KR20180059952A - Electronic element and sheet material - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 102
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 156
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 229
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 136
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 136
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 107
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 46
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 23
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 6
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 82
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 30
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 25
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 24
- -1 Ketchen black Chemical compound 0.000 description 21
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 14
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 13
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 13
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 6
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 4
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 3
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 3
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 230000000191 radiation effect Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical compound C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 2
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 2
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035899 viability Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKZFIPFKXAGEBP-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) benzoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C1=CC=CC=C1 DKZFIPFKXAGEBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGYZMNBUZFHYRX-UHFFFAOYSA-N 1-(1-methoxypropan-2-yloxy)propan-2-ol Chemical compound COCC(C)OCC(C)O WGYZMNBUZFHYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIXZBXRQFZHIT-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(1-hydroxypropan-2-yloxy)propan-2-yloxy]-3-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(O)COC(C)COC(C)CO XUIXZBXRQFZHIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEURXIFGOPBMJF-UHFFFAOYSA-N 1-o-(2-hydroxyethyl) 2-o-(2-prop-2-enoyloxyethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound OCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C OEURXIFGOPBMJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBFOSROPNNOGQF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]-1-phenoxyethanol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 OBFOSROPNNOGQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical group N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)C(O)=O RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009954 braiding Methods 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000002134 carbon nanofiber Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006232 furnace black Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000012796 inorganic flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000007759 kiss coating Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052914 metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 229920003226 polyurethane urea Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOALFFJGWSCQEO-UHFFFAOYSA-N tridecyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C XOALFFJGWSCQEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001039 zinc pigment Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
본 발명의 전자 소자는, 실장면을 구비하는 배선 기판과, 상기 배선 기판의 상기 실장면 상에 실장된 복수의 전자 부품을 구비하는 전자 기판과, 상기 전자 기판에 적층되고 도전성을 구비하는 시트상의 기재와, 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 설치되고 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 구비하는 시트재와, 상기 시트재의 상기 기재를 접지함과 동시에, 상기 시트재와 상기 전자 기판을 고정하는 그랜드부를 가진다. 이것에 의해, 전자 부품으로부터의 발열의 제거가 용이하고, 박형이고 신뢰성이 높은 전자 소자를 제공할 수 있다. An electronic device of the present invention includes an electronic board having a wiring board having a mounting surface and a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board, A sheet material comprising: a base material; at least one insulating layer provided on the base material side of the base material and having a size including at least one of the electronic components; And a ground portion for fixing the sheet member and the electronic substrate. As a result, it is possible to provide an electronic device which is easy to remove heat from electronic components and is thin and highly reliable.
Description
본 발명은 전자 소자 및 시트재에 관한 것이다. The present invention relates to an electronic element and a sheet member.
스마트폰 등의 전자 기기에서는, 배선 기판 상에 탑재된 전자 부품을, 예를 들면, 전자파 등으로부터 보호하기 위해서, 도전성을 가지는 상자(箱)상의 실드관(缶)을, 전자 부품을 가리도록 배선 기판 상에 마련하는 것이 행해진다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).BACKGROUND ART In an electronic device such as a smart phone, a shield tube (can) on a box having conductivity to protect an electronic part mounted on a wiring board from, for example, electromagnetic waves, (For example, refer to Patent Document 1).
그렇지만, 이러한 실드관은, 일반적으로 금속으로 구성되기 때문에, 사이즈를 작게 하는(특히, 박형화하는) 것에 한계가 있다. 따라서, 실드관을 배선 기판에 설치하여 이루어지는 전자 소자, 또는 전자 소자를 조립한 전자 기기의 박형화의 요구에 더 대응할 수 없다고 하는 문제가 있다. However, since such a shield tube is generally made of metal, there is a limitation in reducing the size (in particular, making it thin). Therefore, there is a problem that it is not possible to meet the demand for thinning of an electronic device in which a shield tube is provided on a wiring board or an electronic device in which an electronic device is assembled.
또한, 금속제의 실드관은, 경질이며, 그 유연성이 없거나 매우 낮다. 이 때문에, 실드관을 배선 기판에 설치(접합)할 때에, 전자 부품이 파손하는 것을 방지할 수 있도록, 실드관과 전자 부품과의 사이에, 일정한 사이즈를 구비하는 간극(間隙)을 마련할 필요가 있다. 이것도, 전자 소자의 박형화의 장해가 되고 있다. Further, the metal shielding tube is rigid, has no flexibility or is very low. Therefore, it is necessary to provide a clearance (gap) having a predetermined size between the shield tube and the electronic component so as to prevent the electronic component from being damaged when the shield tube is installed (joined) to the wiring board . This also hinders the thinning of electronic devices.
게다가, 이러한 전자 소자에서는, 상기 간극을 마련함으로, 전자 부품의 발열을 효율적으로 제거하기 어렵다고 하는 문제도 있다. In addition, in such an electronic device, there is a problem that it is difficult to efficiently remove the heat generation of the electronic component by providing the gap.
따라서, 본 발명은 전자 부품으로부터의 발열의 제거가 용이하고, 박형이고 신뢰성이 높은 전자 소자, 및, 충분한 전자파 실드 효과를 발휘함과 동시에, 얻어지는 전자 소자의 박형화가 가능한 시트재를 제공하는 것이다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide an electronic device which is easy to remove heat from an electronic component, which is thin and highly reliable, and which can exhibit sufficient electromagnetic wave shielding effect and can be made thinner.
이러한 목적은, 이하의 본 발명에 의해 달성된다. This object is achieved by the following invention.
본 발명의 전자 소자는, 실장면을 구비하는 배선 기판과, 상기 배선 기판의 상기 실장면 상에 실장된 복수의 전자 부품을 구비하는 전자 기판과, An electronic device of the present invention includes an electronic board including a wiring board having a mounting surface, a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board,
상기 전자 기판에 적층되고 도전성을 구비하는 시트상의 기재와, 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 설치되고 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 구비하는 시트재와, A sheet member having a sheet-like base material laminated on the electronic substrate and having conductivity, and at least one insulating layer provided on the electronic substrate side of the base material and having a size including at least one of the electronic components;
상기 시트재의 상기 기재를 접지함과 동시에, 상기 시트재와 상기 전자 기판을 고정하는 그랜드부를 가지는 것을 특징으로 한다. And a ground portion for grounding the base material of the sheet material and fixing the sheet material and the electronic substrate.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 그랜드부는 상기 배선 기판의 상기 실장면 측에 설치된 그랜드 배선을 포함하고, In the electronic device of the present invention, the ground portion includes a ground wiring provided on the side of the mounting surface of the wiring board,
상기 절연층은 평면시(視)로 상기 기재보다 작은 사이즈를 구비하고, Wherein the insulating layer has a size smaller than that of the substrate in plan view,
상기 기재는 상기 절연층으로부터 노출되는 노출 영역에서, 상기 그랜드 배선에 접촉하고 있는 것이 바람직하다. And the substrate is preferably in contact with the ground wiring in an exposed region exposed from the insulating layer.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 배선 기판의 상기 실장면은 상기 그랜드 배선에 의해 구획되고 소정의 상기 전자 부품을 실장하는 복수의 실장 영역을 구비하고, In the electronic device of the present invention, the mounting surface of the wiring board has a plurality of mounting areas partitioned by the ground wiring and mounting predetermined electronic components,
상기 적어도 1개의 절연층은 각 상기 실장 영역에 대응해서 설치된 복수의 상기 절연층을 포함하는 것이 바람직하다. The at least one insulating layer preferably includes a plurality of the insulating layers provided corresponding to the respective mounting regions.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 기재는 경화성 수지의 경화물과, 상기 경화물에 분산된 도전성 입자를 포함하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the base material includes a cured product of the curable resin and conductive particles dispersed in the cured product.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 경화성 수지는 열경화성 수지 및 광경화성 수지 중 적어도 한쪽인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the curable resin is at least one of a thermosetting resin and a photocurable resin.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 도전성 입자의 평균입경은 1~100 ㎛인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the average particle diameter of the conductive particles is preferably 1 to 100 mu m.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 기재는 상기 경화성 수지의 경화물과 상기 도전성 입자를 포함하는 본체부와, 상기 본체부와 접촉하여 설치되는 금속막을 구비하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the base material has a body portion including the cured product of the curable resin and the conductive particles, and a metal film provided in contact with the body portion.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 금속막은 평면시로 상기 절연층과 거의 같은 사이즈를 구비하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the metal film has substantially the same size as that of the insulating layer in plan view.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 금속막은 평면시로 상기 본체부와 거의 같은 사이즈를 구비하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the metal film has substantially the same size as that of the main body portion in plan view.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 금속막의 평균 두께는 상기 기재의 평균 두께의 0.004~2500%인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the average thickness of the metal film is preferably 0.004 to 2500% of the average thickness of the substrate.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 기재는 상기 절연층에 접촉하여 설치되고 제1도전성 입자를 함유하는 제1부분과, 상기 제1부분의 상기 절연층과 반대 측에 설치되고 상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량보다 많은 양으로 제2도전성 입자를 함유하는 제2부분을 가지는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the substrate may include a first portion provided in contact with the insulating layer and containing the first conductive particles, and a second portion provided on the side opposite to the insulating layer of the first portion, And a second portion containing the second conductive particles in an amount larger than the content of the first portion.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 기재의 평균 두께는 2~500 ㎛인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the average thickness of the substrate is preferably 2 to 500 mu m.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연층의 상기 전자 기판 측의 면은 평활면으로 구성되어 있는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the surface of the insulating layer on the electronic substrate side is formed of a smooth surface.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연층의 상기 전자 기판 측의 면은 조(粗)면으로 구성되어 있는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the surface of the insulating layer on the electronic substrate side is formed of a rough surface.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연층의 평균 두께는 상기 기재의 평균 두께를 100으로 했을 때에 50~200의 비율인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the average thickness of the insulating layer is in the range of 50 to 200 when the average thickness of the substrate is 100.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연층은 수지와, 상기 수지에 분산되고, 상기 수지의 열전도율보다 열전도율이 높은 열전도성 입자를 포함하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the insulating layer includes a resin and thermally conductive particles dispersed in the resin and having a higher thermal conductivity than the thermal conductivity of the resin.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 열전도성 입자의 구성 재료는 산화알루미늄, 질화알루미늄, 질화붕소 중 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the constituent material of the thermally conductive particle preferably contains at least one of aluminum oxide, aluminum nitride and boron nitride.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 열전도성 입자의 상기 절연층 중의 함유량은 25~95 중량%인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, the content of the thermally conductive particles in the insulating layer is preferably 25 to 95% by weight.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 기재의 상기 전자 기판과 반대 측에 설치되고 상기 기재를 보호하는 기능을 구비하는 보호층을 더 가지는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable to further include a protective layer provided on the side of the substrate opposite to the electronic substrate and having a function of protecting the substrate.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 시트재는, 상기 전자 기판에 적층하기 전 상태에서, 상기 전자 부품의 가장자리가 접촉하는 제1영역의 평균 두께가, 상기 제1영역 이외의 제2영역의 평균 두께보다 커지도록 구성되어 있는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, in the state before the sheet member is laminated on the electronic substrate, the average thickness of the first region where the edge of the electronic component is in contact is larger than the average thickness of the second region other than the first region It is preferable that it is configured to be larger.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 복수의 전자 부품은, 병설된 2 이상의 상기 전자 부품을 포함하고, In the electronic device of the present invention, the plurality of electronic parts include two or more of the electronic parts juxtaposed,
상기 시트재는 상기 전자 기판에 적층하기 전 상태에서, 상기 병설된 전자 부품의 가장 자리부에 연속해 접촉하는 직선상을 이루는 제1영역의 평균 두께가, 상기 제1영역 이외의 제2영역의 평균 두께보다 커지도록 구성되어 있는 것이 바람직하다. Wherein the sheet member has an average thickness of a first region which is in a straight line contacting continuously with the edge portion of the electronic component in the state before lamination on the electronic substrate is larger than an average thickness of the second region other than the first region It is preferable that the thickness is larger than the thickness.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 시트재를 상기 전자 기판에 적층하기 전 상태에서, 상기 시트재의 상기 제1영역에서의 평균 두께를 A[㎛]로 하고, 상기 제2영역에서의 평균 두께를 B[㎛]로 했을 때, A/B가 1.05~3인 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, in the state before the sheet member is laminated on the electronic substrate, the average thickness of the sheet member in the first region is A [占 퐉 and the average thickness in the second region is B [Mu m], it is preferable that A / B is 1.05 to 3.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 시트재는 상기 전자 기판 측에서, 상기 기재의 가장 자리부에 대응하는 위치에, 상기 절연층과 분리하여 설치되는 적어도 1개의 절연부를 더 가지는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the sheet member further includes at least one insulating portion provided on the electronic board side, at a position corresponding to the edge portion of the substrate, separately from the insulating layer.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 적어도 1개의 절연부는, 상기 기재의 가장 자리부를 따라서, 서로 간격을 두어서 설치된 복수의 상기 절연부를 포함하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the at least one insulating portion includes a plurality of the insulating portions provided at intervals from each other along the edge of the substrate.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연부는 상기 기재의 가장 자리부를 따라서 틀 모양으로 형성되어 있는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the insulating portion is formed in a frame shape along the edge portion of the substrate.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 절연부의 평균 두께는 상기 절연층의 평균 두께보다 작은 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the average thickness of the insulating portion is smaller than the average thickness of the insulating layer.
본 발명의 전자 소자에서는, 상기 시트재의 상기 절연부가 설치된 부분은 상기 전자 기판으로부터 상기 시트재를 분리할 때에 파지되는 파지부를 구성하는 것이 바람직하다. In the electronic device of the present invention, it is preferable that the portion of the sheet member on which the insulating portion is provided constitutes a grip portion gripped when the sheet member is separated from the electronic substrate.
또한, 본 발명의 시트재는 실장면을 구비하는 배선 기판과, 상기 배선 기판의 상기 실장면 상에 실장된 복수의 전자 부품을 구비하는 전자 기판에 적층하고, 그랜드부를 개재시켜 상기 전자 기판에 고정하도록 하여 사용되는 시트재로, Further, the sheet material of the present invention is laminated on an electronic board including a wiring board having a mounting surface and a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board, and fixed to the electronic board via a ground portion As a sheet member to be used,
상기 시트재를 상기 전자 기판에 적층한 상태에서, 상기 그랜드부에 접촉하는 도전성을 구비하는 시트상의 기재와, A sheet-like base material having conductivity and in contact with the ground portion in a state where the sheet material is laminated on the electronic substrate,
상기 시트재를 상기 전자 기판에 적층한 상태에서, 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 위치하고, 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 가지는 것을 특징으로 한다. And at least one insulating layer located on the electronic substrate side of the substrate in a state where the sheet member is laminated on the electronic substrate and having a size including at least one electronic component.
본 발명의 시트재에서는, 상기 기재는, 상기 절연층에 접촉하여 설치되고, 점착성을 구비하는 제1부분과, 상기 제1부분의 상기 절연층과 반대 측에 설치된 제2부분을 가지는 것이 바람직하다. In the sheet member of the present invention, it is preferable that the substrate has a first portion provided in contact with the insulating layer and having tackiness, and a second portion provided on the side opposite to the insulating layer of the first portion .
본 발명의 시트재에서는, 상기 제1부분은, 제1수지와, 상기 제1수지에 분산된 제1도전성 입자를 함유하고, 상기 제2부분은, 제2수지와, 상기 제2수지에 상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량보다 많은 양으로 분산된 제2도전성 입자를 함유하는 것이 바람직하다. In the sheet member of the present invention, the first portion may include a first resin and first conductive particles dispersed in the first resin, the second portion may include a second resin, And the second conductive particles are dispersed in an amount larger than the content of the first conductive particles in the first portion.
본 발명의 시트재에서는, 상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량은 상기 제1수지 100중량부에 대해서 1~100중량부인 것이 바람직하다. In the sheet member of the present invention, the content of the first conductive particles in the first portion is preferably 1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the first resin.
본 발명의 시트재에서는, 상기 제2도전성 입자의 상기 제2부분 중의 함유량은 상기 제2수지 100중량부에 대해서 100~1500중량부인 것이 바람직하다. In the sheet material of the present invention, the content of the second conductive particles in the second portion is preferably 100 to 1500 parts by weight based on 100 parts by weight of the second resin.
본 발명의 시트재에서는, 상기 제1도전성 입자의 형상과, 상기 제2도전성 입자의 형상이 상이한 것이 바람직하다. In the sheet member of the present invention, the shape of the first conductive particles and the shape of the second conductive particles are preferably different.
본 발명의 시트재에서는, 상기 제1도전성 입자의 형상은 수지(樹枝)상 또는 구상인 것이 바람직하다. In the sheet member of the present invention, it is preferable that the shape of the first conductive particles is resin (s) or sphere.
상기 구성의 본 발명에 의하면, 높은 유연성을 구비하는 시트재를 사용함으로써, 이 시트재를 배선 기판에 적층할 때에, 전자 부품의 파손을 고려할 필요가 없다. 이 때문에, 시트재와 전자 부품이 밀착 또는 접촉할 때까지, 그러한 간격을 좁히는 것이 가능하게 된다. 이것에 의해, 시트재를 전자 기판에 적층하여 이루어지는 전자 소자의 박형화를 더욱 도모할 수 있다. 게다가 전자 부품의 발열을 시트재를 개재시켜 효율적으로 제거할 수도 있다. According to the present invention having the above-described configuration, when the sheet member having high flexibility is used, it is not necessary to consider breakage of the electronic component when the sheet member is laminated on the wiring board. Therefore, it becomes possible to narrow such a gap until the sheet member and the electronic component make close contact or contact with each other. This makes it possible to further reduce the thickness of the electronic device formed by laminating the sheet member on the electronic substrate. In addition, the heat generation of the electronic component can be efficiently removed through the sheet member.
따라서, 본 발명에 의하면, 전자 부품으로부터의 발열의 제거가 용이하고, 박형이고 신뢰성이 높은 전자 소자, 및, 충분한 전자파 실드 효과를 발휘함과 동시에, 얻어지는 전자 소자의 박형화가 가능한 시트재를 제공할 수 있다. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide an electronic device which is easy to remove heat from an electronic component, is thin and highly reliable, and capable of exhibiting a sufficient electromagnetic wave shielding effect and capable of reducing the thickness of an obtained electronic device .
도 1은 본 발명의 전자 소자의 구성을 나타내는 분해 사시도이다.
도 2는 제1실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합된 상태)을 나타내는 종단면도(도 1 중 A-A선 단면도)이다.
도 3은 제2실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다.
도 4는 제3실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다.
도 5는 제4실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 도((a)는 절연층 부근을 나타내는 평면도, (b)는 (a) 중 B-B선 단면에서의 중앙부를 나타내는 도)이다.
도 6은 제4실시형태의 시트재의 다른 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 평면도이다.
도 7은 제5실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 도((a)는 평면도, (b)는 (a) 중 C-C선 단면에서의 중앙부 및 단부를 나타내는 도)이다.
도 8은 제5실시형태의 시트재의 다른 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 평면도이다.
도 9는, 제6실시형태의 전자 소자의 단부의 구성을 나타내는 종단면도이다.
도 10은, 제7실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다. 1 is an exploded perspective view showing a configuration of an electronic device of the present invention.
Fig. 2 is a longitudinal sectional view (cross-sectional view taken along the line AA in Fig. 1) showing the configuration of the sheet member of the first embodiment (a state joined to the electronic substrate).
3 is an enlarged cross-sectional view showing a configuration of the sheet member of the second embodiment (a state before it is bonded to the electronic substrate).
Fig. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a configuration of the sheet member of the third embodiment (a state before bonding to the electronic substrate). Fig.
(A) is a plan view showing the vicinity of an insulating layer, and Fig. 5 (b) is a cross-sectional view taken along the line BB in Fig. 5 Fig.
6 is a plan view showing another configuration (a state before being bonded to an electronic substrate) of the sheet member of the fourth embodiment.
(A) is a plan view (b) is a view showing a central portion and an end portion in the CC line section in (a) of Fig. 5) of the sheet member according to the fifth embodiment to be.
8 is a plan view showing another configuration (a state before being bonded to the electronic substrate) of the sheet member of the fifth embodiment.
9 is a longitudinal sectional view showing the configuration of the end portion of the electronic device of the sixth embodiment.
10 is an enlarged cross-sectional view showing a configuration of a sheet member of the seventh embodiment (a state before bonding to an electronic substrate).
이하, 본 발명의 전자 소자 및 시트재에 대해서, 첨부 도면에 나타내는 적합한 실시형태에 근거하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, the electronic element and the sheet member of the present invention will be described in detail with reference to a preferred embodiment shown in the accompanying drawings.
도 1은, 본 발명의 전자 소자의 구성을 나타내는 분해 사시도이다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 1 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. 1 is an exploded perspective view showing a configuration of an electronic device of the present invention. Hereinafter, for convenience of explanation, the upper side in Fig. 1 is referred to as " upper " and the lower side is referred to as " lower ".
본 발명의 전자 소자(10)는 전자 기판(100)과, 전자 기판(100)에 접합(적층)된 시트재(1)를 가진다. 우선, 시트재(1)의 설명에 앞서, 전자 기판(100)에 대해 설명한다. 또한, 전자 기판(100)으로서는, 예를 들면, 플렉서블 프린트 기판, 리지드 프린트 기판, 리지드 플렉서블 기판 등을 들 수 있다. An electronic device (10) of the present invention has an electronic substrate (100) and a sheet member (1) bonded (laminated) to the electronic substrate (100). First, prior to the description of the sheet member 1, the
전자 기판(100)은 실장면(101)을 구비하는 배선 기판(110)과, 이 배선 기판(110)의 실장면(101) 상에 실장된 복수의 반도체 칩(전자 부품)(120)을 구비하고 있다. 또한, 반도체 칩(120)으로서는, 예를 들면, CPU 칩, 메모리 칩, 전원 칩, 음원 칩 등을 들 수 있다. The
배선 기판(110)은 기판(111)과, 이 기판(111) 상에 형성된 배선(112) 및 그랜드 배선(그랜드부)(113)으로 구성되어 있다. 배선(112)의 일단부는 전원에 접속되고, 타단부는 반도체 칩(120)의 단자에 접속되어 있다. 그랜드 배선(113)은 배선(112)을 피하도록 틀 모양으로 형성되어 접지되어 있다. 본 실시형태에서는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 이 그랜드 배선(113)에 의해, 실장면(101)이 제1~ 제3실장 영역(101a~101c)으로 구획되어 있다. 이러한 실장 영역(101 a~101 c)에는, 각각 소정의 반도체 칩(120)이 실장되어 있다. The wiring substrate 110 is composed of a
이러한 구성의 전자 기판(100)에 시트재(1)가 접합되어 있다. 이하, 시트재(1)에 대해 설명한다. The sheet member 1 is bonded to the
<제1실시형태>≪ First Embodiment >
우선, 시트재(1)의 제1실시형태에 대해 설명한다. First, the first embodiment of the sheet member 1 will be described.
도 2는, 제1실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합된 상태)을 나타내는 종단면도(도 1 중 A-A선 단면도)이다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 2 중의 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. 2 is a longitudinal sectional view (cross-sectional view taken along line A-A in Fig. 1) showing the configuration of the sheet member of the first embodiment (a state joined to the electronic board). In the following description, the upper side in Fig. 2 is referred to as " upper " and the lower side is referred to as " lower "
도 2에 나타낸 바와 같이, 시트재(1)는 도전성을 구비하는 시트상의 기재(2)와, 기재(2)의 하면(한쪽의 면)에 설치된 절연층(3)과, 기재(2)의 상면(다른 한쪽의 면)에 설치된 하드 코트층(4)을 가지고 있다. 이러한 시트재(1)는 절연층(3)을 전자 기판(100) 측으로 전자 기판(100)에 접합되어 있다. 2, the sheet member 1 includes a sheet-
기재(2)는 도전성을 가지고 있으면 좋고, 금속막으로 구성할 수도 있지만, 본 실시형태와 같이, 수지(21)의 고화물 또는 경화물과 도전성 입자(22)를 포함하는 수지막으로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 기재(2)는 이러한 금속막과 수지막의 막의 조합이어도 좋고, 2종 이상이 다른 수지막의 조합이어도 좋다. 이러한 조합의 구성에 대해서는, 후의 실시형태에서 나타낸다. 또한, 기재(2)를 금속막으로 구성하는 경우, 이 금속막은 도전성 입자(22)로 꼽는 금속과 마찬가지의 것을 이용해 형성할 수 있다. The
또한, 기재(2)는 배선 기판(110)의 종류(목적)에 따라, 그 도전성을 등방 도전성 또는 이방 도전성으로 설정할 수 있다. 또한, 등방 도전성이란, 기재(2)가 그 두께 방향 및 면 방향으로 도전성을 가지는 것을 말하고, 이방 도전성이란, 기재(2)가 그 두께 방향에만 도전성을 가지는 것을 말한다. Further, the
수지(21)로서는, 예를 들면, 열가소성 수지, 경화성 수지 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 조합해 이용할 수 있다. 또한, 경화성 수지로서는, 예를 들면, 열경화성 수지, 광경화성 수지, 혐기 경화성 수지, 반응 경화성 수지 등을 들 수 있지만, 열경화성 수지 및 광경화성 수지 중 적어도 한쪽이 바람직하다. 수지(21)로서 경화성 수지, 특히, 열경화성 수지 및 광경화성 수지 중 적어도 한쪽을 이용하는 것에 의한 효과는, 후에 설명한다. As the resin (21), for example, a thermoplastic resin, a curable resin and the like can be enumerated, and one kind or two or more kinds of them can be used in combination. As the curable resin, for example, a thermosetting resin, a photo-curable resin, an anaerobic curable resin, a reactive curable resin and the like can be mentioned, but at least one of a thermosetting resin and a photo-curable resin is preferable. The effect of using at least one of the curable resin, particularly, the thermosetting resin and the photo-curable resin as the resin (21) will be described later.
열가소성 수지로서는, 예를 들면, 폴리올레핀계 수지, 비닐계 수지, 스티렌·아크릴계 수지, 디엔계 수지, 테르펜계 수지, 석유계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 불소계 수지 등을 들 수 있다. Examples of the thermoplastic resin include a polyolefin resin, a vinyl resin, a styrene / acrylic resin, a diene resin, a terpene resin, a petroleum resin, a cellulose resin, a polyamide resin, a polyurethane resin, , A polycarbonate-based resin, and a fluorine-based resin.
열경화성 수지로서는 가열에 의한 가교 반응에 이용할 수 있는 관능기를 1분자 중에 1개 이상 가지는 수지이면 좋다. 이 관능기로서는, 예를 들면, 수산기, 페놀성 수산기, 메톡시메틸기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기, 옥세타닐기, 옥사졸린기, 옥사진기, 아질리딘기, 티올기, 이소시아네이트기, 블록화 이소시아네이트기, 블록화 카르복실기, 실라놀기 등을 들 수 있다. The thermosetting resin may be a resin having at least one functional group usable for crosslinking reaction by heating in one molecule. Examples of the functional group include a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, a methoxymethyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazoline group, an oxazine group, an aziridine group, a thiol group, an isocyanate group, a blocked isocyanate group, A carboxyl group, and a silanol group.
이러한 열경화성 수지의 구체예로서는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 말레인산 계 수지, 폴리부타디엔계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 요소계 수지, 에폭시계 수지, 옥세탄계 수지, 페녹시계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 페놀계 수지, 크레졸계 수지, 멜라민계 수지, 알키드계 수지, 아미노계 수지, 폴리젖산계 수지, 옥사졸린계 수지, 벤조옥사진계 수지, 실리콘계 수지, 불소계 수지 등을 들 수 있다. Specific examples of the thermosetting resin include acrylic resin, maleic acid resin, polybutadiene resin, polyester resin, polyurethane resin, urea resin, epoxy resin, oxetane resin, phenoxy resin, polyimide Based resin, a melamine-based resin, an amino-based resin, a polylactic acid-based resin, an oxazoline-based resin, a benzoxazine-based resin, a silicone-based resin, a silicone- Resins, and fluorine-based resins.
또한, 열경화성 수지를 이용하는 경우, 기재(2)는 열경화성 수지 이외에, 필요에 따라서, 상기 관능기와 반응하여 화학적 가교를 형성하는 수지 또는 저분자 화합물과 같은 경화제를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 경화제로서는, 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 페놀 노볼락 수지 등의 페놀계 경화제, 디시안디아미드, 방향족 디아민 등의 아민계 경화제와 같은 비교적 고온에서 경화 반응을 진행시킬 수 있는 경화제, 이소시아네이트계 경화제, 에폭시계 경화제, 아질리딘 계 경화제, 금속 킬레이트계 경화제 등의 비교적 저온(예를 들면, 120℃ 이하)에서 경화 반응을 진행시킬 수 있는 경화제를 들 수 있다. When a thermosetting resin is used, the
또한, 이러한 경화제 중 1종을 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합해 이용하도록 해도 좋다. 경화제의 종류, 이들의 조합 및 함유량 등을 적당히 선택함으로써, 전자 기판(100)에 적층하기 전(사용 전)의 시트재(1)에서의 기재(2)의 경화의 정도(완전 경화 상태 또는 반경화 상태), 유동성의 정도(고체 상태 또는 겔 상태) 및 점착성의 정도(고점착성, 저점착성 또는 비점착성) 중 적어도 1개를 제어할 수 있다. Further, one of these curing agents may be used alone, or two or more kinds thereof may be used in combination. The degree of curing of the
한편, 광경화성 수지로서는 빛에 의해 가교 반응을 일으키는 불포화 결합을 1분자 중에 1개 이상 가지는 수지이면 좋다. 광경화성 수지의 구체예로서는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 말레인산계 수지, 폴리부타디엔계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 옥세탄계 수지, 페녹시계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 페놀계 수지, 알키드계 수지, 아미노계 수지, 폴리젖산계 수지, 옥사졸린계 수지, 벤조옥사진계 수지, 실리콘계 수지, 불소계 수지 등을 들 수 있다. On the other hand, the photo-curing resin may be a resin having at least one unsaturated bond capable of causing a crosslinking reaction by light. Specific examples of the photocurable resin include acrylic resin, maleic acid resin, polybutadiene resin, polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, oxetane resin, phenoxy resin, polyimide resin, poly Amide resins, phenol resins, alkyd resins, amino resins, polylactic acid resins, oxazoline resins, benzoxazine resins, silicone resins and fluorine resins.
본 실시형태의 기재(2)에서는, 이러한 수지(21)의 고화물 또는 경화물에 도전성 입자(22)가 분산되어 있다. 이러한 구성에 의해, 기재(2)(시트재(1))는, 전자파 실드 효과를 발휘한다. 도전성 입자(22)로서는, 예를 들면, 금속 입자, 탄소 입자, 도전성 수지 입자 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. In the base material (2) of the present embodiment, the conductive particles (22) are dispersed in the solidified or cured product of the resin (21). With this configuration, the substrate 2 (sheet member 1) exerts an electromagnetic wave shielding effect. As the
금속 입자를 구성하는 금속으로서는, 예를 들면, 금, 백금, 은, 동, 니켈, 알루미늄, 철 또는 이들의 합금, 혹은, ITO, ATO 등을 들 수 있지만, 가격과 도전성의 면에서 동이 바람직하다. 또한, 금속 입자는, 금속으로 구성된 핵체와, 이 핵체를 피복하고, 금속으로 구성된 피복층을 구비하는 입자여도 좋다. 이러한 금속 입자로서는, 예를 들면, 동으로 구성된 핵체를, 은으로 구성된 피복층으로 피복하여 이루어지는 은 코트 동 입자 등을 들 수 있다. Examples of the metal constituting the metal particles include gold, platinum, silver, copper, nickel, aluminum, iron or an alloy thereof, or ITO and ATO. . Further, the metal particles may be particles comprising a core composed of a metal and a coating layer covering the core and composed of a metal. Examples of such metal particles include silver-coated copper particles obtained by coating a copper-based core with a coating layer composed of silver and the like.
또한, 탄소 입자를 구성하는 탄소로서는, 예를 들면, 아세틸렌블랙, 켓첸블랙, 퍼네스블랙, 카본 나노 튜브, 카본 나노 섬유, 그래파이트, 풀러렌, 그라펜 등을 들 수 있다. 또한, 도전성 수지 입자를 구성하는 도전성 수지로서는, 예를 들면, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리아세틸렌, 폴리티오펜 등을 들 수 있다. Examples of the carbon constituting the carbon particles include acetylene black, Ketchen black, furnace black, carbon nanotube, carbon nanofiber, graphite, fullerene, and graphene. Examples of the conductive resin constituting the conductive resin particles include poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polyacetylene, and polythiophene.
도전성 입자(22)의 평균입경은 1~100 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 3~75 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하고, 5~50 ㎛ 정도인 것이 더욱 바람직하다. 도전성 입자(22)의 평균입경을 상기 범위로 함으로써, 기재(2) 중의 도전성 입자(22)의 충전율을 향상할 수 있다. 이 때문에, 기재(2)(시트재(1))의 전자파 실드 효과를 보다 높일 수 있다. 또한, 예를 들면, 수지(21)와 혼합해 수지 조성물을 조제했을 때에, 그 유동성이 양호해지기 때문에, 기재(2)에의 성형성이 향상한다. The average particle diameter of the
또한, 도전성 입자(22)의 형상은 구상, 침상, 플레이크상, 수지상 등 중 어떠한 형상이어도 좋다. 또한, 도전성 입자(22)의 평균입경은, 일반적인 레이저 회절법, 산란법 등에 의해 측정해 구할 수 있고, 그 미립자 집합체의 투영 면적에 동일한 원을 가정했을 때의 직경의 평균치를 평균입경으로 할 수 있다. The shape of the
도전성 입자(22)의 기재(2) 중의 함유량은 특히 한정되지 않지만, 수지(21)의 100중량부에 대해서 100~1500중량부인 것이 바람직하고, 100~1000중량부인 것이 보다 바람직하다. 도전성 입자(22)의 기재(2) 중의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 도전성 입자(22)의 종류에 상관 없이, 기재(2)에 필요하고 충분한 도전성을 부여할 수 있어 기재(2)의 전자파 실드 효과를 충분히 높일 수 있다. 또한, 수지(21)와, 도전성 입자(22)를 포함하는 수지 조성물의 유동성이 높아져, 기재(2)를 보다 형성하기 쉬워지므로 바람직하다. The content of the
또한, 기재(2)의 평균 두께도 특히 한정되지 않지만, 2~500 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 5~100 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 기재(2)의 평균 두께를 상기 범위로 함으로써, 기재(2)의 기계적 강도의 저하를 방지하면서, 기재(2)의 박형화를 도모할 수 있다. The average thickness of the
또한, 기재(2)는, 예를 들면, 착색제(안료, 염료), 난연제, 충전제(무기 첨가제), 활제, 블로킹 방지제, 금속 불활성화제, 증점제, 분산제, 실란 커플링제, 방청제, 동해방지제, 환원제, 산화방지제, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소포제, 레벨링 조정제 등을 함유해도 좋다. The
착색제로서는, 예를 들면, 유기 안료, 카본블랙, 군청, 변병(弁柄), 아연화(亞鉛華), 산화 티탄, 흑연 등을 들 수 있다. 난연제로서는, 예를 들면, 할로겐 함유 난연제, 인 함유 난연제, 질소 함유 난연제, 무기 난연제 등을 들 수 있다. 충전제로서는, 예를 들면, 유리 섬유, 실리카, 탈크, 세라믹 등을 들 수 있다. Examples of the coloring agent include organic pigments, carbon black, gray pigments, zinc pigments, titanium oxide, graphite and the like. Examples of the flame retardant include halogen-containing flame retardants, phosphorus-containing flame retardants, nitrogen-containing flame retardants, and inorganic flame retardants. Examples of the filler include glass fiber, silica, talc, and ceramics.
또한, 활제로서는, 예를 들면, 지방산 에스테르, 탄화수소 수지, 파라핀, 고급 지방산, 지방산 아미드, 지방족 알코올, 금속 비누, 변성 실리콘 등을 들 수 있다. 블로킹 방지제로서는, 예를 들면, 탄산칼슘, 실리카, 폴리메틸실세스퀴옥산, 규산 알루미늄염 등을 들 수 있다. Examples of lubricants include fatty acid esters, hydrocarbon resins, paraffin, higher fatty acids, fatty acid amides, aliphatic alcohols, metal soaps, and modified silicones. Examples of the antiblocking agent include calcium carbonate, silica, polymethylsilsesquioxane, aluminum silicate and the like.
이러한 기재(2)의 하면(전자 기판(100)측의 면)에는, 절연층(3)이 설치되어 있다. 본 실시형태에서는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 기재(2)의 하면에는, 실장면(101)(배선 기판(110))의 제1실장 영역(100a)에 대응하는 제1절연층(3a)과, 제2실장 영역(100b)에 대응하는 제2절연층(3b)과. 제3실장 영역(100c)에 대응하는 제3절연층(3c)이 설치되어 있다. An insulating
제1~제3절연층(3a~3c)(이하, 이들을 총칭하여, 간단히 「절연층(3)」이라고 함)은 각각 평면시로 기재(2)보다 작고, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 적층한 상태에서, 1개 이상의 반도체 칩(120)을 포함하는 사이즈를 구비하고 있다. 이러한 구성에 의해, 기재(2)의 하면은, 제1~제3절연층(3a~3c)으로부터 노출되는 띠상의 노출 영역(2a)이 형성되어 있다. 따라서, 이 노출 영역(2a)은 배선 기판(110)의 그랜드 배선(113)의 형상에 대응하는 형상을 이루고 있다. 시트재(1)를 배선 기판(110)에 접합된 상태로, 노출 영역(2a)이 그랜드 배선(113)에 접촉하고, 기재(2)가 접지된다. 즉, 기재(2)의 노출 영역(2a)은 시트재(1)를 배선 기판(110)에 접속(접합)하는 접속부(접합부)를 구성한다. The first to third insulating
예를 들면, 기재(2)가 수지(21)로서 경화성 수지를 함유하는 경우, 기재(2)의 노출 영역(2a)을 배선 기판(110)의 그랜드 배선(113)에 접촉시킨 후, 경화성 수지를 경화시킴으로써, 그 경화물에 의해 당해 접촉 부분에서 시트재(1)와 전자 기판(100)을 접합(고정)할 수 있다. For example, when the
절연층(3)은 충분한 절연성을 구비하고 있으면 좋고, 경질 수지나 경화성 수지(특히, 열경화성 수지)를 이용해 형성할 수 있다. 경질 수지의 구체예로서는, 예를 들면, 아크릴, 폴리우레탄, 폴리우레탄우레아, 에폭시, 에폭시에스테르, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리페닐렌설파이드 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 조합해 이용할 수 있다. 한편, 경화성 수지로서는, 수지(21)로 꼽은 경화성 수지와 마찬가지의 것을 이용할 수 있다. The insulating
또한, 경화성 수지로서 열경화성 수지를 이용하는 경우, 절연층(3)은 기재(2)로 기재한 것과 마찬가지의 경화제를 함유해도 좋다. 이것에 의해, 전자 기판(100)에 적층하기 전(사용 전)의 시트재(1)에서의 절연층(3)의 경화의 정도(완전 경화 상태 또는 반 경화 상태), 유동성의 정도(고체 상태 또는 겔 상태) 및 점착성의 정도(고점착성, 저점착성 또는 비점착성) 중 적어도 1개를 제어할 수 있다. When a thermosetting resin is used as the curing resin, the insulating
또한, 절연층(3)은, 예를 들면, 착색제(안료, 염료), 난연제, 충전제(무기 첨가제), 활제, 블로킹 방지제, 금속 불활성화제, 증점제, 분산제, 실란 커플링제, 방청제, 동해방지제, 환원제, 산화방지제, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소포제, 레벨링 조정제 등을 함유해도 좋다. In addition, the insulating
절연층(3)의 평균 두께는 특히 한정되지 않지만, 기재(2)의 평균 두께를 100으로 했을 때에 50~200 정도의 비율인 것이 바람직하고, 75~150 정도의 비율인 것이 보다 바람직하다. 구체적으로는, 절연층(3)의 평균 두께는 1~1000 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 3~200 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 이것에 의해, 절연층(3)은 충분한 절연성을 유지하면서, 절연층(3)(시트재(1))에 전자 기판(100)의 표면에 대한 우수한 추종성을 부여할 수 있다. The average thickness of the insulating
또한, 반도체 칩(120)으로부터의 방열을 촉진시키는 관점에서는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 절연층(3)과 반도체 칩(120)의 표면이 밀착하고 있는 것이 바람직하지만, 절연층(3)의 평균 두께와 기재(2)의 평균 두께의 관계를 상기 범위로 함으로써, 절연층(3)의 반도체 칩(120)의 표면에 대한 밀착성을 보다 향상할 수 있다. 또한, 절연층(3)을 반도체 칩(120)의 표면에 밀착시키기 위해서는, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합할 때에, 이 조작을 감압하 또는 진공하에서 실시하도록 하면 좋다. 2, it is preferable that the insulating
또한, 절연층(3)의 하면(반도체 칩(120)과의 접촉면)은 평활면으로 구성되어도, 조면으로 구성되어도 좋다. 절연층(3)의 하면(전자 기판(100) 측의 면)을 평활면으로 구성하면, 절연층(3)과 반도체 칩(120)의 표면의 접촉 면적을 증대시킬 수 있어 시트재(1)에 의한 방열 효과를 향상시킬 수 있다. 한편, 절연층(3)의 하면을 조면으로 구성하면, 절연층(3)과 반도체 칩(120)의 표면의 접촉 면적을 약간 감소시킬 수 있어, 전자 기판(100)의 리사이클 시에, 반도체 칩(120)으로부터 절연층(3)(시트재(1))을 보다 용이하게 제거할 수 있게 된다. The lower surface of the insulating layer 3 (the contact surface with the semiconductor chip 120) may be formed of a smooth surface or a rough surface. The contact area between the insulating
한편, 기재(2)의 상면(전자 기판(100)으로 반대 측의 면)에는, 기재(2)를 보호하는 기능을 구비하는 하드 코트층(보호층)(4)이 설치되어 있다. 이것에 의해, 기재(2)의 파손을 적합하게 방지할 수 있다. On the other hand, a hard coat layer (protective layer) 4 having a function of protecting the
이러한 하드 코트층(4)는, 예를 들면, α,β-불포화 이중결합을 가지는 2관능 이상의 다관능 또는 단관능 모노머, 비닐형 모노머, 아릴형 모노머, 단관능 (메타)아크릴 모노머, 다관능 (메타)아크릴 모노머와 같은 라디칼 중합계 모노머의 중합물(경화물)로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 이러한 모노머의 중합물로 하드 코트층(4)를 구성함으로써, 하드 코트층(4)의 강도가 증대하고, 기재(2)의 파손을 방지하는 효과가 보다 향상한다. Such a hard coat layer 4 can be formed by, for example, a bifunctional or multifunctional or monofunctional monomer having an?,? - unsaturated double bond, a vinyl type monomer, an aryl type monomer, a monofunctional (meth) (Cured product) of a radical polymerization-type monomer such as a (meth) acrylic monomer. By constituting the hard coat layer 4 as a polymer of such a monomer, the strength of the hard coat layer 4 is increased, and the effect of preventing breakage of the
또한, α,β-불포화 이중결합을 가지는 2관능 이상의 모노머는, 예를 들면 분자량이 1000 미만인 비교적 저분자량의 모노머(이른바 협의의 모노머)이고, 예를 들면 중량평균분자량이 1000 이상 10000 미만인 비교적 고분자량의 올리고머 또는 프레폴리머여도 좋다. 여기서, α,β-불포화 이중결합을 가지는 올리고머로서는, 예를 들면, 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트, 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트, 에폭시 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴화 말레인산 변성 폴리부타디엔 등을 들 수 있다. The bifunctional or higher functional monomer having an?,? - unsaturated double bond is, for example, a relatively low molecular weight monomer having a molecular weight of less than 1000 (so-called narrow monomer), for example, a relatively high molecular weight having a weight average molecular weight of from 1,000 to less than 10000 Or an oligomer or prepolymer having a molecular weight. Examples of the oligomer having an?,? - unsaturated double bond include polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, maleic acid modified polybutadiene .
비닐형 모노머로서는, 예를 들면, 스티렌, α-메틸스틸렌, 디비닐 벤젠, N-비닐피롤리돈, 아세트산 비닐, N-비닐 포름알데히드, N-비닐 카프로락탐, 알킬비닐에테르 등을 들 수 있다. 또한, 아릴형 모노머로서는, 예를 들면, 트리메타크릴 이소시아누레이트, 트리아릴 시아누레이트 등을 들 수 있다. Examples of the vinyl type monomer include styrene,? -Methylstyrene, divinylbenzene, N-vinylpyrrolidone, vinyl acetate, N-vinylformaldehyde, N-vinylcaprolactam and alkyl vinyl ether . Examples of the aryl type monomer include trimethacryl isocyanurate and triaryl cyanurate.
단관능 (메타)아크릴 모노머로서는, 예를 들면, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸 2-히드록시에틸 프탈레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸 헥사히드로프탈레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필 프탈레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 카르비톨 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸 (메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 부탄디올 모노 (메타)아크릴레이트, 부톡시 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 카프로락톤 (메타)아크릴레이트, 세틸 (메타)아크릴레이트, 크레졸 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로 펜테닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로 펜테닐 옥시 에틸 (메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 (메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페닐 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 이소아밀 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 이소부틸 (메타)아크릴레이트, 이소데실 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소스테아릴 (메타)아크릴레이트, 이소미리스틸 (메타)아크릴레이트, 라우록시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 메톡시 디프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시 트리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시 트리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메틸 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 벤조에이트 (메타)아크릴레이트, 노닐 페녹시 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 노닐 페녹시 폴리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 (메타)아크릴레이트, 옥톡시폴리에틸렌글리콜 폴리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 옥틸 (메타)아크릴레이트, 파라 쿠밀 페녹시 에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 퍼플루오로 옥틸 에틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시 (메타)아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시 에틸 (메타)아크릴레이트, 페녹시 헥사 에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시 테트라에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 스테아릴 (메타)아크릴레이트, 호박산 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 테트라플루오로 프로필 (메타)아크릴레이트, 테트라히드로프르푸릴 (메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐 (메타)아크릴레이트, 트리데실 (메타)아크릴레이트, 트리플루오로에틸 (메타)아크릴레이트, β-카르복시에틸 (메타)아크릴레이트, ω-카르복시-폴리카프로락톤 (메타)아크릴레이트, 또는, 이들의 유도체나 변성품 등을 들 수 있다. Examples of monofunctional (meth) acrylic monomers include 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalate, 2- (meth) acryloyloxyethyl 2-hydroxyethyl phthalate, 2- (meth) (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexylcarbitol (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, butanediol mono (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, caprolactone Cresol (meth) acrylate, cyclo (Meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, diethylene glycol monoethyl ether (Meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, lauryloxypolyethylene glycol (Meth) acrylate, methoxy dipropylene glycol (meth) acrylate, methoxy tripropylene glycol (meth) acrylate, methoxypoly (Meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, neopentyl glycol benzoate (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (Meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, octoxypolyethylene glycol polypropylene glycol (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, para-cumylphenoxyethylene glycol Acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate,? -Carboxyethyl (meth) acrylate,? -Carboxy-polycaprolactone (meth) acrylate, tri-decyl Acrylate, derivatives thereof, and modified products thereof.
다관능 (메타)아크릴 모노머로서는, 예를 들면, 1,3-부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 F 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 헥사히드로푸탈산 디(메타)아크릴레이트, 히드록시피바린산 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 히드록시피바린산에스테르 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 디(메타)아크릴레이트, 푸탈산 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올 디(메타)아크릴레이트, 디메틸올디시클로펜탄 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리글리세롤 디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 인산 트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 벤조에이트 트리(메타)아크릴레이트, 트리스((메타)아크릴로일옥시에틸) 이소시아누레이트, 디(메타)아크릴화 이소시아누레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨히드록시 펜타(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 또는, 이들의 유도체나 변성품 등을 들 수 있다. Examples of the polyfunctional (meth) acrylic monomer include 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6- (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol F di Acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (Meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether D Acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (Meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, trimethylolpropane triocte (meth) acrylate, tri (meth) acryloyloxy (meth) acrylate, trimethylolpropane tri Ethyl) isocyanurate, di (meth) acrylated isocyanurate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol Tall hydroxide may be mentioned hydroxy penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, or, derivatives thereof or side character and the like.
또한, 하드 코트층(4)은, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리 부틸렌테레프탈레이트(PBT)와 같은 폴리에스테르계 수지, 폴리메틸 메타 아크릴레이트와 같은 아크릴계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체와 같은 폴리올레핀계 수지 등의 열가소성 수지로 구성할 수도 있다. The hard coat layer 4 may be formed of, for example, a polyester resin such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), an acrylic resin such as polymethylmethacrylate, a polyethylene, a polypropylene , A polyolefin-based resin such as an ethylene-vinyl acetate copolymer, or the like.
또한, 하드 코트층(4)은, 예를 들면, 착색제(안료, 염료), 난연제, 충전제(무기 첨가제), 활제, 블로킹 방지제, 금속 불활성화제, 증점제, 분산제, 실란 커플링제, 방청제, 동해방지제, 환원제, 산화방지제, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소포제, 레벨링 조정제 등을 함유해도 좋다. In addition, the hard coat layer 4 can be formed by using, for example, a coloring agent (pigment, dye), a flame retardant, a filler (inorganic additive), a lubricant, an antiblocking agent, a metal deactivating agent, a thickening agent, a dispersing agent, a silane coupling agent, , A reducing agent, an antioxidant, a tackifier resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a defoaming agent, a leveling regulator and the like.
하드 코트층(4)을 모노머의 중합물(경화물)로 구성하는 경우, 하드 코트층(4)의 평균 두께는, 특히 한정되지 않지만, 0.1~10 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 0.5~5 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 한편, 하드 코트층(4)을 열가소성 수지의 고화물으로 구성하는 경우, 하드 코트층(4)의 평균 두께는, 1~50 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 5~30 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 하드 코트층(4)의 평균 두께를 상기 범위로 함으로써, 시트재(1)의 가효성을 유지하면서, 기재(2)의 파손을 보다 확실히 방지할 수 있다. When the hard coat layer 4 is composed of a polymer (cured product) of a monomer, the average thickness of the hard coat layer 4 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 10 탆, more preferably about 0.5 to 5 탆 Is more preferable. On the other hand, when the hard coat layer 4 is composed of solidified thermoplastic resin, the average thickness of the hard coat layer 4 is preferably about 1 to 50 μm, more preferably about 5 to 30 μm . By setting the average thickness of the hard coat layer 4 within the above range, breakage of the
또한, 보호층은 하드 코트층(4)으로 한정되는 것이 아니고, 외부로부터의 응력이나 충격을 흡수 하는 쿠션층, 인쇄층 등이어도 좋고, 이들 층을 조합한 적층체이어도 좋다. The protective layer is not limited to the hard coat layer 4, but may be a cushion layer, a print layer, or the like, which absorbs stress or impact from the outside, or may be a laminate obtained by combining these layers.
이상과 같은 시트재(1)는, 예를 들면, 다음과 같이 하여 제조할 수 있다. The sheet member 1 as described above can be manufactured, for example, as follows.
우선, 하드 코트층용 수지 조성물을 박리 시트 상에 도공한 후, 경화 또는 고화시킨다. 이것에 의해, 하드 코트층(4)을 얻는다. First, the resin composition for a hard coat layer is coated on a release sheet, and then hardened or solidified. Thus, the hard coat layer 4 is obtained.
다음으로, 기재용 수지 조성물을 하드 코트층(4) 상에 도공한 후, 반경화, 경화 또는 고화시킨다. 이것에 의해, 기재(2)를 얻는다. 이 상태에서, 기재(2)는 점착성을 가지고 있어도, 가지지 않아도 좋다. Next, the base resin composition is coated on the hard coat layer 4 and then semi-cured, hardened or solidified. Thus, the
다음으로, 절연층용 수지 조성물을 기재(2) 상에 도공한 후, 반경화, 경화 또는 고화시킨다. 이것에 의해, 절연층(3)을 얻는다. 이 상태에서, 절연층(3)은 점착성을 가지고 있어도, 가지지 않아도 좋다. Next, the resin composition for an insulating layer is coated on the
각 수지 조성물을 도공하는 방법으로서는, 예를 들면, 그라비아 코트 방식, 키스 코트 방식, 다이 코트 방식, 립 코트 방식, 콤마 코트 방식, 브레이드 방식, 롤 코트 방식, 나이프 코트 방식, 스프레이 코트 방식, 바 코트 방식, 스피 코트 방식, 딥 코트 방식 등을 사용할 수 있다. Examples of the method for coating each resin composition include a gravure coating method, a kiss coating method, a die coating method, a lip coating method, a comma coating method, a braiding method, a roll coating method, a knife coating method, A spin coating method, a dip coating method, or the like can be used.
또한, 시트재(1)는 각층을 개별적으로 형성한 후, 이들 층을 서로 접합해 형성하도록 해도 좋다. Further, the sheet member 1 may be formed by separately forming respective layers, and then bonding these layers to each other.
또한, 시트재(1)에 있어서는, 기재(2)와 하드 코트층(보호층)(4) 사이에는, 예를 들면, 열전도층, 수증기 배리어층, 산소 배리어층, 저유전율층, 고유전율층, 저유전정접층(低誘電正接層), 고유전정접층(高誘電正接層), 내열성층 등 중 하나 이상의 층을 마련하도록 해도 좋다. In the sheet member 1, a heat conductive layer, a water vapor barrier layer, an oxygen barrier layer, a low dielectric constant layer, a high dielectric constant layer, a high dielectric constant layer, and a high dielectric constant layer are interposed between the
이러한 시트재(1)는 다음과 같이 하여 전자 기판(100)에 접합된다. The sheet member 1 is bonded to the
우선, 절연층(3)을 전자 기판(100) 측으로 시트재(1)를 전자 기판(100)에 적층한 상태로 한다. 다음으로, 이 상태에서 시트재(1)를 전자 기판(100)에 대해서 가열 압착하면, 절연층(3)이 반도체 칩(120)의 표면에 밀착함과 동시에, 기재(2)의 노출 영역(2a)이 그랜드 배선(113)에 접촉하여 시트재(1)가 전자 기판(100)에 고정(접합)된다. 이것에 의해, 전자 소자(10)를 얻을 수 있다. 또한, 가열 압착을 감압 하 또는 진공 하에서 실시함으로써, 절연층(3)의 반도체 칩(120)의 표면에의 밀착도가 높아진다. 그 결과, 시트재(1)에 의한 전자파 실드 효과뿐만 아니라, 양호한 방열 효과도 발휘된다. First, the insulating
또한, 기재(2)가 열경화성 수지를 함유하고, 반경화 상태인 경우, 상기 가열 가압에 의해 열경화성 수지가 경화하여 그 경화물에 의해 기재(2)의 노출 영역(2a)이 그랜드 배선(113)에 강고하게 접합된다. 또한, 열경화성 수지의 경화에 의해, 기재(2)(시트재(1)) 자체의 기계적 강도도 향상한다. 또한, 기재(2)가 광경화성 수지를 함유하는 경우, 상기 가열 압착 후, 기재(2)의 노출 영역(2a)에 빛(활성 방사선)을 조사한다. 이것에 의해, 광경화성 수지가 경화하여 그 경화물에 의해 기재(2)의 노출 영역(2a)가 그랜드 배선(113)에 강고하게 접합된다. 게다가, 기재(2)가 금속막으로 구성되는 경우, 상기 가열 압착에 앞서, 그랜드 배선(113) 상에 경납(땜납)을 마련하도록 함으로써, 기재(2)의 노출 영역(2a)이 그랜드 배선(113)에 경납을 개재시켜 강고하게 접합된다. When the
이러한 전자 소자(10)는 반도체 칩(120)으로부터의 발열의 제거가 용이하고, 박형이고, 높은 신뢰성을 구비하고 있어, 예를 들면, 스마트폰 등의 휴대 전화, 개인용 컴퓨터, 타블렛 단말, LED 조명, 유기 EL 조명, 액정 TV, 유기 ELTV, 디지털 카메라, 디지털 비디오 카메라, 자동차 등의 차재 부품 등에 사용할 수 있다. The
<제2실시형태>≪ Second Embodiment >
다음으로, 본 발명의 제2실시형태에 대해 설명한다. Next, a second embodiment of the present invention will be described.
도 3은 제2실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다. 이하, 제2실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 3 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a configuration of the sheet member of the second embodiment (a state before it is bonded to the electronic substrate). Hereinafter, the second embodiment will be described, but differences from the first embodiment will be mainly described, and description of the same matters will be omitted. 3, the upper side is referred to as " upper " and the lower side is referred to as " lower ".
제2실시형태의 시트재(1)는 절연층(3)(제1~ 제3절연층(3a~3c))의 구성이 다른 것 이외에는, 상기 제1실시형태와 같다. 즉, 도 3에 나타낸 바와 같이, 제2실시형태의 절연층(3)은 수지(31)와, 이 수지(31)에 분산되고 수지(31)의 열전도율보다 열전도율이 높은 열전도성 입자(32)를 포함한다. 절연층(3)이 열전도성 입자(32)를 포함함으로써, 시트재(1)의 열전도성이 향상되어 시트재(1)에 의한 방열 효과가 보다 증대한다. The sheet member 1 of the second embodiment is the same as the first embodiment except that the constitution of the insulating layer 3 (the first to third insulating
열전도성 입자(32)의 구성 재료로서는, 예를 들면, 산화칼슘, 산화마그네슘, 산화알루미늄과 같은 금속 산화물, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘과 같은 금속 수산화물, 질화알루미늄, 질화붕소와 같은 금속 질화물, 탄산칼슘, 탄산마그네슘과 같은 금속 탄산염, 규산칼슘과 같은 금속 규산염, 결정성 실리카, 비결정성 실리카, 탄화규소와 같은 규소 화합물 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 조합해 이용할 수 있다. Examples of the constituent material of the thermally
이 중에서도, 열전도성 입자(32)의 구성 재료로서는, 산화알루미늄, 질화알루미늄 및 질화 붕소 중 적어도 1종이 바람직하고, 내열성 및 절연 신뢰성이 높으므로 산화알루미늄이 보다 바람직하다. 또한, 구상 산화알루미늄은, 절연층(3) 중에 최밀 충전할 수 있는 점에서 우수하고, 충전량을 많이 했을 경우에도, 절연층(3)의 탄성율이 불필요하게 상승하는 것을 방지할 수 있는 점에서 특히 바람직하다. 또한, 열전도성 입자(32)는, 복수 종류의 입자를 포함하고 있어도 좋다. Of these, at least one of aluminum oxide, aluminum nitride and boron nitride is preferable as the constituent material of the thermally
열전도성 입자(32)의 평균입경은 특히 한정되지 않지만, 0.1~250 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 0.5~100 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 이러한 평균입경의 열전도성 입자(32)는 절연층(3)에 균일하게 분산시켜 쉽기 때문에, 절연층(3)의 열전도성을 보다 높일 수 있다. The average particle diameter of the thermally
또한, 열전도성 입자(32)의 형상은 구상, 침상, 플레이크상, 수지상 등 중 어떠한 형상이라도 좋다. 또한, 열전도성 입자(32)의 평균입경은 일반적인 레이저 회절법, 산란법 등에 의해 측정해 구할 수 있고, 그 미립자 집합체의 투영 면적에 동일한 원을 가정했을 때의 직경의 평균치를 평균입경으로 할 수 있다. The shape of the thermally
열전도성 입자(32)의 절연층(3) 중의 함유량은 특히 한정되지 않지만, 25~95 중량% 정도인 것이 바람직하고, 35~85 중량% 정도인 것이 보다 바람직하다. 열전도성 입자(32)의 절연층(3) 중의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 절연층(3)의 기계적 강도가 저하되는 것을 방지하면서, 절연층(3)의 열전도성을 충분히 향상할 수 있다. The content of the thermally
또한, 수지(31)로서는 상기 제1실시형태에서, 절연층(3)으로 사용 가능한 수지와 마찬가지의 것을 이용할 수 있다. 또한, 절연층(3)은 상기 제1실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 경화제를 함유해도 좋다. As the
이상과 같은 제2실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. In the second embodiment as described above, the same operations and effects as those of the first embodiment are exhibited.
<제3실시형태>≪ Third Embodiment >
다음으로, 본 발명의 제3실시형태에 대해 설명한다. Next, a third embodiment of the present invention will be described.
도 4는 제3실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다. 이하, 제3실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 4 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. Fig. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a configuration of the sheet member of the third embodiment (a state before bonding to the electronic substrate). Fig. Hereinafter, the third embodiment will be described, but differences from the first embodiment will be mainly described, and description of the same matters will be omitted. In the following description, the upper side in Fig. 4 is referred to as " upper " and the lower side is referred to as " lower "
제3실시형태의 시트재(1)는 기재(2)의 구성이 다르다는 것 이외에는 상기 제1실시형태와 같다. 즉, 도 4(a) 및 (b)에 나타낸 바와 같이, 제3실시형태의 기재(2)는 수지(21)와 도전성 입자(22)를 포함하는 본체부(20)와, 이 본체부(20)의 절연층(3) 측에서 본체부(20)와 접촉하여 설치되는 금속막(23)을 구비하고 있다. 기재(2)가 금속막(23)을 포함함으로써, 기재(2)(시트재(1))의 전자파 실드 효과 및 방열 효과가 보다 적합하게 발휘된다. The sheet member 1 of the third embodiment is the same as the first embodiment except that the structure of the
이러한 금속막(23)은 도전성 입자(22)로 꼽은 금속으로 형성된 금속박을 본체부(20)에 점착(접합)하는 방법, 도전성 입자(22)로 꼽은 금속 산화물(예를 들면, ITO, ATO)을 증착 또는 스퍼터링 함으로써, 증착막 또는 스퍼터링막을 본체부(20)상에 형성하는 방법, 도전성 페이스트(예를 들면, 은 페이스트)를 인쇄함으로써, 본체부(20) 상에 인쇄막을 형성하는 방법 등에 의해 얻을 수 있다. 또한, 금속막(23)을 금속박으로 구성하는 경우, 도전성과 비용의 면에서 각종 동박이 바람직하고, 압연 동박 또는 전해 동박이 보다 바람직하다. The
또한, 금속막(23)의 평균 두께는 특히 한정되지 않지만, 기재(2)의 평균 두께의 0.004~2500% 정도인 것이 바람직하고, 0.025~75% 정도인 것이 바람직하다. 금속막(23)의 평균 두께를 상기 범위로 함으로써, 기재(2)(시트재(1))의 가효성이 저하되는 것을 방지하면서, 기재(2)의 전자파 실드 효과 및 방열 효과가 충분히 발휘된다. The average thickness of the
금속막(23)의 구체적인 평균 두께는 다음과 같은 것이 바람직하다. 예를 들면, 금속막(23)을 증착막으로 구성하는 경우, 그 평균 두께는, 50~300 nm 정도인 것이 바람직하고, 75~200 nm 정도인 것이 보다 바람직하다. 금속막(23)을 스퍼터링막으로 구성하는 경우, 그 평균 두께는 20~80 nm 정도인 것이 바람직하고, 25~70 nm 정도인 것이 보다 바람직하다. 또한, 금속막(23)을 금속박 또는 인쇄 막으로 구성하는 경우, 그 평균 두께는 0.01~20 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 0.1~15 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. The specific average thickness of the
또한, 금속막(23)은 도 4(a)에 나타낸 바와 같이, 평면시로 절연층(3)과 거의 같은 사이즈이어도 좋고, 도 4(b)에 나타낸 바와 같이, 평면시로 본체부(20)와 거의 같은 사이즈이어도 좋다. 도 4(a)에 나타내는 구성의 경우, 노출 영역(2a)의 본체부(20)를 이용하여 시트재(1)를 전자 기판(100)에 강고하게 접합할 수 있다. 한편, 도 4(b)에 나타내는 구성의 경우, 노출 영역(2a)에서의 금속막(23)을, 예를 들면, 레이저 조사 등에 의해 배선 기판(110)의 그랜드 배선(113)과 금속 접합할 수 있다. 이 때문에, 시트재(1)와 전자 기판(100) 사이의 매우 높은 접합이 가능해진다. 4 (a), the
또한, 이러한 금속막(23)은 메쉬 형상, 펀칭에 의해 형성된 복수의 관통공을 가지는 형상을 이루고 있어도 좋다. 이러한 형상을 이룸으로써, 금속막(23)에 수증기 투과성을 부여할 수 있다. The
이상과 같은 제3실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. In the third embodiment as described above, the same operations and effects as those of the first embodiment are exhibited.
또한, 금속막(23)은, 본체부(20)에 접촉하도록 설치되어 있으면 좋고, 절연층(3) 측을 대신하여, 하드 코트층(4) 측에 설치해도 좋고, 본체부(20)의 두께 방향 도중의 임의의 위치에 마련하도록 해도 좋고, 이들의 조합이어도 좋다. The
<제4실시형태>≪ Fourth Embodiment &
다음으로, 본 발명의 제4실시형태에 대해 설명한다. Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.
도 5는 제4실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 도((a)는 절연층(3a) 부근을 나타내는 평면도, (b)는 (a) 중 B-B선 단면에서의 중앙부를 나타내는 도), 도 6은 제4실시형태의 시트재의 다른 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 평면도이다. 이하, 제4실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 5(b) 및 도 6 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. 5A is a plan view showing the vicinity of the insulating
제4실시형태의 시트재(1)는 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합되기 전 상태(시트재(1)의 사용전 상태)로, 절연층(3)의 두께가 불균일한 것 이외에는 상기 제1실시형태와 같다. 즉, 도 5(a) 및 (b)에 나타낸 바와 같이, 제4실시형태의 절연층(3)은 전자 기판(100)에 접합(적층)했을 때에, 반도체 칩(120)의 가장자리가 접촉하는 제1영역(33)의 평균 두께가, 제1영역(33) 이외의 제2영역(34)의 평균 두께보다 커지고 있다. 도 5(a) 및 (b)의 구성에서는, 제1영역(33)은 반도체 칩(120)의 외주 형상에 대응하여 평면시로 사각형의 틀 모양을 이루고 있다. The sheet member 1 of the fourth embodiment is a sheet member 1 in which the thickness of the insulating
이러한 구성에 의해, 반도체 칩(120)의 가장자리가 접촉함으로써 연장되는 시트재(1)의 부분(제1영역(33))에, 연장량을 보완할 만큼 충분한 두께가 확보된다. 이 때문에, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합할 때에, 예로 시트재(1)가 제1영역(33)에서 연장되도, 시트재(1)가 파단하는 것을 방지할 수 있다. With such a configuration, a sufficient thickness is secured in the portion (first region 33) of the sheet material 1 that extends when the edge of the
시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합되기 전 상태에서, 시트재(1)의 제1영역(33)에서의 평균 두께를 A[㎛]로 하고, 제2영역(34)에서의 평균 두께를 B[㎛]로 했을 때, A/B가 1.05~3 정도인 것이 바람직하고, 1.05~1.4 정도인 것이 보다 바람직하고, 1.1~1.25 정도인 것이 더욱 바람직하다. 이것에 의해, 절연층(3)(시트재(1))의 파단을 보다 확실히 방지할 수 있다. The average thickness in the
이러한 절연층(3)은 상기 제1실시형태에 기재한 방법에 의해, 절연층(3)의 기재(2) 측의 균일한 두께 부분을 형성한 후, 당해 부분의 제1영역(33) 상에, 사각형의 테두리 형상을 겹쳐 쌓아 형성함으로써 얻을 수 있다. The insulating
이상과 같은 제4실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. In the fourth embodiment as described above, the same actions and effects as those of the first embodiment are exhibited.
또한, 제1영역(33)은 도 5(a)에 나타내는 영역으로 한정되지 않고, 시트재(1)의 파단이 특별히 생기기 쉬운 영역으로 하면 좋다. 예를 들면, 도 1에 나타내는 전자 기판(100)에서는, 지면 앞측에, 2개의 반도체 칩(120)이 좌우 방향으로 병설되어 있지만, 이 경우, 제1영역(33)은 도 6에 나타낸 바와 같이, 병설된 2개의 반도체 칩(120)의 가장 자리부를 따라서 연속해 접촉하는 직선상 영역으로 할 수 있다. 일반적으로, 반도체 칩(120)이 밀집해서 배치되는 개소에서, 시트재(1)가 연장되는 정도가 커진다. 이 때문에, 도 6에 나타내는 2개의 반도체 칩(120)을 넘는 직선상 영역을 제1영역(33)으로 하고, 이 제1영역(33)에서의 절연층(3)(시트재(1))의 두께를 크게 함으로써, 시트재(1)의 파단을 충분히 방지할 수 있다. The
또한, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합되기 전 상태에서, 시트재(1)는 그 제1영역(33)의 평균 두께가 제2영역(34)의 평균 두께보다 커지고 있으면 좋고, 이러한 구성은, 절연층(3)의 두께를 부분적으로 크게 형성하는 것을 대신하여, 기재(2)의 두께를 부분적으로 크게 형성하는 것, 하드 코트층(4)의 두께를 부분적으로 크게 형성하는 것, 혹은, 이러한 조합에 의해 실현될 수도 있다. In the state before the sheet member 1 is bonded to the
<제5실시형태>≪ Embodiment 5 >
다음으로, 본 발명의 제5실시형태에 대해 설명한다. Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.
도 7은 제5실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 도((a)는 평면도, (b)는 (a) 중 C-C선 단면에서의 중앙부 및 단부를 나타내는 도), 도 8은, 제5실시형태의 시트재의 다른 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 평면도이다. 이하, 제5실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 7(b) 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. (A) is a plan view (b) is a view showing a central portion and an end portion in the CC line section in (a) of Fig. 5) of the sheet member according to the fifth embodiment And FIG. 8 is a plan view showing another configuration (a state before being bonded to the electronic substrate) of the sheet member of the fifth embodiment. Hereinafter, the fifth embodiment will be described, but differences from the first embodiment will be mainly described, and description of the same matters will be omitted. Hereinafter, for convenience of explanation, the upper side in Fig. 7 (b) is referred to as "upper" and the lower side as "lower".
제5실시형태의 시트재(1)는 기재(2)의 하면의 가장 자리부를 따라서, 절연층(3)으로 분리하여 설치되는 절연부(35)를 가지는 것 이외에는 상기 제1실시형태와 같다. 즉, 도 7(a) 및 (b)에 나타낸 바와 같이, 절연부(35)는 제1~ 제3절연층(3 a~3 c)을 둘러싸도록, 기재(2)의 하면의 가장 자리부를 따라서 사각형의 틀 모양으로 형성되어 있다. 이러한 구성에 의해, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합(적층)한 상태에서, 시트재(1)의 가장자리에서 기재(2)와 배선 기판(110)의 실장면(101)이 직접 접촉하는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 기재(2)와 배선 기판(110) 사이에서의 본의가 아닌 단락을 방지하여 신뢰성이 높은 전자 소자(10)를 얻을 수 있다. The sheet member 1 of the fifth embodiment is the same as that of the first embodiment except that the sheet member 1 has the insulating
또한, 전자 기판(100)의 리사이클 시에, 시트재(1)를 전자 기판(100)으로부터 떼어낼 때, 시트재(1)의 절연부(35)가 형성된 부분을 견지함으로써, 떼어내는 조작의 계기가 되어, 그 떼어내는 조작을 용이하게 실시할 수 있게 된다. 즉, 시트재(1)의 절연부(35)가 설치된 부분은 시트재(1)가 적층된 전자 기판(100)으로부터 시트재(1)를 분리할 때에 파지되는 파지부를 구성한다. 특히, 도 7(a)에 나타내는 구성에서는, 절연부(35)가 기재(2)의 가장 자리부를 따라서 틀 모양으로 형성되어 있기 때문에, 시트재(1) 사방의 어느 개소로부터도, 떼어내는 조작을 개시할 수 있다. When the sheet member 1 is removed from the
이러한 절연부(35)의 구성 재료는 상기 제1실시형태의 절연층(3)으로 꼽은 경질 수지와 마찬가지의 것을 이용하는 것이 바람직하다. 절연부(35)를 경질 수지로 구성함으로써, 절연부(35)가 배선 기판(110)의 실장면(101)에 접합되는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 시트재(1)를 전자 기판(100)으로부터 떼어낼 때에, 시트재(1)의 절연부(35)가 형성된 부분을 보다 용이하고, 확실히 파지시킬 수 있다. As the constituent material of such an insulating
또한, 절연부(35)의 평균 두께는 절연층(3)의 평균 두께보다 작게 설정되어 있는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 절연부(35)를 배선 기판(110)의 실장면(101)에 가볍게 접촉한 상태로 할 수 있다. 이 때문에, 시트재(1)를 전자 기판(100)으로부터 떼어낼 때에, 시트재(1)의 절연부(35)가 형성된 부분을 파지시키기 더욱 쉬워진다. It is preferable that the average thickness of the insulating
또한, 이러한 절연부(35)는, 예를 들면, 절연층(3)과 마찬가지의 방법으로 형성할 수 있고, 절연층(3)과 동일한 공정으로 형성해도 좋고, 절연층(3)과는 다른 공정으로 형성하도록 해도 좋다. The insulating
이상과 같은 제5실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. In the fifth embodiment as described above, the same actions and effects as those of the first embodiment are exhibited.
또한, 도 8에 나타낸 바와 같이, 기재(2)에, 그 가장 자리부를 따라서, 서로 간격을 두어 형성한 복수의 이부(耳部)(24)를 마련하고, 각 이부(24)의 하면에 절연부(35)를 마련하도록 해도 좋다. 즉, 기재(2)의 가장 자리부를 따라서, 서로 간격을 두어 복수의 절연부(35)를 마련하도록 해도 좋다. 이러한 구성에 의하면, 전자 기판(100)을 전자 기기의 케이스 내에, 이부(24)를 접어 구부린 상태로 수납할 수 있게 된다. 이 때문에, 전자 기기의 조립 작업에서 이부(24)가 방해가 되는 것을 방지할 수 있다. 8, the
또한, 전자 기판(100)의 리사이클 시에 떼어내는 조작의 계기로 하는 관점에서는, 이부(24)(절연부(35))를 1개만 마련하도록 해도 좋다. Also, from the viewpoint of an operation of detaching the
<제6실시형태>≪ Sixth Embodiment &
다음으로, 본 발명의 제6실시형태에 대해 설명한다. Next, a sixth embodiment of the present invention will be described.
도 9는 제6실시형태의 전자 소자의 단부의 구성을 나타내는 종단면도이다. 이하, 제6실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 9 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. 9 is a longitudinal sectional view showing the configuration of an end portion of an electronic device according to the sixth embodiment. Hereinafter, the sixth embodiment will be described, but differences from the first embodiment will be mainly described, and description of the same matters will be omitted. In the following description, the upper side in Fig. 9 is referred to as " upper " and the lower side is referred to as " lower "
도 9(a)에 나타낸 바와 같이, 제6실시형태의 시트재(1)는 금속막으로 구성된 기재(2)와, 기재(2)의 하면(한쪽의 면)에 설치된 절연층(3)을 가지는 2층 구성이다. 또한, 그랜드 배선(113)의 상면에는, 그랜드 배선(113)의 긴 방향을 따라서, 복수의 도전성 핀(114)이 소정의 간격으로 설치되어 있다. 각 도전성 핀(114)은 침선(針先)(정부(頂部))를 윗쪽으로 향해서 배치되어 있다. 9A, the sheet member 1 of the sixth embodiment comprises a
이러한 구성에 의하면, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 적층할 때에, 기재(2)의 노출 영역(2a)을 도전성 핀(114)에 의해 꿰뚫어, 그랜드 배선(113)에 접촉시킨다. 이것에 의해, 기재(2)를 접지함과 동시에, 시트재(1)와 전자 기판(100)을 고정할 수 있다. 따라서, 본 실시형태에서는, 그랜드 배선(113)과 도전성 핀(114)에 의해 그랜드부가 구성되어 있다. According to this structure, when the sheet material 1 is laminated on the
또한, 도전성 핀(114)은 그랜드 배선(113)과 일체적으로 형성해도 좋다. 또한, 그랜드 배선(113)을 생략하고, 도전성 핀(114)을 직접 접지해도 좋다. 이러한 도전성 핀(114)은, 제1실시형태의 도전성 입자(22)로 꼽은 금속과 마찬가지의 것을 이용해 형성할 수 있다. Further, the
또한, 도 9(b)에 나타낸 바와 같이, 기재(2)의 노출 영역(2a)을 그랜드 배선(113)에 접촉시킨 후, 노출 영역(2a)을 도전성 핀(114)에 의해 배선 기판(110)(기판(111))을 향해서 자통하도록 구성해도 좋다. 9 (b), after the exposed
이상과 같은 제6실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. 또한, 시트재(1)는, 제1~ 제5실시형태의 시트재(1)와 마찬가지의 구성이어도 좋은 것은 말할 필요도 없다. In the sixth embodiment as described above, the same actions and effects as those of the first embodiment are exhibited. It is needless to say that the sheet material 1 may have the same configuration as that of the sheet material 1 of the first to fifth embodiments.
<제7실시형태>≪ Seventh Embodiment &
다음으로, 본 발명의 제7실시형태에 대해 설명한다. Next, a seventh embodiment of the present invention will be described.
도 10은 제7실시형태의 시트재의 구성(전자 기판에 접합되기 전 상태)을 나타내는 확대 단면도이다. 이하, 제7실시형태에 대해 설명하지만, 상기 제1실시형태와의 차이점을 중심으로 설명하고, 마찬가지의 사항에 대해서는, 그 설명을 생략한다. 또한, 이하에서는, 설명의 형편상, 도 10 중 상측을 「상」, 하측을 「하」라고 한다. 10 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of the sheet member of the seventh embodiment (a state before bonding to the electronic substrate). Hereinafter, the seventh embodiment will be described, but differences from the first embodiment will be mainly described, and a description of the same matters will be omitted. In the following description, the upper side in Fig. 10 is referred to as " upper " and the lower side is referred to as " lower "
제7실시형태의 시트재(1)는 기재(2)의 구성이 다른 것 이외에는 상기 제1실시형태와 같다. 즉, 도 10에 나타낸 바와 같이, 제7실시형태의 기재(2)는, 절연층(3)에 접촉하여 설치되는 하층(제1부분)(2X)과, 이 하층(2X) 상(절연층(3)과 반대측)에 설치된 상층(제2부분)(2Y)을 가지고 있다. The sheet member 1 of the seventh embodiment is the same as the first embodiment except that the structure of the
하층(2X)은 수지(제1수지)(25)와, 이 수지(25)에 분산된 도전성 입자(제1도전성 입자)(26)를 함유하고, 상층(2Y)은 수지(제2수지)(21)와, 이 수지(21)에 분산된 도전성 입자(제2도전성 입자)(22)를 함유한다. 또한, 도전성 입자(22)의 상층(2Y) 중 함유량이, 도전성 입자(25)의 하층(2X) 중 함유량보다 많아지도록 설정되어 있다. The
이러한 구성에 의해, 상층(2Y)에는, 높은 전자파 실드성을 발휘시킬 수 있음과 동시에, 하층(2X)에는, 수지(25)의 종류 등에 따라 점착성을 부여할 수 있다. 따라서, 본 실시형태의 시트재(1)를 전자 기판(100)에 적층할 때, 하층(2X)의 점착성을 이용함으로써, 시트재(1)(기재(2))의 노출 영역(2a)을 그랜드 배선(113)에 점착하여 고정할 수 있다. With this structure, high electromagnetic shielding properties can be exhibited in the
이 때문에, 제1실시형태와 같이, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 대해서 가열 압착하는 실시를 생략하는 것, 즉, 작업자의 수작업으로 시트재(1)를 전자 기판(100)에 점착할 수 있다. 따라서, 전자 기판(100)의 생산 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 가열 압착하는 실시를 생략할 수 있기 때문에, 이 때의 가열에 의해 반도체 칩(120)이 열화 하는 것을 방지할 수 있어, 보다 신뢰성이 높은 전자 소자(10)를 얻을 수 있다. Therefore, it is possible to omit the step of heating and pressing the sheet member 1 to the
수지(25)로서는, 하층(2X)에 의해 높은 점착성을 부여하는 관점에서는, 유리 전이 온도가 0℃ 이하의 수지(고무를 포함함)가 바람직하고, 유리 전이 온도가 -10℃ 이하의 수지(고무를 포함함)가 보다 바람직하고, 유리 전이 온도가 -20℃ 이하의 수지(고무를 포함함)가 더욱 바람직하다. 이러한 수지(고무를 포함함)의 구체예로서는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지와 같은 각종 수지, 천연고무, 합성고무와 같은 각종 고무, 스티렌 블록 공중합체와 같은 각종 열가소성 엘라스토머 등을 들 수 있다. 또한, 하층(2X)은 상기 제1실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 경화제를 함유해도 좋다. As the
하층(2X)은 등방 도전성 또는 이방 도전성 중 어느 도전성을 가지고 있어도 좋지만, 이방 도전성을 가지는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 상층(2Y)에 흐르는 전류를 하층(2X)을 개재시켜 그랜드 배선(113)에 의해 원활히 전할 수 있어 기재(2)(시트재(1))의 전자파 실드 효과가 보다 적합하게 발휘된다. 수지(25)에 분산되는 도전성 입자(26)로서는, 상기 제1실시형태에서 기재한 도전성 입자(22)와 마찬가지의 종류 및 평균입경의 입자를 이용할 수 있다. The
도전성 입자(26)의 형상도, 상기 제1실시형태에서 기재한 도전성 입자(22)와 마찬가지의 형상으로 할 수 있지만, 수지상 또는 구상인 것이 바람직하다. 수지상 또는 구상의 도전성 입자(26)이면, 그 하층(2X) 중 함유량이 비교적 적어도, 하층(2X)에 필요하고 충분한 도전성을 부여할 수 있다. 또한, 도전성 입자(26)의 하층(2X) 중 함유량을 소량으로 함으로써, 하층(2X)의 점착성을 보다 향상할 수 있다. 게다가, 수지상 또는 구상의 도전성 입자(26)를 이용함으로써, 하층(2X)에 이방 도전성을 부여하기 쉬워진다. 또한, 수지상의 도전성 입자(26) 및 구상의 도전성 입자(26)는 이들 중 어느 한쪽만을 이용해도 좋고, 쌍방을 조합해 이용해도 좋다. The shape of the
도전성 입자(26)의 하층(2X) 중 함유량은, 수지(25)의 100중량부에 대해서 1~100중량부인 것이 바람직하고, 10~50중량부인 것이 보다 바람직하다. 도전성 입자(26)의 하층(2X) 중 함유량을 상기 범위로 함으로써, 하층(2X)에 필요하고 충분한 도전성을 부여할 수 있어 기재(2)의 전자파 실드 효과를 충분히 높일 수 있다. 또한, 수지(25)와 도전성 입자(26)를 포함하는 수지 조성물의 유동성이 높아져, 하층(2X)을 형성하기 보다 쉬워지므로 바람직하다. The content of the
한편, 하층(2X) 상에 설치된 상층(2Y)이 함유하는 수지(21) 및 도전성 입자(22)는 상기 제1실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 구성으로 할 수 있다. 또한, 상층(2Y)은 상기 제1실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 경화제를 함유해도 좋다. On the other hand, the
상층(2Y)도, 등방 도전성 또는 이방 도전성 중 어느 도전성을 가지고 있어도 좋지만, 등방 도전성을 가지는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 상층(2Y)에서 확실히 전자파를 포착하여, 변환된 전류를 신속히 하층(2X)에 전할 수 있다. 특히, 하층(2X)을 상층(2Y)의 등방 도전성과 다른 도전성인 이방 도전성으로 함으로써, 하층(2X)과 상층(2Y)에 다른 역할을 분담시킬 수 있어, 기재(2)(시트재(1))의 전자파 실드 효과가 보다 적합하게 발휘되게 된다. The
상층(2Y)에 등방 도전성을 부여하는 관점에서는, 도전성 입자(22)의 형상은, 도전성 입자(26)와 다른 형상(특히, 플레이크상)인 것이 바람직하다. 플레이크상의 도전성 입자(22)이면, 상층(2Y)은 도전성 입자(22)를 다량으로 함유할 수 있어 충분한 등방 도전성을 가질 수 있다. From the viewpoint of imparting isotropic conductivity to the
도전성 입자(22)의 상층(2Y) 중의 함유량은, 수지(21)의 100중량부에 대해서 100~1500중량부인 것이 바람직하고, 100~1000중량부인 것이 보다 바람직하다. 도전성 입자(22)의 상층(2Y) 중의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 상층(2Y)에 필요하고 충분한 도전성을 부여할 수 있어, 기재(2)의 전자파 실드 효과를 충분히 높일 수 있다. 또한, 수지(21)와 도전성 입자(21)를 포함하는 수지 조성물의 유동성이 높아져, 상층(2Y)을 형성하기 보다 쉬워지므로 바람직하다. The content of the
또한, 본 실시형태의 기재(2)에 있어서, 하층(2X)의 평균 두께를 Tx[㎛]로 하고, 상층(2Y)의 평균 두께 Ty[㎛]로 했을 때, 이러한 비 Ty/Tx는, 특히 한정되지 않지만, 1~7.5 정도인 것이 바람직하고, 2~5 정도인 것이 보다 바람직하다. 비 Ty/Tx를 상기 범위로 함으로써, 보다 높은 전자파 실드 효과를 발휘하는 기재(2)를 얻을 수 있다. 구체적으로는, 하층(2X)의 평균 두께는, 0.5~150 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 1.5~25 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하고, 상층(2Y)의 평균 두께는, 1.5~350 ㎛ 정도인 것이 바람직하고, 3.5~75 ㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. Further, in the
또한, 상층(2Y)은 상기 제3 및 제6실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 금속막으로 구성해도 좋다. The
이러한 기재(2)의 하면(전자 기판(100) 측의 면)에는, 절연층(3)이 설치되어 있다. 이 절연층(3)은 상기 제1 또는 제2실시형태에서 기재한 것과 마찬가지의 구성으로 할 수 있는 것 이외에 상기 상층(2Y)과 마찬가지의 수지(21)와 경화제를 함유하는 수지 조성물을 이용해 형성할 수 있다. 또한, 절연층(3)은 점착성을 가지고 있어도, 가지지 않아도 좋다. An insulating
상술한 바와 같이, 본 실시형태의 시트재(1)는 바람직하게는 작업자의 수작업으로 전자 기판(100)에 점착된다. 이 때, 절연층(3)이 점착성을 가지면, 시트재(1)의 전자 기판(100)에 대한 위치 결정을 용이하게 실시할 수 있어, 전자 소자(10)의 생산 효율을 보다 향상시킬 수 있는 한편, 절연층(3)이 점착성을 가지지 않으면, 일단 시트재(1)를 전자 기판(100)에 점착해도 전자 기판(100)으로부터 떼어내기 쉽고, 시트재(1)의 전자 기판(100)에 대한 위치 수정을 용이하게 실시할 수 있다. As described above, the sheet member 1 of the present embodiment is preferably adhered to the
또한, 하층(2X), 상층(2Y) 및 절연층(3) 중 적어도 1개의 층이 반경화 상태 및/또는 겔 상태인 경우, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 고정(적층)한 후, 이러한 상태의 층을 후 경화시켜도 좋다. 이것에 의해, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 접합할 수 있음과 동시에, 시트재(1)의 기계적 강도를 향상시킬 수도 있다. The sheet member 1 is fixed (laminated) on the
예를 들면, 하층(2X)을, 유리 전이 온도가 0℃ 이하의 수지(고무를 포함함)와, 상기 제1실시형태에서 기재한 바와 같은 비교적 저온에서 경화 반응을 진행시킬 수 있는 제1경화제와, 이 제1경화제보다 높은 온도에서 경화 반응을 진행시킬 수 있는 제2경화제와, 도전성 입자(26)를 함유하는 수지 조성물을 이용해 형성하면, 시트재(1)의 사용 전에, 제1경화제의 작용에 의해 하층(2X)을 겔 상태(반고체 상태)로 하고, 시트재(1)를 전자 기판(100)에 고정(적층)한 후의 후경화에 의해, 제2경화제의 작용에 의해 하층(2X)을 고체 상태로 할 수 있다. For example, the
또한, 시트재(1)는 상기 제1실시형태와 마찬가지로 하여, 하드 코트층(4), 상층(2Y), 하층(2X) 및 절연층(3)을, 순차로, 각층을 구성하는 수지 조성물을 도공에 의해 형성해 제조할 수 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 하층(2X)이 점착성을 가지기 때문에, 시트재(1)는, 미리 하드 코트층(4), 상층(2Y) 및 하층(2X)이 적층된 적층체를 작성해 두어, 별도로 작성한 절연층(3)을 적층체의 하층(2X)에 점착함으로써 제조해도 좋다. The sheet material 1 is obtained by sequentially forming the hard coat layer 4, the
이상과 같은 제7실시형태에서도, 상기 제1실시형태와 마찬가지의 작용·효과가 발휘된다. In the seventh embodiment as described above, the same operations and effects as those of the first embodiment are exhibited.
또한, 하층(2X)과 상층(2Y)의 사이에는, 1개 이상의 임의의 목적의 중간층을 마련해도 좋다. 이러한 중간층으로서는, 예를 들면, 하층(2X)과 상층(2Y)의 밀착성을 향상시키기 위한 밀착층, 상기 제3실시형태의 금속막(23) 등을 들 수 있다. 중간층으로서 밀착층을 마련하는 경우, 이러한 밀착층은, 예를 들면, 하층(2X)을 구성하는 수지 조성물과 상층(2Y)을 구성하는 수지 조성물의 혼합물로 구성하는 것이 바람직하다. Further, at least one intermediate layer of any desired purpose may be provided between the
이상, 본 발명의 전자 소자 및 시트재를 도시의 실시형태에 근거해 설명했지만, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 전자 소자 및 시트재를 구성하는 각부는, 마찬가지의 기능을 발휘할 수 있는 임의의 구성의 것으로 치환할 수 있다. 또한, 임의의 구성물이 부가되어 있어도 좋다. The electronic element and the sheet member of the present invention have been described based on the embodiments described above, but the present invention is not limited thereto. For example, the constituent parts of the electronic element and the sheet member can be replaced with any constitution capable of exhibiting similar functions. In addition, an optional component may be added.
또한, 전자 소자 및 시트재는, 상기 제1~ 제7실시형태 중 임의의 구성을 조합해도 좋다. 또한, 상기 각 실시형태의 시트재는, 하드 코트층(보호층)을 가지지만, 하드 코트층(보호층)은 필요에 따라서 마련하면 좋고, 생략할 수도 있다. 또한, 그랜드부는 시트재의 기재를 접지(기준 전위로 접속)할 수 있으면 좋고, 그 형태나 형상은, 특히 한정되는 것은 아니다. The electronic element and the sheet member may be combined with any of the first to seventh embodiments. The sheet material of each of the above embodiments has a hard coat layer (protective layer), but a hard coat layer (protective layer) may be provided if necessary, and may be omitted. Further, the ground portion is not particularly limited as long as the base material of the sheet material can be grounded (connected with a reference electric potential), and its shape and shape are not particularly limited.
또한, 시트재는, 1개의 절연층을 구비하고, 이 1개의 절연층에서 모든 전자 부품을 가리는 구성이어도 좋고, 1개의 시트재로 1개의 전자 부품을 가리는 구성이 되고 있어도 좋다. The sheet material may have a single insulating layer and cover all the electronic parts in the single insulating layer or may be configured to cover one electronic part with one sheet material.
*또한, 시트재를 구성하는 각부(각층)에는, 전자 기판에 접합(적층)할 때에, 약간 연장되는 개소도 존재하지만, 각부의 두께를 평균치(평균 두께)로서 규정했을 경우, 그 값은, 전자 기판에 접합되는 전후에 거의 같다. The corner portions (layers) constituting the sheet member also have portions that extend slightly when joined (laminated) to the electronic substrate. However, when the thickness of each portion is defined as an average value (average thickness) Almost the same before and after bonding to the electronic substrate.
(산업상의 이용 가능성)(Industrial availability)
본 발명의 전자 소자는 실장면을 구비하는 배선 기판과, 상기 배선 기판의 상기 실장면 상에 실장된 복수의 전자 부품을 구비하는 전자 기판과, 상기 전자 기판에 적층되고 도전성을 구비하는 시트상의 기재와, 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 설치되고 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 구비하는 시트재와, 상기 시트재의 상기 기재를 접지함과 동시에, 상기 시트재와 상기 전자 기판을 고정하는 그랜드부를 가진다. 이것에 의해, 전자 부품으로부터의 발열의 제거가 용이하고, 박형이고 신뢰성이 높은 전자 소자를 제공할 수 있다. 따라서, 본 발명은, 산업상의 이용 가능성을 가진다. An electronic element of the present invention includes an electronic board including a wiring board having a mounting surface, a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board, and a sheet-like substrate And at least one insulating layer provided on the electronic substrate side of the substrate and having a size including at least one of the electronic components; a grounding member for grounding the substrate of the sheet member, And a ground portion for fixing the ash and the electronic substrate. As a result, it is possible to provide an electronic device which is easy to remove heat from electronic components and is thin and highly reliable. Therefore, the present invention has industrial applicability.
1 시트재
2 기재
2a 노출 영역
2X 하층
2Y 상층
20 본체부
21 수지
22 도전성 입자
23 금속막
24 이부
25 수지
26 도전성 입자
3 절연층
3a 제1절연층
3b 제2절연층
3c 제3절연층
31 수지
32 열전도성 입자
33 제1영역
34 제2영역
35 절연부
4 하드 코트층
10 전자 소자
100 전자 기판
110 배선 기판
101 실장면
101a 제1실장 영역
101b 제2실장 영역
101c 제3실장 영역
111 기판
112 배선
113 그랜드 배선
114 도전성 핀
120 반도체 칩 1 sheet material
2 substrate
2a exposed area
2X lower layer
2Y upper layer
20 body part
21 resin
22 conductive particles
23 metal film
24 ebbs
25 resin
26 conductive particles
3 insulating layer
3a First insulation layer
3b second insulating layer
3c third insulating layer
31 resin
32 thermally conductive particles
33 First area
34 Second area
35 insulation part
4 hard coat layer
10 Electronic devices
100 electronic substrate
110 wiring board
101 room scene
101a First mounting area
101b Second mounting area
101c Third mounting area
111 substrate
112 wiring
113 Grand wiring
114 conductive pin
120 semiconductor chip
Claims (18)
상기 전자 기판에 적층되는 시트재로서, 상기 시트재는 도전성을 구비하는 시트 형상의 기재와 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 설치되고 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 구비하는 시트재 및, 상기 시트재의 상기 기재를 상기 전자 기판에 접지함과 동시에, 상기 시트재와 상기 전자 기판을 고정하는 그랜드부를 가지고,
상기 기재는, 경화성 수지의 경화물과 상기 경화물에 분산된 도전성 입자를 포함하며, 상기 그랜드부에 직접 접합됨과 동시에, 전자파 실드 효과를 발현하는 단층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 전자 소자.
An electronic board having a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board,
Wherein the sheet member comprises a sheet-shaped substrate having conductivity, at least one insulating layer provided on the electronic substrate side of the substrate and having a size including at least one of the electronic components, And a ground portion that grounds the base material of the sheet material to the electronic substrate and fixes the sheet material and the electronic substrate,
Wherein the base material is composed of a single layer including a cured product of a curable resin and conductive particles dispersed in the cured product and directly bonded to the ground portion and exhibiting an electromagnetic shielding effect.
상기 기재의 평균 두께는 5 ~ 100 ㎛인, 전자 소자.
The method according to claim 1,
Wherein an average thickness of the substrate is 5 to 100 占 퐉.
상기 그랜드부는 상기 배선 기판의 상기 실장면 측에 설치된 그랜드 배선을 포함하고,
상기 절연층은 평면시(視)로 상기 기재보다도 작은 사이즈를 구비하고,
상기 기재는 상기 절연층으로부터 노출되는 노출 영역이, 상기 그랜드 배선에 접합하고 있는 전자 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the ground portion includes a ground wiring provided on the side of the mounting surface of the wiring board,
Wherein the insulating layer has a smaller size than the base material when viewed in a plan view,
Wherein the substrate has an exposed region exposed from the insulating layer bonded to the ground wiring.
상기 배선 기판의 상기 실장면은 상기 그랜드 배선에 의해 구획되고, 소정의 상기 전자 부품을 실장하는 복수의 실장 영역을 구비하고,
상기 적어도 1개의 절연층은 상기 복수의 실장 영역에 대응해서 설치된 절연층을 포함하는 전자 소자.
The method of claim 3,
Wherein the mounting surface of the wiring board is divided by the ground wiring and has a plurality of mounting areas for mounting predetermined electronic components,
Wherein the at least one insulating layer includes an insulating layer provided corresponding to the plurality of mounting regions.
상기 기재는 상기 경화성 수지의 경화물과 상기 도전성 입자를 포함하는 본체부, 및
상기 본체부와 접촉하여 설치되는 금속막을 구비하는 전자 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the substrate comprises a body portion including the cured product of the curable resin and the conductive particles,
And a metal film provided in contact with the main body portion.
상기 기재는 상기 절연층에 접촉하여 설치되고, 제1도전성 입자를 함유하는 제1부분과, 상기 제1부분의 상기 절연층과 반대 측에 설치되고, 상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량보다 많은 양으로 제2도전성 입자를 함유하는 제2부분을 가지는, 전자 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the substrate is provided in contact with the insulating layer and includes a first portion containing first conductive particles and a second portion provided on the side opposite to the insulating layer of the first portion, And a second portion containing the second conductive particles in an amount larger than the content of the second conductive particles.
상기 절연층은 수지와, 상기 수지에 분산되고, 상기 수지의 열전도율보다도 열전도율이 높은 열전도성 입자를 포함하는 전자 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the insulating layer comprises a resin and thermally conductive particles dispersed in the resin and having a thermal conductivity higher than that of the resin.
상기 기재의 상기 전자 기판과 반대 측에 설치되고, 상기 기재를 보호하는 기능을 구비하는 보호층을 더 가지는 전자 소자.
The method according to claim 1,
Further comprising a protective layer provided on a side of the substrate opposite to the electronic substrate and having a function of protecting the substrate.
상기 시트재는, 상기 기재의 가장 자리부의 전자 기판 측에 상기 절연층과 분리하여 설치되는 적어도 1개의 절연부를 더 가지는, 전자 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the sheet member further has at least one insulating portion provided separately from the insulating layer on the electronic substrate side of the edge portion of the substrate.
상기 기재의 가장 자리부 및 상기 절연부는, 상기 전자 기판으로부터 상기 시트재를 분리할 때에 파지되는 파지부를 구성하는 것인, 전자 소자.
10. The method of claim 9,
Wherein an edge portion of the substrate and the insulating portion constitute a grip portion gripped when the sheet member is separated from the electronic substrate.
상기 시트재는 그랜드부를 개재시켜 상기 전자 기판에 고정하도록 하여 사용되고,
상기 시트재를 상기 전자 기판에 적층한 상태에서, 상기 그랜드부에 접촉하는 도전성을 구비하는 시트형상의 기재, 및
상기 시트재를 상기 전자 기판에 적층한 상태에서, 상기 기재의 상기 전자 기판 측에 위치하고, 적어도 1개의 상기 전자 부품을 포함하는 사이즈를 구비하는 적어도 1개의 절연층을 가지며,
상기 기재는, 경화성 수지의 경화물과, 상기 경화물에 분산된 도전성 입자를 포함하고, 상기 그랜드부에 직접 접합됨과 동시에, 전자파 실드 표과를 발현하는 단층으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 시트재.
A sheet member laminated on an electronic board including a wiring board having a mounting surface and a plurality of electronic components mounted on the mounting surface of the wiring board,
Wherein the sheet member is used by being fixed to the electronic substrate via a ground portion,
A sheet-like base material having conductivity that contacts the ground portion in a state where the sheet material is laminated on the electronic substrate, and
At least one insulating layer located on the electronic substrate side of the substrate and having a size including at least one electronic component in a state where the sheet member is laminated on the electronic substrate,
Wherein the substrate is composed of a cured product of a curable resin and conductive particles dispersed in the cured product and is formed of a single layer directly bonded to the ground portion and exhibiting electromagnetic shielding tabular portions.
상기 기재의 평균 두께는 5 ~ 100 ㎛인, 시트재.
12. The method of claim 11,
Wherein the average thickness of the substrate is 5 to 100 占 퐉.
상기 기재는, 상기 절연층에 접촉하여 설치되며 점착성을 구비하는 제1부분과, 상기 제1부분 상에 상기 절연층과 반대 측으로 설치된 제2부분을 가지는 시트재.
12. The method of claim 11,
Wherein the base material has a first portion provided in contact with the insulating layer and having adhesiveness and a second portion provided on the first portion so as to be opposite to the insulating layer.
상기 제1부분은 제1수지와 상기 제1수지에 분산된 제1도전성 입자를 함유하고, 상기 제2부분은 제2수지와 상기 제2수지에 상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량보다 많은 양으로 분산된 제2도전성 입자를 함유하는, 시트재.
14. The method of claim 13,
Wherein the first portion contains a first resin and first conductive particles dispersed in the first resin, and the second portion comprises a second resin and a second resin, wherein the content of the first portion of the first conductive particles Wherein the second conductive particles are dispersed in a larger amount.
상기 제1도전성 입자의 상기 제1부분 중의 함유량은, 상기 제1수지 100 중량부에 대해서 1 ~ 100 중량부인 시트재.
15. The method of claim 14,
Wherein the content of the first conductive particles in the first portion is 1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the first resin.
상기 제2도전성 입자의 상기 제2부분 중의 함유량은, 상기 제2수지 100 중량부에 대해서 100 ~ 1500 중량부인 시트재.
15. The method of claim 14,
Wherein the content of the second conductive particles in the second portion is 100 to 1500 parts by weight based on 100 parts by weight of the second resin.
상기 제1도전성 입자의 형상과, 상기 제2도전성 입자의 형상이 상이한 시트재.
15. The method of claim 14,
Wherein the shape of the first conductive particles and the shape of the second conductive particles are different.
상기 제1도전성 입자의 형상은, 수지(樹枝)상 또는 구상인 시트재.
15. The method of claim 14,
The shape of the first conductive particles may be resin (tree) or spherical.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2013-249809 | 2013-12-03 | ||
JP2013249809 | 2013-12-03 | ||
PCT/JP2014/079573 WO2015083491A1 (en) | 2013-12-03 | 2014-11-07 | Electronic element and sheet material |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020167012862A Division KR20160074559A (en) | 2013-12-03 | 2014-11-07 | Electronic element and sheet material |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180059952A true KR20180059952A (en) | 2018-06-05 |
KR102150258B1 KR102150258B1 (en) | 2020-09-01 |
Family
ID=53273262
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020167012862A KR20160074559A (en) | 2013-12-03 | 2014-11-07 | Electronic element and sheet material |
KR1020187014727A KR102150258B1 (en) | 2013-12-03 | 2014-11-07 | Electronic element and sheet material |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020167012862A KR20160074559A (en) | 2013-12-03 | 2014-11-07 | Electronic element and sheet material |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6623513B2 (en) |
KR (2) | KR20160074559A (en) |
CN (1) | CN105794331A (en) |
TW (1) | TW201524284A (en) |
WO (1) | WO2015083491A1 (en) |
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- 2014-11-07 CN CN201480065951.5A patent/CN105794331A/en active Pending
- 2014-11-07 WO PCT/JP2014/079573 patent/WO2015083491A1/en active Application Filing
- 2014-11-07 TW TW103138729A patent/TW201524284A/en unknown
- 2014-11-07 KR KR1020167012862A patent/KR20160074559A/en active Application Filing
- 2014-11-07 KR KR1020187014727A patent/KR102150258B1/en active IP Right Grant
- 2014-11-07 JP JP2014226595A patent/JP6623513B2/en active Active
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Publication number | Publication date |
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WO2015083491A1 (en) | 2015-06-11 |
JP6623513B2 (en) | 2019-12-25 |
KR20160074559A (en) | 2016-06-28 |
KR102150258B1 (en) | 2020-09-01 |
TW201524284A (en) | 2015-06-16 |
CN105794331A (en) | 2016-07-20 |
JP2015130484A (en) | 2015-07-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2018101004592; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20181109 Effective date: 20200228 |
|
S901 | Examination by remand of revocation | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
GRNO | Decision to grant (after opposition) | ||
GRNT | Written decision to grant |