KR101811894B1 - 글루탐산-ｎ,ｎ-디아세트산(ｇｌｄａ) 또는 이의 유도체를 함유하는 고체 및 이의 제조 방법 - Google Patents

글루탐산-ｎ,ｎ-디아세트산(ｇｌｄａ) 또는 이의 유도체를 함유하는 고체 및 이의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 또는 이의 유도체 및/또는 염을 포함하는, 충분히 낮은 흡습성을 지닌 고체, 및 이 고체의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

글루탐산-Ｎ,Ｎ-디아세트산(ＧＬＤＡ) 또는 이의 유도체를 함유하는 고체 및 이의 제조 방법{SOLID CONTAINING GLUTAMIC ACID-N,N-DIACETIC ACID(GLDA) OR A DERIVATIVE THEREFROM AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF}
본 발명은 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 유도체를 포함하는 충분히 낮은 흡습성을 지닌 고체를 제조하는 방법에 관한 것이다.
글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및 이의 염 및/또는 유도체는 매우 폭 넓은 다양한 적용 기술 분야에서 알칼리 토금속 이온 및 중금속 이온에 대한 착화제로서 매우 중요하다.
알칼리 토금속 이온 및 중금속 이온에 대한 착화제는, 예를 들면 세제 및 세정제에서 사용된 바와 같이, 일반적으로 수용액으로 합성된다. 특정 적용 사례에 있어서, 그 착화제는 고체 형태로 요구된다.
용액으로부터 고체를 제조하는 통상적인 방법은 구체적으로 결정화(crystallization) 및 분무 건조(spray-drying) 방법이다. 결정질 고체는, 예를 들면 증발 또는 냉각 결정화 방법 동안 생성되는 바와 같이, 결정화 물을 포함할 수 있으며 그리고 주위 조건 하에 대부분의 사례에서 비정질 고체보다 더 작은 흡습성 및 더 큰 저장 안정성을 지닌 것으로 공지되어 있다. 다른 한편으로는, 분무 건조 방법에 의해(예를 들면, 분무탑에서 또는 분무 유동층(spray fluidized-bed)에서), 고체는 비정질 형태로 얻어진다. 이러한 형태에서, 그 고체는 종종 고 흡습성이고, 주위 조건 하에 저장 개방시, 그것은 짧은 시간 내에 유동할 수 있는 성능을 상실하게 된다. 결과적으로, 분무 분말의 저장 안정성을 증가시키는 수단은 문헌에 기술되어 있으며, 예를 들면 벤조산에 의한 세제용 빌더의 치밀화 또는 후처리(post-treatment)는 US 3,932,316에 기술되어 있다.
본 발명의 목적은 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염 또는 유도체를 포함하며 그리고 바람직하게는 처리 및 적용에 있어서 충분히 낮은 흡습성을 갖는 고체를 제공하는 것이다.
본 발명은 다음의 구성성분:
a. 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염 및/또는 유도체(특히, 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염)를 포함하는 코어, 및
b. 하기 일반 화학식 (I)의 화합물(또는 2 이상의 상이한 화합물)을 포함하는 코팅
을 포함하는, 예를 들면 처리 및 적용에 있어서 충분히 낮은 흡습성을 갖는 것이 바람직한 고체에 관한 것이다:
Figure 112012060408230-pct00001
상기 식 중에서,
R은 C1- 내지 C30-알킬 또는 C2- 내지 C30-알케닐이고, 이것은 5개 이하의 히드록실 기, 포르밀 기, C1- 내지 C4-알콕시 기, 페녹시 기 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐 기를 치환기로서 추가로 보유하고 5개 이하의 비인접 산소 원자가 개재할 수 있으며; 또는 R은 화학식 -(CH2)k-O-(A1O)m-(A2O)n-Y의 알콕실레이트 기이고, 여기서 A1 및 A2는 서로 독립적으로 2 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 1,2-알킬렌 기이고, Y는 수소, C1- 내지 C12-알킬, 페닐 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐이며, k는 1, 2 또는 3의 수이고, m 및 n은 각각의 경우 서로 독립적으로 0 내지 50의 수이며, m + n의 합은 4 이상이어야 하고; 또는 R은 알킬 내에 1 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 페닐알킬 기이고; 또는 R은 질소, 산소 및 황으로 이루어진 군으로부터 선택된 3개 이하의 헤테로원자를 보유하고 추가로 벤조 융합될 수 있는 5원 또는 6원 불포화 또는 포화 헤테로사이클릭 고리이고, 여기서 R에 대한 의미에서 특정된 모든 페닐 고리 및 헤테로시클릭 고리는 또한 3개 이하의 C1- 내지 C4-알킬 기, 히드록실 기, 카르보닐 기, 설포 기 및/또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐 기를 치환기로서 추가로 보유할 수 있고; 또는 R은 화학식
Figure 112015127140847-pct00002
의 라디칼이고, 여기서 A는 C1- 내지 C12-알킬렌 브리지 또는 화학 결합이며;
각각의 M은, 나머지와 독립적으로, 상응하는 화학양론적 양으로 존재하는 수소, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄(예를 들면, 유기 아민 염)이다(특히, 각각의 M은, 나머지와 독립적으로, 상응하는 화학양론적 양으로 존재하는 수소, 알칼리 금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄(예를 들면, 유기 아민 염)이다).
본 발명은 또한 본 발명에 따른 고체를 제조하는 방법에 관한 것으로, 여기서 초기에 도입된 시드는 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염 및/또는 유도체(특히, 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염)을 포함하는(또는 로 구성되는) 고체이고, 화학식 (I)의 하나 이상의 화합물에 의한 분무 과립화 또는 코팅(바람직하게는 유동층 장치에서)이 수행된다.
(글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염 및/또는 유도체를 포함하는) 코어 물질이 분말로서 사용된다면, 그 분말은, 분무 과립화 동안, (일반 화학식 (I)의 화합물을 포함하는) 코팅 물질에 의해 함께 우선 부착되어 보다 큰 입자를 생성하는 것이 바람직하고(과립화), 이어서 상기 입자는 그 코팅 물질에 의해 코팅된다. 코어 물질이 초기에 비교적 큰 과립의 형태로 도입된다면, 그 과립은 분문 과립화 동안 코팅 물질에 의해 직접 코팅되는 것이 바람직하다(코팅).
바람직하게는, 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 염은 하기 화학식 (II)의 화합물이다:
M1OOC-(CH2)2-CH(COOM1)-N(CH2COOM1)2 (II)
상기 식 중에서, M1은 수소, 암모늄 또는 알칼리 금속(예를 들면, 나트륨, 칼륨) 및/또는 유기 아민(유기 아민 염)이다. 특히 바람직한 것은 그의 L 형태이다. 더구나, 바람직한 것은 나트륨 염이다.
특히 바람직한 것은 DE 196 49 681에 기술된 바와 같이 화학식 (I)의 화합물이다.
본 발명의 방법에 있어서, 코어 물질의 분말 및/또는 과립은 자체 공지된 적당한 장치에서(바람직하게는 유동층 분무 과립화 장치, 예를 들면 AGT 400 유형(Glatt)의 것에서) 자체 통상적인 방식으로 초기 충전물(시드)로서 도입되고 유동화된다. 여기서, 과립화에 있어서 30 ㎛ - 300 ㎛(특히 50 ㎛ - 200 ㎛)의 입자 크기가 바람직하고, 코팅에 있어서 200 ㎛ - 1000 ㎛(특히 300 ㎛ - 1000 ㎛)의 입자 크기가 바람직하다.
바람직하게는, 코팅 물질(GLDA를 포함하는 물질)은 건조한 물질이고, 즉 구체적으로 코팅 물질은 10% 미만(특히 5% 미만)의 물 함량을 갖는다.
바람직하게는, 코어 물질(GLDA를 포함하는 물질)은 자체 통상적인 방식으로 결정화, 분무 건조 또는 유동층 과립화에 의해 제조된다.
시드는 현탁된 상태로 유동층에 유지되고(유동화), 화학식 (I)의 하나 이상의 화합물을 포함하는 분무화 액적의 층 방식 건조(layer-wise drying)를 위한 표면을 형성한다. 이러한 방식으로 생성된 입자는 건조 조작을 중단하는 일 없이 유연한 방식으로 - 예를 들면 자유롭게 조정가능한 입자 크기로 - 분류하는 배출물을 통한 과립화에 의한 제조 동안 건조 공간으로부터 연속적으로 제거할 수 있다. 순수 코팅에 의한 제조의 경우, 뱃치 조작이 바람직하다.
분무 과립화 방법에 관해서는, 예를 들면 문헌[H.　Uhlemann, L.　Moerl, "Wirbelschicht - Spruehgranulation[Fluidized-bed - spray-granulation]" Springer - Verlag 2000 (ISBN 3-540-66985-X)]을 참조할 수 있다.
본 발명의 방법은 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염 및/또는 유도체를 포함하는 고체가 시드로서 초기에 도입되고, 이어서 자체 통상적인 방식으로 화학식 (I)의 하나 이상의 화합물, 바람직하게는 용액 내에(특히, 수용액, 바람직하게는 약 35-43% 세기, 특히 바람직하게는 약 35-42%, 매우 바람직하게는 약 40% 세기의 수용액 내에) 존재하는 화학식 (I)의 하나 이상의 화합물에 의한 분무 과립화/코팅이 수행되는 방법이다.
바람직하게는, 하기 파라미터들에 의한 분무 과립화/코팅이 수행된다:
바람직한 유입 공기 온도: 90-160℃
바람직한 생성물 온도: 50-120℃
바람직한 유출 공기 온도: 40-110℃
바람직한 공급물 온도: 40-100℃
본 발명에 따른 방법에서, 예를 들면 액상 원료(예를 들면, 35 내지 43% 세기, 바람직하게는 35-42% 세기, 특히 40% 세기의, 화학식 (I)의 화합물의 수용액)가 고온 공기의 스트림으로 유동화하는 (글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염 및/또는 유도체를 포함하는) 시드 상으로 분무되고, 이어서 결과로서 건조되며, 시드는 코팅되거나, 또는 과립화된 후 코팅된다.
유동층 장치는 예를 들면 사이클론 및/또는 필터 및/또는 습식 스크러버를 구비하고 있는 유동층 분무 과립화기인 것이 바람직하다.
여기서, 고체는 정상 주위 조건, 예를 들면 25℃ 및 대기 상대 습도 76% 하에, 1일 이상의 기간, 바람직하게는 1주일의 기간에 걸쳐 보관의 개방시, 고체가 분말 또는 과립(바람직하게는 자유 유동성인 것)으로서 그 점조성을 유지할 때, 비흡습성인 것으로 언급되거나, 충분히 낮은 흡습성인 것으로 언급된다.
본 발명에 따른 고체의 코어는 글루탐산-N,N-디아세트산 및/또는 이의 염 및/또는 유도체, 바람직하게는 일반 화학식 (II)의 화합물을 포함한다:
M1OOC-(CH2)2-CH(COOM1)-N(CH2COOM1)2 (II)
상기 식 중에서, M은 수소, 암모늄, 유기 아민 또는 알칼리 금속(바람직하게는 나트륨)이다. 특히 바람직하게는, 그 코어는 L-글루탐산-N,N-디아세트산 테트라나트륨 염(C9H9NO8Na4, e.g. CAS No.: 51981-21-6)을 포함한다. 바람직하게는, 코어 물질은 Dissolvine(등록상표) GL(Akzo Nobel)을 포함한다.
임의로, 코어는 알칼리 토금속 이온 및/또는 중금속 이온을 위한 하나 이상의 추가 착화제, 예를 들면 폴리아크릴레이트 또는 설폰화 중합체(예, 설폰화 멀티폴리머, 예컨대 Acusol 588(Room and Haas(Dow))와 같은 중합체 또는 에틸렌디아민테트라아세트산(EDTA, 예 Dissolvine NA(Akzo Nobel)), 특히 테트라나트륨 염으로서의 EDTA) 등을 포함할 수 있다.
코어는 GLDA 과립 또는 보조-과립(co-granule)(즉, GLDA의 과립화를 단순화하는 보조제, 예를 들면 폴리카르복실레이트를 지닌 과립)을 포함하는 것이 특히 바람직하다.
본 발명의 문맥 내에서, GLDA의 표현은 바람직하게는 글루탐산-N,N-디아세트산 또는 본원에 기술된 염 중 하나(예를 들면, 테트라나트륨 염)을 의미한다.
본 발명에 따라 제조된 고체는 코팅으로서, 바람직하게는 기본적으로 화학식 (I)의 화합물을 포함하고, 여기서 화학식 (I)의 화합물의 제조로부터 유래되는 소량의 출발 물질 및/또는 부산물이 부가적으로 존재할 수 있다. 이용된 합성 방법에 따라, 화학식 (I)의 화합물에 대한 통상적인 입자는 70 내지 99.9 중량%, 특히 80 내지 99.5 중량%이고, 각각의 경우는 고체 함량을 기준으로 한 것이다.
본 발명에 있어서, R이 C1- 내지 C20-알킬, C2- 내지 C20-알케닐 또는 하기 화학식의 라디칼인 화학식 (I)의 화합물이 바람직하게도 적합하다.
Figure 112012060408230-pct00003
화학식 (I)의 화합물로서는, α-알라닌-N,N-디아세트산(R = CH3, MGDA) 및 이의 염을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 예를 들면 그의 알칼리 금속 염, 암모늄 염 및 치환된 암모늄 염을 사용하는 것이 바람직하다.
그러한 염으로서는, 주로 나트륨, 칼륨 및 암모늄 염, 특히 트리나트륨, 트리칼륨 및 트리암모늄 염, 그리고 또한 3급 질소 원자를 지닌 유기 트리아민 염이 적합하다.
유기 아민 염의 기본이 되는 적합한 염기는, 특히 3급 아민, 예컨대 각각의 알킬 내에 1개 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 트리알킬아민, 예를 들면 트리메틸아민 및 트리에틸아민, 및 알칸올 라디칼 내에 2개 또는 3개의 탄소 원자를 갖는 트리알칸올아민, 특히 트리에탄올아민, 트리-n-프로판올아민 또는 트리이소프로판올아민이다.
사용된 알칼리 토금속 염은 특히 칼슘 염 및 마그네슘 염이다.
직쇄형 또는 분지쇄형 알킬(알케닐) 라디칼로서 라디칼 R에 적합한 것은, 메틸이외에도, 구체적으로 C2- 내지 C17-알킬 및 -알케닐이고, 여기서 구체적으로 직쇄형 라디칼은 포화 또는 불포화 지방산으로부터 유도된 것이다.
개별적인 라디칼 R의 예로는 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, tert-펜틸, 네오펜틸, n-헥실, n-헵틸, 3-헵틸(2-에틸헥산산으로부터 유도된 것), n-옥틸, 이소옥틸(이소노난산으로부터 유도된 것), n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, 이소도데실(이소트리데칸산으로부터 유도된 것), n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실, n-헵타데실, n-옥타데실, n-노나데실, n-에이코실 및 n-헵타데세닐(올레산으로부터 유도된 것)이 있다. R에 있어서, 또한 혼합물, 특히 자연 발생 지방산으로부터 유도된 것과 합성 제조된 기술적 등급 산으로부터 유도된 것의 혼합물이 예를 들면 옥소 합성(oxo synthesis)에 의해 발생하는 것도 가능하다.
C1- 내지 C12-알킬렌 브리지 A는 특히 화학식 (CH2)k(여기서, k는 2 내지 12의 수, 특히 2 내지 8의 수임)의 폴리메틸렌 기, 즉 1,2-에틸렌, 1,3-프로필렌, 1,4-부틸렌, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌, 헵타메틸렌, 옥타메틸렌, 나노메틸렌, 데카메틸렌, 운데카메틸렌 및 도데카메틸렌이다. 본원에서는 헥사메틸렌, 옥타메틸렌, 1,2-에틸렌 및 1,4-부틸렌이 특히 바람직하다. 그러나, 또한 분지쇄형 C3- 내지 C12-알킬렌 기, 예를 들면 -CH2CH(CH3)CH2-, -CH2C(CH3)2CH2-, -CH2CH(C2H5)- 또는 CH2CH(CH3)-이 또한 발생할 수 있다.
C1- 내지 C30-알킬 및 C2- 내지 C30-알케닐 기는 5개 이하, 특히 3개 이하의 특정 유형의 추가 치환기를 보유할 수 있으며 5개 이하, 특히 3개 이하의 비인접 산소 원자가 개재할 수 있다. 그러한 치환된 알킬(알케닐) 기의 예로는 -CH2OH, -CH2CH2OH, -CH2CH2-O-CH3, -CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH3, -CH2-O-CH2CH3, -CH2-O-CH2CH2-OH, -CH2-CHO, -CH2-OPh, -CH2-COOCH3 또는 -CH2CH2-COOCH3이 있다.
적합한 알콕시(알콕실레이트) 기는 특히 m 및 n이 각각의 경우 서로 독립적으로 0 내지 30의 수, 특히 0 내지 15의 수인 것들이다. A1O 및 A2O는 부틸렌 옥사이드로부터, 특히 프로필렌 옥사이드로부터 그리고 에틸렌 옥사이드로부터 유도된 기인 것이 바람직하다. 매우 중요한 것은 순수 에톡실레이트 및 순수 프로폭실레이트이지만, 에틸렌 옥사이드-프로필렌 옥사이드 블록 구조가 또한 발생할 수도 있다.
추가로 벤조-융합될 수 있고 지시된 라디칼에 의해 치환될 수 있는, 질소, 산소 및 황으로 이루어진 군으로부터 선택된 3개 이하의 헤테로원자를 갖는 적합한 5원 또는 6원 불포화 또는 포화 헤테로시클릭 고리로는, 예를 들면
테트라히드로푸란, 푸란, 테트라히드로티오펜, 티오펜, 2,5-디메틸티오펜, 피롤리돈, 피롤린, 피롤, 이속사졸, 옥사졸, 티아졸, 피라졸, 이미다졸린, 이미다졸, 1,2,3-트리아졸리딘, 1,2,3- 및 1,2,4-트리아졸, 1,2,3-, 1,2,4- 및 1,2,5-옥사디아졸, 테트라히드로피란, 디히드로피란, 2H- 및 4H-피란, 피페리딘, 1,3- 및 1,4-디옥산, 모르폴린, 피라잔, 피리딘, α-, β- 및 γ-피콜린, α- 및 γ-피페리돈, 피리미딘, 피리다진, 피라진, 1,2,5-옥사티아진, 1,3,5-, 1,2,3- 및 1,2,4-트리아진, 벤조푸란, 티오나프텐, 인돌린, 인돌, 이소인돌린, 벤즈옥사졸, 인다졸, 벤즈이미다졸, 크로만, 이소크로만, 2H- 및 4H-크로멘, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 1,2,3,4-테트라히드로이소퀴놀린, 신놀린, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 프탈라진 및 벤조-1,2,3-트리아진이 있다.
특정 헤테로시클릭 고리에서 N-H 기는 가능한 유도화 형태로, 예를 들면 N-알킬 기(예를 들면, 1 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 것)로서 존재해야 한다.
페닐 고리 또는 헤테로시클릭 고리 상의 치환의 경우, 바람직하게는 2개 (동일하거나 상이한) 치환기 또는 특히 1개의 개별 치환기가 발생한다.
R에 있어서 임의로 치환된 페닐알킬 기 및 알킬 기 보유 헤테로시클릭 고리의 예로는 벤질, 2-페닐에틸, 3-페닐프로필, 4-페닐부틸, o-, m- 또는 p-히드록시벤질, o-, m- 또는 p-카르복실벤질, o-, m- 또는 p-설포벤질, o-, m- 또는 p-메톡시 또는 -에톡시카르보닐벤질, 2-푸릴메틸, N-메틸피페리딘-4-일메틸 또는 2-, 3- 또는 4-피리딜메틸이 있다.
페닐 고리 상에서 그리고 또한 헤테로시클릭 고리 상에서 치환의 경우, 수-가용화 기, 예컨대 히드록실 기, 카르복실 기 또는 설포 기를 사용하는 것이 바람직하다. 특정된 C1- 내지 C4-, C1- 내지 C12- 및 C1- 내지 C20-알킬 기의 예들은 또한 R에 대하여 상기 열거된 상응하는 라디칼을 의미하는 것으로서 이해되어야 한다.
본 발명에 따른 고체는 고체 세제 및 세정제 제형(formulation)을 위한 성분으로서 구체적인 정도로 적합하다. 이어서, 고체 세제 및 세정제 제형으로서, 본 발명에 따른 고체를 알칼리 토금속 이온 및 중금속 이온을 위한 착화제로서 이러한 목적에 통상적인 양으로 포함할 뿐만 아니라 그러한 제형의 다른 통상적인 구성성분을 포함하는 고체 세제 및 세정제 제형이 또한 본 발명에 의해 제공된다. 그러한 고체 세제 및 세정제 제형의 조성 및 통상적인 구성성분은 해당 기술 분야의 당업자에게 공지되어 있고, 따라서 본원에서 보다 상세히 설명될 필요가 없다.
하기 실시예는 본 발명을 보다 상세히 예시하고자 하는 것이다. 사용된 글리신-N,N-디아세트산 유도체 I는 α-알라닌-N,N-디아세트산(메틸글리신-N,N-디아세트산, "MGDA") 트리나트륨 염이다.
실시예
다음의 공정은 사이클론, 필터 및 습식 스크러버가 구비되어 있는 파일럿 유동층 분무 과립화 장치 모델 AGT(Glatt) 상에서 수행하였다.
실시예 1
본 실험의 목적은 Trilon M 리퀴드(BASF)로 GLDA의 과립을 코팅하는 것이었다. 표적 입자 크기는 200-1000 ㎛이었다.
실험 절차 및 결과
Trilon M 리퀴드를 90-95℃로 가열하고, GLDA 과립의 초기 충전물 상에 분무하였다. 이로써 원하는 입자 스펙트럼으로 과립이 생성되었다. 과대크기의 분획을 1000 ㎛ 체로 체질하여 제거하였다.
다음의 처리 파라미터에서, 코팅은 안정한 방식으로 수행하였다:
유입 공기 온도: 140℃
유입 공기 양: 1400 m3/h
생성물 온도: 100-104℃
유출 공기 압력: 98-101℃
분무 압력: 2.0 bar
분무 속도: 약 350-450 g/분
저장 용기: 90℃
상기 특정된 처리 파라미터를 달성한 후, 안정한 공정을 달성하는 것이 가능하였다.
1000 ㎛로 후속 보호 체질(protective sieving)을 수행함으로써, 과립 15.9 kg을 분리하였다. 과대크기 분획은 6.0 kg에 이르렀다.
실시예 2
본 실험의 목적은 Trilon M 리퀴드(BASF)로 GLDA 및 중합체(호모폴리머 Sokalan PA 30 CL(BASF))의 보조-과립을 코팅하는 것이었다. 코팅된 과립의 표적 입자 크기는 200-1000 ㎛이었다.
Trilon M 리퀴드 10 kg을 90-95℃로 가열하고, 보조-과립의 초기 충전물(15 kg) 상에 분무하였다. 이로써 원하는 입자 스펙트럼으로 과립이 생성되었다. 과대크기 분획을 1000 ㎛ 체로 체질하였다.
다음의 처리 파라미터에서, 코팅은 안정한 방식으로 수행할 수 있었다:
유입 공기 온도: 130-140℃
유입 공기 량: 1200 m3/h
생성물 온도: 104-106℃
유출 공기 온도: 100-102℃
분무 압력: 2.0 bar
분무 속도: 약 100-150 g/분
저장 용기: 95℃
하기 예의 양을 제조하였다:
과립 17.0 kg(1000 ㎛로 체질된 것). 과대크기 분획은 5.1 kg이었다.
상기 주어진 처리 파라미터를 달성한 후, 안정한 공정을 달성하는 것이 가능하였다.
실시예 3
본 실험의 목적은 Trilon M 리퀴드(BASF)로 GLDA 및 중합체(호모폴리머 Sokalan PA 30 CL(BASF))의 보조-과립을 코팅하는 것이었다. 코팅된 과립의 표적 입자 크기는 200-1000 ㎛이었다.
Trilon M 리퀴드 20 kg을 90-95℃로 가열하고, 보조-과립의 초기 충전물(15 kg) 상에 분무하였다. 이로써 원하는 입자 스펙트럼으로 과립이 생성되었다. 과대크기 분획을 1000 ㎛ 체로 체질하였다.
다음의 처리 파라미터에서, 코팅은 안정한 방식으로 수행할 수 있었다:
유입 공기 온도: 130-140℃
유입 공기 량: 1200 m3/h
생성물 온도: 104-106℃
유출 공기 온도: 100-102℃
분무 압력: 2.0 bar
분무 속도: 약 100-150 g/분
저장 용기: 95℃
하기 예의 양을 제조하였다:
과립 20.3 kg(1000 ㎛로 체질된 것). 과대크기 분획은 5.2 kg이었다.
상기 주어진 처리 파라미터를 달성한 후, 안정한 공정을 달성하는 것이 가능하였다.

Claims (8)

  1. 다음의 구성성분:
    a. 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염을 포함하는 코어, 및
    b. 하기 일반 화학식 (I)의 화합물을 포함하는 코팅
    을 포함하는 고체:
    Figure 112017041911547-pct00004

    상기 식 중에서,
    R은 C1- 내지 C30-알킬 또는 C2- 내지 C30-알케닐이고, 이것은 5개 이하의 히드록실 기, 포르밀 기, C1- 내지 C4-알콕시 기, 페녹시 기 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐 기를 치환기로서 추가로 보유하고 5개 이하의 비인접 산소 원자가 개재할 수 있으며; 또는 R은 화학식 -(CH2)k-O-(A1O)m-(A2O)n-Y의 알콕실레이트 기이고, 여기서 A1 및 A2는 서로 독립적으로 2 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 1,2-알킬렌 기이고, Y는 수소, C1- 내지 C12-알킬, 페닐 또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐이며, k는 1, 2 또는 3의 수이고, m 및 n은 각각의 경우 서로 독립적으로 0 내지 50의 수이며, m + n의 합은 4 이상이어야 하고; 또는 R은 알킬 내에 1 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 페닐알킬 기이고; 또는 R은 질소, 산소 및 황으로 이루어진 군으로부터 선택된 3개 이하의 헤테로원자를 보유하고 추가로 벤조 융합될 수 있는 5원 또는 6원 불포화 또는 포화 헤테로사이클릭 고리이고, 여기서 R에 대한 의미에서 특정된 모든 페닐 고리 및 헤테로시클릭 고리는 또한 3개 이하의 C1- 내지 C4-알킬 기, 히드록실 기, 카르복실 기, 설포 기 및/또는 C1- 내지 C4-알콕시카르보닐 기를 치환기로서 추가로 보유할 수 있고; 또는 R은 화학식
    Figure 112017041911547-pct00005
    의 라디칼이고, 여기서 A는 C1- 내지 C12-알킬렌 브리지 또는 화학 결합이며;
    각각의 M은 나머지와 독립적으로 상응하는 화학양론적 양으로 존재하는 수소, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄이고, 상기 치환된 암모늄은 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 트리에탄올암모늄, 트리-n-프로판올암모늄 및 트리이소프로판올암모늄으로부터 선택된다.
  2. 제1항에 있어서, R이 C1- 내지 C20-알킬, C2- 내지 C20-알케닐 또는 화학식
    Figure 112012060408230-pct00006
    의 라디칼인 고체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 코팅은 α-알라닌-N,N-디아세트산(MGDA) 또는 이의 알칼리 금속, 암모늄 또는 치환된 아민 염을 포함하는 것이고, 상기 치환된 아민 염은 트리메틸아민 염, 트리에틸아민 염, 트리에탄올아민 염, 트리-n-프로판올아민 염 및 트리이소프로판올아민 염으로부터 선택되는 것인 고체.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염이 하기 화학식 (II)의 화합물인 고체:
    M1OOC-(CH2)2-CH(COOM1)-N(CH2COOM1)2 (II)
    상기 식 중에서, M1은 수소, 암모늄, 알칼리 금속 및 유기 암모늄으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상이고, 상기 유기 암모늄은 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 트리에탄올암모늄, 트리-n-프로판올암모늄 및 트리이소프로판올암모늄으로 이루어진 군에서 선택된다.
  5. 제1항 또는 제2항에 따른 고체를 제조하는 방법으로서, 초기 도입된 시드가 글루탐산-N,N-디아세트산(GLDA) 및/또는 이의 염을 포함하는 고체이고, 분무 과립화가 화학식 (I)의 하나 이상의 화합물을 사용하여 수행되는 것인 방법.
  6. 제5항에 있어서, 분무 과립화에서는 화학식 (I)의 화합물의 수용액이 사용되는 것인 방법.
  7. 제1항 또는 제2항에 따른 고체를 알칼리 토금속 이온 및 중금속 이온을 위한 착화제로서 포함하는 고체 세제.
  8. 제1항 또는 제2항에 따른 고체를 알칼리 토금속 이온 및 중금속 이온을 위한 착화제로서 포함하는 세정제 제형(formulation).
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