KR101915053B1 - All-in-one steam nozzle forming liquid curtain - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시 예에 따른, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐은 외부공간으로부터 내부공간을 분리시키는 몸체, 상기 몸체 내부로 스팀을 들이는 스팀유입관, 상기 몸체의 외부에 위치하여, 액체커튼을 형성하는 액체커튼형성부; 및 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 분사하는 분사구를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the liquid curtain-forming integrated type steam nozzle includes a body separating an inner space from an outer space, a steam inlet pipe for introducing steam into the body, and a liquid curtain A liquid curtain forming part And an ejection opening for ejecting the steam to an object to be cleaned.

Description

액체커튼형성 일체형 스팀노즐{ALL-IN-ONE STEAM NOZZLE FORMING LIQUID CURTAIN}{ALL-IN-ONE STEAM NOZZLE FORMING LIQUID CURTAIN}

본 발명은 반도체 제조설비 및 이를 이용한 제조방법에 관한 것으로서, 반도체 기판의 세정장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 세정에 이용되는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing facility and a manufacturing method using the same, and relates to a cleaning apparatus for a semiconductor substrate. More particularly, to a liquid curtain-formed integral type steam nozzle used for cleaning.

반도체 장치가 고집적화 되면서 기판 상에 구현해야 하는 회로의 패턴 역시 점차 미세화 되고 있다. 그래서 기판 상의 패턴은 아주 미세한 오염물에 의해서도 반도체 소자의 불량을 발생하게 할 수 있으며, 이에 따라 세정공정의 중요성이 더욱 더 부각되고 있다.As the semiconductor device becomes highly integrated, the circuit pattern to be implemented on the substrate is also becoming finer. Thus, the pattern on the substrate can cause defective semiconductor devices even with very fine contaminants, and the importance of the cleaning process is becoming more and more important.

이러한 세정공정에서 일반적으론, 초음파 발진기를 거친 순수를 분사하거나, 고압 노즐을 사용하여 순수를 분사한다. 그러나 이러한 초음파가 인가되거나 또는 고압의 순수 등 만을 이용해서 기판을 세정하면, 기판의 표면에 단순 부착되어 있는 오염물은 제거할 수 있으나, 포토레지스트 같은 기판의 표면에 강하게 결합되어 있거나 패턴에 강하게 부착되어 있는 오염물의 경우에는 이를 단시간 내에 효과적으로 제거할 수 없다. 따라서 제거되지 않은 오염물에 의해서 후속 공정에서 막질의 균일도를 저하시키거나 기판의 결함을 초래할 수 있다. In this cleaning process, pure water is generally sprayed through an ultrasonic oscillator, or pure water is sprayed using a high-pressure nozzle. However, if the substrate is cleaned by applying such ultrasonic waves or using only high-pressure pure water, contaminants that are simply adhered to the surface of the substrate can be removed, but they are strongly bonded to the surface of the substrate such as a photoresist, In the case of contaminants, it can not be effectively removed in a short time. Thus, contaminants that have not been removed can reduce the uniformity of the film quality in subsequent processes or can lead to substrate defects.

이에 따라 잘 제거되지 않는 오염물을 제거하기 위해서 분사하는 순수의 압력을 높여왔다. 그러나 분사압력이 높아짐에 따라서 미세한 반도체 회로의 패턴들이 무너지고 이로 인해 반도체 회로가 제대로 작동하지 않는 문제가 생겼다.Accordingly, the pressure of the pure water injected has been increased in order to remove contaminants which can not be removed well. However, as the injection pressure increases, the patterns of the fine semiconductor circuits are broken down, which causes a problem that the semiconductor circuit does not operate properly.

또한 분사압력을 높인다 하여도, 순수의 입자 크기 자체가 반도체 회로의 패턴간의 사이사이에 들어가기에 충분히 작지 않기 때문에, 세정이 불가능한 패턴간의 사이가 여전히 존재한다는 문제가 있다.Further, even if the injection pressure is increased, since the particle size of the pure water itself is not small enough to be interposed between the patterns of the semiconductor circuit, there is still a problem that there is still a gap between the patterns that can not be cleaned.

최근, 순수를 분사하는 세정방법에서의 이 두 가지 문제점들을 해결하기 위해서, 입자 크기가 충분히 작고, 세정에 충분한 열에너지를 가지고 있는 스팀을 이용한 세정방법을 실시해 왔다. 그러나 여기에도, 스팀이 세정노즐로부터 분사되어 기판세정을 수행한 후에, 오염물을 포함하게 되고, 이후, 오염물을 포함한 스팀이 사방으로 비산되어, 이미 세정이 완료된 기판에 재오염을 야기할 수 있다는 문제가 있다.In recent years, in order to solve these two problems in a cleaning method of spraying pure water, a cleaning method using steam having a particle size sufficiently small and sufficient thermal energy for cleaning has been carried out. However, here too, there is a problem that after steam is sprayed from the cleaning nozzle to perform substrate cleaning, it contains contaminants, and then steam containing contaminants is scattered in all directions, which may cause re-contamination of already cleaned substrates have.

본 발명의 목적은, 기판세정을 수행한 후에 오염물을 포함하게 되는 스팀이, 이미 세정이 완료된 기판으로 비산되는 것을 방지하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 제공하는 데 있다.It is an object of the present invention to provide a liquid curtain-formed integral steam nozzle which prevents steam, which is to contain contaminants after carrying out substrate cleaning, from splashing onto already cleaned substrates.

본 발명의 다른 목적은, 기판세정을 수행한 후에, 오염물을 포함하는 스팀이 이미 세정이 완료된 기판으로 비산되지 않고 기판으로부터 제거되는, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a liquid curtain-formed integral steam nozzle in which steam containing contaminants is removed from the substrate without being scattered to the substrate already cleaned after the substrate cleaning is performed.

상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 일 실시 예에 따른, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐은 외부공간으로부터 내부공간을 분리시키는 몸체, 상기 몸체 내부로 스팀을 들이는 스팀유입관, 상기 몸체의 외부에 위치하여, 액체커튼을 형성하는 액체커튼형성부, 및 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 분사하는 분사구를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid curtain-forming integrated type steam nozzle comprising: a body separating an inner space from an outer space; a steam inlet pipe for drawing steam into the body; A liquid curtain forming unit positioned outside the liquid curtain forming unit to form a liquid curtain, and an ejection opening for ejecting the steam to an object to be cleaned.

실시 예에 있어서, 상기 몸체 내부로 순수 또는 오존수를 들이는 제1유입관을 더 포함하여, 상기 스팀, 상기 순수 및 상기 오존수 중 적어도 하나 이상을 상기 분사구를 통하여 분사할 수 있다.In one embodiment of the present invention, at least one of the steam, the pure water, and the ozonated water may be injected through the injection port, the first inlet pipe injecting pure water or ozonated water into the body.

실시 예에 있어서, 상기 순수는 탈이온수(DIW, deionized water) 및 초순수(UPW, ultrapure water) 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다.In an embodiment, the pure water may include at least one of deionized water (DIW) and ultrapure water (UPW).

실시 예에 있어서, 상기 몸체 내부로 세정기체를 들이는 추가유입관을 더 포함하여, 상기 스팀 및 상기 세정기체 중 적어도 하나 이상을 상기 분사구를 통하여 분사할 수 있다.In an exemplary embodiment, at least one of the steam and the cleaning gas may be injected through the injection port, further comprising an additional inlet pipe for injecting a cleaning gas into the body.

실시 예에 있어서, 상기 세정기체는 청정공기(CDA, clean dry air), 질소(N2), 산소(O2) 및 스팀 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다.In an embodiment, the cleaning gas may include at least one of clean air (CDA), nitrogen (N 2 ), oxygen (O 2 ), and steam.

실시 예에 있어서, 상기 액체커튼은 순수 및 오존수 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다.In an embodiment, the liquid curtain may comprise at least one of pure water and ozonated water.

실시 예에 있어서, 상기 액체커튼형성부는 상기 분사구의 장축과 나란한 방향의 위치로, 상기 액체커튼을 분사할 수 있다.In the embodiment, the liquid curtain forming portion may inject the liquid curtain at a position in a direction parallel to the long axis of the injection port.

실시 예에 있어서, 상기 액체커튼형성부는 상기 분사구의 진행방향으로, 상기 분사구의 전단 및 후단 중 적어도 하나 이상에 위치할 수 있다.In an embodiment, the liquid curtain forming part may be located at least one of a front end and a rear end of the injection port in the advancing direction of the injection port.

실시 예에 있어서, 상기 몸체의 외부에, 상기 분사구로부터 분사된 상기 스팀 및 상기 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상을 흡입하는 석션부(suction)를 더 포함할 수 있다.In an embodiment, the apparatus may further include a suction portion for sucking at least one of the steam sprayed from the jetting nozzle and the contaminants separated from the object, outside the body.

실시 예에 있어서, 상기 석션부는 상기 분사구의 장축과 나란한 방향의 위치로부터, 상기 스팀 및 상기 오염물 중 적어도 하나 이상을 흡입할 수 있다.In an embodiment, the suction section may suck at least one of the steam and the contaminants from a position in a direction parallel to the long axis of the injection port.

실시 예에 있어서, 상기 석션부는 상기 분사구의 진행방향으로, 상기 분사구의 전단 및 후단 중 적어도 하나 이상에 위치할 수 있다.In an embodiment, the suction portion may be located at least one of a front end and a rear end of the injection port in a traveling direction of the injection port.

실시 예에 있어서, 상기 액체커튼형성부는 상기 분사구의 진행방향으로, 상기 분사구의 전단에 위치하고, 상기 석션부는 상기 분사구의 진행방향으로, 상기 분사구의 후단에, 위치할 수 있다.In an embodiment, the liquid curtain forming portion may be located at a front end of the injection opening in the advancing direction of the injection opening, and the suction portion may be located at a rear end of the injection opening in the advancing direction of the injection opening.

실시 예에 있어서, 상기 액체커튼형성부는 상기 분사구의 진행방향으로, 상기 분사구의 전단 및 후단에 위치하고, 상기 석션부는 상기 액체커튼형성부로부터 형성된 상기 액체커튼보다 바깥단에 위치할 수 있다.In an embodiment, the liquid curtain forming portion may be located at a front end and a rear end of the jetting port in a traveling direction of the jetting port, and the suction portion may be located at an outer end than the liquid curtain formed from the liquid curtain forming portion.

실시 예에 있어서, 상기 석션부는 석션후드 안쪽으로 흡입한 상기 스팀 및 상기 오염물 중 적어도 하나 이상을 배기하는 배기관을 포함할 수 있다.In an embodiment, the suction unit may include an exhaust pipe for exhausting at least one of the steam and the contaminant that is sucked into the suction hood.

실시 예에 있어서, 상기 몸체는 제1몸체 및 제2몸체로 구성되어, 닫힌 공간인 상기 몸체 내부를 형성할 수 있다.In an exemplary embodiment, the body may include a first body and a second body, and the body may be formed as a closed space.

실시 예에 있어서, 상기 액체커튼형성부는 상기 스팀을 분사하는 방향에 대하여 0o 내지 90o의 각도를 이루는 액체커튼을 형성할 수 있다.In an embodiment, the liquid curtain forming portion may form a liquid curtain having an angle of 0 o to 90 o with respect to a direction of spraying the steam.

본 발명에 따른 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 효과에 대해 설명하면 다음과 같다.The effect of the integral liquid type curtain-forming steam nozzle according to the present invention will be described as follows.

본 발명의 실시 예들 중 적어도 하나에 의하면, 기판세정을 수행한 후에 오염물을 포함하게 되는 스팀이, 이미 세정이 완료된 기판으로 비산되는 것을 방지할 수 있다.According to at least one of the embodiments of the present invention, it is possible to prevent the steam containing the contaminant from being scattered to the substrate already cleaned after performing the substrate cleaning.

또한, 본 발명의 실시 예들 중 적어도 하나에 의하면, 기판세정을 수행한 후에, 오염물을 포함하는 스팀이 이미 세정이 완료된 기판으로 비산되지 않고 기판으로부터 제거될 수 있다.Further, according to at least one of the embodiments of the present invention, after the substrate cleaning is performed, the steam containing the contaminant can be removed from the substrate without being scattered to the substrate already cleaned.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 사시도이다.
도 3은 본 발명의 다른 일 실시 예에 따른, 석션부를 포함하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 일 실시 예에 따른, 석션부를 포함하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 사시도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 액체커튼형성부는 분사구의 진행방향으로, 분사구의 전단과 후단에 위치하고, 석션부는 액체커튼형성부로부터 형성된 액체커튼보다 바깥단에 위치하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 몸체가 제1몸체 및 제2몸체로 구성되어 닫힌 공간인 몸체 내부를 형성하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 일 실시 예들에 따른, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 저면도이다. (a) 액체커튼형성부는 분사구의 장축방향과 나란한 일단에 위치하고, 석션부는 분사구를 중심으로 해당 일단의 맞은편에 위치하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 저면도이다. (b) 액체커튼형성부는 분사구의 진행방향으로 분사구의 전단, 후단 및 양측면에 위치하고, 석션부는 분사구를 중심으로 액체커튼형성부로부터 형성된 액체커튼보다 바깥단에 위치하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 저면도이다.
도 8는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 액체커튼형성부가 분사된 스팀과 특정범위의 각도를 이루는 액체커튼을 형성하는 것을 나타내는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing a liquid curtain-formed integral-type steam nozzle according to an embodiment of the present invention;
2 is a perspective view of a liquid curtain-forming integral steam nozzle according to one embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing a liquid curtain-formed integral type steam nozzle including a suction portion, according to another embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a liquid curtain-formed integral steam nozzle including a suction portion, according to another embodiment of the present invention.
According to another aspect of the present invention, there is provided a liquid curtain forming apparatus, comprising: a liquid curtain forming unit arranged at a front end and a rear end of a jetting port in a traveling direction of an ejection orifice; 1 is a cross-sectional view showing a single-piece integrated steam nozzle.
FIG. 6 is a cross-sectional view of a liquid curtain-forming integrated type steam nozzle in which a body is formed of a first body and a second body to form a closed space, and FIG.
7 is a bottom view of a liquid curtain-formed integral steam nozzle according to another embodiment of the present invention. (a) The liquid curtain forming portion is located at one end side parallel to the long axis direction of the jetting port, and the suction portion is located at the opposite side of the one end with respect to the jetting port. (b) The liquid curtain-forming portion is located at the front end, the rear end, and both sides of the jetting port in the advancing direction of the jetting port, and the suction portion is located at the outer end of the liquid curtain formed from the liquid curtain- .
8 is a cross-sectional view illustrating forming a liquid curtain with an angle of a certain range with the sprayed liquid curtain forming portion according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals are used to designate identical or similar elements, and redundant description thereof will be omitted. The suffix "module" and " part "for the components used in the following description are given or mixed in consideration of ease of specification, and do not have their own meaning or role. In the following description of the embodiments of the present invention, a detailed description of related arts will be omitted when it is determined that the gist of the embodiments disclosed herein may be blurred. It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are intended to provide further explanation of the invention as claimed. , ≪ / RTI > equivalents, and alternatives.

제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms including ordinals, such as first, second, etc., may be used to describe various elements, but the elements are not limited to these terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

본 출원에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대해 상세히 설명하기로 한다. 본 발명은 본 발명의 정신 및 필수적 특징을 벗어나지 않는 범위에서 다른 특정한 형태로 구체화될 수 있음은 당업자에게 자명하다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a liquid curtain-formed integral-type steam nozzle according to an embodiment of the present invention;

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐은 외부공간으로부터 내부공간을 분리시키는 몸체(100), 몸체 내부로 스팀(20)을 들이는 스팀유입관(204), 몸체(100)의 외부에 위치하여, 액체커튼(510)을 형성하는 액체커튼형성부(500) 및 스팀(20)을 세정하고자 하는 대상에 분사하는 분사구(222)을 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the liquid curtain-forming integrated type steam nozzle includes a body 100 separating an inner space from an outer space, a steam inlet pipe 204 for drawing steam into the body, a body 100, A liquid curtain forming part 500 which forms a liquid curtain 510 and a jet opening 222 for jetting the steam 20 onto an object to be cleaned.

본 발명의 일 실시 예를 상세히 설명하자면 다음과 같다. 몸체(100)의 외부로부터 스팀유입관(204)을 통하여 스팀(20)을 몸체 내부(101)로 들인다. 그러나 이는 몸체 내부(101)에 스팀을 포함하기 위하므로, 스팀(20)을 몸체(100)의 외부로부터 들이지 않고, 몸체 내부(101)에서 직접 스팀(20)을 생성할 수도 있다.An embodiment of the present invention will be described in detail as follows. The steam 20 is introduced into the inside of the body 101 from the outside of the body 100 through the steam inlet pipe 204. However, since it includes steam in the inside of the body 101, it is possible to generate the steam 20 directly from the inside of the body 101 without allowing the steam 20 from the outside of the body 100.

몸체 내부(101)에 위치하는 스팀(20)은 분사관(220) 및 분사구(222)를 통해서 세정하고자 하는 대상으로 분사된다.The steam 20 located in the inside of the body 101 is injected into the object to be cleaned through the injection pipe 220 and the injection port 222.

한편, 액체커튼형성부(500)는 액체커튼(505)을 형성하기 위한 액체(5)를 들이는 액체유입관(502), 액체커튼(505)을 형성하는 커튼형성제1유닛(522) 및 커튼형성제2유닛(524)을 포함할 수 있다. 해당 액체(5)는 커튼형성제1유닛(522)과 커튼형성제2유닛(524)으로 이루어진 공간으로, 액체유입관(502)을 통하여 유입되어, 커튼형성유닛들(522, 524) 사이에 위치하고, 아랫쪽으로 형성된 얇은 틈을 통하여 커튼형태의 얇은 막으로 분사된다.On the other hand, the liquid curtain forming portion 500 includes a liquid inlet pipe 502 for filling the liquid 5 to form the liquid curtain 505, a curtain-forming first unit 522 for forming the liquid curtain 505, And a curtain-forming second unit 524. The liquid 5 flows into the space formed by the curtain-forming first unit 522 and the curtain-forming second unit 524 through the liquid inflow pipe 502 and flows between the curtain-forming units 522 and 524 And is injected into a curtain-shaped thin film through a thin gap formed at the bottom.

여기서, 얇은 막을 액체커튼(505)이라 하고, 이러한 액체커튼(505)은 스팀을 이용한 세정 시에, 세정을 수행한 후에 오염물을 포함하는 스팀이, 이미 세정이 완료된 대상 또는 세정이 진행될 예정인 대상으로 비산되는 것을 방지할 수 있다.Here, the thin film is referred to as a liquid curtain 505. This liquid curtain 505 is a liquid curtain 505 which, when cleaning using steam, performs a cleaning process on the steam containing contaminants, It is possible to prevent scattering.

또한, 세정하고자 하는 대상에 도달하여 수막을 형성한 액체커튼(505)은 해당 대상으로부터 떨어져 나온 오염물을 수막위에 부유시키고, 해당 오염물은, 해당 대상이 해당 스팀세정의 단계로부터 벗어날 때, 수막과 함께 탈락된다.The liquid curtain 505 which reaches the object to be cleaned and formed with a water film floats the contaminants separated from the object on the water film, and the contaminant is removed from the water curtain when the object is out of the step of cleaning the steam, It is eliminated.

또한, 액체유입관(502)을 통하여 들여오는 액체(5)는 순수 또는 오존수 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. 여기서 순수는 이온을 포함하지 않는 탈이온수(DIW, deionized water)나, 이온과 이온 이외의 불순물들을 포함하지 않는 초순수(UPW, ultrapure water) 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다.Further, the liquid 5 to be introduced through the liquid inlet pipe 502 may include at least one of pure water or ozonated water. The pure water may include at least one of deionized water (DIW) not containing ions or ultrapure water (UPW) containing no impurities other than ions and ions.

한편, 액체유입관(502)을 통하여 오존수를 포함하는 액체가 유입된다면, 분사된 액체커튼(505)은 산소라디칼(O·)과 히드록시라디칼(OH·)을 포함하게 되고, 해당 라디칼들이 오염물들과 화학적 작용을 하여서 세정하고자 하는 대상으로부터 오염물을 분리해내는, 화학적 세정효과를 제공할 수 있다.On the other hand, if a liquid containing ozone water is introduced through the liquid inflow pipe 502, the injected liquid curtain 505 will contain an oxygen radical O · and a hydroxy radical OH ·, To provide a chemical cleaning effect by separating contaminants from the object to be cleaned.

도 1을 참조하면, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐은 몸체 내부(101)로 순수 또는 오존수를 들이는 제1유입관(202)을 더 포함할 수 있다. 순수가 지칭 하는 범위에 대한 설명은 중복되므로 생략한다. 또한, 도 1에 추가로 세정기체를 들이는 추가유입관을 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the liquid curtain-forming integrated steam nozzle may further include a first inlet pipe 202 for injecting pure water or ozonated water into the inside of the body 101. The description of the range referred to pure water is redundant and will be omitted. Further, in Fig. 1, it may further include an additional inflow pipe for sweeping the cleaning gas.

즉, 제1유입관(202) 및 추가유입관을 통해서 순수, 오존수 및 세정기체 중 적어도 하나 이상이 추가유체로서 더 유입될 수 있다. (여기서 유체는 액체 및 기체로 이루어진, 정해진 형태가 없이 흐르는 상태의 물질 총칭이다.) 이로 인해, 스팀과 추가유체를 포함하는 분사유체(30)를 분사구(222)를 통하여 세정하고자 하는 대상에 분사할 수 있다.That is, at least one or more of pure water, ozonated water, and scrubbing gas may be introduced as additional fluid through the first inlet pipe 202 and the additional inlet pipe. (Here, the fluid is a generic term of a state in which the fluid is composed of a liquid and a gas and flows in an unspecified form). Thus, the jetting fluid 30 containing steam and the additional fluid is jetted to the object to be cleaned through the jetting port 222 can do.

또한, 몸체가 스팀(20)과 함께 추가유체를 더 유입함으로써, 몸체 내부로 시간 당 유입되는 총 유체의 부피가 증가한다. 여기서 총 유체는 몸체 내부에 위치하는 스팀(20), 순수, 오존수 및 세정기체의 총합을 지칭한다. 몸체 내부의 총 유체는, 몸체 내부로부터 부피가 증가하기 전과 동일한 시간비율로 배출되기 위해서, 더욱 빠른 유속으로 분사구(222)를 통하여 세정하고자 하는 대상으로 분출된다. 결국, 증가된 유속으로 인한 빠른 분사로 인해 더 높아진 세정효과를 얻을 수 있다.Further, as the body further introduces additional fluid with the steam 20, the volume of total fluid flowing into the body per hour increases. Here, the total fluid refers to the sum of steam (20), pure water, ozonated water, and cleaning gas located inside the body. The total fluid inside the body is ejected to the object to be cleaned through the injection port 222 at a higher flow rate so as to be discharged at the same time ratio as before the volume is increased from the inside of the body. As a result, a higher cleaning effect can be obtained due to the rapid jetting due to the increased flow rate.

도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 사시도이다.2 is a perspective view of a liquid curtain-forming integral steam nozzle according to one embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐은 선형으로 세정할 수 있는 슬릿(slit)형태의 세정노즐일 수 있다. 슬릿형태의 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 경우, 일순간에, 선형형태의 세정영역에 대한 세정이 가능하다. 따라서 이와 같은 세정을 수행하는 슬릿형태의 노즐이, 시간의 흐름에 따라 분사구(222)의 장축과 수직한 방향으로, 세정하고자 하는 대상에 대해 상대속도를 가지고 이동한다면, 일순간에 한 스팟을 세정하는 노즐과 비교하여, 같은 시간 동안에, 세정하고자 하는 대상의 비교적 넓은 면적을 세정할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2, the liquid curtain-forming integrated type steam nozzle may be a cleaning nozzle in the form of a slit that can be linearly cleaned. In the case of a liquid curtain-forming integral-type steam nozzle in the form of a slit, it is possible to clean, in an instant, a linear cleaning area. Therefore, if the slit-shaped nozzle for performing such cleaning moves at a relative speed with respect to the object to be cleaned in the direction perpendicular to the long axis of the jetting port 222 with the passage of time, Compared with the nozzle, during the same time, a relatively large area of the object to be cleaned can be cleaned.

도 1 및 2를 참조하면, 액체커튼형성부(500)는 분사구(222)의 장축과 나란한 방향의 위치로, 액체커튼(505)을 분사할 수 있다. 액체커튼(505)이 분사구(222)와 나란한 방향으로 형성됨으로써, 분사구(222)의 장축으로 분사되는 분사유체(30)의 비산을 효과적으로 막을 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2, the liquid curtain forming portion 500 can jet the liquid curtain 505 to a position in a direction parallel to the long axis of the ejection opening 222. The liquid curtain 505 is formed in a direction parallel to the ejection port 222 to effectively prevent scattering of the ejection fluid 30 that is ejected onto the long axis of the ejection port 222. [

또한, 액체커튼형성부(500)는 분사구(222)의 진행방향으로, 분사구(222)의 전단 및 후단 중 적어도 하나 이상에 위치할 수 있다. 일 실시 예로서, 액체커튼형성부(500)는 분사구(222)의 후단에 위치할 수 있다. 이로 인해, 세정을 수행한 후에 오염물을 포함하게 되는 스팀(20)이, 이미 세정이 완료된 대상으로 비산되는 것을 방지할 수 있다. The liquid curtain forming part 500 may be located at least one of the front end and the rear end of the injection port 222 in the advancing direction of the ejection port 222. In one embodiment, the liquid curtain forming portion 500 may be located at the rear end of the jetting port 222. [ Thereby, it is possible to prevent the steam 20 containing the contaminant from being scattered to the object that has already been cleaned after cleaning.

도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른, 석션부(600)를 포함하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing a liquid curtain-formed integral steam nozzle including a suction portion 600, according to an embodiment of the present invention.

도 3를 참조하면, 석션후드(610)는 몸체(100)의 외부에, 분사유체(30), 스팀(20) 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상을 포함하여 흡입하는 석션부(suction)(600)를 더 포함할 수 있다.3, the suction hood 610 includes at least one suction fluid 30, steam 20, and contaminants separated from the object to be cleaned, (600). < / RTI >

석션부(600)는 배기관(602)을 더 포함할 수 있다. 석션부(600)는 석션후드(610)의 외부에 연통된 배기관(602)을 더 포함함으로써, 석션후드(610)로 하여금 지속적으로, 스팀(20) 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상을 흡입하도록 할 수 있다.The suction unit 600 may further include an exhaust pipe 602. The suction unit 600 further includes an exhaust pipe 602 communicated to the outside of the suction hood 610 so that the suction hood 610 continuously supplies the steam 20 and at least the contaminants separated from the object to be cleaned More than one can be inhaled.

결국, 이로 인해서, 세정하고자 하는 대상의 세정을 수행한 후에, 분사유체(30), 스팀(20) 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상이, 이미 세정이 완료된 해당 대상으로 비산되지 않고 해당 대상으로부터 제거될 수 있다.Consequently, after performing the cleaning of the object to be cleaned, at least one or more of the jetting fluid 30, the steam 20, and the contaminants separated from the object to be cleaned is not scattered to the object that has already been cleaned It can be removed from the object.

도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른, 석션부(600)를 포함하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 사시도이다.4 is a perspective view of a liquid curtain-forming integral steam nozzle including a suction portion 600, according to an embodiment of the present invention.

도 3 및 도 4에 따르면, 석션부(600)는 분사구(222)의 장축과 나란한 방향의 위치로부터, 스팀(20) 및 오염물 중 적어도 하나 이상을 흡입할 수 있다. 또한, 석션부(600)는 분사구(222)의 장축과 나란한 방향으로 형성됨으로써, 분사구(222)로부터 분사되는 분사유체(30)의 비산을 효과적으로 흡입하여 배기관(602)를 통해 배기할 수 있다.3 and 4, the suction unit 600 can suck at least one of the steam 20 and the contaminants from a position in a direction parallel to the long axis of the injection port 222. [ The suction portion 600 is formed in a direction parallel to the longitudinal axis of the injection port 222 so that the splashing fluid 30 sprayed from the injection port 222 can be effectively sucked and exhausted through the exhaust pipe 602.

석션부(600)는 분사구(222)의 진행방향으로, 분사구(222)의 전단 및 후단 중 적어도 하나 이상에 위치할 수 있다. 일 실시 예로서, 액체커튼형성부(500)는 분사구(222)의 진행방향의 전단에, 석션부(600)는 후단에 위치할 수 있다.The suction part 600 may be located at least one of the front end and the rear end of the injection port 222 in the advancing direction of the ejection port 222. In one embodiment, the liquid curtain forming part 500 may be positioned at the front end in the advancing direction of the injection port 222, and the suction part 600 at the rear end.

이로 인해, 액체커튼형성부(500)으로부터 분사된 액체커튼(505)이 세정하고자 하는 대상에 도달하여, 분사구(222)의 전단에 수막을 형성한다. 따라서, 세정시 분사구(222)주변에서 발생되는 오염물이 비산되지 않도록하고, 바로 수막위에 부유될 수 있게 된다.Thus, the liquid curtain 505 ejected from the liquid curtain forming portion 500 reaches the object to be cleaned, and a water film is formed at the front end of the ejecting opening 222. Therefore, contaminants generated around the jetting port 222 are not scattered during cleaning and can be directly suspended on the water film.

동시에, 석션부(600)가 분사구(222)의 후단에 위치함으로써, 석션부(600)의 석션후드(610)가, 액체커튼(505)에 의해 비산이 방지된 분사유체(30), 스팀(20) 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상을 흡입한다. 석션후드(610)에 흡입된 분사유체(30), 스팀(20) 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상은 배기관(602)를 통하여 석션후드(610) 내부로부터 제거될 수 있다.At the same time, since the suction part 600 is positioned at the rear end of the injection port 222, the suction hood 610 of the suction part 600 can be prevented from being splashed by the liquid curtain 505, 20) and at least one of the contaminants separated from the object to be cleaned. At least one or more of the injection fluid 30 sucked into the suction hood 610, the steam 20 and the contaminants separated from the object to be cleaned can be removed from the suction hood 610 through the exhaust pipe 602.

도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른, 액체커튼형성부(500)는 분사구(222)의 진행방향으로, 분사구(222)의 전단 및 후단에 위치하고, 석션부(600)는 액체커튼형성부(500)로부터 형성된 액체커튼(505)보다 바깥단에 위치하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 나타내는 단면도이다.5 is a perspective view of the liquid curtain forming unit 500 according to an embodiment of the present invention. The liquid curtain forming unit 500 is located at the front end and the rear end of the jetting port 222 in the advancing direction of the jetting port 222, Sectional view showing a liquid curtain-forming integral-type steam nozzle which is located at an outer end than the liquid curtain 505 formed from the liquid curtain 500 shown in Fig.

해당 실시 예의 액체커튼형성 일체형 스팀노즐은 액체커튼형성부(500) 및 석션부(600)가 어느 일단(분사구(222)의 진행방향의 전단 혹은 후단)에만 위치하는 다른 실시 예보다 효율적으로 분사유체(30), 스팀(20) 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상의 비산을 막고, 제거할 수 있다. 한편, 액체커튼형성부(500) 및 석션부(600)는 앞서 설명한 바와 유사하므로 구체적인 설명은 생략한다.The liquid curtain-forming integrated type steam nozzle of the present embodiment is more effective than the other embodiments in which the liquid curtain forming portion 500 and the suction portion 600 are located only at either one end (the front end or the rear end in the advancing direction of the injection port 222) The steam 20, and the contaminants separated from the object to be cleaned can be prevented from being scattered and removed. Meanwhile, since the liquid curtain forming unit 500 and the suction unit 600 are similar to those described above, a detailed description thereof will be omitted.

도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른, 몸체(100)는 제1몸체(105) 및 제2몸체(107)로 구성되어 닫힌 공간인 몸체 내부(101)를 형성하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 나타내는 단면도이다.6 is a perspective view of a body 100 according to an embodiment of the present invention. The body 100 includes a first body 105 and a second body 107 to form a body 101 as a closed space. Fig.

스팀노즐의 몸체는 각각의 상부몸체, 하부제1몸체, 하부제2몸체, 제1몸체 및 제2몸체와 같은 단위조각들을 포함하여 형성되고, 각각의 단위조각들은 볼트 및 나사와 같은 체결수단으로 결속될 수 있다. 이로 인해, 스팀노즐의 몸체에 열이 가해지면, 각각의 단위조각들 사이의 결속이 느슨해진다. 이러한 작용에 의해 몸체 내부(101)의 부피가 증가할 수 있고 따라서 분사구를 통해 분사하는 분사유체의 압력 및 속도가 감소할 수 있다.The body of the steam nozzle is formed to include unit pieces such as an upper body, a lower first body, a lower second body, a first body and a second body, and each unit piece may be formed by fastening means such as bolts and screws Can be bound. As a result, when heat is applied to the body of the steam nozzle, the bond between the unit pieces is loosened. By this action, the volume of the inside of the body 101 can be increased and thus the pressure and the velocity of the jetting fluid injected through the jetting port can be reduced.

도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예는 앞선 실시 예들과 비교하여, 제1몸체(105)와 제2몸체(107)로 이루어진, 더 적은 개수의 단위조각들로 몸체 내부(101)를 형성할 수 있다. 이로 인해, 본 발명은 스팀노즐의 몸체(100)에 열이 가해질 때, 분사구(222)를 통해 분사하는 분사유체(30)의 압력 및 속도의 감소가 최소화되는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐을 제공할 수 있다.6, an embodiment of the present invention is characterized in that the body inside 101 is divided into a smaller number of unit pieces composed of the first body 105 and the second body 107, . Accordingly, the present invention provides a liquid curtain-formed integral steam nozzle in which a reduction in the pressure and speed of the jetting fluid 30 injected through the jetting port 222 is minimized when heat is applied to the body 100 of the steaming nozzle .

도 7은 본 발명의 또 다른 일 실시 예들에 따른, 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 저면도이다. (a) 액체커튼형성부는 분사구의 장축방향과 나란한 일단에 위치하고, 석션부는 분사구를 중심으로 해당 일단의 맞은편에 위치하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 저면도이다. (b) 액체커튼형성부는 분사구의 진행방향으로 분사구의 전단, 후단 및 양측면에 위치하고, 석션부는 분사구를 중심으로 액체커튼형성부로부터 형성된 액체커튼보다 바깥단에 위치하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 저면도이다.7 is a bottom view of a liquid curtain-formed integral steam nozzle according to another embodiment of the present invention. (a) The liquid curtain forming portion is located at one end side parallel to the long axis direction of the jetting port, and the suction portion is located at the opposite side of the one end with respect to the jetting port. (b) The liquid curtain-forming portion is located at the front end, the rear end, and both sides of the jetting port in the advancing direction of the jetting port, and the suction portion is located at the outer end of the liquid curtain formed from the liquid curtain- .

도 7의 (a)를 참조하면, 액체커튼분사구(526)는 분사구(222)로부터 분사된 분사유체(30)의 비산을 막을 수 있고, 석션후드(610)는 해당 분사유체(30), 스팀(20) 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상을 흡입할 수 있다. 액체커튼분사구(526)의 양쪽 끝단이 안쪽으로 굽어있음으로써, 분사구(222)로부터 분사된 분사유체(30)가 양쪽 끝으로 비산되는 것을 방지할 수 있고, 석션후드(610)의 양쪽 끝단이 액체커튼분사구(526)의 양쪽 끝단보다 넓게 위치함으로써, 액체커튼분사구(526)의 양쪽 끝단으로부터 회절되는 분사유체(30)를 흡입하여 분사유체(30)의 비산을 방지할 수 있다.7A, the liquid curtain injection port 526 can prevent scattering of the injection fluid 30 injected from the injection port 222, and the suction hood 610 can supply the injection fluid 30, At least one of the detergent 20 and the contaminants separated from the object to be cleaned can be sucked. It is possible to prevent the jetting fluid 30 sprayed from the jetting port 222 from being scattered to both ends by both ends of the liquid curtain jetting port 526 being curved inward, The injection fluid 30 diffracted from both ends of the liquid curtain injection hole 526 can be sucked to prevent scattering of the injection fluid 30 by being positioned wider than both ends of the curtain injection hole 526. [

도 7의 (b)를 참조하면, 액체커튼분사구(526)는 분사구(222)로부터 분사된 분사유체(30)의 비산을 막을 수 있고, 석션후드(610)는 해당 분사유체(30), 스팀(20) 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상을 흡입할 수 있다. 석션후드(610)가 액체커튼분사구(526)보다 바깥단에 위치함으로써, 분사구(222)로부터 분사된 분사유체(30)가 사방으로 비산되는 것을 방지할 수 있다.7B, the liquid curtain injection port 526 may prevent scattering of the injection fluid 30 injected from the injection port 222, and the suction hood 610 may be connected to the injection fluid 30, At least one of the detergent 20 and the contaminants separated from the object to be cleaned can be sucked. Since the suction hood 610 is positioned at the outer end than the liquid curtain injection opening 526, the injection fluid 30 injected from the injection opening 222 can be prevented from scattering in all directions.

도 8는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 액체커튼형성부가 분사된 스팀과 특정범위의 각도를 이루는 액체커튼을 형성하는 것을 나타내는 단면도이다.8 is a cross-sectional view illustrating forming a liquid curtain with an angle of a certain range with the sprayed liquid curtain forming portion according to another embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 액체커튼형성부는 분사구로부터 분사되는 분사유체(30)에 0o 내지 90o의 각도를 이루는 액체커튼(506)을 형성할 수 있다. 특히, 액체커튼(506)은 분사유체(30)로부터 45o의 각도로 형성될 수 있다. 이 각도는, 세정하고자 하는 대상에 도달하는 액체커튼을 유지하면서, 분사유체(30)가 해당 대상에 도달하는 위치에 형성되는 액체막을 최소화할 수 있는 각도이다. 여기서, 액체막은 해당 대상의 표면을 가리는 막으로서 본 발명의 액체커튼형성 일체형 스팀노즐의 세정력을 저하 시킬 수 있고, 이에 따라, 액체막을 최소화하는 것은 세정효율을 증진시킬 수 있다.Referring to Figure 8, the liquid curtain forming portion may be formed in the injection fluid 30 is injected from the injection port 0 o to 90 o liquid curtain 506 forms an angle of. In particular, the liquid curtain 506 may be formed with an angle of 45 o from the injection fluid (30). This angle is an angle capable of minimizing the liquid film formed at the position where the jetting fluid 30 reaches the target while maintaining the liquid curtain reaching the object to be cleaned. Here, the liquid film can lower the cleaning force of the integrated liquid-curtain-forming steam nozzle of the present invention as a film covering the surface of the object, thereby minimizing the liquid film can improve the cleaning efficiency.

따라서, 이상의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다.Accordingly, the foregoing detailed description should not be construed in any way as limiting and should be considered illustrative. The scope of the present invention should be determined by rational interpretation of the appended claims, and all changes within the scope of equivalents of the present invention are included in the scope of the present invention.

5: 액체
10: 순수
12: 오존수
20: 스팀(steam)
22: 세정기체
30: 분사유체
100: 몸체
101: 몸체 내부
102: 상부몸체
104: 하부제1몸체
105: 제1몸체
106: 하부제2몸체
107: 제2몸체
200: 유입부
202: 제1유입관
204: 스팀유입관
206: 추가유입관
220: 분사관
222: 분사구
500: 액체커튼형성부
502: 액체유입관
505: 액체커튼
506: 액체커튼
510: 순수커튼
512: 오존수커튼
522: 커튼형성제1유닛
524: 커튼형성제2유닛
526: 액체커튼분사구
600: 석션부
610: 석션후드
602: 배기관
5: liquid
10: pure water
12: ozonated water
20: Steam
22: cleaning gas
30: Injection fluid
100: Body
101: inside of the body
102: upper body
104: lower first body
105: first body
106: lower second body
107: Second body
200: inlet
202: first inlet pipe
204: steam inlet pipe
206: Additional inflow pipe
220: Distributor
222:
500: liquid curtain forming part
502: liquid inlet pipe
505: Liquid curtain
506: Liquid curtain
510: Pure curtains
512: Ozonated water curtain
522: curtain forming first unit
524: curtain forming second unit
526: Liquid curtain nozzle
600: Suction part
610: Suction hood
602: Exhaust pipe

Claims (16)

외부공간으로부터 내부공간을 분리시키는 몸체;
상기 몸체 내부로 스팀을 들이는 스팀유입관;
상기 몸체의 외부에 위치하여, 액체커튼을 형성하는 액체커튼형성부; 및
상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 분사하는 분사구를 포함하되,
상기 몸체의 외부에, 상기 분사구로부터 분사된 상기 스팀 및 상기 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상을 흡입하는 석션부(suction)를 더 포함하고,
상기 액체커튼형성부는,
상기 분사구의 장축과 나란한 방향의 위치로, 상기 액체커튼을 슬릿형태로 분사하고, 상기 분사구의 진행방향으로, 상기 분사구의 전단에 위치하고, 양쪽 끝단이 안쪽으로 굽어 있고,
상기 석션부는,
상기 분사구의 진행방향으로, 상기 분사구의 후단에 위치하고, 양쪽 끝단이 상기 액체커튼분사구의 양쪽 끝단보다 넓게 위치하는 것을 특징으로 하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐.
A body separating the inner space from the outer space;
A steam inlet pipe for introducing steam into the body;
A liquid curtain forming unit located outside the body, the liquid curtain forming unit forming a liquid curtain; And
And a jetting port for jetting the steam to an object to be cleaned,
Further comprising a suction portion for sucking at least one of the steam sprayed from the jetting nozzle and the contaminants separated from the object, outside the body,
The liquid curtain-
The liquid curtain is injected in the form of a slit at a position in a direction parallel to the major axis of the injection port and is located at the front end of the injection port in the advancing direction of the injection port,
The suction portion
Wherein the liquid curtain injection nozzle is located at a rear end of the jet opening in a traveling direction of the jet opening, and both ends thereof are positioned wider than both ends of the liquid curtain jet opening.
제 1 항에 있어서,
상기 몸체 내부로 순수 또는 오존수를 들이는 제1유입관을 더 포함하여, 상기 스팀, 상기 순수 및 상기 오존수 중 적어도 하나 이상을 상기 분사구를 통하여 분사하는 것을 특징으로 하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐.
The method according to claim 1,
Further comprising a first inlet pipe for injecting pure water or ozonated water into the body, wherein at least one of the steam, the pure water and the ozonated water is injected through the injection port.
제 2 항에 있어서,
상기 순수는,
탈이온수(DIW, deionized water) 및 초순수(UPW, ultrapure water) 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐.
3. The method of claim 2,
The pure water,
Characterized in that it comprises at least one of deionized water (DIW) and ultrapure water (UPW).
제 1 항에 있어서,
상기 몸체 내부로 세정기체를 들이는 추가유입관을 더 포함하여, 상기 스팀 및 상기 세정기체 중 적어도 하나 이상을 상기 분사구를 통하여 분사하는 것을 특징으로 하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐.
The method according to claim 1,
Further comprising an additional inlet pipe for injecting a cleaning gas into the body, wherein at least one of the steam and the cleaning gas is injected through the injection port.
제 4 항에 있어서,
상기 세정기체는,
청정공기(CDA, clean dry air), 질소(N2), 산소(O2) 및 스팀 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐.
5. The method of claim 4,
The cleaning gas,
Characterized in that it comprises at least one of clean air (CDA), nitrogen (N 2 ), oxygen (O 2 ) and steam.
제 1 항에 있어서,
상기 액체커튼은,
순수 및 오존수 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐.
The method according to claim 1,
The liquid curtain,
And at least one of pure water, ozone water, and pure water.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 석션부는,
상기 분사구의 장축과 나란한 방향의 위치로부터, 상기 스팀 및 상기 오염물 중 적어도 하나 이상을 흡입하는 것을 특징으로 하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐.
The method according to claim 1,
The suction portion
Wherein at least one of the steam and the contaminant is sucked from a position in a direction parallel to the major axis of the jetting port.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 석션부는,
석션후드 안쪽으로 흡입한 상기 스팀 및 상기 오염물 중 적어도 하나 이상을 배기하는 배기관을 포함하는 것을 특징으로 하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐.
The method according to claim 1,
The suction portion
And an exhaust pipe for exhausting at least one of the steam and the contaminant that has been sucked into the suction hood.
제 1 항에 있어서,
상기 몸체는,
제1몸체 및 제2몸체로 구성되어, 닫힌 공간인 상기 몸체 내부를 형성하는 것을 특징으로 하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐.
The method according to claim 1,
The body,
Wherein the first body and the second body form an inside of the body which is a closed space.
제 1 항에 있어서,
상기 액체커튼형성부는,
상기 스팀을 분사하는 방향에 대하여 0o 내지 90o의 각도를 이루는 액체커튼을 형성하는 것을 특징으로 하는 액체커튼형성 일체형 스팀노즐.
The method according to claim 1,
The liquid curtain-
Liquid curtain formed integral steam nozzle as to form a liquid curtain forms an angle of 0 o to 90 o with respect to the direction for injecting the steam.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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