KR101679479B1 - 패키지 온 패키지 구조체에서의 휨 제어 - Google Patents

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충 시 리우
밍 다 쳉
웨이 훙 린
웨이 유 첸
유 시앙 휴
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Abstract

본 발명은 패키지에 관한 것으로서, 패키지는 바닥 기판과, 바닥 기판 위에서 바닥 기판에 본딩되는 바닥 다이를 포함한다. 금속 입자를 포함하는 금속 입자 함유 화합 재료가 바닥 다이의 상부면 위의 위치된다. 몰딩 재료가 적어도 바닥 다이의 하부를 내부에 몰딩하며 바닥 기판 위에 위치된다.

Description

패키지 온 패키지 구조체에서의 휨 제어{WARPAGE CONTROL IN PACKAGE­ON­PACKAGE STRUCTURES}
본 발명은 패키지 온 패키지 구조체에서의 휨 제어에 관한 것이다.
종래의 패키지 온 패키지(PoP) 공정에서, 제1 디바이스 다이가 본딩되는 상부 패키지는 땜납 볼을 통해 바닥 패키지에 추가로 본딩된다. 또한, 바닥 패키지는 내부에 본딩된 제2 디바이스 다이를 포함할 수도 있다. 제2 디바이스 다이는 땜납 볼로서 바닥 패키지의 동일한 측부 상에 위치될 수도 있다.
상부 패키지를 바닥 패키지에 본딩하기 전에, 몰딩 화합물이 바닥 패키지에 도포되는데, 몰딩 화합물은 제2 디바이스 다이와 땜납 볼을 덮는다. 땜납 볼은 몰딩 화합물에 매설되기 때문에, 레이저 어블레이션 또는 드릴링이 몰딩 화합물에 구멍을 형성하도록 수행되어, 땜납 볼이 노출된다. 후속하여, 상부 패키지와 바닥 패키지는 바닥 패키지의 땜납 볼을 통해 본딩될 수 있다.
PoP 패키지의 재료들의 열팽창 계수(CTE)는 상당히 불일치한다. 예컨대, 패키지 기판과 몰딩 화합물은 디바이스 다이의 CTE보다 상당히 큰 CTE를 갖는다. 따라서, 최종 패키지에는 상당한 휨이 유발된다.
본 발명의 목적은 패키지 온 패키지 구조체에서의 개선된 휨 제어를 제공하는 것이다.
상술된 본 발명의 목적은 청구항에 개시된 본원 발명에 의해 달성된다.
본 발명에 따르면, 패키지 온 패키지 구조체에서의 휨이 감소될 수 있다.
도 1 내지 도 9는 본 발명의 몇몇 예시적인 실시예에 따른 패키지 온 패키지(PoP)의 제조 과정의 중간 단계들을 도시하는 단면도.
본 발명의 실시예 및 이점의 보다 완벽한 이해를 위해, 첨부된 도면과 함께 이하의 상세한 설명을 이제 참조할 것이다.
본 발명의 실시예가 이하에서 상세히 기술될 것이다. 그러나, 실시예들은 광범위한 특정 내용으로 실시될 수 있는 수많은 적용가능한 개념을 제공한다는 것을 알아야 한다. 개시된 특정한 실시예들은 본 발명의 범주를 제한하지 않는다.
패키지와, 패키지를 형성하는 방법이 다양한 실시예에 따라 제공된다. 패키지를 형성하는 중간 단계들이 몇몇 실시예에 따라 도시되어 있다. 변형예들도 개시되어 있다. 다양한 도면 및 예시적인 실시예에서, 유사한 도면 부호들은 유사한 요소들을 나타내는데 사용된다.
도 1 내지 도 9는 몇몇 예시적인 실시예에 따른 패키지 온 패키지(PoP) 구조체의 제조 방법의 중간 단계들의 단면도이다. 도 1을 참조하면, 패키지 요소(10)가 제공되어 있다. 몇몇 실시예에서, 패키지 요소(10)는 패키지 기판이라서, 이하에서는 패키지 기판(10)으로 칭해지지만, 인터포저 또는 패키지와 같은 다른 유형의 패키지 요소일 수 있다. 패키지 기판(10)은 (도시 안 된)패키지 기판 스트립의 부품일 수 있다. 예컨대, 패키지 기판 스프립은 패키지 기판(10)과 동일한 구조를 갖는 복수의 패키지 기판을 포함할 수 있다. 패키지 기판 스트립의 패키지 기판은 어레이로서 배열될 수 있다.
패키지 기판(10)은 빌드업 기판 또는 적층 기판일 수 있다. 예컨대, 빌드업 구조체로서의 패키지 기판(10)은 유전체 재료로 형성되는 기판(11)을 포함하며, 유전체 바이어스(15)가 기판(11)을 관통한다. 또한, 패키지 기판(10)은 기판(11)의 대향하는 측부에 금속 라인/바이어스(14)를 포함한다. 또한, 패키지 기판(10)은 적층된 유전체 필름을 포함하는 적층 기판일 수 있으며, 전도성 트레이스가 유전체 필름에 형성된다. 패키지 기판(10)은 패키지 기판(10)의 상부 측부의 커넥터(12)를 패키지 기판(10)의 바닥 측부의 전도성 특징부(16)에 전기적으로 결합시키도록 구성된다. 예컨대, 전도성 특징부(16)는 금속 패드일 수 있다.
전기 커넥터(24)가 패키지 기판(10)의 상부면(10A)에 형성된다. 전기 커넥터(24)는 전기 커넥터(12)에 전기적으로 결합되고 그리고 전기 커넥터(12)와 물리적으로 접촉될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 전기 커넥터(24)는 땜납 볼이다. 다른 실시예에서, 전기 커넥터(24)는 금속 패드, 금속 필라, 금속 필라에 형성된 땜납 캡 등을 포함한다. 전기 커넥터(24)의 (땜납 볼 또는 리플로우된 땜납 캡과 같은)땜납 구역은 둥근 상부면을 가질 수 있지만, 땜납 구역의 상부면은 또한 평면일 수도 있다.
도 2를 참조하면, 디바이스 다이(20)가 전기 커넥터(12)를 통해 패키지 기판(10)에 본딩되어 있다. 본 명세서에서, 디바이스 다이(20)는 바닥 패키지에 위치되기 때문에 바닥 디바이스 다이로도 칭해진다. 디바이스 다이(20)는 트랜지스터, 커패시터, 레지스터 등과 같은 (도시 안 된)집적 회로를 포함하는 회로 다이일 수 있다. 디바이스 다이(20)는 중앙 컴퓨팅 유닛(CPU) 다이와 같은 로직 다이일 수도 있다. 또한, 디바이스 다이(20)는 함께 적층된 복수의 다이를 포함하는 다이 스택을 나타낼 수도 있다. 전기 커넥터(12)에 대한 디바이스 다이(20)의 본딩은 땜납 본딩 또는 (구리 대 구리 본딩과 같은)직접적인 금속 대 금속 본딩을 통해 이루어질 수 있다. 몇몇 실시예에서, 전기 커넥터(12)의 상단부(24A)는 디바이스 다이(20)의 상부면(20A)과 사실상 동일한 높이이거나 디바이스 다이(20)의 상부면(20A)보다 낮다. 다른 실시예에서, 전기 커넥터(24)의 상단부(24A)는 디바이스 다이(20)의 상부면(20A)보다 높다.
도 3을 참조하면, 금속 함유 페이스트(26)가 디바이스 다이(20)의 상부면(20A)에 도포되어 있다. 몇몇 실시예에서, 금속 함유 페이스트(26)의 도포는 스텐실 프린팅을 통해 수행되는데, 스텐실 프린팅은 스텐실(28)의 관통 구멍(30)이 상부면(20A)의 중앙 구역에 정렬된 상태로 스텐실(28)을 디바이스 다이(20) 위에 배치하는 단계를 포함한다. 후속하여, 금속 함유 페이스트(26)가 스텐실(28)에 도포된다. 후속하여, 초과 금속 함유 페이스트(26)가 스퀴지(31)를 이용하여 와이핑된다. 스퀴지(31)는 평면형 바닥면을 가지기 때문에, 관통 구멍(30) 내에 남겨진 금속 함유 페이스트(26)의 부분은 평면형 상부면을 갖는다. 스텐실(28)이 들어 올려진 후에, 금속 함유 페이스트(26)의 일부분이 관통 구멍(30) 내에 남겨진다.
금속 함유 페이스트(26)는 접착제와 혼합된 금속 입자를 포함할 수 있다. 금속 입자는 순수 금속, 금속 합금 등의 입자를 포함할 수도 있다. 몇몇 실시예에서, 금속 함유 페이스트(26)는 구리 입자를 포함하는 구리 페이스트이다. 금속 함유 페이스트(26)의 금속 입자는 약 20%보다 큰 중량%를 가질 수 있는데, 이런 중량%는 금속 함유 페이스트(26)의 후속적인 경화 단계 이전에 또는 이후에 측정된다. 금속 함유 페이스트(26)의 접착제는 페놀 수지, 에폭시 수지 등을 포함할 수 있다. 금속 함유 페이스트(26)는 전기 전도성이기 때문에, 전기 커넥터에 사용되는 동일한 페이스트를 사용할 수도 있다. 이런 실시예에서, 금속 함유 페이스트(26)는 땜납 페이스트이다. 금속 함유 페이스트(26)는 반유동체(semi-fluid)로서 도포되기 때문에 스텐실 프린팅될 수 있으며, 경화되기 전에 형상을 유지할 수 있다. 예컨대, 금속 함유 페이스트(26)는 약 800Pa-S 내지 약 1,300Pa-S 범위의 점도를 갖는다. 몇몇 실시예에서, 금속 함유 페이스트(26)의 금속 입자(필러)의 직경은 약 3㎛ 내지 약 10㎛이거나, 약 5㎛ 내지 약 6㎛이다. 금속 함유 페이스트(26)의 유리 전이 온도는 약 100℃보다 높을 수 있다. 몇몇 예시적인 실시예에서, 금속 함유 페이스트(26)의 유리 전이 온도는 약 110℃이다.
도 4a는 금속 함유 페이스트(26)의 경화 단계를 도시한다. 본 명세서에서, 금속 함유 페이스트(26)는 금속 입자 함유 화합 재료로도 칭해진다. 도 3에 도시된 바와 같은 스텐실(28)도 또한 제거된다. 몇몇 실시예에서, 금속 함유 페이스트(26)는 예컨대 금속 함유 페이스트(26)의 유리 전이 온도보다 높은 온도로의 금속 함유 페이스트(26)의 가열에 의한 열 경화를 포함한다. 예컨대, 경화 온도는 약 150℃ 내지 약 200℃일 수 있다. 경화는 금속 함유 페이스트(26)의 유형에 따라 약 60분 내지 약 120분의 기간 동안 수행될 수 있다. 금속 함유 페이스트(26)의 경화 후에, 경화된 금속 함유 페이스트(26)는 디바이스 다이(20)의 CTE보다 큰 열팽창 계수(CTE)를 갖는다. 예컨대, 디바이스 다이(20)는 약 3.2ppm/℃의 CTE를 갖는 실리콘 기판을 포함할 수 있다. 따라서, (경화된)금속 함유 페이스트(26)는 3.2ppm/℃보다 큰 CTE를 갖는다. 또한, 금속 함유 페이스트(26)의 CTE와 디바이스 다이(20)의 CTE의 차이는 약 10 ppm/℃보다 크거나, 약 20 ppm/℃보다 크거나, 또는 이보다 더 클 수도 있다. 예컨대, 금속 함유 페이스트(26)의 영률(Young's module)은 바람직하게는 약 5x109Pa보다 크다. 금속 함유 페이스트(26)의 두께 T1은 약 50㎛보다 커서, 최종 패키지에서의 응력을 밸런싱하는데 충분한 지지력을 제공할 수 있다.
금속 함유 페이스트(26)의 더 높은(디바이스 다이보다 높은) CTE와 높은 영률은 최종 패키지에서의 응력을 밸런싱하는데 도움을 준다. 예컨대, 패키지 기판(10)은 약 15ppm/℃보다 큰 높은 CTE를 갖는다. 디바이스 다이(20)는 낮은 CTE를 갖기 때문에, 최종 패키지에는 중심 부분보다 코너 부분과 에지 부분에서 더 높은 휨(warpage)이 유발될 수 있다. [디바이스 다이(20)보다 높은 CTE를 양자 모두가 갖는]금속 함유 페이스트(26)와 패키지 기판(10)이 디바이스 다이(20)의 대향하는 측부들에 배치된 상태에서, [디바이스 다이(20)의 대향하는 측부들에 대한 응력과 같은]최종 패키지에서의 응력이 밸런싱되어, 최종 패키지에서의 휨이 감소된다.
도 4a에 도시된 바와 같이, 금속 함유 페이스트(26)의 중량과 점도로 인해, 금속 함유 페이스트(26)의 형상은 경화 공정 전에 그리고 경화 공정 동안 약간 변경될 수도 있다. 경화된 최종 금속 함유 페이스트(26)는 바닥 부분이 상부 부분보다 큰 프로파일을 가질 수 있다. 또한, 금속 함유 페이스트(26)의 에지들은 경사진다. 따라서, 금속 함유 페이스트(26)의 단면은 사다리꼴 형상을 가질 수 있다. 또한, 금속 함유 페이스트(26)의 상부 코너는 둥근 형상일 수도 있다.
도 4b는 다른 실시예에 따른 패키지를 도시한다. 이 실시예에서, 강성 플레이트(27)가 금속 함유 페이스트(26) 위에 배치된다. 강성 플레이트(27)는 배치되기 전에 미리 형성될 수도 있으며, 디바이스 다이(20)의 CTE보다 큰 CTE를 가질 수도 있다. 예컨대, 강성 플레이트(27)의 영률은 바람직하게는 약 5x109Pa보다 높다. 또한, 강성 플레이트(27)의 영률은 금속 함유 페이스트(26), 실리콘, 및 후속적으로 도포되는 몰딩 화합물(molding compound; 32)(도 5a 참조)의 영률보다 높을 수도 있다. 몇몇 실시예에서, 강성 플레이트(27)는 약 30㎛보다 큰 두께 T2를 가질 수도 있다. 몇몇 실시예에서, 강성 플레이트(27)는 구리 플레이트를 포함한다. 다른 실시예에서, 강성 플레이트(27)는 스테인레스강 플레이트, Al 플레이트, Cu 플레이트 등을 비제한적으로 포함하는 다른 유형의 금속 플레이트일 수도 있다. 또 다른 실시예에서, 강성 플레이트(27)는 예컨대 세라믹을 포함할 수 있는 비금속 플레이트를 포함한다. 강성 플레이트(27)를 포함하는 실시예에서, 금속 함유 페이스트(26)는 강성 플레이트(27)를 디바이스 다이(20) 상에 부착시키기 위한 접착제로서도 기능을 할 수 있다.
도 4b에 도시된 패키지의 형성은 금속 함유 페이스트(26)를 디바이스 다이(20)의 상부면에 도포하는 단계와, 강성 플레이트(27)를 금속 함유 페이스트(26) 위에 배치하는 단계를 포함할 수 있다. 강성 플레이트(27)가 금속 함유 페이스트(26) 위에 배치된 후에, 경화 공정이 금속 함유 페이스트(26)를 경화시키도록 수행된다. 따라서, 금속 함유 페이스트(26)는 강성 플레이트(27)를 아래에 위치된 디바이스 다이(20)에 부착시키기 위한 접착제로서 기능을 한다.
도 4c는 패키지 기판(10), 디바이스 다이(20) 및 땜납 볼(24)의 상면도로서, 도 4a 또는 도 4b의 상면도일 수도 있다. 몇몇 실시예에서, 땜납 볼(24)은 디바이스 다이(20)를 둘러싸게 배치되어 있다. 금속 함유 페이스트(26)는 디바이스 다이(20)의 중심부를 덮는다. 금속 함유 페이스트(26)의 에지(26A)는 마진 D1만큼 디바이스 다이(20)의 에지(20B)로부터 이격되어 있어, 도포된 금속 함유 페이스트(26)가 디바이스 다이(20)의 에지 위로 유동되지 않는다. 몇몇 실시예에서, 마진 D1은 약 300㎛ 내지 1,000㎛이다. 디바이스 다이(20)의 폭이 W1으로 표시될 때, D1/W1의 비율은 몇몇 실시예에서 약 0.02 내지 약 0.08일 수 있지만, 다른 비율도 사용될 수 있다.
도 5a를 참조하면, 몰딩 재료(32)가 디바이스 다이(20)와 패키지 기판(10) 상에 몰딩된 후에, 경화된다. 몰딩 재료(32)는 금속 함유 페이스트의 접착제와 상이할 수 있다. 몇몇 예시적인 실시예에서, 몰딩 재료(32)는 몰딩 화합물, 언더필(underfill), 몰딩 언더필(MUF) 등일 수 있는 폴리머를 포함한다. 몇몇 실시예에서, 땜납 볼(24)이 몰딩 재료(32)에 매설된다. 다른 실시예에서, 땜납 볼(24)의 하부는 몰딩 재료(32) 내에 위치되고, 땜납 볼(24)의 상부 부분은 몰딩 재료(32) 위로 돌출된다.
몇몇 실시예에서, 몰딩 재료(32)는 금속 함유 페이스트(26)와 강성 플레이트(27)(존재하는 경우, 도 4b 참조)를 내부에 몰딩한다. 다른 실시예에서, 몰딩 재료(32)는 디바이스 다이(20)의 하부를 몰딩하고, 몰딩 재료(32)의 상부면은 금속 함유 페이스트(26)[또는 존재하는 경우, 강성 플레이트(27)]의 상부면 아래에 있는 임의의 높이에 위치될 수도 있다. 예컨대, 몰딩 재료(32)의 상부면은 파선으로 표시된 도면 부호 33으로 도시된 높이에 위치될 수도 있다. 몇몇 실시예에서, 몰딩 재료(32)의 상부면은 강성 플레이트(27)의 상부면과 동일한 높이에 위치된다. 다른 실시예에서, 몰딩 재료(32)의 상부면은 강성 플레이트(27)의 상부면과 바닥면 사이에 위치된다. 또 다른 실시예에서, 몰딩 재료(32)의 상부면은 강성 플레이트(27)와 금속 함유 페이스트(26)의 인터페이스와 동일한 높이에 위치된다. 또 다른 실시예에서, 몰딩 재료(32)의 상부면은 금속 함유 페이스트(26)의 상부면과 바닥면 사이에 위치된다. 또한, 몰딩 재료(32)의 상부면은 금속 함유 페이스트(26)의 바닥면과 동일한 높이이거나 금속 함유 페이스트(26)의 바닥면보다 낮다.
도 5b 및 도 5c는 도 5a의 패키지의 부분(29)의 확대도이다. 도 5b 및 도 5c에 도시된 바와 같이, 금속 함유 페이스트(26)는 상부면(26B)과, 에지(26A)와, 디바이스 다이(20)의 상부면과 접촉되는 바닥면(26C)을 포함한다. 상부면(26B)은 사실상 평면인 부분을 포함한다. 또한, 에지(26A)는 상부면(26B)의 평면부와 함께 둥근 코너(26D)를 형성하는 사실상 직선인 부분을 포함할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 둥근 코너(26D)의 반경 r1은 약 20㎛ 내지 약 40㎛의 범위일 수 있다. 금속 함유 페이스트(26)의 사실상 직선인 에지(26A)와 바닥면(26C)은 약 45도 내지 약 75도일 수 있는 각도 α를 형성한다.
몇몇 실시예에서, 도 5b에 도시된 바와 같이 강성 플레이트(27)가 사용되는 경우, 평면형 상부면(26B)은 강성 플레이트(27)의 바닥면과 접촉된다. 다른 실시예에서, 도 5C에 도시된 바와 같이 강성 플레이트(27)가 사용되지 않는 경우, 에지(26A)는 몰딩 재료(32)와 접촉된다. 몰딩 재료(32)의 상부면의 위치에 따라, 다양한 실시예에서 에지(26A)와 둥근 코너(26D)는 몰딩 재료(32B)와 접촉되거나 접촉되지 않을 수 있다.
도 6은 땜납 볼(24)의 노출에 대한 도면이다. 몇몇 실시예에서, 노출은 땜납 볼(24)을 덮고 있는 몰딩 재료(32)의 일부분을 제거하는 레이저 트리밍 단계를 포함한다. 레이저 트리밍 공정에서 사용되는 레이저의 에너지는 몰딩 재료(32)는 레이저에 노출될 때 트리밍되지만 땜납 볼(24)은 레이저에 노출되더라도 제거되지 않도록 조절된다. 도 6에 도시된 바와 같이, 레이저 트리밍의 결과로서 개구(34)가 형성되는데, 땜납 볼(24)은 개구(34)에 노출되어 있는 상태이다.
도 7은 금속 패드(16) 상의 땜납 볼(36)의 형성에 대한 도면이다. 본 명세서에서, 패키지 기판(10), 디바이스 다이(20), 몰딩 재료(32) 및 금속 함유 페이스트(26) 등을 포함하는 도 7에 도시된 구조체는 조합적으로 바닥 패키지(100)로 칭해진다.
도 8을 참조하면, 상부 패키지(200)가 바닥 패키지(100) 상에 배치된다. 상부 패키지(200)의 땜납 볼(210)은 땜납 볼(24)에 정렬되어 땜납 볼(24) 상에 배치된다. 몇몇 실시예에서, 상부 패키지(200)는 디바이스 다이(204)와, 디바이스 다이(204)가 상부에 본딩되어 있는 패키지 기판(206)을 포함한다. 또한, 몰딩 재료(208)가 상부 패키지(200)를 형성하도록 디바이스 다이(204) 상에 몰딩될 수 있다.
다음으로 도 9에 도시된 바와 같이, 리플로우(reflow)가 수행되어, 상부 패키지(204)가 바닥 패키지(100)에 본딩된다. 리플로우 후에, 땜납 볼(24, 210)(도 8 참조)이 용융되어 결합되며, 최종 땜납 구역은 도 8에서 땜납 구역(50)으로서 칭해진다. 리플로우 후에, (도시 안 된)언더필이 상부 패키지(200)와 바닥 패키지(100) 사이에 배치될 수도 있다. 상부 패키지(200)와 바닥 패키지(100)를 다른 부품(예컨대, 개별 패키지 기판 스트립)으로부터 분리되게 소잉하는 소잉 단계가 수행될 수 있다. 최종 패키지는 PoP 패키지(300)로서 칭해진다.
본 발명의 실시예에서, 각각의 하부 디바이스 다이의 CTE보다 큰 CTE를 갖는 금속 함유 페이스트를 적용함으로써, 디바이스 다이의 대향하는 측부들의 재료의 CTE의 차이가 감소되어, 최종 PoP 패키지에서의 응력이 감소된다. 또한, 최종 PoP 패키지에서의 휨도 감소된다.
본 발명의 몇몇 실시예에 따르면, 패키지는 바닥 기판과, 바닥 기판 위에서 바닥 기판에 본딩되는 바닥 다이를 포함한다. 금속 입자를 포함하는 금속 입자 함유 화합 재료가 바닥 다이의 상부면 위의 위치된다. 몰딩 재료가 적어도 바닥 다이의 하부를 내부에 몰딩하며 바닥 기판 위에 위치된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 패키지는 바닥 패키지에 본딩되는 상부 패키지를 포함한다. 바닥 패키지는 패키기 기판, 및 패키지 기판 위에서 패키지 기판에 본딩되는 디바이스 다이를 포함한다. 금속 입자를 포함하는 금속 입자 함유 화합 재료가 디바이스 다이의 상부면 위에 위치된다. 몰딩 화합물이 패키지 기판 위에 위치되고 디바이스 다이를 내부에 몰딩한다. 상부 패키지는 몰딩 화합물을 관통하는 땜납 구역을 통해 바닥 패키지에 본딩된다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명의 방법은 디바이스 다이를 패키지 기판 위에 본딩하는 단계와, 디바이스 다이의 상부면 위에 금속 함유 페이스트를 도포하는 단계와, 금속 함유 페이스트를 경화시키는 단계를 포함한다. 금속 함유 페이스트를 경화시키는 단계 후에, 디바이스 다이가 몰딩 화합물 내에 몰딩되며, 몰딩 화합물은 패키지 기판 위에 위치되는 부분을 포함한다.
본 발명의 실시예들과 이점이 상세히 기술되었지만, 첨부된 특허청구범위에 의해 규정되는 본 발명의 실시예의 기술 사상과 범주를 벗어나지 않고 다양한 변형예, 대체예 및 변경예가 이루질 수 있음을 당업자들은 알 것이다. 또한, 본 출원의 범주는 본 명세서에 개시된 공정, 기계, 제조방법의 실시예, 물질의 조성, 수단, 방법 또는 단계에 제한되지 않는다. 본 명세서에 개시된 대응하는 실시예와 사실상 동일한 결과를 달성하거나 사실상 동일한 기능을 수행하는 기존의 또는 추후 개발될 내용, 공정, 기계, 제조방법, 물질의 조성, 수단, 방법 또는 단계는 본 발명에 따라 이용될 수 있음을 당업자들은 알 것이다. 따라서, 첨부된 특허청구범위의 범주는 이런 공정, 기계, 제조방법, 물질의 조성, 수단, 방법 또는 단계를 포함한다. 또한, 각각의 청구항들은 개별 실시예들을 포함하며, 다양한 청구항들과 실시예들의 조합은 본 발명의 범주 내에 있다.
10 : 패키지 기판
11 : 기판
12 : 커넥터
14 : 금속 라인/바이어스
16 : 전도성 특징부
24 : 전기 커넥터

Claims (10)

  1. 패키지로서,
    기판과,
    상기 기판 위에서 기판에 본딩되는 바닥 다이와,
    상기 바닥 다이의 상부면 위에 접촉된 금속 입자를 포함하는 금속 입자 함유 화합 재료 - 상기 금속 입자 함유 재료는 상기 바닥 다이의 제2 열팽창 계수(CTE)보다 큰 제1 열팽창 계수를 가짐 - 와,
    상기 바닥 다이의 하부를 내부에 몰딩하고 상기 기판 위에 위치되는 몰딩 재료 - 상기 몰딩 재료 전체는 상기 바닥 다이의 상부면 보다 낮게 위치함 -
    를 포함하는 패키지.
  2. 제1항에 있어서, 상기 금속 입자 함유 화합 재료는 구리 입자를 포함하는 구리 페이스트인 것인 패키지.
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서, 상기 바닥 다이의 측벽은 상기 몰딩 재료와 접촉하는 하부와, 상기 몰딩 재료에 접촉하지 않는 상부를 포함하는 것인 패키지.
  5. 제1항에 있어서, 상기 금속 입자 함유 화합 재료 위에 위치되고 금속 입자 함유 화합 재료에 접촉되는 강성 금속 플레이트를 더 포함하며, 상기 강성 금속 플레이트는 상기 바닥 다이의 CTE보다 큰 CTE를 갖는 것인 패키지.
  6. 제1항에 있어서, 상기 금속 입자 함유 화합 재료의 하부는 상기 금속 입자 함유 화합 재료의 상부보다 큰 상면도 면적을 갖는 것인 패키지.
  7. 패키지로서,
    패키기 기판, 및 패키지 기판 위에서 패키지 기판에 본딩되는 디바이스 다이를 포함하는 바닥 패키지와,
    상기 디바이스 다이의 상부면 위에 위치되는 금속 입자 함유 화합 재료와,
    상기 금속 입자 함유 화합 재료 위에 접촉된 강성 플레이트와,
    상기 패키지 기판 위에 위치된 몰딩 화합물 - 상기 몰딩 화합물 전체는 상기 디바이스 다이의 상부면보다 낮게 위치함 - 과,
    상기 몰딩 화합물을 관통하는 땜납 구역을 통해 상기 바닥 패키지에 본딩되는 상부 패키지
    를 포함하는 패키지.
  8. 제7항에 있어서, 상기 금속 입자 함유 화합 재료는 상기 다바이스 다이의 상면도 면적보다 작은 상면도 면적을 가지며, 상기 금속 입자 함유 화합 재료의 하부는 상기 금속 입자 함유 화합 재료의 상부의 상면도 면적보다 큰 상면도 면적을 갖는 것인 패키지.
  9. 디바이스 다이를 패키지 기판 위에 본딩하는 단계와,
    상기 디바이스 다이의 상부면 위에 금속 함유 페이스트를 도포하는 단계와,
    상기 금속 함유 페이스트 위에 접촉되는 강성 비금속 플레이트를 배치하는 단계와,
    상기 금속 함유 페이스트를 경화시키는 단계와,
    상기 금속 함유 페이스트를 경화시키는 단계 후에, 몰딩 화합물 내에 상기 디바이스 다이를 몰딩하는 단계를 포함하며,
    상기 몰딩 화합물은 상기 패키지 기판 위에 위치되되, 상기 디바이스 다이의 상부면은 상기 몰딩 화합물을 관통하여 노출되고, 상기 몰딩 화합물 전체는 상기 디바이스 다이의 상기 상부면보다 낮게 위치하는 것인, 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 금속 함유 페이스트를 도포하는 단계는,
    스텐실의 관통 구멍이 상기 디바이스 다이에 정렬되도록 상기 스텐실을 상기 디바이스 다이 위에 배치하는 단계와,
    상기 금속 함유 페이스트를 상기 스텐실 위에 배치하는 단계와,
    상기 관통 구멍의 외부에 존재하는 상기 금속 함유 페이스트의 초과 부분을 와이핑하는 단계를 포함하며,
    상기 관통 구멍 내에 잔류하는 상기 금속 함유 페이스트의 부분이 상기 디바이스 다이의 상부면 위에 존재하는 금속 함유 페이스트를 형성하는 것인 방법.
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