JP6597927B1 - Electromagnetic shielding sheet and electromagnetic shielding wiring circuit board - Google Patents

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Abstract

【課題】ハンダリフロー耐性をもち、高周波伝送回路に用いた場合においても伝送損失を低減させ、優れた高周波シールド性を示し、かつ冷熱サイクル暴露後も高い接続信頼性を有する電磁波シールドシート、電磁波シールド性配線回路基板を提供すること。【解決手段】導電接着剤層と金属層と保護層とから構成され、前記金属層の導電接着剤層と接する表面のISO 25178−2:2012に準拠して求めた二乗平均平方根傾斜Sdqが0.0001〜0.5であり、かつ前記金属層は、複数の開口部を有し、かつ開口率が0.10〜20%であることを特徴とする電磁波シールドシートによって解決される。【選択図】図1An electromagnetic wave shielding sheet and an electromagnetic wave shield that have solder reflow resistance, reduce transmission loss even when used in a high frequency transmission circuit, exhibit excellent high frequency shielding properties, and have high connection reliability even after exposure to a thermal cycle. To provide a conductive circuit board. A root mean square slope Sdq determined in accordance with ISO 25178-2: 2012 on a surface of a metal layer that is in contact with the conductive adhesive layer is 0. 0.001 to 0.5, and the metal layer has a plurality of openings and has an opening ratio of 0.10 to 20%. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、電磁波シールドシート、および電磁波シールド性配線回路基板に関し、例えば、電磁波を放出する部品の一部に接合して利用するのに好適な電磁波シールドシート、並びに、電磁波シールドシートを用いた電磁波シールド性配線回路基板に関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding sheet and an electromagnetic wave shielding wiring circuit board, for example, an electromagnetic wave shielding sheet suitable for use by joining to a part of a component that emits electromagnetic waves, and an electromagnetic wave using the electromagnetic wave shielding sheet. The present invention relates to a shielded wiring circuit board.

携帯端末、PC、サーバー等をはじめとする各種電子機器には、プリント配線板等の配線回路基板が内蔵されている。これらの配線回路基板には、外部からの磁場や電波による誤動作を防止するために、また、電気信号からの不要輻射を低減するために、電磁波シールド構造が設けられている。   Various electronic devices such as portable terminals, PCs, servers, and the like have built-in wiring circuit boards such as printed wiring boards. These printed circuit boards are provided with an electromagnetic wave shielding structure in order to prevent malfunctions due to external magnetic fields and radio waves and to reduce unnecessary radiation from electrical signals.

伝送信号の高速伝送化に伴い、電磁波シールドシートも高周波ノイズに対応する電磁波シールド性(以下、高周波シールド性)、及び高周波領域における伝送損失(以下、伝送特性ということがある)の低減が求められている。特許文献1においては、厚みが0.5〜12μmの金属層と、異方導電接着剤層とを積層状態で備えた構成が開示されている。そして、当該構成により、電磁波シールドシートの一方面側から他方面側に進行する電界波、磁界波、および電磁波を良好に遮蔽するとともに伝送損失を低減することが記載されている。   With the increase in transmission speed of transmission signals, electromagnetic wave shielding sheets are also required to reduce electromagnetic wave shielding properties (hereinafter referred to as high frequency shielding properties) corresponding to high frequency noise and transmission losses in the high frequency region (hereinafter sometimes referred to as transmission characteristics). ing. Patent Document 1 discloses a configuration in which a metal layer having a thickness of 0.5 to 12 μm and an anisotropic conductive adhesive layer are provided in a laminated state. And it is described by the said structure that an electric field wave, a magnetic field wave, and electromagnetic waves which advance from the one surface side of the electromagnetic wave shielding sheet to the other surface side are well shielded and transmission loss is reduced.

国際公開第2013/077108号International Publication No. 2013/077108 特開2013−168643号公報JP 2013-168643 A

近年、携帯電話に代表される電子機器においては、伝送信号の高速伝送化に伴い、それらに内蔵される配線回路基板上の電磁波シールドシートも高周波シールド性、および伝送特性が求められている。このため電磁波シールドシートの導電層には特許文献1で記載されるように厚みが0.5〜12μmの金属層を用いるのが好適とされてきた。
しかしながら、単に厚みが0.5〜12μmの金属層を用いるのみでは、高周波帯域において電磁波シールドシートは十分な伝送特性を発現することができず、より優れた伝送特性を電磁波シールドシートに持たせるためには、金属層に対して一層の工夫を行うことが求められてきた。
加えて、金属層を用いた電磁波シールドシートを配線回路基板に貼り付けた電磁波シールド性配線回路基板はハンダリフローなどの加熱処理を行った際に、配線回路基板の内部から発生する揮発成分によって層間で浮きが発生し、発泡等により外観不良および接続不良となる問題があった(以下、ハンダリフロー耐性ということがある)。この問題に対して、例えば特許文献2では、金属薄膜層にピンホールを複数有する金属箔を用い、揮発成分を金属薄膜層のピンホールから透過させることで、層間での浮きや発泡を抑制している。
一方、近年のスマートフォン、タブレット端末等の電子機器の世界的な普及に伴い、あらゆる温度条件での信頼性が求められている。特許文献1および、特許文献2の電磁波シールドシート備えた配線回路基板は極端な温度変化に曝されると、配線回路基板からの剥離や、グランド回路との接続が途切れる、といった問題を生じていた(以下、冷熱サイクル信頼性)。
2. Description of the Related Art In recent years, in electronic devices typified by mobile phones, with the increase in transmission speed of transmission signals, an electromagnetic wave shielding sheet on a printed circuit board built in them is required to have high frequency shielding properties and transmission characteristics. For this reason, it has been considered suitable to use a metal layer having a thickness of 0.5 to 12 μm as described in Patent Document 1 for the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet.
However, simply by using a metal layer having a thickness of 0.5 to 12 μm, the electromagnetic wave shield sheet cannot exhibit sufficient transmission characteristics in the high frequency band, and the electromagnetic wave shield sheet has better transmission characteristics. Therefore, it has been required to further devise the metal layer.
In addition, an electromagnetic wave shielding wiring circuit board in which an electromagnetic wave shielding sheet using a metal layer is affixed to the wiring circuit board is subjected to a volatile component generated from the inside of the wiring circuit board when heat treatment such as solder reflow is performed. There was a problem in that floating occurred and foaming or the like caused poor appearance and poor connection (hereinafter sometimes referred to as solder reflow resistance). For example, in Patent Document 2, a metal foil having a plurality of pinholes is used in the metal thin film layer, and volatile components are transmitted through the pinholes in the metal thin film layer to suppress floating and foaming between the layers. ing.
On the other hand, with the recent widespread use of electronic devices such as smartphones and tablet terminals in recent years, reliability under all temperature conditions is required. When the printed circuit board provided with the electromagnetic wave shielding sheet of Patent Document 1 and Patent Document 2 is exposed to an extreme temperature change, there has been a problem that peeling from the printed circuit board or disconnection from the ground circuit is interrupted. (Hereinafter, reliability of thermal cycle).

本発明は、上記背景に鑑みて成されたものであり、その目的とするところは、ハンダリフロー耐性および優良な冷熱サイクル信頼性をもち、かつ優れた高周波シールド性と、高周波信号に適した伝送特性を有する電磁波シールドシートおよび該電磁波シールドシートを用いた配線回路基板を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described background, and its object is to have solder reflow resistance and excellent thermal cycle reliability, and excellent high-frequency shielding properties and transmission suitable for high-frequency signals. An electromagnetic wave shielding sheet having characteristics and a printed circuit board using the electromagnetic wave shielding sheet are provided.

本発明者が鋭意検討を行ったところ、以下の態様において、本発明の課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明に係る電磁波シールドシートは、導電接着剤層、金属層、保護層をこの順に備えた積層体を有し、導電接着剤層と接する前記金属層の界面はISO 25178−2:2012に準拠して求めた二乗平均平方根傾斜Sdqが0.0001〜0.5であり、
前記金属層は複数の開口部を有し、かつ開口率が0.10〜20%であることを特徴とする。
As a result of intensive studies by the inventor, it has been found that the problems of the present invention can be solved in the following modes, and the present invention has been completed.
That is, the electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention has a laminate including a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer in this order, and the interface of the metal layer in contact with the conductive adhesive layer is ISO 25178-2: 2012. The root mean square slope Sdq determined in accordance with the above is 0.0001 to 0.5,
The metal layer has a plurality of openings and has an opening ratio of 0.10 to 20%.

本発明によれば、ハンダリフロー耐性に優れ、高周波伝送回路に用いた場合においても伝送損失を低減させ、優れた高周波シールド性を示し、かつ冷熱サイクル暴露後も高い接続信頼性を有する電磁波シールドシート、および電磁波シールド性配線回路基板を提供することができるという優れた効果を奏する。   According to the present invention, an electromagnetic wave shielding sheet that has excellent solder reflow resistance, reduces transmission loss even when used in a high frequency transmission circuit, exhibits excellent high frequency shielding properties, and has high connection reliability even after exposure to a thermal cycle. And the outstanding effect that an electromagnetic wave shielding wiring circuit board can be provided is produced.

本実施形態に係る電磁波シールドシートを例示した断面図である。It is sectional drawing which illustrated the electromagnetic wave shield sheet which concerns on this embodiment. 二乗平均平方根傾斜Sdqが異なる表面の比較を例示した図である。It is the figure which illustrated the comparison of the surface from which a root mean square inclination Sdq differs. 本実施形態に係る電磁波シールド性配線回路基板の一例を示す模式的な切断部断面図であるIt is a typical cut section sectional view showing an example of an electromagnetic wave shielding wiring circuit board concerning this embodiment. 実施例および比較例に係るコプレーナ回路を有する配線板の主面側の模式的平面図である。It is a typical top view of the main surface side of the wiring board which has a coplanar circuit which concerns on an Example and a comparative example. 実施例および比較例に係るコプレーナ回路を有する配線板の裏面側の模式的平面図である。It is a typical top view of the back surface side of the wiring board which has a coplanar circuit which concerns on an Example and a comparative example. 実施例および比較例に係る電磁波シールドシート付きコプレーナ回路を有する配線板の主面側の模式的平面図である。It is a typical top view of the main surface side of the wiring board which has a coplanar circuit with an electromagnetic wave shield sheet which concerns on an Example and a comparative example. 冷熱サイクル信頼性評価の模式的平面図、および切断部断面図である。It is the typical top view of a thermal cycle reliability evaluation, and a cutting part sectional view. 電磁波シールドシート(実施例5)の動的粘弾性曲線である。It is a dynamic viscoelastic curve of an electromagnetic wave shield sheet (Example 5).

以下、本発明を適用した実施形態の一例について説明する。尚、以降の図における各部材のサイズや比率は、説明の便宜上のものであり、これに限定されるものではない。また、本明細書において「任意の数A〜任意の数B」なる記載は、当該範囲に数Aが下限値として、数Bが上限値として含まれる。また、本明細書における「シート」とは、JISにおいて定義される「シート」のみならず、「フィルム」も含むものとする。また、本明細書において特定する数値は、実施形態または実施例に開示した方法により求められる値である。 Hereinafter, an example of an embodiment to which the present invention is applied will be described. In addition, the size and ratio of each member in the following drawings are for convenience of explanation, and are not limited to this. In the present specification, the description “any number A to any number B” includes the number A as a lower limit and the number B as an upper limit in the range. The “sheet” in this specification includes not only “sheet” defined in JIS but also “film”. Moreover, the numerical value specified in this specification is a value calculated | required by the method disclosed by embodiment or an Example.

<電磁波シールドシート>
本発明の電磁波シールドシートは、少なくとも導電接着剤層、金属層、保護層をこの順に備えた積層体を有する。図1は、本発明の実施形態に係る電磁波シールドシート10を例示した断面図である。図1に示すように、電磁波シールドシート10は、導電接着剤層1、金属層2及び保護層3をこの順に備えた積層体を有し、金属層2は、導電接着剤層1及び保護層3の間に配置されている。
本発明の電磁波シールドシートは、複数の開口部4を有し、かつ開口率が0.10〜20%であり、さらに導電接着剤層と接する面の二乗平均平方根Sdqが、0.0001〜0.5の範囲である金属層を備えているため、特に高周波(例えば、100MHzから50GHz)の信号を伝送する配線回路基板で、優れた伝送特性等を発現することができる。
電磁波シールドシート10は、例えば、被着体である配線回路基板と、導電接着剤層1側の面を貼り合せて電磁波シールド層を形成し、電磁波シールド性配線回路基板を作製する。すなわち、金属層2の表面のうち、配線回路基板中の信号配線と対向するのは、導電接着剤層1と密着する表面である。
<Electromagnetic wave shield sheet>
The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention has a laminate including at least a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer in this order. FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an electromagnetic wave shielding sheet 10 according to an embodiment of the invention. As shown in FIG. 1, the electromagnetic wave shielding sheet 10 has a laminated body including a conductive adhesive layer 1, a metal layer 2, and a protective layer 3 in this order, and the metal layer 2 includes the conductive adhesive layer 1 and the protective layer. 3 is arranged.
The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention has a plurality of openings 4 and an opening ratio of 0.10 to 20%, and the root mean square Sdq of the surface in contact with the conductive adhesive layer is 0.0001 to 0. Since it has a metal layer in the range of .5, excellent transmission characteristics and the like can be expressed particularly in a printed circuit board that transmits a high-frequency signal (for example, 100 MHz to 50 GHz).
For example, the electromagnetic wave shielding sheet 10 forms an electromagnetic wave shielding layer by bonding a wiring circuit board as an adherend and a surface on the conductive adhesive layer 1 side to produce an electromagnetic wave shielding wiring circuit board. That is, of the surface of the metal layer 2, the surface that is in close contact with the conductive adhesive layer 1 is opposite to the signal wiring in the printed circuit board.

[積層硬化物の損失正接]
また、本発明の電磁波シールドシートは、少なくとも導電接着剤層、金属層、保護層をこの順に備えた積層体を、170℃30分間熱プレスしてなる積層硬化物の、125℃における損失正接が0.10以上であることが好ましい。
これにより、冷熱サイクル信頼性をより向上させることができる。
[Loss tangent of laminated cured product]
Further, the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention has a loss tangent at 125 ° C. of a laminated cured product obtained by hot pressing a laminated body provided with at least a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer in this order at 170 ° C. for 30 minutes. It is preferable that it is 0.10 or more.
Thereby, cooling cycle reliability can be improved more.

積層硬化物は、電磁波シールドシートを170℃30分間熱プレスによって硬化させることにより形成できる。即ち、導電接着剤層、金属層、保護層、およびその他機能層からなり、その内、硬化成分を有する層は、硬化がなされた積層体を指す。   The laminated cured product can be formed by curing the electromagnetic wave shielding sheet by hot pressing at 170 ° C. for 30 minutes. That is, it is composed of a conductive adhesive layer, a metal layer, a protective layer, and other functional layers, and among them, the layer having a curing component refers to a cured laminate.

積層硬化物は、熱プレス前、あるいは熱プレス後に電磁波シールドシートから、剥離性シートを除去したものであって、電磁波シールドシート一枚のみ熱プレスを行う、あるいは複数枚の電磁波シールドシートをラミネーター等により積層し熱プレスを行う、といういずれの方法によっても得ることができる。
すなわち積層硬化物は、電磁波シールドシートのうち、電磁波シールド性配線回路基板に用いられる電磁波シールド層と同様の積層構成部分のことである。
Laminated cured product is a product obtained by removing a peelable sheet from an electromagnetic wave shield sheet before or after hot pressing, and performing hot pressing on only one electromagnetic wave shield sheet, or laminating a plurality of electromagnetic wave shield sheets, etc. Can be obtained by any of the methods of laminating and hot pressing.
That is, the laminated cured product is a laminated component similar to the electromagnetic wave shielding layer used for the electromagnetic wave shielding wiring circuit board in the electromagnetic wave shielding sheet.

具体的には例えば、電磁波シールドシートを2枚用意し、それぞれの導電接着剤層側の剥離性シートを剥がし、露出した導電接着剤層同士を貼り合せ、170℃30分の条件で熱プレスし、少なくとも導電接着剤層、金属層、保護層をこの順に備えた積層体を熱硬化させて積層硬化物とすることができる。   Specifically, for example, two electromagnetic wave shielding sheets are prepared, the peelable sheets on the respective conductive adhesive layer sides are peeled off, the exposed conductive adhesive layers are bonded together, and hot pressed under conditions of 170 ° C. for 30 minutes. A laminate comprising at least a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer in this order can be thermally cured to obtain a cured laminate.

積層硬化物の損失正接は、下記数式(3)によって求められる数値であり、電磁波シールドシートを変形させた際に発生する応力の緩和能力の指標となる。

数式(3)
(積層硬化物の損失正接)=
(積層硬化物の損失弾性率E´´)/(積層硬化物の貯蔵弾性率E´)
積層硬化物は、170℃30分間熱プレス後の125℃における損失正接が0.1以上であることが、冷熱サイクル信頼性の観点から好ましい。積層硬化物の170℃30分間熱プレス後の125℃における損失正接が0.1以上であると、高温曝露時の膨張によって発生する応力を十分に緩和させることが可能となる。積層硬化物は、170℃30分間熱プレス後の125℃における損失正接が0.13以上であることがより好ましく、0.15以上であることが更に好ましい。
The loss tangent of the laminated cured product is a numerical value obtained by the following mathematical formula (3), and serves as an index of the ability to relieve stress generated when the electromagnetic wave shielding sheet is deformed.

Formula (3)
(Loss tangent of laminated cured product) =
(Loss elastic modulus E ″ of laminated cured product) / (storage elastic modulus E ′ of laminated cured product)
The laminated cured product preferably has a loss tangent at 125 ° C. after hot pressing at 170 ° C. for 30 minutes of 0.1 or more from the viewpoint of cooling cycle reliability. When the loss tangent at 125 ° C. after heat pressing of the laminated cured product at 170 ° C. for 30 minutes is 0.1 or more, it is possible to sufficiently relieve the stress generated by expansion during high temperature exposure. The laminated cured product preferably has a loss tangent at 125 ° C. after hot pressing at 170 ° C. for 30 minutes of 0.13 or more, more preferably 0.15 or more.

積層硬化物の損失正接は、導電接着剤層、金属層、保護層、その他積層硬化物に具備される層のいずれか、もしくは2層以上の層の損失弾性率E´´、および貯蔵弾性率E´を変化させることで制御できる。積層硬化物に包含される1層、もしくは2層以上の層の損失弾性率E´´、および貯蔵弾性率E´を変化させることで、積層硬化物の損失弾性率E´´、および貯蔵弾性率E´が変化し、積層硬化物の損失正接が変化するためである。   The loss tangent of the laminated cured product is the loss elastic modulus E ″ and the storage elastic modulus of any one of the conductive adhesive layer, metal layer, protective layer, other layers provided in the laminated cured product, or two or more layers. It can be controlled by changing E ′. By changing the loss elastic modulus E ″ and the storage elastic modulus E ′ of one layer or two or more layers included in the laminated cured product, the loss elastic modulus E ″ and the storage elasticity of the laminated cured product are changed. This is because the rate E ′ changes and the loss tangent of the laminated cured product changes.

積層硬化物に包含される1層、もしくは2層以上の層の損失弾性率E´´、および貯蔵弾性率E´を変化させる方法の一例として、保護層中の硬化剤量制御が挙げられる。即ち、保護層中の硬化剤量を増加、もしくは減少させることで、保護層の貯蔵弾性率E´が上昇、もしくは低下する。その結果、積層硬化物の貯蔵弾性率E´が上昇、もしくは低下し、積層硬化物の損失正接が低下、もしくは上昇する。
積層硬化物の損失正接を制御する方法としては、特に限定されるものではなく、熱可塑性樹脂、もしくは熱硬化性樹脂および硬化剤の種類や配合比を変える、各層の厚みを変える、金属層の種類を変える、といった従来公知の方法を適用することができる。
As an example of a method for changing the loss elastic modulus E ″ and the storage elastic modulus E ′ of one layer or two or more layers included in the laminated cured product, control of the amount of the curing agent in the protective layer can be mentioned. That is, the storage elastic modulus E ′ of the protective layer is increased or decreased by increasing or decreasing the amount of the curing agent in the protective layer. As a result, the storage elastic modulus E ′ of the laminated cured product increases or decreases, and the loss tangent of the laminated cured product decreases or increases.
The method for controlling the loss tangent of the laminated cured product is not particularly limited, and the type or blending ratio of the thermoplastic resin or the thermosetting resin and the curing agent is changed. The thickness of each layer is changed. A conventionally known method such as changing the type can be applied.

《金属層》
本発明の金属層は、電磁波シールドシートに高周波シールド性を付与する機能を有する。導電接着剤層と接する側の金属層の界面は、ISO 25178−2:2012で規定される二乗平均平方根傾斜Sdqが0.0001〜0.5である。二乗平均平方根傾斜Sdqを0.0001〜0.5の範囲となるよう制御することにより、伝送特性と、冷熱サイクル信頼性を両立できる。二乗平均平方根傾斜Sdqの詳細、および二乗平均平方根傾斜Sdqの制御によって得られる効果の詳細については後述する。
さらに、本発明の金属層は、複数の開口部を有し、かつ開口率が0.10〜20%である。これにより、ハンダリフロー耐性が向上し、外観不良の発生、および接続信頼性の低下を抑制することができる。
《Metallic layer》
The metal layer of the present invention has a function of imparting high-frequency shielding properties to the electromagnetic wave shielding sheet. As for the interface of the metal layer on the side in contact with the conductive adhesive layer, the root mean square slope Sdq defined by ISO 25178-2: 2012 is 0.0001 to 0.5. By controlling the root mean square slope Sdq to be in the range of 0.0001 to 0.5, both transmission characteristics and cooling cycle reliability can be achieved. Details of the root mean square slope Sdq and details of the effects obtained by controlling the root mean square slope Sdq will be described later.
Furthermore, the metal layer of the present invention has a plurality of openings and an opening ratio of 0.10 to 20%. Thereby, the solder reflow resistance is improved, and appearance defects and a decrease in connection reliability can be suppressed.

[二乗平均平方根傾斜Sdq]
二乗平均平方根傾斜SdqはISO 25178−2:2012において、下記数式(1)で規定される表面性状パラメータである。Aは定義表面の面積、∂xはx軸方向、∂yはy軸方向、∂z(x,y)はz軸方向の微小変位を表す。

二乗平均平方根傾斜Sdqは、光学顕微鏡、レーザー顕微鏡、および電子顕微鏡いずれかで得られる表面形状の座標データを、解析ソフトによって処理することにより、算出することができる。二乗平均平方根傾斜Sdqは、定義表面の全点における傾斜の二乗平均平方根を表しており、定義表面における凹凸の険しさを表現するパラメータである。表面の性状を表現するパラメータとしては、算術平均高さSaや最大高さSzが一般的に用いられるが、これらは凹凸の高さのみを表したパラメータであり、表面の状態を正確に表すには適当でない。
図2に二乗平均平方根傾斜Sdqが異なる2つの表面を例示する。二乗平均平方根傾斜Sdqの数値が大きい程、表面凹凸はより険しくなる。即ち、二乗平均平方根傾斜Sdqの数値によって、表面凹凸険しさの程度を判断することができる。
[Root mean square slope Sdq]
The root mean square slope Sdq is a surface property parameter defined by the following formula (1) in ISO 25178-2: 2012. A represents the area of the defined surface, ∂x represents the x-axis direction, ∂y represents the y-axis direction, and ∂z (x, y) represents the minute displacement in the z-axis direction.

The root mean square slope Sdq can be calculated by processing surface shape coordinate data obtained by any one of an optical microscope, a laser microscope, and an electron microscope using analysis software. The root mean square slope Sdq represents the root mean square of the slope at all points on the definition surface, and is a parameter expressing the steepness of the irregularities on the definition surface. As the parameters expressing the surface properties, the arithmetic average height Sa and the maximum height Sz are generally used, but these are parameters that represent only the height of the unevenness, and accurately represent the surface state. Is not appropriate.
FIG. 2 illustrates two surfaces having different root mean square slopes Sdq. The larger the value of the root mean square slope Sdq, the steeper the surface unevenness. That is, the degree of surface irregularity can be determined by the numerical value of the root mean square slope Sdq.

なお、この金属層の二乗平均平方根傾斜Sdqの値は、加熱プレス等の電磁波シールド層の形成工程により変化しない。そのため、電磁波シールド層における導電接着剤層と接する前記金属層の界面の二乗平均平方根傾斜Sdqも0.0001〜0.5である。   Note that the value of the root mean square slope Sdq of the metal layer does not change depending on the formation process of the electromagnetic shielding layer such as a heating press. Therefore, the root mean square slope Sdq of the interface of the metal layer in contact with the conductive adhesive layer in the electromagnetic wave shielding layer is also 0.0001 to 0.5.

また、電磁波シールドシートの金属層において、電流の性質上、電流は、高周波になると、金属層の表面を流れるようになる。配線回路基板中の信号配線における伝送特性は、近傍の導電体に流れる電流の影響を受けるため、信号配線と近接する金属層の表面の凹凸が険しいと、金属表面を流れる電流との距離が変動し、伝送特性が不安定となる。そのため、伝送特性の観点からは、金属層の導電接着剤層と接する面の二乗平均平方根Sdqは、0.5以下であることが好ましく、0.4以下であることがより好ましく、0.3以下であることが更に好ましい。   Further, in the metal layer of the electromagnetic wave shielding sheet, due to the nature of the current, the current flows on the surface of the metal layer at a high frequency. The transmission characteristics of the signal wiring in the printed circuit board are affected by the current flowing in the nearby conductor. Therefore, if the surface of the metal layer adjacent to the signal wiring is rough, the distance from the current flowing on the metal surface varies. However, transmission characteristics become unstable. Therefore, from the viewpoint of transmission characteristics, the root mean square Sdq of the surface of the metal layer in contact with the conductive adhesive layer is preferably 0.5 or less, more preferably 0.4 or less, and 0.3 More preferably, it is as follows.

一方、冷熱サイクル信頼性の観点からは、鋭意検討の結果金属層の二乗平均平方根傾斜Sdqを0.0001〜0.5の範囲とすることで、冷熱サイクル信頼性が向上する結果を見出した。これは冷熱サイクルで導電接着剤層の伸び縮みによる形状変化が発生した場合においても、金属層表面に形成された凹凸の角度を適度に鋭角にすることによって、導電接着剤層中の導電性フィラーと金属層との接触が維持され、接続抵抗値の悪化が抑制されているためと考えられる。検討の結果、金属層の二乗平均平方根傾斜Sdqが0.001〜0.4の範囲とすることがより好ましく、0.01〜0.3の範囲とすることが更に好ましい。 On the other hand, from the viewpoint of cooling cycle reliability, as a result of intensive studies, it was found that the cooling cycle reliability is improved by setting the root mean square slope Sdq of the metal layer in the range of 0.0001 to 0.5. This is because the conductive filler in the conductive adhesive layer is formed by making the angle of the irregularities formed on the surface of the metal layer moderately sharp even when the shape change due to expansion and contraction of the conductive adhesive layer occurs in the cold cycle. This is probably because the contact between the metal layer and the metal layer is maintained, and the deterioration of the connection resistance value is suppressed. As a result of the study, the root mean square slope Sdq of the metal layer is more preferably in the range of 0.001 to 0.4, and still more preferably in the range of 0.01 to 0.3.

[二乗平均平方根傾斜Sdqの制御方法]
金属層表面の二乗平均平方根傾斜Sdqを制御する方法は、例えば、銅箔表面上に粗化粒子を付着させ、粗化処理面を形成する方法、特開第2017−13473号公報に記載されているバフを用いて金属表面を研磨する方法、研磨布紙を用いて金属表面を研磨する方法、圧縮空気によって研磨材を金属表面に吹き付けるショットブラスト法、所定の二乗平均平方根傾斜Sdqを有するキャリア材の上に金属層を形成し、キャリア材表面の凹凸を金属層に転写する方法、所定の二乗平均平方根傾斜Sdqを有するフィルムと金属層とを圧着し、フィルム表面の凹凸を金属層に転写する方法が挙げられる。金属層表面の二乗平均平方根傾斜Sdqの制御方法としては、例示した方法に限定されるものではなく、従来公知の方法を適用することができる。
[Method of controlling root mean square slope Sdq]
The method for controlling the root mean square slope Sdq of the surface of the metal layer is described in, for example, a method of forming a roughened surface by attaching roughened particles on a copper foil surface, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-13473. A method for polishing a metal surface using a buff, a method for polishing a metal surface using a polishing cloth, a shot blasting method in which an abrasive is sprayed onto the metal surface with compressed air, and a carrier material having a predetermined root mean square slope Sdq A method of forming a metal layer on the surface and transferring irregularities on the surface of the carrier material to the metal layer, a film having a predetermined root mean square slope Sdq and a metal layer are pressure-bonded, and the irregularities on the film surface are transferred to the metal layer A method is mentioned. The method for controlling the root mean square slope Sdq on the surface of the metal layer is not limited to the exemplified method, and a conventionally known method can be applied.

[金属層の厚み]
金属層の厚みは、0.3〜5.0μmであることが好ましい。金属層の厚みを0.3μm以上とすることで、配線回路基板から発生する電磁波ノイズの波長に対し、透過を抑制することができ、十分な高周波シールド性を発現することができる。金属層の厚み下限は、0.5μmがより好ましい。金属層の厚みを5.0μm以下とすることで、積層硬化物の損失正接を高めることができ、冷熱サイクル信頼性が向上する。金属層の厚み上限は3.5μmがより好ましい。
[Metal layer thickness]
The thickness of the metal layer is preferably 0.3 to 5.0 μm. By setting the thickness of the metal layer to 0.3 μm or more, it is possible to suppress transmission with respect to the wavelength of electromagnetic noise generated from the printed circuit board and to exhibit sufficient high-frequency shielding properties. The lower limit of the thickness of the metal layer is more preferably 0.5 μm. By setting the thickness of the metal layer to 5.0 μm or less, the loss tangent of the laminated cured product can be increased, and the cooling cycle reliability is improved. The upper limit of the thickness of the metal layer is more preferably 3.5 μm.

[金属層の成分]
金属層は、例えば、金属箔、金属蒸着膜、金属メッキ膜を使用できる。
金属箔に使用する金属は、例えばアルミニウム、銅、銀、金等の導電性金属が好ましく、一種類の金属、もしくは複数金属の合金のいずれも使用することができる。高周波シールド性およびコストの面から銅、銀、アルミニウムがより好ましく、銅が更に好ましい。銅は、例えば、圧延銅箔または電解銅箔を使用することが好ましい。
金属蒸着膜および金属メッキ膜に使用する金属は、例えばアルミニウム、銅、銀、金等の導電性金属の一種類、もしくは複数金属の合金を使用することが好ましく、銅、銀がより好ましい。金属箔、金属蒸着膜、金属メッキ膜は一方の表面、あるいは両表面を金属、あるいは防錆剤等の有機物で被覆してもよい。
[Components of metal layer]
For example, a metal foil, a metal vapor deposition film, or a metal plating film can be used for the metal layer.
The metal used for the metal foil is preferably, for example, a conductive metal such as aluminum, copper, silver, or gold, and any one kind of metal or an alloy of a plurality of metals can be used. Copper, silver, and aluminum are more preferable in terms of high-frequency shielding properties and cost, and copper is more preferable. As for copper, it is preferable to use a rolled copper foil or an electrolytic copper foil, for example.
As the metal used for the metal vapor deposition film and the metal plating film, for example, one kind of conductive metal such as aluminum, copper, silver, and gold, or an alloy of a plurality of metals is preferably used, and copper and silver are more preferable. One surface or both surfaces of the metal foil, metal vapor deposition film, and metal plating film may be coated with a metal or an organic substance such as a rust preventive.

[開口部]
金属層は、複数の開口部を有し、その開口率は0.10〜20%である。開口部を有することでハンダリフロー耐性が向上する。開口部を有することで、電磁波シールド性配線回路基板をハンダリフロー処理した際に、配線回路基板のポリイミドフィルムやカバーレイ接着剤に含まれる揮発成分を外部に逃がし、カバーレイ接着剤および電磁波シールドシートの界面剥離による外観不良の発生を抑制することができる。
[Aperture]
The metal layer has a plurality of openings, and the opening ratio is 0.10 to 20%. By having the opening, solder reflow resistance is improved. By having an opening, when the electromagnetic shielding wiring circuit board is subjected to solder reflow processing, the volatile components contained in the polyimide film and coverlay adhesive of the wiring circuit board are released to the outside, and the coverlay adhesive and electromagnetic shielding sheet Occurrence of poor appearance due to the interfacial peeling can be suppressed.

金属層表面から見た開口部の形状は、例えば、真円、楕円、四角形、多角形、星形、台形、枝状等、必要に応じて各形状を形成することができる。製造コストおよび金属層の強靭性確保の観点から、開口部の形状は、真円、および楕円とすることが好ましい。
なお、二乗平均平方根傾斜Sdqの測定は、金属層の開口部がない表面部分を用いて測定した結果である。
The shape of the opening viewed from the surface of the metal layer can be formed as necessary, for example, a perfect circle, an ellipse, a quadrangle, a polygon, a star, a trapezoid, and a branch. From the viewpoint of ensuring manufacturing cost and toughness of the metal layer, the shape of the opening is preferably a perfect circle and an ellipse.
In addition, the measurement of the root mean square slope Sdq is a result of measurement using a surface portion having no opening of the metal layer.

[金属層の開口率]
金属層の開口率は、0.10〜20%の範囲であり、下記数式(2)で求めることができる。
数式(2)
(開口率[%])=(単位面積当たりの開口部の面積)/(単位面積当たりの開口部の面積+単位面積当たりの非開口部の面積)×100
[Aperture ratio of metal layer]
The aperture ratio of the metal layer is in the range of 0.10 to 20%, and can be obtained by the following mathematical formula (2).
Formula (2)
(Opening ratio [%]) = (Area of opening per unit area) / (Area of opening per unit area + Area of non-opening per unit area) × 100

開口率が0.10以上であることで、ハンダリフロー処理時の揮発成分を十分逃がすことができ、カバーレイ接着剤および電磁波シールドシートの界面剥離による外観不良の発生、および接続信頼性の低下を抑制することができるため好ましい。
一方、開口率が20%以下であることで、開口部分を通過する電磁波ノイズの量を低減させ、シールド性を向上することができるため好ましい。ハンダリフロー耐性と高周波シールド性を高い水準で両立する開口率の範囲は、0.30〜15%がより好ましく、0.50〜6.5%が更に好ましい。
When the aperture ratio is 0.10 or more, volatile components during the solder reflow process can be sufficiently released, resulting in poor appearance due to interface peeling between the coverlay adhesive and the electromagnetic shielding sheet, and a decrease in connection reliability. Since it can suppress, it is preferable.
On the other hand, it is preferable that the aperture ratio be 20% or less because the amount of electromagnetic noise passing through the opening can be reduced and the shielding property can be improved. The range of the aperture ratio that achieves both solder reflow resistance and high-frequency shielding performance at a high level is more preferably 0.30 to 15%, and further preferably 0.50 to 6.5%.

特に、金属層の二乗平均平方根傾斜Sdqが0.001以下の範囲において、導電接着剤層との界面が平滑な電磁波シールドシートでは、金属層と導電接着剤層との密着が弱く、ハンダリフロー処理時に、金属層と導電接着剤層との界面で揮発成分が膨張し、層間剥がれや浮きといった外観不良を発生することがあるが、開口率を0.10%以上、好ましくは0.50%以上とすることで、揮発成分を十分逃がすことができ、より層間剥がれや浮きの発生を抑えることができる。   In particular, in an electromagnetic wave shield sheet having a smooth interface with the conductive adhesive layer in a range where the root mean square slope Sdq of the metal layer is 0.001 or less, the adhesion between the metal layer and the conductive adhesive layer is weak, and solder reflow treatment Occasionally, the volatile component expands at the interface between the metal layer and the conductive adhesive layer, resulting in poor appearance such as delamination and floating, but the aperture ratio is 0.10% or more, preferably 0.50% or more. By doing so, volatile components can be sufficiently released, and the occurrence of peeling and floating can be further suppressed.

開口率の測定は、例えば、金属層の面方向から垂直にレーザー顕微鏡および走査型電子顕微鏡(SEM)で500〜2000倍に拡大した画像を用いて、開口部と非開口部を2直化し、単位面積当たりの2直化した色のピクセル数をそれぞれの面積とすることで求めることができる。   The measurement of the aperture ratio is, for example, using an image enlarged by a magnification of 500 to 2000 times with a laser microscope and a scanning electron microscope (SEM) perpendicularly from the plane direction of the metal layer, and straightening the opening and the non-opening, It can be obtained by setting the number of pixels of the birectified color per unit area as each area.

[開口部を有する金属層の製造方法]
開口部を有する金属層の製造方法は、従来公知の方法を適用することができ、金属箔上にパターンレジスト層を形成し金属箔をエッチングして開口部を形成する方法(i)、スクリーン印刷によって所定のパターンに導電性ペーストを印刷する方法(ii)、所定のパターンでアンカー剤をスクリーン印刷しアンカー剤印刷面のみに金属メッキする方法(iii)、および特開2015−63730号公報に記載されている製造方法(iv)等が適用できる。
すなわち、支持体に水溶性、又は溶剤可溶性インクをパターン印刷し、その表面に金属蒸着膜を形成しパターンを除去する。その表面に離形層を形成し電解メッキすることでキャリア付開口部を有する金属層を得ることができるが、これらの中でもパターンレジスト層を形成し金属箔をエッチングする開口部形成方法(i)が、開口部の形状を精密に制御できるため好ましい。但し、その他の方法でも開口部の形状を制御すればよく、金属層の製造方法はエッチング工法(i)に制限されるものではない。
[Method for producing metal layer having opening]
As a method for producing a metal layer having an opening, a conventionally known method can be applied. A method (i) for forming an opening by forming a pattern resist layer on a metal foil and etching the metal foil, screen printing A method (ii) for printing a conductive paste in a predetermined pattern by the method (ii), a method (iii) for screen printing an anchor agent in a predetermined pattern and metal plating only on the anchor agent printing surface, and JP-A-2015-63730 The manufacturing method (iv) etc. currently applied can be applied.
That is, water-soluble or solvent-soluble ink is pattern-printed on the support, a metal vapor deposition film is formed on the surface, and the pattern is removed. A metal layer having an opening with a carrier can be obtained by forming a release layer on the surface and electroplating. Among these, an opening forming method (i) in which a pattern resist layer is formed and the metal foil is etched Is preferable because the shape of the opening can be precisely controlled. However, the shape of the opening may be controlled by other methods, and the method for manufacturing the metal layer is not limited to the etching method (i).

《導電接着剤層》
導電接着剤層は導電性樹脂組成物を使用して形成できる。導電性樹脂組成物は、バインダー樹脂、および導電性フィラーを含む。バインダー樹脂は、熱可塑性樹脂、もしくは熱硬化性樹脂および硬化剤、のいずれかを用いることができる。導電接着剤層は等方導電接着剤層または異方導電接着剤層のいずれかを用いることができる。等方導電接着剤層は、電磁波シールドシートを水平に置いた状態で、上下方向および水平方向に導電性を有する。また、異方導電接着剤層は、電磁波シールドシートを水平に置いた状態で、上下方向のみに導電性を有する。
導電接着剤層は、等方導電性あるいは異方導電性のいずれでもよく、異方導電性の場合、コストダウンが可能となるため好ましい。
<< Conductive adhesive layer >>
The conductive adhesive layer can be formed using a conductive resin composition. The conductive resin composition includes a binder resin and a conductive filler. As the binder resin, either a thermoplastic resin or a thermosetting resin and a curing agent can be used. As the conductive adhesive layer, either an isotropic conductive adhesive layer or an anisotropic conductive adhesive layer can be used. The isotropic conductive adhesive layer has conductivity in the vertical direction and the horizontal direction with the electromagnetic wave shielding sheet placed horizontally. The anisotropic conductive adhesive layer has conductivity only in the vertical direction with the electromagnetic wave shielding sheet placed horizontally.
The conductive adhesive layer may be either isotropic conductive or anisotropic conductive, and anisotropic conductive is preferable because cost can be reduced.

[熱可塑性樹脂]
熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン・アクリル系樹脂、ジエン系樹脂、テルペン樹脂、石油樹脂、セルロース系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリマー、フッ素樹脂等が挙げられる。特に限定するものではないが、伝送損失の観点から、低誘電率、低誘電正接の材料が、特性インピーダンスの観点から低誘電率の材料が好ましく、液晶ポリマーやフッ素系樹脂等が挙げられる。
熱可塑性樹脂は、単独または2種類以上併用できる。
[Thermoplastic resin]
Thermoplastic resins include polyolefin resin, vinyl resin, styrene / acrylic resin, diene resin, terpene resin, petroleum resin, cellulose resin, polyamide resin, polyurethane resin, polyester resin, polycarbonate resin, polyimide resin, liquid crystal A polymer, a fluororesin, etc. are mentioned. Although not particularly limited, a material having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent is preferable from the viewpoint of transmission loss, and a material having a low dielectric constant is preferable from the viewpoint of characteristic impedance, and examples thereof include liquid crystal polymers and fluorine resins.
The thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more.

[熱硬化性樹脂]
熱硬化性樹脂は、硬化剤と反応可能な官能基を複数有する樹脂である。官能基は、例えば、水酸基、フェノール性水酸基、メトキシメチル基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリン基、オキサジン基、アジリジン基、チオール基、イソシアネート基、ブロック化イソシアネート基、ブロック化カルボキシル基、シラノール基等が挙げられる。熱硬化性樹脂は、例えば、アクリル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フェノール系樹脂、アルキド樹脂、アミノ樹脂、ポリ乳酸樹脂、オキサゾリン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等の公知の樹脂が挙げられる。
熱硬化性樹脂は、単独または2種類以上併用できる。
[Thermosetting resin]
A thermosetting resin is a resin having a plurality of functional groups capable of reacting with a curing agent. Functional groups include, for example, hydroxyl group, phenolic hydroxyl group, methoxymethyl group, carboxyl group, amino group, epoxy group, oxetanyl group, oxazoline group, oxazine group, aziridine group, thiol group, isocyanate group, blocked isocyanate group, blocked A carboxyl group, a silanol group, etc. are mentioned. Thermosetting resins include, for example, acrylic resins, maleic resins, polybutadiene resins, polyester resins, polyurethane resins, polyurethane urea resins, epoxy resins, oxetane resins, phenoxy resins, polyimide resins, polyamide resins, polyamideimide resins, phenolic resins. Known resins such as resins, alkyd resins, amino resins, polylactic acid resins, oxazoline resins, benzoxazine resins, silicone resins, and fluorine resins can be used.
Thermosetting resins can be used alone or in combination of two or more.

これらの中でもハンダリフロー耐性の点から、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂が好ましい。   Among these, from the viewpoint of solder reflow resistance, polyurethane resin, polyurethane urea resin, polyester resin, epoxy resin, phenoxy resin, polyimide resin, polyamide resin, and polyamideimide resin are preferable.

[硬化剤]
硬化剤は、熱硬化性樹脂の官能基と反応可能な官能基を複数有している。硬化剤は、例えばエポキシ化合物、酸無水物基含有化合物、イソシアネート化合物、アジリジン化合物、アミン化合物、フェノール化合物、有機金属化合物等の公知の化合物が挙げられる。
硬化剤は、単独または2種類以上併用できる。
[Curing agent]
The curing agent has a plurality of functional groups that can react with the functional groups of the thermosetting resin. Examples of the curing agent include known compounds such as an epoxy compound, an acid anhydride group-containing compound, an isocyanate compound, an aziridine compound, an amine compound, a phenol compound, and an organometallic compound.
A hardening | curing agent can be used individually or in combination with 2 or more types.

硬化剤は、熱硬化性樹脂100重量部に対して各種1〜50重量部含むことが好ましく、3〜40重量部がより好ましく、3〜30重量部がさらに好ましい。   It is preferable that 1-50 weight part of various hardening | curing agents are included with respect to 100 weight part of thermosetting resins, 3-40 weight part is more preferable, and 3-30 weight part is further more preferable.

熱可塑性樹脂、および熱硬化性樹脂は、いずれか単独または両者を混合して併用できる。   The thermoplastic resin and the thermosetting resin can be used either alone or in combination.

[導電性フィラー]
導電性フィラーは、導電接着剤層に導電性を付与する機能を有する。導電性フィラーは、素材としては、例えば金、白金、銀、銅およびニッケル等の導電性金属およびその合金、ならびに導電性ポリマーの微粒子が好ましく、価格と導電性の面から銀がより好ましい。
また単一素材の微粒子ではなく金属や樹脂を核体とし、核体の表面を被覆した被覆層を有する複合微粒子もコストダウンの観点から好ましい。ここで核体は、価格が安いニッケル、シリカ、銅およびその合金、ならびに樹脂から適宜選択することが好ましい。被覆層は、導電性金属または導電性ポリマーが好ましい。導電性金属は、例えば、金、白金、銀、ニッケル、マンガン、およびインジウム等、ならびにその合金が挙げられる。また導電性ポリマーは、ポリアニリン、ポリアセチレン等が挙げられる。これらの中でも価格と導電性の面から銀が好ましい。
[Conductive filler]
The conductive filler has a function of imparting conductivity to the conductive adhesive layer. As the material for the conductive filler, for example, conductive metals such as gold, platinum, silver, copper and nickel, and alloys thereof, and fine particles of a conductive polymer are preferable, and silver is more preferable in terms of price and conductivity.
In addition, composite fine particles having a coating layer in which a metal or a resin is used as a core and the surface of the core is covered, are preferable from the viewpoint of cost reduction. Here, the core is preferably selected appropriately from inexpensive nickel, silica, copper and alloys thereof, and resins. The coating layer is preferably a conductive metal or a conductive polymer. Examples of the conductive metal include gold, platinum, silver, nickel, manganese, indium, and alloys thereof. Examples of the conductive polymer include polyaniline and polyacetylene. Among these, silver is preferable from the viewpoints of price and conductivity.

導電性フィラーの形状は、所望の導電性が得られればよく形状は限定されない。具体的には、例えば、球状、フレーク状、葉状、樹枝状、プレート状、針状、棒状、ブドウ状が好ましい。また、これらの異なる形状の導電性フィラーを2種類混合しても良い。
導電性フィラーは、単独または2種類以上併用できる。
The shape of the conductive filler is not limited as long as desired conductivity can be obtained. Specifically, for example, a spherical shape, a flake shape, a leaf shape, a dendritic shape, a plate shape, a needle shape, a rod shape, and a grape shape are preferable. Moreover, you may mix two types of conductive fillers of these different shapes.
The conductive filler can be used alone or in combination of two or more.

導電性フィラーの平均粒子径は、D50平均粒子径であり、導電性を充分に確保する観点から、2μm以上が好ましく、5μm以上がより好ましく、7μm以上とすることが更に好ましい。一方、導電接着剤層の薄さと両立させる観点からは、30μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましく、15μm以下とすることが更に好ましい。D50平均粒子径は、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置等により求めることができる。 The average particle diameter of the conductive filler, D is a 50 average particle size, from the viewpoint of sufficiently ensuring conductivity is preferably at least 2 [mu] m, more preferably at least 5 [mu] m, and more preferably be 7μm or more. On the other hand, from the viewpoint of making the conductive adhesive layer thin, 30 μm or less is preferable, 20 μm or less is more preferable, and 15 μm or less is even more preferable. The D 50 average particle diameter can be determined by a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer or the like.

導電性フィラーは、導電接着剤層中における含有率が35〜90重量%であることが好ましく、39〜70重量%がより好ましく、40〜65重量%がさらに好ましい。35重量%以上とすることで導電接着剤層とグランド配線との接続が良好となるため、高周波シールド性、冷熱サイクル信頼性が向上する。一方90重量%以下とすることでハンダリフロー耐性、伝送特性がより向上する。   The content of the conductive filler in the conductive adhesive layer is preferably 35 to 90% by weight, more preferably 39 to 70% by weight, and still more preferably 40 to 65% by weight. By setting the content to 35% by weight or more, the connection between the conductive adhesive layer and the ground wiring is improved, so that the high-frequency shielding property and the thermal cycle reliability are improved. On the other hand, the solder reflow resistance and transmission characteristics are further improved by setting the content to 90% by weight or less.

導電性樹脂組成物は、他に任意成分としてシランカップリング剤、防錆剤、還元剤、酸化防止剤、顔料、染料、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング調整剤、充填剤、難燃剤などを配合できる   Other conductive resin compositions include silane coupling agents, rust inhibitors, reducing agents, antioxidants, pigments, dyes, tackifying resins, plasticizers, UV absorbers, antifoaming agents, leveling regulators as optional components. , Fillers, flame retardants, etc.

導電性樹脂組成物は、これまで説明した材料を混合し攪拌して得ることができる。攪拌は、例えばディスパーマット、ホモジナイザー等、公知の攪拌装置を使用できる。   The conductive resin composition can be obtained by mixing and stirring the materials described so far. For the stirring, for example, a known stirring device such as a disperse mat or a homogenizer can be used.

導電接着剤層の作製は、公知の方法を使用できる。例えば、導電性樹脂組成物を剥離性シート上に塗工して乾燥することで導電接着剤層を形成する方法、または、Tダイのような押出成形機を使用して導電性樹脂組成物をシート状に押し出すことで形成することもできる。   A known method can be used to produce the conductive adhesive layer. For example, a method of forming a conductive adhesive layer by coating a conductive resin composition on a peelable sheet and drying, or using an extruder such as a T-die, the conductive resin composition It can also be formed by extruding into a sheet.

塗工方法は、例えば、グラビアコート方式、キスコート方式、ダイコート方式、リップコート方式、コンマコート方式、ブレード方式、ロールコート方式、ナイフコート方式、スプレーコート方式、バーコート方式、スピンコート方式、ディップコート方式等の公知の塗工方法を使用できる。塗工に際して、乾燥工程を行うことが好ましい。乾燥工程は、例えば、熱風乾燥機、赤外線ヒーター等の公知の乾燥装置を使用できる。   Coating methods include, for example, gravure coating method, kiss coating method, die coating method, lip coating method, comma coating method, blade method, roll coating method, knife coating method, spray coating method, bar coating method, spin coating method, dip coating. A known coating method such as a method can be used. In coating, it is preferable to perform a drying step. In the drying step, for example, a known drying device such as a hot air dryer or an infrared heater can be used.

導電接着剤層の厚みは、2〜30μmが好ましく、3〜15μmがより好ましく、4〜9μmがさらに好ましい。厚みが2〜30μmの範囲にあることで冷熱サイクル信頼性とハンダリフロー耐性とを向上することができる。   The thickness of the conductive adhesive layer is preferably 2 to 30 μm, more preferably 3 to 15 μm, and still more preferably 4 to 9 μm. When the thickness is in the range of 2 to 30 μm, cooling cycle reliability and solder reflow resistance can be improved.

《保護層》
保護層は、従来公知の樹脂組成物を使用して形成できる。
樹脂組成物は、導電性樹脂組成物で説明した熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂、および硬化剤を必要に応じて上記任意成分を含むことができる。なお、保護層および導電接着剤層に使用する熱硬化性樹脂、硬化剤は、同一、または異なっていてもよい。
《Protective layer》
The protective layer can be formed using a conventionally known resin composition.
The resin composition can contain the above-mentioned optional components as necessary for the thermoplastic resin, thermosetting resin, and curing agent described in the conductive resin composition. The thermosetting resin and the curing agent used for the protective layer and the conductive adhesive layer may be the same or different.

樹脂組成物は、導電性樹脂組成物と同様の方法で得ることが出来る。   The resin composition can be obtained by the same method as that for the conductive resin composition.

また、保護層は、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン等の絶縁性樹脂を成形したフィルムを使用することもできる。   The protective layer may be a film formed by molding an insulating resin such as polyester, polycarbonate, polyimide, polyamideimide, polyamide, polyphenylene sulfide, or polyetheretherketone.

保護層の厚みは、通常2〜10μm程度である。   The thickness of the protective layer is usually about 2 to 10 μm.

《電磁波シールドシートの製造方法》
電磁波シールドシートの作製において、導電接着剤層と金属層とを積層する方法は、公知の方法を使用できる。
例えば、(i)剥離性シート上に導電接着剤層を形成し、キャリア材付開口部を有する電解銅箔の電解銅箔面側に導電接着剤層を重ねてラミネートした後に、キャリア材を剥がす。そして、キャリア材を剥がした面と、別途剥離性シート上に形成した保護層とを重ねてラミネートする方法、(ii)剥離性シート上に保護層を形成し、キャリア材付開口部を有する電解銅箔の電解銅箔面側に保護層を重ねてラミネートした後に、キャリア材を剥がす。そして、キャリア材を剥がした面と、別途剥離性シート上に形成した導電接着剤層とを重ねてラミネートする方法、(iii)キャリア材付開口部を有する電解銅箔の電解銅箔面側に樹脂組成物を塗工して保護層を形成し剥離性シートを貼り合わせる。その後キャリア材を剥がし、別途剥離性シート上に形成した導電接着剤層とを重ねてラミネートする方法、(iv)剥離性シート上に導電接着剤層を形成し、キャリア材付電解銅箔の電解銅箔面側に導電接着剤層を重ねてラミネートした後に、キャリア材を剥がす。そして、キャリア材を剥がした面と、別途剥離性シート上に形成した保護層とを重ねてラミネートした後、針状の治具で電磁波シールドシートに開口部を形成する方法、(v)剥離性シート上に形成した保護層をキャリア材付開口部を有する電解銅箔の電解銅箔面側に重ねてラミネートした後に、キャリア材を剥がす。そして、キャリア材を剥がした面に導電接着剤層を形成する方法、(vi)剥離性シート上に導電接着剤層を形成し、開口部を有する圧延銅箔の表面のうち、二乗平均平方根傾斜Sdqが0.0001〜0.5である面と、導電接着剤層を重ねてラミネートした後に、導電接着剤層とラミネートしたもう一方の面と、別途剥離性シート上に形成した保護層とを重ねてラミネートする方法、(vii)剥離性シート上に保護層を形成し、開口部を有する圧延銅箔の表面のうち、二乗平均平方根傾斜Sdqが0.0001〜0.5である面のもう一方の面と、導電接着剤層を重ねてラミネートした後に、保護層とラミネートしたもう一方の面と、別途剥離性シート上に形成した導電接着剤層とを重ねてラミネートする方法、(viii)開口部を有する圧延銅箔の表面のうち、二乗平均平方根傾斜Sdqが0.0001〜0.5である面のもう一方の面に樹脂組成物を塗工して保護層を形成し剥離性シートを貼り合せる。その後、もう一方の面と、別途剥離性シート上に形成した導電接着剤層とを重ねてラミネートする方法、(ix)開口部を有する圧延銅箔の表面のうち、二乗平均平方根傾斜Sdqが0.0001〜0.5である面に導電性樹脂組成物を塗工して導電接着剤層を形成し剥離性シートを貼り合せる。その後、もう一方の面と、別途剥離性シート上に形成した保護層とを重ねてラミネートする方法、等が挙げられる。
<< Method for producing electromagnetic wave shielding sheet >>
In the production of the electromagnetic wave shielding sheet, a known method can be used as a method of laminating the conductive adhesive layer and the metal layer.
For example, (i) a conductive adhesive layer is formed on a peelable sheet, the conductive adhesive layer is laminated on the electrolytic copper foil surface side of the electrolytic copper foil having an opening with a carrier material, and then the carrier material is peeled off. . And a method of laminating and laminating the surface from which the carrier material has been peeled off and a protective layer separately formed on the peelable sheet, and (ii) electrolysis having a protective layer formed on the peelable sheet and having an opening with a carrier material. After laminating and laminating a protective layer on the electrolytic copper foil surface side of the copper foil, the carrier material is peeled off. And the method of laminating | stacking and laminating | stacking the surface which peeled the carrier material, and the electrically conductive adhesive layer separately formed on the peelable sheet, (iii) On the electrolytic copper foil surface side of the electrolytic copper foil which has an opening part with a carrier material The resin composition is applied to form a protective layer, and a peelable sheet is attached. Thereafter, the carrier material is peeled off and laminated with a conductive adhesive layer separately formed on the peelable sheet, and (iv) a conductive adhesive layer is formed on the peelable sheet to electrolyze the electrolytic copper foil with the carrier material. After laminating the conductive adhesive layer on the copper foil surface side, the carrier material is peeled off. Then, after laminating and laminating the surface from which the carrier material has been peeled off and a protective layer separately formed on the peelable sheet, a method of forming an opening in the electromagnetic wave shield sheet with a needle-like jig, (v) peelability After laminating and laminating the protective layer formed on the sheet on the electrolytic copper foil surface side of the electrolytic copper foil having the opening with carrier material, the carrier material is peeled off. And the method of forming a conductive adhesive layer on the surface from which the carrier material has been peeled off, (vi) forming a conductive adhesive layer on the peelable sheet, and the root mean square slope of the surface of the rolled copper foil having an opening A surface having Sdq of 0.0001 to 0.5, a conductive adhesive layer laminated thereon, the other surface laminated with the conductive adhesive layer, and a protective layer separately formed on the peelable sheet (Vii) A surface of a rolled copper foil having an opening and having a root mean square slope Sdq of 0.0001 to 0.5. (Viii) a method of laminating one surface with a conductive adhesive layer and then laminating another surface laminated with a protective layer and a conductive adhesive layer separately formed on a peelable sheet; Pressure with opening Of the surface of the copper foil, root mean square slope Sdq to form a protective layer by coating a resin composition on the other surface side is 0.0001 bonding a peelable sheet. Thereafter, the other surface and a method of laminating and laminating a conductive adhesive layer separately formed on a peelable sheet, (ix) of the surface of the rolled copper foil having an opening, the root mean square slope Sdq is 0 A conductive resin composition is applied to the surface of .0001 to 0.5 to form a conductive adhesive layer, and a peelable sheet is bonded. Then, the other surface and the method of laminating | stacking the protective layer separately formed on the peelable sheet, etc. are mentioned.

電磁波シールドシートは、導電接着剤層、金属層、および保護層の他に、他の機能層を備えることができる。他の機能層とは、ハードコート性、水蒸気バリア性、酸素バリア性、熱伝導性、低誘電率、高誘電率性または耐熱性等の機能を有する層である。   The electromagnetic wave shielding sheet can include other functional layers in addition to the conductive adhesive layer, the metal layer, and the protective layer. The other functional layer is a layer having functions such as hard coat property, water vapor barrier property, oxygen barrier property, thermal conductivity, low dielectric constant, high dielectric constant or heat resistance.

本発明の電磁波シールドシートは、電磁波をシールドする必要がある様々な用途に使用できる。例えば、フレキシブルプリント配線板はもとより、リジッドプリント配線板、COF、TAB、フレキシブルコネクタ、液晶ディスプレイ、タッチパネル等に使用できる。また、パソコンのケース、建材の壁および窓ガラス等の建材、車両、船舶、航空機等の電磁波を遮断する部材としても使用できる。   The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention can be used for various applications where electromagnetic waves need to be shielded. For example, it can be used not only for flexible printed wiring boards but also for rigid printed wiring boards, COF, TAB, flexible connectors, liquid crystal displays, touch panels and the like. Moreover, it can also be used as a member for shielding electromagnetic waves from a case of a personal computer, a building material such as a wall of a building material and a window glass, a vehicle, a ship, and an aircraft.

また、本発明の電磁波シールドシートは、コプレーナ回路の信号配線に15GHzのサイン波を流した際の伝送損失が、8dB未満である、という優れた伝送特性を有することができる。   Moreover, the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention can have an excellent transmission characteristic that a transmission loss when a sine wave of 15 GHz is passed through the signal wiring of the coplanar circuit is less than 8 dB.

具体的には、例えば以下のようにして、伝送特性を評価することができる。
まず、コプレーナ回路を用意する。
コプレーナ回路とはポリイミドフィルム等の絶縁性基材の片面側に信号配線がプリントされた平面伝送回路のひとつであり、本発明において、コプレーナ回路はポリイミドフィルム上に2本の信号配線を挟む形でグランド配線が並行に形成された回路を用いる。尚、前述したコプレーナ回路は、対向する面にグランド接地用のグランドパターンが、スルーホールを介して設置されている。
コプレーナ回路の信号配線と反対側の絶縁性基材面に電磁波シールドシートの導電接着剤層を貼り合せ、熱プレスによって電磁波シールドシートを積層する。この時電磁波シールドシートは一部露出しているグランドパターンと導通する。前述の方法により、伝送特性評価用のテストピースを得ることができる。
Specifically, for example, transmission characteristics can be evaluated as follows.
First, a coplanar circuit is prepared.
A coplanar circuit is one of planar transmission circuits in which signal wiring is printed on one side of an insulating base material such as polyimide film. In the present invention, a coplanar circuit is formed by sandwiching two signal wirings on a polyimide film. A circuit in which ground wirings are formed in parallel is used. In the coplanar circuit described above, a ground pattern for grounding is provided on the opposite surface through a through hole.
A conductive adhesive layer of an electromagnetic wave shielding sheet is bonded to the surface of the insulating substrate opposite to the signal wiring of the coplanar circuit, and the electromagnetic wave shielding sheet is laminated by hot pressing. At this time, the electromagnetic wave shielding sheet is electrically connected to the partially exposed ground pattern. By the above method, a test piece for evaluating transmission characteristics can be obtained.

このテストピースのコプレーナ回路にネットワークアナライザを接続し、コプレーナ回路の信号配線に100MHzから20GHzのサイン波を流した際の、入力電力、出力電力の比を求め、伝送損失を算出し、評価することができる。尚、電力の代わりに電圧、電流比を用いてもよい。   A network analyzer is connected to the coplanar circuit of this test piece, and the ratio of input power and output power when a sine wave of 100 MHz to 20 GHz is passed through the signal wiring of the coplanar circuit is calculated and transmission loss is calculated and evaluated. Can do. A voltage / current ratio may be used instead of electric power.

本発明において、コプレーナ回路の信号配線に15GHzのサイン波を流した際の、伝送損失は、8dB未満が好ましく、7.5dB未満がより好ましく、7dB未満がさらに好ましい。伝送損失が8dB未満になることで、高水準での伝送損失の低減を実現できる。   In the present invention, the transmission loss when a 15 GHz sine wave flows through the signal wiring of the coplanar circuit is preferably less than 8 dB, more preferably less than 7.5 dB, and even more preferably less than 7 dB. When the transmission loss is less than 8 dB, a reduction in transmission loss at a high level can be realized.

本発明の電磁波シールドシートは、導電接着剤層中のバインダー樹脂に熱可塑性樹脂を用いる場合、含まれる熱可塑性樹脂が固体状態で存在し、配線回路基板と熱プレスにより熱可塑性樹脂が溶融し、冷却後に再度固体化することで、所望の接着強度を得ることができる。   In the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, when a thermoplastic resin is used for the binder resin in the conductive adhesive layer, the contained thermoplastic resin is present in a solid state, and the thermoplastic resin is melted by the printed circuit board and hot press, A desired adhesive strength can be obtained by solidifying again after cooling.

本発明の電磁波シールドシートは、導電接着剤層中のバインダー樹脂に熱硬化性樹脂を用いる場合、含まれる熱硬化性樹脂と硬化剤が未硬化状態で存在し(Bステージ)、配線回路基板と熱プレスにより硬化することで(Cステージ)、所望の接着強度を得ることができる。尚、前記未硬化状態は、硬化剤の一部が硬化した半硬化状態を含む。   In the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, when a thermosetting resin is used as the binder resin in the conductive adhesive layer, the contained thermosetting resin and the curing agent exist in an uncured state (B stage), By curing by hot pressing (C stage), desired adhesive strength can be obtained. The uncured state includes a semi-cured state in which a part of the curing agent is cured.

尚、電磁波シールドシートは、異物の付着を防止するため、導電接着剤層および保護層に剥離性シートを貼り付けた状態で保存することが一般的である。   In addition, in order to prevent adhesion of foreign matter, the electromagnetic wave shielding sheet is generally stored in a state where a peelable sheet is attached to the conductive adhesive layer and the protective layer.

剥離性シートは、紙やプラスチック等の基材に公知の剥離処理を行ったシートである。   The peelable sheet is a sheet obtained by performing a known peeling treatment on a substrate such as paper or plastic.

<電磁波シールド性配線回路基板>
電磁波シールド性配線回路基板は、本発明の電磁波シールドシートから形成してなる電磁波シールド層、カバーコート層、ならびに信号配線とグランド配線とを有する回路パターンおよび絶縁性基材を有する配線回路基板を備える。
配線回路基板は、絶縁性基材の表面に信号配線とグランド配線とを有する回路パターンを有し、前記配線回路基板上に、信号配線とグランド配線とを絶縁保護し、グランド配線上の少なくとも一部にビアを有するカバーコート層を形成し、電磁波シールドシートの導電接着剤層面を、前記カバーコート層上に配置させた後、前記電磁波シールドシートを熱プレスし、ビア内部に導電接着剤層を流入させグランド配線と接着させることにより、製造することができる。
<Electromagnetic wave shielding circuit board>
The electromagnetic shielding wiring circuit board includes an electromagnetic shielding layer formed from the electromagnetic shielding sheet of the present invention, a cover coat layer, a circuit pattern having a signal wiring and a ground wiring, and a wiring circuit board having an insulating substrate. .
The wired circuit board has a circuit pattern having a signal wiring and a ground wiring on the surface of the insulating base material. The signal wiring and the ground wiring are insulated and protected on the wired circuit board, and at least one of the ground wiring is provided. After forming a cover coat layer having vias in the part and placing the conductive adhesive layer surface of the electromagnetic wave shield sheet on the cover coat layer, the electromagnetic wave shield sheet is hot pressed, and the conductive adhesive layer is formed inside the via. It can be manufactured by flowing it and bonding it to the ground wiring.

本発明の電磁波シールド性配線回路基板の一例について、図3を参照して説明する。
電磁波シールドシート層12は、導電接着剤層1、金属層2、保護層3を含む構成である。
An example of the electromagnetic shielding wiring circuit board of the present invention will be described with reference to FIG.
The electromagnetic shielding sheet layer 12 includes a conductive adhesive layer 1, a metal layer 2, and a protective layer 3.

カバーコート層8は、配線回路基板の信号配線を覆い外部環境から保護する絶縁材料である。カバーコート層は、熱硬化性接着剤付きポリイミドフィルム、熱硬化型もしくは紫外線硬化型のソルダーレジスト、または感光性カバーレイフィルムが好ましく、微細加工をするためには感光性カバーレイフィルムがより好ましい。また、カバーコート層は、ポリイミド等の耐熱性と柔軟性を備えた公知の樹脂を使用するのが一般的である。カバーコート層の厚みは、通常10〜100μm程度である。   The cover coat layer 8 is an insulating material that covers the signal wiring of the printed circuit board and protects it from the external environment. The cover coat layer is preferably a polyimide film with a thermosetting adhesive, a thermosetting or ultraviolet curable solder resist, or a photosensitive coverlay film, and more preferably a photosensitive coverlay film for fine processing. The cover coat layer generally uses a known resin having heat resistance and flexibility such as polyimide. The thickness of the cover coat layer is usually about 10 to 100 μm.

回路パターンは、アースをとるグランド配線5、電子部品に電気信号を送る信号配線6を含む。両者は銅箔をエッチング処理することで形成することが一般的である。回路パターンの厚みは、通常1〜50μm程度である。   The circuit pattern includes a ground wiring 5 for grounding and a signal wiring 6 for sending an electrical signal to an electronic component. Both are generally formed by etching a copper foil. The thickness of the circuit pattern is usually about 1 to 50 μm.

絶縁性基材9は、回路パターンの支持体であって、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー等の屈曲可能なプラスチックが好ましく、液晶ポリマーおよびポリイミドがより好ましい。これらの中でも高周波の信号を伝送する配線回路基板の用途を考慮すると、比誘電率および誘電正接が低い液晶ポリマーがさらに好ましい。
配線回路基板がリジッド配線板の場合、絶縁性基材の構成材料は、ガラスエポキシが好ましい。これらのような絶縁性基材を備えることで配線回路基板は高い耐熱性が得られる。
The insulating substrate 9 is a circuit pattern support and is preferably a bendable plastic such as polyester, polycarbonate, polyimide, polyphenylene sulfide, or liquid crystal polymer, and more preferably a liquid crystal polymer or polyimide. Among these, a liquid crystal polymer having a low relative dielectric constant and dielectric loss tangent is more preferable in consideration of the use of a printed circuit board that transmits a high-frequency signal.
When the printed circuit board is a rigid wiring board, the constituent material of the insulating base material is preferably glass epoxy. By providing such an insulating base material, the printed circuit board can have high heat resistance.

電磁波シールドシート10と、配線回路基板との熱プレスは、温度150〜190℃程度、圧力1〜3MPa程度、時間1〜60分程度の条件で行うことが一般的である。熱プレスにより導電接着剤層1とカバーコート層8が密着するとともに、導電接着剤層1が流動してカバーコート層7に形成されたビア11を埋めることでグランド配線5との間で導通がとれる。熱プレスにより熱硬化性樹脂が反応して硬化し、電磁波シールド層12となる。
なお、硬化を促進させるため、熱プレス後に150〜190℃で30〜90分間ポストキュアを行う場合もある。
The heat pressing of the electromagnetic wave shielding sheet 10 and the printed circuit board is generally performed under conditions of a temperature of about 150 to 190 ° C., a pressure of about 1 to 3 MPa, and a time of about 1 to 60 minutes. The conductive adhesive layer 1 and the cover coat layer 8 are brought into close contact with each other by hot pressing, and the conductive adhesive layer 1 flows to fill the via 11 formed in the cover coat layer 7, thereby conducting electrical continuity with the ground wiring 5. I can take it. The thermosetting resin reacts and is cured by hot pressing to form the electromagnetic wave shielding layer 12.
In order to accelerate curing, post-cure may be performed at 150 to 190 ° C. for 30 to 90 minutes after hot pressing.

前記ビア11の開口面積は0.8mm以下が好ましく、0.008mm以上が好ましい。上記範囲とすることでグランド配線の領域を狭めることができ、プリント配線板の小型化を実現できる。
ビアの形状は特に限定されず、円、正方形、長方形、三角形および不定形等用途に応じていずれも用いることができる。
The opening area of the via 11 is preferably 0.8 mm 2 or less, 0.008 mm 2 or more. By setting it as the above range, the area of the ground wiring can be narrowed, and the printed wiring board can be downsized.
The shape of the via is not particularly limited, and any shape such as a circle, a square, a rectangle, a triangle, or an indefinite shape can be used.

電磁波シールド層は配線回路基板の両面に積層することが、電磁波の漏れをより効果的に抑制できる点から好ましい。加えて、本発明の電磁波シールド性配線回路基板における電磁波シールド層は電磁波を遮蔽する他に、グランド回路として利用でき、それにより、グランド回路の一部を省略し、配線回路基板の面積を縮小することでコストダウンが可能となり筐体内の狭い領域に組み込むことができる。   The electromagnetic wave shielding layer is preferably laminated on both sides of the printed circuit board from the viewpoint that electromagnetic wave leakage can be more effectively suppressed. In addition, the electromagnetic wave shielding layer in the electromagnetic wave shielding wiring circuit board of the present invention can be used as a ground circuit in addition to shielding electromagnetic waves, thereby omitting a part of the ground circuit and reducing the area of the wiring circuit board. As a result, the cost can be reduced and it can be incorporated in a narrow area in the housing.

また、信号配線に関して、特に限定するものではなく、一本の信号配線からなるシングルエンド、2本の信号配線からなる差動回路のどちらの回路にも使用可能であるが、差動回路がより好ましい。一方、配線回路基板の回路パターン面積に制約があり、グランド回路を並列に形成することが難しい場合においては、信号回路の横にはグランド回路を設けず、電磁波シールド層をグランド回路として用いて、厚み方向にグランドを有するプリント配線板構造にすることもできる。   In addition, the signal wiring is not particularly limited, and can be used for either a single-ended circuit composed of one signal wiring or a differential circuit composed of two signal wirings. preferable. On the other hand, when the circuit pattern area of the printed circuit board is limited and it is difficult to form the ground circuit in parallel, the ground circuit is not provided beside the signal circuit, and the electromagnetic wave shielding layer is used as the ground circuit. A printed wiring board structure having a ground in the thickness direction can also be used.

本発明の電磁波シールド性配線回路基板は、液晶ディスプレイ、タッチパネル等のほか、ノートPC、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末等の電子機器に備える(搭載する)ことが好ましい。   The electromagnetic shielding wiring circuit board of the present invention is preferably provided (mounted) on an electronic device such as a notebook PC, a mobile phone, a smartphone, or a tablet terminal in addition to a liquid crystal display, a touch panel, or the like.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。また、実施例中の「部」とあるのは「重量部」を、「%」とあるのは「重量%」を其々表すものとする。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to a following example. In the examples, “part” means “part by weight”, and “%” means “% by weight”.

なお、樹脂の酸価と重量平均分子量(Mw)とガラス転移温度(Tg)、および導電性フィラーの平均粒子径の測定は次の方法で行なった。   The acid value, weight average molecular weight (Mw), glass transition temperature (Tg), and average particle diameter of the conductive filler of the resin were measured by the following methods.

《バインダー樹脂の酸価の測定》
酸価はJIS K0070に準じて測定した。共栓三角フラスコ中に試料約1gを精密
に量り採り、テトラヒドロフラン/エタノール(容量比:テトラヒドロフラン/エタノール=2/1)混合液100mlを加えて溶解する。これに、フェノールフタレイン試液を指示薬として加え、0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液で滴定し、指示薬が淡紅色を30秒間保持した時を終点とした。酸価は次式により求めた(単位:mgKOH/g)。
酸価(mgKOH/g)=(5.611×a×F)/S
ただし、
S:試料の採取量(g)
a:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
F:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
<Measurement of acid value of binder resin>
The acid value was measured according to JIS K0070. About 1 g of a sample is accurately weighed in a stoppered Erlenmeyer flask, and 100 ml of a tetrahydrofuran / ethanol (volume ratio: tetrahydrofuran / ethanol = 2/1) mixed solution is added and dissolved. To this was added a phenolphthalein test solution as an indicator and titrated with a 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution. The end point was when the indicator retained a light red color for 30 seconds. The acid value was determined by the following formula (unit: mgKOH / g).
Acid value (mgKOH / g) = (5.611 × a × F) / S
However,
S: Sample collection amount (g)
a: Consumption of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution (ml)
F: Potency of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution

《バインダー樹脂の重量平均分子量(Mw)の測定》
重量平均分子量(Mw)の測定は東ソー株式会社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)「HPC−8020」を用いた。GPCは溶媒(THF;テトラヒドロフラン)に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィーである。本発明における測定は、カラムに「LF−604」(昭和電工株式会社製:迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続して用い、流量0.6ml/min、カラム温度40℃の条件で行い、重量平均分子量(Mw)の決定はポリスチレン換算で行った。
<< Measurement of weight average molecular weight (Mw) of binder resin >>
The weight average molecular weight (Mw) was measured by using GPC (gel permeation chromatography) “HPC-8020” manufactured by Tosoh Corporation. GPC is liquid chromatography that separates and quantifies substances dissolved in a solvent (THF; tetrahydrofuran) based on the difference in molecular size. For the measurement in the present invention, “LF-604” (manufactured by Showa Denko KK: GPC column for rapid analysis: 6 mm ID × 150 mm size) is connected in series to the column, the flow rate is 0.6 ml / min, the column temperature. It carried out on the conditions of 40 degreeC, and the determination of the weight average molecular weight (Mw) was performed in polystyrene conversion.

《バインダー樹脂のガラス転移温度(Tg)》
Tgの測定は、示差走査熱量測定(メトラー・トレド社製「DSC−1」)によって測定した。
<< Glass transition temperature (Tg) of binder resin >>
Tg was measured by differential scanning calorimetry (“DSC-1” manufactured by METTLER TOLEDO).

《導電性フィラーの平均粒子径測定》
50平均粒子径は、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置LS13320(ベックマン・コールター社製)を使用し、トルネードドライパウダーサンプルモジュールにて、導電性フィラーを測定して得た数値であり、粒子径累積分布における累積値が50%の粒子径である。なお、屈折率の設定は1.6とした。
<< Measurement of average particle diameter of conductive filler >>
The D 50 average particle diameter is a numerical value obtained by measuring a conductive filler with a tornado dry powder sample module using a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer LS13320 (manufactured by Beckman Coulter, Inc.). The cumulative value in the cumulative particle size distribution is a particle size of 50%. The refractive index was set to 1.6.

続いて、実施例で使用した原料を以下に示す。
《原料》
導電性フィラー:複合微粒子(核体の銅100重量部に対して銀が10重量部被覆されたデンドライト状の微粒子)平均粒子径D50:11.0μm 福田金属箔粉工業社製
バインダー樹脂:酸価5mgKOH/g、重量平均分子量は54,000、Tgは−7℃のポリウレタンウレア樹脂(トーヨーケム社製)
エポキシ化合物:「JER828」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂 エポキシ当量=189g/eq)三菱ケミカル社製
アジリジン化合物:「ケミタイトPZ−33」日本触媒社製
顔料:カーボンブラック「MA100」三菱ケミカル社製
キャリア材:「エンブレットS25」(Sdq=0.02)ユニチカ社製
Then, the raw material used in the Example is shown below.
"material"
Conductive filler: composite fine particles (dendritic fine particles in which 10 parts by weight of silver is coated on 100 parts by weight of core copper) Average particle diameter D 50 : 11.0 μm Binder resin manufactured by Fukuda Metal Foil Co., Ltd .: Acid 5 mg KOH / g, weight average molecular weight 54,000, Tg is −7 ° C. polyurethane urea resin (manufactured by Toyochem)
Epoxy compound: “JER828” (bisphenol A type epoxy resin epoxy equivalent = 189 g / eq) Aziridine compound manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: “Chemite PZ-33” Nippon Shokubai Co., Ltd. Pigment: carbon black “MA100” Carrier material manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: "Emblet S25" (Sdq = 0.02), manufactured by Unitika

<導電接着剤層1の製造>
固形分換算でバインダー樹脂を100部、導電性フィラーを47部、エポキシ化合物を10部、アジリジン化合物を0.5部容器に仕込み、不揮発分濃度が40%になるように混合溶剤(トルエン:イソプロピルアルコール=2:1(重量比))を加えディスパーで10分攪拌して導電性樹脂組成物を得た。
<Manufacture of conductive adhesive layer 1>
100 parts of binder resin, 47 parts of conductive filler, 10 parts of epoxy compound, 0.5 part of aziridine compound are charged into a container in terms of solid content, and mixed solvent (toluene: isopropyl (Alcohol = 2: 1 (weight ratio)) was added and stirred for 10 minutes with a disper to obtain a conductive resin composition.

導電性樹脂組成物をバーコーターで乾燥厚みが10μmになるように剥離性シート上に塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥することで導電接着剤層1を得た。   The conductive resin composition was coated on the peelable sheet with a bar coater so that the dry thickness was 10 μm, and dried in an electric oven at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a conductive adhesive layer 1.

<導電接着剤層2〜8の製造>
導電性フィラーの添加量を変えた以外は導電接着剤層1と同様の方法で表1〜3に示す導電接着剤層2〜8を作製した。
<Manufacture of conductive adhesive layers 2-8>
Except having changed the addition amount of the conductive filler, the conductive adhesive layers 2-8 shown in Tables 1-3 were produced by the same method as the conductive adhesive layer 1.

[実施例1]
固形分換算でバインダー樹脂を100部、エポキシ化合物30部およびアジリジン硬化剤7.5部を加えディスパーで10分攪拌することで樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をバーコーターを使用して乾燥厚みが5μmになるように、銅箔に塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥して保護層1を形成し、保護層1に微粘着剥離性シートを貼り合わせた。
[Example 1]
A resin composition was obtained by adding 100 parts of binder resin, 30 parts of an epoxy compound and 7.5 parts of an aziridine curing agent in terms of solid content and stirring with a disper for 10 minutes. The obtained resin composition was coated on copper foil using a bar coater so that the dry thickness was 5 μm, and dried in an electric oven at 100 ° C. for 2 minutes to form protective layer 1. A slightly adhesive peelable sheet was bonded to the substrate.

次いで、銅箔のキャリア材を剥がし、銅箔面をバフ研磨し、銅箔面の二乗平均平方根傾斜Sdqを表1に示す値となるよう調整した。研磨後の銅箔面に導電接着剤層4を貼り合わせることで、「剥離性シート/保護層1/銅箔2/導電接着剤層4/剥離性シート」からなる電磁波シールドシートを得た。銅箔2と導電接着剤層4の貼り合わせは、温度は90℃、圧力は3kgf/cmで、熱ラミネーターにより貼り合わせた。 Next, the copper foil carrier material was peeled off, the copper foil surface was buffed, and the root mean square slope Sdq of the copper foil surface was adjusted to the value shown in Table 1. By attaching the conductive adhesive layer 4 to the polished copper foil surface, an electromagnetic wave shielding sheet composed of “peelable sheet / protective layer 1 / copper foil 2 / conductive adhesive layer 4 / peelable sheet” was obtained. The copper foil 2 and the conductive adhesive layer 4 were bonded at a temperature of 90 ° C. and a pressure of 3 kgf / cm 2 with a thermal laminator.

なお、銅箔2は、キャリア材上に形成された銅箔上にパターンレジスト層を形成し銅箔をエッチングして開口部を形成する方法により、表1に示す厚み、および開口率等を有する銅箔である。   In addition, the copper foil 2 has a thickness, an opening ratio, and the like shown in Table 1 by a method of forming a pattern resist layer on the copper foil formed on the carrier material and etching the copper foil to form an opening. Copper foil.

[実施例2〜29、比較例1〜4]
表1〜3に示すように、導電接着剤層、保護層、および銅箔の種類を変更した以外は、実施例1と同様に行うことで、実施例2〜29、比較例1〜4の電磁波シールドシートをそれぞれ得た。銅箔表面の二乗平均平方根傾斜Sdqの目標値が、キャリア材の値と異なる場合には、適宜バフ研磨によって表面を磨く、あるいは荒らすなどにより、二乗平均平方根傾斜Sdqを調整した。
[Examples 2-29, Comparative Examples 1-4]
As shown in Tables 1 to 3, Examples 2 to 29 and Comparative Examples 1 to 4 were performed in the same manner as Example 1 except that the types of the conductive adhesive layer, the protective layer, and the copper foil were changed. An electromagnetic wave shielding sheet was obtained. When the target value of the root mean square slope Sdq on the copper foil surface was different from the value of the carrier material, the root mean square slope Sdq was adjusted by appropriately polishing or roughening the surface by buffing.

得られた電磁波シールドシートについて、各層の厚み、金属層の二乗平均平方根傾斜Sdq、および電磁波シールドシートの損失正接の測定は次の方法で行なった。   About the obtained electromagnetic wave shielding sheet, the thickness of each layer, the root mean square inclination Sdq of the metal layer, and the loss tangent of the electromagnetic wave shielding sheet were measured by the following methods.

《各層厚みの測定》
電磁波シールドシートの導電接着剤層、金属層、および保護層の厚みは、以下の方法により測定した。
電磁波シールドシートの導電接着剤層側の剥離性シートを剥がし、露出した導電接着剤層とポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製「カプトン200EN」)を貼り合せ、2MPa、170℃の条件で30分熱プレスした。これを幅5mm、長さ5mm程度の大きさに切断した後、エポキシ樹脂(ペトロポキシ154、マルトー社製)をスライドガラス状に0.05g滴下し、電磁波シールドシートを接着させ、スライドガラス/電磁波シールドシート/ポリイミドフィルムの構成の積層体を得た。得られた積層体をクロスセクションポリッシャー(日本電子社製、SM−09010)を用いてポリイミドフィルム側からイオンビーム照射により切断加工して、熱プレス後の電磁波シールドシートの測定試料を得た。
<< Measurement of thickness of each layer >>
The thickness of the conductive adhesive layer, the metal layer, and the protective layer of the electromagnetic wave shield sheet was measured by the following method.
The peelable sheet on the side of the conductive adhesive layer of the electromagnetic wave shielding sheet is peeled off, and the exposed conductive adhesive layer and a polyimide film (“Kapton 200EN” manufactured by Toray DuPont) are bonded together and heated for 30 minutes under conditions of 2 MPa and 170 ° C. Pressed. After cutting this into a size of about 5 mm in width and 5 mm in length, 0.05 g of epoxy resin (Petropoxy 154, manufactured by Marto) is dropped into a glass slide, and an electromagnetic wave shielding sheet is adhered to the glass. A laminate having a sheet / polyimide film configuration was obtained. The obtained laminate was cut by ion beam irradiation from the polyimide film side using a cross section polisher (manufactured by JEOL Ltd., SM-09010) to obtain a measurement sample of the electromagnetic wave shield sheet after hot pressing.

得られた測定試料の断面をレーザーマイクロスコープ(キーエンス社製、VK−X100)を使用し、観察した拡大画像から各層の厚みを測定した。倍率は、500〜2000倍とした。   The cross section of the obtained measurement sample was measured using a laser microscope (manufactured by Keyence Corporation, VK-X100), and the thickness of each layer was measured from the observed enlarged image. The magnification was 500 to 2000 times.

《金属層の二乗平均平方根Sdqの測定》
電磁波シールドシートの金属層の二乗平均平方根傾斜Sdqは、以下の方法により測定した。
電磁波シールドシートの導電接着剤層側の剥離性シートを剥がし、露出した導電接着剤層に粘着テープ(ニチバン社製「CT1835」)を、粘着テープの端部を残して貼り合せ、粘着テープの端部から剥離を行い、導電接着剤層/粘着テープを剥離する。導電接着剤層が除去され、露出した金属層の表面をレーザーマイクロスコープ(キーエンス社製、VK−X100)を使用し、測定データ取得を行った。
取得した測定データを解析ソフトウェア(ISO 25178表面性状計測モジュール「VK-H1XR」を備えた、解析アプリケーション「VK−H1XA」、ともにキーエンス社製)に取り込み、ISO25178表面性状計測を実行した。(条件は、S‐フィルター;1μm、L‐フィルター;0.2mm)尚、表面に開口部を有する金属層については、ISO 25178表面性状計測を実行する際には、開口部は計測範囲から除外した。
<< Measurement of root mean square Sdq of metal layer >>
The root mean square slope Sdq of the metal layer of the electromagnetic wave shielding sheet was measured by the following method.
The peelable sheet on the conductive adhesive layer side of the electromagnetic shielding sheet is peeled off, and the adhesive tape ("CT1835" manufactured by Nichiban Co., Ltd.) is bonded to the exposed conductive adhesive layer, leaving the end of the adhesive tape, and the end of the adhesive tape Peel from the part to peel the conductive adhesive layer / adhesive tape. The conductive adhesive layer was removed, and the exposed surface of the metal layer was subjected to measurement data acquisition using a laser microscope (manufactured by Keyence Corporation, VK-X100).
The acquired measurement data was imported into analysis software (analysis application “VK-H1XA” equipped with ISO 25178 surface texture measurement module “VK-H1XR”, both manufactured by Keyence Corporation), and ISO 25178 surface texture measurement was executed. (Conditions are S-filter: 1 μm, L-filter: 0.2 mm) For metal layers with openings on the surface, the openings are excluded from the measurement range when performing ISO 25178 surface texture measurement. did.

《積層硬化物の損失正接の測定》
積層硬化物の損失正接は、以下の方法により測定した。
まず、幅50mm・長さ50mmの電磁波シールドシートを2枚用意し、それぞれの導電接着剤層側の剥離性シートを剥がし、露出した導電接着剤層同士を貼り合せ、170℃、2.0MPa、30分の条件で圧着し、熱硬化させて積層硬化物を得た。その後、積層硬化物の中心部分を幅5mm・長さ30mmに切出し、試料とした。この試料を、動的粘弾性測定装置(動的粘弾性測定装置DVA−200、アイティー計測制御社製)にセットし、昇温速度:10℃/分、測定周波数:1Hz、歪:0.08%、の条件にて動的粘弾性測定を行い、得られた動的粘弾性曲線より、125℃における損失弾性率E´´、貯蔵弾性率E´を読取り、積層硬化物の損失正接を算出した。
<Measurement of loss tangent of laminated cured product>
The loss tangent of the laminated cured product was measured by the following method.
First, two electromagnetic shielding sheets having a width of 50 mm and a length of 50 mm were prepared, the peelable sheets on the respective conductive adhesive layer sides were peeled off, and the exposed conductive adhesive layers were bonded to each other at 170 ° C., 2.0 MPa, The laminate was pressure-bonded for 30 minutes and thermally cured to obtain a laminated cured product. Thereafter, the central part of the laminated cured product was cut out to have a width of 5 mm and a length of 30 mm to prepare a sample. This sample was set in a dynamic viscoelasticity measuring device (dynamic viscoelasticity measuring device DVA-200, manufactured by IT Measurement & Control Co., Ltd.), a heating rate: 10 ° C./min, a measuring frequency: 1 Hz, a strain: 0.00. The dynamic viscoelasticity is measured under the condition of 08%. From the obtained dynamic viscoelasticity curve, the loss elastic modulus E ″ and storage elastic modulus E ′ at 125 ° C. are read, and the loss tangent of the laminated cured product is obtained. Calculated.

得られた電磁波シールドシートを用いて、下記評価を行った。結果を表1〜3に示す。   The following evaluation was performed using the obtained electromagnetic wave shielding sheet. The results are shown in Tables 1-3.

<ハンダリフロー耐性>
ハンダリフロー耐性は、電磁波シールドシートと溶融半田とを接触させた後の、外観変化の有無により評価した。ハンダリフロー耐性が高い電磁波シールドシートは、外観が変化しないが、ハンダリフロー耐性が低い電磁波シールドシートは、発泡や剥がれが発生する。
まず、幅25mm・長さ70mmの電磁波シールドシートの導電接着剤層の剥離性シートを剥がし、露出した導電接着剤層と、総厚64μmの金メッキ処理された銅張積層板(金メッキ0.3μm/ニッケルメッキ1μm/銅箔18μm/接着剤20μm/ポリイミドフィルム25μm)の金メッキ面を170℃、2.0MPa、30分の条件で圧着し、熱硬化させて積層体を得た。得られた積層体を幅10mm・縦65mmの大きさに切り取り試料を作製した。得られた試料を40℃、90%RHの雰囲気下で72時間放置した。その後、試料のポリイミドフィルム面を下にして250℃の溶融半田上に1分間浮かべ、次いで試料を取り出し、その外観を目視で観察し、発泡、浮き、剥がれ等の異常の有無を次の基準で評価した。

◎:外観変化全く無し。 極めて良好である。
〇:小さな発泡がわずかに観察される。 良好である。
△:小さな発泡が多数観察される。 実用可。
×:激しい発泡や剥がれが観察される。 実用不可。
<Solder reflow resistance>
Solder reflow resistance was evaluated by the presence or absence of changes in appearance after contacting the electromagnetic wave shielding sheet and the molten solder. The appearance of the electromagnetic wave shielding sheet having high solder reflow resistance does not change, but the electromagnetic wave shielding sheet having low solder reflow resistance causes foaming or peeling.
First, the peelable sheet of the conductive adhesive layer of the electromagnetic wave shield sheet having a width of 25 mm and a length of 70 mm was peeled off, and the exposed conductive adhesive layer and a copper-clad laminate (gold-plated 0.3 μm / gold plated) having a total thickness of 64 μm. A gold-plated surface of nickel plating 1 μm / copper foil 18 μm / adhesive 20 μm / polyimide film 25 μm) was pressure-bonded under the conditions of 170 ° C. and 2.0 MPa for 30 minutes and thermally cured to obtain a laminate. The obtained laminate was cut into a size of 10 mm width and 65 mm length to prepare a sample. The obtained sample was left for 72 hours in an atmosphere of 40 ° C. and 90% RH. Then, float on the molten solder at 250 ° C. for 1 minute with the polyimide film surface of the sample facing down, then take out the sample, visually observe its appearance, and check for the presence or absence of abnormalities such as foaming, floating, and peeling according to the following criteria. evaluated.

A: No change in appearance. Very good.
A: Small foaming is slightly observed. It is good.
Δ: Many small bubbles are observed. Can be used practically.
X: Vigorous foaming and peeling are observed. Not practical.

<伝送特性>
伝送特性は、図4に示す電磁波シールドシート付きコプレーナ回路を有する配線板21を用いて評価した。
<Transmission characteristics>
The transmission characteristics were evaluated using a wiring board 21 having a coplanar circuit with an electromagnetic wave shielding sheet shown in FIG.

測定に用いたコプレーナ回路を有するフレキシブルプリント配線板(以下、コプレーナ回路を有する配線板ともいう)20の主面側の模式的平面図を図4に、図5に、裏面側の模式的平面図を示す。まず、厚さ50μmのポリイミドフィルム50の両面に、厚さ12μmの圧延銅箔を積層した両面CCL「R−F775」(パナソニック社製)を用意した。そして、矩形状の4つのコーナー部近傍に、其々6か所のスルーホール51(直径0.1mm)を設けた。尚、図中においては、図示の便宜上、各コーナー部にスルーホール51を2つのみ示している。次いで、無電解メッキ処理を行った後に、電解メッキ処理を行って10μmの銅メッキ膜52を形成し、スルーホール51内に形成された銅メッキ膜を介して主面−裏面間の導通を確保した。その後、図3に示すように、ポリイミドフィルム50の主面に長さが10cmの2本の信号配線53、およびその外側に信号配線53と並行なグランド配線54、およびグランド配線54から延在され、ポリイミドフィルム50の短手方向のスルーホール51を含む領域にグランドパターン(i)55を形成した。   FIG. 4 is a schematic plan view of the main surface side of a flexible printed wiring board (hereinafter, also referred to as a wiring board having a coplanar circuit) 20 having a coplanar circuit used for measurement, and FIG. 5 is a schematic plan view of the back side. Indicates. First, double-sided CCL “R-F775” (manufactured by Panasonic Corporation) in which a rolled copper foil having a thickness of 12 μm was laminated on both sides of a polyimide film 50 having a thickness of 50 μm was prepared. And six through holes 51 (diameter 0.1 mm) were provided in the vicinity of the four rectangular corner portions. In the drawing, for convenience of illustration, only two through holes 51 are shown at each corner. Next, after performing an electroless plating process, an electroplating process is performed to form a 10 μm copper plating film 52, and conduction between the main surface and the back surface is ensured through the copper plating film formed in the through hole 51. did. Thereafter, as shown in FIG. 3, two signal wirings 53 having a length of 10 cm are formed on the main surface of the polyimide film 50, and a ground wiring 54 parallel to the signal wiring 53 and the ground wiring 54 are extended outside thereof. A ground pattern (i) 55 was formed in a region including the through hole 51 in the short direction of the polyimide film 50.

その後、ポリイミドフィルム50の裏面に形成された銅箔をエッチングして、グランドパターン(i)55に対応する位置に、図5に示すような裏面側グランドパターン(ii)56を得た。回路の外観、公差の検査仕様はJPCA規格(JPCA−DG02)とした。次に、ポリイミドフィルム50の主面側に、ポリイミドフィルム(厚さ12.5μm)と絶縁性接着剤層(厚さ15μm)とで構成されるカバーコート層7「CISV1215(ニッカン工業社製)」を貼り付けた。尚、図4においては、信号配線53等の構造がわかるように、カバーコート層8を透視図で示した。その後、カバーコート層8から露出した銅箔パターンにニッケルメッキ(不図示)を行い、次いで金メッキ(不図示)処理を行った。   Thereafter, the copper foil formed on the back surface of the polyimide film 50 was etched to obtain a back surface side ground pattern (ii) 56 as shown in FIG. 5 at a position corresponding to the ground pattern (i) 55. The inspection specification of the appearance and tolerance of the circuit was the JPCA standard (JPCA-DG02). Next, on the main surface side of the polyimide film 50, a cover coat layer 7 “CISV1215 (manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd.)” composed of a polyimide film (thickness 12.5 μm) and an insulating adhesive layer (thickness 15 μm) ” Was pasted. In FIG. 4, the cover coat layer 8 is shown in a perspective view so that the structure of the signal wiring 53 and the like can be understood. Thereafter, the copper foil pattern exposed from the cover coat layer 8 was subjected to nickel plating (not shown), and then gold plating (not shown).

次に図6に示すように、導電接着剤層1、金属層2、保護層3の積層体からなる電磁波シールドシート10を用意し、電磁波シールドシート10の導電接着剤層1上に設けられた剥離処理シート(不図示)を剥がした。そして、電磁波シールドシート10の導電接着剤層1を内側としてコプレーナ回路を有する配線板20の裏全面側に、170℃、2.0MPa、30分の条件で圧着することにより電磁波シールド層付きコプレーナ回路を有する配線板21を得た。図6においては、裏面側グランドパターン(ii)56を透視図で示した。   Next, as shown in FIG. 6, an electromagnetic wave shielding sheet 10 composed of a laminate of the conductive adhesive layer 1, the metal layer 2, and the protective layer 3 was prepared and provided on the conductive adhesive layer 1 of the electromagnetic wave shielding sheet 10. The release treatment sheet (not shown) was peeled off. Then, the coplanar circuit with the electromagnetic wave shielding layer is bonded to the entire back surface side of the wiring board 20 having the coplanar circuit with the conductive adhesive layer 1 of the electromagnetic wave shielding sheet 10 inside, under the conditions of 170 ° C., 2.0 MPa, 30 minutes. A wiring board 21 having the following was obtained. In FIG. 6, the back side ground pattern (ii) 56 is shown in a perspective view.

尚、信号配線53のL/S(ライン/スペース)は特性インピーダンスが±10Ωに入るよう適宜調整した。グランド配線54の幅は100μm、グランド配線54と信号配線53の間の距離は1mmとした。   The L / S (line / space) of the signal wiring 53 was adjusted as appropriate so that the characteristic impedance was within ± 10Ω. The width of the ground wiring 54 was 100 μm, and the distance between the ground wiring 54 and the signal wiring 53 was 1 mm.

電磁波シールドシート付きコプレーナ回路を有する配線板20の露出した信号配線53にネットワークアナライザE5071C(アジレント・ジャパン社製)を接続し、15GHzのサイン波を入力し、伝送損失を測定することで伝送特性を評価した。測定した伝送特性を下記の基準で評価した。

◎:15GHzにおける伝送損失が7.0dB未満 極めて良好である。
〇:15GHzにおける伝送損失が7.0dB以上、7.5dB未満 良好である。
△:15GHzにおける伝送損失が7.5dB以上、8.0dB未満 実用可。
×:15GHzにおける伝送損失が8.0dB以上 実用不可。
Connect the network analyzer E5071C (manufactured by Agilent Japan) to the exposed signal wiring 53 of the wiring board 20 having a coplanar circuit with an electromagnetic wave shielding sheet, input a 15 GHz sine wave, and measure the transmission loss. evaluated. The measured transmission characteristics were evaluated according to the following criteria.

A: Transmission loss at 15 GHz is less than 7.0 dB. Very good.
A: Transmission loss at 15 GHz is 7.0 dB or more and less than 7.5 dB.
Δ: Transmission loss at 15 GHz is 7.5 dB or more and less than 8.0 dB.
X: Transmission loss at 15 GHz is 8.0 dB or more.

<高周波シールド性>
高周波シールド性は、ASTM D4935に準拠し、キーコム社製の同軸管タイプのシールド効果測定システムを用いて、100MHz〜15GHz条件で電磁波の照射を行い、電磁波が電磁波シールドシートで減衰する減衰量を測定し、以下の基準に従って表記を行う。なお、減衰量の測定値は、デシベル(単位;dB)である。

◎:15GHzの電磁波照射時の減衰量が、−55dB未満 極めて良好である。
〇:15GHzの電磁波照射時の減衰量が、−55dB以上、−50dB未満 良好。
△:15GHzの電磁波照射時の減衰量が、−50dB以上、−45dB未満 実用可。
×:15GHzの電磁波照射時の減衰量が、−45dB以上 実用不可。
<High frequency shielding>
The high frequency shielding property is based on ASTM D4935, and the amount of attenuation by which electromagnetic waves are attenuated by the electromagnetic shielding sheet is measured by irradiating electromagnetic waves under the condition of 100 MHz to 15 GHz using a coaxial tube type shielding effect measuring system manufactured by Keycom. And in accordance with the following criteria. In addition, the measured value of attenuation is a decibel (unit; dB).

(Double-circle): The attenuation amount at the time of electromagnetic wave irradiation of 15 GHz is less than -55 dB. It is very favorable.
A: Attenuation amount at the time of electromagnetic wave irradiation of 15 GHz is −55 dB or more and less than −50 dB.
(Triangle | delta): The attenuation amount at the time of electromagnetic wave irradiation of 15 GHz is more than -50dB and less than -45dB.
X: Attenuation amount at the time of electromagnetic wave irradiation of 15 GHz is −45 dB or more.

<冷熱サイクル信頼性>
冷熱サイクル信頼性は、冷熱サイクル前後の小開口ビアを介した接続抵抗値を測定することで評価した。以下に評価の具体的方法を示す。
電磁波シールドシートを幅20mm、長さ50mmの大きさに準備し試料25とした。図7(1)、(4)の平面図を示して説明すると試料25から剥離性シートを剥がし、露出した導電接着剤層25bを、別に作製したフレキシブルプリント配線板(厚み25μmのポリイミドフィルム21上に、互いに電気的に接続されていない厚み18μmの銅箔回路22A、および銅箔回路22Bが形成されており、銅箔回路22A上に、厚み37.5μmの、直径1.1mm(ビア面積が1.0mm)の円形ビア24を有する接着剤付きポリイミドカバーレイ23が積層された配線板)に170℃、2MPa、30分の条件で圧着し、電磁波シールドシートの導電接着剤層25bおよび保護層25aを硬化させることで試料を得た。次いで、試料の保護層25a側の剥離性シートを除去し、図7(4)の平面図に示す22A−22B間の初期接続抵抗値を、三菱化学アナリテック製「ロレスターGP」のBSPプローブを用いて測定した。なお、図7(2)は、図7(1)のD−D’断面図、図7(3)は図7(1)のC−C’断面図である。同様に図7(5)は、図7(4)のD−D’断面図、図7(6)は図7(4)のC−C’断面図である。試料を冷熱衝撃装置(「TSE‐11‐A」、エスペック社製)に投入し、高温さらし:125℃、15分、低温さらし:−50℃、15分の曝露条件にて交互曝露を200回実施した。その後、試料の接続抵抗値を、初期と同様に測定した。
冷熱サイクル信頼性の評価基準は以下の通りである。

◎:(交互曝露後の接続抵抗値)/(初期接続抵抗値)が1.5未満 極めて良好である。
○:(交互曝露後の接続抵抗値)/(初期接続抵抗値)が1.5以上、3.0未満 良好。
△:(交互曝露後の接続抵抗値)/(初期接続抵抗値)が3.0以上、5.0未満 実用可。
×:(交互曝露後の接続抵抗値)/(初期接続抵抗値)が5.0以上 実用不可。
<Cooling cycle reliability>
The reliability of the thermal cycle was evaluated by measuring the connection resistance value through the small opening vias before and after the thermal cycle. The specific method of evaluation is shown below.
An electromagnetic wave shielding sheet having a width of 20 mm and a length of 50 mm was prepared as Sample 25. 7A and 7B, the peelable sheet is peeled off from the sample 25, and the exposed conductive adhesive layer 25b is separately formed on the flexible printed wiring board (on the polyimide film 21 having a thickness of 25 μm). In addition, a copper foil circuit 22A and a copper foil circuit 22B having a thickness of 18 μm that are not electrically connected to each other are formed. On the copper foil circuit 22A, a diameter of 1.1 mm (a via area is 37.5 μm) is formed. 1.0 mm 2 ) a wiring board on which a polyimide cover lay 23 with an adhesive having a circular via 24 is laminated) under conditions of 170 ° C., 2 MPa, 30 minutes, and the conductive adhesive layer 25b of the electromagnetic wave shielding sheet and protection A sample was obtained by curing the layer 25a. Next, the peelable sheet on the protective layer 25a side of the sample was removed, and the initial connection resistance value between 22A and 22B shown in the plan view of FIG. 7 (4) was measured using the BSP probe of “Lorester GP” manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech. And measured. 7B is a cross-sectional view taken along the line DD ′ of FIG. 7A, and FIG. 7C is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. Similarly, FIG. 7 (5) is a DD ′ sectional view of FIG. 7 (4), and FIG. 7 (6) is a CC ′ sectional view of FIG. 7 (4). The sample was put into a thermal shock apparatus (“TSE-11-A”, manufactured by Espec Corp.), exposed to high temperature: 125 ° C., 15 minutes, low temperature exposure: −50 ° C., 15 minutes under alternating exposure conditions 200 times Carried out. Thereafter, the connection resistance value of the sample was measured in the same manner as in the initial stage.
The evaluation criteria for the reliability of the thermal cycle are as follows.

A: (Connection resistance value after alternating exposure) / (Initial connection resistance value) is less than 1.5 Very good.
○: (connection resistance value after alternating exposure) / (initial connection resistance value) is 1.5 or more and less than 3.0.
Δ: (connection resistance value after alternating exposure) / (initial connection resistance value) is 3.0 or more and less than 5.0.
X: (Connection resistance value after alternating exposure) / (Initial connection resistance value) is 5.0 or more.

1 導電接着剤層
2 金属層
3 保護層
4 開口部
5 グランド配線
6 信号配線
7 電磁波シールド性配線回路基板
8 カバーコート層
9 絶縁性基材
10 電磁波シールドシート
11 ビア
12 電磁波シールド層
20 コプレーナ回路を有する配線板
21 電磁波シールドシート付きコプレーナ回路を有する配線板
50 ポリイミドフィルム
51 スルーホール
52 銅メッキ膜
53 信号配線
54 グランド配線
55 グランドパターン(i)
56 裏面側グランドパターン(ii)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conductive adhesive layer 2 Metal layer 3 Protective layer 4 Opening part 5 Ground wiring 6 Signal wiring 7 Electromagnetic shielding circuit board 8 Cover coat layer 9 Insulating base material 10 Electromagnetic shielding sheet 11 Via 12 Electromagnetic shielding layer 20 Coplanar circuit Wiring board 21 Wiring board having a coplanar circuit with electromagnetic shielding sheet Polyimide film 51 Through hole 52 Copper plating film 53 Signal wiring 54 Ground wiring 55 Ground pattern (i)
56 Back side ground pattern (ii)

Claims (5)

導電接着剤層、金属層、保護層をこの順に備えた積層体を有し、
導電接着剤層と接する前記金属層の界面はISO 25178−2:2012に準拠して求めた二乗平均平方根傾斜Sdqが0.0001〜0.5であり、
前記金属層は複数の開口部を有し、かつ開口率が0.10〜20%であることを特徴とする電磁波シールドシート。
It has a laminate comprising a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer in this order,
The interface of the metal layer in contact with the conductive adhesive layer has a root mean square slope Sdq determined in accordance with ISO 25178-2: 2012 of 0.0001 to 0.5,
The metal layer has a plurality of openings, and the opening ratio is 0.10 to 20%.
前記積層体を、170℃30分間熱プレスしてなる積層硬化物は、125℃における損失正接が0.10以上であることを特徴とする請求項1記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein the laminated cured product obtained by hot pressing the laminated body at 170 ° C for 30 minutes has a loss tangent at 125 ° C of 0.10 or more. 前記金属層の厚みは、0.3〜5.0μmであることを特徴とする請求項1または2記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein the metal layer has a thickness of 0.3 to 5.0 μm. 前記導電接着剤層は、バインダー樹脂、および導電性フィラーを含有し、
前記導電接着剤層中の前記導電性フィラーの含有率は、35〜90質量%であることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載の電磁波シールドシート。
The conductive adhesive layer contains a binder resin and a conductive filler,
4. The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein a content of the conductive filler in the conductive adhesive layer is 35 to 90% by mass.
請求項1〜4いずれか1項記載の電磁波シールドシートから形成してなる電磁波シールド層、カバーコート層、ならびに信号配線および絶縁性基材を有する配線板を備えることを特徴とする電磁波シールド性配線回路基板。
An electromagnetic wave shielding wiring comprising: an electromagnetic wave shielding layer formed from the electromagnetic wave shielding sheet according to any one of claims 1 to 4; a cover coat layer; and a wiring board having a signal wiring and an insulating substrate. Circuit board.
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