KR101922184B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

기판 처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101922184B1
KR101922184B1 KR1020170094081A KR20170094081A KR101922184B1 KR 101922184 B1 KR101922184 B1 KR 101922184B1 KR 1020170094081 A KR1020170094081 A KR 1020170094081A KR 20170094081 A KR20170094081 A KR 20170094081A KR 101922184 B1 KR101922184 B1 KR 101922184B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
shutter
stages
ultrasonic
exemplary embodiments
substrate processing
Prior art date
Application number
KR1020170094081A
Other languages
English (en)
Inventor
김기철
최봉만
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020170094081A priority Critical patent/KR101922184B1/ko
Priority to CN201810805556.6A priority patent/CN109300804B/zh
Application granted granted Critical
Publication of KR101922184B1 publication Critical patent/KR101922184B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
    • H01L21/67178—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers vertical arrangement

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 연속적으로 배치되는 스테이지들과, 상기 스테이지들 사이를 차단하는 셔터, 및 상기 스테이지들 사이에 상기 셔터가 위치할 때 상기 셔터를 향하여 상기 셔터의 정렬을 위한 힘을 제공하도록 상기 스테이지들 측면 각각에 구비되는 정렬부를 포함할 수 있다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for processing a substrate}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 연속적으로 배치되는 스테이지들 사이를 차단할 수 있는 셔터를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
평판 디스플레이(Flat Panel Display : FPD) 소자의 제조에서는 연속적으로 배치되는 스테이지들을 구비하는 기판 처리 장치를 사용하기도 한다. 언급한 기판 처리 장치의 예로서는 60도 온도 구간을 제공하는 스테이지 및 110도 온도 구간을 제공하는 스테이지가 연속적으로 배치되는 베이킹 장치를 들 수 있다.
그리고 연속적으로 배치되는 스테이지들은 공정 수행시 서로에게 영향을 끼칠 수 있기 때문에 셔터(shutter) 등을 사용하여 차단할 필요가 있다.
그러나 종래의 셔터는 주로 스윙 방식으로 구동하도록 형성되기 때문에 설치 공간을 많이 차지하는 문제점이 있고, 스테이지들이 배치되는 챔버의 벽체와 부딪침에 의해 파티클을 발생시킬 수 있는 문제점이 있다.
본 발명의 일 과제는 기판을 대상으로 하는 공정이 이루어지는 공간을 차단하는 셔터를 정렬하기 위한 정렬부를 간소한 구조를 갖도록 형성하는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 과제는 연속적으로 배치되는 스테이지들 사이를 차단하는 셔터를 정렬하기 위한 정렬부를 간소한 구조를 갖도록 형성하는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 과제는 연속적으로 배치되는 초음파 스테이지들 사이를 차단하는 셔터를 정렬하기 위한 정렬부를 간소한 구조를 갖도록 형성하는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 집적회로 소자로 제조하기 위한 기판을 대상으로 하는 공정이 이루어지는 공간을 외부와 차단시킬 수 있는 셔터, 및 상기 셔터를 사용하여 상기 공간을 외부와 차단시킬 때 상기 셔터가 정렬될 수 있게 상기 셔터 양쪽을 향하여 힘을 제공하도록 구비되는 정렬부를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 기판을 대상으로 하는 공정이 이루어지는 공간은 공정 챔버를 포함할 수 있고, 상기 공정 챔버의 일측에는 상기 기판의 출입을 위한 출입부가 구비될 수 있고, 상기 셔터는 상기 출입부를 차단할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 공정 챔버는 상기 출입부가 서로 마주하면서 연속적으로 배치될 수 있고, 상기 셔터는 연속적으로 배치되는 공정 챔버 사이의 출입부를 차단하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 셔터는 수직 방향으로 구동하여 상기 공정이 이루어지는 공간을 차단하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 셔터는 하부에서 상부로 구동하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 셔터는 박막 플레이트 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 정렬부는 상기 셔터를 향하여 초음파를 제공하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 정렬부는 상기 셔터를 향하여 에어를 제공하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 정렬부는 상기 셔터를 향하여 동일한 힘을 제공하도록 구비될 수 있다.
상기 본 발명의 다른 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 연속적으로 배치되는 스테이지들과, 상기 스테이지들 사이를 차단하는 셔터, 및 상기 스테이지들 사이에 상기 셔터가 위치할 때 상기 셔터를 향하여 상기 셔터의 정렬을 위한 힘을 제공하도록 상기 스테이지들 측면 각각에 구비되는 정렬부를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 셔터는 상기 스테이지들 사이를 수직 방향으로 구동하여 상기 스테이지들 사이를 차단하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 셔터는 상기 스테이지들 하부에서 상부로 구동하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 셔터는 박막 플레이트 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 정렬부는 상기 셔터를 향하여 초음파를 제공하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 정렬부는 상기 셔터를 향하여 동일한 힘을 제공하도록 구비될 수 있다.
상기 본 발명의 또 다른 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 초음파를 이용하여 기판을 부상시키는 초음파 스테이지들 사이를 차단하는 셔터, 및 상기 초음파 스테이지들 사이에 상기 셔터가 위치할 때 상기 셔터를 향하여 상기 셔터의 정렬을 위한 초음파를 제공하도록 상기 초음파 스테이지들 측면 각각에 형성되는 초음파 정렬부를 구비할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 셔터는 상기 초음파 스테이지들 사이를 수직 방향으로 구동하여 상기 초음파 스테이지들 사이를 차단하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 셔터는 상기 스테이지들 하부에서 상부로 구동하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 셔터는 박막 플레이트 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 초음파 정렬부는 상기 셔터를 향하여 동일한 세기의 초음파를 제공하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 비접촉 방식으로 정렬을 위한 힘을 제공하는 정렬부를 구비함으로써 기판을 대상으로 하는 공정이 이루어지는 공간을 차단하기 위한 셔터를 박박 플레이트 구조를 갖도록 구비할 수 있고, 특히 스테이지들 사이를 차단하기 위한 셔터를 박막 플레이트 구조를 갖도록 구비할 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 좁은 공간에도 셔터의 설치가 가능하기 때문에 설치를 위한 공간적 제약을 받지 않는 이점이 있고, 또한 비접촉 방식으로 정렬이 이루어지기 때문에 셔터가 챔버의 벽체 등에 부딪치는 상황을 최소화할 수 있는 이점이 있다.
다만, 본 발명의 효과는 상기 언급한 효과에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 도면이다.
도 2는 예시적인 실시예들에 따른 초음파 스테이지를 구비하는 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 도면이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
먼저 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 기판을 대상으로 하는 공정이 이루어지는 공간을 구비할 수 있다.
여기서, 기판은 집적회로 소자로 제조하기 위한 것으로써, 반도체 소자로 제조하기 위한 기판, 평판 디스플레이 소자로 제조하기 위한 기판 등일 수 있다.
또한, 공정이 이루어지는 공간은 기판이 위치하는 공정 챔버로써, 진공 챔버, 가열 챔버 등을 포함할 수 있다. 그리고 공정 챔버의 일측, 타측 또는 양측에는 기판의 출입을 위한 출입부가 구비될 수 있다.
여기서, 공정 챔버는 적어도 두 개가 연속적으로 배치될 수 있고, 이 경우에는 출입부가 서로 마주하게 배치될 수 있다. 공정 챔버 내에는 기판이 안착되는 스테이지 등이 배치될 수 있고, 하나의 공정 챔버 내에 적어도 두 개의 스테이지가 연속적으로 배치될 수 있거나, 공정 챔버 각각에 하나의 스테이지가 배치될 수 있다. 특히, 공정 챔버 각각에 하나의 스테이지가 배치될 경우에는 출입부를 통하여 스테이지가 연속적으로 위치하게 배치될 수 있을 것이다.
그리고 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 기판을 대상으로 하는 공정이 이루어지는 공간을 외부와 차단시킬 수 있는 셔터 및 셔터를 사용하여 언급한 공간을 외부와 차단시킬 때 셔터가 정렬될 수 있게 셔터 양쪽을 향하여 힘을 제공하도록 구비되는 정렬부를 포함할 수 있다.
특히, 셔터는 언급한 출입부를 차단하도록 구비될 수 있는 것으로써, 공정 챔버의 출입부가 서로 마주하면서 연속적으로 배치될 경우 셔터는 연속적으로 배치되는 공정 챔버 사이의 출입부를 차단하도록 구비될 수 있다. 이때, 셔터는 수직 방향으로 구동하여 공정이 이루어지는 공간, 즉 공정 챔버 사이를 차단하도록 구비될 수 있다.
또한, 셔터는 하부에서 상부로 구동하도록 구비될 수 있고, 박막 플레이트 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
그리고 정렬부는 언급한 바와 같이 셔터가 정렬될 수 있게 셔터 양쪽을 향하여 힘을 제공하도록 구비되는 것으로써, 셔터를 향하여 초음파를 제공하거나 또는 에어를 제공하도록 구비될 수 있다. 그리고 정렬부는 셔터를 향하여 동일한 힘을 제공하도록 구비될 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 도면이다.
도 1을 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 연속적으로 배치되는 스테이지(11)들을 포함할 수 있다. 연속적으로 배치되는 스테이지(11)들은 챔버 내부에 위치하게 구비될 수 있다.
스테이지(11)들이 연속적으로 배치되기 때문에 공정 수행시 스테이지(11)들 사이를 차단하지 않을 경우 서로의 공정 조건에 영향을 끼칠 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 공정 수행시 스테이지(11)들 사이를 차단하기 위한 셔터(13)를 구비할 수 있다. 이에, 셔터(13)를 사용하여 기판의 이송시에는 스테이지(11)들 사이를 개방시키고, 공정 수행시에는 스테이지(11)들 사이를 차단시킨다.
스테이지(11)들은 기판의 이송시 안정성을 확보함과 더불어 스테이지(11)들 사이에서 발생하는 온도 편차를 최소해야 하기 때문에 가능한 근접하게 배치해야 한다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 셔터(13)를 박막 플레이트 구조를 갖도록 구비할 수 있다. 즉, 가능한 근접하게 배치되는 스테이지(11)들 사이를 차단해야 하기 때문에 언급한 바와 같이 셔터(13)를 박막 플레이트 구조를 갖도록 구비하는 것이다.
셔터(13)가 박막 플레이트 구조를 가지기 때문에 셔터(13)는 스테이지(11)들 사이를 수직 방향으로 구동하여 스테이지(11)들 사이를 차단하도록 구비될 수 있다. 셔터(13)의 구동은 주로 실린더 등과 같은 구동 부재(17)에 의해 이루어질 수 있다.
그리고 기판 처리 장치(100)가 기판을 가열하기 위한 베이킹 장치일 경우에는 스테이지(11)들 상부에 흄이 빈번하게 발생할 수 있기 때문에 셔터(13)는 스테이지(11)들 하부에 위치하게 구비될 수 있다. 이에, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 스테이지(11)들 하부에서 상부로 구동하도록 구비될 수 있다.
이와 같이, 셔터(13)가 박막 플레이트 구조로 구비됨과 아울러 스테이지(11)들 사이를 수직 방향으로 구동하기 때문에 스테이지(11)들의 차단시 셔터(13)가 스테이지(11)들 측면에 부딪칠 수 있을 것이다. 이에, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 스테이지(11)들 사이에 셔터(13)가 위치할 때 셔터(13)를 정렬시키기 위한 정렬부(15)를 구비할 수 있다.
정렬부(15)는 스테이지(11)들 측면 각각에서 셔터(13)를 향하여 정렬을 위한 힘을 제공하도록 구비될 수 있다. 따라서 정렬부(15)는 스테이지(11)들 측면 각각에 위치하도록 구비될 수 있다.
아울러, 정렬부(15)는 스테이지(11)들 측면 각각에서 셔터(13)를 향하여 초음파를 제공하도록 구비될 수 있다. 즉, 정렬부(15)는 스테이지(11)들 측면 각각에서 셔터(13) 양측을 향하여 초음파 등과 같은 정렬을 위한 힘을 제공하도록 구비되는 것이다.
그리고 셔터(13) 양측을 향하여 초음파 등과 같은 정렬을 위한 힘을 제공할 때 서로 다른 힘이 제공될 경우 셔터(13)의 정렬이 깨질 수 있다. 이에, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)에서의 정렬부(15)는 셔터(13) 양측을 향하여 동일한 힘이 제공되도록 구비될 수 있다.
언급한 바와 같이, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 박막 플레이트 구조를 갖도록 셔터(13)를 구비함으로서 스테이지(11)들을 최대한 근접하게 배치할 수 있기 때문에 기판의 이송시 안정성을 확보함과 더불어 스테이지(11)들 사이에서 발생하는 온도 편차를 최소화할 수 있을 것이다.
또한, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 비접촉 방식으로 정렬을 위한 힘을 제공하는 정렬부(15)를 구비함으로서 셔터(13)와의 접촉에 의한 파티클의 발생을 최소화할 수 있기 때문에 공정 안정성을 확보할 수 있을 것이다.
이하, 초음파 스테이지를 구비하는 기판 처리 장치에 대하여 설명하기로 한다.
도 2는 예시적인 실시예들에 따른 초음파 스테이지를 구비하는 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 도면이다.
도 2를 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(200)(이하, '초음파 기판 처리 장치'라 한다)는 초음파를 사용하여 기판을 부상시키는 초음파 스테이지(21)들이 연속적으로 배치되는 구조를 가질 수 있다.
초음파 기판 처리 장치(200)의 예로서는 60도 온도 구간을 제공하는 초음파 스테이지(21) 및 110도 온도 구간을 제공하는 초음파 스테이지(21)가 연속적으로 배치되는 베이킹 장치를 들 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 초음파 기판 처리 장치(200) 또한 연속적으로 배치되는 초음파 스테이지(21)들 사이를 차단하기 위한 셔터(23)를 구비할 수 있다. 그리고 초음파 기판 처리 장치(200)에서의 셔터(23)는 도 1의 기판 처리 장치(100)의 셔터(13)와 동일한 구조를 갖기 때문에 그 상세한 설명은 생략하기로 한다. 미설명 부호 27은 도 1의 구동 부재(17)와 동일하다.
예시적인 실시예들에 따른 초음파 기판 처리 장치(200)는 초음파 스테이지(21)들 사이에 셔터(23)가 위치할 때 셔터(23)를 정렬하기 위한 정렬부(25)를 구비할 수 있다. 정렬부(25)는 셔터(23)를 향하여 초음파를 제공하도록 구비될 수 있다.
특히, 예시적인 실시예들에 따른 초음파 기판 처리 장치(200)는 초음파 스테이지(21)를 구비하기 때문에 셔터(23)의 정렬을 위한 초음파를 제공하는 정렬부(25)를 별도로 구비하여 초음파 스테이지(21)들 측면에 설치할 필요가 없다. 즉, 측면에서도 초음파를 제공하는 구조를 갖도록 초음파 스테이지(21)들을 형성하면 되는 것이다. 다시 말해, 셔터(23)가 초음파 스테이지(21)들 사이에 위치할 때 셔터(23)를 향하여 초음파를 제공하는 구조를 갖는 초음파 스테이지(21)들을 구비하면 정렬부(25)가 자연스럽게 형성될 수 있는 것이다.
또한, 초음파 기판 처리 장치(200)에서의 정렬부(25)의 경우에도 셔터(23) 양측을 향하여 동일한 힘이 제공되도록 구비될 수 있다.
이와 같이, 예시적인 실시예들에 따른 초음파 기판 처리 장치(200)도 박막 플레이트 구조를 갖도록 셔터(23)를 구비함으로서 스테이지들을 최대한 근접하게 배치할 수 있기 때문에 기판의 이송시 안정성을 확보함과 더불어 스테이지들 사이에서 발생하는 온도 편차를 최소화할 수 있을 것이다. 아울러, 비접촉 방식으로 정렬을 위한 힘을 제공하는 정렬부(25)를 구비함으로서 셔터(23)와의 접촉에 의한 파티클의 발생을 최소화할 수 있기 때문에 공정 안정성을 확보할 수 있을 것이다.
예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 스테이지들이 연속적으로 배치되는 구조에 이용할 수 있을 것이고, 특히 서로 다른 온도 구간을 제공하는 초음파 스테이지들이 연속적으로 배치되는 베이킹 장치 등에 이용할 수 있을 것이다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
11, 21 : 스테이지 13, 23 : 셔터
15 , 25 : 정렬부 17, 27 : 구동 부재
100, 200 : 기판 처리 장치

Claims (21)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 초음파를 이용하여 기판을 부상시키는 초음파 스테이지들이 연속적으로 배치되는 기판 처리 장치에 있어서,
    상기 초음파 스테이지들 사이를 차단하는 셔터; 및
    상기 초음파 스테이지들 사이에 상기 셔터가 위치할 때 상기 셔터를 향하여 상기 셔터의 정렬을 위한 초음파를 제공하도록 상기 초음파 스테이지들 측면 각각에 형성되는 초음파 정렬부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 셔터는 상기 초음파 스테이지들 사이를 수직 방향으로 구동하여 상기 초음파 스테이지들 사이를 차단하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 셔터는 상기 스테이지들 하부에서 상부로 구동하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  20. 제18 항에 있어서,
    상기 셔터는 박막 플레이트 구조를 갖도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  21. 제17 항에 있어서,
    상기 초음파 정렬부는 상기 셔터를 향하여 동일한 세기의 초음파를 제공하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
KR1020170094081A 2017-07-25 2017-07-25 기판 처리 장치 KR101922184B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170094081A KR101922184B1 (ko) 2017-07-25 2017-07-25 기판 처리 장치
CN201810805556.6A CN109300804B (zh) 2017-07-25 2018-07-20 基板处理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170094081A KR101922184B1 (ko) 2017-07-25 2017-07-25 기판 처리 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101922184B1 true KR101922184B1 (ko) 2018-11-26

Family

ID=64603036

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170094081A KR101922184B1 (ko) 2017-07-25 2017-07-25 기판 처리 장치

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR101922184B1 (ko)
CN (1) CN109300804B (ko)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3122061B2 (ja) 1997-07-22 2001-01-09 株式会社カイジョー 超音波式浮揚搬送機構を備えたクラスターツール型枚葉処理装置
JP2006046489A (ja) * 2004-08-04 2006-02-16 Nippon Valqua Ind Ltd 真空用ゲート弁
KR100633637B1 (ko) 1998-05-20 2006-10-11 에이케이티 가부시키가이샤 자기 구동 수단을 가지는 기판 이송 셔틀
JP3842203B2 (ja) 2002-11-07 2006-11-08 株式会社荏原製作所 基板処理装置
JP2015065352A (ja) * 2013-09-26 2015-04-09 東レエンジニアリング株式会社 基板浮上装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3078231B2 (ja) * 1995-08-22 2000-08-21 株式会社アルテクス 超音波振動接合装置
JP5620090B2 (ja) * 2008-12-15 2014-11-05 キヤノンアネルバ株式会社 基板処理装置、熱処理基板の製造方法及び半導体デバイスの製造方法
KR100950929B1 (ko) * 2009-08-14 2010-04-01 최철규 발광 다이오드 제조를 위한 리프트-오프 장치의 침전조
CN203116250U (zh) * 2012-12-27 2013-08-07 格力电器（中山）小家电制造有限公司 加热装置及超声波加湿器

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3122061B2 (ja) 1997-07-22 2001-01-09 株式会社カイジョー 超音波式浮揚搬送機構を備えたクラスターツール型枚葉処理装置
KR100633637B1 (ko) 1998-05-20 2006-10-11 에이케이티 가부시키가이샤 자기 구동 수단을 가지는 기판 이송 셔틀
JP3842203B2 (ja) 2002-11-07 2006-11-08 株式会社荏原製作所 基板処理装置
JP2006046489A (ja) * 2004-08-04 2006-02-16 Nippon Valqua Ind Ltd 真空用ゲート弁
JP2015065352A (ja) * 2013-09-26 2015-04-09 東レエンジニアリング株式会社 基板浮上装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN109300804A (zh) 2019-02-01
CN109300804B (zh) 2022-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI836026B (zh) 基板升降機構、基板支撐器及基板處理裝置
KR101922184B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20100061214A (ko) 진공차단 슬롯밸브 및 이를 구비한 진공차단 도어
US9732881B2 (en) Gate valve and substrate processing system
KR101171990B1 (ko) 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치.
CN100595885C (zh) 等离子加工设备
KR101832723B1 (ko) 진공 게이트 밸브
US20200006040A1 (en) Dry etching device and electrode thereof
KR20190074175A (ko) 기판처리장치 및 이를 이용한 기판처리방법
CN107919262B (zh) 基板处理装置
KR102234010B1 (ko) 게이트 밸브 및 이를 갖는 기판 처리 시스템
KR20050081426A (ko) 평판표시소자 제조장치
US5474643A (en) Plasma processing apparatus
KR101472447B1 (ko) 기판 진공건조장치
KR20180123789A (ko) 통합 플레이트 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR101643329B1 (ko) 기판 냉각 장치
KR102138675B1 (ko) 기판처리장치
KR100898019B1 (ko) 기판처리장치
KR102661724B1 (ko) 어댑터 어셈블리
KR101466743B1 (ko) 박판 합착장치
KR20180119279A (ko) 통합 플레이트 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
JP2010040988A (ja) 真空チャンバー
KR20190046440A (ko) 듀얼 게이트 밸브를 포함하는 반도체 장비
KR102207154B1 (ko) 게이트 밸브
KR20110079241A (ko) 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant