KR101622671B1 - 경질 표면의 세정 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 세정제 조성물이 균일하고 안전성이 높으며, 좁은 갭(gap)에서 각종 오염의 세정성, 반복 세정성 및 헹굼성이 우수하며, 세정시와 헹굼시에 내(耐)거품성이 좋은 세정제 조성물을 이용한, 경질(硬質) 표면에 부착된 액정 오염을 제거하는 경질 표면의 세정 방법에 관한 것이다. 다음의 성분(A)∼(E): (A)글리세릴에테르를 0.25∼15.0중량%, (B)HLB가 12.0∼18.0인 비(非)이온 계면 활성제를 1.0∼60.0중량%, (C)탄화수소를 1.0∼10.0중량%, (D)글리콜에테르를 1.0∼20.0중량%, 및 (E)물을 함유해서 이루어지며, 상기 성분(B)의 비이온 계면 활성제가 다음 식: R-Ⅹ-(EO)_m(PO)_n-H로 표시되며, 상기 성분(B)과 상기 성분(A)의 중량비(성분(B)/성분(A))가 4/1∼8/1인 세정제 조성물을 이용해서 경질 표면에 부착된 액정 오염을 제거하는 경질 표면의 세정 방법.

세정제 조성물, 내거품성, 경질 표면

Description

경질 표면의 세정 방법{CLEANING METHOD OF HARD SURFACE}

본 발명은 경질 표면용 세정제 조성물에 관한 것이고, 더욱 상세하게는 정밀 부품, 지그·공구류(冶工具類), 금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질 부재의 표면(이하, 간단히 경질 표면이라고 할 경우가 있음)에 존재하는 오염의 용해성 및 제거성 및 헹굼성이 우수하고, 게다가 안전성이 높은 경질 표면용 세정제 조성물(이하, 간단히 세정제 조성물이라고 할 경우가 있음)에 관한 것이다. 또한, 상기 세정제 조성물을 사용한, 경질 표면에 부착한 액정 오염을 제거하는 경질 표면의 세정 방법에 관한 것이다.

종래, 정밀 부품 또는 조립 가공 공정에 이용되는 지그·공구, 부품 등의 경질 부재의 표면에 존재하는 유지(油脂), 기계유, 절삭유(切削油), 그리스(grease), 액정, 실리콘 오일, 로진계 왁스 등의 유기물을 주체로 하는 오염 성분의 제거에는 트리클로로에탄, 테트라클로로에틸렌 등의 염소계 용제, 트리클로로플루오로에탄 등의 프레온계 용제, 오르토규산 소다나 가성 소다에 계면 활성제나 빌더(builder)를 배합한 알칼리성 세정제, 저(低)비점의 탄화수소계 용제 등이 사용되고 있다. 그러나 염소계 및 프레온계의 용제는 안전성, 독성, 작업 환경 및 환경 오염 등에 과제를 가지고 있으며, 또한 알칼리성 세정제는 정밀 부품 등에 사용할 경우, 피(被)세정물 표면에 잔존하면 플라스틱 부품 등에 악영향을 줄 우려가 있었고, 전기, 전자 부품에 있어서는 전기 특성에 매우 악영향을 줄 우려가 있었다.

이 문제를 해결하기 위해서, 예를 들면 알킬글리세릴에테르와 옥타데센 및/또는 물로 이루어지는 세정제 조성물(특허문헌 1), 특정한 알킬폴리글루코시드를 포함하는 세정제 조성물(특허문헌 2), 알킬글리코시드, 알킬폴리글리세릴에테르로 이루어지는 세정제 조성물(특허문헌 3) 등이 개시되어 있다.

또한, 높은 세정성과 헹굼성을 얻을 수 있고, 알킬글루코시드, 글리세릴에테르, 탄화수소, 글리콜에테르 및 물을 포함하는 경질 표면용 세정제 조성물 및 경질 표면의 세정 방법이 개시되어 있다(특허문헌 4).

나아가, 비이온 계면 활성제, 글리세릴에테르, 탄화수소, 글리콜에테르 및 물을 포함하는 액체 세정제 조성물이 개시되어 있다(특허문헌 5).

특허문헌 1: 일본국 공개특허공보 평6-346092호

특허문헌 2: 일본국 공개특허공보 평8-319497호

특허문헌 3: 일본국 공개특허공보 평3-174496호

특허문헌 4: 일본국 공개특허공보 2007-39627호

특허문헌 5: 일본국 공개특허공보 2008-133477호

특허문헌 1∼3에 개시되어 있는 세정제 조성물은 모두 헹굼성이나 공업용 세 정제에 요구되는 반복 세정성 등의 점에서 충분히 만족스러운 효과를 가진다고는 말할 수 없었다.

또한, 이러한 세정제 조성물을 이용한 세정 방법으로는, 우선 세정 공정으로서 세정제 원액 또는 물로 희석한 세정제 액으로 세정하고, 그 후, 헹굼 공정으로서 물로 헹구고, 그 후, 건조 공정을 거치는 것이 일반적인 세정 방법으로 되어 있다.

나아가, 최근에는 정밀 부품의 가공 정밀도가 향상하여, 이러한 정밀 부품에 상당히 요철이 많고, 오목부의 틈도 상당히 좁아져 있으며, 또한 생산성 향상의 관점에서 세정 공정에 걸리는 시간도 보다 단축화되는 경향이 있다.

특히, 액정 오염의 제거에 대해서는, 액정 표시 패널의 박형화에 따라 액정 셀의 갭 간격이 보다 좁아져, 갭 사이에 존재하는 액정의 세정이 보다 곤란해져 오고 있다. 이러한 액정 오염에 대하여, 상기와 같은 종래의 세정제 조성물을 사용했을 경우, 표면에 존재하는 액정에 대한 세정성은 양호하였다고 해도 갭 사이에 존재하는 액정의 세정성은 불충분했다.

이러한 점들로 인해, 정밀 부품 또는 조립 가공 공정에 이용되는 지그·공구, 부품 등의 경질 부재의 표면에 존재하는 각종 유지 오염(특히 정밀 부품의 좁은 틈, 오목부에 부착되어 있는 오염)의 용해성, 제거성이 우수하며, 헹구기에도 시간을 필요로 하지 않는 세정제 조성물이 요구되고 있었다.

또한, 최근에는 세정성 및 헹굼성뿐만 아니라, 세정 설비 등에의 오염이 적은, 즉 거품이 적게 일어나는(내거품성이 좋은) 세정제 조성물이 요구되고 있다. 그러나 종래의 기술로는 세정성, 헹굼성 및 내거품성 모두를 만족시키는 세정제 조성물이 얻어지지 않고 있다.

예를 들면, 특허문헌 4 및 5의 기술은 세정시에 높은 세정성과 헹굼성이 얻어지기는 하나, 거품이 일기 때문에 세정 기기를 오염시킬 뿐만 아니라, 세정 후에도 희석된 배출액에 의한 거품 때문에 배수 설비를 오염시키기 때문에 소포제(消泡劑)를 필요로 한다.

즉, 본 발명의 요지는,

다음의 성분(A)∼(E): (A)글리세릴에테르를 0.25∼15.0중량%, (B)HLB가 12.0∼18.0인 비이온 계면 활성제를 1.0∼60.0중량%, (C)탄소수 9∼14의 탄화수소를 1.0∼10.0중량%, (D)글리콜에테르를 1.0∼20.0중량%, 및 (E)물을 함유해서 이루어지며, 또한

상기 성분(B)의 비이온 계면 활성제가 하기의 일반식(1)

R-X-(EO)_m(PO)_n-H (1)

〔식 중, R은 탄소수 8∼20의 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 알킬기, 또는 탄소수 6∼20의 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 알킬기로 치환되어 있는 페닐기를 나타내고, EO는 옥시에틸렌기, PO는 옥시프로필렌기이고, m은 EO의 평균 부가 몰수를 나타내며 m≥1이고, n은 PO의 평균 부가 몰수를 나타내며 n≥0이고, m>n이며, EO와 PO는 이 순서대로, 또는 랜덤하게 배열되어 있다. X는 O 또는 COO이다.〕으로 표시 되며,

또한, 상기 성분(D)의 글리콜에테르는 에틸렌글리콜모노알킬(탄소수 1∼6) 에테르; 디에틸렌글리콜모노알킬(탄소수 1∼6)에테르; 트리에틸렌글리콜모노알킬(탄소수 1∼6)에테르; 벤질글리콜, 벤질디글리콜, 페닐글리콜, 프로필렌글리콜 또는 디프로필렌글리콜의 모노알킬(탄소수 1∼6)에테르; 디알킬글리콜(탄소수 2∼12)의 모노알킬(탄소수 1∼6)에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물이며,

또한, 상기 성분(B)과 상기 성분(A)의 중량비(성분(B)/성분(A))가 4/1∼8/1인 세정제 조성물을 이용해서 경질 표면에 부착된 액정 오염을 제거하는, 경질 표면의 세정 방법에 관한 것이다.

본 발명은 세정제 조성물이 균일하고 안전성이 높으며, 좁은 갭에서 각종 오염의 세정성, 반복 세정성 및 헹굼성이 우수하며, 세정시와 헹굼시에 내거품성이 좋은 경질 표면용 세정제 조성물 및 상기 세정제 조성물을 이용한 세정 방법에 관한 것이다.

본 발명의 경질 표면용 세정제 조성물은 안전성이 높고, 세정제 조성물이 균일하며, 경질 표면상의 각종 오염의 세정성, 반복 세정성 및 헹굼성이 우수하며, 세정시와 헹굼시에 내거품성이 좋다는 우수한 효과를 발휘하고, 본 발명의 세정 방법은 좁은 갭에서 각종 오염의 세정성, 반복 세정성 및 헹굼성이 우수하고, 세정시와 헹굼시에 내거품성이 좋다는 우수한 효과를 발휘한다.

본 발명의 상기 및 다른 이점은 하기의 설명에 의해 명확해질 것이다.

본 발명은, 비이온 계면 활성제, 글리세릴에테르, 탄화수소, 글리콜에테르 및 물을 함유해서 이루어지는 세정제 조성물이고, 특정한 비이온 계면 활성제와 글리세릴에테르를 특정한 비율로 조합함으로써, 본래 물에 용해하지 않는 탄화수소를 고함수역(高含水域)에서도 분산할 수 있다. 본 발명에 의해, 세정성, 반복 세정성, 헹굼성 및 내거품성 모두 만족하는 이유로서는 글리세릴에테르와 특정한 비이온 계면 활성제가 특정한 중량비로 함유되어 있기 때문에, 세정제 조성물 중에서 비이온 계면 활성제와 글리세릴에테르와 탄화수소가 배향해서 존재하고, 그 결과, 세정제 조성물의 각 성분이 균일하게 분산되기 때문이라고 생각된다.

또한, 본 발명의 경질 표면용 세정제 조성물(이하, 간단히 본 발명의 세정제 조성물이라고 함) 및 세정 방법은 세정 공정에서 내거품성이 우수하므로, 세정 후의 배수 설비 등에 대한 내거품성도 우수하다.

<세정 대상>

본 발명의 세정 대상이 되는 경질 표면이란, 피세정물인 정밀 부품, 지그·공구류, 금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질 부재의 표면을 말한다.

본 발명에 있어서 정밀 부품이란, 예를 들면 전자 부품, 금속 부품, 전기 부품, 수지 가공 부품, 광학 부품 등을 말한다. 전자 부품으로서는 예를 들면, 액정 패널, 반도체 패키지, 프린트 배선 기판, IC 리드, 실리콘이나 세라믹 웨이퍼 등의 반도체 재료, 수정 진동자 등을 들 수 있다. 금속 부품으로서는 예를 들면, 정밀 구동 기기에 이용되는 베어링, 전자 포트나 전자 보온 용기(electronic jar)의 딥 드로잉 용기나 캔 등의 소성 가공품 등을 들 수 있다. 전기 부품으로서는 예를 들면, 브러시, 로터, 하우징 등의 전동기 부품 등을 들 수 있다. 수지 가공품으로서는 예를 들면, 카메라, 자동차 등에 이용되는 정밀 수지 가공 부품 등을 들 수 있다. 광학 부품으로서는 예를 들면, 카메라, 안경, 광학기기에 이용되는 렌즈 등을 들 수 있다.

본 발명에 있어서 지그·공구류란 상기 정밀 부품의 제조, 가공, 조립, 마무리 등의 각종 공정에서 사용되는 지그, 공구, 정밀 부품을 취급하는 각종 기기, 그 부품 등을 말한다.

<제거 대상>

본 발명의 세정제 조성물의 주된 제거 대상은, 상기 경질 표면상에 부착하는 액정, 기름 성분, 플럭스(납땜시에 생기는 잔사(殘渣)) 등의 각종 오염이다. 본 발명의 세정제 조성물은, 특히 유성 오염, 실리콘오일, 구체적으로는 액정 패널의 갭에 존재하는 액정 오염, 반도체 패키지 또는 프린트 배선 기판에 잔존한 플럭스, 실리콘 잉곳(silicon ingot) 절삭 후에 표면에 부착된 가공유, 애벌 세정에서 사용되는 등유, 금속 부품의 소성 가공시에 표면에 부착된 가공유에 대하여 높은 세정성을 발휘한다. 나아가, 이들의 제거 대상에 더해, 금속분말, 무기물분말, 수분 등이 혼입한 오염에 대해서도 높은 세정성을 발휘한다.

<글리세릴에테르>

본 발명에 이용되는 성분(A)의 글리세릴에테르로는 높은 세정성과 사용 온도 범위에서의 세정제 조성물의 균일성의 관점에서, 탄소수 4∼12의 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 알킬기 또는 알케닐기를 가지는 것을 들 수 있고, 예를 들면 n-부틸기, 이소부틸기, n-헥실기, 이소헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, n-노닐기, n-데실기 등의 탄소수 4∼12의 알킬기를 가지는 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소수 5∼10의 알킬기, 나아가서는 탄소수 5∼8의 알킬기를 분자 중에 1개 또는 2개 가지는 것이 바람직하고, 상기 알킬기를 1개 가지는 것이 보다 바람직하다. 또한 본 발명에 이용하는 글리세릴에테르로는 글리세릴기가 2개 이상, 바람직하게는 2∼3개의 글리세릴기가 에테르 결합으로 연결된 모노알킬디글리세릴에테르 또는 모노알킬폴리글리세릴에테르라도 좋고, 높은 세정성을 얻는 관점에서, 모노알킬글리세릴에테르, 모노알킬디글리세릴에테르가 바람직하다. 그 중에서도, 2-에틸헥실글리세릴에테르 및 헥실글리세릴에테르가 보다 바람직하다. 이들 글리세릴에테르를 성분(A)으로 해서 단독으로 또는 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다. 본 발명에서는 이러한 글리세릴에테르를 사용함으로써 탄화수소와 비이온 계면 활성제와 물의 조합에 있어서, 세정제 조성물 중의 각 성분의 분산을 안정화시킬 수 있기 때문에, 오염이 심한 유성 및 액정의 오염에 대하여 우수한 세정성이 얻어진다는 이점이 있다.

본 발명의 세정제 조성물에 있어서 글리세릴에테르의 함유량은, 세정제 조성물 중의 탄화수소와 물과 비이온 계면 활성제의 분산을 안정화시키고, 높은 세정성, 헹굼성 및 세정제 조성물의 균일성의 관점에서 0.25∼15.0중량%이며, 0.25∼13.0중량%가 바람직하고, 0.25∼10.0중량%가 더욱 바람직하다.

<비이온 계면 활성제>

본 발명에 이용되는 성분(B)의 비이온 계면 활성제의 HLB는 12.0∼18.0이며, 세정성, 반복 세정성, 헹굼성 및 내거품성의 관점에서, 12.0∼16.0이 바람직하고, 12.0∼14.0이 보다 바람직하다. 본 명세서에 있어서, 별도로 규정이 없는 한, 비이온 계면 활성제의 HLB는 그리핀법에 의해 산출되는 값이다.

비이온 계면 활성제로서는, 하기의 일반식(1)

R-Ⅹ-(EO)_m(PO)_n-H (1)

〔식 중, R은 탄소수 8∼20의 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 알킬기 또는 탄소수 6∼20의 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 알킬기로 치환되어 있는 페닐기를 나타내고, EO는 옥시에틸렌기, PO는 옥시프로필렌기이며, m은 EO의 평균 부가 몰수를 나타내며 m≥1이고, n은 PO의 평균 부가 몰수를 나타내며 n≥0이고, m>n이며, EO와 PO는 이 순서대로 또는 랜덤하게 배열되어 있다. X는 O 또는 COO이다.〕으로 표시되는 비이온 계면 활성제가 이용된다.

R에 있어서 알킬기의 탄소수는 세정제 조성물의 균일성의 관점에서 8∼18이 바람직하고, 8∼12가 보다 바람직하고, 8∼10이 더욱 바람직하다. m의 값으로는 세정제 조성물의 균일성의 관점에서 4∼18이 바람직하고, 4∼16이 보다 바람직하고, 4∼12가 더욱 바람직하다. n의 값은 동일한 관점에서 0∼8이 바람직하고, 0∼6이 보다 바람직하고, 0∼5가 더욱 바람직하다.

또한, 헹굼성의 관점에서 본 발명에 있어서 비이온 계면 활성제의 분자량분포는 넓은 것이 바람직하다. X는 O 또는 COO이지만, 세정성, 반복 세정성, 헹굼성 및 내거품성의 관점에서, O가 바람직하다.

보다 구체적으로는, 일반식(1)에 있어서 Ⅹ=O이고 n=0인 것으로 폴리옥시에틸렌알킬에테르 및 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르를 들 수 있고, Ⅹ=O이고 n>0인 것으로 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌알킬에테르 및 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌알킬페닐에테르를 들 수 있다.

또한, Ⅹ=COO이고 n=0인 것으로 폴리옥시에틸렌알킬에스테르를 들 수 있고, Ⅹ=COO이고 n>0인 것으로 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌알킬에스테르를 들 수 있다.

이러한 구조와 HLB를 만족하는 폴리옥시에틸렌알킬에테르 및 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌알킬에테르의 구체예로는 폴리옥시알킬렌 2-에틸헥실에테르, 폴리옥시알킬렌데실에테르, 폴리옥시알킬렌라우릴에테르, sec알코올에톡실레이트, sec알코올알콕실레이트 등을 들 수 있고, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르의 구체예로는 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르 등을 들 수 있고, 폴리옥시에틸렌알킬에스테르의 구체예로는 폴리에틸렌글리콜모노라우레이트, 폴리에틸렌글리콜올레에이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 내거품성의 관점에서 폴리옥시알킬렌 2-에틸헥실에테르가 보다 바람직하고, 폴리옥시에틸렌 2-에틸헥실에테르를 더욱 바람직한 비이온 계면 활성제로서 들 수 있다. 이들 비이온 계면 활성제를 성분(B)으로서 단독으로 또는 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다. 본 발명에서는 이러한 폴리옥시알킬렌알킬에테르를 이용함으로써 높은 내거품성이 얻어진다는 이점이 있다.

본 발명의 세정제 조성물에 있어서 비이온 계면 활성제의 함유량은 1.0∼60.0중량%이며, 세정성, 반복 세정성, 헹굼성 및 내거품성의 관점에서, 1.0∼50.0중량%가 바람직하고, 1.0∼40.0중량%가 보다 바람직하고, 1.0∼30.0중량%가 더욱 바람직하다.

본 발명의 세정제 조성물에 있어서, 비이온 계면 활성제의 성분(B)과 글리세릴에테르의 성분(A)의 중량비(성분(B)/성분(A))는 4/1∼8/1이다. 상기 중량비를 이와 같이 특정함으로써, 세정제 조성물 중에서 탄화수소와 비이온 계면 활성과 글리세릴에테르가 배향해서, 오염 용해성과 높은 세정성과 헹굼성을 유지하면서 내거품성을 개선할 수 있는 것으로 생각된다. 검토 결과, 상기 중량비는 4/1∼7/1이 바람직하다.

<탄화수소>

본 발명의 세정제 조성물은 세정성, 특히 유용성(油溶性)의 오염을 용해하는 관점에서 탄소수 9∼14의 탄화수소를 함유한다. 본 발명에 이용되는 성분(C)의 탄화수소로는 올레핀계 탄화수소 및/또는 파라핀계 탄화수소가 바람직하다. 올레핀계 탄화수소 및 파라핀계 탄화수소로는 탄소수 10∼14의 화합물이 바람직하다. 예를 들면, 데칸, 도데칸, 테트라데칸, 데센, 도데센, 테트라데센 등의 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 포화 또는 불포화의 탄화수소; 시클로데칸, 시클로도데센 등의 시클로 화합물 등의 지환식 탄화수소 등을 들 수 있다. 이들 중, 세정성 및 안전성의 관점에서, 탄소수 10∼14의 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 포화 또는 불포화의 탄화수소가 바람직하고, 탄소수 10∼14의 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 불포화의 탄화수소가 더욱 바람직하고, 탄소수 12의 α 올레핀 탄화수소가 더욱 바람직하다. 이들 탄화수소를 성분(C)으로서 단독으로 또는 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.

본 발명의 세정제 조성물에 있어서 탄화수소의 함유량은 높은 세정성, 특히 기름 오염을 용해시키는 관점에서 높은 것이 바람직하지만, 탄화수소와 물의 분산을 안정시키고, 높은 세정성, 헹굼성 및 반복 세정성을 양립시키는 관점에서 1.0∼10.0중량%이고, 1.0∼8.0중량%가 바람직하고, 1.0∼6.0중량%가 더욱 바람직하다.

<글리콜에테르>

본 발명의 세정제 조성물은 조성물의 점도를 낮추고, 세정제 조성물의 균일성을 얻는 관점에서 글리콜에테르를 함유한다. 본 발명에 이용되는 성분(D)의 글리콜에테르로서는 에틸렌글리콜모노알킬(탄소수 1∼6)에테르; 디에틸렌글리콜모노알킬(탄소수 1∼6)에테르; 트리에틸렌글리콜모노알킬(탄소수 1∼6)에테르; 벤질글리콜, 벤질디글리콜, 페닐글리콜, 프로필렌글리콜 또는 디프로필렌글리콜의 모노알킬(탄소수 1∼6)에테르; 디알킬글리콜(탄소수 2∼12)의 모노알킬(탄소수 1∼6)에테르 등을 들 수 있고, 그 중에서도 세정제 조성물의 균일성을 얻는 관점에서 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 및 디에틸렌글리콜디부틸에테르가 바람직하다.

또한, 본 발명의 세정제 조성물을 이용해서 세정할 경우, 헹굼 공정에서는 환경 부하 저감의 관점에서 유수(油水) 분리법이 바람직하고, 이러한 유수 분리법을 행하는 관점에서는 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르 및 디에틸렌글리콜디부틸에테르가 보다 바람직하다. 이들 글리콜에테르를 성분(D)으로서 단독으로 또는 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.

본 발명의 세정제 조성물에 있어서 글리콜에테르의 함유량은, 세정제 조성물의 담점(cloud point)을 30℃ 이상으로 함으로써, 고온에서의 세정을 가능하게 하며, 또한 유수 분리법에도 적용 가능하게 하는 관점에서, 1.0∼20.0중량%이며, 1.0∼15.0중량%가 바람직하고, 1.0∼10.0중량%가 보다 바람직하다.

<적절한 조합>

또한 본 발명에 있어서, 글리세릴에테르, 비이온 계면 활성제, 탄화수소 및 글리콜에테르의 바람직한 조합으로는 비이온 계면 활성제가 그 HLB가 12.0∼18.0이면서 일반식(1)의 R의 알킬기의 탄소수가 8∼10인 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 알킬기인 것이고, 글리세릴에테르가 2-에틸헥실글리세릴에테르 및/또는 헥실글리세릴에테르이고, 탄화수소가 탄소수 12의 α올레핀이고, 글리콜에테르가 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르 및 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르에서 선택되는 적어도 1종인 조합을 들 수 있다.

<물>

본 발명에 이용되는 성분(E)의 물로서는, 특별히 한정은 없고, 이온 교환수, 순수(純水) 등을 들 수 있고, 정밀 부품 세정 용도에는 순수가 바람직하고, 지그·공구류, 금속, 유리, 도자기 또는 플라스틱 세정 용도에는 이온 교환수가 바람직하고, 순수가 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서, 25℃에서의 전기 전도율은 이온 교환수에서 2μS/cm 이하이고, 순수에서 1μS/cm 이하를 나타내는 것이다. 물의 함 유량은 본 발명의 조성물의 사용 형태에 맞춰서 적절히 설정하면 된다.

예를 들면, 본 발명의 조성물을 경질 표면의 세정에 이용할 경우, 물의 함유량은 세정제 조성물이 인화하지 않도록 하는 관점 및 경제성의 관점에서, 세정제 조성물의 5∼90중량%가 바람직하고, 30∼90중량%가 보다 바람직하고, 40∼90중량%가 더욱 바람직하고, 50∼90중량%가 보다 바람직하다.

<경질 표면용 세정제 조성물>

본 발명의 세정제 조성물은 상기의 구성을 가지는 것이다. 경질 표면용 세정제 조성물의 pH로서는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면 25℃에 있어서, 4∼10의 범위가 바람직하고, 6∼9의 범위가 보다 바람직하고, 6∼8의 범위가 더욱 바람직하다. 금속의 부식 방지의 관점에서 상기 pH는 4 이상인 것이 바람직하고, 예를 들면 알루미늄과 같은 양성 금속의 부식 방지의 관점에서 상기 pH는 10 이하인 것이 바람직하다.

pH는, 예를 들면, 약산성 염류, 약염기성 염류, 보다 구체적으로는 탄산염, 질산염, 유기 아민 등에 의해 조정할 수 있다.

<조제 방법>

이상의 구성을 가지는 본 발명의 세정제 조성물은 상기 성분 및 기타 성분 등을 상법에 의해 혼합함으로써 제조할 수 있다. 예를 들면, 상기 비이온 계면 활성제, 상기 글리세릴에테르, 상기 탄화수소, 상기 글리콜에테르 및 상기 물을 교반하면서 혼합하고, 또한 필요에 따라서 기타 성분을 혼합해서 제조할 수 있다.

<용도>

본 발명의 세정제 조성물은 정밀 부품, 지그·공구류, 금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질 부재의 표면의 세정에 적용할 수 있다. 또한, 본 발명의 세정제 조성물은 저온에서의 금속, 유리, 도자기, 플라스틱 등의 경질 부재의 표면의 세정에도 적절하게 적용할 수 있다. 특히, 본 발명의 세정제 조성물은 세정성, 헹굼성 및 내거품성이 우수하기 때문에, 액정 등에 이용되는 유리 표면의 세정에 적절하게 이용할 수 있다. 또한, 제철소 등에서의 강판의 연속 세정, 즉 침지 세정, 스프레이 세정, 브러시 세정, 전해 세정 등, 제철소 등에서의 동판(銅板)의 연속 세정, 즉, 침지 세정, 샤워 세정, 침지 초음파 세정 등에서 그 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 본 발명의 세정제 조성물은 헹굼액의 배수 부하를 저감하는 유수 분리법에 의한 세정에도 적용할 수 있다. 이상과 같은 세정에 본 발명의 세정제 조성물을 적용함으로써, 세정 시간의 단축, 에너지 절약 등의 효과가 발휘된다. 따라서, 본 발명은 또한 상기 경질 표면용 세정제 조성물을 이용하는 경질 표면의 세정 방법에 관한 것이다.

<반복 세정성>

예를 들면 액정 패널 등의 공업용 세정 공정은 일반적으로, 제1공정(세정), 제2공정(애벌 헹굼), 및 제3공정(마무리 헹굼)의 순으로 실시된다. 이러한 세정 공정에서는, 제1공정의 세정조(槽)에서는 세정제 조성물을 순환시켜서 세정제 조성물을 반복해서 사용하는 경우가 있다. 이 때문에, 각 공정의 조에는 순환 탱크가 병설되고, 세정제 조성물에는 같은 액을 복수회 장기에 걸쳐, 예를 들면 1∼6개월간 반복해서 사용해도 그 세정성을 확보할 수 있다고 하는 높은 반복 세정성이 요구된다. 본 발명의 세정제 조성물은 이러한 반복 세정성이 높다고 하는 우수한 성질을 가진다.

<유수 분리법>

상기의 세정 공정에서, 예를 들면 제2공정(애벌 헹굼)의 순환용 탱크 내의 액체 온도를 순환용 탱크 내의 액의 담점 이상으로 올리면, 오염과 유성물이 헹굼액에서 분리(부상)된다. 이어서, 상층의 오염과 기름 성분을 배출하고, 하층에 남은 액을 제2공정(애벌 헹굼)의 애벌 헹굼조에 환류시켜서 헹굼액으로서 사용할 수 있다. 이 방법을 유수 분리법이라고 하고, 일본국 특허공보 제2539284호에 기재된 방법을 적절하게 이용할 수 있다. 이러한 방법을 이용함으로써, 배수 부하를 저감할 수 있다. 본 발명의 세정제 조성물을 이러한 유수 분리법에 적용할 수 있다.

<세정 방법>

본 발명의 경질 표면의 세정 방법은 상기 경질 표면용 세정제 조성물을 이용해서, 경질 표면에 부착한 액정 오염을 제거해서 경질 표면을 세정하는 공정(이하, 간단히 세정 공정이라고 할 경우가 있음)을 포함한다. 또한 경질 표면에 잔존하고 있는, 세정제 조성물의 성분에 가용화한 오염 및/또는 세정제 조성물의 성분을 씻어 버리기 위한 헹굼 공정, 및 세정 대상물을 건조시키기 위한 건조 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 본 발명의 세정제 조성물은 경질 표면의 액정 오염에 대하여 바람직하게 적용할 수 있으므로, 본 발명의 경질 표면의 세정 방법도 경질 표면의 액정 오염에 대하여 바람직하게 적용할 수 있다.

세정 공정에서는, 본 발명의 세정제 조성물을 세정액으로 이용한다. 세정제 조성물의 제작 방법은 소정의 농도가 되도록 각 성분을 한번에 혼합해도 좋고, 미리 소정 농도 이상의 액을 혼합해서 소정 농도가 되도록 물로 희석해도 좋다. 세정 공정에 있어서 세정제 조성물의 온도는, 높은 세정성과 헹굼성의 관점에서 바람직하게는 25℃ 이상, 보다 바람직하게는 40℃ 이상이고, 또한 수분의 증발을 억제하는 관점에서, 90℃ 이하가 바람직하고, 80℃ 이하가 보다 바람직하다.

세정 공정에서의 세정 시간은 세정되는 경질 부재의 종류 및 부착되어 있는 오염의 양 및 종류에 따라서도 다르므로 일률적으로는 말할 수 없지만, 바람직하게는 3∼30분간의 세정 시간으로 함으로써 경질 표면에서 오염이 충분히 제거된다.

세정 공정에서의 세정 수단으로는 침지법, 초음파 세정법, 침지요동법, 스프레이법, 손으로 닦기법의 각종 공지의 세정 수단을 들 수 있지만, 세정성의 관점에서 초음파 세정법이 바람직하다. 경질 부재의 종류에 맞춰, 이러한 수단들을 단독으로 또는 적절히 조합해서 경질 표면을 세정할 수 있다.

헹굼 공정은, 세정 공정이 종료된 후 경질 표면에 잔존하고 있는 세정제 조성물에 가용화한 오염 및/또는 세정제 조성물의 성분을 경질 표면에서 제거하기 위해 실시된다. 건조 공정은, 헹굼 공정이 종료된 후 경질 표면에 잔존하고 있는 수분을 제거하기 위해 실시된다.

헹굼 공정에서의 헹굼 수단으로는 침지법, 초음파 세정법, 침지요동법, 스프레이법의 각종 공지의 헹굼 수단으로서의 세정 수단을 들 수 있지만, 세정성의 관점에서 초음파 세정법이 바람직하다. 또한, 건조 공정에서의 건조 수단으로는 예를 들면 80℃∼120℃의 오븐에 3분에서 10분 가열해서 수분을 날리는 방법을 들 수 있다.

본 발명의 경질 표면용 세정제 조성물은 안전성이 높고, 세정제 조성물이 균일하며, 경질 표면상의 각종 오염의 세정성, 반복 세정성 및 헹굼성이 우수하며, 세정시와 헹굼시에 내거품성이 좋다는 우수한 효과를 발휘하고, 본 발명의 세정 방법은 좁은 갭에서 각종 오염의 세정성, 반복 세정성 및 헹굼성이 우수하고, 세정시와 헹굼시에 내거품성이 좋다는 우수한 효과를 발휘한다.

<실시예>

이하, 본 발명의 형태를 실시예에 의해 더 기재하여 개시한다. 이 실시예는 단순한 본 발명의 예시이며, 어떠한 한정을 의미하는 것은 아니다.

(실시예 및 비교예)

<세정제 조성물의 조제>

표 1에 나타내는 성분을 이용해서 세정제 조성물을 조제했다. 표 2 및 표 3(실시예 1∼14, 비교예 1∼13)에 나타나는 함유량이 되도록 각 성분을 칭량해서 하기 조건으로 혼합해서 세정제 조성물을 조제했다. 또한, 실시예 등에서 각 조성물의 pH는 25℃에서의 값이다.

·액 온도: 25℃

·교반기: 마그네틱 교반기(magnetic stirrer)(50mm 회전자)

·회전수: 200rpm

·교반 시간: 10분

또한, 표 1∼3의 각 성분의 상세는 다음과 같다.

·A-1: (카오사 제조: 페네톨(penetall) GE-EH; 2-에틸헥실글리세릴에테르)

·B-1: (아오키유시사 제조: 블라우논(blaunon) EH-6; EO 평균 부가 몰수=6; HLB=13.4)

·B-2: (아오키유시사 제조: 파인서프(finesurf) D-1307; EO 평균 부가 몰수=7; HLB=13.2)

·B-3: (닛폰쇼쿠바이사 제조: 소프탄올(softanol) 90: EO 평균 부가 몰수=9; HLB=13.3)

·B-4: (카오사 제조: EO 평균 부가 몰수=10; PO 평균 부가 몰수=2; HLB=13.9)

·B-5: (카오사 제조: 에마논 1112; EO 평균 부가 몰수=12; HLB=13.7)

·B-6: (아오키유시사 제조: 블라우논 EH-4; EO 평균 부가 몰수=4; HLB=11.5)

·B-7: (카오사 제조: 에마르겐 840S; EO 평균 부가 몰수=40; HLB=17.9)

·B-8: (카오사 제조: 에마르겐 985; EO 평균 부가 몰수=75; HLB=18.9)

·C-1: 1-도데센(이데미츠코산사 제조: 리니아렌 12)

·D-1: (니혼뉴가자이사 제조: 디에틸렌글리콜모노부틸에테르; EO 부가 몰수=2)

·D-2: (니혼뉴가자이사 제조: 디에틸렌글리콜모노헥실에테르; EO 부가 몰수=2)

·D-3: (니혼뉴가자이사 제조: 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르; EO 부가 몰수=3)

·AG: (카오사 제조: 알킬글루코시드(R¹-G_y); R¹=평균 탄소수 11.3의 직쇄 알킬기, G=글루코스기, y=1.43)

·AES: (카오사 제조: 에마르 20; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르 황산 나트륨)

<액정 셀 표면의 세정성>

1. 시험 기판의 제작

액정 셀(3.5인치 TFT 패널, 갭간 거리 5μm)의 갭 내에 TFT(박막 트랜지스터) 액정을 0.4mg 봉입하고, 40℃에서 60분간 방치한 것을 시험 기판으로 했다.

2. 세정 시험

상기와 같이 해서 조제된 세정제 조성물 1L을 40℃로 가온(加溫)하고, 그 안에 상기 시험 기판을 한 장 넣어서 3분간 초음파 세정(38kHz, 600W)했다. 그 후, 4조의 각 순수조(40℃)에서 4분간 헹군 후, 90℃의 열풍 건조기로 30분간 건조하여 관찰 샘플로 했다.

〔세정성〕

관찰 샘플에 대해서, 다음 2항목을 관찰했다. 즉, 갭 내에 잔류하고 있는 TFT 액정, 및 헹굼시에 충분히 배출되지 않은 TFT 액정과 세정제 조성물과의 혼합물을 편광현미경(배율 25배)으로 관찰한 사진을 화상 해석함으로써, 액정 셀 표면의 세정성을 평가했다. 구체적으로는 현미경 관찰로 얻어진 사진을 2값화(디지털화)하고, “화상 해석 소프트 WinROOF(미타니쇼우지사 제조)”를 이용해서 화상 해석을 행하고, 전체 화상 면적으로부터 잔류 TFT 액정 및 헹굼시에 충분히 배출되지 않은 TFT 액정과 세정제 조성물의 혼합물이 잔류하고 있는 전체 면적을 뺀 면적(세정된 면적)을 전체 화상 면적으로 나눈 값(세정률)을 산출하고, 이하의 평가 기준에 따라서 세정성을 평가했다. 수치가 높을수록 세정성이 우수한 것을 나타낸다.

〔평가 기준〕

A: 90% 이상

B: 80∼90% 미만

C: 40∼80% 미만

D: 40% 미만

<반복 세정 시험>

세정제 조성물의 반복 세정성을 평가하기 위해서, 액정 포화 용해 농도를 조사하였다. 조제된 세정제 조성물 20g을 40℃로 가온(加溫)해, 그 안에 TFT 액정을 0.02g 첨가하고, 3분간 40℃로 유지했다. 그 후, 세정제 조성물을 육안으로 확인하고, 투명하면 TFT 액정이 용해된 것으로 판단하고, 세정제 조성물이 백탁할 때까지 같은 조작을 반복했다. 세정제 조성물이 처음으로 백탁한 액정량에서 0.01g을 뺀 양으로부터 포화 용해 농도를 산출하고, 액정 포화 용해 농도로 정의했다.

예를 들면, TFT 액정을 0.24g 첨가했을 때에 처음으로 백탁했다고 가정하면, 액정 포화 용해 농도는 (0.24-0.01)/(20+0.24-0.01)×100으로 산출된다. 이러한 액정 포화 용해 농도를 이용해서 하기 평가 기준에 따라서 반복 세정성을 평가했다. 그 결과를 표 2 및 표 3에 나타낸다. 포화 용해 농도의 수치가 높을수록, 그 세정제 조성물의 세정성이 우수한 것을 나타낸다.

〔평가 기준〕

A: 2% 이상

B: 1% 이상∼2% 미만

C: 0.5% 이상∼1% 미만

D: 0.5% 미만

<헹굼 시험>

〔헹굼성 평가〕

<1>각 세정제 조성물의 10중량% 수용액(500g)을 60℃로 가온하고, 그 안에 상기 시험 기판을 5장, 10분간 침지했다.

<2>그 후, 20초에 걸쳐 패널을 천천히 끌어 올리고, 40℃의 순수 500g을 넣은 제1헹굼조에 2분간 침지했다.

<3>제1헹굼조에서 <2>와 같이 패널을 끌어 올리고, 40℃의 순수 500g을 넣은 제2헹굼조에 2분간 침지했다.

<4>제2헹굼조에서 <2>와 같이 패널을 끌어 올리고, 40℃의 순수 500g을 넣은 추출조(초음파조)에 침지했다. 이어서, 초음파(38KHz, 400W)로 10분간 패널을 처리하고, 패널 표면에 잔존한 세정제 조성물의 성분에 가용화한 액정 및/또는 세정제 조성물의 성분을 추출했다.

<5>다음으로 각 헹굼조(제1 및 제2) 중의 헹굼물, 및 추출조 중의 추출수의 유기물 농도를 TOC(전체 유기탄소계)에 의해 측정하고, 하기 식에 따라 제1헹굼조에서의 유분 제거율을 산출했다.

식: 제1헹굼조에서의 유분 제거율(%)=(제1헹굼조 중의 헹굼물의 유기물 중량)/(제1헹굼조 중의 헹굼물의 유기물 중량+제2헹굼조 중의 헹굼물의 유기물 중량+추출조 중의 추출수의 유기물 중량)×100

<6> <5>에서 산출한 유분 제거율을 바탕으로, 이하의 평가 기준에 따라서 헹굼성을 평가했다. 그 결과를 표 2 및 표 3에 나타낸다. 유분 제거율의 수치가 높을수록 헹굼성이 우수한 것을 나타낸다.

〔평가 기준〕

A: 90% 이상

B: 70% 이상∼90% 미만

C: 50% 이상∼70% 미만

D: 50% 미만

<내거품성 시험>

·(원액) 100mL의 유리 용기에 조제된 세정제 조성물을 30mL 충전하고, 액체 온도를 40℃로 유지했다. 그 후, 유리 용기를 손으로 20회(30cm 폭, 1왕복/초) 흔들어서 방치하고, 방치 직후의 세정제 조성물과 거품 체적을 합한 체적을 초기 거품 체적으로 했다. 이어서, 그 유리 용기를 40℃에서 3분간 방치한 후의 세정제 조성물과 거품 체적을 합한 체적을 3분 방치 후의 거품 체적으로 했다. 거품 체적의 값이 작을수록 내거품성이 우수한 것을 나타낸다. 또한, 3분 방치 후의 거품 체적의 값이 작을수록, 파포성(破泡性)이 우수한 것을 나타낸다. 여기서 파포성이란 형성된 거품이 소실되는 정도를 말하고, 내거품성의 지표 중 하나이다.

배수 설비에서의 내거품성을 상정하고, 희석액에서의 내거품성을 평가했다.

·(희석액) 500mL의 메스실린더에, 유기물 농도를 200ppm으로 조정한 세정제 조성물의 희석액을 50mL 투입하고, 액체 온도를 40℃로 유지했다. 그 상태로 거품 체적이 일정해질 때까지 희석액 중에 공기를 주입하였다. 그 시점에서의 세정제 조성물의 희석액과 거품 체적을 합한 체적을 포화 거품 체적으로 했다. 또한, 그 후, 공기 주입을 정지하고, 40℃에서 3분간 유지한 후의 세정제 희석액과 거품 체적을 합한 체적을 3분 방치 후의 거품 체적으로 했다. 희석액의 유기물 농도는 TOC(전체 유기탄소계)로 측정해서 조정했다. 공기 주입량은 1000mL/min으로 하고, 공기 주입관은 글래스폴필터 503G(기노시타리카고교사 제조)를 사용했다. 거품 체적의 값이 작을수록 내거품성이 우수한 것을 나타낸다. 또한, 3분 방치 후의 거품 체적의 값이 작을수록 파포성이 우수한 것을 나타낸다.

〔평가 기준〕

각각의 내거품성은 이하의 지표로 판정했다.

원액(초기 거품 체적과 3분 방치 후의 거품 체적)

A: 40mL 미만

B: 40 이상∼50mL 미만

C: 50 이상∼60mL 미만

D: 60mL 이상

희석액(포화 거품 체적과 3분 방치 후의 거품 체적)

A: 150mL 미만

B: 150 이상∼250mL 미만

C: 250 이상∼350mL 미만

D: 350mL 이상

<유수 분리성>

유수 분리성 시험

실시예 9 및 10에서 조제된 각 세정제 조성물에 대해서, 물 이외의 성분의 합계가 5중량%가 되도록 이온 교환수로 희석했다. 이 희석액을 직경 40mm, 높이 120mm, 용량 100mL의 유리병에 넣어서 60℃의 분위기하에서 1시간 보온 방치했다. 그 후, 각 희석액을 관찰했다(상태 1). 상기 희석액이 상하 2층으로 분층(分層)되어 있을 경우는 10초간 유리병을 상하로 격렬하게 진동시켰다. 그 후, 다시 분층될 때까지의 시간을 측정했다(상태 2). 상기 희석액을 진동시켜서 또한 상태 2를 관찰했다. 상기 관찰 결과를 표 4에 나타내는 평가 기준에 따라서 평가했다. 상하 2층으로 분리되는 시간이 짧을수록 유수 분리성이 우수한 것을 나타낸다.

상기의 실험에서 다음의 사항을 알 수 있었다.

·세정성, 반복 세정성 및 헹굼성

비교예 9의 세정제 조성물의 알킬글루코시드 및 비교예 10의 세정제 조성물의 음이온 계면 활성제 대신에 B-1∼B-5 및 B-7로 나타내는 비이온 계면 활성제를 이용했을 경우, 얻어진 세정제 조성물의 세정성, 반복 세정성 및 헹굼성 모두 우수한 것을 알 수 있었다(실시예 1∼14). 한편 성분(B)이 본 발명의 범위 내이더라도 성분(A)이 본 발명의 범위 외인 세정제 조성물(비교예 1 및 비교예 8)에서는 헹굼성이 떨어지는 것을 알 수 있었다. 나아가, 성분(B)과 성분(A)의 중량비가 본 발명의 범위 외인 세정제 조성물(비교예 2, 비교예 4, 비교예 5 및 비교예 7)도 헹굼성이 떨어져, 세정제 조성물로서 사용할 수 없음을 알 수 있었다. 나아가, 성분(B)의 HLB가 본 발명의 범위 외인 세정제 조성물(비교예 3) 및 성분(C)의 함유량이 본 발명의 범위 외인 세정제 조성물(비교예 6)도 헹굼성이 떨어져 세정제 조성물로서 사용할 수 없음을 알 수 있었다. 나아가, 성분(B)의 양이 본 발명의 범위 외인 세정제 조성물(비교예 11 및 비교예 12)에서도 세정성, 헹굼성이 크게 저하하는 것을 알 수 있었다. 또한, 비교예 13의 결과로부터 비이온 계면 활성제의 HLB의 값이 본 발명의 범위를 넘으면, 비이온 계면 활성제가 고체가 되기 때문에 세정제 조성물을 균일하게 할 수 없었다.

·내거품성

알킬글루코시드 및 음이온 계면 활성제를 이용해서 얻어진 세정제 조성물(비교예 9 및 비교예 10)은 원액 및 희석액 모두 내거품성이 떨어지는 것이었다. 한편 실시예의 세정제 조성물은 모두 내거품성이 우수한 것이었다.

이렇게 세정제 조성물을 본 발명의 범위로 함으로써, 세정성, 헹굼성 및 내거품성의 모든 물성을 만족시킬 수 있었다.

·유수 분리성

본 발명품(실시예 9 및 실시예 10)을 이용해서 유수 분리성을 시험한 바, 본 발명품은 유수 분리성이 우수한 세정제 조성물임을 알 수 있었다. 따라서, 본 발명의 세정제 조성물을 상기 유수 분리법에 적절하게 적용할 수 있음을 알 수 있었다.

본 발명의 세정제 조성물은 정밀 부품 등의 경질 부재의 표면에 존재하는 오염 성분의 제거와 같은 각종 공업용도에 적절하게 사용할 수 있다.

이상에 서술한 본 발명은 분명히 동일성의 범위인 것이 다수 존재한다. 이러한 다양성은 발명의 의도 및 범위에서 이탈한 것으로 간주되지 않고, 당업자에게 자명한 그와 같은 모든 변경은 이하의 청구의 범위의 기술 범위 내에 포함된다.

Claims (2)

1. 다음 성분(A)∼(E):

   (A)글리세릴에테르를 세정제 조성물 전체 중량에 대하여 0.25∼15.0중량%,

   (B)HLB가 12.0∼18.0인 비이온 계면 활성제를 세정제 조성물 전체 중량에 대하여 1.0∼60.0중량%,

   (C)탄소수 9∼14의 탄화수소를 세정제 조성물 전체 중량에 대하여 1.0∼10.0중량%,

   (D)글리콜에테르를 세정제 조성물 전체 중량에 대하여 1.0∼20.0중량%, 및

   (E)물을 함유해서 이루어지며,

   또한 상기 성분(B)의 비이온 계면 활성제가 하기 일반식(1)

   R-Ⅹ-(EO)_m(PO)_n-H (1)

   〔상기 일반식(1)에 있어서, R은 탄소수 8∼20의 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 알킬기, 또는 탄소수 6∼20의 직쇄 또는 분기쇄를 가지는 알킬기로 치환되어 있는 페닐기를 나타내고, EO는 옥시에틸렌기, PO는 옥시프로필렌기이고, m은 EO의 평균 부가 몰수를 나타내며 m≥1이고, n은 PO의 평균 부가 몰수를 나타내며 n≥0이고, m>n이며, EO와 PO는 이 순서대로, 또는 랜덤하게 배열되어 있다. Ⅹ는 O 또는 COO이다.〕으로 표시되며,

   또한, 상기 성분(D)의 글리콜에테르는 알킬기의 탄소수가 1∼6인 에틸렌글리콜모노알킬에테르; 알킬기의 탄소수가 1∼6인 디에틸렌글리콜모노알킬에테르; 알킬기의 탄소수가 1∼6인 트리에틸렌글리콜모노알킬에테르; 벤질글리콜, 벤질디글리콜, 페닐글리콜, 프로필렌글리콜 또는 디프로필렌글리콜로서, 알킬기의 탄소수가 1∼6인 모노알킬에테르; 및 알킬기의 탄소수가 2∼12인 디알킬글리콜로서, 알킬기의 탄소수가 1∼6인 모노알킬에테르;로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물이며,

   또한, 상기 성분(B)과 상기 성분(A)의 중량비(성분(B)/성분(A))가 4/1∼8/1인 세정제 조성물을 이용해서 경질 표면에 부착한 액정 오염을 제거하는 것을 특징으로 하는 경질 표면의 세정 방법.
2. 제1항에 있어서,

   상기 성분(E)의 물의 함유량이 세정제 조성물 전체 중량에 대하여 5∼90중량%인 것을 특징으로 하는 경질 표면의 세정 방법.