average thickness), the value is: It is almost the same before and after bonding to the electronic substrate.

(산업상의 이용 가능성)(Industrial availability)

본 발명의 전자 소자는 실장면을 구비하는 배선 기판과, 상기 배선 기판의 상기 실장면 상에 실장된 복수의 전자 부품을 구비하는 전자 기판과, 상기 전자 기판에 적층되고 도전성을 구비하는 시트상의 기재와, 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 설치되고 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 구비하는 시트재와, 상기 시트재의 상기 기재를 접지함과 동시에, 상기 시트재와 상기 전자 기판을 고정하는 그랜드부를 가진다. 이것에 의해, 전자 부품으로부터의 발열의 제거가 용이하고, 박형이고 신뢰성이 높은 전자 소자를 제공할 수 있다. 따라서, 본 발명은, 산업상의 이용 가능성을 가진다. The electronic device of the present invention includes a wiring board having a mounting surface, an electronic board having a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board, and a sheet-like substrate laminated on the electronic board and having conductivity And, a sheet material provided on the side of the electronic substrate of the substrate and having at least one insulating layer having a size including at least one of the electronic components, and at the same time as grounding the substrate of the sheet material, the sheet It has a ground portion fixing the material and the electronic substrate. Thereby, it is easy to remove heat generation from an electronic component, and it is possible to provide a thin, highly reliable electronic element. Therefore, the present invention has industrial applicability.

1 시트재
2 기재
2a 노출 영역
2X 하층
2Y 상층
20 본체부
21 수지
22 도전성 입자
23 금속막
24 이부
25 수지
26 도전성 입자
3 절연층
3a 제1절연층
3b 제2절연층
3c 제3절연층
31 수지
32 열전도성 입자
33 제1영역
34 제2영역
35 절연부
4 하드 코트층
10 전자 소자
100 전자 기판
110 배선 기판
101 실장면
101a 제1실장 영역
101b 제2실장 영역
101c 제3실장 영역
111 기판
112 배선
113 그랜드 배선
114 도전성 핀
120 반도체 칩
1 sheet material
2 description
2a exposed area
2X lower floor
2Y upper floor
20 Body
21 resin
22 conductive particles
23 metal film
24 two parts
25 resin
26 conductive particles
3 insulation layer
3a first insulating layer
3b second insulating layer
3c third insulating layer
31 Suzy
32 thermally conductive particles
33 First Area
34 second area
35 Insulation
4 hard coat layer
10 electronic elements
100 electronic board
110 wiring board
101 mounting surface
101a 1st mounting area
101b 2nd mounting area
101c 3rd mounting area
111 substrate
112 wiring
113 ground wiring
114 conductive pin
120 semiconductor chips

Claims (18)

실장면을 구비하는 배선 기판과, 상기 배선 기판의 상기 실장면 상에 실장된 복수의 전자 부품을 구비하는 전자 기판,
상기 전자 기판에 적층되는 시트재로서, 상기 시트재는 도전성을 구비하는 시트 형상의 기재와 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 설치되고 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 구비하는 시트재 및, 상기 시트재의 상기 기재를 상기 전자 기판에 접지함과 동시에, 상기 시트재와 상기 전자 기판을 고정하는 그랜드부를 가지고,
상기 기재는, 경화성 수지의 경화물과 상기 경화물에 분산된 도전성 입자를 포함하며, 상기 기재의 상기 절연층으로부터 노출되는 노출 영역이 상기 그랜드부에 직접 접합됨과 동시에, 전자파 실드 효과를 발현하고,
상기 기재는 상기 절연층에 접촉하여 설치되고, 제1도전성 입자를 함유하는 제1부분과, 상기 제1부분의 상기 절연층과 반대 측에 설치되고, 상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량보다 많은 양으로 제2도전성 입자를 함유하는 제2부분을 가지는 것을 특징으로 하는 전자 소자.
An electronic board including a wiring board having a mounting surface, and a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board,
A sheet material laminated on the electronic substrate, wherein the sheet material is a sheet-like substrate having conductivity and at least one insulating layer provided on the electronic substrate side of the substrate and having a size including at least one electronic component And a ground portion for fixing the sheet material and the electronic substrate while grounding the substrate of the sheet material to the electronic substrate,
The substrate includes a cured product of a curable resin and conductive particles dispersed in the cured product, and the exposed region exposed from the insulating layer of the substrate is directly bonded to the ground part, and at the same time, exhibits an electromagnetic shielding effect,
The substrate is provided in contact with the insulating layer, the first part containing the first conductive particles, the first part is provided on the opposite side of the insulating layer, the first part of the first part of the conductive particles An electronic device having a second portion containing the second conductive particles in an amount greater than the content.
제1항에 있어서,
상기 기재의 평균 두께는 5 ~ 100 ㎛인, 전자 소자.
The method of claim 1,
The average thickness of the substrate is 5 to 100 ㎛, electronic device.
제1항에 있어서,
상기 그랜드부는 상기 배선 기판의 상기 실장면 측에 설치된 그랜드 배선을 포함하고,
상기 절연층은 평면시(視)로 상기 기재보다도 작은 사이즈를 구비하는, 전자 소자.
The method of claim 1,
The ground portion includes a ground wiring installed on the mounting surface side of the wiring board,
The electronic device, wherein the insulating layer has a size smaller than that of the substrate in plan view.
제3항에 있어서,
상기 배선 기판의 상기 실장면은 상기 그랜드 배선에 의해 구획되고, 소정의 상기 전자 부품을 실장하는 복수의 실장 영역을 구비하고,
상기 적어도 1개의 절연층은 상기 복수의 실장 영역에 대응해서 설치된 절연층을 포함하는 전자 소자.
The method of claim 3,
The mounting surface of the wiring board is partitioned by the ground wiring, and includes a plurality of mounting regions for mounting the predetermined electronic component,
The at least one insulating layer includes an insulating layer provided corresponding to the plurality of mounting regions.
제1항에 있어서,
상기 기재는 상기 경화성 수지의 경화물과 상기 도전성 입자를 포함하는 본체부, 및
상기 본체부와 접촉하여 설치되는 금속막을 구비하는 전자 소자.
The method of claim 1,
The substrate is a body portion comprising a cured product of the curable resin and the conductive particles, and
An electronic device comprising a metal film installed in contact with the main body.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 절연층은 수지와, 상기 수지에 분산되고, 상기 수지의 열전도율보다도 열전도율이 높은 열전도성 입자를 포함하는 전자 소자.
The method of claim 1,
The insulating layer is an electronic device comprising a resin and thermally conductive particles dispersed in the resin and having a higher thermal conductivity than the thermal conductivity of the resin.
제1항에 있어서,
상기 기재의 상기 전자 기판과 반대 측에 설치되고, 상기 기재를 보호하는 기능을 구비하는 보호층을 더 가지는 전자 소자.
The method of claim 1,
An electronic device further comprising a protective layer provided on a side opposite to the electronic substrate of the substrate and having a function of protecting the substrate.
제1항에 있어서,
상기 시트재는, 상기 기재의 가장 자리부의 전자 기판 측에 상기 절연층과 분리하여 설치되는 적어도 1개의 절연부를 더 가지는, 전자 소자.
The method of claim 1,
The sheet material further has at least one insulating portion provided separately from the insulating layer on the electronic substrate side of the edge portion of the substrate.
제9항에 있어서,
상기 기재의 가장 자리부 및 상기 절연부는, 상기 전자 기판으로부터 상기 시트재를 분리할 때에 파지되는 파지부를 구성하는 것인, 전자 소자.
The method of claim 9,
The electronic device, wherein the edge portion and the insulating portion of the substrate constitute a holding portion that is gripped when separating the sheet material from the electronic substrate.
실장면을 구비하는 배선 기판 및 상기 배선 기판의 상기 실장면 상에 실장된 복수의 전자 부품을 구비하는 전자 기판에 적층되는 시트재로서,
상기 시트재는 그랜드부를 개재시켜 상기 전자 기판에 고정하도록 하여 사용되고,
상기 시트재를 상기 전자 기판에 적층한 상태에서, 상기 그랜드부에 접촉하는 도전성을 구비하는 시트형상의 기재, 및
상기 시트재를 상기 전자 기판에 적층한 상태에서, 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 위치하고, 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 가지며,
상기 기재는, 경화성 수지의 경화물과, 상기 경화물에 분산된 도전성 입자를 포함하고, 상기 기재의 상기 절연층으로부터 노출되는 노출 영역이 상기 그랜드부에 직접 접합됨과 동시에, 전자파 실드 효과를 발현하고,
상기 기재는, 상기 절연층에 접촉하여 설치되며 점착성을 구비하는 제1부분과, 상기 제1부분 상에 상기 절연층과 반대 측으로 설치된 제2부분을 가지며,
상기 제1부분은 제1수지와 상기 제1수지에 분산된 제1도전성 입자를 함유하고, 상기 제2부분은 제2수지와 상기 제2수지에 상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량보다 많은 양으로 분산된 제2도전성 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는, 시트재.
A sheet material laminated on an electronic board including a wiring board having a mounting surface and a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board,
The sheet material is used to be fixed to the electronic substrate by interposing a ground portion,
A sheet-like substrate having conductivity in contact with the ground portion in a state in which the sheet material is laminated on the electronic substrate, and
In a state in which the sheet material is stacked on the electronic substrate, it has at least one insulating layer positioned on the electronic substrate side of the substrate and having a size including at least one electronic component,
The substrate includes a cured product of a curable resin and conductive particles dispersed in the cured product, and the exposed region exposed from the insulating layer of the substrate is directly bonded to the ground part, and at the same time, exhibits an electromagnetic shielding effect. ,
The substrate has a first portion installed in contact with the insulating layer and having adhesiveness, and a second portion disposed on the first portion opposite to the insulating layer,
The first portion contains a first resin and first conductive particles dispersed in the first resin, and the second portion contains a second resin and a content of the first conductive particles in the second resin in the first portion A sheet material comprising the second conductive particles dispersed in a larger amount.
제11항에 있어서,
상기 기재의 평균 두께는 5 ~ 100 ㎛인, 시트재.
The method of claim 11,
The average thickness of the substrate is 5 to 100 ㎛, sheet material.
삭제delete 삭제delete 제11항에 있어서,
상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량은, 상기 제1수지 100 중량부에 대해서 1 ~ 100 중량부인 시트재.
The method of claim 11,
The content of the first conductive particles in the first portion is 1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the first resin.
제11항에 있어서,
상기 제2도전성 입자의 상기 제2부분 중의 함유량은, 상기 제2수지 100 중량부에 대해서 100 ~ 1500 중량부인 시트재.
The method of claim 11,
The content of the second conductive particles in the second portion is 100 to 1500 parts by weight based on 100 parts by weight of the second resin.
제11항에 있어서,
상기 제1도전성 입자의 형상과, 상기 제2도전성 입자의 형상이 상이한 시트재.
The method of claim 11,
A sheet material in which the shape of the first conductive particles and the shape of the second conductive particles are different.
제11항에 있어서,
상기 제1도전성 입자의 형상은, 수지(樹枝)상 또는 구상인 시트재.

The method of claim 11,
The shape of the first conductive particles is a resin or spherical sheet material.

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