KR101653213B1 - 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치 - Google Patents

디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101653213B1
KR101653213B1 KR1020100015114A KR20100015114A KR101653213B1 KR 101653213 B1 KR101653213 B1 KR 101653213B1 KR 1020100015114 A KR1020100015114 A KR 1020100015114A KR 20100015114 A KR20100015114 A KR 20100015114A KR 101653213 B1 KR101653213 B1 KR 101653213B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
file
gds
substrate
dmd
data
Prior art date
Application number
KR1020100015114A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110095571A (ko
Inventor
윤상현
이희국
배상우
김차동
박정인
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020100015114A priority Critical patent/KR101653213B1/ko
Priority to US12/906,623 priority patent/US8477288B2/en
Publication of KR20110095571A publication Critical patent/KR20110095571A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101653213B1 publication Critical patent/KR101653213B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/32Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
    • G03B27/52Details
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/32Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
    • G03B27/52Details
    • G03B27/522Projection optics
    • G03B27/525Projection optics for slit exposure
    • G03B27/526Projection optics for slit exposure in which the projection optics move
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70283Mask effects on the imaging process
    • G03F7/70291Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70508Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70541Tagging, i.e. hardware or software tagging of features or components, e.g. using tagging scripts or tagging identifier codes for identification of chips, shots or wafers

Abstract

디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광장치에서, 기판에 형성되는 적어도 2개 이상의 패턴 각각에 대하여 그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일을 제작한다. 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일로부터 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다. 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판을 노광한다. 따라서, 표시패널의 패턴을 형성하는 메인 노광과, 각 표시패널과 기판의 고유번호를 형성하고 기판의 주변부를 제거하는 주변 노광을 한번에 일괄 수행함에 따라 공정을 단순화하여 비용을 절감할 수 있다.

Description

디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치{DIGITAL EXPOSURE METHOD AND DIGITAL EXPOSURE DEVICE FOR PERFORMING THE EXPOSURE METHOD}
본 발명은 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 공정을 단순화할 수 있는 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치에 관한 것이다.
일반적으로 프린트 인쇄회로 기판, 반도체 웨이퍼 및 액정표시패널의 기판 등을 제조하는 공정에서는 절연 기판 또는 글라스 기판과 같은 베이스 기판의 상면에 복잡한 회로 패턴을 형성한다. 상기 회로 패턴을 형성하기 위한 포토리소그래피법이 가장 광범위하게 사용되고 있다.
상기 포토리소그래피법에 의하면, 베이스 기판 상에 감광막을 형성하고, 상기 회로 패턴에 상응하는 전사 패턴이 형성된 포토 마스크를 사용하여 상기 감광막을 노광한다. 따라서 상기 포토 마스크는 매우 정밀하게 제작되며 고가의 장비이다. 따라서 공정을 개선하여 상기 포토 마스크의 개수를 줄이거나 아예 상기 포토 마스크를 사용하지 않고 상기 감광막을 노광하는 방법이 연구되고 있다. 특히 대형 액정표시패널 기판을 노광하기 위한 포토 마스크는 대형화됨에 따라 비용 및 관리의 난이도가 매우 높아진다.
상기 포토 마스크를 사용하지 않는 노광 방법의 일 예로, 노광 빔을 디지털 방식으로 전사 패턴의 각 픽셀에 대응하여 온/오프를 제어하는 디지털 노광법이 주목받고 있다.
그러나, 상기 디지털 노광법에서는 각 디바이스의 패턴을 형성하는 메인 노광, 셀 ID를 패터닝하는 타이틀러(titler), 및 기판의 주변부를 노광하는 에지 노광(edge exposure)을 각각 독립적인 노광장비를 이용하여 수행함에 따라, 장비에 대한 투자비가 증가하고 공정시간이 증가되는 문제점이 있다.
이에 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로, 본 발명의 목적은 공정을 단순화 할 수 있는 디지털 노광 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 디지털 노광 방법을 이용한 노광 장치를 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 실시예에 따른 디지털 노광 방법은 기판에 형성되는 적어도 2개 이상의 패턴 각각에 대하여 그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일을 제작한다. 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일로부터 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다. 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판을 노광한다.
본 발명의 실시예에서, 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS)파일을 제작하는 단계는, 상기 기판의 제1 영역을 노광하기 위한 제1 패턴에 대응되는 제1 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 기판의 제2 영역을 노광하기 위한 제2 패턴에 대응되는 제2 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-2)을 제작하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판을 노광하는 단계는, 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역을 동시에 노광할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS)파일을 제작하는 단계는, 상기 제1 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 제2 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-2)을 하나의 파일로 병합하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 제1 및 제2 그래픽 데이터 시스템 파일들(GDS-1, GDS-2)을 병합하는 단계는, 상기 제1 패턴이 포함하는 제1 레이어들 및 상기 제2 패턴이 포함하고, 상기 제1 레이어들과 대응하는 제2 레이어들을 각각 하나의 레이어로 병합하는 방법을 이용할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 제1 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 제2 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-2)이 병합된 파일로부터 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계는, 상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1) 파일로부터 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성할 수 있다. 상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-2)파일로부터 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성할 수 있다. 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터 및 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 하나로 병합할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 제1 및 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 하나로 병합하는 단계는 비트 연산(Bitwise OR)을 수행하여 병합할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계는, 상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1) 파일로부터 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 기판을 노광하는 단계는, 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판의 제1 영역을 노광하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 기판의 제1 영역을 노광 하는 단계 이후에, 상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-1) 파일로부터 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성할 수 있다. 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판의 제2 영역을 노광하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 기판의 제2 영역을 노광하는 단계의 스캔 속도는 상기 기판의 제1 영역을 노광하는 스캔 속도의 2배 이상일 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 제1 영역은 액정표시패널을 형성하기 위한 영역일 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 제2 영역은 상기 기판의 고유번호와 상기 액정표시패널의 고유번호를 형성하기 위한 영역 및 상기 기판의 가장자리 부분을 포함하는 영역일수 있다.
상기한 본 발명의 다른 목적을 실현하기 위한 실시예에 따른 디지털 노광 장치는 기판으로 노광원 으로부터 제공된 소스 빔을 반사하여 상기 기판상에 노광 빔들을 스캔하는 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)를 포함하는 노광 헤드 및 상기 기판에 형성되는 적어도 2개 이상의 패턴 각각에 대하여 그래픽 시스템(GDS) 파일을 제작하는 파일 제작부, 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일들로부터 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하여 온/오프 타이밍을 제어하는 데이터 출력부 및 상기 기판을 고정하는 스테이지를 이송시키는 이송신호를 출력하는 이송 제어부를 포함하는 시스템 제어부를 포함한다.
본 발명의 실시예에서, 상기 파일 제작부는 상기 기판의 제1 영역을 노광하기 위한 제1 패턴에 대응되는 제1 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 기판의 제2 영역을 노광하기 위한 제2 패턴에 대응되는 제2 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-2)을 제작할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 파일 제작부는 상기 제1 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 제2 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-2)을 병합하는 파일 병합부를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 데이터 출력부는 상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1) 파일로부터 생성된 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터 및 상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-2)파일로부터 생성된 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 병합하는 데이터 병합부를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 이송제어부는 상기 데이터 출력부로부터 생성된 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판을 스캔 방향으로 이송시킬 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 이송제어부는 상기 기판을 상기 스캔 방향으로 이송시킨후, 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터가 다시 출력되면 상기 스테이지의 속도를 2배 이상 증가시켜, 상기 기판을 상기 스캔 방향으로 다시 이송시킬 수 있다.
본 발명에 따른 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치에 따르면, 표시패널의 패턴을 형성하는 메인 노광과, 각 표시패널과 기판의 고유번호를 형성하고 기판의 주변부를 제거하는 주변노광을 한번에 일괄 수행함에 따라 공정을 단순화하여 비용을 절감할 수 있다.
도 1는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장치를 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1의 노광장치의 일 실시예에 따른 노광 헤드를 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 1의 노광장치의 일 실시예에 따른 시스템 제어부를 나타낸 블록도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 노광방법을 나타낸 순서도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 노광방법을 나타낸 순서도이다.
도 6은 도 5의 노광방법을 설명하기 위한 블록도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 노광방법을 나타낸 순서도이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 예시적인 실시예들을 상세히 설명한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 고안의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
또한, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장치를 나타낸 평면도이다.
도 1을 참조하면, 상기 기판(100)은 표시패널을 형성하기 위한 모기판으로 복수의 제1 영역(10)들과 상기 제1 영역을 제외한 나머지 부분인 제2 영역(50)을 포함한다. 상기 제1 영역(10)에는 매트릭스 타입으로 배열되는 다수의 패널(S11,..., Smn)들이 형성된다. 상기 제2 영역(50)은 상기 기판(100)의 고유번호가 형성되는 글라스 ID 영역(51) 및 상기 다수의 패널들의 고유번호가 형성되는 셀 ID 영역(52)을 포함한다. 또한, 상기 제2 영역(50)은 기판의 가장자리 부분인 에지 노광 영역(53)을 포함한다.
상기 기판(100)은 노광부(30)의 하부로 제1 방향(D11)을 따라 이송되어 노광된다. 상기 기판(100)은 하부에 배치된 스테이지(미도시)에 의해 상기 노광부(30)로 이송된다.
상기 노광방식은 스텝 노광 또는 스캔 노광을 포함한다. 스텝 노광은 노광시 기판의 이동과 멈춤이 반복하는 동작이 포함된 것을 말하며, 스캔 노광은 노광시 기판의 연속적인 동작이 포함된 것을 말한다. 섬형 패턴(island pattern)은 주로 스텝 노광으로 형성할 수 있고, 스트립 패턴(strip pattern)은 주로 스캔 노광으로 형성할 수 있다.
상기 노광부(30)는 복수의 노광헤드(E1, E2, E3,...EK-2, EK-1, EK)를 포함하고, 상기 복수의 노광헤드는 스캔 방향인 상기 제1 방향(D11)과 수직한 제2방향(D12)을 따라 배열된다.(여기서, K는 자연수)
상기 복수의 노광헤드(E1, E2, E3,..., EK-2, EK-1, EK)는 예를 들어, 2열로 배열된다. 상기 제2 방향(D12)으로 배열된 제1 열의 노광헤드들과, 상기 제1 열과 근접하여 상기 제2 방향(D12)으로 배열된 제2 열의 노광헤드들은 교대로 배치될 수 있다. 상기 노광헤드들은 도시하지는 않았으나, 다양한 배열 형태로 상기 제2 방향(D12)을 따라 배열될 수 있다.
고정된 상기 노광부(30)가 상기 제1 방향(D11)으로 이동하는 상기 기판(100)을 노광하므로 상기 기판(100)에는 상기 제1 방향(D11)과 반대방향으로 노광 패턴이 형성된다.
상기 노광헤드들은 디지털 마이크로 미러 디바이스(digital micro mirror device: DMD)를 포함한다. 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)는 온/오프 데이터에 노광빔을 조사할 수 있다. 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)의 해당 셀의 디지털 미러에서 소스 빔이 반사되어 상기 노광 빔이 생성되며, 상기 노광 빔은 상기 노광 헤드로부터 출사된다.
도 2는 도 1에 도시된 노광장치의 일 실시예에 따른 노광헤드를 나타낸 사시도이다.
도 2를 참조하면, 상기 노광헤드(31)는 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD, 36)를 포함한다. 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD, 36)는 노광원(40)으로부터 소스 빔을 전달받는다. 상기 소스빔은 포토레지스트 노광용 자외선일 수 있다. 노광의 대상물인 피처리 기판(12)에는 감광막(11)이 형성되어 있다. 상기 감광막(11)은 기판에 패턴을 형성할 때, 상기 패턴의 마스크를 형성하기 위해 사용된다. 상기 감광막(11)은 유리 기판의 표면에 감광성 에폭시(epoxy) 수지 등의 감광성 수지를 도포하여 형성될 수 있다. 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD, 36)는 상기 기판(100)에 전사될 화상 데이터에 기초하여 선택적으로 상기 소스 빔을 반사한다.
상기 노광헤드(31)는 투영 광학계(38)을 포함한다. 상기 투영 광학계(38)는 다수의 렌즈들을 포함하며, 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD, 36)로부터 선택적으로 반사된 반사광들을 상기 노광 빔으로 변환시킨다.
도 3은 도 1에 도시된 노광장치의 일 실시예에 따른 시스템 제어부를 나타낸 블록도이다.
도 3을 참조하면, 상기 시스템 제어부(500)는 파일제작부(200), 데이터 출력부(300) 및 이송 제어부(400)를 포함할 수 있다.
상기 파일 제작부(200)는 그래픽 시스템 파일(GDS)을 제작한다. 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS)파일은 여러 개의 층(layer)으로 구성된 캐드(CAD)파일이 변환된 것으로, 예를 들어, 게이트 패턴, 액티브 패턴, 소스 드레인 패턴 등의 각각의 레이어(layer)에 대한 데이터를 포함한다.
상기 그래픽 시스템 파일(GDS)은 상기 제1 그래픽 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-2)로 나뉘어진다. 상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1)파일은 상기 제1 영역(10)에 형성되는 제1 패턴들에 대한 데이터를 포함한다. 상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-2)파일은 상기 제1 영역(50)에 형성되는 제2 패턴들에 대한 데이터를 포함한다.
상기 파일 제작부(200)는 파일 병합부(201)를 포함할 수 있다. 상기 파일 병합부(201)는 상기 파일 제작부(200)에서 제작된 상기 제1 그래픽 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-2)을 병합한다. 상기 파일 병합부(201)는 각 그래픽 시스템(GDS) 파일이 갖고 있는 각각의 레이어(layer)에 해당하는 데이터를 하나의 레이어(layer)로 통합하는 방법을 이용하여 상기 제1 그래픽 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-2)을 병합한다.
상기 데이터 출력부(300)는 상기 그래픽 시스템 파일(GDS)로부터 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다. 예를 들어, 상기 제1 그래픽 시스템 파일(GDS-1)로부터 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다. 또한, 상기 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-2)로부터 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다. 상기 파일 병합부(201)에서 병합된 그래픽 시스템 파일(GDS)로부터 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다.
상기 데이터 출력부(300)는 데이터 병합부(301)를 포함할 수 있다. 상기 데이터 병합부(301)는 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터와 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 병합한다. 상기 데이터 병합부(301)는 비트 연산(Bitwise OR)을 수행하여 상기 제1 및 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 병합한다.
상기 이송 제어부(400)는 상기 스테이지(미도시)를 상기 제1 및 제2 방향(D11, D21)으로 이송시키는 이송 신호를 출력한다. 상기 이송 제어부(400)는 상기 데이터 출력부(300)로부터 인가되는 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스 온/오프 데이터에 따라, 노광 빔들의 온 및 오프 타이밍을 제어하고, 상기 스테이지를 이송시킨다.
상기 이송제어부(400)는 상기 데이터 출력부(300)로부터 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터만이 출력되면 상기 스테이지의 속도를 2배 이상 증가시킨다.
본 실시예에 따른 노광방법에서는 상기 기판(100)상의 적어도 2개 이상의 패턴에 대한 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일을 제작하는 단계(S101), 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일로부터 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계(S102), 및 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판(100)을 노광하는 단계(S103)를 포함한다.
상기 그래픽 데이터 시스템(GDS)파일을 제작하는 단계는 상기 기판의 제1 영역(10)을 노광하는 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1)파일을 제작하는 단계 및 상기 기판의 제2 영역(50)을 노광하는 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-2)파일을 제작하는 단계를 포함한다(S101).
상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1) 파일 및 상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-2) 파일은 상기 파일 제작부(200)에서 제작된다. 상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1)파일은 상기 제1 영역(10)에 형성되는 제1 패턴들에 대한 데이터를 포함한다. 상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-2)파일은 상기 제2 영역(50)에 형성되는 제2 패턴들에 대한 데이터를 포함한다.
상기 데이터 출력부(300)에서 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS)파일로부터 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다(S102). 상기 온/오프 데이터를 생성하기 위한 온/오프 파일은 바이너리(binary file) 파일로서 1과 0으로 구성된다. 1은 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)가 온이 되게 하여 광을 기판에 전달할 수 있다. 0은 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)가 오프되게 하여 광이 기판에 전달되는 것을 차단한다.
상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)는 상기 온/오프 데이터에 따라 광을 선택적으로 반사하여, 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS)파일에 저장된 상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴의 데이터에 따라 상기 기판(100)을 노광한다(S103). 따라서, 상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴을 갖는 기판을 형성할 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 노광방법을 나타낸 순서도이다.
상기 도 4를 참조하면, 상기 파일 제작부(200)에서 상기 제1 그래픽 시스템 파일(GDS-1)을 제작한다(S201a). 또한, 상기 파일 제작부(200)에서 상기 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-2)을 제작한다(S201b). 상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1)파일은 상기 제1 영역(10)에 형성되는 제1 패턴들에 대한 데이터를 포함한다. 상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-2)파일은 상기 제2 영역(50)에 형성되는 제2 패턴들에 대한 데이터를 포함한다.
상기 파일 병합부(201)에서 상기 제1 그래픽 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-2)을 하나의 파일로 병합한다(S202). 상기 단계에서는 각 그래픽 시스템(GDS) 파일이 갖고 있는 각각의 레이어(layer)에 해당하는 데이터를 하나의 레이어(layer)로 통합하는 방법을 이용한다. 예를 들어, 상기 제1 영역(10)에서 상기 제1 패턴의 게이트층을 형성하기 위한 데이터와 상기 제2 영역(50)에서 상기 제2 패턴의 게이트층을 형성하기 위한 데이터를 하나로 통합하여 하나의 레이어로 형성한다.
상기 데이터 출력부(300)에서 상기 병합된 제1 및 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-1, GDS-2)로부터 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다(S203). 이후, 상기 온/오프 데이터에 따라 상기 기판(100)상의 상기 제1 영역(10)과 상기 제2 영역(50)을 노광한다(S204). 상기 제1 영역(10)과 상기 제2 영역(50)은 동시에 노광된다.
본 실시예에 따르면, 기판에 형성되는 제1 및 제2 패턴에 관한 각각의 데이터를 갖는 두 개의 파일을 형성하고, 이를 하나의 파일로 병합한 후, 상기 병합된 파일로부터 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)의 온/오프 데이터를 생성하여 노광함으로써, 하나의 디지털 노광 장비를 이용하여 상기 제1 패턴을 포함하는 제1 영역 및 상기 제2 패턴을 포함하는 제2 영역의 노광을 일괄적으로 진행시킬 수 있다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 노광방법을 나타낸 순서도이다. 도 6은 도 5의 노광방법을 설명하기 위한 블록도이다.
도 5 및 도 6에 따르면, 상기 파일 제작부(200)에서 상기 제1 그래픽 시스템 파일(GDS-1)을 제작한다(S301a). 또한, 상기 파일 제작부(200)에서 상기 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-2)을 제작한다(S301b). 상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1)파일은 상기 제1 영역(10)에 형성되는 제1 패턴들에 대한 데이터를 포함한다. 상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-2)파일은 상기 제2 영역(50)에 형성되는 제2 패턴들에 대한 데이터를 포함한다.
상기 데이터 출력부(300)에서 상기 제1 그래픽 시스템 파일(GDS-1)로부터 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다(S302a). 또한, 상기 제2 패턴의 상기 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-2)로부터 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다(S302b).
상기 데이터 병합부(301)에서 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터 및 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 병합한다(S303).
상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터의 경우, 상기 제1 영역(10)에서는 데이터가 온이 되고, 상기 제2 영역(50), 예를 들어 상기 기판(100) 및 상기 각 패널들(S11, S12,...Smn)의 고유번호가 형성되는 영역(51, 52)에서는 데이터가 오프된다. 따라서, 상기 제1 영역(10)에서 광이 조사되어 상기 제1 패턴을 갖는 표시패널을 형성한다.
반면에, 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터의 경우, 상기 제1 영역(10)에서는 데이터가 오프되고, 상기 제2 영역(50)에서는 데이터가 온이된다. 따라서, 상기 제2 영역(50)에서 광이 조사되어, 상기 제2 패턴을 갖는 상기 기판(100) 및 상기 각 패널들(S11, S12,...Smn)의 고유번호가 형성되고, 상기 기판의 가장자리 부분(53)이 제거된다.
이에, 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터와 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 비트 연산(Bitwise OR)을 수행하여 하나의 온/오프 데이터로 병합한다(S303a). 상기 병합된 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라, 상기 기판(100)상의 상기 제1 영역(10) 및 상기 제2 영역(50)을 노광한다(S304). 상기 제1 영역(10)과 상기 제2 영역(50)은 동시에 노광된다.
본 실시예에 따르면, 기판에 형성되는 제1 및 제2 패턴에 관한 각각의 데이터를 갖는 두 개의 파일을 형성하고, 상기 두 개의 파일로부터 각각의 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)의 온/오프 데이터를 생성한 후, 이들을 하나의 데이터로 병합하여, 상기 병합된 데이터에 따라 노광함으로써, 하나의 디지털 노광 장비를 이용하여 상기 제1 패턴을 포함하는 제1 영역 및 상기 제2 패턴을 포함하는 제2 영역의 노광을 일괄적으로 진행시킬 수 있다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 노광방법을 나타낸 순서도이다.
도 7에 따르면, 상기 파일 제작부(200)에서 상기 제1 그래픽 시스템 파일(GDS-1)을 제작한다(S401a). 또한, 상기 파일 제작부(200)에서 상기 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-2)을 제작한다(S401b). 상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1)파일은 상기 제1 영역(10)에 형성되는 제1 패턴들에 대한 데이터를 포함한다. 상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-2)파일은 상기 제2 영역(50)에 형성되는 제2 패턴들에 대한 데이터를 포함한다.
상기 데이터 출력부(300)에서 상기 제1 그래픽 시스템 파일(GDS-1)로부터 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다(S402). 이후, 상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라, 상기 이송제어부(400)에서 이송 신호를 출력하여 상기 기판(100)을 스캔방향으로 이동시켜 상기 제1 영역(10)을 1차 노광한다(S403).
상기 제1 영역(10)을 1차 노광시킨 후, 상기 데이터 출력부(300)에서 다시 상기 제2 그래픽 시스템 파일(GDS-2)로부터 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성한다(S404).
상기 제1 영역(10)이 1차 노광되어 상기 제1 패턴이 형성된 상기 기판(100)을 다시 시작점에 위치시키고, 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라, 상기 이송제어부(400)에서 이송 신호를 출력하여 상기 기판(100)을 스캔방향으로 이동시켜 상기 제2 영역(50)을 2차 노광시킨다(S405).
상기 이송제어부(400)는 상기 2차 노광에서 스캔 속도를 상기 1차 노광에서의 스캔속도와 비교하여 약 2 배이상 증가시킨다. 상기 1차 노광은 미세한 패턴을 가지며 정밀도가 요구되는 제1 영역을 노광시키기 위함으로, 스캔속도를 제어하여 정확한 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 상기 제2차 노광의 경우는 패턴의 크기가 크고 비교적 간단한 패턴들로 구성된 제2 영역을 노광시키기 위함으로, 스캔속도를 빠르게 하여 택트 타임(tact time)을 감소시킬 수 있다.
본 발명에 따르면, 기판에 형성되는 제1 및 제2 패턴에 관한 각각의 데이터를 갖는 두 개의 파일을 형성하고, 상기 파일로부터 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)의 온/오프 데이터를 생성하여 노광함으로써, 하나의 디지털 노광 장비를 이용하여 상기 제1 패턴을 포함하는 제1 영역 및 상기 제2 패턴을 포함하는 제2 영역의 노광을 일괄적으로 진행시킬 수 있다.
100: 기판 10: 제1 영역
30: 노광 헤드 50: 제2 영역
36: 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)
40: 광원 38: 투영 광학계

Claims (20)

  1. 기판에 형성되는 적어도 2개 이상의 패턴 각각에 대하여그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일을 제작하는 단계;
    상기 그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일로부터 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계; 및
    상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판을 노광하는 단계를 포함하고,
    상기 그래픽 데이터 시스템(GDS)파일을 제작하는 단계는,
    상기 기판의 제1 영역을 노광하기 위한 제1 패턴에 대응되는 제1 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 기판의 제2 영역을 노광하기 위한 제2 패턴에 대응되는 제2 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-2)을 제작하는 단계를 포함하고,
    상기 그래픽 데이터 시스템(GDS)파일을 제작하는 단계는, 상기 제1 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 제2 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-2)을 하나의 파일로 병합하는 단계를 더 포함하고,
    상기 제1 및 제2 그래픽 데이터 시스템 파일들(GDS-1, GDS-2)을 병합하는 단계는, 상기 제1 패턴이 포함하는 제1 레이어들 및 상기 제2 패턴이 포함하고 상기 제1 레이어들과 대응하는 제2 레이어들을 각각 하나의 레이어로 병합하는 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판을 노광하는 단계는,
    상기 제1 영역 및 상기 제2 영역을 동시에 노광하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 상기 제1 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 제2 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-2)이 병합된 파일로부터 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계를 포함하는 디지털 노광 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계는,
    상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1) 파일로부터 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계;
    상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-2) 파일로부터 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계; 및
    상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터 및 상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 하나로 병합하는 단계를 포함하는 디지털 노광 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제1 및 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 하나로 병합하는 단계는 비트 연산(Bitwise OR)을 수행하여 병합하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계는,
    상기 제1 그래픽 데이터 시스템(GDS-1) 파일로부터 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계를 포함하는 디지털 노광 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 기판을 노광하는 단계는,
    상기 제1 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판의 제1 영역을 노광하는 단계를 포함하는 디지털 노광 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 기판의 제1 영역을 노광 하는 단계 이후에,
    상기 제2 그래픽 데이터 시스템(GDS-1) 파일로부터 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하는 단계; 및
    상기 제2 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판의 제2 영역을 노광하는 단계를 포함하는 디지털 노광 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 기판의 제2 영역을 노광하는 단계의 스캔 속도는 상기 기판의 제1 영역을 노광하는 스캔 속도의 2배 이상인 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  13. 제1항에 있어서, 상기 제1 영역은 액정표시패널을 형성하기 위한 영역인 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제2 영역은 상기 기판의 고유번호와 상기 액정표시패널의 고유번호를 형성하기 위한 영역 및 상기 기판의 가장자리 부분을 포함하는 영역인 것을 특징으로 하는 디지털 노광 방법.
  15. 기판으로 노광원 으로부터 제공된 소스 빔을 반사하여 상기 기판상에 노광 빔들을 스캔하는 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)를 포함하는 노광 헤드; 및
    상기 기판에 형성되는 적어도 2개 이상의 패턴 각각에 대하여 그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일을 제작하는 파일 제작부, 상기 그래픽 데이터 시스템(GDS) 파일들로부터 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터를 생성하여 온/오프 타이밍을 제어하는 데이터 출력부 및 상기 기판을 고정하는 스테이지를 이송시키는 이송신호를 출력하는 이송 제어부를 포함하는 시스템 제어부를 포함하고,
    상기 파일 제작부는 상기 기판의 제1 영역을 노광하기 위한 제1 패턴에 대응되는 제1 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 기판의 제2 영역을 노광하기 위한 제2 패턴에 대응되는 제2 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-2)을 제작하고,
    상기 파일 제작부는 상기 제1 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-1) 및 상기 제2 그래픽 데이터 시스템 파일(GDS-2)을 병합하는 파일 병합부를 포함하고,
    상기 파일 병합부는 상기 제1 패턴이 포함하는 제1 레이어들 및 상기 제2 패턴이 포함하고 상기 제1 레이어들과 대응하는 제2 레이어들을 각각 하나의 레이어로 병합하는 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 장치.
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 삭제
  19. 제15항에 있어서, 상기 이송제어부는 상기 데이터 출력부로부터 생성된 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터에 따라 상기 기판을 스캔 방향으로 이송시키는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 이송제어부는 상기 기판을 상기 스캔 방향으로 이송시킨후, 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 온/오프 데이터가 다시 출력되면 상기 스테이지의 속도를 2배 이상 증가시켜, 상기 기판을 상기 스캔 방향으로 다시 이송시키는 것을 특징으로 하는 디지털 노광 장치.
KR1020100015114A 2010-02-19 2010-02-19 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치 KR101653213B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100015114A KR101653213B1 (ko) 2010-02-19 2010-02-19 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치
US12/906,623 US8477288B2 (en) 2010-02-19 2010-10-18 Digital exposure method and digital exposure device for performing the method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100015114A KR101653213B1 (ko) 2010-02-19 2010-02-19 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110095571A KR20110095571A (ko) 2011-08-25
KR101653213B1 true KR101653213B1 (ko) 2016-09-02

Family

ID=44476237

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100015114A KR101653213B1 (ko) 2010-02-19 2010-02-19 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8477288B2 (ko)
KR (1) KR101653213B1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101771623B1 (ko) 2010-12-15 2017-09-06 삼성디스플레이 주식회사 배향막을 배향하는 방법 및 장치, 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
KR102055889B1 (ko) * 2012-10-24 2019-12-13 엘지디스플레이 주식회사 마스크리스 노광장치 및 노광방법
KR20160024285A (ko) * 2014-08-25 2016-03-04 삼성디스플레이 주식회사 마스크리스 노광 장치, 마스크리스 노광 방법 및 이에 의해 제조되는 표시 기판
KR102419494B1 (ko) * 2014-09-29 2022-07-12 삼성디스플레이 주식회사 마스크리스 노광 장치, 마스크리스 노광 방법 및 이에 의해 제조되는 표시 기판

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060221320A1 (en) * 2005-04-05 2006-10-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple die designs on a substrate

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE9800665D0 (sv) * 1998-03-02 1998-03-02 Micronic Laser Systems Ab Improved method for projection printing using a micromirror SLM
US7062094B2 (en) * 2001-03-22 2006-06-13 Disco Corporation System and method for lossless data transmission

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060221320A1 (en) * 2005-04-05 2006-10-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple die designs on a substrate

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110095571A (ko) 2011-08-25
US8477288B2 (en) 2013-07-02
US20110205508A1 (en) 2011-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3254248B2 (ja) パターニング装置
CN102103332B (zh) 高速数字扫描直写光刻装置
KR102484974B1 (ko) 다이렉트 이미징 노광 장치 및 다이렉트 이미징 노광 방법
JP2004056100A (ja) スムーズなデジタル成分をデジタルフォトリソグラフィーシステムで作成するためのシステムおよび方法
JP2009044060A (ja) 描画装置および描画方法
KR101799860B1 (ko) 위상 시프터 패턴이 형성된 공간 필터를 구비하는 마스크리스 노광장치 및 노광방법
KR101653213B1 (ko) 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치
JP2017134408A (ja) 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
WO2020151000A1 (zh) 数字化双面光刻或曝光系统和方法
US8072580B2 (en) Maskless exposure apparatus and method of manufacturing substrate for display using the same
US20070127109A1 (en) Seamless exposure with projection system comprises array of micromirrors with predefined reflectivity variations
CN110597018B (zh) 一种基于等分因子的直写式光刻机曝光方法
JP2010161246A (ja) 伝送光学系、照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
KR101804478B1 (ko) 디지털 노광 장치 및 이를 이용하여 기판을 노광하는 방법
CN110597019B (zh) 一种直写式光刻机曝光方法
JP5326928B2 (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2004258181A (ja) 光硬化性感光材料の露光方法と露光装置
KR20160038189A (ko) 마스크리스 노광 장치, 마스크리스 노광 방법 및 이에 의해 제조되는 표시 기판
CN102117015A (zh) 采用数字相移的无掩模光刻方法和装置
JP7196271B2 (ja) ダイレクトイメージング露光装置及びダイレクトイメージング露光方法
KR20150103774A (ko) 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치
KR20100110996A (ko) 그리드 이미지와 스테이지의 이동 각도 조절에 의한 레이저빔 간 피치조절 방법
JP2002072491A (ja) プリント基板製造装置
JP4387699B2 (ja) マスク作成方法およびマスク作成装置
JP2006210856A (ja) 露光方法及び半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190801

Year of fee payment: 4