KR102400969B1 - Electronic component mounting board and electronic device - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일 실시 예에 따른 전자 부품 탑재 기판(51)은, 기판(20)과, 상기 기판(20)의 적어도 한쪽 면에 탑재되는 전자 부품(30)과, 상기 전자 부품(30)의 윗면에서 상기 기판(20)에 걸쳐 피복하고, 상기 전자 부품(30)의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 상기 기판(20)의 적어도 일부를 피복하는 전자파 차폐 부재(1)를 포함한다. 전자파 차폐 부재(1)는 바인더 수지 및 도전성 필러를 함유하는 전자파 차폐층(5)을 갖는다. 전자파 차폐 부재(1)의 표층의 첨도(kurtosis)는 JIS B0601;2001에 따라 측정하였을 때 1 내지 8이다.The electronic component mounting board 51 according to an embodiment of the present invention includes a board 20 , an electronic component 30 mounted on at least one surface of the board 20 , and an upper surface of the electronic component 30 . and an electromagnetic wave shielding member 1 covering at least a portion of the substrate 20 and a side surface of a stepped portion formed by mounting the electronic component 30 and covering the substrate 20 in the substrate 20 . The electromagnetic wave shielding member 1 has an electromagnetic wave shielding layer 5 containing a binder resin and a conductive filler. The kurtosis of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member 1 is 1 to 8 when measured according to JIS B0601;2001.
Description
본 발명은 전자파 차폐 부재를 갖는 전자 부품 탑재 기판에 관한 것이다. 또한, 전자 부품 탑재 기판의 전자파 차폐 부재를 형성하는데 적합한 전자파 차폐 적층체 및 상기 전자 부품 탑재 기판이 장착되는 전자 장치를 포함한다.The present invention relates to an electronic component mounting board having an electromagnetic wave shielding member. It also includes an electromagnetic wave shielding laminate suitable for forming an electromagnetic wave shielding member of an electronic component mounting board and an electronic device on which the electronic component mounting board is mounted.
IC 칩 등을 탑재한 전자 부품은, 외부로부터의 자기장과 전파에 의한 오작동을 방지하기 위해 일반적으로 전자파 차폐 구조가 형성되어 있다. 예를 들어, 등방성 도전성 접착제와 이방 도전성 접착제로 이루어진 도전성 접착 필름을 전자 부품이 탑재된 기판에 피복하는 방법이 개시되어 있다(특허 문헌 1). 또한, 도전성 접착제 층 및 특정 저장 탄성률을 갖는 기재 층을 갖는 전자파 차폐용 필름을, 전자 부품이 탑재된 기판에 코팅하는 방법(특허 문헌 2)과, 등방성 도전성을 나타내는 비늘 모양 입자 함유 층을 갖는, 특정 인장 파단 변형을 갖는 전자파 차폐 부재를 전자 부품이 탑재된 기판에 피복하는 방법(특허 문헌 3)이 개시되어 있다.Electronic components on which IC chips and the like are mounted are generally provided with an electromagnetic wave shielding structure in order to prevent malfunction due to external magnetic fields and radio waves. For example, a method is disclosed in which a conductive adhesive film composed of an isotropic conductive adhesive and an anisotropic conductive adhesive is coated on a substrate on which electronic components are mounted (Patent Document 1). In addition, a method for coating an electromagnetic wave shielding film having a conductive adhesive layer and a substrate layer having a specific storage elastic modulus on a substrate on which an electronic component is mounted (Patent Document 2), and having a layer containing scaly particles exhibiting isotropic conductivity, A method (patent document 3) is disclosed in which an electromagnetic wave shielding member having a specific tensile rupture strain is coated on a substrate on which an electronic component is mounted.
전자 부품이 탑재된 기판에 대하여, 예를 들면 다음과 같은 방법으로 전자파 차폐 부재가 피복되어 전자 부품 탑재 기판이 제조된다. 먼저, 도 18에 나타낸 바와 같이, 기판(120)에 탑재된 복수의 전자 부품(130)의 윗면에, 전자파 차폐용 부재(102)와 이형성 쿠션 부재(103)의 적층체인 전자파 차폐용 적층체(104)를 놓는다. 이어서, 도 19에 나타낸 바와 같이, 전자파 차폐용 적층체(104)를 열 압착시켜 전자 부품(130) 및 기판(120)의 일부를 전자파 차폐 부재(101)에 의해 피복한다. 그리고 도 20과 같이 이형성 쿠션 부재(103)를 박리한 다음 도 21에 나타낸 바와 같이, 기판(120)을 단위 제품으로 나누는 공정을 실시한다. 이 나누는 공정은 예를 들어, 전자파 차폐 부재(101)를 다이싱 대(141)에 접촉시켜, 이 맞닿는 상태를 유지하면서 기판(120) 측으로부터 전자 부품(130)의 간극인 홈(125)에 대향하는 위치에 대해 절단 공구(142)에 의해 기판(120) 및 전자파 차폐 부재(101)를 절단함으로써 이루어진다.With respect to the board|substrate on which an electronic component is mounted, the electromagnetic wave shielding member is coat|covered by the following method, for example, and an electronic component mounting board|substrate is manufactured. First, as shown in FIG. 18, on the upper surface of the plurality of
최근 전자 부품의 고성능화의 엄격한 요구에 따라 전자 부품 탑재 기판의 전자파 차폐 부재(101)의 성능을 고품질화하는 기술이 요구되고 있다.In recent years, in accordance with the stringent demand for high performance of electronic components, a technique for improving the performance of the electromagnetic
본 발명은 상기 배경을 감안하여 이루어진 것이며, 안정적인 전자파 차폐 부재를 갖는 전자 부품 탑재 기판 및 전자 기기를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above background, and an object of the present invention is to provide an electronic component mounting board and an electronic device having a stable electromagnetic wave shielding member.
본 발명자들이 예의 검토를 거듭한 결과, 다음의 예에서, 본 발명의 과제를 해결하고 있는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of the present inventors repeating earnest examination, in the following example, it discovered that the subject of this invention was solved, and came to complete this invention.
[1] : 기판과, 상기 기판의 적어도 한쪽 면에 탑재된 전자 부품과, 상기 전자 부품 윗면에서 상기 기판에 걸쳐 피복하고, 상기 전자 부품의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 상기 기판의 적어도 일부를 피복하는 전자파 차폐 부재를 구비하고, 상기 전자파 차폐 부재는 바인더 수지와 도전성 필러를 포함하는 전자파 차폐층을 가지며, 상기 전자파 차폐 부재의 표층의 JISB0601 ; 2001에 의해 측정한 첨도(kurtosis, 尖度)가 1~8인 전자 부품 탑재 기판.[1]: a substrate, an electronic component mounted on at least one surface of the substrate, and at least a part of the substrate and a side surface of the step portion formed by mounting the electronic component from the upper surface of the electronic component to the substrate JISB0601 of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member provided with the electromagnetic wave shielding member for covering, the said electromagnetic wave shielding member has an electromagnetic wave shielding layer containing a binder resin and a conductive filler; An electronic component mounting board whose kurtosis measured by 2001 is 1 to 8.
[2] : 상기 전자파 차폐 부재의 표층의 JISB0601 ; 2001에 의해 측정한 제곱 평균 평방근 높이 Rq가 0.3~1.7㎛인, [1]에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[2]: JISB0601 of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member; The electronic component mounting board|substrate as described in [1] whose root mean square height Rq measured by 2001 is 0.3-1.7 micrometers.
[3] : 상기 도전성 필러는 덴드라이트 모양 및 바늘 형상의 도전성 필러 중 적어도 하나를 함유하는, [1] 또는 [2]에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[3]: The electronic component mounting substrate according to [1] or [2], wherein the conductive filler contains at least one of dendrite-shaped and needle-shaped conductive fillers.
[4] : 기판과, 상기 기판의 적어도 한쪽 면에 탑재된 전자 부품과, 상기 전자 부품 윗면에서 상기 기판에 걸쳐 피복하고, 상기 전자 부품의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 상기 기판의 적어도 일부를 피복하는 전자파 차폐 부재를 구비하고,[4]: a substrate, an electronic component mounted on at least one surface of the substrate, and a side surface of a step formed by mounting the electronic component and at least a part of the substrate covered over the substrate from the upper surface of the electronic component provided with an electromagnetic wave shielding member to cover;
상기 전자파 차폐 부재는, 바인더 수지와 도전성 필러를 포함하는 전자파 차폐층을 가지며, 또한 압입 탄성률이 1~10GPa인 전자 부품 탑재 기판.The electromagnetic wave shielding member includes an electromagnetic wave shielding layer comprising a binder resin and a conductive filler, and an electronic component mounting substrate having an indentation modulus of 1 to 10 GPa.
[5] : 상기 전자파 차폐 부재의 표층의 물 접촉각이 70~110°인, [4]에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[5]: The electronic component mounting substrate according to [4], wherein a water contact angle of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member is 70 to 110°.
[6] : 상기 전자파 차폐 부재의 JIS K5600에 따른 압력 쿠커 시험 후의 테이프 밀착 시험에서, 상기 전자 부품상의 상기 전자파 차폐 부재가 23/25 이상의 크로스 컷 잔존률을 나타내는, [4] 또는 [5]에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[6]: In the tape adhesion test after the pressure cooker test according to JIS K5600 of the electromagnetic shielding member, the electromagnetic shielding member on the electronic component exhibits a cross-cut residual ratio of 23/25 or more, in [4] or [5] The described electronic component mounting board.
[7] : 상기 전자파 차폐 부재의 표층의 JISB0601 ; 2001에 의해 측정한 첨도가 1~8인, [4]~[6]의 어느 하나에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[7]: JISB0601 of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member; The electronic component mounting board according to any one of [4] to [6], wherein the kurtosis measured in 2001 is 1 to 8.
[8] : 상기 전자파 차폐 부재의 표면의 제곱 평균 평방근 높이가 0.4~1.6㎛의 범위인, [4]~[7]의 어느 하나에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[8]: The electronic component mounting board according to any one of [4] to [7], wherein the root mean square height of the surface of the electromagnetic wave shielding member is in the range of 0.4 to 1.6 µm.
[9] : 상기 전자파 차폐 부재의 마르텐스 경도가 50~312N/㎟인, [4]~[8]의 어느 하나에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[9]: The electronic component mounting board according to any one of [4] to [8], wherein the Martens hardness of the electromagnetic wave shielding member is 50 to 312 N/
[10] : 상기 바인더 수지는, 열경화성 수지와, 상기 열경화성 수지의 반응성 관능기와 가교 가능한 관능기를 가지고 있는 경화성 화합물을 함유하는 바인더 수지 전구체를 열 압착하여 얻어지는 것을 특징으로 하는, [4]~[9]의 어느 하나에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[10]: The binder resin is obtained by thermocompressing a thermosetting resin and a binder resin precursor containing a curable compound having a reactive functional group and a crosslinkable functional group of the thermosetting resin, characterized in that it is obtained by thermocompression, [4] to [9] The electronic component mounting board according to any one of ].
[11] : 상기 전자파 차폐 부재의 막 두께가 10~200㎛인, [4]~[10]의 어느 하나에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[11]: The electronic component mounting board according to any one of [4] to [10], wherein the electromagnetic wave shielding member has a film thickness of 10 to 200 µm.
[12] : 기판과, 상기 기판의 적어도 한쪽 면에 탑재된 전자 부품과, 상기 전자 부품 윗면에서 상기 기판에 걸쳐 피복하고, 상기 전자 부품의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 상기 기판의 적어도 일부를 피복하는 전자파 차폐 부재를 구비하고, 상기 전자파 차폐 부재는 바인더 수지와 도전성 필러를 포함하는 전자파 차폐층을 가지며, 상기 전자파 차폐 부재의 표층의 제곱 평균 평방근 높이 Rq가 0.05㎛ 이상 0.3㎛ 미만인 전자 부품 탑재 기판.[12]: a substrate, an electronic component mounted on at least one surface of the substrate, and a side surface of a step formed by mounting the electronic component and at least a portion of the substrate covered over the substrate from the upper surface of the electronic component Mounting an electronic component comprising an electromagnetic wave shielding member covering the electromagnetic wave shielding member, the electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding layer comprising a binder resin and a conductive filler, wherein the root mean square height Rq of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member is 0.05 µm or more and less than 0.3 µm Board.
[13] : 상기 전자파 차폐 부재의 표층의 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq가 0.05~0.4인, [12]에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[13]: The electronic component mounting substrate according to [12], wherein the root mean square inclination Rdq of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member is 0.05 to 0.4.
[14] : 상기 전자파 차폐 부재의 표층의 물 접촉각이 90~130°인, [12] 또는 [13]에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[14]: The electronic component mounting substrate according to [12] or [13], wherein a water contact angle of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member is 90 to 130°.
[15] : 상기 도전성 필러는 덴드라이트 모양 및 바늘 형상의 도전성 필러 중 적어도 하나 및 비늘 조각 형상의 도전성 필러를 함유하는, [12]~[14]의 어느 하나에 기재된 전자 부품 탑재 기판.[15]: The electronic component mounting substrate according to any one of [12] to [14], wherein the conductive filler contains at least one of dendrite-shaped and needle-shaped conductive fillers and a scaly conductive filler.
[16] : [1]~[15]의 어느 하나에 기재된 전자 부품 탑재 기판이 탑재된 전자 기기.[16]: An electronic device on which the electronic component mounting board according to any one of [1] to [15] is mounted.
본 발명에 의하면, 신뢰성이 높은 전자파 차폐 부재를 갖는 전자 부품 탑재 기판 및 전자 기기를 제공할 수 있다는 우수한 효과를 나타낸다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the outstanding effect of being able to provide the electronic component mounting board|substrate and electronic device which have a highly reliable electromagnetic wave shielding member is shown.
[도 1] 실시 형태 A1, B1, C1에 따른 전자 부품 탑재 기판의 일례를 나타내는 모식적 사시도.
[도 2] 도 1의 II-II 절단부 단면도.
[도 3] 실시 형태 A1, B1, C1에 따른 전자 부품 탑재 기판의 다른 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 4] 실시 형태 A1, B1, C1에 따른 전자파 차폐용 적층체의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 5] 실시 형태 A1, B1, C1에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 6] 실시 형태 A1, B1, C1에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 7] 실시 형태 A1, B1, C1에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 8] 실시 형태 A1, B1, C1에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 9] 전자파 차폐 부재 표층 첨도의 변동 요인을 설명하기 위한 개략적인 설명도.
[도 10] 전자파 차폐 부재의 표층 첨도의 변동 요인을 설명하기 위한 개략적인 설명도.
[도 11] 실시 형태 A2, B2, C2에 따른 전자파 차폐용 적층체의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 12] 실시 형태 A3, B3, C3에 따른 전자파 차폐용 적층체의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 13] 실시 형태 A4, B4, C4에 따른 전자파 차폐용 적층체의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 14A] 실시 형태 A4, B4, C4에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 14B] 실시 형태 A4, B4, C4에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 14C] 실시 형태 A4, B4, C4에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 15A] 실시 형태 A5, B5, C5에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 15B] 실시 형태 A5, B5, C5에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 15C] 실시 형태 A5, B5, C5에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 16A] 변형 예에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 16B] 변형 예에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 16C] 변형 예에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 16D] 변형 예에 따른 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 17] 본 실시 예에 따른 전자 부품 탑재 기판의 일례를 나타내는 모식적 단면도.
[도 18] 전자 부품 등에 전자파 차폐 부재를 피복하는 공정을 설명하는 모식적 단면도.
[도 19] 전자 부품 등에 전자파 차폐 부재를 피복하는 공정을 설명하는 모식적 단면도.
[도 20] 전자 부품 등에 전자파 차폐 부재를 피복하는 공정을 설명하는 모식적 단면도.
[도 21] 전자 부품 등에 전자파 차폐 부재를 피복하는 공정을 설명하는 모식적 단면도.
[도 22] 본 실시 형태 B3에 따른 전자 부품 탑재 기판 측면의 광학 현미경 사진.
[도 23] 본 실시 형태 B1에 따른 전자 부품 탑재 기판 측면의 광학 현미경 사진.
[도 24] 본 실시 형태 C에 따른 전자 부품 탑재 기판의 평가 방법의 설명도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS A schematic perspective view which shows an example of the electronic component mounting board|substrate which concerns on Embodiment A1, B1, and C1.
[FIG. 2] A cross-sectional view of the II-II section of FIG. 1 .
Fig. 3 is a schematic cross-sectional view showing another example of the electronic component mounting board according to the embodiments A1, B1, and C1.
Fig. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the electromagnetic wave shielding laminate according to the embodiments A1, B1, and C1.
Fig. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the manufacturing process of the electronic component mounting substrate according to the embodiments A1, B1, and C1.
Fig. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of the manufacturing process of the electronic component mounting board according to the embodiments A1, B1, and C1.
Fig. 7 is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of the electronic component mounting substrate according to the embodiments A1, B1, and C1.
Fig. 8 is a schematic cross-sectional view showing an example of the manufacturing process of the electronic component mounting substrate according to the embodiments A1, B1, and C1.
[FIG. 9] A schematic explanatory diagram for explaining the fluctuation factors of the surface layer kurtosis of the electromagnetic wave shielding member.
[FIG. 10] A schematic explanatory diagram for explaining a factor of variation in surface kurtosis of an electromagnetic wave shielding member.
Fig. 11 is a schematic cross-sectional view showing an example of the electromagnetic wave shielding laminate according to the embodiments A2, B2, and C2.
Fig. 12 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate for electromagnetic wave shielding according to the embodiments A3, B3, and C3.
Fig. 13 is a schematic cross-sectional view showing an example of the electromagnetic wave shielding laminate according to the embodiments A4, B4, and C4.
Fig. 14A is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process for an electronic component mounting substrate according to the embodiments A4, B4, and C4.
Fig. 14B is a schematic cross-sectional view showing an example of the manufacturing process of the electronic component mounting board according to the embodiments A4, B4, and C4.
Fig. 14C is a schematic cross-sectional view showing an example of the manufacturing process of the electronic component mounting substrate according to the embodiments A4, B4, and C4.
Fig. 15A is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of an electronic component mounting substrate according to the embodiments A5, B5, and C5.
Fig. 15B is a schematic cross-sectional view showing an example of the manufacturing process of the electronic component mounting board according to the embodiments A5, B5, and C5.
Fig. 15C is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process for an electronic component mounting substrate according to the embodiments A5, B5, and C5.
Fig. 16A is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of an electronic component mounting substrate according to a modification.
Fig. 16B is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process for an electronic component mounting substrate according to a modification.
Fig. 16C is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process for an electronic component mounting substrate according to a modification.
[FIG. 16D] A schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of an electronic component mounting board according to a modification.
17 is a schematic cross-sectional view showing an example of an electronic component mounting board according to the present embodiment.
Fig. 18 is a schematic cross-sectional view for explaining a step of coating an electromagnetic wave shielding member on an electronic component or the like.
Fig. 19 is a schematic cross-sectional view for explaining a step of coating an electromagnetic wave shielding member on an electronic component or the like.
Fig. 20 is a schematic cross-sectional view for explaining a step of coating an electromagnetic wave shielding member on an electronic component or the like.
Fig. 21 is a schematic cross-sectional view for explaining a step of coating an electromagnetic wave shielding member on an electronic component or the like.
[Fig. 22] An optical micrograph of the side of the electronic component mounting substrate according to the present embodiment B3.
[ Fig. 23 ] An optical micrograph of the side surface of the electronic component mounting substrate according to the present embodiment B1.
[ Fig. 24] An explanatory view of an evaluation method of an electronic component mounting substrate according to the present embodiment C. [Fig.
이하, 본 발명을 적용한 실시 형태의 일례에 대해 설명한다. 또한, 본 명세서에서 특정하는 숫자는 실시 형태 또는 실시 예에 개시된 방법에 의해 구해지는 값이다. 또한, 본 명세서에서 특정 수치 "A~B"는 수치 A와 수치 A보다 큰 값 및 수치 B와 수치 B보다 작은 값을 충족 범위를 말한다. 또한, 본 명세서에서 시트는, JIS에서 정의하는 시트뿐만 아니라 필름도 포함하는 것으로 한다. 설명을 명확하게 하기 위해 다음의 설명 및 도면은 적절하게 단순화되어 있다. 본 명세서에 나오는 각종 성분은 특히 주석하지 않으면 각각 독립적으로 일종의 단독으로 두 종 이상을 병용해도 좋다. 또한, 설명의 편의상, 다른 실시 형태에서도 동일한 요소 부재는 동일한 부호를 붙인다.Hereinafter, an example of embodiment to which this invention is applied is demonstrated. In addition, the number specified in this specification is a value calculated|required by the method disclosed in embodiment or an Example. In addition, in the present specification, the specific numerical values "A to B" refer to a range that satisfies a value greater than the numerical value A and the numerical value A and a value smaller than the numerical value B and the numerical value B. In addition, in this specification, the sheet|seat shall include not only the sheet|seat defined by JIS but a film. For clarity of explanation, the following description and drawings have been suitably simplified. The various components shown in the present specification may be used in combination of two or more types independently of each other, unless particularly noted. In addition, for the convenience of description, the same code|symbol is attached|subjected to the same element member also in another embodiment.
본 발명에 따른 전자 부품 탑재 기판으로서, 실시 형태 A-실시 형태 C에 따른 전자 부품 탑재 기판을 공개한다.As an electronic component mounting board according to the present invention, an electronic component mounting board according to Embodiment A-C is disclosed.
[실시 형태 A][Embodiment A]
실시 형태 A의 전자 부품 탑재 기판은, 기판과, 이 기판의 적어도 한쪽 면에 탑재된 전자 부품과, 이 전자 부품 윗면에서 상기 기판에 걸쳐 피복하고, 상기 전자 부품의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 상기 기판의 적어도 일부를 피복하는 전자파 차폐 부재를 구비한다. 상기 전자파 차폐 부재는 바인더 수지와 도전성 필러를 포함하는 전자파 차폐층을 갖는다. 그리고 이 전자파 차폐 부재의 표층의 JISB0601 ; 2001에 따라 측정한 첨도를 1-8로 한다.The electronic component mounting board of Embodiment A includes a board, an electronic component mounted on at least one surface of the board, and a side surface of a stepped portion formed by mounting the electronic component from the upper surface of the electronic component to the substrate, and and an electromagnetic wave shielding member covering at least a portion of the substrate. The electromagnetic wave shielding member has an electromagnetic wave shielding layer including a binder resin and a conductive filler. And JISB0601 of the surface layer of this electromagnetic wave shielding member; Let the kurtosis measured according to 2001 be 1-8.
종래의 기술에 의하면, 전자 부품 탑재 기판의 전자파 차폐 부재(101) 위에 도 20의 (i)에 나타낸 바와 같은 잔사가 묻어있을 수 있다. 이것은 전자파 차폐 부재(101)를 형성하기 위해 사용하는 전자파 차폐용 적층체(104)의 구성 부재인 이형성 쿠션 부재(103)에 유래하는 것이다. 전자파 차폐용 적층체(104)를 열 압착한 후 이형성 쿠션 부재(103)를 박리하는 단계에서, 전자 부품(130)의 간극에 형성된 홈 (125)에서 앵커 효과에 의한 것이다. 이형성 쿠션 부재(103)의 토막이다. 이 토막은 단위 제품으로 나누는 공정을 거쳐도 잔사로 남아있는 요인이 된다. 이러한 전자파 차폐 부재(101)의 잔사는 외관 불량뿐만 아니라 전자 기기의 전자파 차폐성의 신뢰성 저하를 초래하고 회로 기판에 실장할 때의 걸림돌이 될 수 있다.According to the prior art, residues as shown in FIG. 20(i) may be deposited on the electromagnetic
관련 문제를 해결하는 방법으로, 홈(125)의 앵커 효과를 줄이기 위해, 전자 부품(130) 사이의 간극의 폭을 넓게 하고, 전자 부품(130)의 높이를 낮게 하는 방법을 생각할 수 있다. 그러나 이 방법으로는 전자 부품(130)의 형상이 한정되고 복잡한 요철을 갖는 전자 부품(130)에는 적용할 수 없다는 문제가 있다. 또, 기판(120)에 탑재하는 전자 부품(130) 사이의 간극을 좁힐 수 있다면, 하나의 기판(120)에서 얻어지는 전자 부품(130)의 수량을 향상시키고 생산의 효율화에 공헌할 수 있다. 또, 전자파 차폐 부재(101)는 전자 부품(130)의 반송 및 실장 시에 전자파 차폐 부재(101)의 마찰 손상에 의한 신뢰성 저하를 막기 위해, 내 마찰손상성이 높은 것이 요구되고 있다.As a method of solving the related problem, in order to reduce the anchor effect of the
실시 형태 A에 따른 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 설계 자유도가 높고 잔사 부착을 억제하고, 또한 내 마찰손상성이 뛰어나 안정적인 전자파 차폐 부재를 갖는 전자 부품 탑재 기판을 제공할 수 있다. 따라서, 설계 자유도를 높이고 싶은 전자 부품 탑재 기판 혹은 마찰손상되기 쉬운 민감한 전자 부품 탑재 기판의 용도에 특히 적합하다.According to the electronic component mounting substrate according to Embodiment A, it is possible to provide an electronic component mounting substrate having a stable electromagnetic wave shielding member that has a high degree of design freedom, suppresses adhesion of residues, and is excellent in friction damage resistance. Therefore, it is particularly suitable for the use of an electronic component mounting board for which the degree of design freedom is to be increased, or a sensitive electronic component mounting board which is prone to friction damage.
[실시 형태 B][Embodiment B]
실시 형태 B의 전자 부품 탑재 기판은, 기판과, 이 기판의 적어도 한쪽 면에 탑재된 전자 부품과, 상기 전자 부품 윗면에서 상기 기판에 걸쳐 피복하고, 상기 전자 부품의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 상기 기판의 적어도 일부를 피복하는 전자파 차폐 부재를 구비한다. 이 전자파 차폐 부재는 바인더 수지와 도전성 필러를 포함 전자파 차폐층을 가지며, 또한 압입 탄성률을 1~10GPa로 한다.The electronic component mounting board of Embodiment B includes a board, an electronic component mounted on at least one surface of the board, and a side surface of a stepped portion formed by mounting the electronic component from an upper surface of the electronic component to the substrate, and and an electromagnetic wave shielding member covering at least a portion of the substrate. This electromagnetic wave shielding member has an electromagnetic wave shielding layer containing a binder resin and a conductive filler, and has an indentation modulus of 1 to 10 GPa.
종래의 기술에 의하면, 전자 부품 탑재 기판의 제조 공정의 상술한 단위 제품으로 나누는 공정에서, 전자파 차폐 부재(101)의 절단면을 기점으로 한 전자파 차폐 부재(101)의 벗겨진 버(Burr)가 발생하기 쉽다는 문제가 있다(도 21의 부분 확대도(ii) 참조). 전자파 차폐 부재(101)의 버의 주된 원인은 단위 제품으로 나누는 공정의 다이싱 시의 고압 수세 등이다. 또한, 제조 후 전자 부품 탑재 기판은, 높은 열과 습도 조건에서 전자파 차폐 부재(101)와 기판(120) 등과의 밀착성이 저하되는 경우가 있다. 이러한 전자파 차폐 부재(101)의 버의 발생 및 밀착성 저하는 전자 기기의 전자파 차폐성의 신뢰성 저하를 초래하고 회로 기판에 탑재할 때의 걸림돌이 될 수 있다.According to the prior art, in the step of dividing the above-described unit product in the manufacturing process of the electronic component mounting board, peeling burrs of the electromagnetic
실시 형태 B에 따른 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 버의 발생을 억제할 수 있고, 압력 쿠커 시험(PCT) 내성이 뛰어나 신뢰성이 높은 전자파 차폐 부재를 갖는 전자 부품 탑재 기판을 제공할 수 있다. 따라서, 단위 제품으로 나누는 공정에서 고압 수세(水洗) 등의 조건이 심한 용도, 혹은 높은 열과 습도 조건에서의 내구성이 요구되는 전자 부품 탑재 기판의 용도에 특히 적합하다.According to the electronic component mounting board|substrate concerning Embodiment B, generation|occurrence|production of a burr can be suppressed and it is excellent in pressure cooker test (PCT) resistance, and it can provide the electronic component mounting board|substrate which has a highly reliable electromagnetic wave shielding member. Therefore, it is particularly suitable for use in severe conditions such as high-pressure water washing in the process of dividing the product into unit products, or for the use of electronic component mounting boards requiring durability in high heat and humidity conditions.
[실시 형태 C][Embodiment C]
실시 형태 C의 전자 부품 탑재 기판은, 기판과, 이 기판의 적어도 한쪽 면에 탑재된 전자 부품과, 상기 전자 부품 윗면에서 상기 기판에 걸쳐 피복하고, 상기 전자 부품의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 상기 기판의 적어도 일부를 피복하는 전자파 차폐 부재를 구비한다. 이 전자파 차폐 부재는 바인더 수지와 도전성 필러를 포함 전자파 차폐층을 가지며, 전자파 차폐 부재의 표층의 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 0.05㎛ 이상 0.3㎛ 이하로 한다.The electronic component mounting board of Embodiment C includes: a board; an electronic component mounted on at least one surface of the board; and an electromagnetic wave shielding member covering at least a portion of the substrate. This electromagnetic wave shielding member has an electromagnetic wave shielding layer containing a binder resin and a conductive filler, and the root mean square height Rq of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member is set to 0.05 µm or more and 0.3 µm or less.
종래의 기술에 의하면, 단위 제품으로 나누는 공정에서 다이싱 테이프(도시하지 않음)를 통해 전자파 차폐 부재(101)를 다이싱 대(141)에 접촉시켜(도 21 참조), 이 맞닿는 상태를 유지하면서 기판(120) 측에서 전자 부품(130)의 간극인 홈(125)에 대향하는 위치에 절단 공구(142)에 의해 기판(120) 및 전자파 차폐 부재(101)를 절단하는 경우가 있다. 이 경우 단위 제품으로 나눈 후 다이싱 테이프 및 전자파 차폐 부재(101)를 박리하는 공정을 거쳐 전자 부품 탑재 기판이 제조된다. 그런데 단위 제품으로 나눈 후 다이싱 테이프를 박리할 때 전자파 차폐 부재(101)에 이 발생할 수 있다. 또한, 전자파 차폐 부재의 일부가 박리해 버리는 경우도 있다. 또한, 냉열 사이클 시험(-50℃~125℃)을 실시하면 전자파 차폐 부재에 균열을 낼 수 있다.According to the prior art, in the process of dividing the product into unit products, the electromagnetic
이러한 전자파 차폐 부재(101)의 들뜸, 균열은 외관 불량뿐만 아니라 다양한 문제를 일으킬 수 있다. 예를 들어, 전자파 차폐 부재(101)와 케이스를 도전성 접착제 및 도전성 점착제로 그라운드 접지할 때, 접착력과 접속 저항이 악화하고 전자 기기의 전자파 차폐성의 신뢰성 저하를 초래하여 회로 기판에 실장할 때의 걸림돌이 될 수 있다. 또한 시간에 따른 신뢰성에 문제가 있을 수 있다.Lifting and cracking of the electromagnetic
실시 형태 C에 따른 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 피복성이 우수한 신뢰성이 높은 전자파 차폐 부재를 갖는 전자 부품 탑재 기판을 제공할 수 있다. 따라서, 다이싱 테이프를 이용하여 전자파 차폐 부재와 다이싱 대를 접하는 공정을 포함하는 용도, 혹은 냉열 사이클 시험을 통과하는 것이 필요한 용도, 예를 들어, 자동차에 탑재하는 전자 부품 탑재 기판과 같은 혹독한 온도 변화에 견딜 수 있는 성능이 요구되는 용도에 특히 적합하다.According to the electronic component mounting board|substrate which concerns on Embodiment C, the electronic component mounting board|substrate which has a highly reliable electromagnetic wave shielding member excellent in covering property can be provided. Therefore, applications including a step of contacting the electromagnetic wave shielding member and the dicing table using a dicing tape, or applications requiring passing a cooling/heating cycle test, for example, harsh temperatures such as electronic component mounting substrates mounted in automobiles It is particularly suitable for applications requiring the ability to withstand changes.
[실시 형태 A][Embodiment A]
이하, 실시 형태 A에 따른 전자 부품 탑재 기판의 구체적인 예에 대해 설명한다.Hereinafter, a specific example of the electronic component mounting board|substrate which concerns on Embodiment A is demonstrated.
[실시 형태 A1][Embodiment A1]
<전자 부품 탑재 기판><Board with Electronic Components>
도 1에 실시 형태 A1에 따른 전자 부품 탑재 기판의 일례를 나타내는 모식적 사시도를, 도 2에 도 1의 II-II 절단부 단면도를 나타낸다. 전자 부품 탑재 기판(51)에는 기판(20) 전자 부품(30) 및 전자파 차폐 부재(1) 등이 있다.Fig. 1 is a schematic perspective view showing an example of an electronic component mounting board according to Embodiment A1, and Fig. 2 is a cross-sectional view taken along section II-II of Fig. 1 . The electronic
기판(20)은 전자 부품(30)을 탑재할 수 있으며, 또한 후술하는 열 압착 공정에 견딜 수 있는 기판이면 되고, 임의로 선택할 수 있다. 예를 들어 동박 등으로 이루어지는 도전 패턴이 표면 또는 내부에 형성된 워크 보드, 실장 모듈 기판, 프린트 배선판 또는 빌드 업 법 등에 의해 형성된 빌드 업 기판을 들 수 있다. 또한, 필름이나 시트 형태의 플렉시블 기판을 사용해도 된다. 상기 도전성 패턴은 예를 들면, 전자 부품(30)과 전기적으로 연결하기 위한 전극· 배선 패턴(도시하지 않음), 전자파 차폐 부재(1)와 전기적으로 연결하기 위한 접지 패턴(22)이다. 기판(20) 내부에는 전극·배선 패턴, 비아(도시하지 않음) 등을 임의로 설치할 수 있다. 기판(20)은 단단한 기판뿐만 아니라 플렉시블 기판일 수 있다.The
전자 부품(30)은, 도 1의 예에서는 기판(20)에 5×4개 어레이 형상으로 배치되어 있다. 그리고 기판(20) 및 전자 부품(30)의 노출면을 피복하도록 전자파 차폐 부재(1)가 설치되어 있다. 즉, 전자파 차폐 부재(1)는 전자 부품(30)에 의해 형성되는 요철에 따라 피복되어 있다. 전자파 차폐 부재(1)에 의해, 전자 부품(30) 및/또는 기판(20)에 내장된 신호 배선 등에서 발생하는 불필요한 복사를 차폐하고, 또한 외부로부터의 자기장과 전파에 의한 오동작을 방지할 수 있다.In the example of FIG. 1, the
전자 부품(30)의 개수, 배치, 형상 및 종류는 임의로 할 수 있다. 어레이 형태로 전자 부품(30)을 배치하는 형태 대신에 전자 부품(30)을 원하는 위치에 배치할 수 있다. 전자 부품 탑재 기판(51)을 단위 모듈로 나누는 경우, 도 2에 나타낸 바와 같이, 기판 윗면에서 기판의 두께 방향으로 단위 모듈을 구획하도록 하프-다이싱 홈(25)을 설치해도 된다. 또한, 실시 형태 A1에 따른 전자 부품 탑재 기판은 단위 모듈로 나누기 전의 기판 및 단위 모듈로 나누어진 후 기판을 모두 포함한다. 즉, 도 1, 도 2와 같은 여러 단위 모듈(전자 부품(30))이 탑재된 전자 부품 탑재 기판(51) 외에, 도 3과 같은 단위 모듈로 나누어진 후 전자 부품 탑재 기판(52)도 포함한다. 물론 단위 제품으로 나누는 공정을 거치지 않고, 기판(20) 상에 1개의 전자 부품(30)을 탑재하여 전자파 차폐 부재로 피복한 전자 부품 탑재 기판도 포함된다. 즉, 실시 형태 A1에 따른 전자 부품 탑재 기판은 기판 상에 적어도 하나의 전자 부품이 탑재되어 있으며, 전자 부품의 탑재에 의해 형성된 단차부의 적어도 일부에 전자파 차폐 부재가 피복된 구조를 포괄한다.The number, arrangement, shape, and type of the
전자 부품(30)은, 반도체 집적 회로 등의 전자 소자가 절연체에 의해 일체 적으로 피복된 부품 전반을 포함한다. 예를 들어, 집적 회로(도시하지 않음)가 형성된 반도체 칩(31)(도 3 참조)이 봉지재(몰드 수지 32)에 의해 몰드 성형되는 양태가 있다. 기판(20)과 반도체 칩(31)은, 이 맞닿는 영역을 통해, 또는 본딩 와이어(33), 솔더 볼(도시하지 않음) 등을 통해 기판(20)에 형성된 배선 또는 전극(21)과 전기적으로 연결된다. 전자 부품은 반도체 칩 외에, 인덕터, 써미스터, 커패시터 및 저항 등을 예시할 수 있다.The
실시 형태 A1에 관한 전자 부품(30) 및 기판(20)은 공지의 양태에 대해 널리 적용할 수 있다. 도 3의 예에서, 반도체 칩(31)은 내부 비아(23)를 통해 기판(20)의 뒷면에 솔더 볼(24)이 연결되어 있다. 또한 기판(20)에는 전자파 차폐 부재(1)와 전기적으로 연결하기 위한 접지 패턴(22)이 형성되어 있다. 또한, 후술하는 실시 형태 A4와 같이, 단위 제품으로 나누어진 후 전자 부품 탑재 기판 또는 단위 제품으로 나누지 않는 전자 부품 탑재 기판에, 여러 전자 부품(30)이 탑재되어 있어도 좋다(도 14C 참조). 또한, 전자 부품(30) 내에는 단수 또는 복수의 전자 소자 등을 탑재할 수 있다.The
<전자파 차폐 부재><Electromagnetic wave shielding member>
전자파 차폐 부재(1)는, 기판(20) 위에 탑재된 전자 부품(30)의 윗면에 전자파 차폐용 적층체를 올려놓고 열 압착에 의해 전자 부품(30) 및 기판(20)을 피복함으로써 얻어진다. 전자파 차폐 부재(1)는 전자 부품(30) 윗면에서 기판(20)에 걸쳐 피복하고, 전자 부품(30)의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 기판(20)의 적어도 일부를 피복한다. 전자파 차폐 부재(1)는, 차폐 효과를 충분히 발휘시키기 위해, 기판(20)의 측면 또는 윗면에 노출하는 그라운드 패턴(22) 또는/및 전자 부품(30) 연결용 배선 등의 그라운드 패턴(도시하지 않음)에 연결하는 구성이 바람직하다.The electromagnetic
전자파 차폐 부재(1)는 전자파 차폐용 적층체를 사용하여 형성할 수 있다. 도 4는 전자파 차폐용 적층체의 모식적 단면을 보여준다. 실시 형태 A1에 따른 전자파 차폐용 적층체(4)는, 전자파 차폐용 부재(2)와 이형성 쿠션 부재(3)로 구성된다. 이 전자파 차폐용 부재(2)는 실시 형태 A1에서는 도전성 접착제 층(6)의 단층으로 구성된다. 도전성 접착제 층(6)은 열 압착에 의해 전자 부품(30) 및 기판(20)에 접합되어 전자파 차폐층(5)이 형성된다. 실시 형태 A1에서는 이 전자파 차폐층(5)이 전자파 차폐 부재(1)로서 기능을 한다.The electromagnetic
전자파 차폐용 부재(2)는, 후술하는 실시 형태 A2처럼 2층 이상의 도전성 접착제 층의 적층체로부터 형성하거나, 실시 형태 A3과 같이 도전성 접착제 층과 하드 코트 층의 적층체로부터 형성하거나, 실시 형태 A4와 같이 절연성 접착제 층과 도전성 접착제 층의 적층체로부터 형성하거나 하는 등, 다른 층의 적층체로부터 형성하여도 좋다. 전자파 차폐용 부재(2)를 열 압착하여 얻은 전자파 차폐 부재(1)는, 실시 형태 A2에서는 2층 이상의 전자파 차폐층의 적층체로 구성되고, 실시 형태 A3에서는 전자파 차폐층과 하드 코트 층의 적층체로 구성되고, 실시 형태 A4에서는 절연 층과 전자파 차폐층의 적층체로 구성되어 있다. 따라서 전자파 차폐 부재는 전자파 차폐층과 다른 층의 적층체로 구성될 수 있다.The electromagnetic
전자파 차폐층(5)은 바인더 수지와 도전성 필러가 포함된다. 전자파 차폐층(5) 중의 도전성 필러는 연속적으로 접촉되어 도전성을 나타낸다. 전자파 차폐성을 높이는 관점에서 전자파 차폐층(5)의 시트 저항은 1Ω/□ 이하가 바람직하다.The electromagnetic
전자파 차폐 부재(1)는 그 윗면의 JISB0601 ; 2001에 따라 측정한 첨도를 1-8으로 한다. 첨도는 수학식(1)으로 표현되는 표면 요철 거칠기 곡선을 나타내는 지표이며, 높이 분포의 평탄도, 뾰족함의 정도를 나타낸다.The electromagnetic
여기서, L은 기준 길이이다. 또한, Rq는 제곱 평균 평방근 높이이며, 하나의 축(x 축)에 따른 표면의 높이 변화를 Z(x)로 하여 다음의 수학식(2)으로 표현된다.Here, L is the reference length. In addition, Rq is the root mean square height, and it is expressed by the following Equation (2) by taking the height change of the surface along one axis (x-axis) as Z(x).
첨도는, 제곱 평균 평방근 높이 Rq의 네 제곱에 의해 무차원화된 기준 길이에서, Z(x)의 네 제곱 평균을 나타낸다. 첨도가 3인 경우에는 철부(또는 요부)의 뾰족한 분포가 정규 분포에 가까운 것을 나타낸다. 첨도가 3보다 커짐에 따라, 기준 높이 Rq에 대해 가파르고 날카로운 철부(또는 요부)의 수가 증가하고 첨도가 3보다 작을수록 가파르고 날카로운 철부(또는 요부)의 수가 줄어들 것을 나타낸다.Kurtosis represents the mean of four squares of Z(x), at a reference length dimensioned by the four powers of the root-mean-square height Rq. When the kurtosis is 3, it indicates that the sharp distribution of the convex portion (or the concave portion) is close to the normal distribution. As the kurtosis becomes greater than 3, the number of steep and sharp ridges (or recesses) for a reference height Rq increases, and kurtosis less than 3 indicates that the number of steep and sharp ridges (or recesses) decreases.
제조 방법에 대해서는 후술하지만, 전자 부품(30)을 탑재한 기판에 전자파 차폐용 적층체(4)를 열 압착 후, 전자파 차폐 부재(1) 이형성 쿠션 부재(3)를 박리할 때 하프-다이싱 홈(25)의 이형성 쿠션 부재(3)는 거의 수직으로 찍으면서 당겨 벗겨지게 된다. 투묘 효과에 의해 이형성 쿠션 부재(3)는 끊기기 쉬우므로 이를 억제하는 기술이 요구되고 있다. 본 발명자들이 예의 검토를 거듭한 결과, 전자파 차폐 부재(1)의 접촉 계면의 형상 제어가 중요하며, 이 모양으로 위의 첨도의 범위가 바람직하다는 것을 발견하였다.Although the manufacturing method will be described later, when the electromagnetic
첨도를 8 이하로 하는 것에 의해, 전자 부품(30)의 하프-다이싱 홈(25)에 충전된 이형성 쿠션 부재(3)를 전자파 차폐 부재(1)에서 잘 박리할 수 있다. 이것은 전자파 차폐 부재(1)의 표면 형상의 첨도가 적절하게 되어, 이형성 쿠션 부재(3)와 전자파 차폐 부재(1)의 박리가 쉬워진 것에 의한 것으로 생각된다. 한편, 전자파 차폐 부재(1)의 표층 첨도를 1 이상으로 함으로써, 스틸 울 내성을 향상시킬 수 있다. 그 결과, 내 마찰손상을 높이고 안정적인 전자 부품 탑재 기판을 제공할 수 있다. 전자파 차폐 부재의 첨도의 바람직한 범위는 1.5~6.5이며, 보다 바람직한 범위는 2~4이다.By setting the kurtosis to 8 or less, the
전자파 차폐 부재(1) 표면의 제곱 평균 평방근 높이는 0.4~1.6㎛의 범위로 하는 것이 바람직하고, 0.5~1.5㎛로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.7~1.2㎛로 하는 것이 더욱 바람직하다. 본 명세서에서 첨도와 제곱 평균 평방근 높이는 후술하는 실시 예에 기재된 방법에 의해 구한 값을 말한다.It is preferable that the root mean square height of the surface of the electromagnetic
전자파 차폐 부재(1)의 표면 첨도는 전자파 차폐용 적층체(4) 중의 전자파 차폐용 부재(2)의 제조 과정에 따라 조정할 수 있다. 또한, 전자파 차폐 부재(1)를 형성하기 위한 열 압착 전의 전자파 차폐용 부재의 조성물의 각 성분의 종류와 그 배합량에 의해 조정할 수 있다. 자세한 내용은 후술한다. 또한, 본 발명자들이 검토를 거듭한 결과, 전자파 차폐층으로서 기능할 수 있는 양의 도전성 필러를 배합함으로써, 리플로우 처리 전후에서 첨도 값은 실질적으로 변동하지 않거나 변동하여도 그 변화량은 작다는 것을 확인했다.The surface kurtosis of the electromagnetic
<전자 부품 탑재 기판의 제조 방법><Method for manufacturing electronic component mounting board>
이하, 실시 형태 A1의 전자 부품 탑재 기판의 제조 방법의 한 예를 도 5 내지 도 8을 이용하여 설명한다. 그러나 본 발명의 전자 부품 탑재 기판의 제조 방법은 다음의 제조 방법에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, an example of the manufacturing method of the electronic component mounting board|substrate of Embodiment A1 is demonstrated using FIGS. However, the manufacturing method of the electronic component mounting board|substrate of this invention is not limited to the following manufacturing method.
실시 형태 A1에 따른 전자 부품 탑재 기판(51)의 제조 방법은, (a) 기판에 전자 부품(30)을 탑재하는 공정, [b] 전자 부품(30)가 탑재된 기판(20) 상에 전자파 차폐용 적층체(4)를 적재하는 공정, [c] 전자 부품(30)의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 기판의 노출면의 적어도 일부에 열 압착에 의해 전자파 차폐 부재(1)를 접합하는 공정, [d] 이형성 쿠션 부재(3)를 박리하는 공정, 및 [e] 전자 부품 탑재 기판(51)을 단위 제품으로 나누는 공정을 포함한다. 이하, 각 공정에 대해 설명한다.The manufacturing method of the electronic component mounting board|
[a] 기판에 전자 부품을 탑재하는 공정:[a] The process of mounting the electronic component on the board:
우선, 기판(20)에 전자 부품(30)을 탑재한다. 예를 들어, 기판(20) 위에 반도체 칩(도시하지 않음)을 탑재하고, 반도체 칩이 형성되어 있는 기판(20) 위를 밀봉 수지에 의해 몰드 성형하고, 전자 부품(30) 사이의 위쪽에서 기판(20) 내부까지 도달하도록 봉지 수지 및 기판(20)을 다이싱 등에 의해 하프 커팅한다. 미리 하프 커팅된 기판(20) 위에 전자 부품(30)을 어레이 형상으로 배치하는 방법도 있다. 이러한 공정을 거쳐 예를 들어, 도 5와 같이 전자 부품(30)가 탑재된 기판이 얻어진다. 또한, 전자 부품(30)은 도 5의 예에서는 반도체 칩을 몰드 성형한 일체형을 말하며, 절연체에 의해 보호된 전자 소자 전반을 말한다. 하프 커팅은 기판(20) 내부까지 도달하는 태양 외에, 기판(20)의 표면까지 절단하는 태양이 있다. 또한 기판(20) 전체를 이 단계에서 잘라도 좋다. 이 경우에는 점착테이프 부착 기체(基體) 상에 기판(20)을 적재하고 위치 어긋남이 생기지 않도록 하는 것이 바람직하다. 몰드 성형하는 경우의 봉지 수지의 재료는 특별히 한정되지 않지만, 열경화성 수지가 일반적으로 사용된다. 봉지 수지의 형성 방법은 특별히 한정되지 않고, 인쇄, 라미네이트, 트랜스퍼 성형, 압축, 주형 등을 들 수 있다. 몰딩 성형은 임의로 할 수 있고, 전자 부품(30)의 탑재 방법도 임의로 변경할 수 있다.First, the
[b] 기판 상에 전자파 차폐용 적재하는 공정:[b] Loading process for electromagnetic wave shielding on the substrate:
이어서, 전자 부품(30)이 탑재된 기판(20)을 열 압착하여 용융시켜 피복시키는, 전자파 차폐용 적층체(4)를 준비한다(도 4 참조). 전자파 차폐용 적층체(4)의 도전성 접착제 층(6)이 전자 부품(30) 측이 되도록 전자 부품(30)의 윗면 위에 전자파 차폐용 적층체(4)를 적재한다. 이때, 전자파 차폐용 적층체(4)를 전자 부품(30)의 일부 또는 전면에 임시 부착하여 좋다. 임시 부착은 전자 부품(30)의 적어도 일부의 윗면과 접촉하도록 임시 접합하는 것이며, 도전성 접착제 층(6)이 B 스테이지에서 피착체에 고정되어 있는 상태를 말한다. 박리력으로는 90° 박리 시험에서 카프톤 200에 대한 박리력이 1~5N/cm 정도가 바람직하다. 임시 부착하는 방법으로 전자 부품(30)을 탑재한 기판(20) 상에 전자파 차폐용 적층체(4)를 놓고, 다리미 등의 열원으로 가볍게 전면 또는 끝 부분을 열 압착하여 임시 부착하는 방법을 예시할 수 있다. 제조 설비 또는 기판(20)의 크기 등에, 따라 기판(20)의 영역마다 복수의 전자파 차폐용 적층체(4)를 이용해도 좋다. 또한, 전자 부품(30)마다 전자파 차폐용 적층체(4)를 사용해도 좋다. 제조 공정의 단순화의 관점에서, 기판(20) 상에 탑재된 복수의 전자 부품(30) 전체에 하나의 전자파 차폐용 적층체(4)를 이용하는 것이 바람직하다.Next, a
[c] 전자파 차폐 부재를 형성하는 단계:[c] forming an electromagnetic wave shielding member:
이어서, 전자 부품(30)이 탑재된 기판(20) 상에 전자파 차폐용 적층체(4)를 한 쌍의 프레스 기판(40) 사이에 끼워 열 압착한다(도 6 참조). 전자파 차폐용 적층체(4)는, 도전성 접착제 층(6) 및 이형성 쿠션 부재(3)가 열에 의해 용융되어, 가압에 의해 제조 기판에 형성된 하프 커팅 홈을 따라 연신되어, 전자 부품(30) 및 기판(20)을 따라 피복된다. 도전성 접착제 층(6)은 전자 부품(30)과 기판(20)과 접합되는 동시에 열 압착에 의해 전자파 차폐층(5)으로서 기능한다. 실시 형태 A1에서는 전자파 차폐 부재(1)는 전자파 차폐층(5)의 단층으로 되므로, 도전성 접착제 층(6)을 열 압착한 것이 전자파 차폐 부재(1)인 전자파 차폐층(5)이 된다. 열 압착 후, 열경화를 촉진하는 것 등을 목적으로 별도 가열 처리를 할 수도 있다.Next, on the
전자파 차폐용 적층체(4)를 가열 프레스할 때, 이 전자파 차폐용 적층체(4)와 프레스 기판(40) 사이에, 필요에 따라, 열연화성 부재와 쿠션 종이 등을 이용해도 좋다.When hot-pressing the electromagnetic wave shielding
열 압착 공정의 온도 및 압력은, 전자 부품(30)의 내열성, 내구성, 제조 설비 또는 필요에 따라, 도전성 접착제 층(6)의 피복성을 확보할 수 있는 범위에서 각각 독립적으로 임의로 설정할 수 있다. 압력 범위로는, 한정되지 않지만, 0.1~5.0MPa 정도가 바람직하고, 0.5~2.0MPa의 범위가 보다 바람직하다. 프레스 기판(40)을 릴리스함으로써 도 7과 같은 제조 기판이 얻어진다. 이렇게 하여 전자파 차폐 부재(1)에 의해 전자 부품의 윗면 및 측면과 기판의 노출면이 피복된다.The temperature and pressure of the thermocompression bonding step can be arbitrarily set independently of each other within the range that can ensure the coverability of the conductive
열 압착 공정의 가열 온도는 100℃ 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 110℃ 이상, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상이다. 또한, 상한치로는, 전자 부품(30)의 내열성에 의존하지만, 220℃인 것이 바람직하고, 200℃인 것이 보다 바람직하고, 180℃인 것이 더욱 바람직하다.It is preferable that the heating temperature of a thermocompression-bonding process is 100 degreeC or more, More preferably, it is 110 degreeC or more, More preferably, it is 120 degreeC or more. Moreover, as an upper limit, although it depends on the heat resistance of the
열 압착 시간은, 전자 부품(30)의 내열성, 전자파 차폐 부재(1)에 이용하는 바인더 수지 및 생산 공정 등에 따라 설정할 수 있다. 바인더 수지 전구체로서 열경화성 수지를 사용하는 경우에는 1분~2시간 정도의 범위가 바람직하다. 또한, 열 압착 시간은 1분~1시간 정도가 보다 바람직하다. 이 열 압착에 의해 열경화성 수지는 경화한다. 단, 열경화성 수지는 유동이 가능하다면 열 압착 전에 부분적으로 경화 또는 실질적으로 경화가 완료되어도 좋다.The thermocompression time period can be set according to the heat resistance of the
도전성 접착제 층(6)의 두께는, 전자 부품(30)의 윗면과 측면 및 기판(20)의 노출면에 피복하여 전자파 차폐층(5)을 형성할 수 있는 두께로 한다. 사용하는 바인더 수지 전구체의 유동성 및 전자 부품(30) 사이의 거리 및 크기에 따라 변동될 수 있지만, 일반적으로 10~200㎛ 정도가 바람직하다. 이것에 의해 봉지 수지로의 피복성을 양호하게 하면서, 전자파 차폐성을 효과적으로 발휘할 수 있다.The thickness of the conductive
이형성 쿠션 부재(3)는, 연화하여 도전성 접착제 층(6)의 피복을 촉진하고 전자 부품(30)의 윗면과 측면 및 기판(20)의 노출면을 피복하는 기능을 가짐과 동시에, 박리 공정에서 이형성이 뛰어난 재료를 사용할 수 있다. 이형성 쿠션 부재(3)의 상층에, 필요한 따라, 쿠션재로 기능하는 열연화성 부재를 사용해도 된다. 전자파 차폐 부재(1)의 피복에 의해, 실시 형태 A1의 예에서는 기판(20)에 형성된 그라운드 패턴(22)과 전자파 차폐 부재(1)가 전기적으로 연결된다(도 7 참조).The
도전성 접착제 층(6)은 바인더 수지 전구체와 도전성 필러를 함유한다. 바인더 수지 전구체로는 열가소성 수지, 자기 가교성 수지, 여러 종의 반응성 수지 및 열경화성 수지와 가교제의 혼합물을 예시할 수 있다. 이들은 조합하여 사용해도 좋다. 바인더 수지 전구체로서 전적으로 열가소성 수지를 사용하는 경우에는, 가교 구조를 가지고 있지 않다는 의미에서, 바인더 수지 전구체와 바인더 수지가 실질적으로 동일할 수 있다.The conductive
[d] 이형성 쿠션 부재를 박리하는 공정:[d] Step of peeling the releasable cushion member:
전자파 차폐 부재(1)의 상층에 피복되어있는 이형성 쿠션 부재(3)를 박리한다. 이로 인해 전자 부품(30)을 피복하는 전자파 차폐 부재(1)를 갖는 전자 부품 탑재 기판(51)을 얻는다(도 1, 도 2 참조). 예를 들어, 이형성 쿠션 부재(3)의 박리는 끝 부분에서 사람의 힘으로 벗겨도 좋고, 이형성 쿠션 부재(3)의 바깥면을 흡인하여 전자파 차폐 부재(1)에서 떼어내어도 좋다. 자동화를 통한 수율 향상의 관점에서 흡인에 의한 박리가 바람직하다.The
[e] 단위 제품으로 나누는 공정 :[e] The process of dividing into unit products:
다이싱 블레이드 등의 절삭 공구를 이용하여, 전자 부품 탑재 기판(51)의 단위 제품 영역에 해당하는 위치에서 X 방향 및 Y 방향으로 다이싱한다(도 2 참조). 이러한 공정을 거쳐 전자 부품(30)이 전자파 차폐 부재(1)로 피복되고, 또한 기판(20)에 형성된 그라운드 패턴(22)과 전자파 차폐 부재(1)가 전기적으로 접속된, 단위 제품으로 나누어진 전자 부품 탑재 기판(51)이 얻어진다. 다이싱 방법은 단위 제품으로 나눌 수 있으면 좋고 특별히 한정되지 않는다. 다이싱은 기판(20) 측 또는 전자파 차폐용 적층체(4) 측에서 행해진다.Using a cutting tool such as a dicing blade, dicing is performed in the X direction and the Y direction at a position corresponding to the unit product area of the electronic component mounting board 51 (see FIG. 2 ). Through this process, the
공정(d)에서 이형성 쿠션 부재(3)의 박리는, 기판 윗면에 대해, 예를 들어 90° 각도로 박리되므로, 하프-다이싱 홈(25)에서 이형성 쿠션 부재(3)와 하프-다이싱 홈(25) 측면의 전자파 차폐 부재(1)의 접촉 계면에 큰 마찰이 생긴다. 따라서 전자파 차폐 부재(1)에서 이형성 쿠션 부재(3)를 깨끗이 박리하는 것이 기술적으로 어렵고, 도 20을 사용하여 설명했듯이, 이형성 쿠션 부재(3)가 하프-다이싱 홈(25)에 끊어져 잔사가 남아있을 수 있다. 이 잔사는, 단위 제품으로 나누는 공정 후에도 위치에 따라 잔존하기 때문에, 신뢰성 저하를 초래한다.Since the peeling of the
본 실시 형태 A1에 따르면, 전자파 차폐 부재(1)의 첨도를 1-8로 함으로써, 전자 부품 탑재 기판의 전자파 차폐 부재를 형성하는 공정에서, 전자 부품 탑재 기판에 전자파 차폐용 적층체를 열 압착한 후, 전자파 차폐 부재에 대한 이형성 쿠션 부재의 이형성을 높인다. 또한, 이형성 쿠션 부재와 함께 전자파 차폐 부재의 일부가 박리되어, 전자파 차폐 부재의 일부가 손상되는 현상을 효과적으로 억제할 수 있다. 따라서 신뢰할 수 있는 전자 부품 탑재 기판을 제공할 수 있다. 또한, 기판에 탑재하는 전자 부품 높이의 설계 자유도와, 전자 부품 간의 간극 폭의 설계 자유도를 높일 수 있게 된다.According to the present embodiment A1, by setting the kurtosis of the electromagnetic
<전자파 차폐용 적층체><Laminate for electromagnetic wave shielding>
실시 형태 A1의 전자파 차폐용 적층체는 도 4에서 설명한 바와 같이, 전자파 차폐용 부재(2)와 이형성 쿠션 부재(3)의 2층으로 구성된다. 실시 형태 A1에서는 전자파 차폐용 부재(2)는 단층의 도전성 접착제 층(6)으로 이루어진다. 도전성 접착제 층(6)은 열 압착 공정을 거쳐 전자 부품(30) 및 기판(20)과 접합되어 전자파 차폐층(5)으로서 기능한다.As demonstrated in FIG. 4, the laminated body for electromagnetic wave shield of Embodiment A1 is comprised from the two layers of the
(도전성 접착제 층)(conductive adhesive layer)
도전성 접착제 층(6)은 바인더 수지 전구체와 도전성 필러를 함유하는 수지 조성물로부터 형성된 층이다. 바인더 수지 전구체는 적어도 열연화성 수지를 포함한다. 열연화성 수지는 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 활성 광선 경화성 수지를 예시할 수 있다. 열경화성 수지 및 활성 광선 경화성 수지는 일반적으로 반응성 관능기를 가진다. 열경화성 수지를 이용하는 경우는 경화성 화합물 및 열경화 보조제를 병용할 수 있다. 또한, 활성 광선 경화성 수지를 이용하는 경우에는 광중합 개시제, 증감제 등을 병용할 수 있다. 제조 공정의 간편성에서 열 압착시에 경화하는 열경화 타입이 바람직하다.The conductive
또한, 자기 가교성 수지나 서로 가교하는 여러 수지를 사용해도 좋다. 또한, 이러한 수지 이외에 열가소성 수지를 혼합시켜도 좋다. 수지 및 경화성 화합물 등의 배합 성분은 각각 독립적으로 단독 또는 복수의 조합으로 할 수 있다.In addition, a self-crosslinking resin or various resins that crosslink each other may be used. Moreover, you may mix a thermoplastic resin other than these resin. Compounding components, such as resin and a curable compound, can each independently be made into individual or a plurality of combinations.
또한, 도전성 접착제 층(6)의 단계에서 가교가 일부 형성되어 B 스테이지(반경화 상태)로 되어 있어도 좋다. 예를 들어, 열경화성 수지와 경화성 화합물의 일부가 반응하여 반경화 상태를 포함할 수도있다.In addition, in the stage of the conductive
열연화성 수지의 바람직한 예는 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, 스티렌 엘라스토머 수지, 페녹시 수지, 폴리우레탄우레아 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 폴리카보네이트이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 에폭시계 수지, 에폭시에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리스티렌, 폴리에스테르아미드 수지 및 폴리에테르에스테르 수지를 들 수 있다. 리플로우 시에 가혹한 조건에서 사용하는 경우의 열경화성 수지로는 에폭시 수지, 에폭시에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 우레탄우레아계 수지 및 폴리아미드 중 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하다.Preferred examples of the thermosoftening resin include a polyurethane resin, a polycarbonate resin, a styrene elastomer resin, a phenoxy resin, a polyurethane urea resin, a polyimide resin, a polyamide resin, a polycarbonate imide resin, a polyamideimide resin, an epoxy resin, Epoxy ester resin, acrylic resin, polyester resin, polystyrene, polyester amide resin, and polyether ester resin are mentioned. The thermosetting resin when used under severe conditions during reflow preferably includes at least one of an epoxy resin, an epoxy ester-based resin, a urethane-based resin, a urethane-urea-based resin, and a polyamide.
이 중에서도 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, 스티렌 엘라스토머 수지, 페녹시 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지가 바람직하다. 또한, 수지 중에 일반 식(1)로 표시되는 폴리카보네이트 골격을 가지는 수지가 바람직하다.Among these, polyurethane resin, polycarbonate resin, styrene elastomer resin, phenoxy resin, polyamide resin, and polyimide resin are preferable. Moreover, resin which has polycarbonate frame|skeleton represented by General formula (1) in resin is preferable.
-R-O-CO-O- ... 일반 식(1)-R-O-CO-O- ... General formula (1)
식에서 R은 2가의 유기기이다.In the formula, R is a divalent organic group.
열연화성 수지는 1종 단독으로 또는 임의의 비율로 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The thermosoftening resin can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types in arbitrary ratios.
폴리카보네이트 골격을 가지는 수지로는, 폴리카보네이트 수지 외에, 폴리카보네이트 골격을 가지는 폴리우레탄 수지, 폴리아미드 수지 및 폴리이미드 수지를 예시할 수 있다. 예를 들어, 폴리카보네이트이미드 수지에 의하면, 폴리이미드 골격을 가짐으로써, 내열성, 절연성 및 내약품성을 향상시킬 수 있다. 한편, 폴리카보네이트 골격을 가짐으로써, 유연성, 밀착성을 효과적으로 높일 수 있다.As resin which has polycarbonate frame|skeleton, the polyurethane resin which has polycarbonate frame|skeleton other than polycarbonate resin, polyamide resin, and polyimide resin can be illustrated. For example, according to polycarbonate-imide resin, heat resistance, insulation, and chemical-resistance can be improved by having a polyimide skeleton. On the other hand, by having polycarbonate skeleton, flexibility and adhesiveness can be improved effectively.
폴리카보네이트우레탄 수지로는, 1,6-헥산디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,9-노난디올, 또는 2-메틸-1,8-옥탄디올 등의 디올의 1종 또는 2종 이상을 기반으로 한 폴리카보네이트폴리올을 폴리올 성분으로 사용할 수 있다.Examples of the polycarbonate urethane resin include 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, or 2-methyl-1,8- A polycarbonate polyol based on one or two or more diols such as octanediol may be used as the polyol component.
상기 열연화성 수지는 열경화성 수지로서 가열에 의한 가교 반응에 사용할 수 있는 관능기를 복수 가지고 있어도 좋다. 작용기는 예를 들면, 수산기, 페놀성 수산기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기, 옥세타닐기, 옥사졸린기, 옥사진기, 아지리딘기, 티올기, 이소시아네이트기, 블록화 이소시아네이트기, 실라놀기 등을 들 수 있다.The said thermosoftening resin may have two or more functional groups which can be used for the crosslinking reaction by heating as a thermosetting resin. The functional group includes, for example, a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazoline group, an oxazine group, an aziridine group, a thiol group, an isocyanate group, a blocked isocyanate group, and a silanol group.
경화성 화합물은, 열경화성 수지의 반응성 관능기와 가교 가능한 관능기를 갖고 있다. 경화성 화합물은 에폭시 화합물, 산무수물기 함유 화합물, 이소시아네이트 화합물, 폴리카르보디이미드 화합물, 아지리진 화합물, 디시안디아미드 화합물, 방향족 디아민 화합물 등의 아민 화합물, 페놀노볼락 수지 등의 페놀 화합물, 유기 금속 화합물 등이 바람직하다. 경화성 화합물은 수지이어도 좋다. 이 경우, 열경화성 수지와 경화성 화합물의 구분은 함유량이 많은 쪽을 열경화성 수지로, 함유량이 적은 쪽을 경화성 화합물로 구별한다.The curable compound has a reactive functional group and a crosslinkable functional group of the thermosetting resin. The curable compound includes an epoxy compound, an acid anhydride group-containing compound, an isocyanate compound, a polycarbodiimide compound, an azirazine compound, a dicyandiamide compound, an amine compound such as an aromatic diamine compound, a phenol compound such as a phenol novolac resin, and an organometallic compound etc. are preferable. The curable compound may be a resin. In this case, as for the division of a thermosetting resin and a sclerosing|hardenable compound, the one with a large content is distinguished as a thermosetting resin, and the one with little content is distinguished as a curable compound.
경화성 화합물은 열경화성 수지 100질량부에 대하여 1~70질량부 포함하는 것이 바람직하고, 3~65질량부가 보다 바람직하고, 3~60질량부가 더욱 바람직하다. 경화성 화합물은 1종 단독으로 또는 복수 종을 병용하여 사용할 수 있다.It is preferable that 1-70 mass parts is included with respect to 100 mass parts of thermosetting resins, as for a sclerosing|hardenable compound, 3-65 mass parts is more preferable, 3-60 mass parts is still more preferable. A sclerosing|hardenable compound can be used individually by 1 type or in combination of multiple types.
열가소성 수지의 바람직한 예는 폴리에스테르, 아크릴계 수지, 폴리에테르, 우레탄계 수지, 스티렌 엘라스토머, 폴리카보네이트, 부타디엔 고무, 폴리아미드, 에스테르아미드계 수지, 폴리이소프렌 및 셀룰로오스를 예시할 수 있다. 점착 부여 수지로는 로진계 수지, 테르펜계 수지, 지환식계 석유 수지 및 방향족계 석유 수지 등을 예시할 수 있다. 또한, 도전성 고분자를 사용할 수 있다. 도전성 고분자로는 폴리에틸렌디옥시티오펜, 폴리아세틸렌, 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리아닐린을 예시할 수 있다. 열가소성 수지의 바람직한 예는 폴리에스테르, 아크릴계 수지, 폴리에테르, 우레탄계 수지, 스티렌 엘라스토머, 폴리카보네이트, 부타디엔 고무, 에스테르아미드계 수지, 폴리이소프렌 및 셀룰로오스를 예시할 수 있다.Preferred examples of the thermoplastic resin include polyester, acrylic resin, polyether, urethane resin, styrene elastomer, polycarbonate, butadiene rubber, polyamide, esteramide resin, polyisoprene and cellulose. Examples of the tackifying resin include rosin-based resins, terpene-based resins, alicyclic petroleum resins, and aromatic petroleum resins. In addition, a conductive polymer can be used. Examples of the conductive polymer include polyethylenedioxythiophene, polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, and polyaniline. Preferred examples of the thermoplastic resin include polyester, acrylic resin, polyether, urethane resin, styrene elastomer, polycarbonate, butadiene rubber, esteramide resin, polyisoprene and cellulose.
도전성 필러는 금속 필러, 도전성 세라믹 입자 및 이들의 혼합물을 예시할 수 있다. 금속 필러는 금, 은, 구리, 니켈 등의 금속 분말, 납땜 등의 합금 분말, 은 코팅 구리 분말, 금 코팅 구리 분말, 은 코팅 니켈 분말, 금 코팅 니켈 분말의 코어 쉘형 입자를 예시할 수 있다. 뛰어난 전도 특성을 얻는 관점에서, 은을 함유하는 도전성 필러가 바람직하다. 비용의 관점에서, 구리 분말을 은으로 코팅한 은 코팅 구리 분말이 특히 바람직하다.As the conductive filler, a metal filler, conductive ceramic particles, and mixtures thereof can be exemplified. Examples of the metal filler include core-shell particles of metal powders such as gold, silver, copper and nickel, alloy powders such as solder, silver-coated copper powder, gold-coated copper powder, silver-coated nickel powder, and gold-coated nickel powder. From a viewpoint of obtaining the outstanding electroconductive property, the electroconductive filler containing silver is preferable. From the viewpoint of cost, a silver-coated copper powder in which the copper powder is coated with silver is particularly preferable.
은 코팅 구리 분말의 은 함량은, 은과 구리의 총 100질량% 중 3~20질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 8~17질량%이며, 더욱 바람직하게는 10 내지 15질량%이다. 코어 쉘형 입자의 경우, 코어부에 대한 코팅층의 피복률은 평균 60% 이상이 바람직하고, 70% 이상이 보다 바람직하고, 80% 이상이 더욱 바람직하다. 코어부는 비금속도 좋지만, 도전성의 관점에서는 도전성 물질이 바람직하고, 금속 입자가 보다 바람직하다.As for the silver content of silver-coated copper powder, 3-20 mass % is preferable in 100 mass % of total of silver and copper, More preferably, it is 8-17 mass %, More preferably, it is 10-15 mass %. In the case of core-shell particles, the average coverage of the coating layer on the core portion is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and still more preferably 80% or more. Although a non-metal may be sufficient as a core part, an electroconductive substance is preferable from a viewpoint of electroconductivity, and a metal particle is more preferable.
도전성 필러로서 전자파 흡수 필러를 이용해도 좋다. 예를 들면, 철, Fe-Ni 합금, Fe-Co 합금, Fe-Cr 합금, Fe-Si 합금, Fe-Al 합금, Fe-Cr-Si 합금, Fe-Cr-Al 합금, Fe-Si-Al 합금 등 철 합금, Mg-Zn 페라이트, Mn-Zn 페라이트, Mn-Mg 페라이트, Cu-Zn 페라이트, Mg-Mn-Sr 페라이트, Ni-Zn 페라이트 등의 페라이트 계 물질 및 카본 필러 등을 들 수 있다. 카본 필러는 아세틸렌 블랙, 켓첸 블랙, 퍼니스 블랙, 카본 블랙, 카본 파이버, 카본 나노튜브로 이루어진 입자, 그래핀 입자, 흑연 입자와 카본 나노월을 예시할 수 있다.As the conductive filler, an electromagnetic wave absorbing filler may be used. For example, iron, Fe-Ni alloy, Fe-Co alloy, Fe-Cr alloy, Fe-Si alloy, Fe-Al alloy, Fe-Cr-Si alloy, Fe-Cr-Al alloy, Fe-Si-Al alloy Ferritic materials, such as ferrite alloys, such as an alloy, Mg-Zn ferrite, Mn-Zn ferrite, Mn-Mg ferrite, Cu-Zn ferrite, Mg-Mn-Sr ferrite, Ni-Zn ferrite, carbon filler, etc. are mentioned. Examples of the carbon filler include acetylene black, ketjen black, furnace black, carbon black, carbon fibers, carbon nanotubes, graphene particles, graphite particles, and carbon nanowalls.
도전성 접착제 층에 사용되는 도전성 필러의 형상은 입자, 덴드라이트(수지) 모양 입자, 바늘 모양 입자, 플레이트 모양 입자, 포도 모양 입자, 섬유 모양 입자, 구 모양 입자를 예시할 수 있지만, 원하는 첨도의 수치를 조절하는 관점에서 바늘 모양 입자 또는/및 덴드라이트 모양 입자의 도전성 필러를 함유시키는 것이 바람직하다. 여기서, 바늘은 긴 지름이 짧은 지름의 3배 이상인 것을 말하며, 이른바 바늘 모양 외에, 방추형 모양, 원주형 모양 등도 포함한다. 또한, 덴드라이트 모양은 전자 현미경(500~20,000배)으로 관찰했을 때, 봉 모양의 주축에서 복수의 분기 가지가 2차원 또는 3차원으로 연장된 형상을 말한다. 덴드라이트 모양은 상기 분기 가지가 구부러져 있거나 분기 가지에서 다시 분기 가지를 연장할 수도 있다.The shape of the conductive filler used in the conductive adhesive layer can be exemplified by particles, dendrite (resin) particles, needle-shaped particles, plate-shaped particles, grape-shaped particles, fibrous particles, and spherical particles, but the numerical value of the desired kurtosis It is preferable to contain a conductive filler of needle-shaped particles and/or dendrite-shaped particles from the viewpoint of controlling the . Here, the needle refers to a needle having a major diameter of at least three times the short diameter, and includes a spindle shape, a columnar shape, and the like, in addition to the so-called needle shape. In addition, the dendrite shape refers to a shape in which a plurality of branching branches extend in two or three dimensions from the main axis of the rod shape when observed with an electron microscope (500 to 20,000 times). The dendrite shape may be such that the branching branches are curved or extend from branching branches back to branching branches.
또한, 도전성 필러로서 비늘 모양 입자를 함유시킴으로써 피복성이 우수한 전자파 차폐 부재를 제공할 수 있다. 여기에서 비늘 모양은, 박편 모양, 판 모양도 포함한다. 도전성 필러는 입자 전체로 비늘 모양이면 되고, 타원 모양, 원 모양 또는 미입자의 주위에 잘린 자국 등이 존재하여도 좋다.Further, by containing the scaly particles as the conductive filler, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding member excellent in coating properties. Here, scaly, flaky, and plate-shaped are also included. The conductive filler may be scaly in its entirety, and may have an elliptical shape, a circular shape, or a cut mark or the like around the fine particles.
도전성 필러는 단독 또는 혼합하여 사용된다. 도전성 필러를 병용하는 경우, 원하는 첨도를 얻어 신뢰성이 높은 전자파 차폐 부재를 제공하는 관점에서, 비늘 모양 입자 및 덴드라이트 모양 입자의 조합, 비늘 모양 입자 및 바늘 모양 입자의 조합, 비늘 모양 입자, 덴드라이트 모양 입자 및 바늘 모양 입자의 조합이 바람직하다. 특히 바람직하게는 비늘 모양 입자와 바늘 모양 입자의 조합이다.Conductive fillers are used individually or in mixture. When a conductive filler is used together, from the viewpoint of obtaining a desired kurtosis and providing a highly reliable electromagnetic wave shielding member, a combination of scaly particles and dendrite particles, a combination of scaly particles and needle particles, scaly particles, dendrites A combination of shaped particles and acicular particles is preferred. Particularly preferred is a combination of scaly particles and needle-like particles.
도전성 필러의 함량은 열연화성 수지 조성물 층의 고형분(100질량%) 중 40~85질량%인 것이 바람직하고, 50 내지 80질량%가 더 바람직하다.The content of the conductive filler is preferably 40 to 85% by mass, more preferably 50 to 80% by mass, based on the solid content (100% by mass) of the thermosoftening resin composition layer.
도전성 접착제 층 중의 도전성 필러 100질량%에 대하여 바늘 모양 입자 또는/및 덴드라이트 모양 입자를 50질량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.5~40질량%, 더욱 바람직하게는 2~27질량%이다. 50질량% 이하로 함으로써, 이형성 쿠션 부재의 박리성을 높이고, 또한 내 마찰손상성을 효과적으로 높일 수 있다.It is preferable to make needle-shaped particle|grains or/and dendrite-shaped particle|grains into 50 mass % or less with respect to 100 mass % of electroconductive fillers in a conductive adhesive layer. More preferably, it is 0.5-40 mass %, More preferably, it is 2-27 mass %. By setting it as 50 mass % or less, the peelability of a releasable cushion member can be improved, and friction damage resistance can be improved effectively.
바늘 모양 입자의 평균 입자 지름 D50은 2~100㎛가 바람직하고, 2~80㎛이 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 3~50㎛이며, 특히 바람직하게는 5~20㎛이다. 덴드라이트 모양 입자의 평균 입자 지름 D50의 바람직한 범위도 마찬가지로 2~100㎛가 바람직하고, 2~80㎛보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 3~50㎛이며, 특히 바람직하게는 5~20㎛이다. 비늘 모양 입자의 평균 입자 지름 D50은 2~100㎛가 바람직하고, 2~80㎛보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 3~50㎛이며, 특히 바람직하게는 5~20㎛이다.2-100 micrometers is preferable and, as for average particle diameter D50 of acicular particle|grains, 2-80 micrometers is more preferable. More preferably, it is 3-50 micrometers, Especially preferably, it is 5-20 micrometers. Similarly, 2-100 micrometers is preferable and, as for the preferable range of average particle diameter D50 of dendrite-like particle|grains, it is more preferable than 2-80 micrometers. More preferably, it is 3-50 micrometers, Especially preferably, it is 5-20 micrometers. 2-100 micrometers is preferable and, as for the average particle diameter D50 of scaly particle|grains, 2-80 micrometers is more preferable. More preferably, it is 3-50 micrometers, Especially preferably, it is 5-20 micrometers.
평균 입자 지름 D50은 레이저 회절·산란법에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 레이저 회절·산란법 입도 분포 측정 장치 LS 13320(베크만콜터사제)를 사용하여 토네이도 드라이 파우더 샘플 모듈에서 각 도전성 미립자를 측정하여 얻은 수치이고, 입자의 적산치가 50%인 입도의 직경의 평균 입경이다. 또한, 굴절률은 1.6으로 하여 측정한다. 전자파 차폐 부재(1)의 각 입자의 평균 입자 지름 D50은 주사형 전자 현미경(SEM)을 이용하여 100개의 입경을 측정하고, 도수 분포를 구할 수 있다. 바늘 모양 입자 및 덴드라이트 모양 입자의 경우 입자는 각 입자의 최대 길이를 사용한다.The average particle diameter D50 can be measured by a laser diffraction/scattering method. Specifically, for example, it is a numerical value obtained by measuring each conductive fine particle in a tornado dry powder sample module using a laser diffraction/scattering method particle size distribution measuring device LS 13320 (manufactured by Beckman Coulter), and the cumulative value of the particles is 50% It is the average particle diameter of the diameter of the particle size. In addition, the refractive index is measured as 1.6. The average particle diameter D50 of each particle of the electromagnetic
덴드라이트 모양 입자 및/또는 바늘 모양 입자와, 비늘 모양 입자를 병용함으로써, 도전성 필러끼리의 접촉점을 많게 하고 차폐 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 덴드라이트 모양 입자 및/또는 바늘 모양 입자의 병용에 의해, 바인더 성분과의 접촉 면적을 증가시켜, 첨도 값을 조정하기 쉽게 하고, 또한 내 마찰손상성을 높일 수 있다. 따라서 신뢰성이 높은 전자파 차폐 부재를 제공할 수 있다.By using the dendrite particles and/or acicular particles together with the scaly particles, the contact points between the conductive fillers can be increased and the shielding properties can be improved. In addition, by using the dendrite-like particles and/or the needle-like particles together, the contact area with the binder component is increased, the kurtosis value can be easily adjusted, and the friction damage resistance can be improved. Therefore, it is possible to provide a highly reliable electromagnetic wave shielding member.
도전성 접착제 층을 구성하는 조성물은 또한 착색제, 난연제, 무기 첨가제, 윤활제, 블로킹 방지제 등을 포함할 수 있다.The composition constituting the conductive adhesive layer may also contain a colorant, a flame retardant, an inorganic additive, a lubricant, an antiblocking agent, and the like.
착색제로는 예를 들면, 유기 안료, 카본 블랙, 군청, 적산화철, 아연화(亞鉛華), 산화티탄, 흑연 등을 들 수 있다. 이 중에서도 흑색 계의 착색제를 포함하는 것으로, 차폐층의 인쇄 시인성이 향상된다.As a colorant, an organic pigment, carbon black, ultramarine blue, red iron oxide, zinc oxide, titanium oxide, graphite etc. are mentioned, for example. Among these, the printing visibility of the shielding layer is improved by including a black colorant.
난연제로는 예를 들면, 할로겐 함유 난연제, 인 함유 난연제, 질소 함유 난연제, 무기 난연제 등을 들 수 있다.Examples of the flame retardant include a halogen-containing flame retardant, a phosphorus-containing flame retardant, a nitrogen-containing flame retardant, and an inorganic flame retardant.
무기 첨가제로는 예를 들면, 유리 섬유, 실리카, 탈크, 세라믹 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic additive include glass fiber, silica, talc, and ceramics.
윤활제로는, 예를 들어 지방산 에스테르, 탄화수소 수지, 파라핀, 고급 지방산, 지방산 아미드, 지방족 알코올, 금속 비누, 변성 실리콘 등을 들 수 있다.Examples of the lubricant include fatty acid esters, hydrocarbon resins, paraffin, higher fatty acids, fatty acid amides, aliphatic alcohols, metal soaps, and modified silicones.
블로킹 방지제로서는, 예를 들어 탄산칼슘, 실리카, 폴리메틸실세스퀴옥산, 규산 알루미늄 염 등을 들 수 있다.Examples of the antiblocking agent include calcium carbonate, silica, polymethylsilsesquioxane, and aluminum silicate salt.
도전성 접착제 층은 열 압착에 의해 도전성 필러가 연속적으로 접촉하여 도전성을 갖는 층이면 되고, 열 압착 이전 단계에서 반드시 도전성을 가지고 있지 않아도 된다. 도전성 접착제 층은 상술한 도전성 필러와 바인더 수지 전구체를 함유하는 조성물을 혼합 교반하여 이형성 기재 상에 도공 후 건조하여 형성할 수 있다. 또한, 이형성 쿠션 부재(3)에 직접 도공 건조하는 방법으로도 형성할 수 있다.The conductive adhesive layer may be a layer having conductivity by continuously contacting conductive fillers by thermal compression, and may not necessarily have conductivity in the step prior to thermal compression. The conductive adhesive layer may be formed by mixing and stirring the composition containing the above-described conductive filler and the binder resin precursor, coating the composition on a releasable substrate, and then drying the mixture. Moreover, it can form also by the method of coating-drying directly on the
도전성 접착제 층의 도액(塗液)을 도공 후, 건조 이형성 기재 상에 도전성 접착제 층을 형성한다. 건조 공정은 가열(예를 들어, 80~120℃)을 하는 것이 바람직하다. 전자파 차폐 부재의 첨도를 조정하기 위해 도액을 도공 후 가열 건조 전에 25℃(실온)·상압 건조를 1~10분 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직한 가열 건조 이전 25℃(실온)에서 건조 시간은 2~6분이다. 가열 건조 전에 실온에서 건조하는 과정을 두어 첨도 값을 조정할 수 있다.After coating the coating liquid of a conductive adhesive layer, a conductive adhesive layer is formed on a dry releasability base material. It is preferable to heat (for example, 80-120 degreeC) in a drying process. In order to adjust the kurtosis of the electromagnetic shielding member, it is preferable to dry the coating solution at 25° C. (room temperature) and atmospheric pressure for 1 to 10 minutes before heating and drying after coating. More preferably, the drying time at 25° C. (room temperature) before drying by heat is 2 to 6 minutes. The kurtosis value can be adjusted by drying at room temperature before heat drying.
도액의 점도와 가열 건조 전의 25℃에서 건조 시간이 전자파 차폐 부재(1) 첨도에 미치는 영향에 대하여 도 9의 모식도를 이용하여 설명한다. 도시된 바와 같이, 이형성 기재(15) 상에 도전성 접착제 층(6)을 형성하기 위해 도액을 도포한다. 용제가 들어있는 건조 상의 도전성 접착제 층(6P)을 얻을 수 있다.The effect of the viscosity of the coating solution and the drying time at 25° C. before drying by heat on the kurtosis of the electromagnetic
건조 상의 도전성 접착제 층(6P)에 대해 25℃에서 건조 시간을 길게 설정하는 것에 의해, 도 9에 나타낸 바와 같이, 용제의 증발 속도가 느린 상태를 의도적으로 길게 하고, 따라서 바인더 수지 전구체(10)가 아래로 가라 않는 것을 촉진할 수 있다. 한편, 25℃에서 건조 시간을 짧게 설정하는 것에 의해, 도 9에 나타낸 바와 같이, 바인더 수지 전구체(10)의 아래로 가라 않는 것을 억제하고, 그 단계에서 가열 건조하는 것에 의해 도전성 필러(11)가 위로 서기 쉽게 된다. 또한, 용제의 증발에 따른 발포가 생기기 쉽게 되고, 윗면이 거칠어지는 경향이 된다.By setting a long drying time at 25° C. for the dry conductive
상기 도액의 고형분은, 전자파 차폐 부재(1) 첨도 값을 1-8로 하기 위해서 20~50%로 하는 것이 바람직하다. 또한, 전자파 차폐 부재의 첨도를 조정하기 위해, 상기 도액의 B형 점도계로 측정한 도액 점도를 200~5000mPa·s의 범위로 하는 것이 바람직하다. 또한, 전자파 차폐 부재의 첨도를 조정하기 위해, 상기 도액의 틱소트로피 인덱스를 1.2~2.0으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 도 9 및 후술하는 도 10의 도전성 필러(11)는 비늘 모양 입자이며, 도면은 주면에 대한 평면에서 보는 것이 아니라 두께 방향의 절단부 단면도를 나타내고 있다.The solid content of the coating liquid is preferably 20 to 50% in order to set the kurtosis value of the electromagnetic
첨도 값은, 도전성 접착제 층을 형성하기 위한 도액의 점도에 따라 달라진다. 도액 점도가 높은 것이 도전성 필러의 유동성이 억제되는 경향이 있다. 따라서 점도가 높은 경우, 도전성 필러(11)는 배향하지 않고 랜덤이 되는 경향이 있다. 한편, 점도가 낮은 경우 비늘 모양 입자는 기판 면에 대해 주면이 대개 대향하도록 배향하는 경향이 있다. 또한, 25℃에서 건조 시간을 단축하여 가열 건조하면, 점도가 높으면 발포에 의한 표면 거칠기가 커지는 경향이 있고, 점도가 낮으면 도전성 필러가 수직 방향으로 이동하기 쉬운 경향이 된다 .The kurtosis value varies depending on the viscosity of the coating liquid for forming the conductive adhesive layer. There exists a tendency for the fluidity|liquidity of an electroconductive filler to be suppressed for a thing with a high coating-liquid viscosity. Therefore, when the viscosity is high, the
이처럼 도액의 점도와 25℃에서 건조 시간을 조정함으로써 첨도를 조정할 수 있다.In this way, the kurtosis can be adjusted by adjusting the viscosity of the coating solution and the drying time at 25°C.
또한, 전자파 차폐 부재(1)의 첨도는, 덴드라이트 모양 입자 및/또는 바늘 모양 입자의 입자 직경에 따라 조정할 수 있다. 덴드라이트 모양 입자 및/또는 바늘 모양 입자의 입자 지름이 전자파 차폐 부재(1) 첨도에 미치는 영향에 대하여, 도 10의 개략적 설명도를 이용하여 설명한다. 도 9와 같이 이형성 기재(15) 상에 도전성 접착제 층(6)을 형성하기 위해 도액을 도포하는 것에 의해, 건조 상의 도전성 접착제 층(6P)을 얻을 수 있다. 도 10에서 도 9와 공통되는 부재와 성분은 동일한 부호를 붙인다. 도 10에 나타낸 바와 같이, 도전성 필러의 일종인 덴드라이트 모양 입자(12)의 평균 입자 지름 D50이 작으면 첨도 값이 작아지는 경향이 있고, 반대로, 덴드라이트 모양 입자(12)의 평균 입자 지름 D50이 크면 첨도 값이 커지는 경향이 있다. 도전성 접착제 층(6)의 두께에 따라 다르지만 첨도의 값을 작게 하고 싶은 경우에는, 예를 들어 평균 입자 지름 D50을 2~5㎛, 첨도의 값을 크게 하고 싶은 경우에는, 예를 들면, 평균 입자 지름 D50을 20~50㎛, 이러한 중간 값으로 설정하고 싶은 경우에는 평균 입자 지름 D50을 5㎛ 초과 20㎛ 미만으로 설정할 수 있다.In addition, the kurtosis of the electromagnetic
또한, 전자파 차폐 부재(1)의 첨도를 조정하기 위해, 전자파 차폐용 부재(2)의 최 표층인 도전성 접착제 층(6)을 형성하기 위한 도전성 접착제 조성물을 도공·건조한 후, 코로나 처리 및 플라즈마 처리를 하는 것이 바람직하다. 코로나 처리는, 코로나 방전 전자의 조사량이 1~1,000W/㎡/분인 것이 바람직하고, 10~100W/㎡/분으로 하는 것이 바람직하다. In addition, in order to adjust the kurtosis of the electromagnetic
전자파 차폐 부재(1)의 첨도는, 열 압착 전의 전자파 차폐용 부재(2)를 형성하는 조성물에서 바늘 모양 또는 덴드라이트 모양의 도전성 필러의 첨가량을 많이 하는 것에 의해 그 수치를 조정할 수 있다. 또한, 전자파 차폐 부재(1)의 첨도는 도전성 필러의 평균 입자 지름 D50 및 D90에 의해서도 조정할 수 있다. The kurtosis of the electromagnetic
실시 형태 A1에서는, 전자파 차폐용 부재(2)는 도전성 접착제 층(6)의 단층으로 이루어지므로, 이 도전성 접착제 층(6) 위에 이형성 쿠션 부재(3)를 적층한다. 적층 방법은 라미네이트에 의한 방법 등이있다.In Embodiment A1, since the
이형성 기재는 한쪽 면 또는 양면이 이형성이 있는 기판이며, 150℃에서의 인장 파단 변형률이 50% 미만의 시트이다. 이형성 기재는 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리불화비닐, 폴리불화비닐리덴, 경질 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 나일론, 폴리이미드, 폴리스티렌, 폴리비닐알코올, 에틸렌·비닐알코올 공중합체, 폴리카보네이트, 폴리아크릴로니트릴, 폴리부텐, 연질 폴리염화비닐, 폴리불화비닐리덴, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리우레탄 수지, 에틸렌 비닐아세테이트 공중합체, 폴리비닐아세테이트 등의 플라스틱 시트 등 글라 신지, 상질지, 크래프트 종이, 코팅 종이 등 종이류, 각종 부직포, 합성 종이, 금속박 또는 이들을 조합한 복합 필름 등을 들 수 있다.The releasable substrate is a substrate having releasability on one or both sides, and is a sheet having a tensile strain at break of less than 50% at 150°C. The releasable base material is, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, hard polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, nylon, polyimide, polystyrene, polyvinyl alcohol, ethylene/vinyl alcohol air Synthetic, polycarbonate, polyacrylonitrile, polybutene, soft polyvinyl chloride, polyvinylidene fluoride, polyethylene, polypropylene, polyurethane resin, ethylene vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, etc. plastic sheet, etc. Glassine paper, top and papers such as paper, kraft paper, and coated paper, various nonwoven fabrics, synthetic paper, metal foil, or a composite film in which these are combined.
(이형성 쿠션 부재)(Without releasable cushioning)
이형성 쿠션 부재는, 도전성 접착제 층의 전자 부품에 대한 추종성을 촉진하는 쿠션 역할을 하며, 또한 이형성이 있는 시트이다. 즉, 열 압착 공정 후 전자파 차폐 부재(1)로부터 박리가능한 층이다. 또한, 150℃에서의 인장 파단 변형률이 50% 이상에서 열 압착시에 용융하는 층인 것이 바람직하다.The releasability cushion member serves as a cushion for promoting the followability of the conductive adhesive layer to the electronic component, and is a sheet having releasability. That is, it is a layer that can be peeled from the electromagnetic
또한, 이형성 기재 및 이형성 쿠션 부재(3)의 인장 파단 변형률은 다음의 방법에 의해 구한 값이다. 이형성 기재 및 이형성 쿠션 부재를 폭 200mm×길이 600mm의 크기로 절단하여 측정 시료로 하였다. 측정 시료에 대해 소형 탁상 시험기 EZ-TEST(시마즈제작소사제)를 이용하여, 온도 25℃, 상대 습도 50%의 조건하에서 인장 시험(시험 속도 50mm/분)을 실시했다. 얻은 S - S 곡선(응력-변형률 곡선)에서 인장 파단 변형(%)을 산출했다.In addition, the tensile rupture strain of the releasable base material and the
이형성 쿠션 부재(3)로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에테르술폰, 폴리 페닐렌설파이드, 폴리스티렌, 폴리메틸펜텐, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 환상 올레핀 폴리머, 실리콘이 바람직하다. 이 중에서도 매립성과 박리성을 양립시키는 관점에서, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 실리콘이 더욱 바람직하다. 이형성 쿠션 부재는 단층으로 사용해도 복층으로 사용해도 좋다. 복층으로 하는 경우 동일한 또는 다른 종류의 시트를 적층할 수 있다.As the
이형성 쿠션 부재(3)와 도전성 접착제 층(6)의 적층 방법은 특별히 한정되지 않지만, 이러한 시트를 라미네이트하는 방법을 들 수 있다. 이형성 쿠션 부재(3)는 최종적으로는 박리하기 때문에 이형성이 뛰어난 재료가 바람직하다. 이형성 쿠션 부재의 두께는 예를 들면 50㎛~3mm 정도이며, 100㎛~1mm 정도가 보다 바람직하다.Although the lamination method of the
[실시 형태 A2][Embodiment A2]
다음으로, 실시 형태 A1과는 다른 전자 부품 탑재 기판의 예에 대해 설명한다. 실시 형태 A2에 따른 전자 부품 탑재 기판은 전자파 차폐 부재가 2층의 전자파 차폐층으로 되어 있다는 점에서 단층의 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재를 이용한 실시 형태 A1과 다르지만, 기타 기본적인 구성 및 제조 방법은 실시 형태 A1과 동일하다. 또한, 실시 형태 A1과 중복 기재는 적절히 생략한다.Next, the example of the electronic component mounting board|substrate different from Embodiment A1 is demonstrated. The electronic component mounting board according to Embodiment A2 differs from Embodiment A1 using the electromagnetic wave shielding member comprising a single electromagnetic wave shielding layer in that the electromagnetic wave shielding member is composed of two electromagnetic wave shielding layers, but other basic structures and manufacturing methods are It is the same as that of Embodiment A1. In addition, embodiment A1 and overlapping description are abbreviate|omitted suitably.
실시 형태 A2의 전자파 차폐 부재는, 도 11에 나타낸 바와 같이, 제1 도전성 접착제 층(6a1) 및 제2 도전성 접착제 층(6a2)의 2층으로 이루어진 도전성 접착제 층(6a)인 전자파 차폐용 부재(2a)와, 이형성 쿠션 부재(3a)를 포함하는 전자파 차폐용 적층체(4a)를 이용하여 형성된다. 이 전자파 차폐용 적층체(4a)를 열 압착하는 것에 의해, 전자 부품이 탑재된 기판 상에 제1 전자파 차폐층과 제2 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재가 피복된다. 2층의 전자파 차폐층으로 구성하여 전자파 차폐 부재의 설계 자유도를 높일 수 있다. 상층의 제2 도전성 접착제 층(6a2)은 실시 형태 A1과 같은 조성과 공정으로 제조하고, 하층의 제1 도전성 접착제 층(6a1)은 첨도의 범위에 한정되지 않고 필요에 따라 설계할 수 있다. 예를 들어, 제1 도전성 접착제 층(6a1)에 포함되는 도전성 필러로서, 섬유질 입자 구상 입자 등의 필러를 이용한 층으로 할 수 있다. 또한, 제1 도전성 접착제 층(6a1)을 이방 도전성 접착제 층, 제2 도전성 접착제 층(6a2)을 등방 도전성 접착제 층으로 하는 등의 설계로 하는 것도 가능하다. 또한, 전자파 반사층과 전자파 흡수층의 적층체로 하는 양태도 바람직하다. 전자파 차폐층을 3층 이상 적층하여도 좋다.As shown in Fig. 11, the electromagnetic wave shielding member of Embodiment A2 is an electromagnetic wave shielding member (6a) comprising two layers of a first conductive adhesive layer 6a1 and a second conductive adhesive layer 6a2. It is formed using the
실시 형태 A2에 따른 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 2층의 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재를 이용하여 실시 형태 A1과 같은 효과를 얻을 수 있다. 또한, 전자파 차폐층을 2층 적층함으로써 각 층의 설계 자유도를 높일 수 있으므로, 필요에 따라 전자파 차폐 부재를 제공하기 쉬운 장점이 있다.According to the electronic component mounting board|substrate concerning Embodiment A2, the effect similar to Embodiment A1 can be acquired using the electromagnetic wave shielding member which consists of two electromagnetic wave shielding layers. In addition, since the degree of design freedom of each layer can be increased by laminating two electromagnetic wave shielding layers, there is an advantage in that it is easy to provide an electromagnetic wave shielding member if necessary.
[실시 형태 A3][Embodiment A3]
실시 형태 A3에 따른 전자 부품 탑재 기판은, 전자파 차폐 부재가 전자파 차폐층과 하드 코트 층의 적층체 이루어져 있다는 점에서, 단층의 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재를 이용한 실시 형태 A1과 다르지만 다른 기본적인 구성 및 제조 방법은 동일하다.The electronic component mounting board according to Embodiment A3 differs from Embodiment A1 in that the electromagnetic wave shielding member consists of a laminate of an electromagnetic wave shielding layer and a hard coat layer, but has a different basic configuration and the manufacturing method is the same.
실시 형태 A3에 따른 전자파 차폐 부재는, 도 12에 나타낸 바와 같이, 1층의 도전성 접착제 층(6b)과 절연 수지 층(7b)의 적층체인 전자파 차폐용 부재(2b) 및 이형성 쿠션 부재(3b)로 이루어지는 전자파 차폐용 적층체(4b)를 이용하여 형성된다. 이 전자파 차폐용 적층체(4b)를 열 압착하는 것에 의해, 전자 부품이 탑재된 기판 상에 도전성 접착제 층(6b)으로 형성된 전자파 차폐층과 절연 수지 층(7b)으로 형성된 하드 코트 층을 포함하는 전자파 차폐 부재를 얻을 수 있다. 실시 형태 A3에 따른 전자파 차폐 부재는 하드 코트 층 측에서 측정했을 때의 첨도를 1-8로 한다.As shown in FIG. 12, the electromagnetic wave shielding member according to Embodiment A3 is a laminate of a single conductive
절연 수지 층(7b)은 바인더 수지 전구체와 무기 필러를 함유하는 수지 조성물로부터 형성된 층이다. 바인더 수지 전구체는 적어도 열연화성 수지를 포함한다. 열연화성 수지의 예시 및 바인더 수지 전구체의 예시 및 바람직한 예는 실시 형태 A1에서 언급한 전자파 차폐용 부재의 도전성 접착제 층의 조성과 동일하다. 도전성 접착제 층과 절연 수지 층의 바인더 수지 전구체는 동일하여도 달라도 좋다.The insulating
무기 필러는, 실시 형태 A1의 도전성 접착제 층과 달리 도전성을 가지고 있지 않지만, 바람직한 무기 필러의 특성, 예를 들어 형상·배합량·D50·D90 등은 도전성 필러에서 열거한 한 예와 같다. 무기 필러로는, 예를 들면, 실리카, 알루미나, 수산화마그네슘, 황산바륨, 탄산칼슘, 산화티탄, 산화아연, 삼산화안티몬, 산화마그네슘, 탈크, 카올리나이트, 운모, 염기 탄산마그네슘, 세리사이트, 몬모릴로나이트, 벤토나이트 등의 무기 화합물을 들 수 있다.Unlike the conductive adhesive layer of Embodiment A1, the inorganic filler does not have conductivity, but preferable characteristics of the inorganic filler, such as shape, compounding amount, D50 and D90, etc., are the same as in the example listed in the conductive filler. Examples of the inorganic filler include silica, alumina, magnesium hydroxide, barium sulfate, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, antimony trioxide, magnesium oxide, talc, kaolinite, mica, basic magnesium carbonate, sericite, montmorillonite, bentonite. Inorganic compounds, such as these are mentioned.
열연화성 수지 조성물 및 열연화성 수지 조성물 층은 필요에 따라 착색제, 실란 커플링제, 이온 포집제, 산화 방지제, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 레벨링제, 난연제 등을 포함할 수 있다.The heat-softening resin composition and the heat-softening resin composition layer may contain a colorant, a silane coupling agent, an ion scavenger, an antioxidant, a tackifying resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a leveling agent, a flame retardant, and the like, if necessary.
실시 형태 A3에 따른 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 하드 코트 층을 갖는 전자파 차폐 부재를 이용하는 것에 의해, 실시 형태 A1에서 언급한 효과 외에도 전자파 차폐층을 하드 코트 층으로 피복함으로써 우수한 내구성을 갖는 전자파 차폐 부재를 제공할 수 있다.According to the electronic component mounting board|substrate concerning Embodiment A3, the electromagnetic wave shielding member excellent in durability by covering the electromagnetic wave shielding layer with a hard coat layer in addition to the effect mentioned in Embodiment A1 by using the electromagnetic wave shielding member which has a hard coat layer can provide
[실시 형태 A4][Embodiment A4]
실시 형태 A4에 따른 전자 부품 탑재 기판은, 전자파 차폐 부재가 전자파 차폐층과 절연 피복층의 적층체로 이루어지는 점에서 단층의 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재를 이용한 실시 형태 A1과 다르지만, 다른 기본적인 구성 및 제조 방법은 실시 형태 A1과 동일하다.The electronic component mounting board according to Embodiment A4 differs from Embodiment A1 using an electromagnetic wave shielding member comprising a single-layer electromagnetic wave shielding layer in that the electromagnetic wave shielding member is formed of a laminate of an electromagnetic wave shielding layer and an insulating coating layer, but has a different basic configuration and manufacturing The method is the same as that of Embodiment A1.
실시 형태 A4에 따른 전자파 차폐 부재는, 도 13에 나타낸 바와 같이, 절연성 접착제 층(8c)과 도전성 접착제 층(6c)의 적층체인 전자파 차폐용 부재(2c) 및 이형성 쿠션 부재(3c)를 포함하는 전자파 차폐용 적층체(4c)를 이용하여 형성된다.As shown in Fig. 13, the electromagnetic wave shielding member according to Embodiment A4 includes an electromagnetic
실시 형태 A4에서는 단위 제품으로 나누는 공정을 행하지 않거나 혹은 단위 제품으로 나누는 것을 마친 복수의 전자 부품(예를 들면 반도체 패키지)이 형성된 기판 상에, 전자파 차폐 부재를 피복하는 방법에 대해 설명한다. 도 14A에 나타낸 바와 같이, 기판(20)과의 연결 단자 역할을 하는 솔더 볼(24)을 갖는 전자 부품(30)이 탑재된 기판(20)의 위쪽에, 전자파 차폐용 적층체(4c)를 배치하고 이형성 쿠션 부재(3c) 측에서 전자 부품(30)이 탑재된 기판(20)에 열 압착을 행한다(도 14B). 그 후, 이형성 쿠션 부재(3c)를 박리하여 도 14C의 전자파 차폐 부재(1c)가 적층된 전자 부품 탑재 기판(53)이 얻어진다.In Embodiment A4, a method of coating an electromagnetic wave shielding member on a substrate on which a plurality of electronic components (eg, semiconductor packages) that have not been divided into unit products or have been divided into unit products are formed will be described. As shown in FIG. 14A, the electromagnetic
얻어진 전자 부품 탑재 기판(53)은 전자파 차폐층(5c)의 윗면에서 GND를 취하는 것이 가능하다. 이 방법 대신에, 기판(20) 위에 그라운드 패턴을 마련해, 이 그라운드 패턴 및 전자파 차폐층(5c)을 도통시키기 위해 그라운드 패턴에 절연 피복 층 (9c)를 뚫고, 전자파 차폐층(5c)과 도통하는 도전성 커넥터 부를 설치해도 된다.The obtained electronic component mounting board|
실시 형태 A4에서는 단위 제품으로 나누는 공정이 불필요한 전자 부품 탑재 기판의 제조 방법의 일례에 대해 설명했지만, 마더보드 상에, 도 14C의 제품 단위 단위를 어레이 형태로 형성하여 전자파 차폐용 적층체(4c)를 올려놓고 열 압착하여 전자파 차폐층을 형성한 후, 단위 제품으로 나누는 공정을 실시하는 것에 의해, 도 14C에 나타내는 전자 부품 탑재 기판을 얻을 수도 있다.In Embodiment A4, an example of a method for manufacturing an electronic component mounting board that does not require a step of dividing into unit products has been described. However, on a motherboard, product unit units shown in Fig. 14C are formed in an array form to form an electromagnetic
절연성 접착제 층(8c)은 바인더 수지 전구체를 함유하는 수지 조성물로부터 형성된 층이다. 바인더 수지 전구체는 적어도 열연화성 수지를 포함한다. 바인더 수지 전구체의 예시 및 바람직한 예는 실시 형태 A1에서 언급한 도전성 접착제 층의 바인더 수지 전구체를 들 수 있다. 절연성 접착제 층(8c)과 도전성 접착제 층(6c)의 바인더 수지 전구체는 동일하여도 달라도 좋다.The insulating
열연화성 수지 조성물 및 열연화성 수지 조성물 층은, 필요에 따라 착색제, 실란 커플링제, 이온 포집제, 산화 방지제, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 레벨링제, 난연제, 무기 필러 등을 포함할 수 있다.The thermosoftening resin composition and the thermosoftening resin composition layer may contain, if necessary, a colorant, a silane coupling agent, an ion scavenger, an antioxidant, a tackifying resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a leveling agent, a flame retardant, an inorganic filler, and the like. .
실시 형태 A4에 따른 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 절연 층(9c)을 갖는 전자파 차폐 부재(1c)를 이용하는 것에 의해, 실시 형태 A1에서 언급한 효과 외에도 그라운드 패턴 이외의 회로 또는 전극 패턴 등의 도체부 및 전자파 차폐 부재의 단락을 방지하고, 전자 부품 및 전자파 차폐층의 접합 신뢰성을 높일 수 있다. 또한, 전자 부품의 절연 신뢰성을 높일 수 있다. 따라서, 우수한 내구성을 갖는 전자파 차폐 부재를 제공할 수 있다. 그 결과, 우수한 전자파 차폐성을 갖는 전자 부품 탑재 기판을 제공할 수 있다. 또한, 기판 전체에 일괄적으로 차폐층을 형성할 수 있기 때문에 제조 공정이 간편하고, 차폐 캔 등에 비해 현저히 두께를 줄일 수 있다는 장점이 있다.According to the electronic component mounting board according to Embodiment A4, by using the electromagnetic
또한, 실시 형태 A4에서 절연 층(9c)은 주로 전자 부품 및 전자파 차폐 부재의 접합을 강화하기 위해 사용하는 예를 들었지만, 절연 층(9c)을 봉지재에 적용할 수도 있다. 절연 층(9c)을 봉지재에 적용할 경우, 반도체 칩 등의 봉지 공정 및 전자파 차폐 부재의 피복을 동일한 공정으로 할 수 있다는 장점이 있다. 즉, 실시 형태 A4에 따른 전자파 차폐 부재는, 절연체에 의해 일체로 피복되어 있지 않은 전자 부품에 대해 적용하고, 절연성 접착제 층에서 봉지재(몰드 수지)에 대응하는 절연 피복 층을 얻을 수 있다. 이 경우, 전자 부품의 측면에 전자파 차폐 부재를 피복하기 위해, 전자 부품에 대응하는 오목부가 어레이 형상으로 형성된 프레스 판(전자 부품의 간극에 전자파 차폐 부재를 매립하는 돌출부가 형성된 프레스 판)을 이용해도 좋다.In addition, although the example in which the insulating
[실시 형태 A5][Embodiment A5]
실시 형태 A5에 따른 전자 부품 탑재 기판은, 전자파 차폐층과 그라운드 패턴이 직접 접촉하여 도통하고 있으며, 전자파 차폐용 적층체의 내부 층에 위치하는 도전성 접착제 층이, 당해 적층체의 단계에서 노출된 영역을 갖는 전자파 차폐용 적층체를 사용한다. 이 노출 영역은 기판 등에 형성된 그라운드 패턴 등의 도전성 패턴과 전자파 차폐층이 접촉하여 도통하기 위해 설치되어 있다. 실시 형태 A5는 이러한 점에서 실시 형태 A4와 다르지만, 다른 기본적인 구성 및 제조 방법은 동일하다.In the electronic component mounting substrate according to Embodiment A5, the electromagnetic wave shielding layer and the ground pattern are in direct contact with each other, and the conductive adhesive layer located in the inner layer of the electromagnetic wave shielding laminate is exposed at the stage of the laminate. Use a laminate for electromagnetic wave shielding having This exposed region is provided so that the electromagnetic wave shielding layer contacts and conducts with a conductive pattern such as a ground pattern formed on a substrate or the like. Embodiment A5 differs from Embodiment A4 in this respect, but other basic structure and manufacturing method are the same.
실시 형태 A5에 따른 전자파 차폐용 적층체는 적층 구성은 실시 형태 A4와 동일하지만, 도 15A에 나타낸 바와 같이, 기판(20) 상에 형성된 그라운드 패턴(22)을 피복하는 영역에 대응하는 위치의 전자파 차폐용 적층체(4d)에서 도전성 접착제 층(6d)이 노출하고 있다. 구체적으로는, 절연성 접착제 층(8d) 측에서 위에서 볼 때, 도전성 접착제 층(6d)의 노출 영역이 설치되어 있다. 도 15A의 전자파 차폐용 적층체(4d)의 예에서는 절연성 접착제 층(8d)의 크기를 전자파 차폐용 적층체(4d)의 크기보다 한층 작게 하고, 전자파 차폐용 적층체(4d)의 틀 영역에서 도전성 접착제 층(6d)이 노출되도록 한다. 관련 구성은, 도 15B, 도 15C에 나타낸 바와 같이, 열 압착에 의해 그라운드 패턴(22)과 전자파 차폐층(5d)이 접촉하여 도통한 전자 부품 탑재 기판(54)이 얻어진다. 전자파 차폐용 적층체(4d)의 도전성 접착제 층(6d)의 노출부의 위치는 도 15A의 예에 한정되지 않고 노출부를 개구 패턴으로 형성하여도 좋다.The laminated body for electromagnetic wave shielding according to Embodiment A5 has the same laminated structure as Embodiment A4, but electromagnetic waves at positions corresponding to the regions covering the
[실시 형태 B]][Embodiment B]]
이하, 실시 형태 B에 따른 전자 부품 탑재 기판의 구체적인 예에 대해 설명한다.Hereinafter, a specific example of the electronic component mounting board|substrate which concerns on Embodiment B is demonstrated.
<전자 부품 탑재 기판><Board with Electronic Components>
실시 형태 B1의 전자 부품 탑재 기판은, 상기 실시 형태 A에서 특정하는 전자파 차폐 부재 대신에 상기 실시 형태 B에서 특정하는 전자파 차폐 부재를 사용한다. 실시 형태 B1의 전자 부품 탑재 기판 및 그 제조 방법은 실시 형태 B에 따른 전자파 차폐 부재를 사용하고 있는 점 및 별도 기재하고 있는 점을 제외하면 기본적인 구성 및 제조 방법은 실시 형태 A1과 공통된다. 따라서 중복되는 부분의 설명은 적절하게 생략한다.In the electronic component mounting board of Embodiment B1, the electromagnetic wave shielding member specified in Embodiment B is used instead of the electromagnetic wave shielding member specified in Embodiment A above. The electronic component mounting substrate of Embodiment B1 and its manufacturing method have the same basic configuration and manufacturing method as Embodiment A1 except that the electromagnetic wave shielding member according to Embodiment B is used and the points are separately described. Therefore, descriptions of overlapping parts are omitted appropriately.
실시 형태 B1에 따른 전자 부품 탑재 기판의 기본 구성의 바람직한 예로서, 전술한 도 1 내지 도 10에서 설명한 실시 형태 A1의 전자 부품 탑재 기판의 기본 구성을 예시할 수 있다. 이하, 이들 도면을 이용하여 실시 형태 B1의 특징부에 대해 설명한다.As a preferable example of the basic structure of the electronic component mounting board|substrate concerning Embodiment B1, the basic structure of the electronic component mounting board|substrate of Embodiment A1 demonstrated with reference to FIGS. 1-10 mentioned above can be illustrated. Hereinafter, the characteristic part of Embodiment B1 is demonstrated using these drawings.
<전자파 차폐 부재><Electromagnetic wave shielding member>
실시 형태 B1에 따른 전자파 차폐 부재(1)는 실시 형태 A1에서 설명한 바와 같이, 기판(20) 상에 탑재된 전자 부품(30)의 윗면에 전자파 차폐용 적층체를 올려놓고 열 압착에 의해 전자 부품(30) 및 기판(20)을 피복함으로써 얻어진다. 전자파 차폐 부재(1)의 피복 형태는 실시 형태 A1과 동일하므로 생략한다.In the electromagnetic
실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1)는 실시 형태 A1과 마찬가지로, 전자파 차폐용 적층체를 사용하여 형성할 수 있다. 그리고 도 4에 나타낸 바와 같이, 전자파 차폐용 적층체(4)는 전자파 차폐용 부재(2)와 이형성 쿠션 부재(3)로 구성된다. 이 전자파 차폐용 부재(2)는 실시 형태 A1과 마찬가지로 도전성 접착제 층(6)의 단층으로 구성된다. 도전성 접착제 층(6)은 열 압착에 의해 전자 부품(30) 및 기판(20)에 접합되어 전자파 차폐층(5)이 형성된다. 실시 형태 B1에서는 이 전자파 차폐층(5)이 전자파 차폐 부재로 기능을 한다.The electromagnetic
실시 형태 B1의 전자파 차폐용 부재(2)는 실시 형태 A1에서 설명한 바와 같이, 2층 이상의 도전성 접착제 층의 적층체로부터 형성하거나, 도전성 접착제 층과 하드 코트 층의 적층체에서 형성하거나, 절연성 접착제 층과 도전성 접착제 층의 적층체로부터 형성하거나 하는 등, 다른 층의 적층체로부터 형성하여도 좋다.As described in Embodiment A1, the electromagnetic
실시 형태 B1의 전자파 차폐층(5)은 바인더 수지와 도전성 필러가 포함된다. 전자파 차폐층(5) 중의 도전성 필러는 연속적으로 접촉되어 전기 도전성을 나타낸다. 전자파 차폐성을 높이는 관점에서 전자파 차폐층(5)의 시트 저항은 1Ω/□ 이하가 바람직하다.The electromagnetic
실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1)는 그 압입 탄성률을 1~10GPa로 한다. 압입 탄성률을 이 범위로 함으로써, 전자파 차폐 부재(1)의 응력에 대한 국소적인 작은 변형을 억제하는 것이 가능하게 되고, 그 결과로 전자파 차폐 부재(1)의 버 발생에 의한 손상을 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, PCT 내성이 뛰어나므로 리플로우 공정 후의 접착력 저하를 효과적으로 억제할 수 있다. 따라서 고품질의 전자 부품 탑재 기판을 제공할 수 있다.The electromagnetic
실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1)의 압입 탄성률을 1GPa 이상으로 함으로써, 절단 공정에서 다이싱 블레이드 등의 절삭 공구에서 받는 응력에 대해 전자파 차폐 부재(1)의 변형을 억제하고, 제조 공정에 의해 생기는 전자파 차폐 부재(1)의 버(도 21의 (ii) 참조)를 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 말하는 버는 전자파 차폐 부재(1)의 절단면을 기점으로 한 전자파 차폐 부재의 벗겨짐을 말한다.By setting the indentation elastic modulus of the electromagnetic
실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1)의 압입 탄성률은, 열 압착 전의 후술하는 전자파 차폐용 적층체(4) 중의 전자파 차폐용 부재(2)의 조성물에 의해 조정할 수 있다. 보다 구체적으로는 전자파 차폐 부재(1)를 형성하기 위한 열 압착 이전 전자파 차폐용 부재(2)의 조성물의 바인더 수지 전구체의 종류, 각 성분의 배합량 등에 의해 조정할 수 있다. 구체적으로는 압입 탄성률은 필러의 함유량이 많아 질수록 커지는 경향이 있다. 또한, 바인더 수지 전구체로 사용하는 수지의 관능기와 경화성 화합물의 함량을 증가시키는 것에 의해 압입 탄성률이 커지는 경향이 있다. 또한, 바인더 수지의 경도가 높을수록 압입 탄성률아 커지는 경향이 있다. 따라서, 바인더 수지를 형성하기 위한 바인더 수지 전구체의 종류, 혹은 바인더 수지의 가교 밀도를 적절하게 하는 것이 바람직하다. 가교 밀도는 수지 및 경화성 화합물의 종류나 관능기에 의해 쉽게 조정할 수 있다.The press-fitting elastic modulus of the electromagnetic
또한, 압입 탄성률은 외부 응력에 의한 재료의 변형에 대한 특성을 나타내고 있는 영률이라고 생각할 수도 있다. 본 명세서의 「압입 탄성률」은 후술하는 실시 예에 기재한 측정 방법 및 측정 조건에 의해 얻어지는 값을 말한다.In addition, the indentation modulus can be thought of as a Young's modulus indicating a characteristic with respect to deformation of a material due to external stress. The "indentation modulus" in the present specification refers to a value obtained by the measurement method and measurement conditions described in Examples to be described later.
실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1)의 압입 탄성률보다 바람직한 범위는 1.5GPa 넘어 8GPa 이하이며, 더욱 바람직한 범위는 2GPa 이상 7.4GPa 이하이다.A more preferable range than the indentation elastic modulus of the electromagnetic
실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1)의 막 두께는 용도에 따라 적절히 선정할 수 있다. 박형화가 요구되고 있는 용도에는, 전자 부품의 윗면을 피복하는 전자파 차폐 부재(1)의 두께 T1 및 T2는, 예를 들어 10~200㎛ 정도로 할 수 있다.The film thickness of the electromagnetic
전자 부품(30) 위에 제품 정보가 각인될 수 있다. 그 경우, 전자 부품(30)에 각인한 후에 전자파 차폐 부재(1)를 형성하는 방법, 전자 부품(30)에 전자파 차폐 부재(1)를 형성한 후 전자파 차폐 부재에 각인하는 방법이 있다. 어느 경우에도 높은 차폐성을 유지하면서 그 각인의 좋은 시인성이 요구된다. 양 특성을 만족시키는 관점에서 전자파 차폐 부재의 막 두께 T1은 10㎛ 이상이 바람직하며, 20㎛ 이상이 보다 바람직하다. 후자의 각인 방법, 즉 전자파 차폐 부재 상에 각인하는 경우 전자파 차폐 부재의 막 두께의 상한은 없다. 한편, 전자의 각인 방법, 즉 전자 부품에 직접 각인하는 경우, 각인의 시인성을 유지하기 위해 전자파 차폐 부재의 막 두께 T1의 상한은 50㎛ 이하가 바람직하며, 30㎛ 이하가 보다 바람직하다.Product information may be engraved on the
실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1)의 표층의 물 접촉각은 70~110°로 하는 것이 바람직하다. 이 범위로 함으로써, 제조 공정 시의 전자파 차폐층의 손상을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 전자 부품(30) 하프-다이싱 홈(25)에 형성된 홈 모양의 오목부에 충전된 이형성 쿠션 부재를 전자파 차폐 부재(1)에서 떼어낼 때 버의 발생을 억제할 수 있다. 전자파 차폐 부재의 물 접촉각의 보다 바람직한 범위는 75~105°이며, 더욱 바람직한 범위는 80~100°이다. 전자파 차폐 부재의 물 접촉각은 전자파 차폐 부재를 형성하는 조성물에서 표면 조정제의 첨가량에 따라 그 수치를 조정할 수 있다. 전자파 차폐 부재(1)의 표면 조정제의 첨가량이 증가함에 따라 물 접촉각의 값이 커지는 경향이있다.It is preferable that the water contact angle of the surface layer of the electromagnetic
압력 쿠커 시험(Pressure cooker test: 이하 PCT라고도 함) 내성을 보다 우수한 것으로 하기 위해서는, 실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1) 마르텐스 경도를 50N/㎟ 이상의 범위로 하는 것이 바람직하다. 전자파 차폐 부재(1)의 압입 탄성률을 1~10GPa의 범위로 하고, 더욱 마르텐스 경도 50N/㎟ 이상을 조합하는 것에 의해 압력 쿠커 시험 후의 밀착성이 더 뛰어난 것이 된다. 그 결과, 리플로우 후에도 밀착성이 우수한 전자파 차폐 부재(1)를 제공할 수 있다. 마르텐스 경도는 60N/㎟ 이상이 보다 바람직하고, 70N/㎟ 이상이 더욱 바람직하다.In order to make the pressure cooker test (hereinafter also referred to as PCT) resistance more excellent, it is preferable to set the Martens hardness of the electromagnetic
마르텐스 경도는 도전성 필러 및 바인더 성분의 경도에 따라 조정할 수 있다. 바인더 성분의 경도는 주로 열경화성 수지와 경화성 화합물의 경화물의 경도에 의한다. 구체적으로는 비늘 모양 입자의 첨가에 의해 마르텐스 경도가 커지는 경향이 있고, 구형, 덴드라이트 모양 입자의 첨가에 의해 마르텐스 경도가 낮아지는 경향이 있다. 또한, 도전성 필러의 양이 많아지면 마르텐스 경도는 커지는 경향이 있다. 또한 경화 후의 수지의 경도가 높을수록 마르텐스 경도도 단단해진다.The Martens hardness can be adjusted according to the hardness of the conductive filler and the binder component. The hardness of the binder component mainly depends on the hardness of the cured product of the thermosetting resin and the curable compound. Specifically, the addition of scaly particles tends to increase the Martens hardness, and the addition of spherical or dendrite particles tends to decrease the Martens hardness. In addition, as the amount of the conductive filler increases, the Martens hardness tends to increase. In addition, the higher the hardness of the resin after curing, the harder the Martens hardness.
제조 방법에 대해서는 후술하지만, 전자 부품(30)을 탑재한 기판(20)에 전자파 차폐용 적층체(4)를 열 압착 후 전자파 차폐 부재(1) 이형성 쿠션 부재를 박리할 때의 이형성을 높이는 관점에서는, 전자파 차폐 부재(1)의 표층의 JISB0601 ; 2001에 따라 측정한 첨도를 8 이하로 하는 것이 바람직하다. 8 이하로 하는 것에 의해, 전자파 차폐 부재(1)의 표면 형상의 첨도가 적절한 것이 되고, 이형성 쿠션 부재(3)와 전자파 차폐 부재(1)의 박리가 쉬워진다고 생각된다. 그 결과, 전자 부품 간의 간극의 하프-다이싱 홈(25)에 이형성 쿠션 부재(3)가 끊어져 잔사로 남아있는 현상을 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 끊어진 조각은, 이형성 쿠션 부재를 박리할 때 끊어져, 전자 부품의 간극인 홈에 잔존해 버린 이형성 쿠션 부재를 말한다.Although the manufacturing method will be described later, the electromagnetic
또한, 내 마찰손상성을 높이는 관점에서는, 실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1)의 첨도를 1 이상으로 하는 것이 바람직하다. 1 이상으로 함으로써, 스틸-울 내성을 향상시킬 수 있다. 전자파 차폐 부재의 첨도의 더 바람직한 범위는 1.5~6.5이며, 더욱 바람직한 범위는 2~4이다. 또한, 전자파 차폐 부재(1) 표면의 조정 방법은 실시 형태 A1에서 말한대로이다.In addition, from the viewpoint of improving the friction damage resistance, it is preferable that the kurtosis of the electromagnetic
실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1) 표면의 제곱 평균 평방근 높이 Rq는 0.4~1.6㎛의 범위로 하는 것이 바람직하고, 0.5~1.5㎛로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.7~1.2㎛로 하는 것이 더욱 바람직하다. 본 명세서에서 첨도와 제곱 평균 평방근 높이는 후술하는 실시 예에 기재된 방법에 의해 구한 값을 말한다.The root mean square height Rq of the surface of the electromagnetic
<전자 부품 탑재 기판의 제조 방법><Method for manufacturing electronic component mounting board>
실시 형태 B1의 전자파 차폐 부재(1)의 제조 방법은, 기본적으로는 실시 형태 A1의 전자파 차폐 부재(1)의 제조 방법과 동일하다. 공정(c)에서 PCT 후 테이프 접착력을 높이는 관점에서는, 전자파 차폐층(5)을 구성하는 바인더 수지는 3차원 가교 구조가 구축되는 것이 바람직하다. 공정(e)의 단위 제품으로 나누는 공정에서 다이싱을 할 경우, 다이싱에 의한 마찰열을 냉각하고 또한 다이싱에 의해 발생하는 다이싱 쓰레기를 씻어 흘려보내기 위해 고압 물 세척을 할 수 있다. 실시 형태 B에 따른 전자 부품 탑재 기판(51)에 있어서는, 압입 탄성률을 1~10GPa로 함으로써 고압 수세의 충격에 의한 전자파 차폐 부재(1)의 박리를 현저하게 개선할 수 있다.The manufacturing method of the electromagnetic
<전자파 차폐용 적층체><Laminate for electromagnetic wave shielding>
실시 형태 B1의 전자파 차폐용 적층체는 도 4에서 설명한 바와 같이, 전자파 차폐용 부재(2)와 이형성 쿠션 부재(3)의 2층으로 구성된다. 실시 형태 B1에서는 전자파 차폐용 부재(2)는 단층의 도전성 접착제 층(6)으로 이루어진다. 도전성 접착제 층(6)은 열 압착 공정을 거쳐 전자 부품(30)과 기판(20)과 접합되어 전자파 차폐층(5)로서 기능한다.As demonstrated in FIG. 4, the laminated body for electromagnetic wave shield of Embodiment B1 is comprised from the two layers of the
(도전성 접착제 층)(conductive adhesive layer)
도전성 접착제 층(6)은 바인더 수지 전구체와 도전성 필러를 함유하는 수지 조성물로부터 형성된 층이다. 바인더 수지 전구체는 적어도 열연화성 수지를 포함한다. 열연화성 수지로는 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 활성 광선 경화성 수지를 예시할 수 있다. 열경화성 수지 및 활성 광선 경화성 수지는 일반적으로 반응성 관능기를 가진다. 열경화성 수지를 이용하는 경우는 경화성 화합물 및 열경화 보조제를 병용할 수 있다. 또한, 활성 광선 경화성 수지를 이용하는 경우에는 광중합 개시제, 증감제 등을 병용할 수 있다. 제조 공정의 간편성에서 열 압착시에 경화하는 열경화 타입이 바람직하다.The conductive
또한, 자기 가교성 수지나 서로 가교하는 여러 수지를 사용해도 좋다. 또한, 이러한 수지 이외에 열가소성 수지를 혼합시켜도 좋다. 수지 및 경화성 화합물 등의 배합 성분은 각각 독립적으로 단독 또는 복수의 병용으로 하는 것이 가능하다.In addition, a self-crosslinking resin or various resins that crosslink each other may be used. Moreover, you may mix a thermoplastic resin other than these resin. Mixing components, such as resin and a sclerosing|hardenable compound, can each independently be used individually or in multiple combinations.
또한, 도전성 접착제 층(6)의 단계에서 가교가 일부 형성되어 B 스테이지(반경화 상태)로 되어 있어도 좋다. 예를 들어, 열경화성 수지와 경화성 화합물의 일부가 반응하여 반경화 상태를 포함할 수도 있다.In addition, in the stage of the conductive
열연화성 수지의 바람직한 예는 실시 형태 A1과 동일하다. 상기 열연화성 수지는, 열경화성 수지로서 가열에 의한 가교 반응에 사용할 수 있는 관능기를 여러 개 가지고 있어도 좋다. 관능기의 구체적인 예는 실시 형태 A1과 동일하다.Preferred examples of the thermosoftening resin are the same as in Embodiment A1. The said thermosoftening resin may have several functional groups which can be used for the crosslinking reaction by heating as a thermosetting resin. Specific examples of the functional group are the same as in Embodiment A1.
경화성 화합물은 열경화성 수지의 반응성 관능기와 가교 가능한 관능기를 갖고 있다. 가교하는 것으로 밀착성을 더욱 공고히 하고, 내수성도 향상시킬 수 있다. 경화성 화합물은 에폭시 화합물, 산무수물기 함유 화합물, 이소시아네이트 화합물, 폴리카르보디이미드 화합물, 아지리딘 화합물, 디시안디아미드 화합물, 방향족 디아민 화합물 등의 아민 화합물, 페놀노볼락 수지 등의 페놀 화합물, 유기 금속 화합물 등이 바람직하다. 경화성 화합물은 수지이어도 좋다. 이 경우, 열경화성 수지와 경화성 화합물의 구분은 함유량이 많은 쪽을 열경화성 수지로, 함유량이 적은 쪽을 경화성 화합물로 구별한다.The curable compound has a reactive functional group and a crosslinkable functional group of the thermosetting resin. By crosslinking, adhesiveness can be further strengthened and water resistance can also be improved. The curable compound includes an epoxy compound, an acid anhydride group-containing compound, an isocyanate compound, a polycarbodiimide compound, an aziridine compound, a dicyandiamide compound, an amine compound such as an aromatic diamine compound, a phenol compound such as a phenol novolac resin, and an organometallic compound etc. are preferable. The curable compound may be a resin. In this case, as for the division of a thermosetting resin and a sclerosing|hardenable compound, the one with a large content is distinguished as a thermosetting resin, and the one with little content is distinguished as a curable compound.
상기 에폭시 화합물은 1분자 중에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이다. 에폭시 화합물의 성상은 액상 및 고형상을 불문한다. 에폭시 화합물로는, 예를 들면, 글리시딜에테르형 에폭시 화합물, 글리시딜아민형 에폭시 화합물, 글리시딜에스테르형 에폭시 화합물, 환상 지방족(지환형) 에폭시 화합물 등이 바람직하다.The said epoxy compound is a compound which has two or more epoxy groups in 1 molecule. The properties of the epoxy compound may be liquid or solid. As an epoxy compound, a glycidyl ether type epoxy compound, a glycidylamine type epoxy compound, a glycidyl ester type epoxy compound, a cyclic aliphatic (alicyclic) epoxy compound, etc. are preferable, for example.
글리시딜에테르형 에폭시 화합물로는, 예를 들면, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 비스페놀 S형 에폭시 화합물, 비스페놀 AD형 에폭시 화합물, 크레졸 노볼락형 에폭시 화합물, 페놀 노볼락형 에폭시 화합물, α-나프톨 노볼락형 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 노볼락형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔형 에폭시 화합물, 테트라브롬비스페놀 A형 에폭시 화합물, 브롬화페놀 노볼락형 에폭시 화합물, 트리스(글리시딜옥시페닐)메탄, 테트라키스(글리시딜옥시페닐)에탄 등을 들 수 있다.As a glycidyl ether type epoxy compound, For example, a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, a bisphenol S type epoxy compound, a bisphenol AD type epoxy compound, a cresol novolak type epoxy compound, a phenol novolak type epoxy compound Compound, α-naphthol novolac type epoxy compound, bisphenol A novolac type epoxy compound, dicyclopentadiene type epoxy compound, tetrabrombisphenol A type epoxy compound, brominated phenol novolak type epoxy compound, tris(glycidyloxy) phenyl)methane, tetrakis(glycidyloxyphenyl)ethane, etc. are mentioned.
글리시딜아민형 에폭시 화합물로는, 예를 들면, 테트라글리시딜 디아미노디페닐메탄, 트리글리시딜 파라아미노페놀, 트리글리시딜 메타아미노페놀, 테트라글리시딜 메타크실렌디아민 등을 들 수 있다.Examples of the glycidylamine-type epoxy compound include tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, triglycidyl paraaminophenol, triglycidyl metaaminophenol, and tetraglycidyl metaxylenediamine. .
글리시딜에스테르형 에폭시 화합물로는, 예를 들면, 글리시딜 프탈레이트, 디글리시딜 헥사히드로프탈레이트, 디글리시딜 테트라히드로프탈레이트 등을 들 수 있다.As a glycidyl ester type epoxy compound, glycidyl phthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl tetrahydrophthalate, etc. are mentioned, for example.
환상 지방족(지환형) 에폭시 화합물로는, 예를 들면 에폭시시클로헥실메틸 - 에폭시시클로헥산 카르복실레이트, 비스(에폭시시클로헥실) 아디페이트 등을 들 수 있다. 또한 액상 에폭시 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다.Examples of the cyclic aliphatic (alicyclic) epoxy compound include epoxycyclohexylmethyl-epoxycyclohexane carboxylate and bis(epoxycyclohexyl) adipate. Moreover, a liquid epoxy compound can be used preferably.
이미다졸 화합물은 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2,4-디메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸 등의 이미다졸 화합물을 들 수 있고, 나아가서는 이미다졸 화합물과 에폭시 수지를 반응시켜 용제에 불용화된 유형 또는 이미다졸 화합물을 마이크로캡슐에 봉입한 유형 등의 저장 안정성을 개량한 잠재성 경화촉진제를 들 수 있지만, 이들 중에서도 도전성 접착제 층의 열 용융 후에 경화를 개시시키는 관점에서 잠재성 경화 촉진제가 바람직하다.Examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole, and the like. imidazole compounds, and further, latent curing accelerators with improved storage stability, such as a type insolubilized in a solvent by reacting an imidazole compound with an epoxy resin, or a type in which the imidazole compound is encapsulated in microcapsules. However, among these, a latent hardening accelerator is preferable from a viewpoint of starting hardening after thermal melting of a conductive adhesive layer.
경화성 화합물의 구조, 분자량은 용도에 따라 적절히 설계할 수 있다. 압입 탄성률을 1~10GPa의 범위로 조정하여 버를 효과적으로 억제하는 관점에서는, 분자량이 다른 2종류 이상의 경화성 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 제1 경화성 화합물과 제2 경화성 화합물을 이용하여 전자파 차폐층의 인장 파단 변형을 높이는 효과도 있다.The structure and molecular weight of a sclerosing|hardenable compound can be designed suitably according to a use. It is preferable to use two or more types of sclerosing|hardenable compounds from which molecular weight differs from a viewpoint of effectively suppressing a burr|burr by adjusting an indentation elastic modulus in the range of 1-10 GPa. There is also an effect of increasing the tensile rupture strain of the electromagnetic wave shielding layer by using the first curable compound and the second curable compound.
경화성 화합물은 열경화성 수지 100질량부에 대하여 1~70질량부 포함하는 것이 바람직하고, 3~65질량부가 보다 바람직하고, 3~60질량부가 더욱 바람직하다. 제1 경화성 화합물과 제2 경화성 화합물을 병용하는 경우에는, 제1 경화성 화합물을 열경화성 수지 100질량부에 대하여 5~50질량부 포함하는 것이 바람직하고, 10~40질량부 포함하는 것이 보다 바람직하고, 20~30질량부 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 한편, 제2 경화성 화합물을 열경화성 수지 100질량부에 대하여 0~40질량부 포함하는 것이 바람직하고, 5~30질량부 포함 것이 보다 바람직하고, 10~20질량부 포함 것이 더욱 바람직하다.It is preferable that 1-70 mass parts is included with respect to 100 mass parts of thermosetting resins, as for a sclerosing|hardenable compound, 3-65 mass parts is more preferable, 3-60 mass parts is still more preferable. When using together a 1st curable compound and a 2nd curable compound, it is preferable to contain 5-50 mass parts of 1st curable compound with respect to 100 mass parts of thermosetting resin, It is more preferable to contain 10-40 mass parts, It is more preferable to contain 20-30 mass parts. On the other hand, it is preferable to contain 0-40 mass parts with respect to 100 mass parts of thermosetting resins of 2nd sclerosing|hardenable compound, It is more preferable that 5-30 mass parts is included, It is more preferable that 10-20 mass parts is included.
열가소성 수지의 바람직한 예는 실시 형태 A1과 동일하다. 또한, 도전성 필러는, 금속 필러, 도전성 세라믹 입자 및 이들의 혼합물을 예시할 수 있다. 금속 필러의 바람직한 예는 실시 형태 A1과 동일하다. 또한, 전술한 은 코팅 구리 분말의 은 함량도 실시 형태 A1과 동일하다. 또한, 코어 쉘형 입자의 경우, 코어부에 대한 코트 층의 피복률의 바람직한 범위도 실시 형태 A1과 동일하다. 코어부는 비금속도 좋지만, 도전성의 관점에서는 도전성 물질이 바람직하고, 금속 입자가 보다 바람직하다.Preferred examples of the thermoplastic resin are the same as in Embodiment A1. In addition, as an electroconductive filler, a metal filler, electroconductive ceramic particle|grains, and a mixture thereof can be illustrated. The preferable example of a metal filler is the same as that of Embodiment A1. In addition, the silver content of the above-mentioned silver-coated copper powder is also the same as that of Embodiment A1. Moreover, in the case of core-shell-type particle|grains, the preferable range of the coverage of the coating layer with respect to a core part is also the same as that of Embodiment A1. Although a non-metal may be sufficient as a core part, an electroconductive substance is preferable from a viewpoint of electroconductivity, and a metal particle is more preferable.
도전성 필러로서 전자파 흡수 필러를 이용해도 좋고, 그 구체적인 예는 실시 형태 A1과 동일하다.An electromagnetic wave absorbing filler may be used as an electroconductive filler, and the specific example is the same as that of Embodiment A1.
도전성 접착제 층에 사용되는 도전성 필러의 형상은 비늘 모양 입자, 덴드라이트(樹枝) 모양 입자, 바늘 모양 입자, 플레이트 모양 입자, 포도 모양 입자, 섬유 모양 입자, 구형 입자를 예시할 수 있다. 첨도의 수치를 조절하는 관점에서 바늘 모양 입자 또는/및 덴드라이트 모양 입자의 도전성 필러를 함유시키는 것이 바람직하다. 여기서, 바늘 모양은 긴 지름이 짧은 지름의 3배 이상인 것을 말하며, 이른바 바늘 모양 외에, 방추형 모양, 원주형 모양 등도 포함한다. 또한, 덴드라이트 모양은 전자 현미경(500~20,000배)으로 관찰했을 때, 봉 모양의 주축에서 복수의 분기 가지가 2차원 또는 3차원으로 연장된 형상을 말한다. 덴드라이트 모양은 상기 분기 가지가 구부러져 있거나 분기 가지에서 다시 분기 가지를 연장할 수도 있다.Examples of the shape of the conductive filler used in the conductive adhesive layer include scaly particles, dendrite particles, needle-like particles, plate-like particles, grape-like particles, fibrous particles, and spherical particles. It is preferable to contain a conductive filler of needle-shaped particles and/or dendrite-shaped particles from the viewpoint of controlling the value of kurtosis. Here, the needle shape means that the long diameter is three times or more of the short diameter, and includes a spindle shape, a column shape, etc. in addition to the so-called needle shape. In addition, the dendrite shape refers to a shape in which a plurality of branch branches extend in two or three dimensions from the main axis of the rod shape when observed with an electron microscope (500 to 20,000 times). The dendrite shape may be such that the branching branches are curved or extend from branching branches back to branching branches.
또한, 도전성 필러로서 비늘 모양 입자를 함유시킴으로써 피복성이 우수한 전자파 차폐 부재를 제공할 수 있다. 여기에서 비늘 모양은, 박편 모양, 판 모양도 포함한다. 도전성 필러는 입자 전체로 비늘 모양이면 되고, 타원 모양, 원 모양 또는 미립자의 주위에 잘린 자국 등이 존재하여도 좋다. 비늘 모양 입자는 마르텐스 경도가 커지는 경향이 있고, 구형, 수지 모양 입자는 마르텐스 경도가 낮아지는 경향이 있다. 또한, 도전성 필러의 양이 많아지면 마르텐스 경도는 커지는 경향이 있다. 또한 경화 후의 수지의 경도가 높을수록 마르텐스 경도도 단단해진다.Further, by containing the scaly particles as the conductive filler, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding member excellent in covering properties. Here, scaly, flaky, and plate-shaped are also included. The conductive filler may be scaly in its entirety, and may have an elliptical shape, a circular shape, or a cut mark or the like around the fine particles. The scaly particles tend to have a high Martens hardness, and the spherical and resinous particles tend to have a low Martens hardness. In addition, as the amount of the conductive filler increases, the Martens hardness tends to increase. In addition, the higher the hardness of the resin after curing, the harder the Martens hardness.
도전성 필러는 단독 또는 혼합하여 사용된다. 예를 들어, 비늘 모양 입자와 구형 입자의 조합, 비늘 모양 입자와 덴드라이트 모양 입자의 조합, 비늘 모양 입자와 바늘 모양 입자의 조합, 비늘 모양 입자, 덴드라이트 모양 입자 및 바늘 모양 입자의 조합을 예시할 수 있다. 이에 더해 나노 크기의 구형 입자를 병용해도 좋다.Conductive fillers are used individually or in mixture. For example, a combination of scaly and spherical particles, a combination of scaly and dendrite particles, a combination of scaly and acicular particles, a combination of scaly and acicular particles, and a combination of scaly and dendrite particles can do. In addition, nano-sized spherical particles may be used in combination.
또한, 덴드라이트 모양 입자 및/또는 바늘 모양 입자를 병용함으로써 도전성 필러끼리의 접촉점을 많게 하여 차폐 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 덴드라이트 모양 입자 및/또는 바늘 모양 입자의 병용에 의해 바인더 성분과의 접촉 면적을 증가시킬 수 있기 때문에 고품질의 전자파 차폐 부재를 제공할 수 있다.Moreover, by using together dendrite-like particle|grains and/or acicular particle|grains, the contact point of electroconductive fillers can be increased, and a shielding characteristic can be improved. In addition, since the contact area with the binder component can be increased by using the dendrite-shaped particles and/or the needle-shaped particles together, it is possible to provide a high-quality electromagnetic wave shielding member.
도전성 필러의 함량은 열연화성 수지 조성물 층의 고형분(100질량%) 중 40~85질량%인 것이 바람직하고, 50 내지 80질량%가 더 바람직하다.The content of the conductive filler is preferably 40 to 85% by mass, more preferably 50 to 80% by mass, based on the solid content (100% by mass) of the thermosoftening resin composition layer.
도전성 접착제 층 중의 도전성 필러 100질량%에 대하여 바늘 모양 입자 또는/및 덴드라이트 모양 입자를 50질량% 이하 함유시키는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.5~40질량%, 더욱 바람직하게는 1~35질량%, 특히 바람직하게는 1~30질량%이다. 50질량% 이하 함유시킴으로써 내 마찰손상성이 보다 우수한 전자파 차폐 부재를 제공할 수 있다.It is preferable to contain 50 mass % or less of needle-shaped particle|grains or/and dendrite-shaped particle|grains with respect to 100 mass % of electroconductive fillers in a conductive adhesive layer. More preferably, it is 0.5-40 mass %, More preferably, it is 1-35 mass %, Especially preferably, it is 1-30 mass %. By containing 50 mass % or less, the electromagnetic wave shielding member excellent in friction damage resistance can be provided.
비늘 모양 입자의 평균 입자 지름 D50은 2~100㎛가 바람직하다. 비늘 모양 입자에 나노 크기의 도전성 필러를 혼합하여도 좋다.The average particle diameter D50 of the scaly particles is preferably 2 to 100 µm. A nano-sized conductive filler may be mixed with the scaly particles.
바늘 모양 입자의 평균 입자 지름 D50은 2~100㎛가 바람직하고, 2~80㎛가 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 3~50㎛이며, 특히 바람직하게는 5~20㎛이다. 덴드라이트 모양 입자의 평균 입자 지름 D50의 바람직한 범위도 마찬가지로 2~100㎛가 바람직하고, 2~80㎛가 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 3~50㎛이며, 특히 바람직하게는 5~20㎛이다. 비늘 모양 입자의 평균 입자 지름 D50은 2~100㎛가 바람직하고, 2~80㎛이 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 3~50㎛이며, 특히 바람직하게는 5~20㎛이다. 비늘 모양 입자와 덴드라이트 모양 입자를 병용함으로써, 표면 광택을 최적화하고, 전자파 차폐층에 문자를 직접 인쇄할 때 인쇄 시인성을 높일 수 있다.2-100 micrometers is preferable and, as for average particle diameter D50 of acicular particle|grains, 2-80 micrometers is more preferable. More preferably, it is 3-50 micrometers, Especially preferably, it is 5-20 micrometers. Similarly, 2-100 micrometers is preferable and, as for the preferable range of average particle diameter D50 of dendrite-like particle|grains, 2-80 micrometers is more preferable. More preferably, it is 3-50 micrometers, Especially preferably, it is 5-20 micrometers. 2-100 micrometers is preferable and, as for the average particle diameter D50 of scaly particle|grains, 2-80 micrometers is more preferable. More preferably, it is 3-50 micrometers, Especially preferably, it is 5-20 micrometers. By using the scaly particles and dendrite particles together, the surface gloss can be optimized and the print visibility can be improved when characters are directly printed on the electromagnetic wave shielding layer.
평균 입자 지름 D50의 측정 방법 등은 실시 형태 A1에서 말한 대로이다. 도전성 접착제 층을 구성하는 조성물은 실시 형태 A1에서 언급한 첨가제(착색제, 난연제, 무기 첨가제, 윤활제, 블로킹 방지제 등)을 포함하고 있다. 각각의 구체적인 예는 실시 형태 A1과 동일하다.The measuring method of the average particle diameter D50, etc. are as mentioned in Embodiment A1. The composition constituting the conductive adhesive layer contains the additives (colorant, flame retardant, inorganic additive, lubricant, antiblocking agent, etc.) mentioned in Embodiment A1. Each specific example is the same as Embodiment A1.
도전성 접착제 층은 열 압착에 의해 도전성 필러가 연속적으로 접촉하여 도전성을 갖는 층이면 되고, 열 압착 이전 단계에서 반드시 도전성을 가지고 있지 않아도 된다. 도전성 접착제 층은 상술한 도전성 필러와 바인더 수지 전구체를 함유하는 조성물을 혼합 교반하여 이형성 기재 상에 도공 후 건조하여 형성할 수 있다. 또한, 이형성 쿠션 부재(3)에 직접 도공 건조하는 방법으로도 형성할 수 있다.The conductive adhesive layer may be a layer having conductivity by continuously contacting conductive fillers by thermal compression, and may not necessarily have conductivity in the step prior to thermal compression. The conductive adhesive layer may be formed by mixing and stirring the composition containing the above-described conductive filler and the binder resin precursor, coating the composition on a releasable substrate, and then drying the mixture. Moreover, it can form also by the method of coating-drying directly on the
도전성 접착제 층의 도액을 도공 후, 건조하여 이형성 기재 상에 도전성 접착제 층을 형성한다. 건조 공정은 가열(예를 들어, 80~120℃)을 하는 것이 바람직하다. 전자파 차폐 부재의 첨도를 조정하는 관점에서는, 도액을 도공 후 가열 건조 전에 25℃(실온)·상압 건조를 1~10 분하는 것이 바람직하다. 보다 바람직한, 가열 건조 전의 25℃(실온)에서의 건조 시간은 2~6분이다. 가열 건조 전에 실온에서 건조하는 과정을 마련하여 첨도 값을 조정할 수 있다.After coating the coating liquid of the conductive adhesive layer, it is dried to form a conductive adhesive layer on the releasable substrate. It is preferable to heat (for example, 80-120 degreeC) in a drying process. From a viewpoint of adjusting the kurtosis of an electromagnetic wave shielding member, it is preferable to carry out drying at 25 degreeC (room temperature) and atmospheric pressure for 1 to 10 minutes before heat-drying after coating a coating liquid. More preferably, drying time at 25 degreeC (room temperature) before heat-drying is 2 to 6 minutes. The kurtosis value can be adjusted by providing a process of drying at room temperature before drying by heating.
도액의 점도와 가열 건조 전의 25℃에서의 건조 시간이 전자파 차폐 부재(1)의 첨도에 미치는 영향에 대하여 도 9의 모식도를 이용하여 설명한다. 도시된 바와 같이, 이형성 기재(15) 상에 도전성 접착제 층(6)을 형성하기 위해 도액을 도포한다. 용제가 들어있는 건조 상의 도전성 접착제 층(6P)을 얻을 수 있다. 전자파 차폐용 적층체는 실시 형태 A1의 전자파 차폐용 적층체와 같은 방법으로 제조할 수 있다.The effect of the viscosity of the coating liquid and the drying time at 25° C. before drying by heat on the kurtosis of the electromagnetic
[실시 형태 B2][Embodiment B2]
다음으로, 실시 형태 B1과는 다른 전자 부품 탑재 기판의 예에 대해 설명한다. 실시 형태 B2에 따른 전자 부품 탑재 기판은 전자파 차폐 부재가 2층의 전자파 차폐층으로 되어 있다는 점에서 단층의 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재를 이용한 실시 형태 B1과 다르지만, 기타 기본적인 구성 및 제조 방법은 실시 형태 B1과 동일하다. 그리고 실시 형태 A에 따른 전자파 차폐 부재 대신에, 실시 형태 B에 따른 전자파 차폐 부재를 사용하고 있는 점 및 별도 기재하고 있는 점을 제외하고, 실시 형태 A2와 기본적인 구성 및 제조 방법은 같다. 중복 기재는 적절히 생략한다.Next, an example of the electronic component mounting board|substrate different from Embodiment B1 is demonstrated. The electronic component mounting board according to Embodiment B2 differs from Embodiment B1 using an electromagnetic wave shielding member comprising a single electromagnetic wave shielding layer in that the electromagnetic wave shielding member is composed of two electromagnetic wave shielding layers, but other basic structures and manufacturing methods are It is the same as Embodiment B1. In addition, the basic configuration and manufacturing method of Embodiment A2 are the same as those of Embodiment A2, except that the electromagnetic wave shielding member according to Embodiment B is used instead of the electromagnetic wave shielding member according to Embodiment A and the points are separately described. Duplicate descriptions are appropriately omitted.
실시 형태 B2의 전자파 차폐 부재는, 도 11에 나타낸 바와 같이, 제1 도전성 접착제 층(6a1) 및 제2 도전성 접착제 층(6a2)의 2층으로 이루어진 도전성 접착제 층(6a)인 전자파 차폐용 부재(2a)와, 이형성 쿠션 부재(3a)를 포함하는 전자파 차폐용 적층체(4a)를 이용하여 형성된다. 이 전자파 차폐용 적층체(4a)를 열 압착함으로써 전자 부품(30)이 탑재된 기판(20) 상에 제1 전자파 차폐층과 제2 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재가 피복된다. 이 2층의 전자파 차폐층의 적층체인 전자파 차폐 부재에서 표층 측에서 측정했을 때의 압입 탄성률을 1~10GPa로 한다. 2층의 전자파 차폐층으로 구성하여 전자파 차폐 부재의 설계 자유도를 높일 수 있다. 예를 들어, 전자파 반사층과 전자파 흡수층의 적층체로 하는 형태가 예시될 수 있다. 전자파 차폐층을 3층 이상 적층하여도 좋다.The electromagnetic wave shielding member of Embodiment B2, as shown in FIG. 11, is an electromagnetic wave shielding member (6a) comprising two layers of a first conductive adhesive layer 6a1 and a second conductive adhesive layer 6a2. It is formed using the
실시 형태 B2에 따른 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 2층의 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재를 이용하여 실시 형태 B1과 비슷한 효과를 얻을 수 있다. 또한, 전자파 차폐층을 2층 적층함으로써 각층의 설계 자유도를 높일 수 있으므로 필요에 따라 전자파 차폐 부재를 제공하기 쉬운 장점이 있다.According to the electronic component mounting board|substrate concerning Embodiment B2, the effect similar to Embodiment B1 can be acquired using the electromagnetic wave shielding member which consists of two electromagnetic wave shielding layers. In addition, since the degree of design freedom of each layer can be increased by stacking two electromagnetic wave shielding layers, there is an advantage in that it is easy to provide an electromagnetic wave shielding member if necessary.
[실시 형태 B3 ∼ 실시 형태 B5][Embodiment B3 - Embodiment B5]
실시 형태 B3 ∼ 실시 형태 B5에 따른 전자 부품 탑재 기판 및 그 제조 방법은 실시 형태 A에 따른 전자파 차폐 부재 대신에, 실시 형태 B에 따른 전자파 차폐 부재(실시 형태 B1, B2의 기재 포함)를 사용하는 것을 제외하고는, 상술한 실시 형태 A3~실시 형태 A5의 설명을 원용할 수 있다. 따라서 실시 형태 B3에서 B5의 전자 부품 탑재 기판 및 그 제조 방법에 대한 설명은 생략한다.The electronic component mounting board according to the embodiments B3 to B5 and the method for manufacturing the same, in which the electromagnetic wave shielding member according to the embodiment B (including the description of the embodiments B1 and B2) is used instead of the electromagnetic wave shielding member according to the embodiment A Except for the above, description of Embodiment A3 - Embodiment A5 mentioned above can be invoked. Therefore, description of the electronic component mounting board|substrate of Embodiment B3 to B5 and its manufacturing method is abbreviate|omitted.
[실시 형태 C][Embodiment C]
이하, 실시 형태 C에 따른 전자 부품 탑재 기판의 구체적인 예에 대해 설명한다.Hereinafter, a specific example of the electronic component mounting board|substrate which concerns on Embodiment C is demonstrated.
[실시 형태 C1][Embodiment C1]
<전자 부품 탑재 기판><Board with Electronic Components>
실시 형태 C1의 전자 부품 탑재 기판은, 상기 실시 형태 A의 전자파 차폐 부재 대신에 상기 실시 형태 C의 전자파 차폐 부재를 사용한다. 실시 형태 C1의 전자 부품 탑재 기판 및 그 제조 방법은 실시 형태 C1의 전자파 차폐 부재 및 별도 기재하고 있는 점을 제외하면 기본적인 구성 및 제조 방법은 실시 형태 A1과 공통된다. 일반적인 설명은 적절하게 생략한다.In the electronic component mounting board of Embodiment C1, the electromagnetic wave shielding member of Embodiment C is used instead of the electromagnetic wave shielding member of Embodiment A. Except for the electromagnetic wave shielding member of Embodiment C1 and the point separately described, the electronic component mounting board|substrate of Embodiment C1 and its manufacturing method have the same basic structure and manufacturing method as Embodiment A1. A general description is appropriately omitted.
실시 형태 C1에 따른 전자 부품 탑재 기판의 기본 구성의 바람직한 예로서, 전술한 도 1 내지도 10에서 설명한 실시 형태 A1의 전자 부품 탑재 기판의 기본 구성을 예시할 수 있다. 이하, 이들 도면을 이용하여 실시 형태 C1의 특징부에 대해 설명한다.As a preferable example of the basic structure of the electronic component mounting board|substrate which concerns on Embodiment C1, the basic structure of the electronic component mounting board|substrate of Embodiment A1 demonstrated with reference to FIGS. 1-10 mentioned above can be illustrated. Hereinafter, the characteristic part of Embodiment C1 is demonstrated using these drawings.
<전자파 차폐 부재><Electromagnetic wave shielding member>
실시 형태 C1의 전자파 차폐 부재(1)는 실시 형태 A1에서 설명한 바와 같이, 기판(20) 상에 탑재된 전자 부품(30)의 윗면에 전자파 차폐용 적층체를 올려놓고 열 압착에 의해 전자 부품(30)과 기판(20)을 피복함으로써 얻어진다. 전자파 차폐 부재(1)의 피복 형태는 실시 형태 A1과 동일하므로 생략한다.As described in Embodiment A1, the electromagnetic
실시 형태 C1의 전자파 차폐 부재(1)는 실시 형태 A1과 마찬가지로, 전자파 차폐용 적층체를 사용하여 형성할 수 있다. 그리고 도 4에 나타낸 바와 같이, 전자파 차폐용 적층체(4)는 전자파 차폐용 부재(2)와 이형성 쿠션 부재(3)로 구성된다. 이 전자파 차폐용 부재(2)는 실시 형태 A1과 마찬가지로 도전성 접착제 층(6)의 단층으로 구성된다. 도전성 접착제 층(6)은 열 압착에 의해 전자 부품(30) 및 기판(20)에 접합되어 전자파 차폐층(5)이 형성된다. 이 전자파 차폐층(5)이 전자파 차폐 부재(1)로 기능한다.The electromagnetic
실시 형태 C1의 전자파 차폐용 부재(2)는, 실시 형태 A1에서 설명한 바와 같이, 2층 이상의 도전성 접착제 층의 적층체로부터 형성하거나, 도전성 접착제 층과 하드 코트 층의 적층체에서 형성하거나, 절연성 접착제 층과 도전성 접착제 층의 적층체로부터 형성하거나 하는 등, 다른 층의 적층체로부터 형성될 수 있다.As described in Embodiment A1, the
실시 형태 C1의 전자파 차폐층(5)은 바인더 수지와 도전성 필러가 포함된다. 전자파 차폐층(5) 중의 도전성 필러는 연속적으로 접촉되어 도전성을 나타낸다. 전자파 차폐성을 높이는 관점에서 전자파 차폐층(5)의 시트 저항은 1Ω/□ 이하가 바람직하다.The electromagnetic
전자파 차폐 부재(1)는 그 표층의 JISB0601 ; 2001에 따라 측정한 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 0.05㎛ 이상 0.3㎛ 이하로 한다. 제곱 평균 평방근 높이 Rq는 평균 면에서 거리의 표준 편차에 해당하는 파라미터이며, 높이의 표준 편차에 해당하며, 하나의 축(x 축)에 따른 표면의 높이 변화를 Z(x)로 하여 다음의 수학식(2)으로 표현된다. L은 기준 길이이다.The electromagnetic
본 발명자들이 예의 검토를 거듭한 결과, 전자파 차폐 부재(1)의 표층의 접촉 계면의 형상으로 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 0.05㎛ 이상 0.3㎛ 이하의 범위로 하여, 냉열 사이클 시험(-50 ℃~125℃)에 대해 전자파 차폐 부재의 균열을 효과적으로 방지할 수 있고, 피복성이 뛰어난 전자파 차폐 부재를 제공할 수 있는 것으로 나타났다. 따라서 신뢰성이 높은 탑재 전자 부품 탑재 기판을 제공할 수 있다. 본 실시 형태의 전자 부품 탑재 기판은, 온도 차이가 큰 가혹한 환경에서 사용하는 전자 기기에 사용되는 전자 부품 탑재 기판(예를 들어, 자동차에 탑재되는 전자 부품 탑재 기판)으로서 특히 적합하다.As a result of repeated studies by the inventors of the present inventors, the shape of the contact interface of the surface layer of the electromagnetic
전자 부품 탑재 기판의 제조 공정에서 다이싱 테이프를 통해 전자파 차폐 부재를 다이싱 대에 고정하고 이 상태를 유지하면서 기판 측으로부터 제품마다 단위 제품으로 나누는 공정을 할 수 있다. 이 경우 공정 종료 후 다이싱 테이프 및 전자파 차폐 부재를 박리하는데, 이때 전자파 차폐 부재와 전자 부품 사이에 들뜸(부분적인 밀착 불량)이나 박리가 발생할 수 있다. 본 실시 형태의 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 전자파 차폐 부재의 표층의 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 0.05㎛ 이상 0.3㎛ 이하로 함으로써, 관련 문제에 대해서도 뛰어난 효과를 발휘할 수 있다.In the manufacturing process of the electronic component mounting board, the electromagnetic wave shielding member is fixed to the dicing table through a dicing tape, and while maintaining this state, a process of dividing each product into unit products from the board side may be performed. In this case, the dicing tape and the electromagnetic wave shielding member are peeled off after the process is finished. In this case, lifting (partial adhesion failure) or peeling may occur between the electromagnetic wave shielding member and the electronic component. According to the electronic component mounting board|substrate of this embodiment, when the root mean square height Rq of the surface layer of an electromagnetic wave shielding member shall be 0.05 micrometer or more and 0.3 micrometer or less, the outstanding effect can be exhibited also with respect to a related problem.
본 실시 형태에 의하면, 냉열 사이클 내성 및 단위 제품으로 나누는 공정 후의 전자 부품과의 밀착성이 우수한, 피복성이 우수한 전자파 차폐층을 가지므로, 신뢰성이 높은 전자 부품 탑재 기판을 제공할 수 있다.According to this embodiment, since it has the electromagnetic wave shielding layer excellent in coating property which is excellent in cooling-heat cycle resistance and adhesiveness with the electronic component after the process of dividing into unit products, a highly reliable electronic component mounting board|substrate can be provided.
또한, 전자 부품 탑재 기판은 리플로우 공정 등의 고온 처리를 하는 경우가 있는데, 이때 전자 부품 탑재 기판의 물질, 예를 들면 땜납 플럭스의 성분이 전자파 차폐 부재(101)에 부착할 수 있다. 관련된 문제에 대해서도, 실시 형태 C1의 전자파 차폐 부재의 표층의 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 0.05㎛ 이상 0.3㎛ 이하로 함으로써 탁월한 효과를 발휘할 수 있다. 즉, 전자파 차폐 부재(1) 상의 물질의 부착을 효과적으로 방지하는 효과가 있다. 이것은 전자파 차폐 부재(1)의 표면의 요철을 적절한 것으로 하여, 요철 면에 납땜 플럭스의 성분 등의 물질이 잔류해 버리는 것을 효과적으로 방지 할 수 있는 것에 의한 것으로 생각된다.In addition, the electronic component mounting board may be subjected to a high-temperature treatment such as a reflow process. In this case, the material of the electronic component mounting board, for example, a component of a solder flux may adhere to the electromagnetic
위의 냉열 사이클 시험에 우수한 피복성을 실현하는 관점에서, 실시 형태 C1의 전자파 차폐 부재의 제곱 평균 평방근 높이 Rq의 바람직한 범위는 0.05~0.29㎛이며, 보다 바람직한 범위는 0.05~0.27㎛, 특히 바람직한 범위는 0.05~0.25㎛이다.From the viewpoint of realizing excellent coverage in the above cold-heat cycle test, the preferred range of the root mean square height Rq of the electromagnetic wave shielding member of Embodiment C1 is 0.05 to 0.29 µm, more preferably 0.05 to 0.27 µm, particularly preferred range is 0.05~0.25㎛.
실시 형태 C1의 전자파 차폐 부재(1)의 표층의 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq는 0.05~0.4의 범위로 하는 것이 바람직하고, 0.05~0.37로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.1~0.35로 하는 것이 더욱 바람직하다. 본 명세서에서 제곱 평균 평방근 높이 Rq와 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq는 JISB0601 ; 2001에 따라 측정한 결과 값이며, 후술하는 실시 예에 기재된 방법에 의해 구한 값을 말한다. 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq를 0.05~0.4로 함으로써 방오성과 을 보다 효과적으로 양호하게 할 수 있다.The root mean square inclination Rdq of the surface layer of the electromagnetic
제곱 평균 제곱근 경사 Rdq는, 기준 길이에서 국부 경사 dz/dx의 제곱 평균 제곱근이며, 다음의 수학식(3)에 의해 표현된다.The root mean square slope Rdq is the root mean square root of the local slope dz/dx in the reference length, and is expressed by the following formula (3).
Rdq는 광학 현미경, 레이저 현미경 및 전자 현미경 중 하나에서 얻어지는 표면 형상을 분석 소프트웨어에 의해 처리함으로써 산출할 수 있다. Rdq 윗면의 요철의 험함을 표현하는 매개 변수이다. 윗면의 성상을 표현하는 매개 변수로 산술 평균 높이 Ra 및 최대 높이 Rz 및 Rq가 이용되지만, 이것은 요철의 높이만을 나타낸 파라미터이며, 표면의 상태를 정확하게 표현하는데는 적당하지 않다.Rdq can be calculated by processing the surface shape obtained in one of an optical microscope, a laser microscope, and an electron microscope with analysis software. Rdq This is a parameter that expresses the roughness of the upper surface. Although the arithmetic mean height Ra and the maximum height Rz and Rq are used as parameters for expressing the properties of the upper surface, these parameters represent only the height of the irregularities and are not suitable for accurately expressing the state of the surface.
Rdq의 수치가 클수록 표면 요철은 더 가파르게 된다. 즉, Rdq의 수치에 의해 표면 요철의 험함의 정도를 판단할 수 있다.The larger the value of Rdq, the steeper the surface asperity becomes. That is, the degree of roughness of the surface asperity can be judged by the numerical value of Rdq.
실시 형태 C1의 전자파 차폐 부재(1)의 표면의 제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq는 전자파 차폐용 적층체(4) 중의 전자파 차폐용 부재(2)의 제조 과정에 따라 조정할 수 있다. 또한, 전자파 차폐 부재(1)를 형성하기 위한, 열 압착 전의 전자파 차폐용 부재의 조성물의 성분 및 배합량에 의해 조정할 수 있다. 자세한 내용은 후술한다. 또한, 본 발명자들이 검토를 거듭한 결과, 전자파 차폐층으로서 기능할 수 있는 양의 도전성 필러를 배합함으로써, 리플로우 처리 전후에서 제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq 값은 실질적으로 변화하지 않거나 변동하여도 그 변화량은 적다는 것을 확인했다. 후술하는 실시 예에서 공개하는 하드 코트 층 등의 절연 층에서도 무기 필러를 배합함으로써, 리플로우 처리 전후에서 제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq 값은 실질적으로 변동하지 않거나 변동하여도 그 변화량은 작다는 것을 확인했다.The root mean square height Rq and the root mean square inclination Rdq of the surface of the electromagnetic
실시 형태 C1의 전자파 차폐 부재(1)의 표층의 물 접촉각은 90~130°로 하는 것이 바람직하다. 이 범위로 함으로써, 들뜸을 보다 효과적으로 억제하고, 또한 방오성을 보다 효과적으로 향상시킬 수 있다. 전자파 차폐 부재의 물 접촉각의 보다 바람직한 범위는 95~125°이며, 더욱 바람직한 범위는 100~120°이다. 전자파 차폐 부재의 물 접촉각은 전자파 차폐 부재를 형성하는 조성물에서 표면 조정제의 첨가량에 따라 그 수치를 조정할 수 있다. 전자파 차폐 부재(1)의 표면 조정제의 첨가량이 증가함에 따라 물 접촉각의 값이 커지는 경향이 있다.It is preferable that the water contact angle of the surface layer of the electromagnetic
<전자 부품 탑재 기판의 제조 방법><Method for manufacturing electronic component mounting board>
실시 형태 C1의 전자파 차폐 부재(1)의 제조 방법은, 기본적으로는 실시 형태 A1의 전자파 차폐 부재(1)의 제조 방법과 동일하다. 도전성 접착제 층(6)의 두께는, 전자 부품(30)의 윗면과 측면 및 기판(20)의 노출면에 피복하고, 전자파 차폐층(5)을 형성할 수 있는 두께로 한다. 사용하는 바인더 수지 전구체의 유동성 및 전자 부품(30) 사이의 거리 및 크기에 따라 변동할 수 있지만, 일반적으로 10~200㎛ 정도가 바람직하고, 15~100㎛ 정도가 보다 바람직하고, 20~70㎛ 정도가 더욱 바람직하다.The manufacturing method of the electromagnetic
실시 형태 C1에서는 다이싱 테이프를 이용하여 전자파 차폐 부재(1)를 다이 싱 대에 고정하고, 기판(20) 측에서 다이싱을 할 경우에 대해 설명한다. 기판(20)의 외측 주면에 솔더 볼이 접합하는 경우에는 이 방법이 적합하다. 실시 형태 C1에 따른 전자파 차폐 부재(1)에 의하면, 전자파 차폐 부재(1)의 표층의 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 0.05㎛ 이상 0.3㎛ 이하의 범위로 하는 것에 의해, 단위 제품으로 나누는 공정에서 전자파 차폐 부재(1) 측을 다이싱 테이프로 고정하는 경우에도, 전자파 차폐 부재의 전자 부품의 들뜸(부분 밀착성 불량), 박리를 효과적으로 방지하여 피복성이 양호한 전자 부품 탑재 기판을 제공할 수 있다.In Embodiment C1, the case where the electromagnetic
<전자파 차폐용 적층체><Laminate for electromagnetic wave shielding>
실시 형태 C1의 전자파 차폐용 적층체는, 도 4에서 설명한 바와 같이, 전자파 차폐용 부재(2)와 이형성 쿠션 부재(3)의 2층으로 구성된다. 실시 형태 C1에서는 전자파 차폐용 부재(2)는 단층의 도전성 접착제 층(6)으로 이루어진다. 도전성 접착제 층(6)은 열 압착 공정을 거쳐 전자 부품(30) 및 기판(20)과 접합되어 전자파 차폐층(5)으로서 기능한다.As demonstrated in FIG. 4, the laminated body for electromagnetic wave shields of Embodiment C1 is comprised from the two layers of the
(도전성 접착제 층)(conductive adhesive layer)
도전성 접착제 층(6)은 바인더 수지 전구체와 도전성 필러를 함유하는 수지 조성물로부터 형성된 층이다. 바인더 수지 전구체는 적어도 열연화성 수지를 포함한다. 열연화성 수지는 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 활성 광선 경화성 수지를 예시할 수 있다. 열경화성 수지 및 활성 광선 경화성 수지는 일반적으로 반응성 관능기를 가진다. 열경화성 수지를 이용하는 경우는 경화성 화합물 및 열경화 보조제를 병용할 수 있다. 또한, 활성 광선 경화성 수지를 이용하는 경우에는 광중합 개시제, 증감제 등을 병용할 수 있다. 제조 공정의 간편성에서 열 압착시에 경화하는 열경화 타입이 바람직하다. The conductive
또한, 자기 가교성 수지 및 서로 가교하는 여러 수지를 사용해도 좋다. 또한, 이러한 수지 이외에 열가소성 수지를 혼합시켜도 좋다. 수지 및 경화성 화합물 등의 배합 성분은, 각각 독립적으로 단독 또는 복수의 병용으로 할 수 있다.Moreover, you may use a self-crosslinking resin and various resin which crosslinks with each other. Moreover, you may mix a thermoplastic resin other than these resin. Mixing components, such as resin and a sclerosing|hardenable compound, can each independently be used individually or in multiple combinations.
또한, 도전성 접착제 층(6)의 단계에서 가교가 일부 형성되어 B 스테이지(반경화 상태)로 되어 있어도 좋다. 예를 들어, 열경화성 수지와 경화성 화합물의 일부가 반응하여 반경화 상태를 포함할 수도있다.In addition, in the stage of the conductive
열연화성 수지의 바람직한 예는 실시 형태 A1과 동일하다. 상기 열연화성 수지는 열경화성 수지로서 가열에 의한 가교 반응에 사용할 수 있는 관능기를 여러 개 가지고 있어도 좋다. 관능기의 구체적인 예는 실시 형태 A1과 동일하다.Preferred examples of the thermosoftening resin are the same as in Embodiment A1. The said thermosoftening resin may have several functional groups which can be used for the crosslinking reaction by heating as a thermosetting resin. Specific examples of the functional group are the same as in Embodiment A1.
경화성 화합물의 바람직한 예 및 바람직한 함량 등은 실시 형태 A1과 동일하다. 또한, 열가소성 수지의 바람직한 예, 점착 부여 수지의 바람직한 예 등은 실시 형태 A1과 동일하다.Preferred examples and preferred contents of the curable compound are the same as in Embodiment A1. In addition, the preferable example of a thermoplastic resin, the preferable example of a tackifying resin, etc. are the same as that of Embodiment A1.
또한, 도전성 필러는, 금속 필러, 도전성 세라믹 입자 및 이들의 혼합물을 예시할 수 있고, 이러한 구체적인 예는 실시 형태 A1과 동일하다. 또한, 은 코팅 구리 분말의 은의 바람직한 함량도 실시 형태 A1과 동일하다. 또한, 코어 쉘형 입자의 경우, 코어부에 대한 코트 층의 피복률의 바람직한 범위 등도 실시 형태 A1과 동일하다.In addition, as an electroconductive filler, a metallic filler, electroconductive ceramic particle|grains, and a mixture thereof can be illustrated, These specific examples are the same as that of Embodiment A1. Moreover, the preferable content of silver in the silver-coated copper powder is also the same as that of Embodiment A1. Moreover, in the case of core-shell-type particle|grains, the preferable range etc. of the coverage of the coating layer with respect to a core part are also the same as that of Embodiment A1.
도전성 필러로서 전자파 흡수 필러를 이용해도 좋고, 구체적 예로는 실시 형태 A1과 같은 예를 들 수 있다.An electromagnetic wave absorbing filler may be used as an electroconductive filler, and the example similar to Embodiment A1 is given as a specific example.
도전성 접착제 층에 사용되는 도전성 필러의 형상은 비늘(플레이크) 모양 입자, 덴드라이트(樹枝) 모양 입자, 바늘 모양 입자, 플레이트 모양 입자, 포도 모양 입자, 섬유 모양 입자, 구형 입자를 예시할 수 있지만, 비늘 모양 입자의 비율을 높임으로써 제곱 평균 평방근 높이 Rq가 저하되는 경향이 있고, 비늘 모양 입자의 비율을 낮춤으로써 제곱 평균 평방근 높이 Rq가 높아지는 경향이 있다. 원하는 제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq의 수치를 조절하는 관점에서, 바늘 모양 입자 또는/및 덴드라이트 모양 입자의 도전성 필러를 함유시키는 것이 바람직하다.The shape of the conductive filler used in the conductive adhesive layer can be exemplified by scaly particles, dendrite particles, needle-like particles, plate-like particles, grape-like particles, fibrous particles, and spherical particles, By increasing the proportion of scaly particles, the root mean square height Rq tends to decrease, and by decreasing the proportion of scaly particles, the root mean square height Rq tends to increase. From the viewpoint of adjusting the desired values of the root mean square height Rq and the root mean square inclination Rdq, it is preferable to contain a conductive filler of needle-shaped particles or/and dendrite-shaped particles.
도전성 필러는 단독 또는 혼합하여 사용된다. 도전성 필러를 병용하는 경우 원하는 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 얻어 안정적인 전자파 차폐 부재를 제공한다는 관점에서, 비늘 모양 입자 및 덴드라이트 모양 입자의 조합, 비늘 모양 입자 및 바늘 모양 입자의 조합, 비늘 모양 입자, 덴드라이트 모양 입자 및 바늘 모양 입자의 조합이 바람직하다. 특히 바람직하게는 비늘 모양 입자와 덴드라이트 모양 입자의 조합이다. 여기에서 비늘 모양 입자는 두께가 0.2㎛ 이하인 것이 바람직하다.Conductive fillers are used individually or in mixture. Combination of scaly particles and dendrite particles, a combination of scaly particles and needle-like particles, scaly particles, den A combination of dry and acicular particles is preferred. Particularly preferred is a combination of scaly particles and dendrite-like particles. Here, it is preferable that the scaly particles have a thickness of 0.2 µm or less.
도전성 필러의 함량은 열연화성 수지 조성물 층의 고형분(100질량%) 중 40~85질량%인 것이 바람직하고, 50 내지 80질량%가 더 바람직하다.The content of the conductive filler is preferably 40 to 85% by mass, more preferably 50 to 80% by mass, based on the solid content (100% by mass) of the thermosoftening resin composition layer.
도전성 접착제 층 중 도전성 필러 100질량%에 대하여 바늘 모양 입자 또는/및 덴드라이트 모양 입자를 30질량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.1~20질량%, 더욱 바람직하게는 1~20질량%, 특히 바람직한 범위는 3~16 질량%이다. 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 0.05㎛ 이상 0.3㎛ 이하로 조정하는 방법은 다양한 방법이 있으며, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 전자파 차폐 부재의 표층, 실시 형태 C1에서는 도전성 접착제 층(6)의 표층을 쿠션 부재를 적층하기 전에 롤로 미리 가압 처리하고, 이어서 쿠션 부재의, 전자파 차폐 부재의 표층과 접합하는 측의 표면의 제곱 평균 평방근 높이가 원하는 Rq인 쿠션 부재를 이용함으로써, 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 쉽게 조정할 수 있다.It is preferable to make needle-shaped particle|grains or/and dendrite-shaped particle|grains into 30 mass % or less with respect to 100 mass % of electroconductive fillers in a conductive adhesive layer. More preferably, it is 0.1-20 mass %, More preferably, it is 1-20 mass %, The especially preferable range is 3-16 mass %. The method of adjusting the root mean square height Rq to 0.05 micrometer or more and 0.3 micrometer or less has various methods, and is not specifically limited. For example, in the surface layer of the electromagnetic wave shielding member, in Embodiment C1, the surface layer of the conductive
바늘 모양 입자의 평균 입자 지름 D50은 1~50㎛가 바람직하고, 2~25㎛이 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 5~15㎛이다. 덴드라이트 모양 입자의 평균 입자 지름 D50의 바람직한 범위는 2~100㎛가 바람직하고, 2~80㎛이 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 3~50㎛이며, 특히 바람직하게는 5~20㎛이다. 비늘 모양 입자의 평균 입자 지름 D50은 2~70㎛가 바람직하고, 2~50㎛이 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 3~25㎛이며, 특히 바람직하게는 5~15㎛이다.1-50 micrometers is preferable and, as for average particle diameter D50 of acicular particle|grains, 2-25 micrometers is more preferable. More preferably, it is 5-15 micrometers. 2-100 micrometers is preferable and, as for the preferable range of average particle diameter D50 of a dendrite-like particle|grains, 2-80 micrometers is more preferable. More preferably, it is 3-50 micrometers, Especially preferably, it is 5-20 micrometers. 2-70 micrometers is preferable and, as for the average particle diameter D50 of scaly particle|grains, 2-50 micrometers is more preferable. More preferably, it is 3-25 micrometers, Especially preferably, it is 5-15 micrometers.
덴드라이트 모양 입자 및/또는 바늘 모양 입자와, 비늘 모양 입자를 병용함으로써, 도전성 필러끼리의 접촉점을 많게 하고 차폐 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 덴드라이트 모양 입자 및/또는 바늘 모양 입자의 병용에 의해, 바인더 성분과의 접촉 면적을 증가시켜 신뢰성이 높은 전자파 차폐 부재를 제공할 수 있다.By using the dendrite particles and/or acicular particles together with the scaly particles, the contact points between the conductive fillers can be increased and the shielding properties can be improved. In addition, by using the dendrite-shaped particles and/or the needle-shaped particles together, it is possible to increase the contact area with the binder component to provide an electromagnetic wave shielding member with high reliability.
도전성 접착제 층을 구성하는 조성물은 착색제, 난연제, 무기 첨가제, 윤활제, 블로킹 방지제 등을 포함할 수 있다. 이러한 구체적인 예는 실시 형태 A1과 동일하다.The composition constituting the conductive adhesive layer may include a colorant, a flame retardant, an inorganic additive, a lubricant, an antiblocking agent, and the like. This specific example is the same as that of Embodiment A1.
도전성 접착제 층은 열 압착에 의해 도전성 필러가 연속적으로 접촉하여 도전성을 갖는 층이면 되고, 열 압착 이전 단계에서 반드시 도전성을 가지고 있지 않아도 된다. 도전성 접착제 층은 상술한 도전성 필러와 바인더 수지 전구체를 함유하는 조성물을 혼합 교반하여 이형성 기재 상에 도공 후 건조하여 형성할 수 있다. 또한, 이형성 쿠션 부재(3)에 직접 도공 건조하는 방법으로도 형성할 수 있다.The conductive adhesive layer may be a layer having conductivity by continuously contacting conductive fillers by thermal compression, and may not necessarily have conductivity in the step prior to thermal compression. The conductive adhesive layer may be formed by mixing and stirring the composition containing the above-described conductive filler and the binder resin precursor, coating the composition on a releasable substrate, and then drying the mixture. Moreover, it can form also by the method of coating-drying directly on the
도전성 접착제 층의 도액을 도공 후, 건조하여 이형성 기재 상에 도전성 접착제 층을 형성한다. 건조 공정은 가열(예를 들어, 80~120℃)을 하는 것이 바람직하다. 전자파 차폐 부재의 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 조정하기 위해, 도액을 도공 후 가열 건조 전에 25℃(실온)·상압 건조를 1~17 분하는 것이 바람직하다. 보다 바람직한 가열 건조 전의 25℃(실온)에서 건조 시간은 2~14분이다. 가열 건조 전에 실온에서 건조하는 과정을 설치함으로써 제곱 평균 평방근 높이 Rq 값을 조정할 수 있다.After coating the coating liquid of the conductive adhesive layer, it is dried to form a conductive adhesive layer on the releasable substrate. It is preferable to heat (for example, 80-120 degreeC) in a drying process. In order to adjust the root mean square height Rq of an electromagnetic wave shielding member, it is preferable to carry out 25 degreeC (room temperature) and atmospheric pressure drying for 1-17 minutes before heat-drying after coating a coating liquid. More preferable drying time is 2 to 14 minutes at 25 degreeC (room temperature) before heat-drying. The root mean square height Rq value can be adjusted by providing a process of drying at room temperature before heat drying.
다음으로, 도액의 점도와 가열 건조 전의 25℃에서 건조 시간이 전자파 차폐 부재(1)의 제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq에 미치는 영향을 설명한다. 이형성 기재 상에 도전성 접착제 층을 형성하기 위해 도액을 도포한다. 용제가 포함되어 있는 건조 상의 도전성 접착제 층이 얻어진다.Next, the effect of the viscosity of the coating liquid and the drying time at 25°C before drying by heat on the root mean square height Rq and the root mean square inclination Rdq of the electromagnetic
건조 상의 도전성 접착제 층에 25℃에서 건조 시간을 길게 설정하는 것에 의해, 용제의 증발 속도가 느린 상태를 의도적으로 길게 하고, 따라서 바인더 수지 전구체가 아래로 가라 않는 것을 촉진할 수 있다. 한편, 25℃에서 건조 시간을 짧게 설정하는 것에 의해, 바인더 수지 전구체의 아래로 가라 않는 것을 억제하고, 그 단계에서 가열 건조하는 것에 의해 도전성 필러가 위로 서기 쉽게 된다. 또한, 용제의 증발에 따른 발포가 생기기 쉽게 되고, 윗면이 거칠어지는 경향이 된다. 또한, 25℃의 온도 설정은 일례이며, 적절하게 설정 가능하다 것은 말할 것도 없다.By setting a long drying time at 25° C. for the dry conductive adhesive layer, it is possible to intentionally lengthen the state in which the solvent evaporation rate is slow, thus promoting that the binder resin precursor does not sink downward. On the other hand, by setting the drying time short at 25 degreeC, it suppresses that the binder resin precursor does not sink down, and by heating and drying at that stage, an electroconductive filler becomes easy to stand up. In addition, foaming due to evaporation of the solvent tends to occur, and the upper surface tends to be rough. In addition, 25 degreeC temperature setting is an example, and it goes without saying that it can be set suitably.
상기 도액의 고형분은 20~30%로 하는 것이 바람직하다. 또한, 전자파 차폐 부재의 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 조정하기 위해 상기 도액의 B형 점도계로 측정한 도액 점도를 600~1800mPa·s의 범위로 하는 것이 바람직하다. 또한, 전자파 차폐 부재의 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 조정하기 위해 상기 도액의 틱소트로피 인덱스를 1.2~1.5로 하는 것이 바람직하다.It is preferable to set the solid content of the said coating liquid to 20 to 30%. Moreover, in order to adjust the root mean square height Rq of an electromagnetic wave shielding member, it is preferable to make the coating liquid viscosity measured with the B-type viscometer of the said coating liquid into the range of 600-1800 mPa*s. Moreover, in order to adjust the root mean square height Rq of an electromagnetic wave shielding member, it is preferable to set the thixotropy index of the said coating liquid to 1.2-1.5.
제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq 값은 도전성 접착제 층을 형성하는 도액의 점도에 따라 달라진다. 도액 점도가 높은 것이 도전성 필러의 유동성이 억제되는 경향이 있다. 따라서 점도가 높은 경우, 도전성 필러는 배향하지 않고 랜덤이 되는 경향이 있다. 한편, 점도가 낮은 경우 비늘 모양 입자는 기판 면에 대해, 랜덤이 되는 경향이 있다. 한편, 점도가 낮은 경우 비늘 모양 입자는 기판 면에 대해 주면이 대개 대향하도록 배향하는 경향이 있다. 또한, 25℃에서 건조 시간을 단축하여 가열 건조하면, 점도가 높으면 발포에 의한 표면 거칠기가 커지는 경향이 있고, 점도가 낮으면 도전성 필러가 수직 방향으로 이동하기 쉬운 경향이 된다. 이처럼 도액의 점도와 25℃에서 건조 시간을 조정함으로써 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 조정할 수 있다.The values of the root mean square height Rq and the root mean square slope Rdq depend on the viscosity of the coating liquid forming the conductive adhesive layer. There exists a tendency for the fluidity|liquidity of an electroconductive filler to be suppressed for a thing with a high coating-liquid viscosity. Therefore, when the viscosity is high, the conductive filler tends to be random without orientation. On the other hand, when the viscosity is low, the scaly particles tend to be random with respect to the surface of the substrate. On the other hand, when the viscosity is low, the scaly particles tend to be oriented so that the main surface is usually opposite to the substrate surface. In addition, when the drying time is shortened at 25° C. and heat-dried, when the viscosity is high, the surface roughness due to foaming tends to increase, and when the viscosity is low, the conductive filler tends to move in the vertical direction. In this way, the root mean square height Rq can be adjusted by adjusting the viscosity of the coating solution and the drying time at 25°C.
또한, 전자파 차폐 부재(1)의 제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq는 덴드라이트 모양 입자 및/또는 바늘 모양 입자의 입자 직경에 따라 조정할 수 있다. 덴드라이트 모양 입자 및/또는 바늘 모양 입자의 입자 지름이 전자파 차폐 부재(1)의 제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq에 미치는 영향을 설명한다. 이형성 기재 상에 도전성 접착제 층(6)을 형성하기 위해 도액을 도포하여 건조 상의 도전성 접착제 층이 얻어진다. 도전성 필러의 일종인 덴드라이트 모양 입자의 평균 입자 지름 D50이 작으면 제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq 값이 저하되는 경향이 있고, 반대로, 덴드라이트 모양 입자의 평균 입자 지름 D50이 크면 제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq 값이 커지는 경향이 있다. 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq는 또한 바늘 모양 입자의 형상에 의존한다. 바늘 모양 입자의 입경 D50이 크면 Rdq이 커진다. 또한, 바늘 모양 입자의 입경 D50이 작으면 Rdq이 작아진다.In addition, the root mean square height Rq and the root mean square inclination Rdq of the electromagnetic
전자파 차폐 부재(1)의 제곱 평균 평방근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq는 상술한 과정을 통한 조정 방법 외에, 열 압착 전의 전자파 차폐용 부재(2)를 형성하는 조성물에서 비늘 모양의 도전성 필러와, 바늘 또는/및 덴드라이트 모양의 도전성 필러의 첨가량 비의 조정에 의해 조정할 수 있다. 또한, 전자파 차폐 부재(1)의 제곱 평균 평방근 높이 Rq는 도전성 필러의 평균 입자 지름 D50 및 D90에 의해서도 조정할 수 있다.The root mean square height Rq and the root mean square inclination Rdq of the electromagnetic
실시 형태 C1에서는 전자파 차폐용 부재(2)는 도전성 접착제 층(6)의 단층으로 이루어지므로, 이 도전성 접착제 층(6) 위에 이형성 쿠션 부재(3)를 접합한다. 접합 방법은 라미네이트에 의한 방법 등이 있다.In Embodiment C1, since the
이형성 기재는 한쪽 면 또는 양면이 이형성이 있는 기판이며, 150℃에서의 인장 파단 변형률이 50% 미만의 시트이다. 이형성 기재의 구체적인 예 등은 실시 형태 A1과 동일하다.The releasable substrate is a substrate having releasability on one or both sides, and is a sheet having a tensile strain at break of less than 50% at 150°C. Specific examples and the like of the releasable substrate are the same as in Embodiment A1.
또한, 이형성 쿠션 부재도 실시 형태 A1의 기재를 원용할 수 있다.In addition, the description of Embodiment A1 can also be used for a releasable cushion member.
[실시 형태 C2][Embodiment C2]
다음으로, 실시 형태 C1과는 다른 전자 부품 탑재 기판의 예에 대해 설명한다. 실시 형태 C2에 따른 전자 부품 탑재 기판은 전자파 차폐 부재가 2층의 전자파 차폐층으로 되어 있다는 점에서 단층의 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재를 이용한 실시 형태 C1과 다르지만, 기타 기본적인 구성 및 제조 방법은 실시 형태 C1과 동일하다. 그리고 실시 형태 A에 따른 전자파 차폐 부재 대신에, 실시 형태 C에 따른 전자파 차폐 부재를 사용하고 있는 점 및 별도 기재하고 있는 점을 제외하고, 실시 형태 A2와 기본적인 구성 및 제조 방법은 동일하다. 중복 기재는 적절히 생략한다.Next, the example of the electronic component mounting board|substrate different from Embodiment C1 is demonstrated. The electronic component mounting board according to Embodiment C2 differs from Embodiment C1 using the electromagnetic wave shielding member comprising a single electromagnetic wave shielding layer in that the electromagnetic wave shielding member is composed of two electromagnetic wave shielding layers, but the other basic configuration and manufacturing method are It is the same as Embodiment C1. In addition, the basic configuration and manufacturing method of Embodiment A2 are the same as those of Embodiment A2, except that the electromagnetic wave shielding member according to Embodiment C is used instead of the electromagnetic wave shielding member according to Embodiment A and the points are separately described. Duplicate descriptions are appropriately omitted.
실시 형태 C2의 전자파 차폐 부재는, 도 11에 나타낸 바와 같이, 제1 도전성 접착제 층(6a1) 및 제2 도전성 접착제 층(6a2)의 2층으로 이루어진 도전성 접착제 층(6a)인 전자파 차폐용 부재(2a)와, 이형성 쿠션 부재(3a)를 포함하는 전자파 차폐용 적층체(4a)를 이용하여 형성된다. 이 전자파 차폐용 적층체(4a)를 열 압착함으로써, 전자 부품(30)이 탑재된 기판(20) 상에 제1 전자파 차폐층과 제2 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재가 피복된다. 상층의 제2 도전성 접착제 층(6a2)은 실시 형태 C1과 같은 조성과 공정으로 제조하고, 하층의 제1 도전성 접착제 층(6a1)은 제곱 평균 평방근 높이 Rq의 범위에 한정되지 않고 필요에 따라 설계할 수 있다. 예를 들어, 제1 도전성 접착제 층(6a1)에 포함되는 도전성 필러로서, 섬유 모양 입자, 구형 입자 등의 필러를 이용한 층으로 할 수 있다. 또한, 제1 도전성 접착제 층(6a1)을 이방 도전성 접착제 층, 제2 도전성 접착제 층(6a2)을 등 방 도전성 접착제 층으로 하는 등의 설계를 하는 것도 가능하다. 또한, 전자파 반사층과 전자파 흡수층의 적층체로 하는 양태도 바람직하다. 전자파 차폐층을 3층 이상 적층하여도 좋다.The electromagnetic wave shielding member of Embodiment C2, as shown in FIG. 11, is an electromagnetic wave shielding member (6a) comprising two layers of a first conductive adhesive layer 6a1 and a second conductive adhesive layer 6a2. It is formed using the
실시 형태 C2에 따른 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 2층의 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재를 이용하여 실시 형태 C1과 같은 효과를 얻을 수 있다. 또한, 전자파 차폐층을 2층 적층함으로써 각층의 설계 자유도를 높일 수 있으므로 필요에 따라 전자파 차폐 부재를 제공하기 쉬운 장점이 있다.According to the electronic component mounting board|substrate concerning Embodiment C2, the effect similar to Embodiment C1 can be acquired using the electromagnetic wave shielding member which consists of two electromagnetic wave shielding layers. In addition, since the degree of design freedom of each layer can be increased by stacking two electromagnetic wave shielding layers, there is an advantage in that it is easy to provide an electromagnetic wave shielding member if necessary.
[실시 형태 C3][Embodiment C3]
실시 형태 C3에 따른 전자 부품 탑재 기판은 전자파 차폐 부재가 전자파 차폐층과 하드 코트 층의 적층체로 이루어져 있다는 점에서 단층의 전자파 차폐층으로 이루어진 전자파 차폐 부재를 이용한 실시 형태 C1과 다르지만, 다른 기본적인 구성 및 제조 방법은 동일하다.The electronic component mounting board according to Embodiment C3 differs from Embodiment C1 using an electromagnetic wave shielding member comprising a single-layer electromagnetic wave shielding layer in that the electromagnetic wave shielding member is composed of a laminate of an electromagnetic wave shielding layer and a hard coat layer, but has a different basic configuration and The manufacturing method is the same.
실시 형태 C3에 따른 전자파 차폐 부재는, 도 12에 나타낸 바와 같이, 1층의 도전성 접착제 층(6b)과 절연 수지 층(7b)의 적층체인 전자파 차폐용 부재(2b) 및 이형성 쿠션 부재(3b)로 이루어지는 전자파 차폐용 적층체(4b)를 이용하여 형성된다. 이 전자파 차폐용 적층체(4b)를 열 압착하는 것에 의해, 전자 부품이 탑재된 기판 상에 도전성 접착제 층(6b)에서 형성된 전자파 차폐층과 절연 수지 층(7b)에서 형성된 하드 코트 층을 포함하는 전자파 차폐 부재를 얻을 수 있다. 실시 형태 C3의 전자파 차폐 부재는 하드 코트 층 측에서 측정했을 때의 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 0.05㎛ 이상 0.3㎛ 이하로 한다.As shown in FIG. 12, the electromagnetic wave shielding member according to Embodiment C3 is a laminate of a one-layer conductive
절연 수지 층(7b)은 바인더 수지 전구체와 무기 필러를 함유하는 수지 조성물로부터 형성된 층이다. 바인더 수지 전구체는 적어도 열연화성 수지를 포함한다. 바인더 수지 전구체의 예시 및 바람직한 예는, 실시 형태 A1에서 언급한 전자파 차폐용 부재의 도전성 접착제 층과 동일하다. 도전성 접착제 층과 절연 수지층의 바인더 수지 전구체는 동일하여도 달라도 좋다.The insulating
무기 필러는 실시 형태 C1의 도전성 접착제 층과 달리 도전성을 가지고 있지 않지만, 바람직한 무기 필러의 특성, 예를 들어 형상·배합량·D50·D90 등은 도전성 필러에서 언급한 예와 같다. 무기 필러로는, 예를 들면, 실리카(용융 실리카, 결정성 실리카, 비정질 실리카), 베릴리아, 알루미나, 수산화마그네슘, 황산바륨, 탄산칼슘, 산화티탄, 산화아연, 삼산화안티몬, 산화안티몬, 산화마그네슘, 탈크, 카올리나이트, 운모, 염기 탄산마그네슘, 세리사이트, 몬모릴로나이트, 벤토나이트, 카올린, 점토, 하이드로탈사이트, 월라스토나이트, 조노토라이트, 질화규소, 질화붕소, 질화알루미늄, 인산수소칼슘, 인산칼슘, 유리 조각, 수화 유리, 티탄산칼슘, 세피올라이트, 황산마그네슘, 수산화알루미늄, 수산화지르코늄, 수산화바륨, 수산화칼슘, 산화칼슘, 산화주석, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 산화몰리브덴, 산화니켈, 탄산아연, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 붕산아연, 붕산알루미늄, 규산칼슘, 탄화규소, 탄화티타늄, 다이아몬드, 흑연, 그래핀 등의 무기 화합물을 들 수 있다.Unlike the conductive adhesive layer of Embodiment C1, the inorganic filler does not have conductivity, but preferable characteristics of the inorganic filler, such as shape, blending amount, D50 and D90, etc., are the same as in the example mentioned for the conductive filler. Examples of the inorganic filler include silica (fused silica, crystalline silica, amorphous silica), beryllia, alumina, magnesium hydroxide, barium sulfate, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, antimony trioxide, antimony oxide, magnesium oxide. , talc, kaolinite, mica, base magnesium carbonate, sericite, montmorillonite, bentonite, kaolin, clay, hydrotalcite, wollastonite, zonotorite, silicon nitride, boron nitride, aluminum nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, glass Flakes, hydrated glass, calcium titanate, sepiolite, magnesium sulfate, aluminum hydroxide, zirconium hydroxide, barium hydroxide, calcium hydroxide, calcium oxide, tin oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, molybdenum oxide, nickel oxide, zinc carbonate, magnesium carbonate, and inorganic compounds such as barium carbonate, zinc borate, aluminum borate, calcium silicate, silicon carbide, titanium carbide, diamond, graphite, and graphene.
무기 필러로 열 전도성 필러를 이용함으로써 하드 코트 층을 열전도 층으로도 기능하게 할 수 있다. 용도에 따라 하드 코트 층, 열전도 층(예를 들면 방열 층), 혹은 양자의 기능을 갖는 층으로 이용할 수 있다.By using the thermally conductive filler as the inorganic filler, the hard coat layer can also function as the thermally conductive layer. Depending on the application, it can be used as a hard coat layer, a heat conductive layer (for example, a heat dissipation layer), or a layer having both functions.
절연 수지층에 사용하는 바인더 수지 전구체의 바람직한 배합 성분 및 배합량의 바람직한 예는 실시 형태 C1의 도전성 접착제 층과 동일하다. 또한, 절연 수지층에 사용하는 무기 필러의 바람직한 형상, 바람직한 평균 입자 지름 D50 등은 실시 형태 C1의 도전성 필러와 동일하다. 또한, 열연화성 수지 조성물 및 열연화성 수지 조성물 층에 적용할 수 있는 첨가제는, 실시 예 C1의 설명을 원용할 수 있다.The preferable example of the preferable compounding component and compounding quantity of the binder resin precursor used for an insulating resin layer is the same as that of the conductive adhesive layer of Embodiment C1. In addition, the preferable shape of the inorganic filler used for an insulating resin layer, preferable average particle diameter D50, etc. are the same as that of the electroconductive filler of Embodiment C1. In addition, as for the thermosoftening resin composition and the additive applicable to the thermosoftening resin composition layer, the description of Example C1 can be referred.
실시 형태 C3에 따른 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 하드 코트 층을 갖는 전자파 차폐 부재를 이용하는 것에 의해, 실시 형태 C1에서 언급한 효과 외에도, 전자파 차폐층을 하드 코트 층으로 피복함으로써 더 뛰어난 내구성을 갖는 전자파 차폐 부재를 제공할 수 있다.According to the electronic component mounting board|substrate according to Embodiment C3, by using the electromagnetic wave shielding member which has a hard coat layer, in addition to the effect mentioned in Embodiment C1, the electromagnetic wave which has more outstanding durability by covering the electromagnetic wave shielding layer with a hard coat layer A shielding member may be provided.
[실시 형태 C4, 실시 형태 C5][Embodiment C4, Embodiment C5]
실시 형태 C4 및 실시 형태 C5의 전자 부품 탑재 기판은 실시 형태 A에 따른 전자파 차폐 부재 대신에, 실시 형태 C에 따른 전자파 차폐 부재를 사용한다는 점을 제외하고는 상술한 실시 형태 A4, 실시 형태 A5의 설명을 원용할 수 있다.The electronic component mounting boards of Embodiments C4 and C5 are those of Embodiments A4 and A5 described above, except that the electromagnetic wave shielding member according to Embodiment C is used instead of the electromagnetic wave shielding member according to Embodiment A. explanation can be used.
<변형 예><Modified example>
다음으로, 본 실시 예에 따른 전자 부품 탑재 기판 등의 변형 예에 대해 설명한다. 그러나 본 발명은 상기 실시 형태 및 변형 예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 취지에 합치하는 한 다른 실시 형태도 본 발명의 범주에 속한다. 또한, 각 실시 예 및 변형 예는 서로 적절하게 결합된다.Next, a modified example of the electronic component mounting board, etc. according to the present embodiment will be described. However, the present invention is not limited to the above embodiments and modified examples, and other embodiments are also included in the scope of the present invention as long as they are consistent with the spirit of the present invention. In addition, each of the embodiments and modifications are appropriately combined with each other.
실시 형태 A4, A5, B4, B5, C4, C5에서는 절연성 접착제 층, 도전성 접착제 층 및 이형성 쿠션 부재의 적층체를 포함하는 전자파 차폐용 적층체를 이용한 예를 설명했지만, 다음과 같이 제조하는 것도 가능하다. 즉, 도 16A에 나타낸 바와 같이, 복수의 전자 부품(30)이 탑재된 기판(20) 상에, 먼저 도 16B에 나타낸 바와 같이, 절연 층(9e)을 형성한다. 이 절연 층(9e)은 절연성 접착제 층을 포함하는 시트를 열 프레스함으로써 얻을 수 있다. 그 후, 도전성 접착제 층(6e) 및 이형성 쿠션 부재(3e)의 적층체를 포함하는 전자파 차폐용 적층체(4e)를 이용하여 전자파 차폐층(5e)을 형성한다(도 16C, 16D). 이러한 공정을 거쳐 전자파 차폐 부재가 형성된 전자 부품 탑재 기판(55)이 얻어진다. 또한, 절연 층(9e)은 시트를 열 프레스하는 방법 대신에, 용액 수지를 도포하는 방법 및 용액 수지를 스프레이하는 방법을 예시할 수 있다.In Embodiments A4, A5, B4, B5, C4, and C5, examples of using a laminate for electromagnetic wave shielding including a laminate of an insulating adhesive layer, a conductive adhesive layer, and a releasable cushion member have been described, but it is also possible to manufacture as follows do. That is, as shown in FIG. 16A, the insulating
상기 실시 형태에서는 부품의 일례로서 전자 부품을 예로 설명했지만, 전자파로부터 차폐하고 싶은 부품 전반에 대해 본 발명을 적용할 수 있다. 또한, 부품의 형상은 직사각형에 한정되지 않고 모서리가 R 형상인 부품, 부품의 윗면과 측면이 이루는 각도가 예각의 부품, 둔각의 부품도 포함한다. 또, 윗면에 요철 형상이 있는 부품, 전자 부품의 외면이 구형 등의 곡면으로 되어있는 경우도 포함한다. 또한, 상기 실시 예에서는, 기판(20)에 하프-다이싱 홈(25)(도 2 참조)이 형성되어 있었지만, 하프-다이싱 홈(25)은 필수가 아니고 평면 기판에 전자파 차폐 부재를 적재하여 피복시켜 수 있다. 또한, 본 발명의 전자 부품 탑재 기판은, 예를 들면 기판(20)을 모두 다이싱하여 개별 제품 단위로 나눈 전자 부품이 탑재된 전자 부품 탑재 기판이 별도의 유지 기재 등에 적재되어 있는 경우도 포함한다.Although the electronic component was demonstrated as an example as an example of a component in the said embodiment, this invention can be applied with respect to the component in general to be shielded from electromagnetic waves. In addition, the shape of the part is not limited to a rectangle, and includes a part having an R-shaped corner, a part having an acute angle between the upper surface and the side surface of the part, and an obtuse part having an obtuse angle. Moreover, the case where the outer surface of the component with an uneven|corrugated shape on the upper surface becomes a curved surface, such as a spherical shape, is also included. Further, in the above embodiment, although the half-dicing groove 25 (refer to FIG. 2) is formed in the
또한, 전자파 차폐용 적층체는 상기 실시 형태의 적층 형태에 한정되지 않는다. 예를 들어, 이형성 쿠션 부재 위에 지지 기판이 적층되어 있어도 좋다. 지지 기판을 적층하는 것에 의해, 열 압착시 장치의 오염을 간편하게 방지할 수 있다. 또한, 지지 기판에 의해, 전자파 차폐용 적층체의 부착 공정이 쉬워진다는 장점이 있다. 또한, 전자 부품은 기판의 한쪽 면뿐만 아니라 양면에 탑재하고, 각 전자 부품에 전자파 차폐 부재를 형성할 수도 있다.In addition, the laminated body for electromagnetic wave shielding is not limited to the laminated form of the said embodiment. For example, the support substrate may be laminated|stacked on the releasable cushion member. By laminating the support substrate, contamination of the device during thermocompression can be easily prevented. Moreover, there exists an advantage that the attachment process of the laminated body for electromagnetic wave shielding becomes easy with a support substrate. In addition, the electronic component may be mounted on both sides as well as one side of the substrate, and an electromagnetic wave shielding member may be formed on each electronic component.
본 실시 예에 따른 전자 부품 탑재 기판에 의하면, 요철 구조에 대한 피복 성이 뛰어나, PC 및 모바일 기기 또는 디지털 카메라 등의 각종 전자 기기에 적합하게 적용할 수 있다. According to the electronic component mounting board according to the present embodiment, the coating property to the uneven structure is excellent, and thus it can be suitably applied to various electronic devices such as personal computers and mobile devices or digital cameras.
≪실시 예≫≪Example≫
이하, 본 발명을 실시 예에 의하여 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 다음의 실시 예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시 예 중의 「부」는 「질량부」를 「%」는 「질량%」를 각각 표시한다. 또한, 본 발명에 기재된 값은 다음의 방법으로 구했다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to the following examples. In addition, in Examples, "part" represents "part by mass" and "%" represents "mass %", respectively. In addition, the value described in this invention was calculated|required by the following method.
[실시 형태 A][Embodiment A]
(시험 기판 1)(Test board 1)
유리 에폭시로 이루어진 기판 상에 몰드 밀봉된 전자 부품(1cm×1cm)을 5×5개 어레이 형태로 탑재한 기판을 마련했다. 기판의 두께는 0.3mm이며, 몰드 밀봉 두께, 즉 기판 윗면에서 몰드 밀봉재의 윗면까지의 높이(부품 높이) H는 0.7mm이다. 그 후, 부품 간의 간극인 홈을 따라 하프 다이싱을 행하고, 시험 기판을 얻었다(도 17 참조). 하프 커팅 홈 깊이는 0.8mm(기판(20)의 절단 홈 깊이가 0.1mm), 하프 커팅 홈 폭은 200㎛로 했다.A substrate was prepared in which mold-sealed electronic components (1 cm × 1 cm) were mounted in an array of 5 × 5 on a substrate made of glass epoxy. The thickness of the substrate is 0.3 mm, and the mold sealing thickness, that is, the height from the upper surface of the substrate to the upper surface of the mold sealant (component height) H, is 0.7 mm. Then, half dicing was performed along the groove|channel which is a clearance gap between components, and the test board|substrate was obtained (refer FIG. 17). The half-cut groove depth was 0.8 mm (the cut groove depth of the
(시험 기판 2,3)(
하프 커팅 홈 폭을 150㎛로 변경한 이외는 시험 기판 1과 동일한 방법으로 시험 기판 2를 제작하였다. 또한, 하프 커팅 홈 폭을 150㎛로 변경하고 또한 홈 깊이를 1000㎛로 변경한 것 이외에는 시험 기판 1과 동일한 방법으로 시험 기판 3을 제작했다.A
이하, 실시 예에서 사용한 재료를 나타낸다.Hereinafter, materials used in Examples are shown.
·바인더 수지 전구체・Binder resin precursor
수지 1 : 폴리카보네이트 수지(토요켐사제)Resin 1: Polycarbonate resin (manufactured by Toyochem)
수지 2 : 페녹시 수지(토요켐사제)Resin 2: Phenoxy resin (manufactured by Toyochem)
경화성 화합물 1 : 데나콜 EX830(나가세켐테크사제)Curable compound 1: Denacol EX830 (manufactured by Nagase Chemtech)
경화성 화합물 2 : jERYX8000(미쓰비시가가쿠사제)Curable compound 2: jERYX8000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
경화성 화합물 3 : jER157S70(미쓰비시가가쿠사제)Curable compound 3: jER157S70 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
·경화 촉진제 : PZ-33(니혼쇼쿠바이사제)・Cure accelerator: PZ-33 (manufactured by Nihon Shokubai)
·도전성 필러 1 : 플레이크 모양 Ag(평균 입자 지름 D50 : 11㎛)(후쿠다킨조쿠사제)Conductive filler 1: flake-like Ag (average particle diameter D50: 11 µm) (manufactured by Fukuda Kinzoku Corporation)
·도전성 필러 2 : 바늘 모양 은 코팅 구리(평균 입자 지름 D50 : 7.5㎛)(후쿠다킨조쿠사제)Conductive filler 2: needle-shaped silver-coated copper (average particle diameter D50: 7.5 µm) (manufactured by Fukuda Kinzoku Corporation)
· 첨가제1 : BYK322(빅케미사제)Additive 1: BYK322 (manufactured by Big Chemie)
· 첨가제2 : BYK337(빅케미사제)Additive 2: BYK337 (manufactured by Big Chemie)
[실시 예 A1][Example A1]
(도전성 접착제 층의 수지 조성물의 제조)(Preparation of the resin composition of the conductive adhesive layer)
표 1에 나타낸 바와 같이, 바인더 수지 전구체로서 수지 1(폴리카보네이트 수지) 20부(고형분), 수지 2(페녹시 수지) 80부(고형분), 경화성 화합물 1(에폭시 수지) 20부, 경화성 화합물 2(에폭시 수지) 15부, 경화성 화합물 3(에폭시 수지) 10부, 도전성 필러 1(플레이크 모양 Ag) 320부, 도전성 필러 2(바늘 모양 Ag 코팅 Cu) 5부, 경화 촉진제 1부, 첨가제1 0.4부를 용기에 넣고, 고형분 농도가 25질량%가 되도록 톨루엔:이소프로필알코올(질량비 2:1) 혼합 용제를 첨가하여 디스퍼에서 10분 교반하는 것으로 도전성 접착제 층을 형성하는 수지 조성물을 얻었다.As shown in Table 1, as a binder resin precursor, Resin 1 (polycarbonate resin) 20 parts (solid content), Resin 2 (phenoxy resin) 80 parts (solid content), Curable Compound 1 (epoxy resin) 20 parts, Curable Compound 2 (epoxy resin) 15 parts, curable compound 3 (epoxy resin) 10 parts, conductive filler 1 (flaky Ag) 320 parts, conductive filler 2 (needle-shaped Ag coated Cu) 5 parts, curing
(전자파 차폐용 적층체의 제작)(Production of laminate for electromagnetic wave shielding)
이 수지 조성물을 건조 두께가 50㎛가 되도록 닥터 블레이드를 사용하여 이형성 기재에 도공했다. 그리고 25℃에서 14분 상온 건조한 후 100℃에서 2분간 건조하여 전자파 차폐용 부재(도전성 접착제 층)를 얻었다. 그 후, 이형성 쿠션 부재(CR1040, 연질 수지층의 양면을 폴리메틸펜텐에 끼운 층 구성(두께 150㎛), 미츠이가가쿠도세로사제)를 준비하고, 전자파 차폐용 부재와 라미네이트함으로써 이형성 기재 상에 실시 형태 A1에 따른 전자파 차폐용 적층체를 얻었다.This resin composition was coated on a releasable base material using a doctor blade so that the dry thickness might be set to 50 micrometers. Then, after drying at room temperature for 14 minutes at 25° C., it was dried at 100° C. for 2 minutes to obtain a member for electromagnetic wave shielding (conductive adhesive layer). After that, a release cushioning member (CR1040, a layered configuration (thickness 150 μm) sandwiched by polymethylpentene on both sides of a soft resin layer, manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.) is prepared, and laminated with a member for electromagnetic wave shielding on the release property substrate A laminate for electromagnetic wave shielding according to Embodiment A1 was obtained.
[실시 예 A2~A5, 참고 예 A1][Examples A2 to A5, Reference Example A1]
표 1에 기재된 조성으로 변경한 것 이외에는, 실시 예 A1과 동일하게 하여, 도전성 접착제 층의 수지 조성물, 전자파 차폐용 적층체를 얻었다.Except having changed into the composition of Table 1, it carried out similarly to Example A1, and obtained the resin composition of a conductive adhesive layer, and the laminated body for electromagnetic wave shielding.
[실시 예 A6~A10, 참고 예 A2][Examples A6 to A10, Reference Example A2]
표 1에 기재된 조성으로 변경하고, 고형분 농도가 29질량%가 되도록 톨루엔:이소프로필알코올(중량비 2:1) 혼합 용제를 첨가한 것 이외에는, 실시 예 A1과 동일하게 하여, 도전성 접착제 층의 수지 조성물, 전자파 차폐용 적층체를 얻었다.The resin composition of the conductive adhesive layer was changed to the composition shown in Table 1, except that a mixed solvent of toluene: isopropyl alcohol (weight ratio 2: 1) was added so that the solid content concentration was 29 mass%. , a laminate for electromagnetic wave shielding was obtained.
<첨도><Kurtosis>
실시 예 A1~A10, 참고 예 A1, A2의 전자파 차폐용 적층체를 준비하고, 두께 300㎛의 FR4 기판에 올려놓고, 이형성 쿠션 부재 측에서 면 방향에 8MPa의 조건에서 170℃ 5분 가열 압착을 했다. 그 후 이형성 쿠션 부재를 떼어 180℃에서 2시간 가열하였다. 그 후, 이형성 쿠션 부재를 박리하여 전자파 차폐 부재를 형성한 시험편을 얻었다.Prepare the electromagnetic wave shielding laminates of Examples A1 to A10 and Reference Examples A1 and A2, place them on an FR4 substrate with a thickness of 300 μm, and heat press at 170° C. for 5 minutes at 8 MPa in the surface direction from the release cushion member side. did. Thereafter, the releasable cushion member was removed and heated at 180°C for 2 hours. Then, the test piece in which the releasability cushion member was peeled and the electromagnetic wave shielding member was formed was obtained.
상기 시험편에서 이형성 쿠션 부재를 박리한 전자파 차폐 부재의 표면에 금속 스퍼터링 처리를 했다. 금속 스퍼터링 처리 조건은, 일본 전자 주식회사 스퍼터링 장치 "Smart Coater"을 사용하고, 타겟으로 금을 사용하고, 타겟과 샘플 표면과의 이격 거리를 2cm로 0.5분 스퍼터링했다. 얻어진 시료의 금속 스퍼터링 처리 면에 대해, JIS B 0601 : 2001에 부합하는 레이저 현미경((주) 키엔스사제(VK-X100))을 이용하여 첨도를 구했다. 측정 조건은 형상 측정 모드에서 측정 배율을 1000배로 하여 표면 형상을 취득했다. 얻어진 표면 형상 이미지를 해석 어플리케이션의 표면 거칠기 측정에 의해, 전 영역을 선택하고 λs 윤곽 곡선 필터를 2.5㎛, λc 윤곽 곡선 필터를 0.8mm로 하고 첨도를 측정했다. 상기 측정을 다른 5개소에서 실시하고 측정 값의 평균값을 첨도 값으로 하였다.The metal sputtering process was performed on the surface of the electromagnetic wave shielding member which peeled the releasable cushion member from the said test piece. The metal sputtering treatment conditions used sputtering apparatus "Smart Coater" by Nippon Electronics Co., Ltd., gold was used as the target, and the separation distance between the target and the sample surface was 2 cm and sputtered for 0.5 minutes. About the metal sputtering-processed surface of the obtained sample, the kurtosis was calculated|required using the laser microscope (made by Keyence Corporation (VK-X100)) conforming to JIS B 0601:2001. As for the measurement conditions, the surface shape was acquired by setting the measurement magnification to 1000 times in the shape measurement mode. The obtained surface shape image was subjected to surface roughness measurement in the analysis application, and the entire area was selected, the λs contour filter was set to 2.5 µm and the λc contour curve filter was set to 0.8 mm, and kurtosis was measured. The above measurement was performed at five other locations, and the average value of the measured values was taken as the kurtosis value.
또한, 전자파 차폐 부재의 첨도 측정에서 전자 부품 탑재 기판 상에 실제로 피복되어있는 전자파 차폐 부재를 측정하는 경우에는 전자 부품 기판 위에 피복된 전자파 차폐 부재를 직접 측정하면된다 .In addition, when measuring the electromagnetic wave shielding member actually coated on the electronic component mounting board in the kurtosis measurement of the electromagnetic wave shielding member, it is sufficient to directly measure the electromagnetic wave shielding member coated on the electronic component board|substrate.
<도액 점도 및 틱소트로피 인덱스><Paint solution viscosity and thixotropy index>
얻어진 도전성 수지 조성물을 25℃의 수조에 30분 방치한 후 "B형 점도계"(토키산업주식회사제)에서 회전 수 6rpm의 점도(v1) 및 회전 수 60rpm의 점도(v2)를 측정했다. (v1)을 (v2)로 나눈 값을 틱소트로피 인덱스로 했다.After leaving the obtained conductive resin composition in a water bath at 25° C. for 30 minutes, the viscosity (v1) at 6 rpm and the viscosity (v2) at 60 rpm were measured with a "B-type viscometer" (manufactured by Toki Industries, Ltd.). A value obtained by dividing (v1) by (v2) was used as the thixotropy index.
<열 압착 후 이형성 쿠션 부재의 하프-다이싱 홈의 박리성 평가><Evaluation of peelability of half-dicing grooves of releasable cushion member after thermal compression>
시험 기판 1~3 각각에 대해 각 실시 예 및 참고 예의 전자파 차폐용 적층체 각각을 8MPa 170℃의 조건에서 5분간 열 압착하고 이형성 쿠션 부재를 손으로 박리했다. 그리고 전자 부품끼리의 간극의 홈에 끊어져 남은 이형성 쿠션 부재의 잔사 개수를 육안으로 확인했다. 평가 기준은 다음과 같이 했다.For each of the
+++ : 잔사가 없다.+++ : No residue.
++ : 잔사가 1개 이상 3개 미만.++ : 1 or more and less than 3 residues.
+ : 잔사가 3개 이상 5개 미만.+ : 3 or more and less than 5 residues.
NG : 잔사가 5개 이상 혹은 홈 전체에 잔사가 남은 상태.NG: There are 5 or more residues or residues remain in the entire groove.
<스틸 울 내성><Steel Wool Resistance>
두께 125㎛의 폴리이미드 필름(도레이듀폰사제 「카프톤 500H 」)에, 5×15cm로 자른 각 실시 예 및 참고 예의 전자파 차폐용 적층체를 각각 올려놓고, 180℃에서 2MPa의 조건에서 10분 열 프레스를 실시하여 180℃에서 2시간 경화하여 시험 기판을 얻었다. 그 후, 이형성 쿠션 부재를 박리했다. 이어서, 전자파 차폐 부재에 대해 학진식마모시험기(테스터산업사제)에 셋팅하고 하중 200gf, 스트로크 120mm, 왕복 속도 30회/분의 조건에서, 전자파 차폐 부재가 마모하여 폴리이미드 필름이 노출할때까지의 학진 횟수를 구했다. 평가 기준은 다음과 같다.On a polyimide film having a thickness of 125 μm (“Kafton 500H” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.), the electromagnetic wave shielding laminates of each example and reference example cut to 5 × 15 cm were placed on each, and heated at 180 ° C. at 2 MPa for 10 minutes. It pressed and hardened|cured at 180 degreeC for 2 hours, and the test board|substrate was obtained. Thereafter, the releasable cushion member was peeled off. Next, the electromagnetic wave shielding member is set in the Hakjin type abrasion tester (manufactured by Tester Industry Co., Ltd.), and under the conditions of a load of 200 gf, a stroke of 120 mm, and a reciprocating speed of 30 times/min, the electromagnetic wave shielding member wears out until the polyimide film is exposed. I found the number of school trips. The evaluation criteria are as follows.
+++ : 20,000회 이상.+++ : More than 20,000 times.
++ : 10,000회 이상 20,000회 미만.++ : More than 10,000 times and less than 20,000 times.
+ : 5,000회 이상 10,000회 미만(실용 수준).+ : 5,000 or more but less than 10,000 (practical level).
NG : 5,000회 미만.NG: less than 5,000 times.
표 1은 실시 예 A1~A10 및 참고 예 A1, A2의 상기 평가 결과를 나타낸다.Table 1 shows the evaluation results of Examples A1 to A10 and Reference Examples A1 and A2.
[표 1][Table 1]
표 1의 예와 같이, 첨도가 1 미만의 참고 예 A1의 전자파 차폐 부재를 이용한 전자 부품 탑재 기판은, 스틸 울 내성이 합격 수준에 도달하지 않았다. 이에 대해 본 발명의 전자 부품 탑재 기판의 전자파 차폐성 부재는 모두 합격 수준에 도달하고, 스틸 울 내성이 뛰어난 것을 확인했다. 또한, 첨도가 8을 초과하는 참고 예 A2의 전자파 차폐 부재는, 홈 부의 박리성이 합격 수준에 도달하지 않았다. 이에 대해 본 발명의 전자 부품 탑재 기판의 전자파 차폐성 부재는 모두 열 압착 후 이형성 쿠션 부재의 홈 부의 박리성이 우수하다는 것을 확인했다.As in the example in Table 1, in the electronic component mounting board using the electromagnetic wave shielding member of Reference Example A1 having a kurtosis of less than 1, the steel wool resistance did not reach the pass level. On the other hand, all the electromagnetic wave shielding members of the electronic component mounting board|substrate of this invention reached the pass level, and confirmed that it was excellent in steel wool tolerance. In addition, in the electromagnetic wave shielding member of Reference Example A2 having a kurtosis exceeding 8, the releasability of the groove portion did not reach the pass level. On the other hand, it was confirmed that all the electromagnetic wave shielding members of the electronic component mounting board|substrate of this invention were excellent in the peelability of the groove part of the releasable cushion member after thermocompression bonding.
[실시 형태 B][Embodiment B]
(시험 기판)(test board)
실시 형태 A의 시험 기판 1과 동일한 제조 방법에 의해, 실시 형태 B에 관한 시험 기판을 얻었다.A test substrate according to Embodiment B was obtained by the same manufacturing method as that of
이하, 실시 예에서 사용한 재료를 나타낸다.Hereinafter, materials used in Examples are shown.
·바인더 수지 전구체・Binder resin precursor
수지 1 : 우레탄 수지(토요켐사제)Resin 1: Urethane resin (manufactured by Toyochem)
수지 2 : 폴리카보네이트 수지(토요켐사제)Resin 2: polycarbonate resin (manufactured by Toyochem)
수지 3 : 스티렌 엘라스토머 수지(토요켐사제)Resin 3: Styrene elastomer resin (manufactured by Toyo Chem)
수지 4 : 페녹시 수지(토요켐사제)Resin 4: Phenoxy resin (manufactured by Toyochem)
경화성 화합물 1 : 데나콜 EX830(나가세켐테크사제)Curable compound 1: Denacol EX830 (manufactured by Nagase Chemtech)
경화성 화합물 2 : jERYX8000(미쓰비시가가쿠사제)Curable compound 2: jERYX8000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
경화성 화합물 3 : jER157S70(미쓰비시가가쿠사제)Curable compound 3: jER157S70 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
·경화 촉진제 : PZ-33(니혼쇼쿠바이사제)・Cure accelerator: PZ-33 (manufactured by Nihon Shokubai)
·도전성 필러· Conductive filler
도전성 필러 1 : 플레이크 모양 Ag(평균 입자 지름 D50 : 11㎛)(후쿠다킨조쿠사제)Conductive filler 1: flaky Ag (average particle diameter D50: 11 µm) (manufactured by Fukuda Kinzoku Corporation)
도전성 필러 2 : 바늘 모양 은 코팅 구리(평균 입자 지름 D50 : 7.5㎛)(후쿠다킨조쿠사제)Conductive filler 2: needle-shaped silver-coated copper (average particle diameter D50: 7.5 µm) (manufactured by Fukuda Kinzoku Corporation)
· 첨가제· additive
첨가제1 : BYK322(빅케미사제)Additive 1: BYK322 (manufactured by Big Chemie)
첨가제2 : BYK337(빅케미사제)Additive 2: BYK337 (manufactured by Big Chemie)
[실시 예 B1](도전성 접착제 층의 수지 조성물의 제조)[Example B1] (Preparation of the resin composition of the conductive adhesive layer)
표 2에 나타낸 바와 같이, 바인더 수지 전구체로서 수지 1(우레탄 수지) 70부(고형분), 수지 2(폴리카보네이트 수지) 30부(고형분), 경화성 화합물 1(에폭시 수지) 30부, 경화성 화합물 2(에폭시 수지) 15부, 도전성 필러 1(플레이크 모양 Ag) 280부, 도전성 필러 2(바늘 모양 Ag 코팅 Cu) 50부, 경화 촉진제 1부와 첨가제1 0.4부를 용기에 넣고 고형분 농도가 35질량%가 되도록 톨루엔:이소프로필알코올(중량비 2:1)의 혼합 용제를 첨가하고 디스퍼에서 10분 교반하여 도전성 접착제 층을 형성하는 수지 조성물을 얻었다.As shown in Table 2, as a binder resin precursor, resin 1 (urethane resin) 70 parts (solid content), resin 2 (polycarbonate resin) 30 parts (solid content), curable compound 1 (epoxy resin) 30 parts, curable compound 2 ( Epoxy resin) 15 parts, conductive filler 1 (flake-shaped Ag) 280 parts, conductive filler 2 (needle-shaped Ag coated Cu) 50 parts, curing
(전자파 차폐용 적층체의 제작)(Production of laminate for electromagnetic wave shielding)
이 수지 조성물을 건조 두께가 50㎛가 되도록 닥터 블레이드를 사용하여 이형성 기재에 도공했다. 그리고 25℃에서 12분간 상온 건조한 후 100℃에서 2분간 건조하여 전자파 차폐용 부재(도전성 접착제 층)를 얻었다. 그 후, 이형성 쿠션 부재(CR1040, 연질 수지층의 양면을 폴리메틸펜텐에 끼운 층 구성(두께 150㎛), 미츠이가가쿠도세로사제)를 준비하고, 전자파 차폐용 부재와 라미네이트함으로써 이형성 기재 상에 실시 예 B1에 따른 전자파 차폐용 적층체를 얻었다.This resin composition was coated on a releasable base material using a doctor blade so that the dry thickness might be set to 50 micrometers. Then, after drying at room temperature for 12 minutes at 25° C., it was dried at 100° C. for 2 minutes to obtain a member for electromagnetic wave shielding (conductive adhesive layer). Thereafter, a mold release cushion member (CR1040, a layered configuration (thickness 150 μm) sandwiched by polymethylpentene on both sides of a soft resin layer, manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.) was prepared, and laminated with a member for electromagnetic wave shielding on the mold release substrate. A laminate for electromagnetic wave shielding according to Example B1 was obtained.
(전자 부품 탑재 기판의 시험편 제작)(Production of test pieces for electronic component mounting boards)
그런 다음, 이 이형성 기재 상에 전자파 차폐용 적층체를 10×10cm로 자르고, 이형성 기재를 박리한 후, 상기 시험 기판(도 17 참조)에 대해 전자파 차폐용 적층체의 도전성 접착제 층 면 쪽이 닿도록 올려놓고 임시 부착했다. 그리고 이 전자파 차폐용 적층체의 위쪽에서 기판 면에 대해 2MPa, 180℃의 조건에서 2시간 열 압착했다. 열 압착 후, 이형성 쿠션 부재를 박리하여, 전자파 차폐 부재가 피복된 실시 예 B1에 따른 전자 부품 탑재 기판(시험편)을 얻었다.Then, on this releasable substrate, the electromagnetic wave shielding laminate is cut to 10 x 10 cm, and after peeling the releasable substrate, the conductive adhesive layer side of the electromagnetic wave shielding laminate is in contact with the test substrate (see Fig. 17). It was placed on the table and temporarily attached. And it was thermocompression-bonded with respect to the board|substrate surface under the conditions of 2 MPa and 180 degreeC from the upper side of this laminated body for electromagnetic wave shielding for 2 hours. After thermocompression bonding, the releasable cushion member was peeled off to obtain an electronic component mounting board (test piece) according to Example B1 coated with an electromagnetic wave shielding member.
[실시 예 B2~B19, 참고 예 B1, B2][Examples B2 to B19, Reference Examples B1, B2]
표 2, 표 3에 기재된 조성으로 변경한 것 이외에는 실시 예 B1과 동일하게 하여 각 실시 예 및 참고 예의 도전성 접착제 층의 수지 조성물, 전자파 차폐용 적층체 및 전자 부품 탑재 기판 시험편을 얻었다.Except for changing the composition shown in Tables 2 and 3, in the same manner as in Example B1, the resin composition of the conductive adhesive layer of each Example and Reference Example, a laminate for electromagnetic wave shielding, and an electronic component mounting substrate test piece were obtained.
<압입 탄성률><Indentation modulus>
실시 예 B1~B19, 참고 예 B1, B2의 전자파 차폐용 적층체를 준비하고, 두께 300㎛의 FR4 기판에 올려놓고, 이형성 쿠션 부재 측에서 면 방향에 2MPa의 조건에서 180℃ 2시간 가열 압착을 했다. 그 후, 이형성 쿠션 부재를 박리하여 전자파 차폐 부재를 형성한 FR4 기판의 시험편을 얻었다. 그리고 이형성 쿠션 부재가 적층된 측에서 다음의 방법으로 압입 탄성률을 측정했다.Electromagnetic wave shielding laminates of Examples B1 to B19 and Reference Examples B1 and B2 were prepared, placed on an FR4 substrate with a thickness of 300 μm, and heated at 180° C. for 2 hours at 2 MPa in the surface direction from the release cushion member side. did. Then, the release property cushion member was peeled, and the test piece of the FR4 board|substrate on which the electromagnetic wave shielding member was formed was obtained. And the indentation elastic modulus was measured by the following method on the side where the releasable cushion member was laminated|stacked.
즉, 피셔 스코프 H100C(피셔인스트루먼트사제)형 경도계를 사용하여 비커스 압자(100φ의 끝이 둥근 다이아몬드 압자)를 이용하여 25℃의 항온실에서 시험력 0.3N, 시험력 유지 시간 20초, 시험력의 부가 소요 시간 5초로 행했다. 전자파 차폐 부재의 동일 막 면을 무작위로 5군데 반복 측정하여 얻은 값을 평균하여 압입 탄성률을 구했다.That is, using a Fischer Scope H100C (Fischer Instruments Co., Ltd.) type hardness tester, using a Vickers indenter (a diamond indenter with a round tip of 100φ), in a constant temperature room at 25° C. The addition was performed in 5 seconds of required time. The indentation modulus was obtained by averaging the values obtained by randomly repeating measurements on the same film surface of the electromagnetic wave shielding member at five locations.
또한, 전자파 차폐 부재의 압입 탄성률의 측정에서, 전자 부품 탑재 기판 상에 실제로 피복되어있는 전자파 차폐 부재를 측정할 수도 있다. 이 경우, 전자 부품 기판 위에 피복된 전자파 차폐 부재에 직접 비커스 압자를 접촉시켜 측정한다. 후술하는 첨도 및 물 접촉각에서도, 비슷한 방식으로 전자 부품 탑재 기판 상에 실제로 피복되어 있는 전자파 차폐 부재를 측정할 수 있다In addition, in the measurement of the indentation modulus of the electromagnetic wave shielding member, the electromagnetic wave shielding member actually coated on the electronic component mounting substrate may be measured. In this case, the measurement is made by directly contacting the Vickers indenter to the electromagnetic wave shielding member coated on the electronic component substrate. In the kurtosis and water contact angle described later, the electromagnetic wave shielding member actually coated on the electronic component mounting substrate can be measured in a similar manner.
<첨도><Kurtosis>
실시 형태 A에서 설명한 방법과 동일한 방법에 의해, FR4 기판의 시험 기판을 얻고 동일한 방법으로 첨도를 구했다.By the method similar to the method demonstrated in Embodiment A, the test board|substrate of the FR4 board|substrate was obtained, and the kurtosis was calculated|required by the same method.
<물 접촉각><Water contact angle>
압입 탄성률의 측정 시료와 동일한 방법으로 제작한 FR4 기판의 시험편에 대하여, 전자파 차폐층의 표면에 대해, 교와게이멘카가쿠(주) 「자동 접촉각 측정기 DM-501/해석 소프트웨어」를 이용하여 전자파 차폐 부재의 물 접촉각을 측정했다. 측정은 액적법에 의해 행했다.With respect to the test piece of the FR4 substrate prepared in the same way as the measurement sample for the indentation modulus, the surface of the electromagnetic wave shielding layer was shielded from electromagnetic waves using Kyowa Keimen Chemical Co., Ltd. "Automatic Contact Angle Measuring Machine DM-501/Analysis Software" The water contact angle of the member was measured. The measurement was performed by the droplet method.
<마르텐스 경도의 측정><Measurement of Martens hardness>
각 실시 예 및 참고 예의 전자 부품 탑재 기판의 시험편을 준비하고, ISO14577-1에 따라, 피셔 스코프 H100C(피셔인스트루먼트사제)형 경도계로 마르텐스 경도를 측정했다. 측정은 전자 부품(30)의 윗면에 대해, 비커스 압자(100φ의 끝이 둥근 다이아몬드 압자)를 이용하여 25℃의 항온실에서 시험력 0.3N, 시험력 유지 시간 20초, 시험력의 부가 소요 시간 5초의 조건으로 행했다. 동일 경화 막 면을 무작위로 10군데 반복 측정하여 얻은 값의 평균을 마르텐스 경도로 했다. 또한, 시험력은 전자파 차폐층의 두께에 따라 조정한다. 구체적으로는 최대 압입 깊이가 전자파 차폐 부재의 두께의 10 분의 1정도가 되도록 시험력을 조정했다.The test piece of the electronic component mounting board|substrate of each Example and reference example was prepared, and according to ISO14577-1, Martens hardness was measured with the Fischer Scope H100C (Fischer Instruments company) type hardness meter. The measurement was performed on the upper surface of the
<도액 점도 및 틱소트로피 인덱스><Paint solution viscosity and thixotropy index>
실시 형태 A에서 설명한 방법과 동일한 방법에 의해, 회전 수 6rpm의 점도(v1) 및 회전 수 60rpm의 점도(v2)를 측정했다. 또한, 동일한 방법으로 틱소트로피 인덱스를 구했다.The viscosity (v1) at a rotation speed of 6 rpm and the viscosity (v2) at a rotation speed of 60 rpm were measured by the same method as that described in Embodiment A. In addition, the thixotropy index was obtained in the same way.
<풀 다이싱 시의 버><Burs at the time of full dicing>
상기 시험 기판(5×5개 어레이 형태로 전자 부품이 탑재된 기판)에, 각 실시 예 및 참고 예의 전자파 차폐용 적층체를 8MPa, 170℃의 조건에서 5분간 열 압착하고, 이형성 쿠션 부재를 손으로 박리했다. 그 후, 180℃ 2시간 경화함으로써 전자파 차폐 부재를 피복한 시험 샘플을 얻었다. 얻어진 시험 샘플에 대해, 단위 제품으로 나누는 공정(풀 다이싱)을 했을 때의 버의 발생 상황을 레이저 현미경을 사용하여 다음과 같은 기준으로 평가했다.To the test board (a board on which electronic components are mounted in the form of 5×5 arrays), the electromagnetic wave shielding laminates of each example and reference example were thermocompressed under the conditions of 8 MPa and 170° C. for 5 minutes, and the release cushion member was hand peeled off with Then, the test sample which coat|covered the electromagnetic wave shielding member was obtained by hardening at 180 degreeC for 2 hours. With respect to the obtained test sample, the condition of the occurrence of burrs when the process of dividing into unit products (full dicing) was performed was evaluated using a laser microscope according to the following criteria.
+++ : 버가 확인되지 않는다.+++ : The burr is not checked.
++ 버의 발생이 단위 제품으로 나누어진 전자 부품 25개 중 2개 미만.++ Less than 2 out of 25 electronic components with burr occurrence divided into unit products.
+ : 버의 발생이 단위 제품으로 나누어진 전자 부품 25개 중 2개 이상 5개 미만.+ : The occurrence of burrs is more than 2 but less than 5 out of 25 electronic components divided into unit products.
NG : 버의 발생이 단위 제품으로 나누어진 전자 부품 25개 중 5개 이상.NG: occurrence of burrs more than 5 out of 25 electronic components divided into unit products.
<테이프 밀착성><Tape Adhesion>
두께 300㎛의 FR4 기판에, 5×5cm로 자른 각 실시 예 및 참고 예의 전자파 차폐용 적층체를 각각 올려놓고, 170℃에서 8MPa의 조건에서 5분 열 프레스를 실시하여 180℃에서 2시간 경화하여 시험 기판을 얻었다. 이어 이형성 쿠션 부재를 박리했다. 그 후, 얻어진 시험 기판을 130℃, 습도 85%, 0.23MPa의 압력 쿠커 시험을 했다. 시험 시간은 96시간으로, 점착테이프는 폭 18mm의 니치반제 점착테이프를 이용하였다. 그리고 JISK5600에 준하여 크로스 컷 가이드를 사용하여, 간격이 1mm의 바둑판 눈금을 전자파 차폐 부재에 25개 제작하였다. 그 후, 전자파 차폐 부재의 바둑판 눈금 부에 점착테이프를 압착시켜 테이프의 끝을 45° 각도로 단번에 벗겨 버리고 테이프 밀착 시험을 했다. 전자파 차폐 부재의 바둑판 눈금의 상태(크로스 컷 잔존율)를 아래의 기준으로 판단했다.On an FR4 substrate having a thickness of 300 μm, each of the laminates for electromagnetic wave shielding of each example and reference example cut to 5 × 5 cm was placed on each, and heat pressed at 170° C. at 8 MPa for 5 minutes, and cured at 180° C. for 2 hours. A test board was obtained. Next, the releasable cushion member was peeled off. Then, the pressure cooker test of 130 degreeC, 85% of humidity, and 0.23 MPa was done for the obtained test board|substrate. The test time was 96 hours, and the Nichiban adhesive tape having a width of 18 mm was used as the adhesive tape. And according to JISK5600, using a cross-cut guide, 25 checkerboard scales with an interval of 1 mm were produced on the electromagnetic wave shielding member. After that, the adhesive tape was pressed on the grid scale of the electromagnetic wave shielding member, the tip of the tape was peeled off at a 45° angle, and a tape adhesion test was performed. The state (cross-cut residual rate) of the checkerboard scale of the electromagnetic wave shielding member was judged by the following reference|standard.
+++ : 25/25 잔존율을 나타낸다.+++ : Represents the 25/25 residual rate.
++ 24/25 잔존율을 나타낸다.++ Represents the 24/25 residual rate.
+ : 23/25 잔존율을 나타낸다.+ : Represents the 23/25 residual ratio.
NG : 23/25 잔존율 미만이다.NG: It is less than 23/25 residual ratio.
<열 압착 후 이형성 쿠션 부재의 하프-다이싱 홈의 박리성 평가><Evaluation of peelability of half-dicing grooves of releasable cushion member after thermal compression>
상기 시험 기판(하프-다이싱 홈 깊이 800㎛, 홈 폭 200㎛)에, 각 실시 예 및 참고 예의 전자파 차폐용 적층체 각각을 8MPa, 170℃의 조건에서 5분간 열 압착하고, 이형성 쿠션 부재를 손으로 박리했다. 그리고 전자 부품끼리의 간극의 홈에 끊어져 남은 이형성 쿠션 부재의 개수를 육안으로 확인했다. 평가 기준은 다음과 같이 했다.To the test board (half-dicing groove depth 800 μm, groove width 200 μm), each of the electromagnetic wave shielding laminates of Examples and Reference Examples were thermocompressed at 8 MPa and 170° C. for 5 minutes, and a release cushion member was applied. peeled off by hand. And the number of objects of the releasable cushion member which broke in the groove|channel of the clearance gap between electronic components and remained was confirmed visually. The evaluation criteria were as follows.
+++ : 잔사가 없다.+++ : No residue.
++ 잔사가 1개 이상 3개 미만.++ More than 1 residue but less than 3 residues.
+ : 잔사가 3개 이상 5개 미만.+ : 3 or more and less than 5 residues.
NG : 잔사가 5개 이상 혹은 홈 전체에 잔사가 남은 상태.NG: There are 5 or more residues or residues remain in the entire groove.
<스틸 울 내성><Steel Wool Resistance>
실시 형태 A에서 설명한 방법과 동일한 방법으로 시험 기판을 얻고 동일한 측정 방법에 따라 스틸 울 내성을 평가했다. 평가 기준도 마찬가지이다.A test board was obtained by the same method as that described in Embodiment A, and steel wool resistance was evaluated according to the same measurement method. The same is true for evaluation criteria.
표 2, 표 3은 실시 예 B1~B19 및 참고 예 B1, B2의 상기 평가 결과를 나타낸다.Tables 2 and 3 show the evaluation results of Examples B1 to B19 and Reference Examples B1 and B2.
[표 2][Table 2]
[표 3][Table 3]
표 2, 표 3의 예와 같이, 압입 탄성률이 1 미만의 참고 예 B1의 전자파 차폐 부재를 이용한 전자 부품 탑재 기판 전체 다이싱 시의 버가 합격 수준에 도달하지 않았다. 이에 대해 본 발명의 전자 부품 탑재 기판의 전자파 차폐성 부재는 모두 합격 수준에 이르고 있어 버의 발생을 억제할 수 있는 것을 확인할 수 있었다. 또한, 압입 탄성률이 10GPa를 넘는 참고 예 B2의 전자파 차폐 부재를 이용한 전자 부품 탑재 기판은 PCT 시험 후 테이프 밀착성이 합격 수준에 도달하지 않았다. 이에 대해 본 발명의 전자 부품 탑재 기판의 전자파 차폐성 부재는 모두 PCT 시험 후 테이프 밀착성이 합격 수준이며, PCT 내성이 뛰어난 것을 확인했다.As in the examples of Tables 2 and 3, the burrs at the time of dicing the entire electronic component mounting substrate using the electromagnetic wave shielding member of Reference Example B1 having an indentation modulus of less than 1 did not reach the pass level. On the other hand, all the electromagnetic wave shielding members of the electronic component mounting board|substrate of this invention reached the pass level, and it was confirmed that generation|occurrence|production of a burr could be suppressed. In addition, in the electronic component mounting board|substrate using the electromagnetic wave shielding member of reference example B2 whose indentation elastic modulus exceeds 10 GPa, the tape adhesiveness did not reach the pass level after PCT test. On the other hand, all the electromagnetic wave shielding members of the electronic component mounting board|substrate of this invention confirmed that the tape adhesiveness after a PCT test was a passing level, and was excellent in PCT tolerance.
도 22는 실시 예 B3의 단위 제품으로 나누어진 후 전자 부품 탑재 기판의 측면을 현미경으로 관찰한 사진을 나타낸다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 버는 인정되지 않았다. 한편, 도 23은 참고 예 B1의 단위 제품으로 나누어진 후 전자 부품 탑재 기판의 측면을 현미경으로 관찰한 사진을 나타낸다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 버의 발생이 인정되었다.22 is a photograph of a side surface of an electronic component mounting substrate observed under a microscope after being divided into unit products of Example B3. As shown in this figure, no burrs were recognized. On the other hand, FIG. 23 shows a photograph of the side surface of the electronic component mounting board observed under a microscope after being divided into unit products of Reference Example B1. As shown in this figure, the occurrence of burrs was observed.
[실시 형태 C][Embodiment C]
(시험 기판 1)(Test board 1)
실시 형태 A의 시험 기판 1의 제조 방법과 동일한 방법으로 시험 기판을 얻었다.A test board was obtained in the same manner as in the manufacturing method of
이하, 실시 예에서 사용한 재료를 나타낸다.Hereinafter, materials used in Examples are shown.
·바인더 수지 전구체・Binder resin precursor
열경화성 수지 1 : 폴리카보네이트 수지(토요켐사제)Thermosetting resin 1: Polycarbonate resin (manufactured by Toyochem)
열경화성 수지 2 : 페녹시 수지(토요켐사제)Thermosetting resin 2: Phenoxy resin (manufactured by Toyochem)
경화성 화합물 1 : 데나콜 EX830(나가세켐테크사제)Curable compound 1: Denacol EX830 (manufactured by Nagase Chemtech)
경화성 화합물 2 : jERYX8000(미쓰비시가가쿠사제)Curable compound 2: jERYX8000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
경화성 화합물 3 : jER157S70(미쓰비시가가쿠사제)Curable compound 3: jER157S70 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
·경화 촉진제 : PZ-33・Cure accelerator: PZ-33
·도전성 필러 1 : 비늘 모양 Ag(평균 입자 지름 D50 : 9.5㎛, D90 = 19㎛, 두께 0.1㎛)Conductive filler 1: scaly Ag (average particle diameter D50: 9.5 µm, D90 = 19 µm, thickness 0.1 µm)
·도전성 필러 2 : 덴드라이트 모양 은 코팅 구리(평균 입자 지름 D50 : 7.1㎛, D90 = 15.1㎛)Conductive filler 2: dendrite-shaped silver-coated copper (average particle diameter D50: 7.1㎛, D90 = 15.1㎛)
· 첨가제1 : BYK337Additive 1: BYK337
[실시 예 C1][Example C1]
(도전성 접착제 층의 수지 조성물의 제조)(Preparation of the resin composition of the conductive adhesive layer)
표 4에 나타낸 바와 같이, 바인더 수지 전구체로서 열경화성 수지 1(폴리카보네이트 수지) 20부(고형분), 열경화성 수지 2(페녹시 수지) 80부(고형분), 경화성 화합물 1(에폭시 수지) 20부, 경화성 화합물 2(에폭시 수지) 15부, 경화성 화합물 3(에폭시 수지) 10부, 도전성 필러 1(비늘 모양 Ag) 365 부, 도전성 필러 2(덴드라이트 모양 Ag 코트 Cu) 5부 및 경화 촉진제 1부를 용기에 넣고, 고형분 농도가 23질량%가 되도록 톨루엔:이소프로필알코올(중량비 2:1) 혼합 용제를 첨가하고 디스퍼에서 10분 교반하여 도전성 접착제 층을 형성하는 수지 조성물을 얻었다.As shown in Table 4, as a binder resin precursor, thermosetting resin 1 (polycarbonate resin) 20 parts (solid content), thermosetting resin 2 (phenoxy resin) 80 parts (solid content), curable compound 1 (epoxy resin) 20 parts, curable 15 parts of compound 2 (epoxy resin), 10 parts of curable compound 3 (epoxy resin), 365 parts of conductive filler 1 (scaly Ag), 5 parts of conductive filler 2 (dendrite-like Ag coat Cu) and 1 part of curing accelerator in a container Toluene:isopropyl alcohol (weight ratio 2:1) mixed solvent was added so that solid content concentration might be 23 mass %, and it stirred in the disper for 10 minutes, and obtained the resin composition which forms a conductive adhesive layer.
(전자파 차폐용 적층체의 제작)(Production of laminate for electromagnetic wave shielding)
실시 형태 A와 동일한 방법으로 실시 예 C1에 따른 전자파 차폐용 적층체를 얻었다.An electromagnetic wave shielding laminate according to Example C1 was obtained in the same manner as in Embodiment A.
(전자 부품 탑재 기판의 시험편 제작)(Production of test pieces for electronic component mounting boards)
그런 다음, 이 이형성 기재 상에 전자파 차폐용 적층체를 10×10cm로 잘라, 이형성 기재를 박리한 후, 상기 시험 기판(도 17 참조)에 대해 전자파 차폐용 적층 몸의 도전성 접착제 층 면 쪽이 닿도록 올려놓고 임시 부착했다. 그리고 이 전자파 차폐용 적층체의 위쪽에서 기판 면에 대해 2MPa, 180℃의 조건에서 2시간 열 압착했다. 열 압착 후 이형성 쿠션 부재를 박리하여 전자파 차폐 부재가 피복된 실시 예 C1에 따른 전자 부품 탑재 기판(시험편)을 얻었다.Then, on this releasable substrate, the electromagnetic wave shielding laminate was cut to 10 x 10 cm, and the releasable substrate was peeled off. It was placed on the table and temporarily attached. And it was thermocompression-bonded with respect to the board|substrate surface under the conditions of 2 MPa and 180 degreeC from the upper side of this laminated body for electromagnetic wave shielding for 2 hours. After thermocompression, the releasable cushion member was peeled off to obtain an electronic component mounting board (test piece) according to Example C1 coated with an electromagnetic wave shielding member.
[실시 예 C2-C9, 참고 예 C1][Example C2-C9, Reference Example C1]
표 4에 기재된 조성으로 변경한 것 이외에는 실시 예 C1과 동일하게 하여, 도전성 접착제 층의 수지 조성물, 전자파 차폐용 적층체를 얻었다.Except having changed into the composition shown in Table 4, it carried out similarly to Example C1, and obtained the resin composition of a conductive adhesive layer, and the laminated body for electromagnetic wave shielding.
<제곱 평균 평방근 높이 Rq><root mean square height Rq>
실시 예 C1~C9, 참고 예 C1의 전자파 차폐용 적층체를 준비하고, 두께 300㎛의 FR4 기판에 올려놓고, 이형성 쿠션 부재 측에서 면 방향에 8MPa의 조건에서 170℃ 5분 가열 압착을 했다. 그 후, 이형성 쿠션 부재를 떼어 180℃ 2시간 가열하고, 전자파 차폐 부재를 형성한 시험편을 얻었다.Electromagnetic wave shielding laminates of Examples C1 to C9 and Reference Example C1 were prepared, placed on an FR4 substrate having a thickness of 300 μm, and heat-pressed at 170° C. for 5 minutes under the condition of 8 MPa in the surface direction from the releasable cushion member side. Then, the release property cushion member was removed, and it heated at 180 degreeC for 2 hours, and obtained the test piece in which the electromagnetic wave shielding member was formed.
상기 시험편에서 이형성 쿠션 부재를 박리한 전자파 차폐 부재의 표면에 금속 스퍼터링 처리를 했다. 금속 스퍼터링 처리 조건은 니혼덴시가부시키가이샤제 스퍼터링 장치 "Smart Coater"을 사용하고, 타겟으로 금을 사용하고, 타겟과 샘플 표면과의 이격 거리를 2cm로 하여, 0.5분 스퍼터링했다. 얻어진 시료의 금속 스퍼터링 처리 면에 대해, JIS B 0601 : 2001에 부합하는 레이저 현미경((주) 키엔스사제(VK-X100))을 이용하여 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 구했다. 측정 조건은 형상 측정 모드에서 측정 배율을 1000배로 하고, 표면 형상을 취득했다. 얻어진 표면 형상을 이미지 해석 어플리케이션의 표면 거칠기 측정에 의해, 전 영역을 선택하고 λs 윤곽 곡선 필터를 2.5㎛, λc 윤곽 곡선 필터를 0.8mm로 하고, 제곱 평균 평방근 높이 Rq를 측정했다. 상기 측정을 다른 5군데에서 실시하고 측정값의 평균값을 제곱 평균 평방근 높이 Rq 값으로 하였다.The metal sputtering process was performed on the surface of the electromagnetic wave shielding member which peeled the releasable cushion member from the said test piece. For the metal sputtering treatment conditions, sputtering equipment "Smart Coater" manufactured by Nippon Electronics Co., Ltd. was used, gold was used as the target, the separation distance between the target and the sample surface was 2 cm, and sputtering was carried out for 0.5 minutes. About the metal sputtering-processed surface of the obtained sample, the root mean square height Rq was calculated|required using the laser microscope (made by Keyence Corporation (VK-X100)) conforming to JISB0601:2001. As for the measurement conditions, the measurement magnification was made 1000 times in the shape measurement mode, and the surface shape was acquired. The obtained surface shape was subjected to surface roughness measurement in an image analysis application, the entire area was selected, the λs contour filter was set to 2.5 µm and the λc contour curve filter was set to 0.8 mm, and the root mean square height Rq was measured. The above measurement was performed at five other locations, and the average value of the measurements was taken as the root mean square height Rq value.
또한, 전자파 차폐 부재의 제곱 평균 평방근 높이 Rq 측정에서, 전자 부품 탑재 기판 상에 실제로 피복되어 있는 전자파 차폐 부재를 측정하는 경우에는, 전자 부품 기판 위에 피복된 전자파 차폐 부재를 직접 측정하면 된다.In the case of measuring the electromagnetic wave shielding member actually coated on the electronic component mounting board in the measurement of the root mean square height Rq of the electromagnetic wave shielding member, the electromagnetic wave shielding member coated on the electronic component substrate may be directly measured.
<제곱 평균 제곱근 경사 Rdq><root mean square slope Rdq>
Rq의 측정에서 얻어진 표면 형상 이미지를 이용하여, 해석 어플리케이션의 선 거칠기 측정에서, 두 점선을 이미지 전체에 균일하게 20개 당겨, λs 윤곽 곡선 필터를 2.5㎛, λc 윤곽 곡선 필터를 0.8mm로 하고, 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq를 측정했다. 상기 측정을 다른 5군데에서 실시하고 측정값의 평균값을 제곱 평균 제곱근 경사 Rdq 값으로 하였다.Using the surface shape image obtained in the measurement of Rq, in the line roughness measurement of the analysis application, two dotted lines are drawn uniformly over the image by 20, the λs contour curve filter is 2.5 μm, the λc contour curve filter is 0.8 mm, The root mean square slope Rdq was measured. The above measurement was performed at five other locations, and the average value of the measurements was taken as the root mean square slope Rdq value.
<물 접촉각><Water contact angle>
각 실시 예, 참고 예의 전자파 차폐용 적층체를 준비하고, 두께 300㎛의 압입 탄성률의 측정 시료와 동일한 방법으로 제작한 FR4 기판의 시험편에 올려놓고, 이형성 쿠션 부재 측에서 면 방향에 2MPa의 조건에서 180℃ 2시간 가열 압착하였다. 그 후, 이형성 쿠션 부재를 박리하여 전자파 차폐 부재를 형성한 FR4 기판의 시험편을 얻었다. 그리고 이형성 쿠션 부재가 적층된 측에서 다음의 방법에 의해 물 접촉각을 측정했다. 즉, 전자파 차폐층의 표면에 대해, 교와게이멘카가쿠(주)제 「자동 접촉각 측정기 DM-501/분석 소프트웨어 FAMAS」를 이용하여 전자파 차폐 부재의 물 접촉각을 측정했다. 측정은 액적법에 의해 행했다.Prepare the electromagnetic wave shielding laminate of each Example and Reference Example, place it on a test piece of an FR4 substrate prepared in the same way as the 300 μm thick indentation modulus measurement sample, and under the condition of 2 MPa in the plane direction from the release property cushion member side. It was heat-pressed at 180°C for 2 hours. Then, the release property cushion member was peeled, and the test piece of the FR4 board|substrate on which the electromagnetic wave shielding member was formed was obtained. And the water contact angle was measured by the following method on the side where the releasable cushion member was laminated|stacked. That is, with respect to the surface of the electromagnetic wave shielding layer, the water contact angle of the electromagnetic wave shielding member was measured using "automatic contact angle measuring instrument DM-501/analysis software FAMAS" manufactured by Kyowa Keimen Chemical Co., Ltd. The measurement was performed by the droplet method.
<도액 점도 및 틱소트로피 인덱스><Paint solution viscosity and thixotropy index>
실시 형태 A에서 설명한 방법과 동일한 방법에 의해, 회전 수 6rpm의 점도(v1) 및 회전 수 60rpm의 점도(v2)를 측정했다. 또한, 동일한 방법으로 틱소프로피 인덱스를 구했다.The viscosity (v1) at a rotation speed of 6 rpm and the viscosity (v2) at a rotation speed of 60 rpm were measured by the same method as that described in Embodiment A. In addition, the thixopropy index was obtained in the same way.
<테이프 피복성><Tape coating properties>
두께 300㎛의 FR4 기판에, 5×5cm로 자른 각 실시 예 및 참고 예의 전자파 차폐용 적층체를 각각 올려놓고, 170℃에서 8MPa의 조건에서 5분 열 프레스를 실시하고, 180℃에서 2시간 경화하여 시험 기판을 얻었다. 이어 이형성 쿠션 부재를 박리했다. 그 후, 얻어진 시험 기판을, 전자파 차폐 부재를 다이싱 테이프(UHP-110AT(UV 타입 기재 PET, 총 두께 110㎛(점착 층 두께 10㎛ 포함)), 덴카사제)와 접착시키고, 기판(20) 외측 표면에서 다이싱 컷하여 전자 부품 탑재 기판의 단위 제품으로 나누는 작업을 실시했다. 단위 제품으로 나누어진 후, 전자파 차폐 부재에서 다이싱 테이프를 박리하여 전자파 차폐 부재의 상태를 광학 현미경(배율 200 배)으로 관찰하고 아래의 기준으로 판단했다.On an FR4 substrate having a thickness of 300 μm, each of the laminates for electromagnetic wave shielding of each example and reference example cut to 5 × 5 cm was placed on each, and heat pressed at 170° C. at 8 MPa for 5 minutes, and cured at 180° C. for 2 hours. Thus, a test board was obtained. Next, the releasable cushion member was peeled off. Thereafter, the obtained test substrate was adhered with an electromagnetic wave shielding member with a dicing tape (UHP-110AT (UV-type substrate PET, total thickness of 110 µm (including adhesive layer thickness of 10 µm), manufactured by Denka Corporation)), and the substrate 20 ) The outer surface was diced and divided into unit products of the electronic component mounting board. After being divided into unit products, the dicing tape was peeled off from the electromagnetic shielding member, and the state of the electromagnetic shielding member was observed with an optical microscope (magnification 200 times), and judged according to the following criteria.
+++ : 외관에 이상 없음.+++ : No abnormality in appearance.
++ : 1㎠당 전자파 차폐 부재에 지름 0.5mm 이하의 들뜸이 1~2개 생김.++: 1~2 pieces of lifting with a diameter of 0.5mm or less occur on the electromagnetic shielding member per 1cm2.
+ : 1㎠당 전자파 차폐 부재에 지름 0.5mm 이하의 들뜸이 3~4개 생김.+ : 3~4 pieces of lifting with a diameter of 0.5mm or less occur on the electromagnetic shielding member per 1cm2.
NG : 1㎠당 전자파 차폐 부재에 지름 0.5mm 초과의 들뜸, 벗겨짐, 또는 지름 0.5mm 이하의 들뜸이 5개 이상 생김.NG: 5 or more floating, peeling, or 0.5 mm or less in diameter on the electromagnetic shielding member per 1 cm2.
<방오성 평가><Evaluation of antifouling properties>
두께 125㎛의 폴리이미드 필름(도레이· 듀폰사제「카프톤 500H」)에, 5×15cm로 자른, 각 실시 예 및 참고 예의 전자파 차폐용 적층체를 각각 올려놓고 180℃에서 2MPa의 조건으로 10분 열 프레스를 실시하고, 180℃에서 2시간 경화하여 시험 기판을 얻었다. 그 후, 이형성 쿠션 부재를 박리했다. 의사 플럭스로 전자파 차폐 부재의 윗면에 n-옥탄산을 도포하였다. 그 후, 디옥솔란과 이소프로판올을 8/2로 혼합한 세정액에 침지하여 초음파 세정하였다. 세척 후, 광학 현미경(배율 200배)을 이용하여 방오성에 대해 평가했다. 평가 기준은 다음과 같다.On a polyimide film having a thickness of 125 μm (“Kafton 500H” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.), the laminates for electromagnetic wave shielding of each example and reference example cut to 5×15 cm were placed on each, and placed at 180° C. under the condition of 2 MPa for 10 minutes. It hot-pressed, it hardened|cured at 180 degreeC for 2 hours, and obtained the test board|substrate. Thereafter, the releasable cushion member was peeled off. n-octanoic acid was coated on the upper surface of the electromagnetic wave shielding member with a pseudo flux. Thereafter, it was immersed in a cleaning solution in which dioxolane and isopropanol were mixed at an ratio of 8/2, followed by ultrasonic cleaning. After washing, the antifouling property was evaluated using an optical microscope (magnification 200 times). The evaluation criteria are as follows.
+++ : 3분간의 세정으로, 잔사가 없다.+++: After 3 minutes of washing, there is no residue.
++ : 5분간의 세정으로, 잔사가 없다.++: After washing for 5 minutes, there is no residue.
+ : 5분간의 세정으로, 전자파 차폐 부재 윗면 1㎠당 1~2개 잔사가 있다.+: After washing for 5 minutes, there are 1-2 residues per 1 cm2 of the upper surface of the electromagnetic wave shielding member.
NG : 5분간의 세정에서 전자파 차폐 부재 윗면 1㎠당 2개 초과 잔사가 있다.NG: There are more than 2 residues per
<냉열 사이클 시험><Cold-heat cycle test>
도 17에 나타내는 시험 기판에 대하여, 실시 예 C1에 따른 전자파 차폐 부재가 피복된 전자 부품 탑재 기판(시험편)을 준비하고, 전자파 차폐 부재(1)가 피복된 전자 부품의 두 윗면(도 24의 화살표) 사이의 초기 접속 저항값을, 미쓰비시가가쿠애널리텍제 「로레스타 GP」의 BSP의 프로브를 사용하여 측정하였다. 이어서, 열 충격 장치(「TSE-11-A」, 에스펙사제)에 투입하고 고온 노출 : 125℃, 15분, 저온 노출 : -50℃, 15분의 노출 조건에서 번갈아 노출을 1000회 실시했다. 그 후, 시료의 접속 저항 값을 초기와 동일하게 측정했다.For the test board shown in FIG. 17, an electronic component mounting board (test piece) coated with an electromagnetic wave shielding member according to Example C1 was prepared, and two upper surfaces of the electronic component coated with the electromagnetic wave shielding member 1 (arrows in FIG. 24) ) was measured using the BSP probe of "Loresta GP" manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech. Next, it was put into a thermal shock device ("TSE-11-A", manufactured by SPEC Co., Ltd.), and exposure was alternately performed 1000 times under exposure conditions of high temperature exposure: 125 ° C., 15 minutes, low temperature exposure: -50 ° C., 15 minutes. . Then, the connection resistance value of the sample was measured similarly to the initial stage.
냉열 사이클 신뢰성 평가 기준은 다음과 같다. 측정값은 3군데 측정하여 그 평균값으로 하였다.Cooling cycle reliability evaluation criteria are as follows. The measured value was measured in three places, and it was set as the average value.
또한, 하드 코트 층 등의 절연 층이 최 표면에 적층된 경우에는 냉열 사이클 시험 후 당해 절연 층의 측정 개소를 제거하고, 전자파 차폐층(5)을 노출시켜 상기와 같은 시험을 행한다. 이 경우에는 냉열 사이클 시험 전의 전자파 차폐층(5)의 접속 저항값은, 같은 샘플의 다른 위치에서 절연 층의 측정 개소를 위와 같은 방법으로 제거하여 구한다.In addition, when an insulating layer such as a hard coat layer is laminated on the outermost surface, the measurement location of the insulating layer is removed after the cold-heat cycle test, and the electromagnetic
+++ :(번갈아 노출 후 접속 저항값)/(초기 접속 저항값)이 1.5 미만 매우 양호.+++ :(Connection resistance value after exposure alternately)/(Initial connection resistance value) less than 1.5 Very good.
++ :(번갈아 노출 후 접속 저항값)/(초기 접속 저항값)이 1.5 이상 3.0 미만 양호.++ : (connection resistance value after exposure alternately)/(initial connection resistance value) 1.5 or more and less than 3.0 good.
+ :(번갈아 노출 후 접속 저항값)/(초기 접속 저항값)이 3.0 이상 5.0 미만 실용 가능.+ : (connection resistance value after exposure alternately)/(initial connection resistance value) is 3.0 or more and less than 5.0 Practical.
NG :(번갈아 노출 후 접속 저항값)/(초기 접속 저항값)이 5.0 이상.NG: (connection resistance value after alternate exposure)/(initial connection resistance value) is 5.0 or more.
표 4는 실시 예 C1~C9 및 참고 예 C1의 상기 평가 결과를 나타낸다. Table 4 shows the evaluation results of Examples C1 to C9 and Reference Example C1.
[표 4][Table 4]
표 4의 예와 같이, 제곱 평균 평방근 높이 Rq가 0.3 이상의 참고 예 1의 전자파 차폐 부재를 이용한 전자 부품 탑재 기판은 냉열 사이클 시험 합격 수준에 도달하지 않았다. 이에 대해 본 발명의 전자 부품 탑재 기판의 전자파 차폐 부재는 모두 합격 수준에 도달하고, 냉열 사이클 시험의 가혹한 조건에서도 피복성이 뛰어난 것을 확인했다. 또한, 단위 제품으로 나누는 공정에서 전자파 차폐 부재에 들뜸이나 박리 등의 피복성 불량을 효과적으로 방지할 수 있음을 확인했다. 또한, 본 발명의 전자 부품 탑재 기판의 전자파 차폐성 부재는 방오성이 뛰어난 것을 확인했다.As in the example of Table 4, the electronic component mounting board using the electromagnetic wave shielding member of Reference Example 1 having a root mean square height Rq of 0.3 or more did not reach the pass level of the cooling/heating cycle test. On the other hand, it was confirmed that all the electromagnetic wave shielding members of the electronic component mounting board|substrate of this invention reached the pass level, and were excellent in covering property also in the severe conditions of a cold-heat cycle test. In addition, it was confirmed that in the process of dividing the product into unit products, it is possible to effectively prevent coating defects such as floating or peeling of the electromagnetic wave shielding member. Furthermore, it was confirmed that the electromagnetic wave shielding member of the electronic component mounting board|substrate of this invention was excellent in antifouling property.
이 출원은 2018년 12월 18일에 출원된 일본 특원2018-236541 및 동 특원2018-236542, 2019년 3월 28일에 출원된 일본 특원2019-063673 및 동 특원2019-0636734, 및 2019년 12월 5일에 출원된 일본 특원2019-220612를 기초로 하는 우선권을 주장하고 그 개시의 전부를 여기에 포함한다.This application is a Japanese Patent Application No. 2018-236541 filed on December 18, 2018 and Japanese Patent Application No. 2018-236542 filed on December 18, 2018, Japanese Patent Application No. 2019-063673 and Japanese Patent Application No. 2019-0636734 filed on March 28, 2019, and December 2019 Priority is claimed on the basis of Japanese Patent Application No. 2019-220612 filed on the 5th, and the entire disclosure is incorporated herein.
1: 전자파 차폐 부재
2: 전자파 차폐용 부재
3: 이형성 쿠션 부재
4: 전자파 차폐용 적층체
5: 전자파 차폐층
6: 도전성 접착제 층
6P: 건조 상의 도전성 접착제 층
7b: 절연 수지층
8c: 절연성 접착제 층
9c: 절연 피복 층
10: 바인더 수지 전구체
11: 도전성 필러
12: 덴드라이트 모양 입자
15: 이형성 기재
20: 기판
21: 전극
22: 그라운드 패턴
23: 내부 비아
24: 솔더 볼
25: 하프-다이싱 홈
30: 전자 부품
31: 반도체 칩
32: 몰드 수지
33: 본딩 와이어
40: 프레스 기판
51,52: 전자 부품 탑재 기판1: Electromagnetic wave shielding member
2: Electromagnetic wave shielding member
3: No releasable cushioning
4: Electromagnetic wave shielding laminate
5: electromagnetic wave shielding layer
6: conductive adhesive layer
6P: conductive adhesive layer in dry phase
7b: insulating resin layer
8c: insulating adhesive layer
9c: insulating coating layer
10: binder resin precursor
11: Conductive filler
12: dendrite-shaped particles
15: releasable substrate
20: substrate
21: electrode
22: ground pattern
23: internal via
24: solder ball
25: half-dicing groove
30: electronic components
31: semiconductor chip
32: mold resin
33: bonding wire
40: press board
51,52: electronic component mounting board
Claims (16)
상기 기판의 적어도 한쪽 면에 탑재된 전자 부품과,
상기 전자 부품 윗면에서 상기 기판에 걸쳐 피복하고, 상기 전자 부품의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 상기 기판의 적어도 일부를 피복하는 전자파 차폐 부재를 구비하고,
상기 전자파 차폐 부재는 바인더 수지와 도전성 필러를 포함하는 전자파 차폐층을 가지며,
상기 전자파 차폐 부재의 표층의 JISB0601;2001에 의해 측정한 첨도(kurtosis, 尖度)가 1~8이고,
상기 전자파 차폐 부재의 표면의 제곱 평균 평방근 높이가 0.4~1.6㎛의 범위인 전자 부품 탑재 기판.board and
an electronic component mounted on at least one surface of the substrate;
an electromagnetic wave shielding member covering the upper surface of the electronic component over the substrate and covering at least a portion of the substrate and a side surface of a step formed by mounting the electronic component;
The electromagnetic wave shielding member has an electromagnetic wave shielding layer comprising a binder resin and a conductive filler,
The kurtosis (kurtosis, 尖度) measured according to JISB0601; 2001 of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member is 1 to 8,
The electronic component mounting board|substrate whose root mean square height of the surface of the said electromagnetic wave shielding member is in the range of 0.4-1.6 micrometers.
상기 도전성 필러는 덴드라이트 모양 및 바늘 형상의 도전성 필러 중 적어도 하나를 함유하는, 전자 부품 탑재 기판.According to claim 1,
The electronic component mounting substrate, wherein the conductive filler contains at least one of a dendrite-shaped and a needle-shaped conductive filler.
상기 기판의 적어도 한쪽 면에 탑재된 전자 부품과,
상기 전자 부품 윗면에서 상기 기판에 걸쳐 피복하고, 상기 전자 부품의 탑재에 의해 형성된 단차부의 측면 및 상기 기판의 적어도 일부를 피복하는 전자파 차폐 부재를 구비하고,
상기 전자파 차폐 부재는, 바인더 수지와 도전성 필러를 포함하는 전자파 차폐층을 가지며, 또한 압입 탄성률이 1~10GPa이고,
상기 전자파 차폐 부재의 표층의 JISB0601 ; 2001에 의해 측정한 첨도가 1~8이며,
상기 전자파 차폐 부재의 표면의 제곱 평균 평방근 높이가 0.4~1.6㎛의 범위인 전자 부품 탑재 기판.board and
an electronic component mounted on at least one surface of the substrate;
an electromagnetic wave shielding member covering the upper surface of the electronic component over the substrate and covering at least a portion of the substrate and a side surface of a step formed by mounting the electronic component;
The electromagnetic wave shielding member has an electromagnetic wave shielding layer including a binder resin and a conductive filler, and has an indentation modulus of 1 to 10 GPa,
JISB0601 of the surface layer of the said electromagnetic wave shielding member; The kurtosis measured by 2001 is 1 to 8,
The electronic component mounting board|substrate whose root mean square height of the surface of the said electromagnetic wave shielding member is in the range of 0.4-1.6 micrometers.
상기 전자파 차폐 부재의 표층의 물 접촉각이 70~110°인, 전자 부품 탑재 기판.5. The method of claim 4,
A water contact angle of the surface layer of the electromagnetic wave shielding member is 70 to 110°, an electronic component mounting substrate.
상기 전자파 차폐 부재의 JIS K5600에 따른 압력 쿠커 시험 후의 테이프 밀착 시험에서, 상기 전자 부품상의 상기 전자파 차폐 부재가 23/25 이상의 크로스컷 잔존률을 나타내는, 전자 부품 탑재 기판.5. The method of claim 4,
In the tape adhesion test after the pressure cooker test according to JIS K5600 of the electromagnetic wave shielding member, the electromagnetic wave shielding member on the electronic component exhibits a crosscut residual ratio of 23/25 or more.
상기 전자파 차폐 부재의 마르텐스 경도가 50~312N/㎟인, 전자 부품 탑재 기판.5. The method of claim 4,
The Martens hardness of the electromagnetic wave shielding member is 50 to 312N/mm 2 , an electronic component mounting board.
상기 바인더 수지는, 열경화성 수지와, 상기 열경화성 수지의 반응성 관능기와 가교 가능한 관능기를 가지고 있는 경화성 화합물을 함유하는 바인더 수지 전구체를 열 압착해서 얻어지는 것을 특징으로 하는, 전자 부품 탑재 기판.5. The method of claim 4,
The binder resin is obtained by thermocompressing a thermosetting resin and a binder resin precursor containing a curable compound having a reactive functional group and a crosslinkable functional group of the thermosetting resin.
상기 전자파 차폐 부재의 막 두께가 10~200㎛인, 전자 부품 탑재 기판.5. The method of claim 4,
A film thickness of the electromagnetic wave shielding member is 10-200 μm, an electronic component mounting substrate.
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