KR101826020B1 - 무용제형 광경화 잉크젯 조성물 및 투명 경화막 - Google Patents

무용제형 광경화 잉크젯 조성물 및 투명 경화막 Download PDF

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Abstract

본 발명은 무용제로 친환경적이며, 잉크젯 공정에 사용이 가능하고, 투과성, 내열성, 무기 장벽층 부착성, 제팅안정성 및 저장안정성 등의 물성이 우수한 무용제형 광경화 잉크젯 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 따르면 증대된 표면 경화도를 갖는 박막 타입의 투명 경화막을 제공할 수 있어 디스플레이 장치를 제조하는 공정에서 오버코트 재료 또는 봉지막 재료로서 사용하는 전자 소자를 제공하는 효과가 있다.

Description

무용제형 광경화 잉크젯 조성물 및 투명 경화막 {NON SOLVENT TYPE PHOTOCURABLE INK­JET COMPOSITION AND TRANSPARENT FILM}
본 발명은 무용제로 친환경적이며, 잉크젯 공정에 사용이 가능하고, 투과성, 내열성, 무기 장벽층 부착성, 제팅안정성 및 저장안정성 등의 물성이 우수한 무용제형 광경화 잉크젯 조성물 및 투명 경화막에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 표면 경화도가 증대된 투명 경화막을 제공할 수 있어 디스플레이 장치를 제조하는 공정에서 오버코트 재료 또는 봉지막 재료로서 사용가능한 무용제형 광경화 잉크젯 조성물 및 투명 경화막에 관한 것이다.
액정디스플레이, 유기발광디스플레이 및 플라즈마 디스플레이 등의 칼라 필터나 각종 배선을 제조하는데 잉크젯 공정이 널리 활용되고 있다.
잉크젯 공정은 잉크젯 프린터 등의 장비를 이용하여 액상의 원료 물질을 미리 설계된 패턴에 따라 인쇄한 후 건조시켜 원하는 박막을 형성하는 방법이다. 따라서 기존 공정에 비해 적은 양의 물질을 사용하게 되어 경제성이나 친환경적인 면에서 매우 혁신적인 공정으로 알려져 있다.
상기 잉크젯 장비에 이용되는 잉크로는, 상온에서 고형인 왁스 잉크, 유기용제를 주성분으로 한 용제계 잉크, 물을 주성분으로 한 수성 잉크, 광의 조사에 의해 경화되는 광경화 잉크 등이 있다. 상기 용제계 잉크 관련 선행기술로서 한국특허공개 제2016-7009125호에 따르면 적어도 안료와 유기용제와 바인더 수지와 분산제를 함유하고, 상기 분산제의 중량평균분자량(Mw)이 5,000 이상 50,000 미만, 산가(mgKOH/g)가 5~20, 아민가(mgKOH/g)가 5~50인 용제계 잉크젯 잉크를 개시한다. 그러나 용제계 잉크는 용제의 건조공정으로 인해 환경친화적이지 않은 문제가 있다.
이러한 이유로 무용제형이면서 광중합성의 잉크젯 공정에 적용할 수 있는 투명 잉크가 요구된다. 참고로, 투명 잉크는 디스플레이를 제조하는 공정에서 오버코트(overcoat)재료 또는 봉지재료로 많이 활용되고 있다. 이러한 오버코트와 봉지막은 하부 층을 덮어주어 하부층의 높이가 불균일한 것을 평탄화하는 역할과 하부층을 열이나 케미칼로부터 보호하는 역할을 한다. 또한 후처리 공정을 거칠 시 투명 박막의 특성이 변하지 않는 내적 특성이 요구된다.
그러나 무용제 투명 잉크 또한 경화막 표면에서 공기 중 산소 또는 수분에 의한 라디칼 ??칭(Radical quenching)에 의해 표면 경화도가 불량할 수 있다.
이에 본 발명의 목적은 무용제형으로 광경화 잉크젯 공정에 적용할 수 있고, 제팅안정성이 우수하며, 광 조사에 의해 가스를 발생하고 상기 가스의 작용에 의해 경화막의 표면 경화도를 증대시킬 수 있는 광 응답성 가스 발생제를 포함하는 무용제 잉크젯 조성물 및 이의 투명 경화막을 제공하는데 있다.
본 발명의 일 측면에 의하면, 헤테로 원자를 함유한 골격과 상기 골격에 결합되며 적어도 하나의 질소 원자를 함유한 분지 사슬로 이루어지고 광 조사에 의해 가스를 발생하는 광 응답성 가스 발생제(A)를 포함하는 무용제형 광경화 잉크젯 조성물을 제공한다.
본 발명의 다른 측면에 의하면, 상기 조성물에 150 내지 600 nm 범위의 전자기 방사선을 광 조사하는 단계를 포함하되, 상기 광 조사에 의해 발생하는 가스의 작용에 의해 증가된 표면 경화도를 제공하는 에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 화합물의 광중합 방법을 제공한다.
본 발명의 또 다른 측면에 의하면, 하나 이상의 표면이 상기 조성물의 투명 경화막을 갖는 전자 소자를 제공한다.
본 발명의 무용제형 광경화 잉크젯 조성물에 따르면, 잉크젯 공정에 사용이 가능하고, 투과성, 내열성, 무기 장벽층에의 부착성, 제팅안정성 및 저장안정성 등의 물성이 우수하며, 박막 표면에서의 라디칼 ??칭을 최소화하여 표면 경화도가 증대된 투명 경화막을 제공할 수 있다.
이하 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 무용제형 광경화 잉크젯 조성물은 광 조사에 의해 가스를 발생하는 광 응답성 가스 발생제(A)를 포함한다.
상기 광 응답성 가스 발생제는 일례로 광 조사에 의해 가스를 발생하는 물질을 지칭하는 것으로, 일례로 (케토)옥심 에스터 기본구조를 갖는 경우 하기 반응식 1에 따라 광 조사 시 CO2가스를 발생할 수 있고, 발생한 CO2가스에 의해 대기중의 수분과 형성된 라디칼과의 접촉 차단 효과로 인해 ??칭 반응을 억제 할 수 있어 무용제 조성물에서의 표면 경화도를 증대시킬 수 있다.
[반응식 1]
Figure 112017025202519-pat00001
일 구현예에서, 상기 광 응답성 가스 발생제는 헤테로 원자를 함유한 골격과 상기 골격에 결합되며 적어도 하나의 질소 원자를 함유한 분지 사슬로 이루어진다. 상기 헤테로 원자를 함유한 골격의 비제한적인 예는 벤조카바졸 구조 혹은 페닐티오페닐 구조를 갖는 것일 수 있다.
그리고 상기 분지 사슬은 하기 화학식 1로 표시되는 구조를 갖는 것일 수 있다:
[화학식 1]
Figure 112017025202519-pat00002
식 중에서, X는 CO 또는 직접 결합(direct bond), 즉 존재하지 않거나 CO 연결기이고;
R1은 수소, C3-C8시클로알킬, C2-C5알케닐, C1-C20알콕시, 또는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, C1-C20알킬페닐 또는 CN에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는 R1은 페닐 또는 나프틸이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, C1-C4할로알킬, 할로겐, CN, OR4, SR5 및/또는 NR6R7에 의해 치환되거나; 또는 R1은 C3-C20헤테로아릴, C1-C8알콕시, 벤질옥시 또는 페녹시이고, 상기 벤질옥시 및 페녹시는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, C1-C4할로알킬 및/또는 할로겐에 의해 치환되고;
R2는 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 페닐, 할로겐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR4, SR5, NR6R7, PO(OCkH2k + 1)2, SO-C1-C10알킬, SO2-C1-C10알킬에 의해, 1개 이상의 O, S 또는 NR13이 치환된 C2-C20알킬에 의해 치환되거나, 또는 이들 각각은, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR4, CONR6R7, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아릴옥시카르보닐, C3-C20헤테로아릴옥시카르보닐, OR4, SR5 또는 NR6R7에 의해 치환된 C1-C20알킬에 의해 치환되거나; 또는 R2는 수소, C2-C12알케닐, 비치환되거나 또는 1개 이상의 O, CO 또는 NR13이 치환된 C3-C8시클로알킬이거나; 또는 R2는 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR4, SR5, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아릴옥시카르보닐, C3-C20헤테로아릴옥시카르보닐, NR6R7, COOR4, CONR6R7, PO(OCkH2k + 1)2,
Figure 112017025202519-pat00003
,
Figure 112017025202519-pat00004
, 페닐에 의해 치환된 C1-C20알킬이고, 상기 알킬은 C1-C20할로겐, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, OR4, SR5 또는 NR6R7에 의해 치환된 페닐에 의해 치환되거나; 또는 R2는 1개 이상의 O, SO 또는 SO2가 치환된 C2-C20알킬이고, 상기 치환된 C2-C20알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OR4, COOR4, CONR6R7, 페닐에 의해 또는 OR4, SR5 또는 NR6R7에 의해 치환된 페닐에 의해 치환되거나; 또는 R2는 C2-C20알카노일, 또는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, 할로겐, 페닐, OR4, SR5 또는 NR6R7에 의해 치환된 벤조일이거나; 또는 R2는 비치환되거나 또는 1개 이상의 OR4에 의해 치환된 나프토일이거나, 또는 C3-C14헤테로아릴카르보닐이거나; 또는 R2는 비치환되거나 또는 1개 이상의 O가 치환된 C2-C12알콕시카르보닐이고, 상기 비치환 또는 치환된 C2-C12알콕시카르보닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 히드록실 기에 의해 치환되거나; 또는 R2는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, 할로겐, C1-C4할로알킬, 페닐, OR4, SR5 또는 NR6R7에 의해 치환된 페녹시카르보닐이거나; 또는 R2는 CN, CONR6R7, NO2, C1-C4할로알킬, S(O)m-C1-C6알킬; 비치환되거나 또는 C1-C12알킬 또는 SO2-C1-C6알킬에 의해 치환된 S(O)m-페닐이거나; 또는 R2는 비치환되거나 또는 C1-C12알킬에 의해 치환된 SO2O-페닐이거나; 또는 디페닐 포스피노일 또는 디(C1-C4알콕시)-포스피노일이고;
m은 1 또는 2이고;
R'1은 상기 R1에 대해 제공된 의미 중 하나를 갖고;
R'2는 상기 R2에 대해 제공된 의미 중 하나를 갖고;
X1은 O, S, SO 또는 SO2이고;
X2는 O, CO, S 또는 직접 결합이고;
삭제
n은 1-20이고;
R4는 수소, 페닐-C1-C3알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OH, SH, CN, C3-C6알켄옥시, OCH2CH2CN, OCH2CH2(CO)O(C1-C4알킬), O(CO)-(C1-C4알킬), O(CO)-(C2-C4)알케닐, O(CO)-페닐, (CO)OH, (CO)O(C1-C4알킬), C3-C20시클로알킬, SO2-(C1-C4할로알킬), O(C1-C4할로알킬)에 의해 또는 1개 이상의 O가 치환된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는 R4는 1개 이상의 O, S 또는 NR13이 치환된 C2-C20알킬이거나; 또는 R4는 (CH2CH2O)n+1H, (CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8알킬), C1-C8알카노일, C2-C12알케닐, C3-C6알케노일, 또는 비치환되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR13이 치환된 C3-C20시클로알킬이거나; 또는 R4는 비치환되거나 또는 1개 이상의 O가 치환된 C1-C8알킬-C3-C10시클로알킬이거나; 또는 R4는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, 할로겐, OH 또는 C1-C3알콕시에 의해 치환된 벤조일이거나; 또는 R4는 페닐, 나프틸 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OH, C1-C12알킬, C1-C12알콕시, CN, NO2, 페닐-C1-C3알킬옥시, 페녹시, C1-C12알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C12알킬)2, 디페닐아미노 또는
Figure 112017025202519-pat00005
에 의해 치환되거나; 또는 R4는 기
Figure 112017025202519-pat00006
가 위치한 페닐 또는 나프틸 고리의 탄소 원자 중 1개에 대한 직접 결합을 형성하고;
R5는 수소, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 페닐-C1-C3알킬이고, 여기서 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 페닐-C1-C3알킬은 비치환되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR13 또는 COOR4가 치환되거나; 또는 R5는 비치환되거나 또는 1개 이상의 OH, SH, CN, C3-C6알켄옥시, OCH2CH2CN, OCH2CH2(CO)O(C1-C4알킬), O(CO)-(C2-C4)알케닐, O(CO)-(C1-C4알킬), O(CO)-페닐 또는 (CO)OR4에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는 R5는 1개 이상의 O, S, CO, NR13 또는 COOR4가 치환된 C2-C20알킬이거나; 또는 R5는 (CH2CH2O)nH, (CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8알킬), C2-C8알카노일 또는 C3-C6알케노일이거나; 또는 R5는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, 할로겐, OH, C1-C4알콕시 또는 C1-C4알킬술파닐에 의해 치환된 벤조일이거나; 또는 R5는 페닐, 나프틸 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C12알킬, C1-C4할로알킬, C1-C12알콕시, CN, NO2, 페닐-C1-C3알킬옥시, 페녹시, C1-C12알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C12알킬)2, 디페닐아미노, (CO)O(C1-C8알킬), (CO)-C1-C8알킬, (CO)N(C1-C8알킬)2 또는
Figure 112017025202519-pat00007
에 의해 치환되고;
R6 및 R7은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C2-C4히드록시알킬, C2-C10알콕시알킬, C2-C5알케닐, C3-C20시클로알킬, 페닐-C1-C3알킬, C1-C8알카노일, C1-C8알카노일옥시, C3-C12알케노일, SO2-(C1-C4할로알킬) 또는 벤조일이거나; 또는 R6 및 R7은 페닐, 나프틸 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C4할로알킬, C1-C20알콕시, C1-C12알킬, 벤조일 또는 C1-C12알콕시에 의해 치환되거나; 또는 R6 및 R7은 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 비치환되거나 또는 O, S 또는 NR4가 치환된 5-멤버 또는 6-멤버 포화 또는 불포화 고리를 형성하고, 상기 5멤버 또는 6멤버 포화 또는 불포화 고리는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, C1-C20알콕시, =O, OR4, SR5, NR8R9, (CO)R10, NO2, 할로겐, C1-C4-할로알킬, CN, 페닐에 의해 또는 비치환되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR4가 치환된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환되거나; 또는 R6 및 R7은 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, C1-C20알콕시, =O, OR4, SR5, NR8R9, (CO)R10,
Figure 112017025202519-pat00008
, 할로겐, NO2, CN, 페닐에 의해 또는 비치환되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR4가 치환된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환된 헤테로방향족 고리계를 형성하고;
R8 및 R9는 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, C3-C10시클로알킬 또는 페닐이거나; 또는 R8 및 R9는 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 비치환되거나 또는 O, S 또는 NR13이 치환된 5멤버 또는 6멤버 포화 또는 불포화 고리를 형성하고, 상기 5멤버 또는 6멤버 포화 또는 불포화 고리는 축합되지 않거나 또는 상기 5멤버 또는 6멤버 포화 또는 불포화 고리에 벤젠 고리가 축합되고;
R10은 수소, OH, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 O, CO 또는 NR13이 치환된 C2-C20알킬, 비치환되거나 또는 O, S, CO 또는 NR13이 치환된 C3-C20시클로알킬이거나, 또는 R10은 페닐, 나프틸, 페닐-C1-C4알킬, OR4, SR5 또는 NR8R9이고;
R11은 (CO)OR4, CONR6R7, (CO)R4이거나; 또는 R11은 상기 R6 또는 상기 R7에 대해 제공된 의미 중 하나를 갖고;
R12는 COOR4, CONR6R7, (CO)R4이거나; 또는 R12는 상기 R4에 대해 제공된 의미 중 하나를 갖고;
R13은 수소, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 1개 이상의 O 또는 CO가 치환된 C2-C20알킬이거나, 또는 페닐-C1-C4알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 O 또는 CO가 치환된 C3-C8시클로알킬이거나, 또는 (CO)R6이거나, 또는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, 할로겐, C1-C4할로알킬, OR4, SR5, NR6R7 또는
Figure 112017025202519-pat00009
에 의해 치환된 페닐이다.
구체적인 예로, 상기 R1은 C1-C20알킬, 페닐 또는 C1-C8알콕시이고; 상기 R2는 C1-C20알킬, 페닐, 나프틸, C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각이 1개 이상의 OR4 또는 C1-C20알킬에 의해 치환되거나, 또는 R2는 티에닐, 수소, 비치환되거나 또는 1개 이상의 OR4, SR5, C3-C8시클로알킬, NR6R7에 의해 또는 COOR4에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는 상기 R2는 SO2가 치환된 C2-C20알킬이고;
삭제
R4가 수소, C1-C8알카노일, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, O(CO)-(C1-C4알킬), O(CO)-(C2-C4)알케닐에 의해 또는 1개 이상의 O가 치환된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는 R4가 1개 이상의 O가 치환된 C2-C20알킬이고;
R5가 C3-C20시클로알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 OH, O(CO)-(C2-C4)알케닐 또는 (CO)OR4에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는 R5가 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐에 의해 치환된 페닐이고;
R6 및 R7이 서로 독립적으로 C1-C8알카노일 또는 C1-C8알카노일옥시이거나; 또는 R6 및 R7이 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, O가 치환된 5멤버 또는 6멤버 포화 고리를 형성하는 것이다.
상기 헤테로 원자를 함유한 골격이 벤조카바졸 구조이고 상기 화학식 1로 나타내는 분지 사슬을 갖는 광 응답성 가스 발생제(A)는 구체적인 예로 하기 화학식 1-1로 표현되는 구조를 갖는 것일 수 있다.
[화학식 1-1]
Figure 112017025202519-pat00010
(R0은 -H,
Figure 112017025202519-pat00011
Figure 112017025202519-pat00012
이고, R1, R2, X는 상기 화학식 1에서 정의된 것과 같다.)
상기 헤테로 원자를 함유한 골격이 페닐티오페닐 구조이고 상기 화학식 1로 나타내는 분지 사슬을 갖는 광 응답성 가스 발생제(A)는 하기 화학식 1-2로 표현되는 구조를 갖는 것일 수 있다.
[화학식 1-2]
Figure 112017025202519-pat00013
(R1, R2, X는 상기 화학식 1에서 정의된 것과 같다.)
상기 광 응답성 가스 발생제(A)는 다음의 일반식 (a1-1) 내지 (a1-70)으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종일 수 있다.
Figure 112017025202519-pat00014
Figure 112017025202519-pat00015
Figure 112017025202519-pat00016
Figure 112017025202519-pat00017
Figure 112017025202519-pat00018
상기 일반식 (a1-1) 내지 (a1-70)에서 보듯이, 본 발명의 일 구현예에 따른 광 응답성 가스 발생제(A)는 광 조사시 질소 라디칼과 함께 CO2 가스가 발생되는 분지 구조를 갖는다. 특히 투명 경화막의 투과성을 높이도록 상기 일반식 (a1-1) 내지 (a1-30)을 사용하는 것이 바람직하다.
구체적인 예로, 상기 광 응답성 가스 발생제(A)는 (E)-1-(((1-(9-에틸-6-(티오펜-2-카보닐)-9H-카르바졸-3-일)에틸리덴)아미노)옥시)에탄온, 혹은 (E)-2-(아세톡시이미노)-1-(4-(페닐티오)페닐)-2-(o-톨일)에탄온 등일 수 있다. 한편, 통상 사용하는 키톤 타입의 1-히드록시시클로헥실(페닐)메탄온(Irgacure184), 혹은 디페닐포스포릴(메시틸)메탄온 등은 광 조사시 가스를 발생하지 않으므로, 본 발명에서 이용하는 가스의 작용에 의한 표면 경화도 증대 효과를 제공할 수 없어 본 발명에서 적용하기에 적절하지 않다.
상기 광 응답성 가스 발생제(A)는 조성물 전체 중량에 대하여 0.1 내지 10 중량%의 함량으로 사용될 수 있다. 이때 상기 함량이 0.1 중량% 미만일 경우 광경화가 잘 일어나지 않을 수 있고, 10 중량% 초과인 경우 조성물을 구성하는 다른 성분으로서 후술하는 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B)의 용해도 저하로 인해 석출이 일어날 수 있다. 따라서 광 응답성 가스 발생제(A)는 그 함량이 조성물 전체 중량에 대하여 0.1~10 중량%일 수 있으며, 바람직하게는 0.5~7 중량%, 더욱 바람직하게는 1~5 중량%일 수 있다.
일 구현예에 따르면, 상기 조성물은 하나 이상의 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B)를 포함할 수 있고, 상기 하나 이상의 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물은 조성물 전체 중량에 대하여 40 내지 98.9 중량%의 함량으로 사용될 수 있다. 이때 40 중량% 미만이거나 98.9 중량% 초과인 경우 잉크젯 공정에 적합한 점도를 조절할 수 없다. 참고로, 잉크젯 공정에 적합한 점도는 제팅 안정성을 고려할 때, 25℃에서 점도값이 5 내지 30 cPs일 수 있고, 8 내지 25 cPs인 것이 바람직하며, 8 내지 20 cPs인 것이 보다 바람직하다. 따라서 상기 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B)는 조성물 전체 중량에 대하여 40~98.9 중량%일 수 있으며, 바람직하게는 50~95 중량%, 더욱 바람직하게는 75~95 중량%일 수 있다.
일 구현예에 따르면, 상기 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B)은 단관능 중합성 모노머, 다관능 중합성 모노머 혹은 이들의 올리고머일 수 있다. 상기 단관능 중합성 모노머는 에틸렌성 불포화 단관능 중합성 모노머라면 제한없이 사용가능하지만, 하기 화학식 2로 나타내는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 단관능 중합성 모노머인 것이 점도는 낮추면서 광경화 효율을 개선할 수 있어 바람직하다.
[화학식 2]
Figure 112017025202519-pat00019
식 중에서, R8은 수소 또는 메틸이고, R9는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 탄소수 7 내지 30의 1가의 유기기이며, n은 0 내지 10의 정수이다.
상기 화학식 2에서, R9의 비제한적인 예는, 하기 일반식 (b1-1) 내지 (b1-4) 중에서 어느 하나로 나타내는 기일 수 있다.
Figure 112017025202519-pat00020
상기 식들 중에서, R10은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬이며, *은 결합손이다.
상기 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 단관능 중합성 모노머는 상기 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B) 중량 중 20 내지 50 중량%의 함량으로 사용될 수 있다. 이때 20 중량% 미만이거나 50 중량% 초과인 경우 제팅 안정성, 낮은 점도 및 광경화 효율을 고려할 때 적절하지 않다.
상기 다관능 중합성 모노머는, 일례로 트리시클로데칸 디메탄올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 F 에틸렌 옥사이드변성 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에틸렌 옥사이드변성 디(메타)아크릴레이트, 이소시아눌산 에틸렌 옥사이드변성 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드변성 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌 옥사이드변성 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 카프로락톤변성 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드변성 인산 트리(메타)아크릴레이트, 트리스[(메타)아크릴옥시에틸]이소시아누레이트, 카프로락톤변성 트리스[(메타)아크릴옥시에틸]이소시아누레이트, 하기 화학식 3으로 나타내는 화합물 및 하기 화학식 4로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종일 수 있다.
[화학식 3]
Figure 112017025202519-pat00021
[화학식 4]
Figure 112017025202519-pat00022
(식들 중에서, R11, R13은 독립적으로 수소 또는 메틸이고, R12는 m값의 유기기이며, R14는 2가의 유기기이며, R15는 l가의 유기기이고, l과 m은 각각 2 내지 20의 정수이다.)
상기 다관능 중합성 모노머는 그 함량이 상기 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B) 중량 중 50~80 중량%의 함량으로 사용될 수 있다. 이때 50 중량% 미만이거나 80 중량% 초과인 경우 제팅 안정성, 낮은 점도 및 광경화 효율을 고려할 때 적절하지 않다.
고분자 수지(C)는 조성물 전체 중량에 대하여 1 내지 50 중량%의 함량으로 사용될 수 있다. 이때 1 중량% 미만이거나 50 중량% 초과인 경우 경화막의 투과성, 내열성, 무기 장벽층에의 부착성 등과 같은 물성을 원하는 점도 범위 내에서 적절히 조절할 수 없다. 참고로, 잉크젯 공정에 적합한 점도는 제팅 안정성을 고려할 때, 25℃에서 점도값이 5 내지 30 cPs일 수 있고, 8 내지 25 cPs인 것이 바람직하며, 8 내지 20 cPs인 것이 보다 바람직하다. 따라서 상기 고분자 수지(C)는 그 함량이 조성물 전체 중량에 대하여 1~50중량%일 수 있으며, 바람직하게는 1~30중량%일 수 있다.
상기 고분자 수지(C)의 비제한적인 예로서, (메트)아크릴레이트 공중합체, 폴리이소프렌, 폴리부타디엔, 폴리우레탄, 폴리에스터, 폴리이미드, 폴리아믹산, 황을 포함하는 폴리이미드 및 폴리실록산으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
상기 (메트)아크릴레이트 공중합체는 일예로, 하기 화학식 2로 나타내는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 단관능 중합성 모노머: 방향족 탄화수소기를 갖는 탄소수 7 내지 30의 (메트)아크릴레이트: 알킬의 탄소수가 1 내지 4인 히드록시알킬 (메트)아크릴레이트: (메트)아크릴레이트의 몰 비가 30~50: 20~40: 5~15: 15~25인 것이 25℃에서 점도가 5 내지 30 cPs를 만족할 수 있어 바람직하다. 상기 화학식 2로 나타내는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 단관능 중합성 모노머: 방향족 탄화수소기를 갖는 탄소수 7 내지 30의 (메트)아크릴레이트: 알킬의 탄소수가 1 내지 4인 히드록시알킬 (메트)아크릴레이트: 및 (메트)아크릴레이트의 몰 비는 바람직하게는 35~45: 25~35: 5~15: 15~25일 수 있고, 더욱 바람직하게는 38~42: 28~32: 8~12: 18~22일 수 있다.
[화학식 2]
Figure 112017025202519-pat00023
식 중에서, R8은 수소 또는 메틸이고, R9는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 탄소수 7 내지 30의 1가의 유기기이며, n은 0 내지 10의 정수이다.
상기 (메트)아크릴레이트 공중합체는, 구체적인 예로 이소보닐 아크릴레이트: 벤질 메타크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트 메타크릴레이트 모노머의 몰 비가 30~50: 20~40: 5~15: 15~25일 수 있다.
일 구현예에 따르면, 상기 조성물은 상기 광 응답성 가스 발생제(A) 이외에 발명에 악영향을 미치지 않는 범위내에서 추가 광 개시제, 및/또는 기타 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 추가 광 개시제 및/또는 기타 첨가제는 조성물 전체 중량에 대하여 0.001 내지 10 중량%의 함량으로 사용될 수 있다. 이때 0.001 중량% 미만이거나 10 중량% 초과인 경우 경화막의 투과성, 내열성, 무기 장벽층에의 부착성, 제팅안정성 등이 불량할 수 있다.
상기 기타 첨가제는 일례로 계면활성제, 기판과의 부착을 강화하기 위한 접착보조제, 안정제, 접착 촉진제, 경화 촉진제, 열중합 억제제, 분산제, 가소제, 충전제, 소포제 등일 수 있다.
상기 계면활성제는 도포성, 소포성, 레벨링성 등을 향상시킬 수 있으며, 계면활성제의 비제한적인 예로는 BM-1000, BM-1100 (이상 BM 케미사 제조), 메가팍F142D, 메가팍 F172, 메가팍 F173, 메가팍 F183 (이상 다이닛폰 잉크 화학공업사 제조), 플로라드 FC-135, 플로라드 FC-170C, 플로라드 FC-430, 플로라드 FC-431 (이상 스미토모 쓰리엠사 제조), 사프론 S-112, 사프론 S-113, 사프론 S-131, 사프론 S-141, 사프론 S-145 (이상 아사히 그라스사 제조), SH-28PA, SH-190, SH- 193, SZ-6032, SF-8428 (이상 도레 실리콘사 제조) 등의 불소계 계면 활성제를 들 수 있다.
상기 접착 보조제의 비제한적인 예로는, 관능성 실란 커플링제를 들 수 있으며, 상기 관능성 실란 커플링제로는 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 들 수 있다. 구체적인 예로, 트리메톡시실릴벤조산, γ-메타크릴록시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
상기 무용제형 잉크젯 광경화 조성물은 상기 각 성분을 통상의 방법으로 혼합하고 교반하는 것으로 충분히 혼합될 수 있다. 상기 혼합 후 추가로 필터 등을 사용하여 여과하여도 좋다.
일 구현예에 따르면, 상기 조성물에 150 내지 600 nm 범위의 전자기 방사선을 광 조사하는 단계를 포함하되, 상기 광 조사에 의해 발생하는 가스의 작용에 의해 증가된 표면 경화도를 제공하는 에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 화합물의 광중합 방법을 제공한다.
상기 전자기 방사선의 비제한적인 예로는 마이크로파, 적외선, 가시광선, 자외선, X선, γ선, 전자선, 양자선, 중성자선, 이온선 등이 포함된다. 상기 전자기 방사선의 공급원은 일례로 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈할라이드 램프, 아르곤 가스 레이저, LED 램프 등을 사용할 수 있다. 또한, 방사선에는 방사선 조사량은 조성물의 조성이나 형성하고자 하는 투명 경화막의 막 두께 등에 따라서도 상이한데, 예를 들어 LED 램프를 사용하는 경우 30 내지 1000 mJ/㎠, 바람직하게는 100 내지 1000 mJ/㎠일 수 있다.
일 구현예에 따르면, 하나 이상의 표면이 상기 무용제형 잉크젯 광경화 조성물의 투명 경화막을 갖는 전자 소자를 제공한다.
상기 투명 경화막은 일례로 인쇄 잉크, 인쇄 플레이트, 봉지재, 전자소자용 포토레지스트, 전기도금 레지스트, 에칭 레지스트, 액체 및 건조 필름, 솔더 레지스트, 다양한 디스플레이 적용을 위한 컬러 필터를 제조하기 위한 레지스트, 플라즈마-디스플레이 패널, 전계발광 디스플레이 및 LCD의 제조 공정에서의 구조체를 생성하기 위한 레지스트, LCD용 스페이서 제조를 위한 조성물, 홀로그래피 데이터 저장 (HDS)을 위한 조성물, 전기 및 전자 부품을 캡슐화하기 위한 조성물로서의, 자기 기록 물질, 미세기계 부품, 도파관, 광학 스위치, 도금 마스크, 에칭 마스크, 색교정 시스템, 유리 섬유 케이블 코팅, 스크린 인쇄 스텐실을 제조하기 위한, 스테레오리소그래피에 의해 3차원 물체를 제조하기 위한, 화상 기록 물질로서의, 홀로그래피 기록, 미세전자 회로, 탈색 물질, 화상 기록 물질용 탈색 물질을 위한, 마이크로캡슐을 사용한 화상 기록 물질을 위한, UV 및 가시광 레이저 유도 화상형성 시스템용 포토레지스트 물질로서의, 인쇄회로기판의 순차적 빌드-업 층에서 유전체 층을 형성하기 위해 사용되는 포토레지스트 물질로서의 용도에 적용될 수 있다.
상기 투명 경화막의 투과율은 ASTM D1003에 의거하여 측정한 것으로, 98% 초과값을 나타내었고, 표면 경화도는 기존 대비 현저히 개선된 경화 차이를 보이는 것을 확인할 수 있다.
일 구현예에 따르면, 상기 투명 경화막이 봉지막 재료 또는 오버코트 재료인 전자 소자를 제공한다. 상기 투명 경화막의 기재의 비제한적인 예로는 전자 부품용 기판이나, 이것에 소정의 배선 패턴이 형성된 것 등을 예시할 수 있다. 상기 기판으로는, 실리콘, 질화실리콘, 산화실리콘, 티탄, 탄탈, 팔라듐, 티탄텅스텐, 구리, 크롬, 알루미늄, AlNd, ITO, IGZO 등이 도포된 유리 또는 플라스틱 기판이나 유리 또는 플라스틱 기판 등을 들 수 있다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로, 본 발명을 이에 한정하는 것은 아니다.
[ 실시예 ]
무용제형 잉크젯 광경화 조성물에 관한 실시예에서 광 응답형 가스 발생제(A)로서 (E)-1-(((1-(9-에틸-6-(티오펜-2-카보닐)-9H-카르바졸-3-일)에틸리덴)아미노)옥시)에탄온(타코마테크놀러지(주) 제품명 L5: 광 응답성 가스 발생제를 나타내는 화학식 1-1 중에서 R0=
Figure 112017025202519-pat00024
, R1=CH3, R2=CH3, X=직접 결합인 상기 일반식 (a1-63)에 해당하며, 이하 (A- 1)라 함), 혹은 (E)-2-(아세톡시이미노)-1-(4-(페닐티오)페닐)-2-(o-톨일)에탄온(타코마테크놀러지(주) 제품명 TPM-P07: 광 응답성 가스 발생제를 나타내는 화학식 1-2 중에서 R1=CH3, R2=메틸벤젠, X=CO인 상기 일반식 (a1-63)에 해당하며, 이하 (A- 2)라 함)를 사용하였다.
에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B)를 구성하도록, 상기 화학식 2로 나타내는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 단관능 중합성 모노머로서 화학식 2 중에서 R8=CH3, n=0, R9=일반식 (b1-3)이고 R10=H인 이소보닐 아크릴레이트(점도 7.40 cPs: 이하 (B- 1)이라 함)를 사용하였고, 상기 다관능 중합성 모노머로서 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(점도 57 cPs: 이하 (B- 2)라 함)와 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(점도 4 cPs: 이하 (B-3)이라 함)를 사용하였다.
고분자 수지(C)를 준비하도록, 하기 화학식 2로 나타내는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 단관능 중합성 모노머로서 이소보닐 아크릴레이트(점도 7.40 cPs)를 사용하였고, 방향족 탄화수소기를 갖는 탄소수 7 내지 30의 (메트)아크릴레이트로서 벤질 메타크릴레이트(점도 2.68 cPs)를 사용하였으며, 알킬의 탄소수가 1 내지 4인 히드록시알킬 (메트)아크릴레이트로서 히드록시에틸 메타크릴레이트(점도 6.79 cPs)를 사용하였고 (메트)아크릴레이트로서 메타크릴레이트(점도 0.58 cPs)를 사용하였다. 상기 이소보닐아크릴레이트, 벤질메타아크릴레이트, 하이드록시에틸 메타아크릴레이트, 메타아크릴레이트 모노머가 40:30:10:20의 몰비로 형성된 공중합체를 준비하고 메탄올에 침지한 다음 정제하여 수지 분말상태로 준비하였다.
무용제형 잉크젯 광경화 조성물에 관한 비교예에서 상기 광 응답성 가스 발생제(A) 없이 통상 사용하는 키톤 타입의 광 개시제들로서 1-히드록시시클로헥실(페닐)메탄온(Irgacure184: 이하 (D- 1)라 함), 혹은 디페닐포스포릴(메시틸)메탄온(TPO: 이하 (D- 2)라 함)를 각각 사용하였다.
실시예 1 내지 2, 비교예 1 내지 2:
하기 표 1에 나타낸 함량에 기초하여 실시예 1,2와 비교예 1,2의 조성을 4시간 동안 혼합하고 무용제 광경화 잉크젯 조성물을 수득하였다.
구분 실시예 1 실시예 2 비교예 1 비교예 2
광 응답성 가스 발생제(A) (wt%) A-1 (5) A-2 (5) - -
에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B) (wt%) (B-1) (wt%) 25 25 25 25
(B-2) (wt%) 20 20 20 20
(B-3) (wt%) 40 40 40 40
고분자 수지(C) (wt%) 10 10 10 10
키톤 타입 광 개시제 (wt%) - - D-1 (5) D-2 (5)
수득된 실시예 1 내지 2의 잉크젯 조성물과 비교예 1 내지 2의 잉크젯 조성물을 사용하여 투명 경화막을 다음과 같이 제조하였다.
즉, 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1 및 비교예 2에서 제조된 잉크젯 조성물을 각각 유리기판과 실리콘질화물(SiNx)가 도포되어 있는 기판에 잉크젯팅하고 30mm X 30mm X 10㎛ (가로 X 세로 X 두께) 코팅막을 형성한 후 LED Lamp 1000mJ/㎠ (365nm파장)로 노광하여 투명 경화막을 형성하였다. 제조된 투명 경화막에 대하여 다음과 같은 시험 항목을 수행하였다.
<시험 항목>
투명막의 표면 경화도 평가: 각기 제조된 투명막의 표면을 유리막대로 긁어 표면 경화도를 평가하였다. 기준으로 유리 막대에 잉크가 묻어나오면 미경화로 표기하고, 잉크가 묻어나오지 않으면 경화로 표기하였다.
투명막의 투과율 평가: 유리 기판 위에 제조된 각각의 투명막에 대한 투과도를 분광광도계(spectrophotometer)를 사용하여 ASTM D1003에 의거하여 측정하였다.
투명막의 접착력 평가: 접착력은 실리콘질화물(SiNx)이 도포된 유리기판과 유리기판 사이의 부착력을 측정하기 위한 방법으로 UTM을 사용하여 측정하였다.
구체적으로, 25mm X 70mm X 3mm (가로 X 세로 X 두께)의 실리콘질화물(SiNx)이 도포된 유리기판 위에 0.3mm 테이프로 폭 6mm가 되게 도포공간을 만들어 상기 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1, 비교예 2 각각의 잉크젯 조성물을 도포한 후 동일한 크기의 유리기판을 서로 교차하게 겹쳐 덮고 LED Lamp 1000mJ/㎠ (365nm파장)로 노광하여 시편을 제작하였다.
상부 유리기판을 고정시킨 후 하부 실리콘질화물(SiNx)이 도포된 유리기판 양쪽을 50mm/min의 속도로 누르면서 접착면이 떨어질 때의 최대 힘을 측정하였다.
잉크젯팅 안정성( 제팅안정성 ) 평가: 상기 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1, 비교예 2 각각의 잉크젯 조성물에 대하여 잉크젯 공정 평가를 실시하고 새틀라이트(satellite) 및 노출면 웨팅/드라잉(wetting/drying)의 문제 발생 여부와 정상 토출 여부를 확인하였다.
저장안정성 평가: 상기 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1 및 비교예 2 각각의 잉크젯 조성물을 45℃의 온도에서 5일 동안 보관하면서 점도 변화를 측정하였다. 5일 동안 점도 변화가 10% 이내이면 저장 안정성이 우수한 것으로 평가하였다.
상기 표면경화, 투과율, 접착력, 젯팅안정성 저장안정성에 대한 실험결과를 하기 표 2에 나타내었다.
구분 실시예 1 실시예 2 비교예 1 비교예 2
표면경화 경화 경화 미경화 미경화
투과율 (%) > 98 > 99 > 98 > 99
접착력 (MPa) 1.65 1.75 0.88 0.92
제팅안정성 정상 정상 정상 정상
저장안정성 우수 우수 양호 우수
석출 미발생 미발생 미발생 미발생
상기 표 2에서 보듯이, 본 발명에 따른 광 응답형 가스 발생제(A)를 사용한 실시예 1 및 실시예 2의 무용제 광경화 잉크젯 조성물은 완전한 표면 경화가 일어나는 것으로, 이로부터 광경화시 발생하는 가스가 표면 경화에 영향을 미친 것을 확인할 수 있었다. 이뿐 아니라 투과율, 접착력, 제팅안정성 및 저장안정성 항목에도 우수한 특성을 확인할 수 있었다.
한편, 광 응답형 가스 발생제(A)를 사용하는 대신 통상적인 키톤 타입의 광 개시제(D)를 적용한 비교예 1 및 2의 잉크젯 조성물에서는 표면 경화도에 있어 불량한 결과를 보일 뿐 아니라, 접착력 또한 현저히 불량한 것을 확인할 수 있었다.
<추가 실험예 >
참고예로서, 하기 표 3에 제시한 함량에 따라 추가 실험을 수행하여 4종의 잉크젯 조성물을 준비하였다.
구분 참고예 1 참고예 2 참고예 3 참고예 4
광 응답성 가스 발생제(A) (wt%) A-1 (0.01) A-2 (15) A-1 (10) A-2 (10)
에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B) (wt%) (B-1) (wt%) 25 24 - 30
(B-2) (wt%) 20 19 - 20
(B-3) (wt%) 40 37 - 40
고분자 수지(C) (wt%) 14.99 5 90 -
키톤 타입 광 개시제 (wt%) - - - -
상기 참고예 1 내지 4의 잉크젯 조성물에 대하여 상기 실시예 1과 동일하게 경화막을 형성하고, 상술한 시험 방식에 따라 표면경화, 투과율, 접착력, 젯팅안정성 저장안정성을 각각 측정한 다음 하기 표 4에 정리하였다.
구분 참고예 1 참고예 2 참고예 1 참고예 2
표면경화 미경화 경화 미경화 경화
투과율 (%) > 98 > 98 > 98 > 98
접착력 (MPa) 0.21 1.63 - 0.35
제팅안정성 정상 불량 불량 불량
저장안정성 우수 석출 석출 양호
상기 표 4에서 보듯이, 참고예 1 내지 4의 경우 측정한 물성들 중 접착력, 표면경화, 제팅안정성, 저장 안정성 중 하나 이상에서 불량한 결과를 확인할 수 있었다.

Claims (19)

  1. 헤테로 원자를 함유한 골격과 상기 골격에 결합되며 적어도 하나의 질소 원자를 함유한 분지 사슬로 이루어지고 광 조사에 의해 가스를 발생하는 광 응답성 가스 발생제(A)를 포함하되,
    상기 헤테로 원자를 함유한 골격은 벤조카바졸 구조 혹은 페닐티오페닐 구조를 갖는 것인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
  2. 삭제
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 분지 사슬은 하기 화학식 1로 표시되는 구조를 갖는 것인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
    [화학식 1]
    Figure 112017069535639-pat00025

    (식 중에서, X는 CO 또는 직접 결합(direct bond)이고;
    R1은 C1-C20알킬, 페닐 또는 C1-C8알콕시이고;
    R2는 C1-C20알킬, 페닐, 나프틸, C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각이 1개 이상의 OR4 또는 C1-C20알킬에 의해 치환되거나, 또는 R2는 티에닐, 수소, 비치환되거나 또는 1개 이상의 OR4, SR5, C3-C8시클로알킬, NR6R7에 의해 또는 COOR4에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는 R2는 SO2가 치환된 C2-C20알킬이고;
    R4가 수소, C1-C8알카노일, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, O(CO)-(C1-C4알킬), O(CO)-(C2-C4)알케닐에 의해 또는 1개 이상의 O가 치환된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는 R4가 1개 이상의 O가 치환된 C2-C20알킬이고;
    R5가 C3-C20시클로알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 OH, O(CO)-(C2-C4)알케닐 또는 (CO)OR4에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; 또는 R5가 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐에 의해 치환된 페닐이고;
    R6 및 R7이 서로 독립적으로 C1-C8알카노일 또는 C1-C8알카노일옥시이거나; 또는 R6 및 R7이 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, O가 치환된 5멤버 또는 6멤버 포화 고리를 형성하는 것이다.)
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 광 응답성 가스 발생제(A)는 다음의 일반식 (a1-1) 내지 (a1-70)으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
    Figure 112017025202519-pat00026

    Figure 112017025202519-pat00027

    Figure 112017025202519-pat00028

    Figure 112017025202519-pat00029

    Figure 112017025202519-pat00030
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 조성물은 상기 광 응답성 가스 발생제(A)를 조성물 전체 중량에 대하여 0.1 내지 10 중량%로 포함하는 것인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 조성물은 하나 이상의 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B)를 조성물 전체 중량에 대하여 40 내지 98.9 중량% 포함하고 25℃에서 점도가 5 내지 30 cPs인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B)은 단관능 중합성 모노머, 다관능 중합성 모노머 혹은 이들의 반응생성 올리고머인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 단관능 중합성 모노머는 하기 화학식 2로 나타내는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 단관능 중합성 모노머인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
    [화학식 2]
    Figure 112017025202519-pat00031

    (식 중에서, R8은 수소 또는 메틸이고, R9는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 탄소수 7 내지 30의 1가의 유기기이며, n은 0 내지 10의 정수이다.)
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 화학식 2에서 R9는 하기 일반식 (b1-1) 내지 (b1-4) 중에서 어느 하나로 나타내는 기인 것을 특징으로 하는 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
    Figure 112017025202519-pat00032

    (식들 중에서, R10은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬이며, *은 결합손이다.)
  10. 제 8항에 있어서,
    상기 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 단관능 중합성 모노머는 그 함량이 상기 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B) 중량 중 20~50 중량%인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
  11. 제 7항에 있어서,
    상기 다관능 중합성 모노머가 트리시클로데칸 디메탄올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 F 에틸렌 옥사이드변성 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에틸렌 옥사이드변성 디(메타)아크릴레이트, 이소시아눌산 에틸렌 옥사이드변성 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드변성 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌 옥사이드변성 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 카프로락톤변성 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드변성 인산 트리(메타)아크릴레이트, 트리스[(메타)아크릴옥시에틸]이소시아누레이트, 카프로락톤변성 트리스[(메타)아크릴옥시에틸]이소시아누레이트, 하기 화학식 3으로 나타내는 화합물 및 하기 화학식 4로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
    [화학식 3]
    Figure 112017025202519-pat00033

    [화학식 4]
    Figure 112017025202519-pat00034

    (식들 중에서, R11, R13은 독립적으로 수소 또는 메틸이고, R12는 m값의 유기기이며, R14는 2가의 유기기이며, R15는 l가의 유기기이고, l과 m은 각각 2 내지 20의 정수이다.)
  12. 제 7항에 있어서,
    상기 다관능 중합성 모노머는 그 함량이 상기 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물(B) 중량 중 50~80 중량%인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
  13. 제 1항에 있어서,
    상기 조성물은 고분자 수지(C)를 조성물 전체 중량에 대하여 1 내지 50 중량% 포함하고 25℃에서 점도가 5~30 cPs인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 고분자 수지(C)가 (메트)아크릴레이트 공중합체, 폴리이소프렌, 폴리부타디엔, 폴리우레탄, 폴리에스터, 폴리이미드, 폴리아믹산, 황을 포함하는 폴리이미드 및 폴리실록산으로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
  15. 제 14항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴레이트 공중합체는 하기 화학식 2로 나타내는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 단관능 중합성 모노머: 방향족 탄화수소기를 갖는 탄소수 7 내지 30의 (메트)아크릴레이트: 알킬의 탄소수가 1 내지 4인 히드록시알킬 (메트)아크릴레이트: (메트)아크릴레이트의 몰 비가 30~50: 20~40: 5~15: 15~25이고, 25℃에서 점도가 5 내지 30 cPs인 무용제형 광경화 잉크젯 조성물.
    [화학식 2]
    Figure 112017069535639-pat00035

    (식 중에서, R8은 수소 또는 메틸이고, R9는 축합환식 탄화수소기 또는 다환식 탄화수소기를 갖는 탄소수 7 내지 30의 1가의 유기기이며, n은 0 내지 10의 정수이다.)
  16. 제 1항에 따른 조성물에 150 내지 600 nm 범위의 전자기 방사선을 광 조사하는 단계를 포함하되, 상기 광 조사에 의해 발생하는 가스의 작용에 의해 증대된 표면 경화도를 제공하는 것인 에틸렌계 불포화 이중 결합을 함유하는 화합물의 광중합 방법.
  17. 하나 이상의 표면이 제 1항에 따른 조성물의 경화막을 갖는 전자 소자.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 경화막은 ASTM D1003에 의거하여 측정한 투과율이 98% 초과인 투명 경화막인 전자 소자.
  19. 제17 항에 있어서,
    상기 경화막이 봉지막 또는 오버코트인 전자 소자.
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