KR101795751B1 - 고굴절 지르코니아 유무기 복합체의 제조방법 - Google Patents

고굴절 지르코니아 유무기 복합체의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 표면 개질된 지르코니아를 이용하여 투명한 고굴절 지르코니아 복합체 및 이를 포함하는 광학 하드 코팅 필름을 제조하는 방법에 관한 것으로, 특히, 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체 화합물을 사용하여 고굴절 유기화합물이 결합된 무기 복합체를 형성시킨 후에, 상기 고굴절 지르코니아 복합체의 표면을 실란커플링제로 코팅하여 유무기 지르코니아 복합체의 표면에 실란커플링제를 균일하게 결합시켜 소수성이 우수하며 투명한 고굴절의 유무기 지르코니아 복합체를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에서 제조한 고굴절 지르코니아 유무기 복합체는 프리즘 필름과 같은 광학 재료에 응용되어 프리즘 필름의 휘도를 향상시키며, 고휘도의 프리즘 필름은 에너지를 절약하여 에너지 효율(energy efficiency)을 높일 수 있다.

Description

고굴절 지르코니아 유무기 복합체의 제조방법 {PREPARATION OF HIGH REFRACTIVE INDEX ZIRONIA ORGANIC-INORGANIC COMPOSIT}
본 발명은 지르코니아를 이용하여 투명한 고굴절 유무기 복합체 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고굴절률을 갖는 지르코니아에 표면을 개질할 수 있는 유기 화합물을 첨가 후 결합시켜 표면 개질된 투명한 고굴절 지르코니아 복합체를 제조하는 기술에 관한 것이다.
광학적으로 투명한 고분자 재료는 낮은 비용과 양호한 가공성, 가시광 영역에서의 높은 투과율 때문에 광학적 코팅과 광전자 소재로 널리 사용되고 있다. 최근에는 고굴절의 투명한 소재가 광학 필터, 렌즈, reflector, optical waveguide, antireflection films, solar cell 및 light emitting diodes(LEDs)의 소재로 사용되고 있다. 그러나, 이러한 고분자는 굴절률(n)이 1.3~1.7으로 고분자 재료만을 사용하기 어렵기 때문에 고굴절률을 지니는 무기소재(n=1.5~2.7)를 고분자에 혼합하여 분산시키는 연구가 진행되고 있다.
고굴절 무기소재로 사용되는 물질은 TiO2(n=2.5~2.7), ZrO2(n=2.1~2.2), ZnO(n=2.0), SnO2(n=2.0), SiO2(n=1.5)와 같은 물질들이 일반적으로 사용되고 있다. 특히, TiO2는 높은 굴절률을 가지며, 독성이 없고, 가격이 저렴하기 때문에 가장 보편적으로 사용되고 있는 고굴절 무기소재이다. 그러나, TiO2는 필름으로 제조하는 경우에 노란색을 띠고 있으며, TiO2의 함량이 증가할수록 분산 정도를 나타내는 아베수(Abbe number)가 감소하기 때문에 상업적으로 사용하기 제한적이라는 단점을 가지고 있다. 특히, TiO2의 경우, 필름 제조시 황변 현상이 나타나고 이로 인해 디스플레이에 적용할 경우, 색감이 저하되고 시인성이 저하되는 문제가 있다. 또한, 다른 고굴절 무기소재 ZnO, SnO2, SiO2등은 굴절률이 현저히 떨어지고, 가격이 비싸다는 단점을 갖는다.
또한, 고굴절 무기소재를 포함한 고분자 복합체를 제조하기 위해서는 높은 함량의 고굴절 무기소재를 포함하는 것이 필요하다. 일반적으로 고굴절 무기물 졸은 수용액 상에서 고굴절을 지니는 무기물 전구체에 촉매를 첨가하여 교반을 통해 제조하고 있으며, 이러한 고굴절의 졸은 상이 불안정하고 불투명도가 발생할 뿐만 아니라 고함량의 무기물을 첨가하기에도 어려움이 있으며, 이로 인해 균일한 막을 제조하기에 어려움이 있다.
따라서, 투명한 고굴절 광학재료를 합성하기 위하여 고굴절 무기소재가 유기고분자에 효과적으로 분산된 유-무기 복합제의 제조 공정 개발에 대한 연구가 필요하다.
본 발명은 유연성과 고굴절률의 상반되는 기능을 겸비하고, 투명성이 높은 광학 재료를 실현할 수 있는 지르코니아 복합체에 유기화합물을 결합시킴으로써 높은 분산 안정성을 가지는 고굴절 지르코니아 복합체를 제조하는 방법을 제공하고자 한다.
본 발명은 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아의 전구체 화합물을 산성 조건 하에서 50 ℃ 내지 100 ℃에서 0.1 내지 5 시간 동안 교반하여 고굴절 지르코니아 복합체를 형성시키는 단계; 상기 고굴절 지르코니아 복합체의 표면을 실란커플링제로 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 지르코니아 복합체의 표면을 80 내지 200 ℃에서 열처리하는 단계;를 포함하는 높은 분산 안정성을 가지는 투명한 고굴절 지르코니아 복합체의 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 방법으로 제조된 고굴절 지르코니아 복합체를 포함하는 광학 하드 코팅 필름 및 이를 제조하는 방법을 제공한다.
이하, 발명의 구체적인 구현예에 따른 투명한 고굴절 지르코니아 복합체의 제조 방법 및 이로부터 제조되는 유기 화합물이 결합된 고굴절 지르코니아 복합체, 이를 포함하는 고분자 필름, 이러한 고분자 필름의 제조 방법에 대하여 상세하게 설명하기로 한다. 다만, 이는 발명의 하나의 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 발명의 권리범위가 한정되는 것은 아니며, 발명의 권리범위 내에서 구현예에 대한 다양한 변형이 가능함은 당 업자에게 자명하다.
본 명세서 전체에서 특별한 언급이 없는 한 "포함" 또는 "함유"라 함은 어떤 구성 요소(또는 구성 성분)를 별다른 제한 없이 포함함을 지칭하며, 다른 구성 요소(또는 구성 성분)의 부가를 제외하는 것으로 해석될 수 없다.
본 발명의 발명자들은 유연성과 고굴절률의 상반되는 기능을 겸비하고, 투명성이 높은 광학 재료를 실현할 수 있는 투명한 유무기 복합체에 대한 연구를 거듭하던 중, 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체 화합물을 사용하여 고굴절 유기화합물이 결합된 무기 복합체를 제조한 후에 그의 표면을 실란커플링제로 코팅함으로써, 투명한 고굴절의 지르코니아 복합체를 효과적으로 제조할 수 있음을 알아내어 본 발명을 완성하였다.
특히, ZrO2는 기존의 TiO2 등에 비해 굴절율은 낮지만 색상이 없이 투명하고, 아베수(Abbe number)가 높은 장점을 가진다. 또한, ZrO2는 높은 기계적 강도와 열적 안정성을 가지고, 높은 경도를 가지기 때문에 기존의 TiO2등을 대신하여 고굴절 무기소재로 사용하기에 적합한 물질이 될 수 있다. 특히, 이러한 ZrO2 입자는 45 중량% 이상의 높은 함량으로 사용하면, 우수한 고굴절율 특성과 함께 황변 현상이 없이 투명한 광학 하드 필름을 제조할 수 있는 우수한 효과가 있다.
발명의 일 구현예에 있어서, 본 발명은 높은 분산 안정성을 가지는 투명한 고굴절 지르코니아 복합체를 제조하는 방법을 제공한다. 상기 투명한 고굴절 지르코니아 복합체의 제조 방법은 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체 화합물을 산성 조건 하에서 50 ℃ 내지 100 ℃에서 0.1 내지 5 시간 동안 교반하여 고굴절 지르코니아 복합체를 형성시키는 단계; 상기 고굴절 지르코니아 복합체의 표면을 실란커플링제로 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 지르코니아 복합체의 표면을 80 내지 200 ℃에서 열처리하는 단계;를 포함한다.
특히, 기존의 방식에서는 저가의 습식공정을 적용한 유기-무기 복합체에 대한 연구가 많이 진행되고 있지만, 무기물과 유기물의 표면특성의 차이로 인해 많은 양의 무기물 혼합이 원천적으로 한계가 있을 뿐 아니라 이종재료의 혼합 시 상분리 또는 무기입자의 침전 등으로 투명하고 안정한 소재를 제조하기 힘들뿐 아니라 공정 후 기판 및 막에서 여러 가지 결함 등이 발견되는 한계가 있다. 이에 따라, 본 발명에서와 같이 소수성 작용기를 가지는 실란커플링제가 코팅된 고굴절 유무기 복합체를 특정 반응 조건을 이용하여 화학적으로 개질 시킴으로써, 다른 제조 방법에 비해 상대적으로 광경화 개시제와 같은 유기혼합물에서 고분산성을 가지는 유기화 소수성 유무기 복합체를 좀더 효과적으로 제조할 수 있다. 이와 함께, 유기 재료와의 혼합 시 혼합되는 양에 제한 없이 혼합이 가능하며 투명한 고굴절 유무기 복합체를 제조할 수 있는 효과도 얻을 수 있다. 또한, 이렇게 제조된 고분산성의 유무기 복합체는 성막 시 균일한 입자분포와 기판 및 입자간 고른 결합력을 통해 안정한 막을 제조할 수 있다는 장점이 있다.
본 발명은, 상태가 안정하고 나노 크기를 갖는 입자로 이루어지며, 필름으로 형성되었을 경우, 필름의 굴절률이 1.7 이상 또는 1.7 내지 3.5, 바람직하게는 1.75 이상, 좀더 바람직하게는 1.8 이상의 높은 값을 나타내는 고굴절 나노 무기물이 결합된 유무기 복합체의 제조방법을 제시한다. 여기서 나노 크기라 함은 나노미터(nm) 단위를 갖는 크기로서 1 nm 이상이고 50 nm 이하의 크기를 의미하는 것으로 사용한다.
이하에서는 본 발명의 바람직한 일 구현예를 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. 도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고굴절 지르코니아 유무기 복합체의 제조 공정 순서도이다.
도 1에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 고굴절 지르코니아 유무기 복합체의 제조방법은 지르코니아 전구체와 벤조산 화합물을 이용하여 지르코니아 복합체를 균일하게 분산하는 단계(P01), 상기 혼합물에 실란커플링제를 첨가하는 단계(P02), 20 ℃ 내지 70 ℃의 온도에서 0.1 시간 내지 5 시간 동안 교반하고 실란커플링제를 증발하여 고굴절 유무기 복합체의 표면에 실란커플링제를 코팅시키는 단계(P03), 지르코니아 유무기 복합체의 표면을 80 ℃ 내지 200 ℃에서 열처리 하는 단계(P04)를 구비하는 것을 특징으로 한다.
먼저, 본 발명은 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체 화합물을 산성 조건 하에서 50 ℃ 내지 100 ℃, 바람직하게는 50 ℃ 내지 95 ℃, 좀더 바람직하게는 65 ℃ 내지 90 ℃에서 0.1 내지 5 시간 동안, 바람직하게는 0.3 내지 4.5 시간 동안, 좀더 바람직하게는 0.5 내지 4 시간 동안 교반하여 고굴절 유기화합물이 결합된 무기 복합체를 만들고, 이렇게 제조된 유무기 복합체에 용매를 첨가하여 분산한 후 실란커플링제를 첨가하여 고굴절 유무기 복합체의 표면을 실란커플링제로 코팅하여 열처리함으로써 고굴절 지르코니아 유무기 복합체를 효과적으로 제조할 수 있다.
상기 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체 화합물은 0.1 시간 내지 5 시간 동안 200 rpm 내지 350 rpm의 속도로 상온 교반하여 혼합하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 이렇게 상온 교반을 수행한 후에, 질산, 아세트산 등의 산 용액을 추가하여 pH 5 이하 또는 pH 1 내지 5, 바람직하게는 pH 2 내지 3의 산성 조건 하에서 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체 화합물을 50 ℃ 내지 100 ℃로 승온하여 0.1 내지 5 시간 동안 교반하여 유무기 복합체를 생성시킬 수 있다.
또한, 본 발명은 고굴절 유무기 복합체 표면을 실란커플링제로 코팅하는 단계를 포함한다. 이때, 상기 코팅 단계는 함침법, 스프레이법, 또는 볼밀법으로 수행할 수 있다. 특히, 고굴절 지르코니아 유무기 복합체를 실란커플링제로 코팅하는 방법에 있어서는, 실란커플링제를 유기용매와 함께 고굴절 유무기 복합체를 혼합 후 유기용매를 제거하는 함침법과 고굴절 유무기 복합체 표면에 실란커플링제를 스프레이(spray)법을 통하여 직접 분사 후 혼합하는 방법이 있다. 상기 함침법에서 사용되는 유기용매로는 무기입자와 실란커플링제를 모두 잘 혼합할 수 있는 용매로 메탄올 (Methanol), 에탄올 (Ethanol), 프로판올 (Propanol), 디메티를로라이드 (Dimethylchloride), 에틸아세테이트(Ethylacetate), 디에틸에테르(Diethyether) 등의 유기 용매 1종 이상을 사용할 수 있으나 무기입자와 실란커플링제의 특성에 의해 용매를 바꿔줄 수 있으므로 상기 용매로 제한하지는 않는다. 상기 유무기 복합체에 실란커플링제를 코팅하는 방법에서 혼합시간은 20 ℃ 내지 70 ℃에서 0.1 내지 6 시간 정도가 적당하며 이는 제조하는 소수성 유무기 복합체의 양이나 실란커플링제의 함량에 따라 적절히 조절이 가능하다.
본 발명에 따라 고굴절 지르코니아 유무기 복합체의 제조 방법에서 상기 고굴절 지르코니아 유무기 복합체는 먼저, 유기화합물이 결합된 무기 복합체로서 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체를 0.1 시간 내지 5 시간 동안 200 rpm 내지 350 rpm의 속도로 회전시켜 균일하게 혼합하고, 혼합된 혼합물들을 증류수(DI Water) 170 g이 담긴 용기(Bottle)에 넣고 0.1 시간 내지 15 시간 동안 상온 교반을 수행하였다. 교반이 끝난 후에 질산 수용액 2 g을 칭량하여 상기의 용액에 첨가하고, 50 ℃ 내지 100 ℃의 온도에서 0.1 시간 내지 5 시간 동안 교반하여 고굴절 지르코니아 입자가 결합된 유무기 복합체를 제조할 수 있다.
상기 고굴절 유기화합물이 결합된 무기복합체와 용매를 이용하여 균일하게 분산하는 단계(P01)에서 사용되는 고굴절 지르코니아 전구체 화합물에 대한 구체적인 일례로는 지르코늄 클로라이드, 지르코늄 아세테이트, 지르코늄 에톡사이드, 지르코늄 프로폭사이드, 지르코늄 부톡사이드, 지르코늄 하이드록사이드, 지르코늄 니트레이트로 등을 들 수 있으며, 상기의 고굴절 지르코니아를 생성시킬 수 있는 통상의 유무기 화합물이 제한없이 모두 전구체로 선택될 수 있다.
또한, 상기 유기화합물은 주로 벤조산 화합물로 4-아미노벤조산, 4-클로로메틸벤조산, 4-브로모메틸벤조산, 4-아미노메틸벤조산, 4-페닐아조벤조산, 4-메틸설포닐벤조산, 4-클로로설포닐벤조산 및 이들을 함유하는 유기 화합물 또는 유기금속 화합물을 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다. 본 발명에서 이러한 벤조산 화합물을 사용함으로써 높은 조성 안정성 및 기존보다 더 높은 굴절률을 얻을 수 있다. 특히, 상기 벤조산 화합물은 아미노기(amino group)와 카르복실산기(carboxylic acid group)기로 두 개의 리간드를 보유하고 있어, 통상의 킬레이제와는 달리 고굴절 무기소재의 응집 억제 및 크기 제어를 위해 표면에 둘러싸는 특성을 갖는다.
상기 벤조산 화합물의 함량은 고굴절 지르코니아 전구체 화합물의 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량부, 바람직하게는 1 내지 5 중량부가 될 수 있다.
본 발명에서 유무기 복합체 표면에 코팅되는 실란커플링제는 소수성을 가지는 하기의 화학식 1로 표기되는 실란커플링제이다.
[화학식1]
Figure 112016041652504-pat00001
식 중,
R1, R2 및 R3는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기이며, 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 또는 프로필기가 될 수 있고;
R4는 탄소수 1 내지 18을 갖는 직쇄상 또는 분지상의 알킬기이며, 바람직하게는 옥타데실 (octadecyl)기, 도데실 (dodecyl)기 프로필 (propyl)기, 데실(decyl)기, 또는 옥틸(octyl)기가 될 수 있다.
본 발명은 특정의 실란커플링제 2종 이상을 사용하여 고굴절 유무기 복합체 표면을 화학적으로 개질 시킴으로써, 고분산성을 가지는 고굴절 유무기 복합체를 좀 더 효과적으로 제조할 수 있음을 확인하고 완성하게 되었다. 특히, 본 발명은 화학식 1로 표시되는 소수성이 있는 실란커플링제를 사용하여 고굴절 유무기 복합체의 표면을 개질하는 것을 특징으로 한다. 이러한 본 발명에 따르면, 고굴절 유무기 복합체의 표면의 소수성이 강화되어 분산성 향상을 기대할 수 있다.
상기 실란커플링제로는 프로필트리메톡시실란, 옥틸트리메톡시실란, 데실트리메톡시실란, 도데실트리메톡시실란 및 옥타데실트리메톡시실란로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 들 수 있다.
상기 코팅 단계에서 실란커플링제의 함량은 유무기복합체 중량을 기준으로 0.1 내지 30 중량부, 바람직하게는 1 내지 20 중량부가 될 수 있다. 상기 실란커플링제의 함량은 소수성 조절 측면에서 유무기복합체 중량 대비 0.1 중량부 이상으로 사용될 수 있으며, 경제적 측면에서 유무기복합체 중량 대비 30 중량부 이하로 사용될 수 있다.
상기 코팅단계를 마친 후에는 용매를 제거하고 유무기 복합체 표면에 실란커플링제 코팅층이 안정적으로 형성될 수 있도록, 상기 코팅된 유무기 복합체의 표면을 80 내지 200 ℃, 바람직하게는 90 내지 150 ℃, 좀더 바람직하게는 100 내지 125 ℃의 온도에서 열처리하는 공정을 수행할 수 있다. 여기서, 상기 열처리 공정은 표면에서 형성된 코팅층이 안정적으로 유지될 수 있도록 하는 측면에서 80 ℃ 이상에서 수행할 수 있으며, 생성된 유무기 복합체 입자가 무너지지 않도록 하는 측면에서 200 ℃ 이하에서 수행할 수 있다. 또한, 상기 열처리 공정은 상술한 온도 범위에서 6 시간 내지 36 시간 동안, 바람직하게는 8 시간 내지 24 시간, 좀더 바람직하게는 10 시간 내지 18 시간 동안 수행할 수 있다. 또한, 상기 열처리 공정은 0.5 내지 10 kg/cm2, 바람직하게는 0.7 내지 5 kg/cm2, 좀더 바람직하게는 1.0 내지 3 kg/cm2의 압력 조건 하에서 수행할 수 있으며, 이 때 온도 범위 및 공정 시간은 상술한 범위에서 가압 또는 감압 정도에 따라 조절하여 수행할 수 있다.
특히, 발명의 바람직한 일 구현예에 있어서, 본 발명의 소수성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법은 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체 화합물을 0.1 시간 내지 5 시간 동안 200 rpm 내지 350 rpm의 속도로 상온 교반하여 혼합한 후에, 산성 조건 하에서 50 ℃ 내지 100 ℃에서 0.1 내지 5 시간 동안 교반하여 고굴절 유무기 복합체를 형성시키는 단계; 상기 고굴절 유무기 복합체는 실란커플링제와 혼합하여 20 ℃ 내지 70 ℃에서 0.1 내지 5 시간 동안 교반하여 고굴절 유무기 복합체의 표면을 실란커플링제로 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 유무기 복합체의 표면을 80 내지 200 ℃에서 열처리하는 단계;를 포함할 수 있다.
한편, 발명의 다른 일 구현예에 있어서, 본 발명은 상술한 바와 같은 방법으로 제조되는 고굴절 지르코니아 유무기 복합체를 제공한다. 특히, 상기 고굴절 지르코니아 복합체는 입자 크기가 1 내지 50 nm, 바람직하게는 1.5 내지 30 nm, 좀더 바람직하게는 5 내지 15 nm가 될 수 있다.
또한, 발명의 또 다른 일 구현예에 있어서, 본 발명은 상술한 바와 같은 방법으로 제조되는 고굴절 지르코니아 유무기 복합체를 포함하는 광학 제품을 제공한다. 특히, 상기 광학 제품은 유기매질에 대한 분산성이 우수하고 광학적으로 가시광 영역에서 투명하므로 고 굴절률을 갖는 광학 하드 코팅 필름 형태가 될 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 고굴절 지르코니아 유무기 복합체는 유연하고 고굴절률을 가지며 고투명성의 시트 등의 광학 재료를 실현할 수 있으며, 기재 등의 보강재를 사용하지 않아도 자립적으로 형상을 유지할 수 있고, 최종 제품의 설계 자유도를 확대하며, LED등의 광원의 개수를 저감시켜, 소비 전력의 저감과 저비용화를 달성할 수 있게 하는 도광 시트나 광 전송 등에 사용 가능하다.
이때, 광학 하드 코팅 필름의 제조 시 상기 고굴절 지르코니아 유무기 복합체는 30 wt%부터 90 wt%까지 분산된 코팅제 제조가 가능하며, 기능성 실란, 실리콘 화합물 및 폴리이미드 화합물이 포함된 기능성 유기 고분자를 첨가하여 합성한 후, 딥코터(dip coater)를 통해 필름으로 제조하였다. 특히, 제조된 필름의 굴절률은 1.7 이상 또는 1.7 내지 3.5, 바람직하게는 1.8 이상, 좀더 바람직하게는 1.85 이상이 될 수 있다. 상기 굴절율은 1.7 미만으로 낮게 되면 빛이 투과할 때 굴절되는 빛의 양이 적어 휘도가 저하되고 이로 인해 디스플레이와 모바일 기기 등의 광학 기기에 적용 시 전력 효율이 저하되기 때문에, 1.7 이상의 굴절률이 유지될 필요가 있다. 제조된 필름의 굴절율을 측정하는 방법으로는 SOPRA사의 GES-5E 등을 이용하여 300 내지 800 nm 파장에서 측정할 수 있다.
또한, 상기 광학 하드 코팅 필름의 투과율은 95% 이상, 바람직하게는 96.5% 이상, 좀더 바람직하게는 98% 이상이 될 수 있다. 상기 투과율은 95% 미만으로 낮아질 경우에 투과되는 빛의 양이 적고 휘도도 저하되어 효율을 높이기에 부적합하기 때문에, 투과율 95% 이상이 될 수 있다. 이 투과율은 UV-Vis 스펙트로미터(UV-Vis spectrophotometer)를 이용하여 4개의 지점을 선택하여 633 nm 파장에서 막의 투과율을 측정할 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 광학 하드 코팅 필름은 필름 가공 즉시 또는 24 시간, 72 시간, 168 시간 경과 후에도 기존의 황변 현상이 전혀 나타나지 않아 투명한 상태를 유지하며, 상술한 바와 같은 우수한 정도의 굴절율과 광 투과율 및 헤이즈값을 장시간 경과 후에도 유지할 수 있다.
또한, 상기 광학 하드 코팅 필름의 헤이즈값은 2.0 이하, 바람직하게는 1.7 이하, 좀더 바람직하게는 1.5 이하가 될 수 있다. 상기 헤이즈값은 높은 투과율을 확보하는 측면에서 2.0 이하가 될 수 있다.
한편, 발명의 또 다른 일 구현예에 있어서, 본 발명은 상술한 바와 같은 방법으로 제조되는 고굴절 지르코니아 유무기 복합체를 포함하는 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법을 제공한다. 특히, 이러한 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법은 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아의 전구체 화합물을 산성 조건 하에서 50 ℃ 내지 100 ℃에서 0.1 내지 5 시간 동안 교반하여 고굴절 지르코니아 복합체를 형성시키는 단계; 상기 고굴절 유무기 지르코니아 복합체의 표면을 유기 화합물인 실란커플링제로 코팅하는 단계; 상기 코팅된 지르코니아 복합체의 표면을 80 내지 200 ℃에서 열처리하는 단계; 및 상기 열처리후 얻어진 지르코니아 복합체를 에폭시 수지를 액상에서 혼합한 후에 필름상으로 가공하여 건조시키는 단계;를 포함한다.
상기 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법에서, 고굴절 지르코니아 전구체 화합물은 45 내지 70 중량%, 바람직하게는 55 내지 70 중량%, 좀더 바람직하게는 60 내지 70 중량%를 사용할 수 있다. 상기 고굴절 지르코니아 전구체 화합물의 함량이 45 중량% 미만일 경우에는 굴절률의 변화가 미미하여 기대하는 결과를 얻기 어려울 수 있고, 70% 이상의 경우에는 필름으로 적용하기에 어려운 문제가 발생할 수 있다. 이와 함께, 에폭시 수지는 30 내지 55 중량%, 바람직하게는 30 내지 45 중량%, 좀더 바람직하게는 30 내지 40 중량%를 사용할 수 있으며, 우수한 필름 가공성과 높은 굴절율 범위를 동시에 유지하는 측면에서 상술한 함량 범위로 사용할 수 있다.
상기 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법에서, 고굴절 지르코니아 전구체 화합물, 벤조산 화합물, 실란커플링제의 종류와 함량 범위, 구체적인 반응 조건, 코팅법 등은 전술한 바와 같다.
본 발명에서 상기 에폭시 수지는 필름상으로 가공될 수 있는 다양한 수지로 대체하거나 이러한 수지를 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 지르코니아 복합체와 에폭시 수지는 혼합하여 액상화하는 단계는 디메틸아세트 아미드 등의 용제를 사용할 수 있다.
또한, 상기 필름상으로 가공하는 단계는 실리콘 웨이퍼를 딥코팅하여 막을 코팅한 후 40 ℃ 이상 또는 40 내지 300 ℃, 바람직하게는 50 내지 200 ℃에서 1분 이상 또는 1분 내지 120 분, 바람직하게는 5분 내지 60분 동안 건조하는 공정을 수행할 수 있다. 특히, 액상화 공정에서 사용한 용제 등을 제거하기 위하여, 130 ℃ 이상 또는 130 내지 250 ℃, 바람직하게는 150 ℃ 이상에서 열경화 공정을 추가로 수행할 수 있다.
본 발명에 따라 제조된 광학 하드 코팅 필름은 굴절율이 1.7 이상이고, 투과율이 95% 이상이고, 헤이즈값이 2.0 이하인 것이 될 수 있으며, 구체적인 물성 특징은 전술한 바와 같다.
본 발명에 있어서 상기 기재된 내용 이외의 사항은 필요에 따라 가감이 가능 한 것이므로, 본 발명에서는 특별히 한정하지 아니한다.
본 발명에 따르면, 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체 화합물을 사용하여 고굴절 유기화합물이 결합된 무기 복합체를 제조한 후에 그의 표면을 실란커플링제로 코팅함으로써, 고굴절 지르코니아 유무기 복합체를 효과적으로 제조할 수 있다.
특히, 본 발명은 안정한 분산과 잔존 수분이 제어된 상태의 고굴절 유무기 복합체를 제조할 수 있고, 유기재료와의 혼합 시 혼합되는 양에 제한 없이 혼합이 가능하며 투명한 지르코니아 유무기 복합체를 제조할 수 있다.
또한, 이렇게 제조된 고굴절 지르코니아 유무기 복합체는 성막 시 균일한 입자분포와 기판 및 입자간 고른 결합력을 통해 안정한 막을 제조할 수 있다. 특히, 본 발명에 따라 제조된 고굴절 유무기 복합체는 얇은 필름으로 구성될 수 있으며, 고강도, 고내열성, 고투명성 및 내구성이 우수하고, 높은 굴절률을 필요로 하는 광학 재료에 제공될 수 있다. 이와 같은 본 발명의 광학 재료는 프리즘 시트 및 다양한 전기, 전자, 광 기능성 막에 효과적으로 적용이 가능한 이점이 있으며, 특히, 습식공정을 통한 저가 대량생산의 적용가능성이 매우 높은 이점이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 고굴절 지르코니아 유무기 복합체 제조 방법에 대한 공정 흐름도 이다.
도 2는 본 발명의 실시예 1 및 비교예 3에 따라 얻어진 고굴절 지르코니아 복합체 또는 티타니아 복합체를 각각 에폭시 수지와 액상에서 하이브리드하고, 24시간 경과 후의 박막 제조용 코팅액에 대한 사진이다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
하기 표 1과 같은 조성으로, 다음과 같은 방법으로 고굴절 지르코니아 유무기 복합체 및 이를 포함하는 박막 필름을 제조하였다.
고굴절 지르코니아 유무기 복합체 제조에는 순도 97%의 지르코늄 이소프로폭사이드(C12H28O4Ti, Aldrich chemical사의 제품), 순도 99%의 4-아미노벤조산(C7H7NO2, Alfa Aesar사의 제품), 데실트리메톡시실란(DTMS, decyltrimethoxysilane)을 사용하였다. 지르코니아의 전구체인 지르코늄 이소 프로폭사이드 10 g(60 wt%), 4-아미노벤조산 0.3 g(1.2 wt%)을 1 시간 동안 300 rpm의 속도로 균일하게 혼합하였다. 균일하게 혼합된 혼합물들을 증류수 170 g이 담긴 용기(Bottle)에 넣고 1.5 시간 동안 상온 교반하였다. 교반이 끝난 후에 질산 수용액 2 g(2 wt%)을 칭량하여 상기의 용액에 첨가하고, 82 ℃의 온도에서 1.5 시간 동안 300 rpm으로 교반하여 고굴절 지르코니아 입자가 결합된 유무기 복합체를 제조하였다. 이 유무기 복합체에 유기 용매인 디메틸클로라이드(Dimethyl chloride) 100 mL를 첨가하여 입자들을 잘 분산시킨 후 실란커플링제인 데실트리메톡시실란 0.5 g과 혼합하여 상온(25 ℃)에서 30분 동안 교반 후, 증류 장치(evaporation)을 이용하여 디메틸클로라이드를 제거하여 고굴절 유무기 복합체 표면에 소수성 작용기를 갖는 실란커플링제를 코팅하였다. 이렇게 코팅된 고굴절 유무기 복합체를 수열 반응기(용량 70 mL, 압력 2 kg/cm2)에 넣고 100 ℃에서 12 시간 동안 반응시켰다. 상기 수열 반응을 마친 후 얻어진 고굴절 유무기 복합체를 디메틸클로라이드로 충분히 세척 후 건조(air-drying)시켜 고굴절 지르코니아 유무기 복합체를 제조하였다.
이렇게 제조한 고굴절 지르코니아 유무기 복합체의 굴절률 및 투과율을 확인하기 위하여 고굴절 지르코니아 유무기 복합체가 포함된 박막을 제조하여 확인하였다.
고굴절 지르코니아 유무기 복합체가 포함된 박막을 제조하기 위하여 제조된 지르코니아 복합체와 에폭시 수지 6.1 g(36.8 wt%)와의 액상에서의 하이브리드 후, 실리콘 웨이퍼를 딥코팅하여 막을 코팅한 후 60 ℃, 10 분간의 건조 후에 디메틸아세트 아미드를 제거하기 위하여 진공오븐에서 180 ℃의 열경화를 통해 막을 제조하여 프리즘 커플링 방법을 통해 633 nm 파장에서 막의 굴절률을 측정하였다. 또한, UV-Vis 스펙트로미터(PerkinElmer사, UV-Vis spectrophotometer)를 이용하여 633 nm 파장에서 막의 투과율을 측정하였다. 표 1은 각기 다른 조성으로 제조된 막의 굴절률 및 투과율을 보여주고 있다.
비교예 1
하기 표 1에 나타낸 바와 같이 별도의 실란커플링제를 넣지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 유무기 복합체를 제조하였다.
이렇게 제조된 유무기 복합체에 대하여 실시예 1과 동일한 방법으로 박막 필름을 제조하여 굴절율, 투과율 및 헤이즈를 측정하였다.
비교예 2
하기 표 1에 나타낸 바와 같이 별도의 벤조산을 넣지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 유무기 복합체를 제조하였다.
이렇게 제조된 유무기 복합체에 대하여 실시예 1과 동일한 방법으로 박막 필름을 제조하여 굴절율, 투과율 및 헤이즈를 측정하였다.
비교예 3
지르코니아 전구체 지르코늄 이소프로폭사이드 대신 티타니아 전구체 티타니움 이소프로폭사이드을 넣은 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 유무기 복합체를 제조하였다.
이렇게 제조된 유무기 복합체에 대하여 실시예 1과 동일한 방법으로 박막 필름을 제조하여 굴절율, 투과율 및 헤이즈를 측정하였다.
실시예 1 및 비교예 1~3에 따라 제조된 유무기 복합체 및 이를 포함하는 박막 필름의 조성과 이에 대한 물성 평가 결과는 하기 표 1에 나타내었다.
실시예 1 비교예 1 비교예 2 비교예 3
ZrO2 함량 (wt%) 60 60 60 -
TiO2 함량 (wt%) - - - 60
벤조산 함량 (wt%) 1.2 1.2 - 1.2
실란커플링제 함량 (wt%) 2 - 2 2
에폭시수지 함량 (wt%) 36.8 38.8 38 36.8
굴절률 1.85 1.52 1.60 1.87
투과율(%) 96.0 75.4 85.2 93.0
헤이즈 1.3 9.8 4.5 2.5
색상 투명 투명 투명 옅은 노랑
또한, 실시예 1 및 비교예 3에 따라 얻어진 고굴절 지르코니아 복합체 또는 티타니아 복합체를 각각 에폭시 수지와 액상에서 하이브리드하고, 24시간 경과후의 박막 제조용 코팅액에 대한 사진을 도 2에 나타내었다. 도 2의 사진으로 확인할 수 있는 바와 같이, 실시예 1에 따라 지르코니아 복합체를 사용한 경우에는 투명한 상태를 유지한 반면에, 티타니아 복합체를 사용한 비교예 3의 경우에는 옅은 노란색을 보이며 황변 현상이 발생하였음을 알 수 있다.
상기 표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1의 고굴절 지르코니아 유무기 복합체를 사용한 경우에, 굴절률은 1.85, 투과율은 96.0% 및 헤이즈는 1.3으로 비교예 1 또는 비교예 2의 유무기 복합체를 사용한 경우보다 우수한 굴절률 및 고투과율과 낮은 헤이즈 값을 보였다.
이에 반해 비교예 1의 경우에는 무기물인 지르코니아 입자가 유기물인 에폭시 수지에 균일하게 분산되지 않았기 때문에 필름으로 제조시 투과율은 75.4%, 헤이즈는 9.8로 실시예 1의 결과보다 현저하게 저하되었다. 또한, 굴절룰도 1.52으로 실시예 1보다 저하되었다. 비교예 2도 벤조산이 포함되지 않아 비교예 1과 유사하게 지르코니아 입자가 균일하게 분산되지 않아 투과율이 85.2%, 헤이즈가 4.5, 굴절률은 1.60으로 실시예 1과 비교하였을때 굴절률, 투과율 및 헤이즈가 현저히 떨어짐을 알 수 있다. 한편, 비교예 3은 지르코니아 대신 티타니아를 사용한 경우로 일반적으로 티타니아의 굴절률이 지르코니아보다 높기 때문에 필름으로 제조한 경우에도 1.87로 실시예 1보다 다소 높은 결과를 보였다. 그러나, 비교예 3에서 사용한 티타니아의 경우에는 필름으로 제조시 옅은 노란색의 색상을 띠기 때문에 투과율이 93.0%, 헤이즈가 2.5로 실시예 1보다 낮은 투과율을 보였다. 특히, TiO2 입자를 필름에 적용하여 사용 시 굴절률 개선 효과를 얻을 수도 있으나, TiO2의 광촉매 특성에 의해 황변 현상 등 필름에 적합하지 않은 문제가 있음을 알 수 있다. 따라서, 비교예 1~3의 경우에는 높은 굴절률 및 투과율을 필요로 하는 프리즘 필름이나 광학 필름 등에 사용하기에는 적합하지 않음을 알 수 있다.
특히, 비교예 3에서와 같이, 티타니아 복합체를 사용할 경우에는 시간이 경과함에 따라 광촉매 반응으로 황변 현상이 나타나는데, 황변 현상이 일어나게 되면 시인성이 안좋아지며, 디스플레이에 적용할 경우 화면이 노랗게 보이는 문제가 발생한다. 그렇게 되면 디스플레이의 빛을 흡수하게 되어 본 발명의 실시예 1에서와 같은 투명한 지르코니아 복합체를 사용할 때보다 에너지 효율이 감소하는 단점이 발생한다.

Claims (11)

  1. 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아의 전구체 화합물을 산성 조건 하에서 50 ℃ 내지 100 ℃에서 0.1 내지 5 시간 동안 교반하여 고굴절 지르코니아 복합체를 형성시키는 단계;
    상기 고굴절 지르코니아 복합체의 표면을 유기 화합물인 실란커플링제로 코팅하는 단계;
    상기 코팅된 지르코니아 복합체의 표면을 80 내지 200 ℃에서 열처리하는 단계; 및
    상기 열처리후 얻어진 지르코니아 복합체 55 내지 70 중량%와 에폭시 수지 30 내지 45중량%를 액상에서 혼합한 후에 필름상으로 가공하여 건조시키는 단계;
    를 포함하는, 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체 화합물은 0.1 내지 5 시간 동안 200 rpm 내지 350 rpm의 속도로 상온 교반하여 혼합하는 단계를 추가로 포함하는, 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 코팅 단계는 함침법, 스프레이법, 또는 볼밀법으로 수행하는, 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 코팅 단계에서 실란커플링제의 함량은 유무기 지르코니아 복합체 중량을 기준으로 0.1 내지 30 중량부인, 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 고굴절 지르코니아의 전구체는 지르코늄 클로라이드, 지르코늄 아세테이트, 지르코늄 에톡사이드, 지르코늄 프로폭사이드, 지르코늄 부톡사이드, 지르코늄 하이드록사이드, 지르코늄 니트레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 벤조산 화합물은 4-아미노벤조산, 4-클로로메틸벤조산, 4-브로모메틸벤조산, 4-아미노메틸벤조산, 4-페닐아조벤조산, 4-메틸설포닐벤조산, 4-클로로설포닐벤조산, 및 그의 유도체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 실란커플링제는 하기의 화학식 1로 표시되는 것인, 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법:
    [화학식1]
    Figure 112017046070672-pat00005

    식 중,
    R1, R2 및 R3는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기이며, R4는 탄소수 1 내지 18을 갖는 직쇄상 또는 분지상의 알킬기임.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 실란커플링제는 프로필트리메톡시실란, 옥틸트리메톡시실란, 데실트리메톡시실란, 도데실트리메톡시실란 및 옥타데실트리메톡시실란으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    벤조산 화합물과 고굴절 지르코니아 전구체 화합물을 0.1 시간 내지 5 시간 동안 200 rpm 내지 350 rpm의 속도로 상온 교반하여 혼합한 후에, 산성 조건 하에서 50 ℃ 내지 100 ℃에서 0.1 내지 5 시간 동안 교반하여 고굴절 지르코니아 복합체를 형성시키는 단계;
    상기 고굴절 지르코니아 복합체는 실란커플링제와 혼합하여 20 ℃ 내지 70 ℃에서 0.1 내지 6 시간 동안 교반하여 고굴절 지르코니아 복합체의 표면을 실란커플링제로 코팅하는 단계; 및
    상기 코팅된 유무기 지르코니아 복합체의 표면을 80 내지 200 ℃에서 열처리하는 단계;를 포함하는, 광학 하드 코팅 필름의 제조 방법.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따라 제조되고, 굴절율이 1.7 이상이며, 투과율이 95% 이상이고, 헤이즈값이 2.0 이하인 광학 하드 코팅 필름.
  11. 제10항에 있어서,
    필름 가공후 24 시간 경과한 시점에서 필름의 색상이 투명한 광학 하드 코팅 필름.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230171306A (ko) 2022-06-13 2023-12-20 주식회사 유엔아이 잉크젯 사용이 가능한 oled 음극 캡핑용 고굴절 무기 안료 분산액

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009057935A1 (en) 2007-10-30 2009-05-07 Nuridle Co., Ltd. Inorganic paint composition comprising urushiol and preparation method thereof
JP2009102503A (ja) 2007-10-23 2009-05-14 Korea Electrotechnology Research Inst 高分子樹脂と疎水化された無機物とで形成された有無機ハイブリッドゾル溶液の製造方法、およびこれにより製造された材料
KR101483680B1 (ko) * 2014-11-20 2015-01-26 한국세라믹기술원 소수성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009102503A (ja) 2007-10-23 2009-05-14 Korea Electrotechnology Research Inst 高分子樹脂と疎水化された無機物とで形成された有無機ハイブリッドゾル溶液の製造方法、およびこれにより製造された材料
WO2009057935A1 (en) 2007-10-30 2009-05-07 Nuridle Co., Ltd. Inorganic paint composition comprising urushiol and preparation method thereof
KR101483680B1 (ko) * 2014-11-20 2015-01-26 한국세라믹기술원 소수성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230171306A (ko) 2022-06-13 2023-12-20 주식회사 유엔아이 잉크젯 사용이 가능한 oled 음극 캡핑용 고굴절 무기 안료 분산액

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