KR101613738B1 - 전송-모드 측정을 위한 오프-축 시트-처리 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 투명 시트의 공정에 의해 야기된 특징을 측정하기 위한 장치(2) 및 방법을 제공한다. 상기 장치는 광원(100), 이미징 장치(80), 및 상기 광원과 이니징 장치 사이에 배치된 지지 구조(30)를 포함한다. 이미징 장치에 의해 보여질 경우 투명 시트의 공정에 의해 야기된 특징이 확장하는 제2축(22, 24)에 비스듬한 제1축(46, 54)을 따라 또는 제1축에 평행하게 확장함으로써 지지 구조에 의해 야기된 측정 에러가 이미징 장치에 의해 보여지도록 상기 지지 구조가 투명 시트를 지지하도록 구성 및 배열된다.
Description
본 발명은 검사 동안 박막 시트를 처리하기 위한 지지 구조 및 방법에 관한 것으로, 특히 전송-모드 측정 동안 박막 투명시트를 처리하기 위한 지지 구조 및 방법에 관한 것이다.
최근 LCD TV의 인기와 호평으로 인해 주로 투명 기판, 예컨대 유리시트의 결함 검사에 상당한 주의가 맞추어지고 있다. 그에 따라, 그러한 산업분야에서는 엄격한 LCD 전송-모드 설계 명세서에 부응하는 기판을 전달하는 한편 당면한 증가된 볼륨의 요구에 부응해야 한다. 또한, LCD 산업분야에 사용된 투명 시트의 크기가 증가하는 반면, 그와 동시에 그 두께가 동일한 두께를 유지하거나 심지어 더 얇아지고 있다. 따라서, 검사 측정이 이루어지는 한편 그와 동시에 투명 시트를 고정유지하기 위해 사용된 구조에 의해 야기된 광 에러의 측정 정확도를 유지하도록 크면서 얇은 투명 시트를 확고하게 유지해야 한다.
전송 모드 측정은 어느 한 평면에서 그 대향 평면으로 투명 시트를 통한 광의 통과, 및 그 통과에 따라 광이 어떻게 변경되는지의 측정을 포함한다. 전송 모드 측정은 예컨대 투명 시트의 함유물, 두께 변화, 코드(cord), 스트리크(streak), 스트레스와 같이 공정에 의해 야기된 특징들을 검출하는데 사용된다.
스트레스를 측정할 경우, 예컨대 시트가 유지된 방식은 시트의 형태 및 유지 구조의 상호작용에 의해 스트레스가 야기되기 때문에 그러한 측정에 영향을 줄 수 있다. 만약 시트가 완전히 평평하면, 유지 구조에 의해 거의 평면 구성으로 유지할 때 그 형태는 변하지 않으며, 그러한 유지 구조는 스트레스 측정에 영향을 주지 않을 것이다. 그러나, 투명 시트는 완전히 평평하지 않으며, 대신 시트마다 동일하지 않은 예컨대 휨, 굽어짐, 볼록함, 또는 오목함과 같은 다소(디스플레이 분야에서 아주 작은)의 형태 변화를 포함한다. 더욱이, 그와 같은 형태 변화는 시트의 각각의 영역에서 변화의 정도가 다르다. 따라서, 투명 시트가 측정 동안 유지 구조에 의해 평평해면, 시트 형태가 변경되어 전송-모드 측정의 에러를 야기한다. 예컨대, 투명 시트는 명목상의 휴지상태에서 시트를 통한 광 투과에 영향을 주는 스트레스 분포를 포함한다. 시트가 평평해지면, 지지 구조에 따라, 시트를 평평하게 할 때 지지 구조에 의해 야기된 스트레스를 포함하도록 스트레스 분포를 변경한다. 따라서, 시트 스트레스 측정의 정확도에 영향을 준다. 가능한한 지지 구조에 의해 야기된 부정확성을 제거할 필요가 있다. 그러나, 스트레스가 지지 구조에 의해 야기되는지, 그리고 스트레스가 실질적으로 투명 시트에서 발생하는지를 항상 구별하기가 쉽지 않다.
상기의 관점에서, 크면서 얇은 투명 기판을 확고하게 유지하고, 에러를 야기한 지지 구조를 쉽게 검출하여 가능한한 제거할 수 있는 검사 방법 및 장치가 필요하다.
본 발명은 시트, 예컨대 얇은 투명한 유리 시트의 전송 모드 측정을 행하기 위한 장치 및 방법을 기술하고 있으며, 여러 특징들이 단독으로 행해지거나, 또는 정확한 측정이 이루어질 수 있도록 시트를 확고하게 유지하고, 시트에서의 관심의 특징으로부터 지지 구조에 의해 야기된 에러를 구별하고, 전체-시트 측정이 빠르게 이루어지며, 여러 시트 크기를 측정하는 것을 용이하게 하는 다른 특징들과의 다양한 조합으로 행해질 수 있다.
얇은 시트를 확고하게 유지할 수 있는 장치의 특징은 시트의 축에 대해 오프-축 방향의 지지요소; 측정될 시트의 크로스 및 다운-드로우 축에 비스듬한 방향을 따라 확장하는 지지-구조 바 또는 다른 지지부; 및 시트 상에 작용하도록 지지부에 결합된 압력/진공원을 포함하며, 불필요할 지라도 지지부의 치수는 시트의 치수보다 크다. 지지부가 시트의 주축에 비스듬한 방향으로 확장하기 때문에, 지지부는 소정 주어진 시간에, 특히 공정에 의해 야기된 관심 특징의 측정 동안 시트 에지를 따라 아주 짧은 섹션만이 지지되지 않도록 시트 에지를 크로스한다. 따라서, 그 시트는 확고하게 유지된다.
지지부에 의해 야기된 에러를 공정에 의해 야기된 관심의 특징으로부터 쉽게 구별하게 하는 장치의 특징은 공정에 의해 야기된 특징이 시트로 확장하는 비스듬한 축을 따라 에러를 측정하도록 구성 및 배열된 지지 구조; 및/또는 시트 축에 평행하고 지지 구조 축에 비스듬한 축을 따라 방향지워지는 이미징 장치의 이미지 캡쳐 유닛의 픽셀을 포함한다. 통상 공정에 의해 야기된 특징은 시트가 형성된 방향으로 확장한다. 많은 경우, 이들 특징(예컨대 두께 변화, 코드, 스트리크, 불연속성 및 시트 내의 함유물, 및 스트레스)은 투명 시트가 드로우되는 방향과 매칭되는 방향으로, 즉 다운-드로우 방향으로 나타난다. 또 다른 경우, 몇몇 특징들은 투명 시트가 드로우되는 방향에 수직인 방향으로, 즉 크로스-드로우 방향으로 나타난다. 따라서, 크로스-드로우 또는 다운-드로우 축에 비스듬한 축을 따라 측정에 의해 야기되는 에러가 확장하도록 지지 구조를 방향지우는 것은 측정되는 공정에 의해 야기된 관심의 특징으로부터 이들 에러를 구별하는 것을 용이하게 한다.
처리 속도를 이끄는 장치의 특징은 시트의 이미지가 캡쳐될 수 있는 시야영역의 치수가 블럭(block)된 또는 비-이미지가능 영역의 치수보다 크거나 같은 양으로 측정되는 시트의 대응하는 치수보다 크고, 이미지가능 영역의 크기가 비-이미지가능 영역의 크기보다 크고, 지지부가 측정장치를 통하여 시트 전송 방향과 약 25도 내지 약 65도의 각도를 형성하며, 그리고/또는 지지부의 치수가 시트의 치수보다 큰 것을 포함한다. 따라서, 시트가 이미지되고, 블럭된 또는 비-이미지가능 영역의 치수로 인덱스(index)되며, 다시 이미지될 수 있다. 이는 처리 속도를 이끄는 2개의 겹쳐진 이미지만큼 작은 전체-시트 측정을 용이하게 한다.
시트 크기에 영향받지 않게 하는 장치의 특징은 지지부가 시트의 주축에 비스듬한 방향을 따라 확장하는 것을 포함한다. 따라서, 지지부가 시트를 비스듬히 가로질러 확장됨으로써 특정 시트 크기로 간격을 둘 필요가 없기 때문에, 측정장치가 측정되는 시트의 크기에 크게 영향받지 않는다. 시트의 주축에 비스듬하게 확장하는 지지부에 의한 또 다른 방식의 경우, 지지 구조는 지지부가 시트 섹션보다 약간 작은 크기에서 시트 섹션보다 큰 크기의 범위를 가질 때조차 시트 섹션을 안정하게 유지할 수 있다.
예를 한정하지 않을 목적으로, 여러 특징들이 이하의 형태에 따라 조합될 것이다:
제1형태에 따르면, 투명 시트의 공정에 의해 야기된 특징을 측정하기 위한 장치가 제공되며, 상기 장치는:
광원;
이미징 장치; 및
상기 광원과 이미징 장치 사이에 배치된 투명-시트 지지 구조를 포함하며,
이미징 장치에 의해 보여질 경우 투명 시트의 공정에 의해 야기된 특징이 확장하는 제2축에 비스듬한 제1축을 따라 또는 제1축에 평행하게 확장함으로써 지지 구조에 의해 야기된 측정 에러가 이미징 장치에 의해 보여지도록 상기 지지 구조가 투명 시트를 지지하도록 구성 및 배열된다.
제2형태에 따르면, 제1 또는 제3 내지 제6형태 중 어느 하나의 장치가 제공되며, 공정에 의해 야기된 특징은 스트레스를 포함한다.
제3형태에 따르면, 제1형태의 장치가 제공되며, 지지 구조는 제2축에 비스듬한 축을 따라 확장하는 바를 포함한다.
제4형태에 따르면, 제3형태의 장치가 제공되며, 바는 개구를 포함하고, 지지부는 상기 개구와 소통하는 진공원을 포함한다.
제5형태에 따르면, 제3형태의 장치가 제공되며, 바 사이에 스페이스(space)가 배치되고, 바는 제2폭을 포함하며, 스페이스는 제2폭을 포함하고, 상기 제1폭은 제2폭과 같거나 작다.
제6형태에 따르면, 제1형태의 장치가 제공되며, 이미징 장치는 제2축을 따라 방향된 픽셀을 포함하고, 지지 구조는 광원으로부터의 광이 이미징 장치에 의해 보여지는 스페이스를 포함하고, 그 스페이스는 제1축에 평행한 길이축을 포함하며, 제2축은 길이축에 비스듬하다.
제7형태에 따르면, 투명 시트의 공정에 의해 야기된 특징을 측정하는 방법이 제공되며, 상기 방법은:
광원과 이미징 장치 사이에 배치된 지지 구조 상에 투명 시트를 배치하는 단계;
이미징 장치에 의해 보여질 때 투명 시트의 공정에 의해 야기된 특징이 확장되는 제2축에 비스듬한 제1축을 따라 또는 제1축에 평행하게 확장함으로써 지지 구조에 의해 야기된 측정 에러가 이미징 장치에 의해 보여지도록 투명 시트를 지지하는 단계;
투명 시트의 제1섹션의 제1이미지를 캡쳐하는 단계;
투명 시트를 이동한 후 투명 시트의 제1섹션의 제2이미지를 캡쳐하는 단계; 및
투명 시트의 제1섹션에서의 공정에 의해 야기된 특징의 이미지를 형성하기 위해 제1 및 제2이미지를 결합하는 단계를 포함한다.
제8형태에 따르면, 제7형태의 방법이 제공되며, 제1 및 제2이미지는 함께 투명 시트의 제1섹션의 전체 영역을 커버한다.
제9형태에 따르면, 제8형태의 방법이 제공되며, 투명 시트의 제2형태는 투명 시트의 전체 영역을 둘러싼다.
제10형태에 따르면, 제7형태 내지 제9형태 중 어느 하나의 방법이 제공되며, 제1 및 제2이미지를 캡쳐하는 단계 동안이 아닌 이동하는 단계 동안 투명 시트를 운송장치와 접촉시키는 단계를 더 포함한다.
제11형태에 따르면, 제7형태 내지 제9형태 중 어느 하나의 방법이 제공되며, 제1 및 제2이미지를 캡쳐하는 단계 전에 투명 시트를 평평하게 하는 단계, 및 제1 및 제2이미지를 캡쳐하는 단계 동안 평평한 조건으로 투명 시트를 유지하는 단계를 더 포함한다.
제12형태에 따르면, 제11형태의 방법이 제공되며, 평평하게 하는 단계는 지지 구조에 대해 투명 시트를 진공시키는 단계를 포함한다.
제13형태에 따르면, 제7형태의 방법이 제공되며, 결합하는 단계는 지지 구조에 의해 야기된 측정 에러를 제거하는 단계를 더 포함한다.
제14형태에 따르면, 제7형태 내지 제13형태 중 어느 하나의 방법이 제공되며, 지지 구조는 제2축에 비스듬한 축을 따라 확장하는 바를 포함하고, 바 사이에 스페이스가 배치되고, 바는 제1폭을 갖고 스페이스는 제2폭을 가지며, 제1폭이 제2폭과 같거나 작다.
제15형태에 따르면, 제14형태의 방법이 제공되며, 이미징 장치는 제3폭을 갖는 시야영역 내의 이미지를 캡쳐할 수 있고, 투명 시트는 제4폭을 포함하며, 제3폭은 제1폭과 같거나 큰 크기로 제4폭보다 크다.
제16형태에 따르면, 제15형태의 방법이 제공되며, 지지 구조는 제5폭을 포함하고, 제5폭은 제1폭과 같거나 큰 크기로 제4폭보다 크다.
제17형태에 따르면, 제14형태의 방법이 제공되며, 투명 시트는 지지 구조에 대해 전송 방향으로 이동하고, 바의 축은 전송 방향과 각도를 형성하며, 그 각도는 25 내지 65도의 범위가 된다.
제18형태에 따르면, 제7형태 내지 제17형태 중 어느 하나의 방법이 제공되며, 투명 시트는 제2축에 평행 또는 수직인 방향으로 이동한다.
제19형태에 따르면, 제7형태 내지 제18형태 중 어느 하나의 방법이 제공되며, 이미징 장치는 제3축을 따라 확장하는 픽셀을 포함하고, 제3축은 제1축에 비스듬하다.
제20형태에 따르면, 제7형태 내지 제18형태 중 어느 하나의 방법이 제공되며, 공정에 의해 야기된 특징은 스트레스를 포함한다.
본 발명의 추가적인 특징 및 장점들이 이하 상세히 설명되며, 부분적으로는 당업자들이 쉽게 인식하거나 또는 기재된 설명 및 부가된 도면에 예시된 바와 같은 발명을 실시함으로써 알 수 있을 것이다. 상기한 일반적인 설명 및 이하의 상세한 설명은 본 발명의 예시에 불과하며, 청구한 바와 같은 본 발명의 성질 및 특징을 이해시키기 위한 개관 또는 뼈대를 제공하기 위한 것이라는 것을 알 수 있을 것이다.
수반되는 도면들은 본 발명의 원리를 더 잘 이해하는데 도움을 주기 위해 제공되며, 본 명세서에 통합되거나 일부를 구성한다. 도면들은 본 발명의 원리 및 동작을 예시의 형태로 설명하기 위해 설명과 함께 하나 또는 그 이상의 실시예들을 기술한다. 본 명세서에 개시된 발명의 다양한 특징들이 어느 하나로 그리고 모든 조합에 이용될 수 있다는 것을 이해해야 한다.
상기와 같이 이루어진 발명은 전송-모드 측정 동안 박막 투명시트를 처리하기 위한 지지 구조 및 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 측정장치의 개략도이다.
도 2는 라인 2-2에 따른 도 1의 측정장치의 개략 측면도이다.
도 3은 측정장치의 일부를 형성하는 지지 구조 및 운송장치의 개략도이다.
도 4는 측정장치의 일부를 형성하고, 그 위에 겹쳐진 지지 구조 특징의 축을 포함하는 이미지 캡쳐 유닛의 픽셀 어레이의 개략도이다.
도 5는 이미징 장치의 시야영역에 대한 투명 시트의 개략도이다.
도 6은 도 5에 나타낸 위치로부터 투명 시트의 위치를 나타내는 이미징 장치의 시야영역에 대한 투명 시트의 개략도이다.
도 2는 라인 2-2에 따른 도 1의 측정장치의 개략 측면도이다.
도 3은 측정장치의 일부를 형성하는 지지 구조 및 운송장치의 개략도이다.
도 4는 측정장치의 일부를 형성하고, 그 위에 겹쳐진 지지 구조 특징의 축을 포함하는 이미지 캡쳐 유닛의 픽셀 어레이의 개략도이다.
도 5는 이미징 장치의 시야영역에 대한 투명 시트의 개략도이다.
도 6은 도 5에 나타낸 위치로부터 투명 시트의 위치를 나타내는 이미징 장치의 시야영역에 대한 투명 시트의 개략도이다.
이하의 상세한 기술에서, 설명 및 제한하지 않을 목적으로, 본 발명 원리의 완전한 이해를 제공하기 위해 특정 상세한 설명을 개시하는 예시의 실시예가 제공된다. 그러나, 이것은 본 발명 개시의 이점을 갖는다는 것은 당업자들에게는 자명하며, 또한 여기에 개시된 본 발명의 특정 상세한 설명으로부터 벗어나지 않는 또 다른 실시예들이 실시될 수 있다. 더욱이, 본 발명 원리의 설명을 불명확하게 하지 않기 위해 공지의 장치, 방법 및 재료의 설명이 생략될 것이다. 마지막으로, 적용가능한 곳이면 동일한 참조번호가 동일한 구성요소에 붙여질 것이다.
"약(about)" 하나의 특정치에서, 및/또는 "약" 또 다른 특정치까지와 같이 범위들이 표현될 수 있다. 그와 같은 범위가 표현될 경우, 또 다른 형태는 하나의 특정치에서 및/또는 또 다른 특정치까지 포함할 수 있다. 유사하게, 이전의 "약"의 사용에 의한 근사치로서 값들이 표현될 경우, 특정치가 또 다른 형태를 형성한다는 것을 이해해야 한다. 또한, 각 범위의 종료점들이 또 다른 종료점과 관련되기도 하고 또 다른 종료점과 독립적이기도 하다는 것을 이해해야 한다.
여기에 사용된 바와 같이, 단일 형태의 표현"a", "an" 및 "the"는 달리 명확하게 나타내지 않는 한 복수의 지시 대상을 포함한다. 따라서, 예컨대 "구성요소"는 문맥을 달리 명확하게 나타내지 않는 한 2개 또는 그 이상의 구성요소를 포함한다.
방향 및/또는 방위, 예컨대 우측, 좌측, 수평, 수직, 폭, 높이를 포함하는 참조용어는 도면의 참조를 위해 나타냈을 뿐 절대치를 나타내려는 것은 아니다.
일 실시예에 있어서, 지지 구조에 의해 야기된 측정 에러를 투명 시트의 공정에 의해 야기된 특징의 전송 모드 측정으로부터 쉽게 제거되게 하는 지지 구조가 제공된다. 공정에 의해 야기된 특징은 예컨대 두께 변화, 코드, 스트리크, 불연속성 또는 시트의 함유물, 및/또는 스트레스를 포함한다. 지지 구조가 투명 시트를 지지할 경우, 이미징 장치에 의해 보여질 때 투명 시트의 공정에 의해 야기된 에러가 확장하는 제2축에 비스듬한 제1축을 따라 또는 그와 평행하게 확장함으로써 지지 구조에 의해 야기된 측정 에러가 이미징 장치에 의해 보여지도록 지지 구조가 구성 및 배열된다. 공정에 의해 야기된 특징이 통상 발견되는 것과 다른 축을 따라 지지 구조에 의해 야기된 에러가 존재하기 때문에, 지지 구조에 의해 야기된 에러가 시트 측정으로부터 쉽게 구별되어 제거될 수 있다.
도 1 및 2는 투명 시트(10)의 전송 모드 측정을 위한 장치(2)의 일 실시예를 나타내며, 상기 장치(2)는 광원(100), 시야영역(90)을 갖는 이미징 장치(80), 및 전송 모드 측정이 이루어짐에 따라 투명 시트(10)를 유지하기 위한 지지 구조(30; 지지부)를 포함한다.
투명 시트(10)는 폭(16), 높이(18), 에지(20), 및 축(22, 24)을 포함한다. 축(24)은 시트(10)가 드로우되는 방향, 즉 다운-드로우 방향을 따라 확장한다. 엄격히 말해, 시트가 드로우되는 리본으로부터 절단될 지라도, 설명의 용이함을 위해, 실제로 드로우되는 리본이 있고, 그 리본으로부터 시트가 절단되는 것으로 이해되도록 상기 시트가 기술될 것이다. 시트(10)는 예컨대 다운-드로우, 슬롯-드로우, 업-드로우, 또는 플로트(float) 공정에 의해 생성된 리본으로부터 절단될 것이다. 축(22)은 시트(10)가 드로우되는 방향에 수직인 방향, 즉 크로스-드로우 방향을 따라 확장한다. 도 1 및 2에 나타낸 바와 같이, 축(22)은 시트(10)가 인덱스되거나 장치(2)를 통해 이동되는 바람직한 방향으로 확장한다. 그러나, 대신 축(24)은 시트-인덱스 방향으로 확장한다. 또한, 도 2에 나타낸 바와 같이, 시트(10)는 두께(26)를 포함한다. 투명 시트는 예컨대 특히 LCD, 전계방출 디바이스, 또는 플라즈마 디스플레이와 같은 평판 패널 디스플레이 유닛을 만드는데 사용되는 유리가 된다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 시트(10)는 X-Y 평면에 있다.
공정에 의해 야기된 특징(예컨대, 함유물, 두께 변화, 코드, 스트리크, 및 스트레스)은 통상 투명 시트가 드로우되는 방향과 유사한 방향으로, 즉 축(24)을 따라 또는 축에 평행한 방향으로 나타난다. 또 다른 경우, 몇몇 공정에 의해 야기된 특징은 투명 시트가 드로우되는 방향에 수직인 방향으로, 즉 크로드-드로우 방향 또는 일반적으로 축(22)을 따라 또는 축에 평행한 방향으로 나타날 것이다.
광원(100; 도 2 참조)은 전송 모드 측정을 위한 소정의 적절한 광원이 될 것이다. 예컨대, 광원(100)은 단일파장 광, 레이저 광, 백열등, 확산 및/또는 시준 광이 될 것이고, 그리고 인간의 눈으로 볼 수 있거나 볼 수 없는 범위의 소정 적절한 파장을 포함할 것이다. 스트레스 측정시, 예컨대 광원은 선형 편광이든 원형 편광이든 특정 정도의 편광을 포함할 것이다. 광원(100)은 이미징 장치(80)의 시야영역(90)을 조명하기에 충분한 크기가 될 것이다.
이미징 장치(80)는 시야영역(90)을 함께 커버하는 다수의 이미지 캡쳐 유닛(81)을 포함한다. 시야영역(90)은 이미지가 캡쳐될 수 있는 폭(92) 및 높이(94)를 포함한다. 비록 도 1에는 이미징 장치(80)가 4개의 이미지 캡쳐 유닛(81)을 포함하는 것으로 나타나 있지만, 단지 하나만을 포함하는 소정 적절한 수의 이미징 캡쳐 유닛(81)이 특정 시야영역(90)을 커버하기 위해 사용될 수 있다. 예컨대, 이미지 캡쳐 유닛(81)의 수는 각각의 개별 이미지 캡쳐 유닛(81)의 이미지 캡쳐 영역, 검사될 시트(10)의 일반적인 범위의 크기, 및 원하는 처리 속도에 달려 있다. 이미지 캡쳐 유닛(81)은 예컨대 CCD 또는 CMOS 기술을 포함하며, 예컨대 영역 또는 라인 스캔 타입 이미징 장치, 또는 PIN(Positive-Intrinsic-Negative) 검출기가 될 것이다. 각각의 이미지 캡쳐 유닛(81)은 시트(10)가 위치되는 X-Y 평면과 소정의 적절한 각도로 확장하는 광학축(82)을 갖는다. 각각의 개별 이미지를 함께 스티칭(stitching)함으로써 시트(10)의 완전한 이미지가 형성되도록 인접한 이미지 캡쳐 유닛(81)의 이미지 캡쳐 영역이 오버랩(83; overlap)으로 나타난다(그러나, 어떠한 오버랩(83)도 필요치 않다). 비록 이미지 캡쳐 유닛(81)이 수직 칼럼으로 배치된 것으로 나타나 있을 지라도, 그것들은 시야영역(90)을 규정하도록 소정의 적절한 배열, 예컨대 수평으로, 또는 어레이로 배치될 것이다.
시트(10)의 스트레스를 측정하기 위해, 예컨대 이미지 캡쳐 유닛(81)은 면내 스트레스 및 규정된 영역에 걸친 광 방해물을 측정하기 위한 기능을 제공하는 광 스트레스 측정 센서가 될 것이다. 광원(100)은 원형 편광을 생성하여 시트(10)를 통해 그 시트(10)의 스트레스 분포의 분석을 위한 센서로 전송되는 광의 분포를 일정하게 하도록 스트레스 측정 센서와 일직선이 된다.
지지 구조(30)는 광원(100)과 이미징 장치(80)의 사이에 배치되어, 전송 모드 측정 동안 시트(10)를 유지한다. 지지 구조(30)는 바(40), 스페이스(50), 및 압력/진공원(62)을 포함한다. 바(40)는 개재 스페이스(50; intervening space)에 의해 서로 분리된다.
이제 바(40) 및 스페이스(50)의 특징을 좀더 상세히 설명하기 위해 도 3을 참조한다. 그러나, 도 1과 3간에는 시트(10)의 폭(16) 및 높이(18)가 시야영역(90)의 폭(92) 및 높이(94)와 다른 비율로 나타나 있다는 것을 알 수 있을 것이다. 각각의 바(40)는 X-축에 평행한 폭(44), 및 X-축에 비스듬한(따라서 축 22에도 비스듬한) 길이축(46)을 포함한다. 특히, 길이축(46)은 X-축과 각도(θ)를 형성한다. 각도(θ)는 길이축(46)이 X-축에 비스듬(따라서 축 22에도 비스듬한)하도록 소정의 적절한 값이 될 것이다. 각도(θ)의 값은 이미징 장치(80)에 의해 보여진 지지 구조에 의해 야기된 에러의 방향에 영향을 줄 것이다. 축(46)이 축(22)에 평행하도록 더 가까워질수록, 지지 구조에 의해 야기된 에러가 축(22)에 평행하게 확장하는 공정에 의해 야기된 특징과 같이 더 잘 보일 것이고, 그 두 개를 분리하는 것이 더 어려워질 것이다. 유사하게, 축(46)이 축(24)에 평행하도록 더 가까워질수록, 지지 구조에 의해 야기된 에러가 축(24)에 평행하게 확장하는 공정에 의해 야기된 특징과 같이 더 잘 보일 것이고, 또한 그 두 개를 분리하는 것이 더 어려워질 것이다. 예컨대, 일 실시예에서 각도(θ)는 25도 내지 65도가 될 것이고, 또 다른 실시예에서 각도(θ)는, 바가 실질적으로 i) 이미지 캡쳐 유닛(81)의 이미지 캡쳐 영역, 예컨대 약 45도의 정사각형 이미지 캡쳐 영역; 및 ii) 시야영역(90), 예컨대 약 45도의 정사각형 시야영역(90) 중 어느 하나 또는 그 모두의 대각선을 형성하는 각도가 될 것이다. 상기한 범위의 각도(θ)의 경우, 장치(2)는 공정에 의해 야기된 관심의 특징이 다운-드로우 축(24) 또는 크로스-드로우 축(22)을 따라 형성될 경우 동작할 것이다. 즉, 장치(2)는 경치 또는 인물이 있는 시트 방향에 민감하다. 바(40)와 유사하게, 각각의 스페이스(50)는 X-축에 평행한 폭(52), 및 X-축에 비스듬한(따라서 축 22에도 비스듬한) 길이축(54)을 포함한다.
바(40)가 시트(10)를 유지하기 위해 사용될 경우, 그들은 공정에 의해 야기된 관심의 특징의 전송 모드 측정에 영향을 줄 것이다. 바가 어떻게 전송 모드 측정에 영향을 주는지에 대한 소정의 특정 이론으로 한정하지 않으며, 출원인은 다음을 제공한다. 바(40)는 시트(10)를 유지하기 위한 평면을 제공하고, 따라서 유지될 때 시트(10)의 형태를 변경한다. 바(40)는 시트(10)를 지지하기 위해 에어 쿠션을 형성하기 위한 에어 바, 바(40)에 대해 시트(10)를 진공시키는 진공 바, 또는 압력 및 진공 모두를 제공하는 압력/진공 바가 될 것이다. 바(40)가 압력/진공 바일 경우, 바는 에어 쿠션을 형성하기 위해 동시에 압력 및 진공 모두를 인가하거나, 또는 전송을 위한 에어 쿠션을 형성하기 위해 압력을 사용할 경우 그리고 바(40)에 대해 시트(10)를 유지하기 위해 진공을 사용할 경우에는 순차적으로 압력 및 진공을 인가할 것이다. 바(40)는 압력 및/또는 진공 하에 가스, 예컨대 에어가 통과하는 개구(48)들을 포함하며, 플레넘(60; plenum) 및 도관(64)에 의해 압력/진공원(62)에 결합된다. 각각의 바(40), 및 그 개구(48)들을 압력/진공원(62)에 결합하는 특정 방식은 본 발명의 일부가 아니며 소정 공지기술로 포함될 것이다. 어떠한 경우, 압력 및/또는 진공의 사용을 통해, 바(40)는 시트(10) 상에 유지력을 가하고, 그 유지력은 시트(10)가 상술한 바와 같이 시트(10)의 형태를 변경하는 평면 구성을 취하게 한다.
시트(10)의 형태를 변경함으로써, 바(40)는 이미징 장치(80)에 의해 이미지되는 시트(10)의 공정에 의해 야기된 특징의 측정 에러를 야기한다. 바(40)의 길이축(46)이 시트(10)의 축 22 및 24에 비스듬하기 때문에, 지지 구조에 의해 야기된 에러는 시트(10)의 공정에 의해 야기된 관심의 특징에 비스듬하게 이미지에 나타날 것이다. 유사하게, 스페이스(50; 광원(100)으로부터의 광이 이미징 장치(80)로 통과하는)의 길이축(54)이 축 22 및 24에 비스듬하기 때문에, 오버랩/스티칭으로 인한 지지 구조에 의해 야기된 에러는 시트(10)의 공정에 의해 야기된 관심의 특징에 비스듬하게 이미지에 나타날 것이다. 따라서, 통상의 이미지/데이터 처리 기술을 통해, 지지 구조에 의해 야기된 에러가 쉽게 제거되어, 공정에 의해 야기된 특징의 좀더 정확한 픽처를 제공한다.
축 22 및 24에 비스듬한 바(40)의 길이축(46)을 갖는 것은 상술한 것 이외의 이점을 제공한다. 특히, 이러한 배열은 지지 구조(30), 특히 시트(10)의 폭(16) 및 높이(18)에 크게 민감한 폭(44, 52)을 형성한다. 또한, 이러한 배열은 측정되는 시트(10)의 에지 근처에 충분한 지지를 제공한다. 즉, 지지부가 축 22 또는 축 24에 평행한 바(40)를 포함하지 않을 경우, 이미지되는 시트(10)의 전체 길이 에지가 지지되지 않아, 가능한 측정 에러를 야기할 것이다.
바(40)에 대해 시트(10)를 진공시키는 것은 다음과 같은 추가의 장점들을 제공한다. 첫번째로, 시트(10)는 적절히 정의된 고정의 Z-축 위치, 즉 바(40)의 표면에 의해 정의된 평면에 제공될 것이다. 이러한 배열은 측정장치(2) 및 특히 이미징 장치(80)의 설치를 용이하게 한다. 추가적으로, 또는 선택적으로, 이러한 배열은 이미지가 취해짐에 따라 시트(10)에서의 위치적인 변화에 의해 야기된 측정 에러를 감소시킬 것이다. 더욱이, 바(40)에 대해 시트(10)를 진공시키는 것은 각각의 시트가 공지의 조건으로 유지되기 때문에 각 시트에 대한 보다 용이한 비교를 제공한다. 두번째로, 이러한 조건일 때 시트(10)의 이미지를 취하는 것은 시트(10)가 평평해지는 패널 어셈블리 또는 다른 디스플레이 제조 공정에서 존재하는 관심 특징의 측정을 제공하는 장점을 제공한다.
더욱이, 수평으로의 시트(10)의 방향은 이미징 장치(80)에 의해 보여진 지지 구조에 의해 야기된 에러에 영향을 줄 것이다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 바(40)는 시트(10)가 X-Y 평면에 유지되기 위한 배열로 제공된다. 선택적으로, 바(40)는 Z축에 대해 소정의 적절한 각도(α)로 시트(10)를 유지하도록 배치된다. 즉, 시트(10)는 나타낸 바와 같이 예컨대 α가 90도가 되는 수직 방향(X-Y 평면의 시트(10)), 또는 연속적으로 0도로 떨어지는 보다 작은 각도, 즉 수평 방향(X-Z 평면의 시트(10))으로 유지될 것이다. 그러나, α가 90도 쪽으로 증가하기 때문에, 보다 작은 α의 값이 바람직하고, 투명 시트(10)는 중력으로 인해 휘어질 수 있다(스페이스(50)의 폭(52), 및 시트(10)의 강도에 따라).
도 3에 나타낸 바와 같이, 지지 구조(30)는 또한 운송장치(70)를 포함할 것이다. 운송장치(70)는 시트(10)의 에지(20)와 접촉하기 위한 롤러(72) 및 벨트(74)를 포함한다. 벨트(74)는 측정장치(2)를 통해 시트(10)를 이동 또는 인덱스하도록 롤러(72)에 의해 구동되어, 시트(10)의 연속 이미지가 취해지며, 그 연속 이미지는 전체-시트 측정이 이루어지도록 함께 스티칭된다. 운송장치(70)는 필요에 따라 공지의 적절한 메카니즘에 의해 도 3의 실선으로 나타낸 위치에서 점섬으로 나타낸 위치로 이동될 수 있다. 따라서, 운송장치(70)는 시트(10)가 이미지될 때 에지(20)에 접촉되거나, 또는 에지로부터 멀어질 것이다. 한편으로, 운송장치(70)는 이미징 동안 시트 에지(20)를 지지하고, 적절한 위치에 위치되면 측정장치(2)를 통해 시트(10)를 빠르게 이동시킬 수 있다. 그러나, 다른 한편으로, 시트 에지(20)에 접촉하는 운송장치(70)는 시트(10)에 대한 위치적인 에러를 야기하여 측정의 정확성을 감소시킨다. 따라서, 이는 이미징 동안 시트(10)로부터 먼 위치로 운송장치(70)를 이동시키는 이점이 있다. 비록 벨트 및 롤러 장치를 운송장치(70)로 나타냈지만, 소정 적절한 장치가 사용될 수 있다. 예컨대, 운송장치는 그립퍼(gripper), 흡인 척(suction chuck), 및/또는 로봇 아암을 포함할 것이다.
더욱이, 도 3에 나타낸 바와 같이, 지지부(30) 및 시야영역(90)의 상대적인 크기는 전체-시트 측정을 행하기 위해 필요한 시간을 감소시키는데 용이하다. 사실상, 적당한 비율로, 이미징 장치(80)로부터 2개의 겹쳐진 이미지만큼 작은 전체-시트 측정이 이루어질 것이다. 지지부(30)는 폭(34) 및 높이(32)를 포함한다. 유사하게, 시야영역(90)은 폭(92) 및 높이(94)를 포함하며, 반면 시트(10)는 폭(16) 및 높이(18)을 포함하고, 바(40)는 각각 폭(44)을 포함한다. 예컨대, 이미징 장치(80)로부터의 2개의 이미지는 높이(94)가 시트 높이(18)와 같거나 클 경우, 그리고 폭(92)이 시트 폭(16) 및 바 폭(44)보다 클 경우 전체-시트 측정을 얻기에 충분하다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 지지부 높이(32) 및 폭(34)은 시트 폭(16) 및 높이(18)와 같거나 크고, 이는 보다 작은 시트 크기에 대한 측정의 정확도 및 속도 증가를 증진시키는 경우에 해당되고, 반드시 필요한 것은 아니다. 상술한 설명에 있어서, 폭(44)은 블럭된 영역(96), 즉 바(40)에 의해 블럭되기 때문에 이미징 장치(80)에 의해 이미지될 수 없는 시야영역(90)의 영역들의 폭(97) 대신 사용된다. 그러나, 이는 반드시 필요한 경우는 아니다. 즉, 바(40)가 놓여 있는 평면에 대한 광학축(82)의 각도(각도 α에 따른), 바(40)의 두께(42), 및 바(40)의 에지 프로파일에 따라, 폭 97이 폭 44보다 클 것이다(유사하게, 이미지가능 영역(98)의 폭(99)은 스페이스(50)의 폭(52)보다 작을 것이다). 그럼에도 불구하고, 폭 44는 2개의 이미지만으로 전체-시트 측정을 얻도록 폭 92가 폭 16을 초과해야 하는 최소량을 제공한다.
시트(10)를 측정장치(2)로, 특히 지지 구조(30)로 가져오는 구조는 특별히 한정하지 않으며, 소정의 적절한 구조, 예컨대 하부 컨베이어, 오버헤드 접촉 메카니즘, 흡인 척, 그립퍼, 로봇 아암, 및/또는 유체 베어링 바가 될 수 있다.
도 4는 하나의 이미지 캡쳐 유닛(81)을 위한 픽셀 어레이의 하나의 가능한 배열의 개략도이며, 픽셀 어레이 상에 놓여진 축(46, 54)을 포함한다. 이 도면에 나타낸 바와 같이, 이미지 캡쳐 유닛(81)은 축 85 및 86을 따라 배열된 픽셀(84)의 2차원 어레이를 갖는다. 이미지 캡쳐 유닛(81)은 축 85 및 86이 시트의 축 22 및 24(X 및 Y-축에 대응하는)에는 평행하지만 축 46 및 54에는 비스듬하도록 지지 구조(30) 및 시트(10)에 대해 위치된다.
이제 측정장치(2)의 동작에 대해 기술한다.
도 3을 참조하여 첫번째 시나리오가 기술되며, 시트 높이(18)는 시야영역의 높이(94)와 같거나 작으며, 시트 폭(16)은 적어도 바(40)의 폭(44)에 의한 시야영역의 폭(92)보다 작다. 이러한 예에서, 이미징 장치(80)로부터 2개의 이미지만큼 작은 전체-시트 측정이 이루어지고, 이하와 같이 행해질 것이다. 폭(16)이 점선 위치에 있도록 시트(10)가 지지부(30) 상에 로드된다. 이러한 위치의 시트(10)에 있어, 이미징 장치(80)는 시트(10)의 제1이미지를 캡쳐하고, 이미지가능 영역(98; 흰색으로 나타낸 영역)을 포함하지만, 바(40)에 인접한 블럭된 영역(96; 검은색으로 나타낸 영역)은 포함하지 않는다. 다음에, 시야영역(90)의 폭(92) 내에 여전히 있는 실선으로 나타낸 위치에 폭(16)이 위치하도록 하나의 블럭된 영역 폭(97)으로 시트(10)가 인덱스된다. 폭(16)의 점선 및 실선으로 나타낸 위치를 갖는 시트의 비교로부터 알 수 있는 바와 같이, 앞서 블럭된 영역(96)은 이제 이미지될 수 있고, 다음에 유사하게 미리 이미지가능 영역(98)이 블럭될 것이다. 이러한 위치(실선으로 나타낸 폭)의 시트(10)에 있어, 이미징 장치(80)는 시트(10)의 제2이미지를 캡쳐한다. 다음에 제1 및 제2이미지가 전체-시트 측정을 행하기 위해 공지의 기술을 이용하여 조합될 것이다. 상술한 바와 같이, 시트(10)는 부(negative)의 X방향으로 측정장치(2)를 통해 인덱스될 것이다. 선택적으로, 시트(10)는 실선 위치에서 점선 위치로 정(positive)의 X방향으로 인덱스될 것이다. 양쪽의 경우 모두 시트(10)가 운송장치(70)에 의해 인덱스되거나 이동될 것이다.
도 5 및 6을 참조하여 또 다른 시나리오가 기술되며, 시트(10)의 폭(16)은 시야영역(90)의 폭(92)보다 크고, 시트(10)의 높이(18)는 시야영역(90)의 높이(94)와 같다. 이러한 경우는 도 1에 나타낸 것과 유사하며, 도 5 및 6과 관련하여 이하 기술하는 것과 유사한 공정의 경우에는 전체-시트 측정을 얻기 위해 사용되고, 도 1과의 차이는 시야영역(90)의 높이(94)가 시트(10)의 높이(18)보다 크며, 반면 도 5 및 6에서 시야영역(90)의 높이(94)는 높이(18)와 같다. 시야영역(90)은 폭(97)을 각각 갖는 블럭된 영역(96)들, 및 폭(99)을 각각 갖는 이미지가능 영역(98)들을 포함한다. 이미지 캡쳐 장치(81)는 이미지가능 영역(98)에 걸친 시트(10)의 이미지를 얻을 수 있지만, 블럭된 영역(96)에 걸친 시트(10)의 이미지를 얻을 수 없다. 바(40), 폭(44), 두께(44), 각도(α 및 β)를 포함하는 지지부(30)의 배열, 광학축(82)을 포함하는 이미징 장치(80)는 폭 99가 폭 97보다 크거나 같다. 폭 97보다 큰 폭 99를 갖는 것은 이미지가 시트(10)의 몇몇 오버랩핑 영역을 포함하는 스티칭을 용이하게 한다. 도 5 및 6에 나타낸 경우에 있어서, 2개 이상의 이미지가 전체-시트 측정을 제공하기 위해 함께 취해져 스티칭될 필요가 있고, 그 이미지들은 이하와 같이 얻어질 것이다.
시트(10)는 각각 서로 거의 동일한 폭의 팬텀 섹션(phantom section)으로 분할되고, 각각은 시야영역의 폭(92)에 거의 1/2의 폭을 가지며, 이 경우 제1섹션 내지 제4섹션(11, 12, 13, 14)을 갖는다. 제1섹션(11)은 시야영역(90)의 우측 1/2에 배치되고, 제1이미지가 취해지며, 이 제1이미지는 섹션(11) 영역의 거의 1/2인 이미지가능 영역(98)으로부터의 데이터를 포함한다(도 5 참조). 다음에 좌측 1/2에 섹션(11)을 그리고 우측 1/2에 섹션(12)을 갖는 시야영역(90) 내에 섹션 11 및 12 모두가 있도록 시트(10)가 인덱스되거나 이동되며, 이미징 장치(80)에 의해 제2이미지가 취해진다(도 6 참조). 이 점에서, 각각의 제1 및 제2이미지에 포함된 1/2의 데이터를 갖는 섹션(11)의 전체 영역이 이미지되고, 섹션(12) 영역의 거의 1/2이 이미지된다. 다음에 좌측 1/2에 섹션(12)을 그리고 우측 1/2에 섹션(13)을 갖는 시야영역(90)에 섹션 12 및 13 모두가 있도록 시트가 다시 인덱스되며, 이미징 장치(80)에 의해 제3이미지가 취해진다. 이 점에서, 각각의 제2 및 제3이미지에 포함된 1/2의 데이터를 갖는 섹션(12)의 전체 영역이 이미지되고, 섹션(13) 영역의 거의 1/2이 이미지된다. 다음에 시야영역(90)의 좌측 1/2 내에 섹션(14)이 위치할 때까지 이러한 일련의 이미징 및 인덱싱 프로세스가 계속되고, 제5이미지가 취해진다. 다음에, 공정에 의해 야기된 관심 특징의 전체-시트 측정을 행하기 위해 공지의 기술을 이용하여 제1이미지 내지 제5이미지가 함께 스티칭된다. 만약 특정 시트 폭이 폭(92)의 1/2의 짝수배가 아니면, 그 시트는 시트 폭(16)의 양단에 나머지의 하나 또는 그 이상의 섹션을 갖는 동일한 1/2 폭의 섹션으로 분할될 수 있다.
전체-시트 측정을 행하기 위해 필요한 시간은 지지부(30), 시야영역(90), 시트(10), 이미지가능 영역(98), 및 블럭된 영역(96)의 크기간 적절한 균형을 선택하여 최소화될 수 있다.
예컨대, 매크로 스케일(macro scale)에서, 대응하는 시트(10) 폭(16) 및/또는 높이(18)에 대해 시야영역 폭(92) 및/또는 높이(94)가 클수록, 취해질 필요가 있는 오버랩핑 이미지의 수가 적어지고, 따라서 처리 시간이 좀더 단축될 것이다.
블럭된 영역(96)의 폭(97)보다 큰 이미지가능 영역(98)의 폭(99)을 갖는 좀더 세밀한 레벨에서는 전체-시트 시야가 가능한한 작은 이미지로 구성되기 때문에 처리 시간을 좀더 짧게하는데 용이하다. 그러나, 폭 99가 폭 97(폭 44)보다 더 커지면 시트(10)를 위한 지지부가 정확한 측정을 하는데 적합하지 않을 것이다. 즉, 그와 같은 경우, 지지부(30)는 측정을 위해 고정된 박막시트를 유지하는데 충분히 적합하지 않고, 그리고 안정된/견고한 평면에는 적합하지 않을 것이다. 폭 44 및 52(상술한 바와 같이 각도 θ의 값, X-Y 평면에 의해 만들어지는 광학축(82) 각도, 및 두께(42)와 함께 취해진)는 폭 97 및 99에 영향을 준다. 따라서, 설명의 용이함을 위해, 폭 44 및 96은 교환적으로 사용되고, 반면 폭 52 및 99는 엄격한 경우가 아닌 것으로 이해될 경우 교환적으로 사용될 것이다.
다시 말해서, 상대적인 폭 44 및 52는 지지/블럭된 영역(96) 대 비지지/이미지가능 영역(98)의 비율에 영향을 주고, 또한 많은 시간 영향을 미쳐 전체-시트 측정을 제공하기 위해서는 시트가 이미지될 필요가 있다. 전체-시트 측정을 제공하도록 이미지들을 함께 스티칭하는 것을 용이하게 하기 위해, 스티칭될 이미지들간 어느정도 오버랩되는 것이 바람직하다. 또한, 처리 시간을 높이기 위해 단지 2개의 이미지만을 갖는 시트의 완전한 섹션을 이미지하는 것이 바람직하다. 따라서, 폭 52보다 작거나 같은 폭 44를 갖는(유사하게 폭 99보다 작거나 같은 폭 97을 갖는) 것이 효과적이다. 비록 모든 폭(44)이 동일한 것으로 나타나 있을 지라도, 반드시 그럴 필요는 없다. 유사하게, 모든 폭(52)이 동일한 것으로 나타나 있을 지라도, 반드시 그럴 필요는 없다. 또한, 모든 폭(96)이 동일한 것으로 나타나 있을 지라도, 반드시 그럴 필요는 없다. 더욱이, 모든 폭(98)이 동일한 것으로 나타나 있을 지라도, 반드시 그럴 필요는 없다.
본 발명의 상술한 실시예들, 특히 소정의 "바람직한" 실시예들은 본 발명의 명확한 원리의 이해를 위한 것으로 실시를 위한 가능한 예시에 불과하다는 것을 강조한다. 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 상술한 본 발명의 실시예에 대한 많은 변형 및 변경이 이루어질 것이다. 모든 그와 같은 변경 및 변형은 본 발명 개시의 범위 내에 포함되어 이하의 청구항들에 의해 보호될 것이다.
예컨대, 비록 지지부(30)가 도 2와 같이 투명 시트(10)의 한측면에만 나타나 있을 지라도, 지지부(30)는 투명 시트(10)의 양측면에 배치될 수 있다.
10 : 투명 시트, 30 : 지지 구조(지지부),
40 : 바, 50 : 스페이스,
80 : 이미징 장치, 90 : 시야영역,
100 : 광원.
40 : 바, 50 : 스페이스,
80 : 이미징 장치, 90 : 시야영역,
100 : 광원.
Claims (7)
- 투명 시트의 공정에 의해 유도된 특징을 측정하기 위한 장치에 있어서,
광원;
이미징 장치; 및
광원과 이미징 장치 사이에 배치된 투명-시트 지지 구조
를 포함하고,
지지 구조는, 지지 구조에 의해 유도된 측정 에러는 제1축을 따라 연장되거나 제1축에 평행하게 연장되는 것으로서 이미징 장치에 의해 보이도록 투명 시트를 지지하도록 구성 및 배열되고, 투명 시트의 공정에 의해 유도된 특징은 이미징 장치로 보았을 때 제2축을 따라 연장되거나 제2축에 평행하게 연장되고, 제1축은 제2축에 비스듬한 것을 특징으로 하는 투명 시트의 공정에 의해 유도된 특징을 측정하기 위한 장치. - 청구항 1에 있어서,
지지 구조는 바들을 포함하고, 각각의 바는 제2축에 비스듬한 제1축을 따라 연장되는 것을 특징으로 하는 장치. - 투명 시트의 공정에 의해 유도된 특징을 측정하는 방법에 있어서,
광원과 이미징 장치 사이에 배치된 지지 구조 상에 투명 시트를 배치하는 단계;
지지 구조에 의해 유도된 측정 에러가 제1축을 따라 연장되거나 제1축에 평행하게 연장되는 것으로서 이미징 장치에 의해 보이도록 투명 시트를 지지하는 단계 - 투명 시트의 공정에 의해 유도된 특징은 이미징 장치로 보았을 때 제2축을 따라 연장되거나 제2축에 평행하게 연장되고, 제1축은 제2축에 비스듬함 -;
투명 시트의 제1섹션의 제1이미지를 캡쳐하는 단계;
투명 시트를 이동시킨 후 투명 시트의 제1섹션의 제2이미지를 캡쳐하는 단계; 및
제1이미지 및 제2이미지를 결합하여 투명 시트의 제1섹션에서의 공정에 의해 유도된 특징의 이미지를 형성하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 시트의 공정에 의해 유도된 특징을 측정하는 방법. - 청구항 3에 있어서,
제1 및 제2이미지를 캡쳐하는 단계 동안이 아닌 이동시키는 단계 동안 투명 시트를 운송장치와 접촉시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법. - 청구항 3에 있어서,
제1 및 제2이미지를 캡쳐하는 단계 전에 투명 시트를 평평하게 하는 단계, 및 제1 및 제2이미지를 캡쳐하는 단계 동안 평평한 상태로 투명 시트를 유지하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법. - 청구항 3 내지 5 중 어느 한 항에 있어서,
투명 시트는 제2축에 평행 또는 수직인 방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는 방법. - 청구항 3 내지 5 중 어느 한 항에 있어서,
공정에 의해 유도된 특징은 스트레스를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
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