KR101629789B1 - 용제 이송 시스템 - Google Patents

용제 이송 시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR101629789B1
KR101629789B1 KR1020150021690A KR20150021690A KR101629789B1 KR 101629789 B1 KR101629789 B1 KR 101629789B1 KR 1020150021690 A KR1020150021690 A KR 1020150021690A KR 20150021690 A KR20150021690 A KR 20150021690A KR 101629789 B1 KR101629789 B1 KR 101629789B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
solvent
air cylinder
chamber
drain pan
cleaning liquid
Prior art date
Application number
KR1020150021690A
Other languages
English (en)
Inventor
남승백
김동권
황순호
Original Assignee
(주)신성이엔지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)신성이엔지 filed Critical (주)신성이엔지
Priority to KR1020150021690A priority Critical patent/KR101629789B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101629789B1 publication Critical patent/KR101629789B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0048Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041Cleaning
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274Photolithographic processes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명의 용제 이송 시스템은, 회수된 용제가 모이는 드레인 팬; 용제가 수용되는 회수함; 및 상기 드레인 팬의 용제를 비접촉으로 흡입하여 상기 회수함으로 압송하는 에어 실린더;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 에어 실린더가 고점도의 용제를 비접촉식으로 압송하여 에어 실린더의 오염을 방지하는 효과가 있다.

Description

용제 이송 시스템{Solvent Recovery Systems}
본 발명은 용제 이송 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 점도가 높은 용제를 회수하는 용제 이송 시스템에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자 제조 시 웨이퍼 상에 집적회로를 형성함에 있어서, 집적회로의 회로 요소에 대응하는 회로 패턴 형성은 포토 리소그래피(Photo Lithography) 공정을 통해 이루어진다. 포토 리소그래피 공정은 통상적으로, 하부구조가 형성되어 있는 웨이퍼 상에 PR(Photoresist) 용액을 코팅하여 PR 막을 형성한 후, 형성하고자 하는 회로 패턴이 설계되어져 있는 레티클을 이용하여 웨이퍼 상으로 빛을 노광시킨 다음, 현상 공정을 거쳐 패터닝하는 방식으로 이루어지고 있다.
여기서, PR용액 코팅 및 현상 공정은 웨이퍼 척(Chuck) 상에 웨이퍼를 고정시킨 후, 웨이퍼로 소정 화학용액을 분사하여 소정 회전수로 웨이퍼를 회전시킴에 따라 이루어지는데, 이는 주로 스피너(Spinner) 설비에 의해 이루어지고 있다.
그리고, PR용액 코팅 및 현상 공정 후에는 베이킹(Baking) 장치를 사용하여 PR 막 속에 포함된 용제를 제거시키기 위해 웨이퍼를 소정의 온도에서 소정 시간동안 굽는 베이킹 공정이 시행된다. 이 때, 베이킹 장치는 글라스 오븐을 이용하여 발생된 복사열에 의해 웨이퍼를 소정의 온도에서 소정 시간동안 굽는 방식과, 핫 플레이트를 이용하여 발생된 복사열에 의해 웨이퍼를 소정의 온도에서 소정 시간동안 굽는 방식이 사용될 수 있다.
이와 같은 종래의 글라스 오븐은 웨이퍼 및 LCD 패널 제조 시에 사용되는 화학물질로 인해 다량의 VOC(휘발성유기화합물) 가스가 발생하게 되며, 다량의 VOC 가스는 별도의 VOC 처리 장치에 의해 응축하여 회수된다.
그러나, 응축된 VOC(이하, '용제')는 점도를 가짐에 따라 정제시설로 보내기에 앞서 회수 자체가 쉽지 않은 문제점이 있었다.
특히, 점도가 높은 용제는 접촉식 펌프 등에 점착되어 오동작이 발생하며, 용제가 파이프 등에 점착되어 경화되는 경우에는 이송관 자체가 막히게 된다.
따라서, 점도가 높은 용제를 쉽게 회수할 수 있도록 개선된 형태의 용제 이송 시스템의 개발이 요구되고 있는 실정이다.
대한민국 공개특허공보 제2012-0035200호(2012.04.13) 대한민국 등록특허공보 제10-0909446(2009.07.20)
본 발명은 전술한 종래의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 점도가 높은 용제를 비접촉식으로 흡입 또는 압송하는 용제 이송 시스템을 제공하는 데 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 이송관을 세척하여 용제의 경화를 억제하는 용제 이송 시스템을 제공하는데 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 용제 이송 시스템은, 회수된 용제가 모이는 드레인 팬; 용제가 수용되는 회수함; 및 상기 드레인 팬의 용제를 비접촉으로 흡입하여 상기 회수함으로 압송하는 에어 실린더;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 드레인 팬, 회수함 및 에어 실린더를 연결하는 이송관과, 상기 드레인 팬과 회수함의 사이에 구비된 버퍼 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 이송관은 드레인 팬, 버퍼 챔버 및 에어 실린더를 연결하는 제1이송관과, 상기 제1이송관에서 분기되어 버퍼 챔버와 회수함을 연결하는 제2이송관으로 구분된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 드레인 팬과 버퍼 챔버 사이의 제1이송관에 제1체크밸브가 구비되며, 상기 제2이송관에는 제2체크밸브가 구비된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 에어 실린더의 피스톤은 용제를 드레인 팬에서 버퍼 챔버까지 정량을 흡입하여 이동시키도록 스트로크가 설정된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 피스톤의 흡입 스트로크는 용제가 버퍼 챔버를 가득 채우지 않는 범위인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 이송관으로 세척액을 주입하는 세척부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 세척부는, 세척액 챔버와, 상기 세척액 챔버와 제1이송관을 연결하는 세척관 및 상기 세척액 챔버의 세척액을 흡입하여 압송하는 펌핑수단으로 구성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 세척액 챔버와 펌핑수단의 사이에는 제3체크밸브가 구비되며, 상기 펌핑수단과 제1이송관의 사이에는 제4체크밸브가 구비되며, 상기 펌핑수단은 에어 실린더로 구성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 펌핑수단은 에어 실린더의 정지시 또는 설정된 시간에 동작하여 세척액을 이송관으로 자동으로 주입하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 용제 이송 시스템에 따르면, 에어 실린더가 고점도의 용제를 비접촉식으로 흡입 후 압송하여 에어 실린더의 오염을 방지하는 효과가 있다.
특히, 에어 실린더의 피스톤은 용제를 드레인 팬에서 버퍼 챔버까지 정량을 흡입하여 이동시키도록 스트로크가 설정되어 있어 에어 실린더와 용제의 접촉을 방지하게 된다.
이는, 에어 실린더가 용제와 접촉하지 않으므로 인해 용제의 경화 등에 의한 고장 등을 방지하여 에어 실린더의 수명이 길어지게 된다. 즉 유지보수가 용이하게 된다.
또한, 세척부에 의해 이송관으로 세척액을 주입하여 이송관, 버퍼 챔버 및 회수함을 세척하여 전체 시스템의 수명이 연장된다.
더욱이, 세척액은 에어 실린더의 정지시 또는 정해진 시간에 자동으로 주입되어 세척 동작을 자동으로 수행하게 된다.
도 1은 본 발명에 따른 용제 이송 시스템을 도시한 구성도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
설명에 앞서, 용제는 반도체 공정 등에서 회수되거나 응축 회수된 고점도를 가지는 젤상의 액체를 지칭한다.
도 1은 본 발명에 따른 용제 이송 시스템을 도시한 구성도이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 용제 이송 시스템(A)은, 응축 회수된 용제가 모이는 드레인 팬(100)과, 용제가 수용되는 회수함(200) 및 상기 드레인 팬(100)의 용제를 비접촉으로 흡입하여 상기 회수함(200)으로 압송하는 에어 실린더(300)로 구성된다.
이에 따라, 상기 에어 실린더(300)가 고점도의 용제를 비접촉식으로 흡입 압송하여 에어 실린더의 오염을 방지하게 된다.
또한, 상기 드레인 팬(100), 회수함(200) 및 에어 실린더(300)를 연결하는 이송관(400) 및 상기 드레인 팬(100)과 회수함(200)의 사이에 구비된 버퍼 챔버(500)가 더 포함된다.
그리고, 상기 이송관(400)은 드레인 팬(100), 버퍼 챔버(500) 및 에어 실린더(300)를 연결하는 제1이송관(410)과, 상기 제1이송관(410)에서 분기되어 버퍼 챔버(500)와 회수함(200)을 연결하는 제2이송관(420)으로 구분된다.
한편, 상기 드레인 팬(100)과 버퍼 챔버(500) 사이의 제1이송관(410)에는 제1체크밸브(430)가 구비되며, 상기 제2이송관(420)에는 제2체크밸브(440)가 구비된다.
상기 제1,2체크밸브(430,440)는 일 방향으로만 유체가 흐르는 역지 밸브로서 드레인 팬(100)에서 회수함(200)의 방향으로만 용제가 흐르게 된다. 또한 설정 압력에서만 개방된다. 그 설정압력은 에어 실린더(300)에 의해 발생한다.
또한, 상기 에어 실린더(300)의 피스톤(310)은 용제를 드레인 팬(100)에서 버퍼 챔버(500)까지 정량을 흡입하여 이동시키도록 스트로크가 설정된다.
이에 따라, 에어 실린더(300)와 용제가 접촉을 방지하게 된다.
이 경우, 상기 에어 실린더(300)가 용제와 접촉하지 않으므로 인해 용제의 경화 등에 의한 고장 등을 방지하여 에어 실린더(300)의 수명이 길어지게 된다. 즉 유지보수가 용이하게 된다.
그리고, 상기 피스톤(310)의 흡입 스트로크는 용제가 버퍼 챔버(500)를 가득 채우지 않는 범위인 것이 바람직하다.
본 발명의 용제의 이송 과정을 간략하게 설명하면, 상기 에어 실린더(300)의 피스톤(310)이 흡입 동작을 수행하면, 상기 드레인 팬(100)의 용제가 에어 실린더(300)의 흡입력에 의해 버퍼 챔버(500)로 이송된다.
이때, 에어 실린더(300)의 흡입력에 의해 제1체크밸브(430)는 개방된다.
다음, 에어 실린더(300)의 피스톤(310)이 상승하여 압송 동작을 수행하면, 제1체크밸브(430)는 폐쇄되어 에어 실린더(300)의 압력이 버퍼 챔버(500)로 전달된다. 즉, 버펌 챔버(500)로 압력이 집중되어 제2체크밸브(440)는 개방되며 버퍼 챔버(500)의 용제는 회수함(200)으로 이송된다.
또한, 상기 이송관(400)으로 세척액을 주입하는 세척부(600)가 더 포함된다.
구체적으로, 상기 세척부(600)는 세척액이 수용된 세척액 챔버(610)와, 상기 세척액 챔버(610)와 제1이송관(410)을 연결하는 세척관(620) 및 상기 세척앰 챔버(610)의 세척액을 흡입하여 압송하는 펌핑수단(630)으로 구성된다.
그리고, 상기 세척액 챔버(610)와 펌핑수단(630)의 사이에는 제3체크밸브(640)가 구비되며, 상기 펌핑수단(630)과 제1이송관(410)의 사이에는 제4체크밸브(650)가 구비되며, 상기 펌핑수단(630)은 에어 실린더로 구성된다.
마직막으로, 상기 펌핑수단(630)은 에어 실린더(300)의 정지시 또는 설정된 시간에 동작하여 세척액을 이송관(400)으로 자동으로 주입하게 된다.
이에 따라, 세척부(600)에 의해 이송관(400)으로 세척액을 주입하여 이송관(400), 버퍼 챔버(500) 및 회수함(200)과 에어 실린더(300)을 세척하여 수명이 연장된다.
더욱이, 세척액은 에어 실린더(300)의 정지시 또는 정해진 시간에 자동으로 주입되어 세척 동작을 자동으로 수행하게 된다.
이상, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 기술적 범위는 전술한 실시 예에 한정되지 않고 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 이때, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 고려해야 할 것이다.
앞선 설명에서는 VOC를 응축한 용제를 이송하도록 설명하고 있지만, 이를 특별히 한정하는 것은 아니며 고점도를 가지는 용제를 이송하는 곳에 모두 적용가능하다.
A - 용제 이송 시스템 100 - 드레인 팬
200 - 회수함 300 - 에어 실린더
400 - 이송관 500 - 버퍼 챔버
600 - 세척부 610 - 세척액 챔버
620 - 세척관 630 - 펌핑수단

Claims (10)

  1. 회수된 용제가 모이는 드레인 팬;
    용제가 수용되는 회수함;
    상기 드레인 팬의 용제를 비접촉으로 흡입하여 상기 회수함으로 압송하는 에어 실린더;
    상기 드레인 팬과 회수함의 사이에 구비된 버퍼 챔버;
    드레인 팬, 버퍼 챔버 및 에어 실린더를 연결하는 제1이송관과, 상기 제1이송관에서 분기되어 버퍼 챔버와 회수함을 연결하는 제2이송관으로 구성된 이송관;
    상기 이송관으로 세척액을 주입하는 세척부;를 포함하되,
    상기 세척부는,
    세척액 챔버와, 상기 세척액 챔버와 제1이송관을 연결하는 세척관 및 상기 세척액 챔버의 세척액을 흡입하여 압송하는 펌핑수단으로 구성된 것을 특징으로 하는 용제 이송 시스템.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 드레인 팬과 버퍼 챔버 사이의 제1이송관에는 제1체크밸브가 구비되며, 상기 제2이송관에는 제2체크밸브가 구비된 것을 특징으로 하는 용제 이송 시스템.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 에어 실린더의 피스톤은 용제를 드레인 팬에서 버퍼 챔버까지 정량을 흡입하여 이동시키도록 스트로크가 설정된 것을 특징으로 하는 용제 이송 시스템.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 피스톤의 흡입 스트로크는 용제가 버퍼 챔버를 가득 채우지 않는 범위인 것을 특징으로 하는 용제 이송 시스템.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 세척액 챔버와 펌핑수단의 사이에는 제3체크밸브가 구비되며, 상기 펌핑수단과 제1이송관의 사이에는 제4체크밸브가 구비되며,
    상기 펌핑수단은 에어 실린더로 구성된 것을 특징으로 하는 용제 이송 시스템.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 펌핑수단은 에어 실린더의 정지시 또는 설정된 시간에 동작하여 세척액을 이송관으로 자동으로 주입하는 것을 특징으로 하는 용제 이송 시스템.
KR1020150021690A 2015-02-12 2015-02-12 용제 이송 시스템 KR101629789B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150021690A KR101629789B1 (ko) 2015-02-12 2015-02-12 용제 이송 시스템

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150021690A KR101629789B1 (ko) 2015-02-12 2015-02-12 용제 이송 시스템

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101629789B1 true KR101629789B1 (ko) 2016-06-14

Family

ID=56191973

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150021690A KR101629789B1 (ko) 2015-02-12 2015-02-12 용제 이송 시스템

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101629789B1 (ko)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080066661A (ko) * 2005-11-10 2008-07-16 울박, 인크 도포 장치 및 이를 이용한 분산액 이송 방법
KR100909446B1 (ko) 2008-09-19 2009-07-28 (주)티에스티아이테크 코팅액의 재활용 장치 및 방법
KR20090082862A (ko) * 2008-01-28 2009-07-31 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 레지스트액 공급 회수 시스템 및 레지스트액 회수 방법
KR100948629B1 (ko) * 2009-08-04 2010-03-18 주식회사 나래나노텍 개선된 약액 펌핑 장치 및 이를 구비한 약액 공급 장치
KR20120035200A (ko) 2009-08-18 2012-04-13 도요 보세키 가부시키가이샤 유기 용제 회수 시스템

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080066661A (ko) * 2005-11-10 2008-07-16 울박, 인크 도포 장치 및 이를 이용한 분산액 이송 방법
KR20090082862A (ko) * 2008-01-28 2009-07-31 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 레지스트액 공급 회수 시스템 및 레지스트액 회수 방법
KR100909446B1 (ko) 2008-09-19 2009-07-28 (주)티에스티아이테크 코팅액의 재활용 장치 및 방법
KR100948629B1 (ko) * 2009-08-04 2010-03-18 주식회사 나래나노텍 개선된 약액 펌핑 장치 및 이를 구비한 약액 공급 장치
KR20120035200A (ko) 2009-08-18 2012-04-13 도요 보세키 가부시키가이샤 유기 용제 회수 시스템

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI614064B (zh) 濾材潤濕方法、濾材潤濕裝置及記憶媒體
KR100665979B1 (ko) 제거장치, 보호막형성장치, 기판처리시스템 및 제거방법
CN108352313B (zh) 膜处理单元、基板处理装置和基板处理方法
US10121685B2 (en) Treatment solution supply method, non-transitory computer-readable storage medium, and treatment solution supply apparatus
CN205211717U (zh) 供液装置及湿法刻蚀设备
KR101629789B1 (ko) 용제 이송 시스템
JP3628895B2 (ja) 処理液供給装置
KR20170137935A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
CN104056798B (zh) 清洗液的回收和供给设备及方法
US9526400B2 (en) Apparatus for abatement of vapors for washing machines and washing machine comprising the apparatus
JP5922901B2 (ja) 処理液供給装置、基板処理装置、気泡の除去方法および基板処理方法
CN207502908U (zh) 一种光阻供应系统
JP6145060B2 (ja) 接合方法、接合システムおよび接合装置
JP2020107779A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR101749303B1 (ko) 진공챔버의 틈새 세척용 장치
WO2012176670A1 (ja) 昇華物除去装置
KR100877798B1 (ko) 예비 약액처리수단을 구비한 슬릿코터
KR20180009840A (ko) 점성 용액 디스펜서용 노즐 세정 장치
CN107649438A (zh) 蚀刻机风刀的清洗机构及其控制方法
KR101576145B1 (ko) 반도체 기판 세정용 약액 재사용장치
CN103111400B (zh) 光刻化学品循环系统及其方法
JP6363249B2 (ja) 基板処理方法および基板処理装置
KR20030021691A (ko) 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법
CN208321542U (zh) 自动清洗系统
CN206178340U (zh) 一种用于回收涂布机管道内光刻胶的装置

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190529

Year of fee payment: 4