KR102091355B1 - 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법 - Google Patents

인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법에 관한 것으로서, 카메라용 윈도우글라스에 인쇄가능 범위내에 링, 도트, 곡선, 무늬 등 다양한 패턴을 구현할 수 있도록 함을 목적으로 한 것이다.
즉, 본 발명은 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법에 있어서, 글라스원판에 셀분리를 위하여 셀커팅선을 형성하는 셀커팅선가공과정과 글라스원판을 레이져에 의하여 다수의 글라스셀로 이루어지는 시트단위로 절단하는 시트커팅과정, 질산칼륨에 의하여 글라스시트의 표면응력을 증대시키고 셀커팅선이 명확하게 형성되는 하는 시트강화과정, 인쇄를 통하여 윈도우글라스에 패턴이 형성되게 하는 인쇄패턴형성과정, 각 글라스셀의 배면 투과영역에 투과율을 높이고 반사율을 낮추기 위하여 AR증착층을 형성하는 AR증착과정, 각 글라스셀의 전면부에 지문과 이물 오염방지를 위해 AF증착층을 형성하는 AF증착과정, 시트 단위의 글라스셀을 위 또는 아래로 밀어 셀커팅선을 따라 셀분리되게 하는 셀분리과정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 것이다.
따라서, 본 발명은 카메라용 윈도우글라스에 인쇄가능 범위내에 링, 도트, 곡선, 무늬 등 다양한 패턴을 구현할 수 있는 효과를 갖는 것이다.

Description

인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법{MANUFACTURING METHOD OF WINDOWGLASS HANING PRINTING PATTERN FOR SMARTPHONE CAMERA}
본 발명은 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법에 있어서, 글라스원판에 셀분리를 위하여 셀커팅선을 형성하는 셀커팅선가공과정과, 글라스원판을 레이져에 의하여 다수의 글라스셀로 이루어지는 시트단위로 절단하는 시트커팅과정, 질산칼륨에 의하여 글라스시트의 표면응력을 증대시키고 셀커팅선이 명확하게 형성되는 하는 시트강화과정, 인쇄를 통하여 윈도우글라스에 패턴이 형성되게 하는 인쇄패턴형성과정, 각 글라스셀의 배면 투과영역에 투과율을 높이고 반사율을 낮추기 위하여 AR증착층을 형성하는 AR증착과정, 각 글라스셀의 전면부에 지문과 이물 오염방지를 위해 AF증착층을 형성하는 AF증착과정, 시트 단위의 글라스셀을 위 또는 아래로 밀어 셀커팅선을 따라 셀분리되게 하는 셀분리과정으로 이루어져, 카메라용 윈도우글라스에 인쇄가능 범위내에 링, 도트, 곡선, 무늬 등 다양한 패턴을 구현할 수 있도록 함을 목적으로 한 것이다.
일반적으로, 스마트폰용 카메라는 전면에 카메라의 렌즈를 보호하기 위한 윈도우글라스가 구비되어 있는 것이다.
상기 카메라 윈도우는 스마트폰용 카메라의 렌즈를 빛의 투과율을 극대화한 상태에서 윈도우글라스를 보호하는 것이다.
한편, 이상과 같은 카메라 윈도우글라스는 장식성을 높일 수 있게 윈도우글라스원판의 일면에 에칭작업을 통하여 패턴을 형성하여 장식성을 높이고 있는 것이다.
그러나, 상기한 바와 같은 종래의 스마트폰 카메라용 윈도우글라스는 패턴이 에칭작업을 형성되어 패턴의 형상과 모양이 단순한여 그 장식성과 디자인성이 떨어지는 문제점이 있었다.
대한민국 특허 제10-1948473호
즉, 본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 스마트폰 카메라용 윈도우글라스는 패턴이 에칭작업을 형성되어 패턴의 형상과 모양이 단순한여 그 장식성과 디자인성이 떨어지는 문제점을 해결할 수 있도록 한 것이다.
즉, 본 발명은 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법에 있어서, 글라스원판에 셀분리를 위하여 셀커팅선을 형성하는 셀커팅선가공과정과 글라스원판을 레이져에 의하여 다수의 글라스셀로 이루어지는 시트단위로 절단하는 시트커팅과정, 질산칼륨에 의하여 글라스시트의 표면응력을 증대시키고 셀커팅선이 명확하게 형성되는 하는 시트강화과정, 인쇄를 통하여 윈도우글라스에 패턴이 형성되게 하는 인쇄패턴형성과정, 각 글라스셀의 배면 투과영역에 투과율을 높이고 반사율을 낮추기 위하여 AR증착층을 형성하는 AR증착과정, 각 글라스셀의 전면부에 지문과 이물 오염방지를 위해 AF증착층을 형성하는 AF증착과정, 시트 단위의 글라스셀을 위 또는 아래로 밀어 셀커팅선을 따라 셀분리되게 하는 셀분리과정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 것이다.
따라서, 본 발명은 글라스원판에 셀분리를 위하여 셀커팅선을 형성하는 셀커팅선가공과정과 글라스원판을 레이져에 의하여 다수의 글라스셀로 이루어지는 시트단위로 절단하는 시트커팅과정, 질산칼륨에 의하여 글라스시트의 표면응력을 증대시키고 셀커팅선이 명확하게 형성되는 하는 시트강화과정, 인쇄를 통하여 윈도우글라스에 패턴이 형성되게 하는 인쇄패턴형성과정, 각 글라스셀의 배면 투과영역에 투과율을 높이고 반사율을 낮추기 위하여 AR증착층을 형성하는 AR증착과정, 각 글라스셀의 전면부에 지문과 이물 오염방지를 위해 AF증착층을 형성하는 AF증착과정, 시트 단위의 글라스셀을 위 또는 아래로 밀어 셀커팅선을 따라 셀분리되게 하는 셀분리과정으로 이루짐으로써, 카메라용 윈도우글라스에 인쇄가능 범위내에 링, 도트, 곡선, 무늬 등 다양한 패턴을 구현할 수 있는 효과를 갖는 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예를 따른 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법을 보인 개요도.
도 2는 본 발명의 실시예를 따른 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법의 셀커팅선가공의 과정을 보인 도면.
도 3은 본 발명의 실시예를 따른 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법의 인쇄패턴형의 과정을 보인 도면.
도 4 및 5는 본 발명의 다른 실시예를 따른 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법을 보인 개요도.
도 6은 본 발명의 다른 실시예를 따른 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법의 에칭패턴가공의 과정을 보인 도면.
도 7 은 본 발명의 실시예를 따른 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법의 AR 및 AF 증착을 통한 제품을 보인 도면.
도 8 은 본 발명의 다른 실시예를 따른 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법의 AR 및 AF 증착을 통한 제품을 보인 도면.
이하, 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명은 카메라용 윈도우글라스에 인쇄가능 범위내에 링, 도트, 곡선, 무늬 등 다양한 패턴을 구현할 수 있도록 한 것으로서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시 예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시 예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
즉, 본 발명은 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법에 있어서, 셀커팅선가공과정(100)과 시트커팅과정(200), 시트강화과정(300), 인쇄패턴형성과정(400),AR증착과정(500), AF증착과정(600) 및 셀분리과정(700)으로 이루어진 것이다.
여기서, 상기 셀커팅선가공과정(100)은 글라스원판(11)에 셀분리를 위하여 셀커팅선(31)을 형성하는 것이다.
상기 셀커팅선가공과정(100)은 글라스원판(11)의 양면에 광반응에 의하여 글라스원판(11)의 셀커팅선(31) 형성부위만이 노출될 수 있게 현상되는 DFR(Dry Film PhotoResist)을 라미네이팅하는 셀커팅DFR양면라미단계(110)와 상기 셀커팅DFR양면라미단계(110)를 통하여 DFR이 라미네이팅된 글라스원판(11)의 상하면 양면에 설계된 셀커팅선(31)에 따라 포토마스크(21)를 매개로 자외선을 조사하는 셀커팅노광단계(120), 상기 글라스원판(11)에 DFR을 밀착시켜 현상과 에칭과정에 DFR의 들뜸이 방지되게 가압 밀착하는 셀커팅프리베이크단계(130), 상기 셀커팅노광단계(120)를 통하여 자외선이 노광되지 않은 DFR을 현상에 의하여 제거하는 셀커팅현상단계(140), 상기 셀커팅현상단계을 통하여 현상에 의하여 약화된 DFR을 글라스원판(11)에 밀착되게 가압하는 셀커팅하드브레이크단계(150), 상기 셀커팅현상단계(140)를 통하여 노출된 글라스원판(11)의 셀커팅선(31) 형성면을 레이져로 일정 깊이의 셀커팅선을 형성하는 레이져셀커팅선가공단계(160), 상기 레이져셀커팅선가공단계(160)를 통하여 노출된 셀커팅선(31)이 형성된 면을 에칭액으로 녹여 셀커팅홈을 형성하는 셀커팅글라스에칭단계(170), 상기 셀커팅글라스에칭단계(170) 후 글라스원판(11)에 잔류한 DFR을 박리액에 의하여 제거하는 셀커팅DFR박리단계(180) 및 글라스원판(11)을 저농도의 에칭액에서 2분 이내로 전면 에칭하여 표면을 균일화 하는 셀커팅힐링단계(190)로 이루어지는 것이다.
상기 글라스원판(11)은 250±20℃, 30분±10분, 열풍을 이용한 예열과정 후 420±20℃, 100분±20분 동안 KNO3 (질산칼륨)에 본열 가열과정 후 150±20℃, 15분±5분, 온수를 이용하여 서냉하는 과정을 통하여 표면응력은 500~600Mpa을 갖게 하고 강화깊는 10~30㎛로 강화하며 중앙응력은 50~90Mpa을 갖게 강화한 하프강화글라스원판(11)이 사용되는 것이다.
이상과 같이 하프강화글라스원판(11)을 사용하게 되면 공정간에 취급성 깨짐, 칩핑, 긁힘 발생이 방지되게 패턴 에칭시 반응편차로 인한 에칭패턴 깊이 편차 및 과에칭이 방지되는 것이다.
상기 셀커팅DFR양면라미단계(110)를 실시함에 있어 다음 단계인 셀커티노광단계에 있어 연속적인 노광이 이루어지는 하부 DFR층의 과도한 노광을 방지할 수 있게 상부면은 중감도 DFR을 사용하고, 하부면 저감도 DFR 사용하여 실시함이 바람직한 것이다.
상기 셀커팅프리베이크단계(130)는 100~120℃의 온도에서 10~20분 건조시켜 셀커팅노광단계(120)에서 들뜬 DFR층을 건조 안정화시키는 것이다.
상기 셀커팅하드브레이크단계(150)는 120~150℃의 온도에서 40~60분 DFR층을 가압 건조시켜 셀커팅현상단계(140)에서 들뜬 DFR층을 가압 건조 안정화시키는 것이다.
상기 셀커팅글라스에칭단계(170)는 불산혼합물이 25~50중량%로 혼합조성된 불산에칭액에 200~350초 동안 셀커팅홈을 에칭형성 하는 것이다.
상기 셀커팅힐링단계(190)는 셀커팅글라스에칭단계(170)에서 거칠게 형성된 에칭영역을 거침을 개선하여 강도를 증가시키며 외관품질을 개선할 수 있게 글라스원판(11) 표면 전체를 불산혼합물이 3~15중량%로 혼합조성된 저불산에칭액에 힐링에칭하는 것이다.
그리고, 상기 시트커팅과정(200)은 글라스원판(11)을 레이져에 의하여 다수의 글라스셀(13)로 이루어지는 시트단위로 절단하는 것이다.
또한, 상기 시트강화과정(300)은 질산칼륨에 의하여 글라스시트(12)의 표면응력을 증대시키고 표면응력의 변화를 통하여 셀커팅선(31)이 명확하게 형성되는 하는 것이다.
상기 시트강화과정(300)은 250~310℃의 열풍에 20~40분동안 가열하여 예열하고, 390~450℃의 질산칼륨강화액에 침지시켜 120~170분동안 강화하고, 100~170℃의 온도로 10~20분동안 유체에서 서냉하는 과정으로 이루어지는 것으로서, 표면응력 650~850Mpa, 강화깊이 30~45㎛ 중앙응력 100~130Mpa를 갖게 강화되어 글라스시트(12)의 표면응력 변화에 따라 에칭형성된 셀커팅선(31)에 의하여 셀커팅이 되어 각 글라스셀(13)이 맞물림 상태로 결합되어 있게 되는 것이다.
또한, 상기 인쇄패턴형성과정(400)은 인쇄를 통하여 윈도우글라스에 패턴이 형성되게 하는 것이다.
상기 인쇄패턴형성과정(400)은 인쇄패턴이 형성된 인쇄마스크로 글라스시트(12)의 배면에 열경화성 컬러잉크로 패턴을 인쇄하여 인쇄패턴층을 형성하는 패턴인쇄단계(410)와 상기 패턴인쇄단계(410) 후 상기 글라스시트(12)의 인쇄패턴층의 상면으로 패턴멀티증착층(42)을 형성하는 인쇄멀티증착단계(420), 광이 투과되는 글라스셀(13)의 중앙 투과영역을 제외한 멀리증착층의 상면에 베이스인쇄층(43)을 형성하는 베이스인쇄단계(430), 상기 베이스인쇄단계(430)를 통하여 베이스인쇄층(43)이 형성되지 않은 글라스셀(13)을 중앙 투과영역에 형성된 패턴멀티증착층(42)을 에칭제거하는 패턴멀티에칭단계(440)로 이루어지는 것이다.
상기 패턴인쇄단계(410)는 인쇄마스크를 이용하여 열경화성 블랙 또는 컬러잉크를 인쇄하고, 100~150℃의 열풍을 30~60분 동안 건조하여 이루어지며, 상기 인쇄마스크는 치수안정성과 글라스시트(12)의 패턴인쇄부분과 패턴 비인쇄부분이 명확하게 분리 형성되게 스테인레스인쇄마스크로 이루어지는 것이다.
상기 인쇄멀티증착단계(420)는 Al2o3, Tio2, Ti3o5, Indium, Nb2o5 등의 고굴절, 저굴적 재료를 멀티층으로 증착하여 패턴인쇄층(41)의 휘도(밝기)를 향상시키고, 다양한 색상을 구현하게 하는 것이다.
상기 베이스인쇄단계(430)는 열경화성 블랙 또는 컬러잉크를 인쇄하고, 100~150℃의 열풍을 30~60분 동안 건조하여 베이스인쇄층(43)을 형성하는 것으로서, 상기 베이스인쇄층(43)의 외측 테두리는 분리형성될 글라스셀(13)의 테두리보다 내측으로 0.2mm 작게 형성하여 이루어지는 것이다.
상기 패턴멀티에칭단계(440)는 40~70℃ 알카리성 에칭액에 5~10분간 침식하여 베이스인쇄층(43)이 형성되지 않은 부분에 형성된 멀티층으로 에칭제거하는 것으로서, 상기 알카리성 에칭액은 글라스시트(12)의 표면을 손상시키지 않게 Ph12.0 이상의 산도를 갖게 형성한 것으로 이루어지는 것이다.
또한, 상기 AR증착과정(500)은 각 글라스셀(13)의 배면 투과영역에 투과율을 높이고 반사율을 낮추기 위하여 AR증착층(51)을 형성하는 것으로서, Al2o3, Tio2, Ti3o5, Indium, Nb2o5 등의 고굴절, 저굴적 재료를 멀티층으로 증착하여 투과영역의 광 투과율을 높이는 것이다.
또한, 상기 AF증착과정(600)은 각 글라스셀(13)의 전면부에 지문과 이물 오염방지를 위해 AF증착층(52)을 형성하는 것으로서, 글라스시트(12)의 외부로 노출되는 전면부에 패턴면에 AF(Anti Finger Coat)를 진공증착(건식) 방식으로 진행하는 것으로서, SIO2물질을 글라스 표면에 50~200Å 코팅후 불소계열 폴리머를 100~300Å 코팅 처리하는 것이다.
또한, 상기 셀분리과정(700)는 시트 단위의 글라스셀(13)을 위 또는 아래로 밀어 셀커팅선(31)을 따라 셀분리되게 하는 것이다.
한편, 본 발명의 실시에 있어서, 셀커팅선가공과정(100) 이전 또는 이후에 글라스셀(13)의 전면부에 에칭패턴을 형성하는 에칭패턴가공과정(900)을 추가로 실시할 수 있는 것이다.
상기 에칭패턴가공과정(900)은 글라스원판(11)의 양면에 광반응에 의하여 글라스원판(11)의 에칭패턴 형성부위만이 노출될 수 있게 현상되는 DFR(Dry Film PhotoResist)을 라미네이팅하는 에칭패턴DFR양면라미단계(910)와 상기 에칭패턴DFR양면라미단계(910)를 통하여 DFR이 라미네이팅된 글라스원판(11)의 상하면 양면에 설계된 에칭패턴에 따라 포토마스크(21)를 매개로 자외선을 조사하는 에칭패턴전면조광단계(920); 상기 글라스원판(11)에 DFR을 밀착시켜 현상과 에칭과정에 DFR의 들뜸이 방지되게 가압 밀착하는 에칭패턴프리베이크단계(930); 상기 셀커팅노광단계(120)를 통하여 자외선이 노광되지 않은 DFR을 현상에 의하여 제거하는 에칭패턴현상단계(940); 상기 에칭패턴현상단계(940)를 통하여 현상에 의하여 약화된 DFR을 글라스원판(11)에 밀착되게 가압하는 에칭패턴하드브레이크단계(950); 상기 에칭패턴현상단계(940)를 통하여 노출된 글라스원판(11)의 에칭패턴 형성면을 에칭액으로 녹여 셀커팅선(31)을 형성하는 에칭팬턴글라스에칭단계 및 상기 에칭팬턴글라스에칭단계 후 글라스원판(11)에 잔류한 DFR을 박리액에 의하여 제거하는 에칭패턴DFR박리단계(970)로 이루어진 것이다.
이하, 본 발명의 적용실시에 따른 작용효과에 대하여 설명하면 다음과 같다.
상기한 바와 같이 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법에 있어서, 글라스원판(11)에 셀분리를 위하여 셀커팅선(31)을 형성하는 셀커팅선가공과정(100)과 글라스원판(11)을 레이져에 의하여 다수의 글라스셀(13)로 이루어지는 시트단위로 절단하는 시트커팅과정(200), 질산칼륨에 의하여 글라스시트(12)의 표면응력을 증대시키고 셀커팅선(31)이 명확하게 형성되는 하는 시트강화과정(300), 인쇄를 통하여 윈도우글라스에 패턴이 형성되게 하는 인쇄패턴형성과정(400), 각 글라스셀(13)의 배면 투과영역에 투과율을 높이고 반사율을 낮추기 위하여 AR증착층(51)을 형성하는 AR증착과정(500), 각 글라스셀(13)의 전면부에 지문과 이물 오염방지를 위해 AF증착층(52)을 형성하는 AF증착과정(600), 시트 단위의 글라스셀(13)을 위 또는 아래로 밀어 셀커팅선(31)을 따라 셀분리되게 하는 셀분리과정(700)으로 이루어진 본 발명을 적용하여 실시하게 되면, 에칭을 통한 셀커팅선가공과정(100)을 통하여 셀커팅선(31)이 명확하게 형성되고 인쇄패턴형성과정(400)을 통하여 다양한 패턴무늬의 표현과 다양한 색상의 표현을 통하여 장식성과 상품성이 극대화되는 것이다.
한편, 본 발명의 실시에 있어, 셀커팅선가공과정(100)을 글라스원판(11)의 양면에 광반응에 의하여 글라스원판(11)의 셀커팅선(31) 형성부위만이 노출될 수 있게 현상되는 DFR(Dry Film PhotoResist)을 라미네이팅하는 셀커팅DFR양면라미단계(110)와 상기 셀커팅DFR양면라미단계(110)를 통하여 DFR이 라미네이팅된 글라스원판(11)의 상하면 양면에 설계된 셀커팅선(31)에 따라 포토마스크(21)를 매개로 자외선을 조사하는 셀커팅노광단계(120), 상기 글라스원판(11)에 DFR을 밀착시켜 현상과 에칭과정에 DFR의 들뜸이 방지되게 가압 밀착하는 셀커팅프리베이크단계(130), 상기 셀커팅노광단계(120)를 통하여 자외선이 노광되지 않은 DFR을 현상에 의하여 제거하는 셀커팅현상단계(140), 상기 셀커팅현상단계을 통하여 현상에 의하여 약화된 DFR을 글라스원판(11)에 밀착되게 가압하는 셀커팅하드브레이크단계(150), 상기 셀커팅현상단계(140)를 통하여 노출된 글라스원판(11)의 셀커팅선(31) 형성면을 레이져로 일정 깊이의 셀커팅선을 형성하는 레이져셀커팅선가공단계(160), 상기 레이져셀커팅선가공단계(160)를 통하여 노출된 셀커팅선(31)이 형성된 면을 에칭액으로 녹여 셀커팅홈을 형성하는 셀커팅글라스에칭단계(170), 상기 셀커팅글라스에칭단계(170) 후 글라스원판(11)에 잔류한 DFR을 박리액에 의하여 제거하는 셀커팅DFR박리단계(180) 및 글라스원판(11)을 저농도의 에칭액에서 2분 이내로 전면 에칭하여 표면을 균일화 하는 셀커팅힐링단계(190)로 이루어지게 실시하게 되면, 상기 셀커팅DFR양면라미단계(110)에 있어 전면과 배면의 DFR이 다른 감도로 실시하고 셀커팅노광단계(120)에서 노광의 세기를 조절하여 이루어져 선행하여 노광이 이루어진 글라스원판(11)의 전면부 DFR층의 과도한 노광으로 인한 손상과 이로 인한 에칭불량이 방지되는 것이다.
또한, 상기 셀커팅프리베이크단계(130)와 셀커팅하드브레이크단계(150)를 통하여 DFR층의 글라스시트(12) 밀착성이 유지되어 셀커팅글라스에칭단계(170)에 있어 명확한 셀커팅선(31)이 형성되는 것이다.
또한, 상기 셀커팅힐링단계(190)를 통하여 저농도의 에칭액으로 글라스원판(11) 전체를 표면 에칭하여 거친면을 안정하키므로 글라스원판(11)의 강도와 광투과율이 극대화되는 것이다.
또한, 본 발명의 실시에 있어서, 상기 인쇄패턴형성과정(400)을 인쇄패턴이 형성된 인쇄마스크로 글라스시트(12)의 배면에 열경화성 컬러잉크로 패턴을 인쇄하여 인쇄패턴층을 형성하는 패턴인쇄단계(410)와 상기 패턴인쇄단계(410) 후 상기 글라스시트(12)의 인쇄패턴층의 상면으로 패턴멀티증착층(42)을 형성하는 인쇄멀티증착단계(420), 광이 투과되는 글라스셀(13)의 중앙 투과영역을 제외한 멀리증착층의 상면에 베이스인쇄층(43)을 형성하는 베이스인쇄단계(430), 상기 베이스인쇄단계(430)를 통하여 베이스인쇄층(43)이 형성되지 않은 글라스셀(13)을 중앙 투과영역에 형성된 패턴멀티증착층(42)을 에칭제거하는 패턴멀티에칭단계(440)로 이루어지도록 실시하게 되면, 인쇄패턴층에 인쇄멀티증착단계(420)를 통하여 패턴멀티증착층(42)을 형성하고 그 상측에 베이스인쇄단계(430)를 통하여 베이스인쇄층(43)이 형성되어 글라스셀(13)의 배면에 형성된 인쇄패턴층이 선명하고 명확하게 투시되어 보여지게 되는 것이다.
한편, 상기 베이스인쇄단계(430)를 통하여 형성되는 베이스인쇄층(43)을 형성되는 글라스셀(13)의 테두리보다 좁게 형성하게 되면 테두리효과에 의하여 인쇄패턴층의 무늬가 더욱 선명하게 표현되는 것이다.
또한, 본 발명의 실시에 있어서, 250~310℃의 열풍에 20~40분동안 가열하여 예열하고, 390~450℃의 질산칼륨강화액에 침지시켜 120~170분동안 강화하며, 100~170℃의 온도로 10~20분동안 유체에서 서냉하는 과정으로 이루어진 시트강화과정(300)을 실시하게 되면, 글라스시트(12)의 표면응력 650~850Mpa, 강화깊이 30~45㎛ 중앙응력 100~130Mpa를 갖게 강화되고, 셀커팅선(31)이 명확하게 형성되는 하는 것이다.
또한, 본 발명의 다른 실시 예와 같이 에칭패턴가공과정(900)을 추가로 실시하되,
상기 에칭패턴가공과정(900)을 글라스원판(11)의 양면에 광반응에 의하여 글라스원판(11)의 에칭패턴 형성부위만이 노출될 수 있게 현상되는 DFR(Dry Film PhotoResist)을 라미네이팅하는 에칭패턴DFR양면라미단계(910)와 상기 에칭패턴DFR양면라미단계(910)를 통하여 DFR이 라미네이팅된 글라스원판(11)의 상하면 양면에 설계된 에칭패턴에 따라 포토마스크(21)를 매개로 자외선을 조사하는 에칭패턴전면조광단계(920); 상기 글라스원판(11)에 DFR을 밀착시켜 현상과 에칭과정에 DFR의 들뜸이 방지되게 가압 밀착하는 에칭패턴프리베이크단계(930); 상기 셀커팅노광단계(120)를 통하여 자외선이 노광되지 않은 DFR을 현상에 의하여 제거하는 에칭패턴현상단계(940); 상기 에칭패턴현상단계(940)를 통하여 현상에 의하여 약화된 DFR을 글라스원판(11)에 밀착되게 가압하는 에칭패턴하드브레이크단계(950); 상기 에칭패턴현상단계(940)를 통하여 노출된 글라스원판(11)의 에칭패턴 형성면을 에칭액으로 녹여 셀커팅선(31)을 형성하는 에칭팬턴글라스에칭단계 및 상기 에칭팬턴글라스에칭단계 후 글라스원판(11)에 잔류한 DFR을 박리액에 의하여 제거하는 에칭패턴DFR박리단계(970)로 이루어지게 실시하게 되면, 글라스셀(13) 배면의 인쇄패턴무늬와 함께 글라스셀(13) 전면에 에칭패턴무늬가 형성되어 글라스셀(13)의 무늬의 장식성과 선명성이 향상되는 것이다.
11 : 글라스원판 12 : 글라스시트 13 : 글라스셀
21 : 포토마스크
31 : 셀커팅선
41 : 패턴인쇄층 42 : 패턴멀티증착층
43 : 베이스인쇄층 44 : 패턴에칭홈
51 : AR증착층 52 : AF증착층
100 : 셀커팅선가공과정
110 : 셀커팅DFR양면라미단계 120 : 셀커팅노광단계
130 : 셀커팅프리베이크단계 140 : 셀커팅현상단계
150 : 셀커팅하드브레이크단계 160 : 레이져셀커팅선가공단계
170 : 셀커팅글라스에칭단계
180 : 셀커팅DFR박리단계 190 : 셀커팅힐링단계
200 : 시트커팅과정
300 : 시트강화과정
400 : 인쇄패턴형성과정
410 : 패턴인쇄단계 420 : 인쇄멀티증착단계
430 : 베이스인쇄단계 440 : 패턴멀티에칭단계
500 : AR증착과정
600 : AF증착과정
700 : 셀분리과정
900 : 에칭패턴가공과정(900)
910 : 에칭패턴DFR양면라미단계 920 : 에칭패턴전면조광단계
930 : 에칭패턴프리베이크단계 940 : 에칭패턴현상단계
950 : 에칭패턴하드브레이크단계 960 : 에칭패턴글라스에칭단계
970 : 에칭패턴DFR박리단계

Claims (5)

  1. 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법에 있어서;
    글라스원판(11)에 셀분리를 위하여 셀커팅선(31)을 형성하는 셀커팅선가공과정(100)과 글라스원판(11)을 레이져에 의하여 다수의 글라스셀(13)로 이루어지는 시트단위로 절단하는 시트커팅과정(200), 질산칼륨에 의하여 글라스시트(12)의 표면응력을 증대시키고 셀커팅선(31)이 명확하게 형성되는 하는 시트강화과정(300), 인쇄를 통하여 윈도우글라스에 패턴이 형성되게 하는 인쇄패턴형성과정(400), 각 글라스셀(13)의 배면 투과영역에 투과율을 높이고 반사율을 낮추기 위하여 AR증착층(51)을 형성하는 AR증착과정(500), 각 글라스셀(13)의 전면부에 지문과 이물 오염방지를 위해 AF증착층(52)을 형성하는 AF증착과정(600), 시트 단위의 글라스셀(13)을 위 또는 아래로 밀어 셀커팅선(31)을 따라 셀분리되게 하는 셀분리과정(700)으로 이루어지고;
    상기 글라스원판(11)은 250±20℃, 30분±10분, 열풍을 이용한 예열과정 후 420±20℃, 100분±20분 동안 KNO3 (질산칼륨)에 본열 가열과정 후 150±20℃, 15분±5분, 온수를 이용하여 서냉하는 과정을 통하여 표면응력은 500~600Mpa을 갖게 하고 강화깊는 10~30㎛로 강화하며 중앙응력은 50~90Mpa을 갖게 강화한 하프강화글라스원판(11)이 사용되어 이루어지며;
    상기 셀커팅선가공과정(100)은 글라스원판(11)의 양면에 광반응에 의하여 글라스원판(11)의 셀커팅선(31) 형성부위만이 노출될 수 있게 현상되는 DFR(Dry Film PhotoResist)을 라미네이팅하는 셀커팅DFR양면라미단계(110)와 상기 셀커팅DFR양면라미단계(110)를 통하여 DFR이 라미네이팅된 글라스원판(11)의 상하면 양면에 설계된 셀커팅선(31)에 따라 포토마스크(21)를 매개로 자외선을 조사하는 셀커팅노광단계(120), 상기 글라스원판(11)에 DFR을 밀착시켜 현상과 에칭과정에 DFR의 들뜸이 방지되게 가압 밀착하는 셀커팅프리베이크단계(130), 상기 셀커팅노광단계(120)를 통하여 자외선이 노광되지 않은 DFR을 현상에 의하여 제거하는 셀커팅현상단계(140), 상기 셀커팅현상단계을 통하여 현상에 의하여 약화된 DFR을 글라스원판(11)에 밀착되게 가압하는 셀커팅하드브레이크단계(150), 상기 셀커팅현상단계(140)를 통하여 노출된 글라스원판(11)의 셀커팅선(31) 형성면을 레이져로 일정 깊이의 셀커팅선을 형성하는 레이져셀커팅선가공단계(160), 상기 레이져셀커팅선가공단계(160)를 통하여 노출된 셀커팅선(31)이 형성된 면을 에칭액으로 녹여 셀커팅홈을 형성하는 셀커팅글라스에칭단계(170), 상기 셀커팅글라스에칭단계(170) 후 글라스원판(11)에 잔류한 DFR을 박리액에 의하여 제거하는 셀커팅DFR박리단계(180) 및 글라스원판(11)을 저농도의 에칭액에서 2분 이내로 전면 에칭하여 표면을 균일화 하는 셀커팅힐링단계(190)로 이루어지되,
    상기 셀커팅힐링단계(190)는 셀커팅글라스에칭단계(170)에서 거칠게 형성된 에칭영역을 거침을 개선하여 강도를 증가시키며 외관품질을 개선할 수 있게 글라스원판(11) 표면 전체를 불산혼합물이 3~15중량%로 혼합조성된 저불산에칭액에 힐링에칭하여 이루어지고;
    상기 셀커팅DFR양면라미단계(110)에 있어 다음 단계인 셀커티노광단계에 있어 연속적인 노광이 이루어지는 하부 DFR층의 과도한 노광을 방지할 수 있게 상부면은 중감도 DFR을 사용하고, 하부면 저감도 DFR 사용하여 이루어지며;
    상기 셀커팅선가공과정(100) 이전 또는 이후에 글라스셀(13)의 전면부에 에칭패턴을 형성하는 에칭패턴가공과정(900)이 이루어지되,
    상기 에칭패턴가공과정(900)은 글라스원판(11)의 양면에 광반응에 의하여 글라스원판(11)의 에칭패턴 형성부위만이 노출될 수 있게 현상되는 DFR(Dry Film PhotoResist)을 라미네이팅하는 에칭패턴DFR양면라미단계(910)와 상기 에칭패턴DFR양면라미단계(910)를 통하여 DFR이 라미네이팅된 글라스원판(11)의 상하면 양면에 설계된 에칭패턴에 따라 포토마스크(21)를 매개로 자외선을 조사하는 에칭패턴전면조광단계(920); 상기 글라스원판(11)에 DFR을 밀착시켜 현상과 에칭과정에 DFR의 들뜸이 방지되게 가압 밀착하는 에칭패턴프리베이크단계(930); 상기 셀커팅노광단계(120)를 통하여 자외선이 노광되지 않은 DFR을 현상에 의하여 제거하는 에칭패턴현상단계(940); 상기 에칭패턴현상단계(940)를 통하여 현상에 의하여 약화된 DFR을 글라스원판(11)에 밀착되게 가압하는 에칭패턴하드브레이크단계(950); 상기 에칭패턴현상단계(940)를 통하여 노출된 글라스원판(11)의 에칭패턴 형성면을 에칭액으로 녹여 셀커팅선(31)을 형성하는 에칭팬턴글라스에칭단계 및 상기 에칭팬턴글라스에칭단계 후 글라스원판(11)에 잔류한 DFR을 박리액에 의하여 제거하는 에칭패턴DFR박리단계(970)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법.

  2. 제 1 항에 있어서;
    상기 인쇄패턴형성과정(400)은 인쇄패턴이 형성된 인쇄마스크로 글라스시트(12)의 배면에 열경화성 컬러잉크로 패턴을 인쇄하여 인쇄패턴층을 형성하는 패턴인쇄단계(410)와 상기 패턴인쇄단계(410) 후 상기 글라스시트(12)의 인쇄패턴층의 상면으로 패턴멀티증착층(42)을 형성하는 인쇄멀티증착단계(420), 광이 투과되는 글라스셀(13)의 중앙 투과영역을 제외한 멀리증착층의 상면에 베이스인쇄층(43)을 형성하는 베이스인쇄단계(430), 상기 베이스인쇄단계(430)를 통하여 베이스인쇄층(43)이 형성되지 않은 글라스셀(13)을 중앙 투과영역에 형성된 패턴멀티증착층(42)을 에칭제거하는 패턴멀티에칭단계(440)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법.
  3. 제 2 항에 있어서;
    상기 패턴인쇄단계(410)는 인쇄마스크를 이용하여 열경화성 블랙 또는 컬러잉크를 인쇄하고, 100~150℃의 열풍을 30~60분 동안 건조하여 이루어지며, 상기 인쇄마스크는 치수안정성과 글라스시트(12)의 패턴인쇄부분과 패턴 비인쇄부분이 명확하게 분리 형성되게 스테인레스인쇄마스크로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법.
  4. 제 2 항에 있어서;
    상기 베이스인쇄단계(430)는 열경화성 블랙 또는 컬러잉크를 인쇄하고, 100~150℃의 열풍을 30~60분 동안 건조하여 베이스인쇄층(43)을 형성하는 것으로서, 상기 베이스인쇄층(43)의 외측 테두리는 분리형성될 글라스셀(13)의 테두리보다 내측으로 0.2mm 작게 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법.
  5. 제 2 항에 있어서;
    상기 패턴멀티에칭단계(440)는 40~70℃ 알카리성 에칭액에 5~10분간 침식하여 베이스인쇄층(43)이 형성되지 않은 부분에 형성된 멀티층으로 에칭제거하되, 상기 알카리성 에칭액은 글라스시트(12)의 표면을 손상시키지 않게 Ph12.0 이상의 산도를 갖게 형성한 것으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄패턴을 갖는 스마트폰 카메라용 윈도우글라스 제조방법.

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