KR101623077B1 - 외관-수정 장치, 이러한 장치의 제조 방법 및 이러한 장치에 의해 커버된 기구 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 외관-수정 장치에 의해 커버된 표면의 시각적인 외관을 수정하기 위한 외관-수정 장치(10)에 관한 것이다. 상기 외관-수정 장치(10)는 스페이서 구조물(13)에 의해 이격되는 두 개의 대향하게 배열된 기판(11, 12)을 포함한다. 상기 스페이서 구조물(13)은 상기 두 개의 기판(11, 12) 사이의 공간이 복수의 셀들(15, 16)로 분할되고, 상기 개개의 셀(15, 16)의 상기 형상은 비주기적인 셀 패턴(14)이 상기 셀(15, 16)에 의해 형성되는 방식으로 상기 두 개의 기판(11, 12) 사이에서 이격된다. 각각의 셀(15, 16)은 내부에 분산된 복수의 입자들을 가지는 광학적 투명 유체를 포함할 수 있다. 상기 입자는 전기장의 인가를 통해 상기 유체 내에서 이동할 수 있다. 상기 외관-수정 장치(10)에 의해 적어도 부분적으로 커버된 기구가 또한 설명된다. 더욱이, 상기 외관-수정 장치의 제조 방법이 설명된다.

Description

외관-수정 장치, 이러한 장치의 제조 방법 및 이러한 장치에 의해 커버된 기구{Appearance-modifying device, method for manufacturing such a device, and appliance covered by such a device}
본 발명은 외관-수정 장치(appearance-modifying device) 및 이러한 외관-수정 장치에 의해 적어도 부분적으로 커버되는 기구에 관한 것이다. 본 발명은 또한 외관-수정 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
많은 타입의 제품의 경우, 제품의 주문형 외관(customizable appearance)이 바람직할 수 있다. 예컨대, 제품의 적어도 일부의 외관을 현재의 상태에 따라 주문하여, 제품의 현재의 상태에 관한 정보를 사용자에게 직관력 있고 매력적인 방법으로 전달할 수 있는 것이 매력적일 수 있다. 또한, 사용자의 개성 또는 감정 등을 반영하도록 외관을 변경할 수 있는 것이 제품의 사용자에게 매력적인 것으로 인식될 수 있다.
잘 알려진 일례에 따르면, 이러한 제품의 주문형 외관은 이동 전화와 같은 개인용 휴대 전자 제품(consumer electronic products)에서 교환 가능한 "외장(skins)"으로 실현될 수 있다. 이런 타입의 "외장"은 전형적으로 제품의 사용자에 의해 교환될 수 있는 플라스틱 쉘(plastic shells)로서 제공된다. 또한, 제품의 외관을 변경하도록 제품의 표면을 커버하는 외관-수정 장치의 전기적 제어 가능한 광학적 특성을 이용하는 것이 제시되었다.
개선된 외관-수정 장치를 성취하는 것이 유리할 것이다. 특히, 매력적인 미적 효과를 제공할 수 있는 외관-수정 장치, 즉 보기에 유쾌한 외관-수정 장치를 제공하는 것이 바람직하다. 더욱이, 곡선 모양의 표면상에 적용될 수 있는 외관-수정 장치를 성취하는 것이 바람직할 것이다. 또한, 부가적인 실용성을 갖는 외관-수정 장치를 제공하는 것이 바람직할 것이다. 또한, 투명 상태로 스위치될 수 있는 외관-수정 장치를 제공하는 것이 훨씬 더 바람직할 것이다.
본 발명의 제 1 양태에서, 이들 관심사들 중의 하나 또는 그 이상을 더욱 잘 검토하기 위해, 외관-수정 장치에 의해 커버된 표면의 시각적인 외관을 수정하기 위한 외관-수정 장치가 제공되며, 이는 제 1 기판 및 반대측에 배열된 제 2 기판; 제 1 기판과 제 2 기판 사이의 공간(space)이 복수의 셀들로 분할되고, 복수의 셀들 중 개별 셀의 형상은 비주기적인 셀 패턴이 복수의 셀들에 의해 형성되는 방식으로 제 1 및 제 2 기판에서 이격되는 스페이서 구조물(spacer structure); 및 각각의 셀에서, 내부에 분산된 복수의 입자들을 가지며, 전기장의 인가를 통해 유체 내에서 입자들이 이동가능한, 광학적 투명 유체를 포함한다.
본 발명은 외관-수정 장치에 의해 커버된 어떤 기구의 외관을 주문제작(customizing) 하기 위한 외관-수정 장치의 적용을 위해, 복수의 셀들이 주기적인 셀 패턴을 형성할 필요가 없다는 인식을 기초로 한다. 디스플레이 적용에 대해, 주기적인 셀 패턴으로 구성되는 매트릭스가 유리하지만, 대조적으로, 외관-수정 장치의 적용에 대해, 셀의 비주기적인 패턴을 이용하는 것이 유리한 것으로 발명자들에 의해 확인되었다. 비주기적인 셀 패턴을 제공함으로써, 무아레 효과(moire effects)가 감소될 수 있고, 따라서 외관-수정 장치는 더욱 자연스럽고 보기에 유쾌하게 만들어질 수 있다.
한 실시예에 따라서, 복수의 입자들은 전기장의 인가를 통해, 분산된 입자 상태와 수집된 입자 상태 사이에서, 유체 내에서 이동할 수 있는 평면으로 이동하는 입자이다.
셀은 가변 형상, 크기 및/또는 방향성을 가질 수 있다.
부가적으로, 또는 택일적으로, 하나 또는 여러 개의 셀은 불규칙한 형상을 가질 수 있다.
셀 패턴은 준-결정 패턴(quasi-crystal pattern), 양호하게는 펜로즈 패턴(Penrose pattern)으로 이루어질 수 있다.
셀에 가변 형상, 불규칙한 형상, 가변 크기 및/또는 가변 방향성을 제공함으로써, 외관-수정 장치가 적용되는 곡선 모양의 표면에 대해 미리 보상하게 하는 비주기적인 셀을 제공하는 것이 가능하다. 예를 들면, 외관-수정 장치가 대상물의 곡선 모양의 표면에 적용될 때 스트레스 및 변형에 기인하여 셀이 확대되는 위치에 작은 셀이 고의로 배치되는 방식으로 작은 셀과 큰 셀의 조합을 비주기적인 셀 패턴에 제공하는 것이 가능하다. 이러한 방식으로, 외관-수정 장치가 곡선 모양의 대상물에 적용될 때 외관-수정 장치가 곡선 모양의 표면에 적용된 후, 모든 셀이 같거나 또는 거의 같은 크기를 가질 수 있도록 작은 셀이 스트레치(stretch)되고 확대될 것이다. 더욱이, 작은 셀 및 큰 셀들의 조합을 셀 패턴에 제공하는 것은 큰 셀들과 비교하여 더욱 빠르게 한 상태(예를 들면, 외관-수정 상태)로부터 다른 상태(예를 들면, 투명 상태)로의 변화를 작은 셀로서 일반적으로 "워터마킹"("watermarking")하는 것을 허용할 수 있다. 예컨대, 작은 셀에 의해 둘러싸인 큰 셀을 셀 패턴에 제공함으로써 전기장이 인가될 때 큰 셀이 작은 셀보다 느리게 스위치하거나 또는 변화하므로 한 상태로부터 다른 상태로의 스위칭 단계 중 큰 셀이 눈에 보이는 것을 허용한다.
무아레 효과(moire effects)를 감소시키기 위해, 본 발명자들은 팬로즈 패턴(Penrose pattern) 또는 팬로즈 타일링 패턴(Penrose tiling pattern)의 형태로 된 셀 패턴이 특히 적절할 수 있다는 것을 발견했다. 무아레 패턴은 두 주기적인 패턴들이 중첩될 때 일어날 수 있는 간섭(beating) 패턴이다. 이것은 외관-수정 장치가 주기적인 구조(예컨대, 주기적인 픽셀 구조를 갖는 평면 스크린 TV)를 갖는 대상물에 적용되는 특정한 적용에 관련된다. 외관-수정 장치가 비주기적인 패턴으로 구성되면, 무아레 결함(moire artifact)은 감소될 수 있다. 펜로즈 패턴은 (두 개의 마름모 형상 요소로 이루어져서) 질서 정연하지만, 비주기적이다. 펜로즈 패턴은 질서정연하고 비주기적인 구조 형태인 준-결정의 특정 실시예이다.
양호한 실시예에 따라서, 외관-수정 장치는 제 1 기판의 제 1 측면 상에 배열되고 유전체 층에 의해 커버된 제 1 전극 층; 및 적어도 유전체 층에 의해 제 1 전극 층으로부터 이격되는 제 2 전극을 포함하며, 각각의 셀 내의 유전체 층은 제 1 전극 층의 대응한 부분을 노출시키기 위해 내부에 형성된 적어도 하나의 구멍을 가지며; 각각의 셀 내의 입자의 분포는 분산된 제 1 상태로부터 유전체 층의 적어도 하나의 구멍과 제 2 전극의 적어도 하나에 인접하여 입자가 집중되는 제 2 상태로, 전극을 가로질러 전압을 인가함으로써 제어가능하다.
본 발명자들은 상기 외관-수정 장치에 의해 커버된 표면의 외관을 수정하기 위한 외관-수정 장치가 유리하게는 전기 영동 장치의 소위 평면 정렬 스위칭(in-plane switching)을 이용하여 달성될 수 있음을 발견했다. 액체 내에 분산된 입자의 평면 정렬 제어를 기초로 한 전기 영동 디스플레이 장치는 예를 들면 US 2003/0214479호로부터 본질적으로 공지되어 있음이 인식된다. 그러나, US2003/0214479호에서 모든 셀은 규칙적인 형상, 예를 들면, 정육각형 형상 또는 정사각형을 가진다. 즉, 복수의 셀들에 의해 형성되는 셀 패턴은 규칙적인 또는 주기적인 셀 패턴이다. 따라서, 이용가능한 평면 정렬 전기 영동 디스플레이 장치로부터 공지된 이러한 기술이 외관-수정 장치를 실현하기 위해 사용된다고 할지라도, 그러한 외관-수정 장치는 본 발명에 따른 외관-수정 장치를 이용하여 성취할 수 있는 감소된 무아레 효과의 레벨에 이르지 않을 것이다.
구멍을 통해 제 1 전극을 노출시키기 위해 각각의 셀에서 유전체 층에 형성된 구멍을 갖는 것이 유리하다는 것이 주목되어야 한다. 그 결과, 셀의 전기장은 유전체 층의 전기적인 특성(특히 전도성)을 통해서는 물론 구멍의 구성과 위치를 통해 제어될 수 있다. 셀 내의 유체의 전도도보다 낮은 전도도를 갖는 유전체 층을 선택함으로써, 전기장은 제 1 및 제 2 전극을 가로질러 적절한 전압이 인가될 때 제 1 전극의 노출된 위치를 향해 입자를 효율적으로 향하게 하도록 형성될 수 있다.
유전체 층에서의 구멍의 셀에서 어느 위치가 가장 바람직한가 하는 것은 외관-수정 장치의 적용에 달려있다. 몇몇 적용에 대해, 각각의 셀에서 구멍들이 중앙에 위치되는 것이 유리할 수 있다. 한편, 다른 적용은 중앙을 벗어난 위치에 있는 것이 유익할 수 있다. 더욱이, 몇몇 적용은 중앙에 위치한 구멍들을 갖는 몇몇 셀과 중앙을 벗어난 구멍들을 갖는 다른 셀의 혼합이 유익할 수 있다.
게다가, 유전체 층은, 복수의 셀들에서 또는 각각의 셀에서, 복수의 제 1 전극 층을 노출시키기 위해 내부에 형성된 복수의 구멍을 가질 수 있다. 큰 변형 또는 오정렬이 일어날 때에도 (예를 들면, 외관-수정 장치가 곡선 모양의 대상물에 적용될 경우 제조 공정 자체 중에, 또는 나중에), 복수의 구멍을 갖는 것은 외관-수정 장치가 곡선 모양의 표면에 적용된 후 각각의 셀 내에 위치된 적어도 하나의 구멍을 가질 기회를 증가시킨다. 따라서, 각각의 셀은 충분히 짧은 기간 내에 입자가 전극의 어느 하나에 집중되게 허용하는 전극 배열을 가질 수 있다. 그러므로, 유전체 층에 형성된 여러 구멍을 가짐으로써, 오정렬과 변형은 미리 사전에 보상될 수 있고, 외관-수정 장치는 더욱 튼튼하게 만들어질 수 있다.
본 발명의 제 2 양태에 따라서, 표면이 본 발명의 제 1 양태에 따른 외관-수정 장치에 의해 적어도 부분적으로 커버되는 표면을 포함하는 기구가 제공된다. 이 기구는 모든 적절한 장치, 예를 들면 텔레비전 장치, 워터 보일러, 뮤직 플레이어 또는 면도기 장치 일 수 있다.
본 발명의 제 3 양태에 따라서, 외관-수정 장치에 의해 커버된 표면의 시각적인 외관을 수정하기 위한, 외관-수정 장치를 제조하기 위한 방법이 제공되며, 상기 방법은, 제 1 기판을 제공하며; 제 1 기판상에 복수의 셀들을 형성하기 위해 스페이서 구조물을 제공하고, 복수의 셀들 중 개별 셀은 비주기적인 셀 패턴이 복수의 셀들에 의해 형성되도록 하는 형상을 가지며; 각각의 셀에서, 내부에 분산된 복수의 입자들을 가지는 광학적 투명 유체를 제공하며; 셀을 커버하기 위해 제 2 기판을 배열하는 단계를 포함한다.
한 실시예에 따라서, 상기 방법은 유전체 층에 의해 커버된 제 1 전극 층을 제 1 기판의 제 1 측면 상에 제공하며; 각각의 셀에 의해 점유된 영역이 제 1 전극 층의 일부분을 포함하는 방식으로 제 1 기판의 제 1 측면 상에 복수의 셀들을 형성하는 스페이서 구조물을 제공하며; 적어도 유전체 층에 의해 제 1 전극 층으로부터 이격되는 제 2 전극을 제공하며; 각각의 셀에 대응하는 영역에서, 내부에 리세스를 형성하기 위해 유전체 층의 적어도 일부분을 제거하는 단계들을 포함한다.
상기 제거는, 각각의 셀에 대응하는 영역의 중앙 부분에서, 유전체 층의 상기 부분을 제거하는 단계를 포함한다. 부가적으로, 또는 택일적으로, 상기 제거는, 각각의 셀에 대응하는 영역에서, 유전체 층의 복수의 부분을 제거하는 단계를 포함한다.
본 발명자는 외관-수정 장치가 유리하게는 제 1 전극 층을 유전체 층에 의해 커버하여, 유전체 층 내에 적어도 하나의 리세스를 형성함으로써 제조되어, 제 1 전극의 패터닝(patterning) 및 정렬을 위한 필요성을 최소화할 수 있음을 알았다.
리세스(들)은 제 1 전극 층이 노출되거나, 적어도 매우 얇은 잔여 유전체 층으로만 커버되는 방식으로 제공되며, 셀에 관한 잔여 층의 두께에 대한 조건은 다음의 식으로 주어진다:
Figure 112011003445800-pct00001
상기 조건이 충족되는 방식으로 유전체 층에 리세스를 제공함으로써, 제 1 전극과 2 전극 사이에 전압이 인가될 시에, (전형적으로 제 1 전극 층의 일부를 노출시키는) 리세스로 구성되는 제 1 입자 농도 사이트(particle concentration site) 및/또는 제 2 전극의 구성에 의해 결정되어 구성되는 제 2 입자 농도 사이트로 유체에서 분산된 입자를 효율적으로 모으는 셀 내에 전기장 구성이 생성된다. 이런 식으로, 각 셀의 작은 부분에 입자를 모으기 위해 어떤 추가적 제어 전극이 필요치 않아, 각 셀 내의 제어 가능한 영역과 셀의 전체 영역 사이의 비율은 최대화될 수 있다. 게다가, 종래 기술에 비해 보다 적은 층, 및 이에 따라 보다 적은 정렬이 필요하게 되므로 제조가 간단하다.
유전체 층 내에 리세스를 제공함으로써, 셀 내의 전기장은, 리세스의 위치 및 구성 뿐만 아니라 유전체 층의 전기 특성(특히 전도도)을 통해 제어될 수 있다. 셀 내의 유체의 전도도보다 낮은 전도도를 가진 유전체 층을 선택함으로써, 제 1 전극과 2 전극 사이에 적절한 전압이 인가될 시에, 전기장은, (전형적으로 제 1 전극 층의 일부를 노출시키는) 리세스로 구성되는 제 1 입자 농도 사이트로 입자를 효율적으로 배향시키도록 하는 형상이 정해질 수 있다.
본 발명의 제 4 양태에 따라서, 컴퓨터에서 실행될 때 제 3 양태에 따른 방법을 수행하는 소프트웨어 명령을 포함하는 컴퓨터 프로그램 제품이 제공된다.
제 2, 제 3, 및 제 4 양태들은 일반적으로 제 1 양태와 같은 특징 및 잇점을 가질 수 있다.
본 발명의 기술된 실시예의 다른 양태, 특징 및 잇점은 도면으로부터는 물론 첨부된 특허청구의 범위로부터, 이하의 상세한 설명으로부터 명백할 것이다.
일반적으로, 특허청구의 범위에서 사용된 모든 용어는 여기에서 달리 명확하게 한정하지 않는 한, 당해 기술 분야에서 이들의 통상적인 의미에 따를 것으로 해석되어야 한다. "단수 용어[요소(element), 장치(device), 부품(component), 수단(means), 단계(step), 등]" 에 대한 모든 인용문은 달리 명확하게 밝히지 않는 한, 요소, 장치, 부품, 수단, 단계, 등의 적어도 하나의 경우를 인용하는 것으로 공공연히 해석되어야 한다. 여기에 기술된 모든 방법의 단계들은 명확하게 밝히지 않는 한, 기술된 정확한 순서로 수행될 필요가 없다.
본 출원에서, "유체"는, 어떤 힘에 응답하여 형상을 변경하고, 포함될 수 있는 챔버(chamber)의 아웃라인(outline)으로 흐르거나 따르는 경향이 있는 물질인 것으로 이해된다. 따라서, 용어 "유체"는 기체, 액체, 증기 및, 고체 및 액체의 혼합물을 포함하며, 이때 이들 혼합물은 흐를 수 있다.
용어 "입자"는 고체 입자로 제한되지 않고, 또한 액체 방울(liquid droplets) 및 유체 충전된 캡슐(fluid-filled capsules)을 포함한다.
제 1 및 제 2 기판의 어느 하나 또는 양방은 스페이서 구조물이 그 위에 형성될 수 있는, 전형적으로 시트 형상의 광학적으로 투명한 부재로 이루어질 수 있다. 적절한 기판 재료는, 예를 들면, 글래스, 폴리카보네이트, 폴리이미드 등을 포함한다. 이것은 입자가 전극의 적어도 하나에 인접하게 집중될 때의 상태에서 투명한 셀 특성을 가능하게 할 수 있다. 투명한 상태는 예를 들면 외관-수정 장치에 의해 커버된 표면이 정보를 전달하는 경우 유익할 수 있다.
제 1 및 제 2 전극의 어느 하나 또는 양방은 ITO(인듐-주석-산화물), IZO(인듐-아연-산화물), 또는 유사한 공지의 소재들과 같은 그러한, 투명 소재에 의해 형성될 수 있다.
본 문맥에서, "광학적 투명" 매체는 이 매체에 충돌하는 적어도 소량의 광(가시 스펙트럼의 전자기 방사선(electromagnetic radiation))의 흐름을 허용하는 매체를 의미한다.
입자의 광학적인 특성은 입자와 입자에 충돌하는 광 사이의 상호작용의 효과로서 해석되어야 한다. 예를 들면, 입자는 부분적으로 또는 본질적으로 완전히 광을 반사하거나, 광을 흡수하거나, 또는 광을 분산시킬 수 있다. 이들 효과들의 각각은 전형적으로 파장에 의존할 수 있고, 이것에 의해 컬러화 효과가 성취될 수 있다.
유체에 분산된 입자는 대전될 수 있거나 대전될 수 없음에 주목되어야 한다. 대전되지 않은 입자의 경우, 입자는 유전 영동(dielectrophoresis)을 통해 전기장의 인가에 응답하여 이동될 수 있으며, 이는 "유전 영동; 1978년 캠브리지 유니버시티 프레스의 에이치. 에이 폴(H.A. Pohl)에 의한 "불균일한 전기장에서의 중립 물질의 특성(the behavior of neutral matter in non-uniform electric fields)"에 상세히 기재되어 있다.
대전된 입자의 경우에, 입자의 대부분은 유리하게는 반대로 대전된 입자의 클러스터링(clustering)을 방지하기 위해 동일한 부호 전하를 가질 수 있다. (유체의 전기적 중성은 반대 전하의 이온의 존재에 의해 보증된다).
그러나, 또한, 입자를 양 및 음으로 대전된 입자의 혼합으로서 제공하는 것이 유익할 수 있다. 외관-수정 장치를 그의 투명 상태로 제어할 때, 입자는 이때 극성에 따라 양방의 전극에서 수집될 수 있다. 이것은 더욱 투명한 상태를 유도할 수 있다.
더욱이, 외관-수정 장치의 컬러 제어는 제 1 컬러를 가지는 양으로 대전된 입자의 제 1 세트와 제 2 컬러를 가지는 음으로 대전된 입자의 제 2 세트를 제공함으로써 성취될 수 있다.
더욱이, 입자는 본질적으로 전기장의 부재에서 균일하게 분포될 수 있다. 전기장이 인가되면, 입자는 다시 분포될 수 있다. 전기장이 제거되거나, (전기 영동의 경우에) 자신의 전하 또는 (유전 영동의 경우에) 쌍극자를 통해 입자에 가해지는 힘과 인가된 전기장 사이의 평형이 존재하는 상태가 입력될 때까지 어느 한 입자는 이동한다. 전기 영동에 대한 더욱 상세한 설명을 위해, 다음의 문서가 참조되고 있다: 1997년 미국 뉴욕 마르셀 데커 인코포레이티드(Marcel Dekker Inc)의 피. 씨. 히멘즈 및 알. 라자고팔란(P.C. Hiemenz and R. Rajagopalan)의 3차 개정판, 페이지 534-574에 기재된 "콜로이드 및 표면 화학의 원리들(Principles of Colloid and Surface Chemistry)"
본 발명의 실시예들은 이제 첨부한 도면을 참조로 하여 더욱 상세히 기술될 것이다.
도 1a 내지 도 1g는 본 발명에 따른 외관-수정 장치의 실시예에 대한 여러 적용을 도식적으로 도시한 것이다.
도 2는 외관-수정 장치의 사시도이다.
도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 실시예에 따른 전형적인 외관-수정 장치의 상이한 도면들이다.
도 4a 내지 도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 외관-수정 장치에 대한 가능한 셀 패턴의 실례를 예시한다.
도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 실시예에 따른 외관-수정 장치에 대한 가능한 셀 패턴의 실례를 예시한다.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 실시예에 따른 전형적인 외관-수정 장치의 상이한 도면들이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 외관-수정 장치를 제조하기 위한 제 1 전형적인 방법을 도식적으로 예시하는 플로 챠트이다.
도 8a 내지 도 8f는 대응하는 방법의 단계들 다음의 상태에서 도 7의 방법에 따라 제조된 외관-수정 장치를 도식적으로 예시한다.
도 9a 내지 도 9c는 도 7에 예시된 방법의 유전체 층의 일부를 제거하는 단계를 도식적으로 예시한다.
본 발명은 이제 본 발명의 소정의 실시예가 도시되어 있는, 첨부 도면을 참조하여 아래에서 더욱 충분히 기술될 것이다. 그러나, 본 발명은 여러 상이한 형태들로 구현될 수 있고, 여기서 설명된 실시예에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다; 오히려, 이들 실시예는 본 발명이 철저하고 완전하도록 그리고 당해 기술 분야에 숙련된 자들에게 본 발명의 범주를 충분히 전달하도록 실례에 의해 제공된다. 더욱이, 유사한 번호들은 전체에 걸쳐 유사한 요소를 언급한다.
본 발명에 따른 외관-수정 장치의 다양한 실시예에 대한 복수의 적용이 제공되며, 그 중의 일부가 도 1a 내지 도 1g에서 도식적으로 예시되어 있다.
도 1a 내지 도 1c에서, 평면 스크린 텔레비전 장치(1)에는 텔레비전 장치(1)의 적어도 디스플레이(3)를 커버하는 외관-수정 장치(2)가 제공된다. 도 1a는 전체 디스플레이가 이미지 내용을 디스플레이하기 위해 사용되는 전형적인, 풀-스크린 기능의 텔레비전 장치(1)를 도시하며, 외관-수정 장치(2)는 실제로 투명 상태로 되어 있다. 따라서, 텔레비전 장치(1)의 전체 디스플레이(3)가 시청자에게 보인다. 도 1b는 디스플레이(3)의 일부가 외관-수정 장치(2)에 의해 변경된 외관을 갖도록 부분적으로 투명한 상태의 외관-수정 장치(2)를 갖는 와이드-스크린 기능의 텔레비전 장치(1)를 도시한다. 본 실례에서, 외관-수정 장치(2)는 디스플레이(3)를 둘러싸는 프레임(4)과 본질적으로 같은 외관을 갖기 위해 이미지 내용을 디스플레이하는데 사용되지 않는 디스플레이(3)의 상기 일부를 변경했다. 마지막으로, 도 1c는 디스플레이(3)를 둘러싸는 프레임(4)과 본질적으로 같은 외관을 가지기 위해 전체 디스플레이(3)를 변경한 상태의 외관-수정 장치(2)를 갖는, 턴 오프되었을 때의 텔레비전 장치(1)를 도시한다.
물 보일러(water boiler)(5)의 형태로 된 추가 적용이 도 1d 내지 도 1e에 예시되어 있다. 외관-수정 장치(6)에 의해 물 보일러(5)를 커버함으로써, 그의 상태를 사용자에게 시각적으로 예시하기 위해 물 보일러가 만들어질 수 있다. 예를 들면, 외관-수정 장치(6)는 물 보일러 내의 물이 차거운 것을 표시하기 위해 제 1 컬러, 예를 들면 청색과, 물 (따라서 물 보일러(6))이 뜨거운 것을 표시하기 위해 제 2 컬러, 예를 들면 적색 사이에서 제어될 수 있다.
도 1f 내지 도 1g의 뮤직 플레이어(8)의 형태로 된 또 다른 적용에서, 뮤직 플레이어(8)는 사용자의 개인적인 취향에 따라 뮤직 플레이어의 컬러와 같은 그러한 외관을 사용자가 제어하는 것을 가능하게 하기 위해 외관-수정 장치(9)에 의해 커버될 수 있다.
외관-수정 장치에 대한 여러 적용들 중의 일부 실례를 지금까지 예시했는데, 본 발명에 따른 외관-수정 장치의 예시적인 실시예가 이하에서 기술될 것이다. 그러나, 본 발명에 따른 외관-수정 장치의 전형적인 실시예가 기술되기 전, 도 2에 예시된 바와 같은 외관-수정 장치(100)는 도 3 내지 도 9와 관련하여 기술되는, 본 발명의 다양한 실시예의 특징, 잇점 및 원리를 독자가 이해하는 것을 돕기 위해 간략하게 기술될 것이다.
도 2는 제 1 기판(110) 및 반대측에 배열된 제 2 기판(120)을 포함하는 외관-수정 장치(100)를 도식적으로 예시한다. 기판(110, 120)은 제 1 및 제 2 기판(110, 120) 사이의 공간이 복수의 셀들(150, 160) (도 2에서 두 개의 셀만 참조 부호로 표시됨)로 분할되는 방식으로 스페이서 구조물(130)에 의해 이격된다. 복수의 셀들(150, 160)은 함께 셀 패턴(140)을 형성한다. 전형적으로, 개개의 셀(150, 160)의 주변 형상은 어떤 형태의 셀 패턴이 가능한지를 결정한다. 도 2에 예시된 바와 같이, 직사각형 셀(150, 160)이 사용될 때, 셀 패턴은 전형적으로 직사각형 그리드(grid)이다. 제 1 기판(110) 및 반대측에 배열된 제 2 기판(120)에 의해 한정된 영역을 커버하기 위해 사용된 그리드형 셀 패턴(140)은 주기적인 셀 패턴의 실례이다.
여기에서 사용된 바와 같이, 주기적인 셀 패턴은 병진 대칭(translational symmetry)을 가지는 패턴이다. 병진 대칭은 일정한 거리를 통한 일정한 방향에서의 불변 등거리변환(invariant isometry)이다. 등거리변환(isometry)은 모든 거리를 스스로 보존하는 유클리드 평면(Euclidean plane)의 매핑(mapping)이다. 대칭은 모든 일정한 세트를 스스로 매핑하는 등거리변환으로서 정의된다. 따라서, 타겟 영역(target area)이 주기적인 셀 패턴을 이용하여 커버된다면, 상기 타겟 영역 내의 특별한 포인트에서 시작하여 상기 포인트 주위의 반경 "R1"의 제한된 영역을 취함으로써, 다른 반경 "R2"를 이동시킴으로써, 상기 포인트 주위의 영역에 포함되어 있는 정확히 같은 조직(texture)이 발견될 수 있다. 그리드형 패턴과 다른 주기적인 패턴을 사용함으로써 확실한 "주기"("periods")가 형성된다. 이들 주기는 타겟 영역 위에서 쉽게 검출되는 반복적인 서브-패턴을 형성하는 반복적인 퍼즐 피스(repeating puzzle pieces)와 유사하다.
도 3a 내지 도 3e는 본 발명에 따른 외관-수정 장치(10)의 전형적인 실시예를 도식적으로 예시한다.
도 3a는 대향하게 배열된 제 1 기판(11) 및 제 2 기판(12)을 포함하는 외관-수정 장치(10)를 도식적으로 예시한다. 제 1 기판(11) 및 제 2 기판(12)의 어느 하나 또는 양방은 임의로 광학적으로 투명한 부재일 수 있다. 적절한 기판 소재는 예를 들면, 글래스, 폴리카보네이트, 폴리이미드 등을 포함한다. 기판(11, 12)은 제 1 기판(11) 및 제 2 기판(12) 사이의 공간이 복수의 셀들(15,16) (도 3a에서 두 개의 셀만 참조 부호로 표시됨)로 분할되는 방식으로 스페이서 구조물(13)에 의해 이격된다. 도 2에 도시된 외관-수정 장치와 대조적으로, 도 3a의 외관-수정 장치(10)에서의 복수의 셀들 중 개별 셀(15,16)의 주변 형상은 비주기적인 셀 패턴(14)이 복수의 셀들에 의해 형성되도록 되어있다. 전형적으로, 비주기적인 셀 패턴(14)은 어느 정도의 병진 대칭을 필요로 한다. 셀(15,16)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 셀(15,16)의 하나 또는 여러 개는 불규칙적인 셀 형상을 가질 수 있다. 예를 들면, 셀(15,16)의 하나 또는 여러 개는 최대한 균일하게 길고 일직선의 측면을 갖는 다각형보다 다른 형상을 가질 수 있다. 더욱이, 셀은 다양한 크기를 가질 수 있다. 부가적으로, 또는 택일적으로, 셀은 다양한 방향성을 가질 수 있다. 더욱이, 셀(15,16)은 펜로즈 타일 패턴(Penrose tile pattern)으로 알려진, 소위 펜로즈 패턴이 복수의 셀들에 의해 형성되는 그러한 형상을 가질 수 있다.
본 발명자는 외관-수정 장치에 의해 커버되는 어떤 기구의 외관을 주문제작하기 위한 외관-수정 장치(10)의 적용을 위해, 복수의 셀들이 도 2에 도시된 것과 같은 주기적인 셀 패턴을 형성하는 것이 필요하지 않음을 알았다. 반대로, 외관-수정 장치(10)의 적용을 위해, 셀의 비주기적인 셀 패턴(14)을 이용하는 것이 물론 가능하고, 또한 유리할 수 있다. 예를 들면, 비주기적인 셀 패턴을 제공함으로써, 무아레 효과(moire effects)가 감소될 수 있고, 이것에 의해 외관-수정 장치는 더욱 자연스럽게 보이고 시청자가 보기에 즐겁게 만들어질 수 있다.
이제 도 3b 내지 도 3c를 참조하면, 도 3b는 외관-수정 장치(10)가 제 1의 상태, 예를 들면 실제로 투명한 상태에 있는 도식적인 평면도를 예시하며, 한편 도 3c는 같은 외관-수정 장치(10)가 제 2의 상태, 예를 들면 외관-수정 상태에 있는 도식적인 평면도를 예시한다.
도 3a 내지 도 3c에 도시된 셀(15,16)의 도식적인 횡단면도인 도 3d에서, 제 1 전극이 제 1 기판(11)을 커버하는 전극 층(17)의 형태로 제공되어 있는 것을 볼 수 있다. 제 1 전극 층(17)은 유전체 층(18)에 의해 교대로 부분적으로 커버되어, 제 1 전극(17)으로부터 스페이서 구조물(13)을 분리한다. 외관-수정 장치(10)의 본 실시예에서, 스페이서 구조물(13)은 전도성이며 제 2 전극을 구성한다. 따라서, 외관-수정 장치(30)의 셀(15,16)의 전체는 같은 두 개의 전극(13, 17)에 의해 제어가 가능하다. 제 1 및 제 2 전극(17, 13)의 어느 하나 또는 양방은, ITO(인듐-주석-산화물), IZO(인듐-아연-산화물), 또는 유사한 공지의 소재들과 같은 그러한 투명 소재에 의해 형성될 수 있다. 게다가, 각각의 셀은 광학적 투명 유체(19) 내에 분포된 복수의 입자들(20)을 포함한다. 이것은 또한 도 3e에서 볼 수 있다.
도 3e를 참조하면, 좌측에 있는 셀(15)은 셀(15)에 의해 커버된 표면의 외관이 입자(20)의 광학 특성에 의해 결정되도록 입자들이 유체(19) 내에 분산되어 있는 상태에 있다. 따라서, 셀(15)은 그의 제 1 상태, 예를 들면, 외관-수정 상태 (또한 도 3c에 도시됨)에 있다. 전형적으로, 입자(20)는 제 1 전극(17)과 제 2 전극 (스페이서 구조물(13)) 사이에 전압차가 없을 때 도 3e에서 좌측 셀(15)에 도시된 분산된 상태에 있다. 이제 도 3e의 우측에 있는 셀(16)로 돌아가서, 입자(20)는 제 1 전극과 제 2 전극(17, 13) 사이에 적절한 전압의 인가를 통해 제 2 전극(13)에 집중되었다. 우측에 있는 셀(16)에서의 입자(20)들의 집중을 통해, 셀(16)은 그의 제 2 상태, 예를 들면, 실제로 투명 상태 (도 3b에 도시됨)로 스위치되며, 따라서, (아래에 있는 표면의 광도를 감소시키는 빛의 일부를 흡수 및/또는 반사하는 것을 제외하고) 외관-수정 장치에 의해 커버된 표면의 외관을 수정하지 않는다.
본 발명에 따른 외관-수정 장치(10)의 다양한 실시예에 대한 복수의 가능한 비주기적인 셀 패턴(14)이 제공되며, 그 중의 일부가 도 4a 내지 도 4b 및 도 5a 내지 도 5c에서 각각 도식적으로 예시되어 있다.
도 4a 내지 도 4b를 참조하면, 이들 도면들은 다양한 셀들이 가변 형상, 크기 및/또는 방향성을 가지는, 비주기적인 셀 패턴(14)의 두 개의 실례를 예시한다. 도 4a에서, 외관-수정 장치(10)는 외관-수정 상태에 있는 반면, 도 4b는 실제로 투명한 상태의 외관-수정 장치(10)의 도식적인 평면도를 예시한다.
추가 셀 패턴(14)이 도 5a 내지 도 5c에 도식적으로 예시되어 있다. 도 5a는 외관-수정 장치(10)가 외관-수정 상태에 있는 도식적인 평면도이고, 도 5c는 같은 외관-수정 장치(10)가 실제로 투명한 상태에 있는 도식적인 평면도이다. 도 5b는 같은 외관-수정 장치(10)가 스위칭 상태로서 또한 알려진 중간 상태에 있는 도식적인 평면도이다. 도 5a 내지 도 5c에서, 셀은 상이한 크기를 가지며, 심볼(이 경우에 수자 "1")이 큰 셀에 의해 형성되는 방식으로 추가 배열된다. 작은 셀이 큰 셀과 비교하여 한 상태로부터 다른 상태로 더욱 빠르게 스위치하거나 또는 변화하므로, 이것은 도 5a 내지 도 5c에서 도시된 바와 같은 새로운 방식으로 사용될 수 있다. 도 5a에 도시된 외관-수정 상태로부터 도 5c에 도시된 투명 상태까지의 스위칭 중, 비교적 큰 셀에 의해 완성된 심볼이 눈에 보이게 되는 중간 상태가 도 5b에 예시되어 있다. 따라서, 이러한 방식으로 작은 셀 및 큰 셀의 조합을 셀 패턴에 제공함으로써 큰 셀 및 작은 셀의 상이한 스위칭 속도로 인해, 심볼, 아이콘, 텍스트 또는 다른 메시지가 중간 스위칭 상태 중 시청자에게 플래시 될 수 있다.
이제 도 6a 내지 도 6b로 돌아가서, 본 발명에 따른 외관-수정 장치(10)의 다양한 실시예에 대해 추가의 비주기적인 셀 패턴(14)의 도식적인 평면도가 도시되어 있다. 도 6a 내지 도 6b에서, 유전체 층은, 각각의 셀에서 또는 대부분의 셀에서, 제 1 전극 층(17)의 하나의 부분뿐만 아니라 복수의 부분들을 노출하기 위해 내부에 형성된 복수의 구멍을 가지는 것을 볼 수 있다. 이것은 또한 도 6a 내지 도 6b에서 보여지는 두 개의 전형적인 셀(15,16)의 도식적인 횡단면도인 도 6c에서 보여진다. 제 1 전극이 제 1 기판(11)을 커버하는 전극 층(17)의 형태로 여기 제공된 것을 볼 수 있다. 제 1 전극(17)은 유전체 층(18)에 의해 교대로 부분적으로 커버되어, 제 1 전극(17)으로부터 스페이서 구조물(13)을 분리한다. 다시, 스페이서 구조물(13)은 전도성이 있어서, 제 2 전극을 구성할 수 있다. 더욱이, 각각의 셀은 광학적 투명 유체(19) 내에 분산된 복수의 입자들(20)을 포함한다. 도 6a 내지 도 6c에서 볼 수 있는 바와 같이, 각각의 셀(15,16)은 제 1 전극 층(17)의 복수의 부분들을 노출하기 위해 내부에 형성된 복수의 구멍을 가진다. 14로 표시된 셀 패턴에서, 복수의 구멍은 셀의 밀도보다 높은 밀도를 가질 수 있다. 그 결과, 큰 변형 또는 오정렬이 일어날 때에도 (예를 들면, 외관-수정 장치가 곡선 모양의 대상물 상에 적용되는 경우), 복수의 구멍을 가지는 것은 외관-수정 장치가 곡선 모양의 표면상에 적용된 후 각각의 셀 내에 위치된 적어도 하나의 구멍을 가질 가능성을 증대시킨다. 따라서, 각각의 셀은 충분히 짧은 기간 내에 전극(17, 13)의 어느 하나에 입자(20)가 집중되는 것을 허용하는 전극(17) 배열을 가질 수 있다. 따라서, 유전체 층에 여러 구멍을 형성시킴으로써, 오정렬과 변형이 미리 보정(pre-compensated)될 수 있고, 외관-수정 장치는 더욱 견고하게 만들어질 수 있다.
본 발명의 전형적인 실시예에 따른 외관-수정 장치의 제조 방법은 이제 그러한 방법을 도식적으로 예시하는 플로 챠트인 도 7과 도 7의 대응한 방법 단계 다음의 상태에 있는 외관-수정 장치를 도식적으로 도시하는 도 8a 내지 도 8f를 참조하여 기술될 것이다. 도 7에서, 도 3a 내지 도 3e에 대한 것과 같은 참조 부호가 사용된다.
제 1 단계(701)에서, 그의 제 1 측면 상에, 유전체 층(18)에 의해 커버된 제 1 전극 층(17)을 가지는 제 1 기판(11)이 제공된다.
그 이후의 단계(702)에서, 전도성 스페이서 소재(13)가 유전체 층(18)에 제공된다.
다음 단계(703)에서, 스페이서 소재(13)는 제 1 기판(11)의 제 1 측면 상에 복수의 셀들을 형성하기 위해, 예를 들면, 엠보싱(embossing)을 통해 구성된다. 복수의 셀들 중 개별 셀의 형상은 비주기적인 셀 패턴이 복수의 셀들에 의해 형성되도록 그렇게 선택된다. 동시에, 제 2 전극은 스페이서 구조물(13)의 형태로 제공된다.
스페이서 소재는, 예를 들면, 얇은 층을 형성할 수 있는 어떠한 릴-투-릴 코팅 기술(reel-to-reel coating techniques)을 이용하는 것과 같은, 어떠한 종래의 제조 기술을 이용하여 제공될 수 있다. 그러한 기술의 실례는 코팅 액체가 중력에 의해 또는 압력하에서 슬롯을 통해 리저버(reservoir)로부터 강제로 배출되어, 가동 기판(moving substrate)으로 이동되는 슬롯-다이(slot-die), 및 조각된 롤러(engraved roller)가 롤러의 각인된 도트(imprinted dots) 또는 라인을 코팅 소재로 충전하는 코팅 조(coating bath)를 지나가는 그라비어 코팅(gravure coating)을 포함하며, 그 후, 롤러상의 과도한 코팅이 닥터 블레이드(doctor blade)에 의해 제거되고 상기 코팅은 기판이 조각된 롤러와 가압 롤러를 통과할 때 기판상에 피복된다. 스페이서 소재의 구조화는, 예를 들면, 상기 소재 위에 열과 압력의 조합을 적용함으로써 전형적으로 성취되는, 엠보싱(embossing)을 통해 수행될 수 있다. 다른 구조화 기술은 사진 석판술(photolithography), 마이크로-몰딩(micro-molding) 또는 레이저 삭마(laser ablation)로 이루어질 수 있다. 택일적으로, 스페이서 구조물은 그라비어(gravure), 플렉소(flexo), 옵셋(offset), 스크린, 또는 잉크젯 프린팅과 같은 그러한 다양한 프린팅 기술을 통해 직접 제공될 수 있다.
그 후, 단계(704)에서, 유전체 층(18)의 적어도 일부는 각각의 셀 내에서 제 1 전극(17)의 대응한 부분(들)을 노출시키기 위해 제거된다. 유전체 층(18)의 제거는 당해 기술 분야에서 공지된 어떤 적절한 방법을 이용하여 수행될 수 있다. 그러나, 유전체 층의 상기 부분을 제거하기 위한 양호한 방법은 도 9와 관련하여 아래에서 기술될 것이다.
유리하게는, 단계(704)는 제 1 전극(17)의 둘 또는 그 이상의 대응하는 부분(들)을 노출하기 위해 각각의 셀에서 유전체 층(18)의 둘 또는 그 이상의 부분들을 제거하는 것을 포함한다. 제 1 전극 층(17)을 커버하는 유전체 층(18)에 여러 개의 구멍을 제공함으로써, 여러 개의 입자 농도 위치가 제공된다. 그 결과, 정렬 공차(alignment tolerance)가 개선될 수 있다. 이것은 이에 의해 커버될 장치 또는 대상물의 형상에 유리하게 일치할 수 있어야 하는 외관-수정 장치(10)의 중요한 특징이다.
다음 단계(705)에서, 각각의 셀(15,16)은 광학적 투명 유체(19)에 부유된 복수의 입자들(20)을 포함하는 유체 입자 부유물(fluid-particle suspension)로 충전된다.
마지막 단계(706)로서, 제 2 기판(12)은 상기 셀을 폐쇄하기 위해 제 1 기판(11)으로부터 스페이서 구조물(13)의 대향 측면 상에 배열된다.
도 9에서, 각각의 셀(15-16) 내의 유전체 층(18)의 일부를 제거하기 위한 양호한 방법이 예시되어 있다.
도 9a에 도시된 바와 같이, 제 1 소재 제거 빔(first material removing beam)(91a)은 도 9a에서 화살표로 표시된 제 1 방향에서 셀(15,16)을 향해져 있다. 제 1 소재 제거 빔(91a)이 유전체 층의 나머지 부분에 부딪치는 것을 방지하기 위해 스페이서 구조물(13)이 마스크로서 작용하므로, 제 1 소재 제거 빔(91a)은 셀 내에서 유전체 층(18)의 제 1 부분(92a)에 부딪친다.
이어서, 도 9b에 도시된 바와 같이, 제 2 소재 제거 빔(91b)은 도 9b에서 화살표로 표시된 제 2 방향에서 셀(15,16)을 향해져 있다. 제 2 소재 제거 빔(91b)이 유전체 층의 나머지 부분에 부딪치는 것을 방지하기 위해 스페이서 구조물(13)이 마스크로서 작용하므로, 제 2 소재 제거 빔(91a)은 셀 내에서 유전체 층(18)의 제 2 부분(92b)에 부딪친다. 도 9a 내지 도 9b에서, 두 개의 빔(91a-91b)이 연속하여 셀(15,16)에 부딪치도록 도시되어 있지만, 이들은 택일적으로 셀(15,16)에 동시에 부딪칠 수 있다.
제 1 소재 제거 빔(91a)과 제 2 소재 제거 빔(91b)의 양방이 유전체 층(18)에 부딪치는, 다른 말로 하면 상기 부분들(92a, 92b)이 동일 공간을 점유하는 유전체 층의 부분(93)의 이러한 방식에서, 유전체 층(18)은 셀의 나머지 영역에서 더욱 많이 제거되어, 제 1 전극(17)을 노출하기 위해 유전체 층(18)에 구멍을 형성한다.
그 결과는 유전체 층(18)에 적어도 하나의 구멍이 형성되어 제 1 전극(17)을 노출하는 도 9c에 예시되어 있다.
유리하게는, 유전체 층(18)의 일부를 제거하기 위한 상술한 방법은 드라이-에칭(dry-etching)을 이용하여 수행될 수 있고, 이 경우에 소재 제거 빔(91a-91b)은 이온 빔(ion beams)이다. 택일적으로, 유전체 층(18)의 상기 부분은 레이저 제거 또는 유사한 것을 이용하여 제거될 수 있고, 이 경우에 상기 소재 제거 빔(91a-91b)은 레이저 빔이다.
본 발명이 도면과 전술한 설명에서 상세히 예시되고 기술되었지만, 그러한 예시와 기술은 예시적이거나 또는 전형적인 것이지 제한적인 것이 아님이 고려되어야 한다; 본 발명은 기술된 실시예들에 한정되지 않는다. 기술된 실시예들에 대한 다른 변형예는 첨부 도면, 전술한 명세서, 및 첨부 특허청구의 범위를 검토함으로써, 본 발명을 실행함에 있어 당해 기술 분야에 숙련된 자들에 의해 이해 및 수행될 수 있다. 특정한 수단들이 서로 상이한 종속 청구항에서 다시 인용되는 단순한 사실은 이들 수단들의 조합이 유리하게 사용될 수 있다는 것을 나타낸다. 더욱이, 특허청구의 범위에서의 모든 참조 부호들은 상기 범주를 제한하는 것으로 간주되지 않아야 한다.

Claims (15)

  1. 외관-수정 장치에 의해 커버된 표면의 시각적인 외관을 수정하기 위한 상기 외관-수정 장치(10)에 있어서,
    제 1 기판(11) 및 반대측에 배열된 제 2 기판(12);
    상기 제 1 기판(11)과 상기 제 2 기판(12) 사이의 공간이 복수의 셀들(15, 16)로 분할되도록, 상기 제 1 기판(11) 및 상기 제 2 기판(12)을 이격시키는 스페이서 구조물로서, 상기 복수의 셀들(15, 16) 중 개별 셀들(15, 16)의 형상들은 비주기적인 셀 패턴(14)이 상기 복수의 셀들(15, 16)에 의해 형성되도록 한, 상기 스페이서 구조물;
    각각의 셀(15, 16)에서, 내부에 분산된 복수의 입자들(20)을 포함한 광학적 투명 유체(19)로서, 상기 입자들(20)이 전기장의 인가를 통해 상기 광학적 투명 유체(19) 내에서 이동가능한, 상기 광학적 투명 유체(19);
    상기 제 1 기판(11)의 제 1 측면 상에 배열되는 제 1 전극 층(17)으로서, 유전체 층(18)에 의해 커버되는 상기 제 1 전극 층(17); 및
    적어도 상기 유전체 층(18)에 의해 상기 제 1 전극 층(17)으로부터 이격되는 제 2 전극(13)을 포함하며,
    각각의 셀(15, 16) 내에서, 상기 유전체 층(18)은 내부에 형성된 적어도 하나의 리세스(recess)를 가지며;
    각각의 셀들(15, 16) 내의 입자들(20)의 분포는, 분산된 제 1 상태로부터, 상기 입자들(20)이 상기 유전체 층(18) 내의 적어도 하나의 리세스와 상기 제 2 전극(13) 중 적어도 하나에 인접하여 집중되는 제 2 상태로, 상기 제 1 전극 층(17) 및 제 2 전극(13)을 가로질러 전압을 인가함으로써 제어할 수 있는 외관-수정 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 입자들(20)은 분산된 입자 상태와 수집된 입자 상태 사이에서, 전기장의 인가를 통해 상기 유체 내에서 이동할 수 있는 평면내의 이동 입자들(in-plane moving particles)인, 외관-수정 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 셀들(15, 16)은 가변 형상들, 크기들 및/또는 방향성들을 가지는, 외관-수정 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 셀들(15, 16)의 하나 또는 여러 개는 불규칙한 형상을 가지는, 외관-수정 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 셀 패턴(14)은 준-결정 패턴인, 외관-수정 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 리세스는 상기 셀(15, 16) 내의 중앙에 위치되는, 외관-수정 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 유전체 층(18)은 복수의 셀들(15, 16)에서 내부에 형성된 복수의 리세스들을 가지는, 외관-수정 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 유전체 층(18)은 각각의 셀(15, 16)에서 상기 제 1 전극 층(17)의 복수의 부분들을 노출하기 위해 내부에 형성된 복수의 구멍들을 가지는, 외관-수정 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 스페이서 구조물은 전도성이 있고 상기 제 2 전극을 형성하는, 외관-수정 장치.
  10. 표면을 포함하는 기구(1; 5; 8)로서,
    상기 표면은 제 1 항에 따른 외관-수정 장치(10)에 의해 적어도 부분적으로 커버되는, 표면을 포함하는 기구(1; 5; 8).
  11. 외관-수정 장치에 의해 커버된 표면의 시각적인 외관을 수정하기 위한, 상기 외관-수정 장치의 제조 방법에 있어서,
    유전체 층에 의해서 커버된 제 1 전극 층을 제 1 기판의 제 1 측면상에 제공하는 단계(701);
    각각의 셀에 의해 점유된 영역이 상기 제 1 전극 층의 일부분을 포함하는 방식으로 상기 제 1 기판의 제 1 측면 상에 복수의 셀들을 형성하기 위하여 스페이서 구조물을 제공하는 단계(702)로서, 상기 복수의 셀들 중 개별 셀들의 형상들은 비주기적인 셀 패턴이 상기 복수의 셀들에 의해 형성되도록 구성된, 상기 스페이서 구조물을 제공하는 단계(702);
    적어도 상기 유전체 층에 의해 상기 제 1 전극 층으로부터 이격되는 제 2 전극을 제공하는 단계(703);
    각각의 셀에 대응하는 영역에서, 상기 유전체 층의 적어도 일부분을 제거하는 단계(704);
    각각의 셀에서, 내부에 분산된 복수의 입자들을 가지는 광학적 투명 유체를 제공하는 단계(705); 및
    상기 셀들을 커버하기 위해 제 2 기판을 배열하는 단계(706)를 포함하는 외관-수정 장치의 제조 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제거하는 단계(704)는 각각의 셀에 대응하는 상기 영역의 중앙 부분에서, 상기 유전체 층의 상기 부분을 제거하는 단계를 포함하는 외관-수정 장치의 제조 방법.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 제거하는 단계(704)는 각각의 셀에 대응하는 상기 영역에서, 상기 유전체 층의 복수의 부분들을 제거하는 단계를 포함하는 외관-수정 장치의 제조 방법.
  14. 삭제
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