KR101912278B1 - 전자 부품 패키지 및 그 제조방법 - Google Patents
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
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- H01L2224/13101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
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- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
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- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
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- H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
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- H01L2224/81005—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector involving a temporary auxiliary member not forming part of the bonding apparatus being a temporary or sacrificial substrate
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- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
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- H01L2224/83005—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector involving a temporary auxiliary member not forming part of the bonding apparatus being a temporary or sacrificial substrate
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
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- H01L24/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L24/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
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- H01L2924/301—Electrical effects
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Abstract
본 발명의 일 실시 형태에 따른 전자 부품 패키지는 절연층, 상기 절연층에 형성된 도전성 패턴 및 상기 절연층을 관통하여 상기 도전성 패턴과 연결된 도전성 비아를 포함하는 배선부와, 상기 배선부 상에 배치된 전자 부품과, 상기 배선부 상에 배치되며 상기 전자 부품을 수용하는 관통 홀을 갖는 프레임과, 상기 배선부와 상기 프레임을 결합시키는 접착층 및 상기 관통 홀을 적어도 일부 충진하는 봉합재를 포함하여 구성된다.
Description
본 발명은 전자 부품 패키지 및 그 제조방법에 관한 것이다.
전자 부품 패키지란 전자 부품을 회로 기판(Printed Circuit Board: PCB), 예를 들면, 전자 기기의 메인 보드 등에 전기적으로 연결시키고, 외부의 충격으로부터 전자 부품을 보호하기 위한 패키지 기술을 의미한다. 한편, 최근 전자 부품에 관한 기술 개발의 주요한 추세 중의 하나는 부품의 크기를 축소하는 것이며, 이에 패키지 분야에서도 소형 전자 부품 등의 수요 급증에 따라 소형의 크기를 가지면서 다수의 핀을 구현하는 것이 요구되고 있다.
상기와 같은 기술적 요구에 부합하기 제시된 패키지 기술 중의 하나가 웨이퍼 상에 형성된 전자 부품의 전극 패드의 재배선을 이용하는 웨이퍼 레벨 패키지(Wafer Level Package: WLP)이다. 웨이퍼 레벨 패키지에는 팬-인 웨이퍼 레벨 패키지(fan-in WLP)와 팬-아웃 웨이퍼 레벨 패키지(fan-out WLP)가 있으며, 특히 팬-아웃 웨이퍼 레벨 패키지의 경우 소형의 크기를 가지면서 다수의 핀을 구현함에 유용한바 최근 활발히 개발되고 있다.
한편, 이러한 패키지를 제조하는 경우, 불량 여부를 가리기 위한 전기 검사가 필요한데 종래에는 IC 칩과 같은 전자 부품을 실장한 후 전기 검사를 수행하는 것이 일반적이었다. 이와 같이 전자 부품을 실장한 상태에서 전기 검사를 하는 경우 불량이 발생하면 패키지를 이루는 배선층 외에도 전자 부품까지 사용하지 못하게 되는바 이는 제조사 입장에서 매우 큰 손실을 발생시키는 요인이 된다.
본 발명의 일 목적은 컴팩트한 구조를 제공할 수 있으며, 나아가, 전자 부품을 실장 하기 전에 전기 검사가 가능하도록 함으로써 제조 효율이 현저히 향상될 수 있는 전자 부품 패키지를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상술한 전자 부품 패키지를 효율적으로 제조할 수 있는 제조방법을 제공하는 것이다.
상술한 과제를 해결하기 위한 방법으로, 본 발명은 일 형태를 통하여 전자 부품 패키지의 신규한 구조를 제안하고자 하며, 구체적으로, 절연층, 상기 절연층에 형성된 도전성 패턴 및 상기 절연층을 관통하여 상기 도전성 패턴과 연결된 도전성 비아를 포함하는 배선부와, 상기 배선부 상에 배치된 전자 부품과, 상기 배선부 상에 배치되며 상기 전자 부품을 수용하는 관통 홀을 갖는 프레임과, 상기 배선부와 상기 프레임을 결합시키는 접착층 및 상기 관통 홀을 적어도 일부 충진하는 봉합재를 포함하여 구성된다.
또한, 본 발명의 다른 형태를 통하여 전자 부품 패키지의 제조방법을 다음과 같이 제안하고자 하며, 구체적으로, 절연층, 상기 절연층에 형성된 도전성 패턴 및 상기 절연층을 관통하여 상기 도전성 패턴과 연결된 도전성 비아를 포함하는 배선부를 마련하는 단계와, 상기 배선부 상에 전자 부품을 배치하는 단계와, 관통 홀을 갖는 프레임을 마련하여 접착층을 매개로 상기 배선부의 상면과 접합하는 단계 및 상기 관통 홀의 적어도 일부를 충진하도록 봉합재를 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 일 실시 형태에서 제안하는 전자 부품 패키지를 사용함으로써 패키지의 사이즈를 컴택트하게 할 수 있으며 다수의 전자 부품을 사용하는 경우에도 높은 활용성을 갖는다. 또한, 전자 부품을 실장 하기 전에 전기 검사가 가능하도록 함으로써 제조 효율을 현저히 향상시킬 수 있다. 나아가, 본 발명의 일 실시 형태의 제조방법을 사용함으로써 상술한 전자 부품 패키지를 효율적으로 제조할 수 있다.
도 1은 전자 기기 시스템의 예를 개략적으로 나타내는 블록도이다.
도 2는 전자 기기에 적용된 전자 부품 패키지의 예를 개략적으로 도시한다.
도 3은 전자 부품 패키지의 일례를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 4 내지 8은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 전자 부품 패키지의 제조방법을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 9 내지 13은 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 전자 부품 패키지의 제조방법을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 2는 전자 기기에 적용된 전자 부품 패키지의 예를 개략적으로 도시한다.
도 3은 전자 부품 패키지의 일례를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 4 내지 8은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 전자 부품 패키지의 제조방법을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 9 내지 13은 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 전자 부품 패키지의 제조방법을 개략적으로 나타낸 것이다.
이하, 구체적인 실시형태 및 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태를 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 통상의 기술자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.
그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하고, 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 동일한 사상의 범위 내의 기능이 동일한 구성요소는 동일한 참조부호를 사용하여 설명한다. 나아가, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
전자 기기
도 1은 전자 기기 시스템의 예를 개략적으로 나타내는 블록도이다. 도면을 참조하면, 전자 기기(1000)는 메인 보드(1010)를 수용한다. 메인 보드(1010)에는 칩 관련 부품(1020), 네트워크 관련 부품(1030), 및 기타 부품(1040) 등이 물리적 및/또는 전기적으로 연결되어 있다. 이들은 후술하는 다른 부품과도 결합되어 다양한 신호 라인(1090)을 형성한다.
칩 관련 부품(1020)으로는 휘발성 메모리(예컨대, DRAM), 비-휘발성 메모리(예컨대, ROM), 플래시 메모리 등의 메모리 칩; 센트랄 프로세서(예컨대, CPU), 그래픽 프로세서(예컨대, GPU), 디지털 신호 프로세서, 암호화 프로세서, 마이크로 프로세서, 마이크로 컨트롤러 등의 어플리케이션 프로세서 칩; 아날로그-디지털 컨버터, ASIC(application-specific IC) 등의 로직 칩 등이 포함되며, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 기타 다른 형태의 칩 관련 부품이 포함될 수 있음은 물론이다. 또한, 이들 부품(1020)이 서로 조합될 수 있음은 물론이다.
네트워크 관련 부품(1030)으로는, Wi-Fi(IEEE 802.11 패밀리 등), WiMAX(IEEE 802.16 패밀리 등), IEEE 802.20, LTE(long term evolution), Ev-DO, HSPA+, HSDPA+, HSUPA+, EDGE, GSM, GPS, GPRS, CDMA, TDMA, DECT, Bluetooth, 3G, 4G, 5G 및 그 이후의 것으로 지정된 임의의 다른 무선 및 유선 프로토콜들이 포함되며, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 기타 다른 다수의 무선 또는 유선 표준들이나 프로토콜들 중의 임의의 것이 포함될 수 있음은 물론이다. 또한, 이들 부품(1030)이 상술한 칩 관련 부품(1020)과 더불어 서로 조합될 수 있음은 물론이다.
기타 부품(1040)으로는, 고주파 인덕터, 페라이트 인덕터, 파워 인덕터, 페라이트 비즈, LTCC(low Temperature Co-Firing Ceramics), EMI(Electro Magnetic Interference) filter, MLCC(Multi-Layer Ceramic Condenser) 등이 포함되며, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 기타 다른 다양한 용도를 위하여 사용되는 수동 부품 등이 포함될 수 있음은 물론이다. 또한, 이들 부품(1040)이 상술한 칩 관련 부품(1020) 및/또는 네트워크 관련 부품(1030)과 더불어 서로 조합될 수 있음은 물론이다.
전자 기기(1000)의 종류에 따라, 전자 기기(1000)는 메인 보드(1010)에 물리적 및/또는 전기적으로 연결되거나 그렇지 않을 수도 있는 다른 부품을 포함할 수 있다. 이 다른 부품은, 예를 들면, 카메라(1050), 안테나(1060), 디스플레이(1070), 배터리(1080), 오디오 코덱(미도시), 비디오 코덱(미도시), 전력 증폭기(미도시), 나침반(미도시), 가속도계(미도시), 자이로스코프(미도시), 스피커(미도시), 대량 저장 장치(예컨대, 하드디스크 드라이브)(미도시), CD(compact disk)(미도시), 및 DVD(digital versatile disk)(미도시) 등을 포함하며, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 전자 기기(1000)의 종류에 따라 다양한 용도를 위하여 사용되는 기타 부품 등이 포함될 수 있음은 물론이다.
전자 기기(1000)는, 스마트 폰(smart phone), 개인용 정보 단말기(personal digital assistant), 디지털 비디오 카메라(digital video camera), 디지털 스틸 카메라(digital still camera), 네트워크 시스템(network system), 컴퓨터(computer), 모니터(monitor), 태블릿(tablet), 랩탑(laptop), 넷북(netbook), 텔레비전(television), 비디오 게임(video game), 스마트 워치(smart watch) 등일 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들 외에도 데이터를 처리하는 임의의 다른 전자 기기일 수 있음은 물론이다.
도 2는 전자 기기에 적용된 전자 부품 패키지의 예를 개략적으로 도시한다. 전자 부품 패키지는 상술한 바와 같은 다양한 전자 기기(1000)에 다양한 용도로써 적용된다. 예를 들면, 스마트 폰(1100)의 바디(1101) 내부에는 메인 보드(1110)가 수용되어 있으며, 상기 메인 보드(1110)에는 다양한 전자 부품(1120) 들이 물리적 및/또는 전기적으로 연결되어 있다. 또한, 카메라(1130)와 같이 메인 보드(1010)에 물리적 및/또는 전기적으로 연결되거나 그렇지 않을 수도 있는 다른 부품이 바디(1101) 내에 수용되어 있다. 이때, 상기 전자 부품(1120) 중 일부는 상술한 바와 같은 칩 관련 부품일 수 있으며, 전자 부품 패키지(100)는, 예를 들면, 그 중 어플리케이션 프로세서일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
전자 부품 패키지 및 그 제조방법
도 3은 전자 부품 패키지의 일례를 개략적으로 나타내는 단면도이다. 본 실시 형태에 따른 전자 부품 패키지(100)는 배선부(110), 전자 부품(120), 프레임(130), 접착층(131) 및 봉합재(140)를 주요 구성 요소로서 포함한다.
배선부(110)는 전자 부품(120)의 실장 영역으로 제공되며 전자 부품(120)과 전기적으로 연결된다. 배선부(110)는 절연층(111), 도전성 패턴(112) 및 도전성 비아(113)를 포함하여 구성되며, 전자 부품(120)의 배선 구조를 재배선하는 기능 등을 수행할 수 있다. 도 3의 예에서는 배선부(110)가 다층 구조를 갖는 것으로 표현되어 있지만, 필요에 따라 단층의 배선부로 구성될 수도 있다. 또한, 설계 사항에 따라서 더 많은 층을 가질 수도 있을 것이다.
절연층(111)에 포함될 수 있는 절연 물질로는 에폭시 수지와 같은 열경화성 수지, 폴리이미드와 같은 열가소성 수지, 또는 이들에 유리 섬유 또는 무기 필러와 같은 보강재가 함침된 수지, 예를 들면, 프리프레그(prepreg), ABF(Ajinomoto Build-up Film), FR-4, BT(Bismaleimide Triazine) 수지 등이 사용될 수 있다. 또한, 절연 물질로서 광 경화성 물질(PID)을 사용하는 경우 절연층(111)을 보다 얇게 형성할 수 있고, 미세 패턴을 보다 용이하게 구현할 수 있다. 배선부(110)에서 각 층을 이루는 절연층(111)은 서로 동일한 물질로 이루어질 수 있고, 필요에 따라서는 서로 상이할 수도 있다. 절연층(111)의 두께 역시 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 각 층은 도전성 패턴(112)을 제외한 두께가 5㎛ 내지 20㎛ 정도, 도전성 패턴(112)의 두께를 고려하면 15㎛ 내지 70㎛ 정도일 수 있다.
도전성 패턴(112)은 배선 패턴 및/또는 패드 패턴의 역할을 수행하며, 형성 물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pd), 또는 이들의 합금 등의 전기 전도성 물질을 사용할 수 있다. 도전성 패턴(112)은 해당 층의 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 재배선 패턴으로써 그라운드(Ground: GND) 패턴, 파워(Power: PWR) 패턴, 신호(Signal: S) 패턴 등의 역할을 수행할 수 있다. 여기서, 신호(S) 패턴은 그라운드(GND) 패턴, 파워(PWR) 패턴 등을 제외한 각종 신호, 예를 들면, 데이터 신호 등을 포함한다. 또한, 패드 패턴으로써 비아 패드, 외부 접속 단자 패드 등의 역할을 수행할 수 있다. 도전성 패턴(112)의 두께 역시 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 각각 10㎛ 내지 50㎛ 정도일 수 있다.
한편, 도전성 패턴(112) 중 절연층(111)의 외부로 노출된 것, 예컨대, 전자 부품(120)과 접속되는 것에는 필요에 따라 표면처리 층이 더 형성될 수 있다. 상기 표면처리 층은 당해 기술분야에 공지된 것이라면 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 전해 금도금, 무전해 금도금, OSP 또는 무전해 주석도금, 무전해 은도금, 무전해 니켈도금/치환금도금, DIG 도금, HASL 등에 의해 형성될 수 있다.
본 실시 형태의 경우, 배선부(110)의 도전성 패턴(112) 중 전자 부품(120)이 배치되는 면의 반대 면, 즉, 도 3을 기준으로 하면의 도전성 패턴(112)은 다른 기판이나 디바이스 등과 연결 경로가 되는 접속 패드가 기능할 수 있는데, 후술할 바와 같이, 서포트를 사용하여 형성하는 공정 등을 이용함으로써 절연층(111)에 매립된 형태가 될 수 있다.
도전성 비아(113)는 서로 다른 층에 형성된 도전성 패턴(112) 등을 서로 전기적으로 연결시키며, 그 결과 패키지(100) 내에 전기적 경로를 형성시킨다. 도전성 비아(113) 역시 형성 물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pd), 또는 이들의 합금 등의 전도성 물질을 사용할 수 있다. 도전성 비아(113) 역시 전도성 물질로 완전히 충전될 수 있으며, 또는 전도성 물질이 비아의 벽을 따라 형성된 것일 수도 있다. 또한, 형상이 하면으로 갈수록 직경이 작아지는 테이퍼 형상, 하면으로 갈수록 직경이 커지는 역 테이퍼 형상, 원통형상 등 당해 기술분야에 공지된 모든 형상이 적용될 수 있다.
프레임(130)은 배선부(110) 상에 배치되어 패키지(100)의 지지 기능 등을 위한 것으로, 이를 통하여 강성유지 및 두께 균일성의 확보가 가능하다. 프레임(120)은 전자 부품(130)을 배치하기 위한 관통 홀을 갖는데, 이러한 관통 홀은 전자 부품(130)을 둘러싸는 내벽에 의하여 형성될 수 있다. 전자 부품(130)은 상기 관통 홀 내에 위치하며, 다만, 실시 형태에 따라 전자 부품(120)이 배치되는 영역은 관통 홀 형태가 아닌 트렌치와 같은 형태일 수도 있다.
프레임(130)을 구성하는 물질은 특별히 제한되지는 아니하며, 몰딩 수지나 프리프레그(prepreg), 나아가서는 금속, 세라믹 계열의 물질을 이용할 수 있다. 예를 들어, 후술할 바와 같이 프레임(130)은 프리프레그에 홀을 가공한 후 배선부(110)와 접합될 수 있으며, 이를 위하여 이들 사이에는 접착층(131)이 개재될 수 있다.
본 실시 형태의 경우, 프레임(130)에는 이를 관통하여 상하부의 전기 도통 구조로 기능하는 도전성 비아(132)가 형성될 수 있다. 일 예로서, 도 3에서 볼 수 있듯이, 프레임(130)의 도전성 비아(132)는 배선부(110)의 도전성 패턴(112)과 프레임(130) 상부에 형성된 도전성 패턴(133)과 연결된 형태로 제공될 수 있다. 도전성 패턴(133)은 봉합재(140) 상에 형성되어 프레임(130)의 도전성 비아(132)와 전기적으로 연결되는 요소로서 상부에 배치될 수 있는 추가적인 전자 부품과 접속된다. 이 경우, 도전성 비아(132)는 프레임(130)에 홀 가공을 한 후 이를 충진하도록 도금 등의 공정을 이용하거나 도전성 포스트 형태 등으로 구현될 수 있을 것이다.
전자 부품(120)은 다양한 능동 부품(예컨대, 다이오드, 진공관, 트랜지스터 등) 또는 수동 부품(예컨대, 인덕터, 콘덴서, 저항기 등)일 수 있다. 또는 수백 내지 수백만 개 이상의 소자가 하나의 칩 안에 집적화된 집적회로(Intergrated Circuit: IC) 칩일 수 있다. 필요에 따라서는 집적회로가 플립칩 형태로 패키지 된 전자 부품일 수도 있다. 집적회로 칩은, 예를 들면, 센트랄 프로세서(예컨대, CPU), 그래픽 프로세서(예컨대, GPU), 디지털 신호 프로세서, 암호화 프로세서, 마이크로 프로세서, 마이크로 컨트롤러 등의 어플리케이션 프로세서 칩일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이 경우, 도 3에서는 배선부(110) 상에 1개의 전자 부품(120)이 실장된 형태를 나타내고 있지만 2개 이상의 부품이 사용될 수도 있을 것이다.
전자 부품(120)은 배선부(110)와 전기적으로 연결되는 하나 이상의 전극 패드(121)를 포함할 수 있으며, 도 3에 도시된 예와 같이, 전자 부품(120)은 이에 구비된 전극 패드(121)가 배선부(110)를 향하는 상태로 실장될 수 있다. 전자 부품(120)은 배선부(110)에 의하여 재배선 될 수 있으며, 이를 위하여 배선부(110)의 도전성 패턴(112)과 솔더 등과 같은 접착성 전기 연결부(122)가 사이에 개재될 수 있다. 또한, 전자 부품(120)의 안정적인 실장을 위하여 전자 부품(120)과 배선부(110) 사이에는 절연성 접착층 등으로 이루어진 접착부(123)가 개재될 수 있으며, 다만, 이러한 접착부(123)는 실시 예에 따라 적절히 변형되거나 제외될 수 있을 것이다. 이러한 접착부(123)의 예로서, 전자 부품(120)의 전극 패드(121)를 노출시키도록 형성된 솔더 레지스트를 들 수 있다. 한편, 전자 부품(120)의 단면에서의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 전자 부품(120)의 종류에 따라 달라질 수 있다. 예를 들면, 전자 부품이 집적회로 칩인 경우에는 100㎛ 내지 480㎛ 정도일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
봉합재(140)는 전자 부품(120) 등을 보호하기 위한 것으로서 전자 부품(120)을 덮으며 프레임(130)의 관통 홀의 적어도 일부를 충진하도록 형성된다. 또한, 봉합재(140)는 도 3에 도시된 형태와 같이, 프레임(120) 상부까지 덮도록 형성될 수 있다. 이 경우, 프레임(120) 상부에 형성된 봉합재(140)의 해당 부분은 프레임(130)의 도전성 비아(132)에 대응하는 영역은 노출시키는 형상일 수 있으며, 이러한 형태를 통하여 상부에 추가적인 전자 부품 등을 실장할 수 있다.
전자 부품의 보호 기능을 수행할 수 있다면 봉합재(140)를 이루는 물질은 특별히 한정될 필요는 없다. 예를 들면, 봉합재(140)는 에폭시 수지와 같은 열경화성 수지, 폴리이미드와 같은 열가소성 수지, 이들에 유리 섬유 또는 무기 필러와 같은 보강재가 함침된 수지, 예를 들면, 프리프레그, ABF, FR-4, BT, PID 수지 등이 사용될 수 있다. 또한, 봉합재(140)는 미 경화 상태의 수지 필름을 배선부(110)와 프레임(130) 상에 적층한 후 경화함으로써 얻어질 수 있으며, 이러한 방법 외에도 EMC 등의 공지의 몰딩 방식을 사용할 수 있음은 물론이다.
한편, 봉합재(140)에는 전자파 차단을 위하여 필요에 따라 전도성 입자가 포함될 수 있다. 전도성 입자는 전자파 차단이 가능한 것이면 어떠한 것이든 사용할 수 있으며, 예를 들면, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pd), 솔더(solder) 등으로 형성될 수 있으나, 이는 일례에 불과하며 특별히 이에 한정되는 것은 아니다.
접착층(131)은 배선부(110)와 프레임(130) 사이에 배치되어 이들을 결합시키며 공정과 관련하여 후술할 바와 같이 배선부(110) 상에 적절히 가공된 프레임(130)을 접합하기 위한 것이다. 일 예로서, 접착층(131)은 미 경화 상태의 물질, 예컨대, 프리프레그나 솔더 레지스트 등을 이용할 수 있으며, 전기 절연성 물질 외에도 전기 전도성 물질을 이용하여 도전성 패턴 등과 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 접착층(131)이 미 경화 상태에서 가압되는 경우 프레임(130)의 관통 홀까지 연장 형성된 형태를 가질 수 있다(A 영역). 이 경우, 도 3에 도시된 형태와 같이, 프레임(130)의 관통 홀까지 흐른 상태로 경화된 접착층(131)은 관통 홀에 충진된 봉합재(140)와 접촉할 수 있다. 즉, 접착층(131)의 일부는 관통 홀의 내면과 전자 부품(120) 사이에 형성될 수 있다. 접착층(131)의 이러한 형상은 배선부(110)와 프레임(131)의 접합 공정에 의하여 얻어질 수 있는 것으로서 패키지(100)의 구조적인 안정성을 제공한다.
배선부(110)의 하부와 프레임(130)의 상부에는 외부의 물리적, 화학적 영향 등으로부터 보호할 수 있는 외부층(150)이 형성될 수 있다. 이 경우, 외부층(150)은 도전성 패턴(112, 133) 중 적어도 일부를 노출시키는 개구부를 가질 수 있다. 외부층(150)의 물질은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 솔더 레지스트를 사용할 수 있다. 그 외에도 배선부(110)의 절연층(111)과 동일한 물질을 사용할 수 있으며, 또한, 외부층(150)은 단층인 것이 일반적이나, 필요에 따라 다층으로 구성될 수도 있다.
도시하지는 않았지만, 전자 부품 패키지(100)의 최하부에는 접속 단자가 구비될 수 있다. 접속 단자는 전자 부품 패키지(100)를 외부와 물리적 및/또는 전기적으로 연결시키기 위한 구성으로서, 예를 들면, 전자 부품 패키지(100)는 접속 단자를 통하여 전자 기기의 메인 보드에 실장 된다. 접속 단자는 외부층(150)에 형성된 개구부를 통하여 도전성 패턴(112)과 연결되며, 이를 통하여 전자 부품(120) 등과도 전기적으로 연결된다. 접속 단자는 전도성 물질, 예를 들면, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pd), 솔더(solder) 등으로 형성될 수 있으나, 이는 일례에 불과하며 재질이 특별히 이에 한정되는 것은 아니다. 접속 단자는 랜드(land), 볼(ball), 핀(pin) 등일 수 있다. 접속 단자는 다중층 또는 단일층으로 형성될 수 있다. 다중층으로 형성되는 경우에는 구리 필러(pillar) 및 솔더를 포함할 수 있으며, 단일층으로 형성되는 경우에는 주석-은 솔더나 구리를 포함할 수 있으나, 역시 이는 일례에 불과하며 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 외부 접속 단자 중 일부는 팬-아웃(fan-out) 영역에 배치될 수 있다. 팬-아웃(fan-out) 영역이란 전자 부품이 배치된 영역을 벗어나는 영역을 의미한다. 즉, 일례에 따른 전자 부품 패키지(100)는 팬-아웃(fan-out) 패키지이다. 팬-아웃(fan-out) 패키지는 팬-인(fan-in) 패키지에 비하여 신뢰성이 우수하고, 다수의 I/O 단자 구현이 가능하며, 3D 접속 (3D interconnection)이 용이하다. 또한, BGA(Ball Grid Array) 패키지, LGA(Land Grid Array) 패키지 등과 비교하여 별도의 기판 없이 전자 기기에 실장이 가능한바 패키지 두께를 얇게 제조할 수 있으며, 가격 경쟁력이 우수하다.
상술한 전자 부품 패키지(100)의 경우, 인터포저 등의 기판을 따로 포함하지 않기 때문에 컴팩트한 사이즈로 구현될 수 있으며, 나아가, 전자 부품을 실장하기 전에 부분적인 전기 검사를 하기에 적합한 구조이다. 이에 따라, 패키지의 구성 요소 중에서 상대적으로 가격이 비싼 전자 부품(120)의 불필요한 소모를 줄일 수 있다. 즉, 전자 부품들(120)을 실장한 후 전기 검사를 수행하는 경우에는 전자 부품이 아닌 배선부에 불량이 발생하더라도 전자 부품을 사용하지 못하는 문제가 있었다. 이하, 본 발명의 상술한 구조를 갖는 전자 부품 패키지의 제조방법을 설명한다. 제조방법에 대한 설명을 통하여 상술한 실시 예 또는 변형된 예에 따른 패키지 구조가 더욱 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 4 내지 8은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 전자 부품 패키지의 제조방법을 개략적으로 나타낸 것이다.
우선, 도 4에 도시된 예와 같이, 서포트(160) 상에 배선부(110)를 형성한다. 서포트(160)는 두께가 상대적으로 얇은 배선부(110)를 핸들링 하기 위한 것이며 배선부(110)를 지지할 수 있는 기능을 한다면 특별히 채용될 수 있는 물질이 제한되는 것은 아니다. 서포트(160)는 다층 구조일 수 있으며, 후속 공정에서 배선부(110)와 용이하게 제거될 수 있도록 이형층, 금속층 등을 포함할 수 있다. 본 실시 형태의 경우, 후술할 바와 같이 서포트(160)가 배선부(110)와 결합된 상태로 배선부(110)에 대한 전기 검사가 수행될 수 있다.
배선부(110)를 구현하기 위하여 절연층(111), 도전성 패턴(112), 도전성 비아(113)를 의도하는 형상에 맞게 형성하며, 이를 필요한 횟수만큼 반복할 수 있다. 구체적으로, 절연층(111)을 형성하는 방법은 공지의 방법으로 가능하며, 예를 들면, 라미네이션 한 후 경화하는 방법, 도포 및 경화 방법 등으로 형성할 수 있다. 라미네이션 방법으로는, 예를 들면, 고온에서 일정시간 가압한 후 감압하여 실온까지 식히는 핫 프레스 후, 콜드 프레스에서 식혀 작업 툴을 분리하는 방법 등이 이용될 수 있다. 도포 방법으로는, 예를 들면, 스퀴즈로 잉크를 도포하는 스크린 인쇄법, 잉크를 안개화하여 도포하는 방식의 스프레이 인쇄법 등을 이용할 수 있다. 경화는 후 공정으로 포토 리소그래피 공법 등을 이용하기 위하여 완전 경화되지 않게 건조하는 것일 수 있다.
한편, 본 실시 형태의 경우, 전자 부품(120)을 실장하기 전 본 단계에서 전기 검사를 수행할 수 있다. 구체적으로, 배선부(110)가 전기 연결 측면에서 불량이 있는지 여부를 확인하며, 이러한 방법의 일 예로서, 배선부(110) 상부의 도전성 패턴(112)에 검사용 지그를 연결할 수 있다. 이러한 전기 검사에 의하여 배선부(110)의 불량 여부를 사전에 확인할 수 있으므로 전자 부품의 불필요한 소모를 최소화할 수 있다. 즉, 본 검사 과정에서 불량인 것으로 판정된 배선부(110)는 폐기 또는 다른 목적으로 재활용될 수 있으며, 후속 공정을 진행하지 아니함으로써 공정 비용을 절감할 수 있다. 이러한 배선부(110)는 전기 검사를 위하여 데이지 체인과 같은 부가적인 구조를 구비할 수 있으며, 이에 따라 서포트(160)가 하부에 접합된 상태에서도 배선부(110)의 상부를 통하여 전기 검사가 가능하다.
배선부(110)에 대한 전기 검사를 진행한 후에는, 도 5에 도시된 예와 같이, 배선부(110) 상에 전자 부품(120)을 배치하고 실장하며, 이 경우, 전자 부품(120)은 전극 패드(121)가 배선부(110)를 향하도록 배치될 수 있다. 전자 부품(120)의 안정적인 실장을 위하여 전자 부품(120)의 실장 전에 배선부(110) 상에 접착성 전기 연결부(122)와 접착부(123) 등을 형성하여 둘 수 있다.
다음으로, 도 6에 도시된 예와 같이, 관통 홀을 갖는 프레임(130)을 마련하여 배선부(110)와 접합하며 이를 위하여 사이에 접착층(131)이 개재된다. 본 접합 공정 전에 프레임(130)에 레이저나 기계적 가공 등을 통하여 전자 부품(120)에 대응되는 위치에 관통 홀 형성한다. 이 경우, 프레임(130)을 이루는 물질은 특별히 제한되는 것은 아니지만 경화된 상태의 프리프레그를 이용할 수 있다. 이와 달리, 접착층(131)은 안정적인 접합 기능을 제공하는 것이라면 어느 것이나 사용될 수 있으며 미 경화 상태의 프리프레그를 예로 들 수 있으며, 솔더 레지스트를 사용할 수도 있을 것이다. 본 접합 공정에 의하여 접착층(131)은 상술한 바와 같이 관통 홀까지 흐른 상태로 경화될 수 있다.
다만, 본 실시 형태에서는 전자 부품(120)을 실장한 후에 프레임(130)을 접합하는 방식을 설명하고 있지만, 순서는 변경될 수 있다. 즉, 배선부(110)에 대한 전기 검사 후 프레임(130)을 먼저 접합하고 그 후에 전자 부품(120)을 실장할 수도 있을 것이다. 이 경우, 관통 홀은 프레임(130)이 접합되기 전에 형성되어 있거나 접합된 후에 형성될 수도 있을 것이다.
프레임(130)을 접합한 후에, 또는 이와 함께 전자 부품(120)을 덮는 봉합재(140)를 형성한다. 봉합재(140)를 형성하는 방법의 일 예로서, ABF 등의 수지 필름을 미 경화 상태에서 배선부(110)와 프레임(130) 상에 적층한 후 이를 경화하는 방법을 이용할 수 있다. 도 7은 봉합재(140)까지 형성된 형태를 나타낸다. 이 경우, 도시하지는 않았지만 프레임(130)이 형성된 후에는 서포트(160)를 배선부(110)로부터 제거할 수 있다. 서포트(160)를 분리한 후에 잔존하는 물질 들은 당 업계에서 사용되는 에칭과 디스미어(desmear) 공정 등을 적절히 활용하여 제거될 수 있다. 다만, 서포트(160)는 반드시 본 단계에서 제거될 필요는 없고 후속 공정에서 제거될 수도 있을 것이다.
다음으로, 도 8에 도시된 예와 같이, 프레임(130)에 도전성 비아(132)와 도전성 패턴(133)을 형성한다. 프레임(130)과 봉합재(140)에 레이저나 기계적 가공 등을 이용하여 홀을 형성하고 이를 채우도록 도금 등으로 도전성 물질을 충진한다. 이후, 상하부에 솔더 레지스트와 같은 외부층을 적절한 패턴으로 형성함으로써 도 3과 같은 패키지 구조를 얻을 수 있다. 다만 후술할 실시 예와 같이 도전성 비아(132)와 도전성 패턴(133)은 프레임(130)이 배선부(110)에 접합되기 전에 프레임(130)을 적절히 가공하고 금속 박막을 패터닝하는 방법으로 사전에 얻어질 수도 있다. 또한, 상부에 추가적인 전자 부품을 적층하여 실장할 수 있으며, 이를 통해 소위 POP (Package On Package) 구조를 얻을 수 있으며, 추가적인 전자 부품을 보호하는 보호하는 추가적인 봉합재가 형성될 수 있을 것이다.
도 9 내지 13은 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 전자 부품 패키지의 제조방법을 개략적으로 나타낸 것이다.
우선, 도 9에 도시된 예와 같이, 서포트(160) 상에 배선부(110)를 형성하며, 최상부의 절연층(111)은 도전성 패턴(112)의 일부를 노출하는 형상으로 제공된다. 이후, 노출된 도전성 패턴(112)과 연결되도록 도전성 범프(124)를 형성한다. 도전성 범프(124)는 전자 부품(120)과 프레임(130)의 도전성 비아(132)와 안정적인 결합 구조를 형성하기 위한 것이다. 이 경우, 앞서 설명한 바와 같이 도전성 범프(124)를 형성하기 전에 배선부(110)에 대한 전기 검사가 실행될 수 있다.
다음으로, 도 10에 도시된 예와 같이, 배선부(110) 상에 전자 부품(120)을 배치하고 실장하며, 리플로우와 같은 공정을 이용하여 전극 패드(121)는 도전성 범프(121)와 직접 연결될 수 있다. 전자 부품(120)을 실장한 후에는 보다 안정적인 실장 구조를 얻기 위하여 도 11에 도시된 예와 같이, 배선부(110)와 전자 부품(120) 상에 언더필 수지(125)를 충진할 수 있다.
다음으로, 도 12에 도시된 예와 같이, 관통 홀을 갖는 프레임(130)을 접합층(131)을 이용하여 배선부(110)와 접합한다. 본 실시 형태의 경우, 프레임(130)에는 도전성 비아(132)와 도전성 패턴(133) 등이 미리 형성되어 있는 상태에서 배선부(110)와 접합될 수 있다. 구체적인 예를 들면, 프레임(130)의 기본 구조로서 CCL (Copper Clad Laminate)을 이용할 수 있으며 이러한 CCL에에 홀 가공을 하고 이를 도전성 물질로 충진하는 공정, 금속 박막을 적절히 패터닝하는 공정 등을 실행함으로써 프레임(130)을 얻을 수 있다.
앞선 공정과 같은 방식으로 프레임(130)을 접합한 후에, 또는 이와 함께 전자 부품(120)을 덮는 봉합재(140)를 형성하며, 이후, 도 13에 도시된 예와 같이, 봉합재(140)에 레이저나 기계적 가공 등을 이용하여 오픈 영역을 형성하며, 이에 의하여, 도전성 패턴(133) 등이 노출될 수 있다. 이후, 상하부에 솔더 레지스트와 같은 외부층을 적절한 패턴으로 형성하여 패키지 구조를 얻을 수 있으며, 이 경우, 앞서 설명한 바와 같이, 서포트(160)는 프레임(130)이 접합된 이후 적절한 시점에 제거될 수 있을 것이다.
본 발명은 상술한 실시 형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 첨부된 청구범위에 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.
100: 전자 부품 패키지
110: 배선부
111: 절연층
112, 133: 도전성 패턴
113, 132: 도전성 비아
120: 전자 부품
121: 전극 패드
122: 접착성 전기 연결부
123: 접착부
124: 도전성 범프
125: 언더필 수지
130: 프레임
131: 접착층
150: 외부층
140: 봉합재
160: 서포트
110: 배선부
111: 절연층
112, 133: 도전성 패턴
113, 132: 도전성 비아
120: 전자 부품
121: 전극 패드
122: 접착성 전기 연결부
123: 접착부
124: 도전성 범프
125: 언더필 수지
130: 프레임
131: 접착층
150: 외부층
140: 봉합재
160: 서포트
Claims (17)
- 절연층, 상기 절연층에 형성된 도전성 패턴 및 상기 절연층을 관통하여 상기 도전성 패턴과 연결된 도전성 비아를 포함하는 배선부;
상기 배선부 상에 배치된 전자 부품;
상기 배선부 상에 배치되며 상기 전자 부품을 수용하는 관통 홀을 갖는 프레임;
상기 배선부와 상기 프레임을 결합시키는 접착층; 및
상기 관통 홀을 적어도 일부 충진하는 봉합재;
를 포함하는 전자 부품 패키지.
- 제1항에 있어서,
상기 접착층의 일부는 상기 관통 홀의 내면과 상기 전자 부품 사이에 형성된 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지.
- 제2항에 있어서,
상기 관통 홀의 내면과 상기 전자 부품 사이에 형성된 상기 접착층은 상기 봉합재와 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지.
- 제1항에 있어서,
상기 접착층은 프리프레그인 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지.
- 제1항에 있어서,
상기 접착층은 솔더 레지스트인 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지.
- 제1항에 있어서,
상기 배선부에 포함된 절연층은 광 경화성 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지.
- 제1항에 있어서,
상기 프레임을 관통하는 도전성 비아를 더 포함하는 전자 부품 패키지.
- 제7항에 있어서,
상기 봉합재는 상기 프레임을 덮도록 형성되되 상기 프레임의 도전성 비아에 대응하는 영역은 노출시키는 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지.
- 제7항에 있어서,
상기 봉합재 상에는 상기 프레임의 도전성 비아와 전기적으로 연결된 도전성 패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지.
- 제1항에 있어서,
상기 배선부 상에 형성되어 상기 전자 부품과 연결되는 전극 패드를 노출시키는 솔더 레지스트를 더 포함하는 전자 부품 패키지.
- 제1항에 있어서,
상기 배선부에서 상기 전자 부품이 배치되는 면의 반대 면의 도전성 패턴은 상기 절연층에 매립되어 있는 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지.
- 제1항에 있어서,
상기 전자부품은 상기 배선부와 솔더에 의하여 전기적으로 연결된 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지.
- 절연층, 상기 절연층에 형성된 도전성 패턴 및 상기 절연층을 관통하여 상기 도전성 패턴과 연결된 도전성 비아를 포함하는 배선부를 마련하는 단계;
상기 배선부 상에 전자 부품을 배치하는 단계;
관통 홀을 갖는 프레임을 마련하여 접착층을 매개로 상기 배선부의 상면과 접합하는 단계; 및
상기 관통 홀의 적어도 일부를 충진하도록 봉합재를 형성하는 단계;
를 포함하는 전자 부품 패키지 제조방법.
- 제13항에 있어서,
상기 배선부의 상면에 배치된 도전성 패턴에 전기 신호를 인가하여 상기 배선부에 대한 전기 검사를 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지 제조방법.
- 제14항에 있어서,
상기 배선부를 마련하는 단계는 서포트 상 상기 절연층, 도전성 패턴 및 도전성 비아를 형성하는 단계를 포함하며,
상기 전기 검사를 수행하는 단계는 상기 서포트가 상기 배선부와 결합된 상태로 실행되는 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지 제조방법.
- 제13항에 있어서,
상기 접착층은 상기 봉합재와 접촉하는 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지 제조방법.
- 제13항에 있어서,
상기 프레임은 상기 전자 부품이 상기 배선부 상에 배치된 상태에서 상기 배선부와 접합되는 것을 특징으로 하는 전자 부품 패키지 제조방법.
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