KR101517949B1 - Light emitting device package and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 발광 소자 패키지 및 이의 제작 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광의 강도를 향상시키는 발광 소자 패키지 및 이의 제작 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a light emitting device package and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a light emitting device package for improving the light intensity and a method of manufacturing the same.
발광 다이오드(Light Emitting Diode; LED)는 화합물 반도체(compound semiconductor)의 PN 다이오드 형성을 통해 발광원을 구성함으로써, 다양한 파장의 광을 구현할 수 있는 일종의 반도체 소자를 말한다. 이러한 발광 소자는 수명이 길고, 소형화 및 경량화가 가능하며, 광의 지향성이 강하여 저전압 구동이 가능하다는 장점이 있다. 또한, 이러한 LED는 충격 및 진동에 강하고, 예열시간과 복잡한 구동이 불필요하며, 다양한 형태로 패키징할 수 있어, 여러 가지 용도로 모듈화하여 각종 조명 장치나 디스플레이 장치 등에 적용할 수 있다.Light emitting diodes (LEDs) are semiconductor devices that can emit light of various wavelengths by forming a light emitting source through the formation of PN diodes of compound semiconductors. Such a light emitting device has a long lifetime, can be reduced in size and weight, has a strong directivity of light, and can be driven at a low voltage. Further, such an LED is resistant to impact and vibration, does not require preheating time and complicated driving, can be packaged in various forms, can be modularized for various purposes, and can be applied to various lighting devices and display devices.
그러나, 종래의 발광 소자 패키지 및 발광 소자 패키지 제조방법에서는, 발광 소자 패키지에서 방출된 광의 일부가 패키지 내부에서 흡수되는 등의 광 손실이 발생하는 문제가 있었다.However, in the conventional light emitting device package and light emitting device package manufacturing method, there is a problem that a part of the light emitted from the light emitting device package is absorbed in the package.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 특히, 자외선(Ultra Violet, 이하 "유브이(UV)"라 한다) 광의 강도를 향상시킬 수 있는 발광 소자 패키지 및 이의 제작 방법을 제공하는 목적을 포함한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] The present invention has been made to solve the above problems and it is an object of the present invention to provide a light emitting device package capable of improving the intensity of ultraviolet light (UV) And the purpose of providing it. However, these problems are exemplary and do not limit the scope of the present invention.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지는, 금속 기판; 상기 금속 기판을 피복하는 절연층; 상기 절연층의 발광 소자 안착부에 형성되는 알루미늄 반사층; 상기 절연층의 일측에 설치되는 제 1 전극층; 상기 절연층의 타측에 설치되는 제 2 전극층; 및 상기 발광 소자 안착부에 안착되고, 상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층과 전기적으로 연결되는 유브이(UV) 발광 소자(20);를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a light emitting device package including: a metal substrate; An insulating layer covering the metal substrate; An aluminum reflective layer formed on the light emitting device seating portion of the insulating layer; A first electrode layer provided on one side of the insulating layer; A second electrode layer provided on the other side of the insulating layer; And a UV
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 금속 기판은, 알루미늄 성분을 포함하고, 상기 절연층은, 알루미늄 산화막일 수 있다.According to an aspect of the present invention, the metal substrate may include an aluminum component, and the insulating layer may be an aluminum oxide film.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 알루미늄 반사층은, 상기 발광 소자에서 발생된 빛을 반사시킬 수 있도록 상기 발광 소자의 후면의 주위에 전체적으로 원형 또는 사각형으로 형성되는 것일 수 있다.According to an aspect of the present invention, the aluminum reflective layer may be formed in a circular or square shape around the rear surface of the light emitting device so as to reflect light generated from the light emitting device.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 알루미늄 반사층은, 상기 제 1 전극층과 전기적으로 연결될 수 있도록 상기 제 1 전극층과 상기 절연층 사이에 설치되는 것일 수 있다.According to an aspect of the present invention, the aluminum reflective layer may be provided between the first electrode layer and the insulating layer so as to be electrically connected to the first electrode layer.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 알루미늄 반사층은, 상기 제 2 전극층과 절연될 수 있도록 중간부분에 전극 분리선이 형성되고, 상기 전극 분리선을 기준으로 일측에 설치되는 제 1 반사층 및 타측에 설치되는 제 2 반사층을 포함하는 것일 수 있다.According to an aspect of the present invention, the aluminum reflective layer may include an electrode separating line formed at an intermediate portion thereof so as to be insulated from the second electrode layer, a first reflective layer disposed on one side of the electrode separating line, And may include a second reflective layer.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 제 1 전극층은, 상기 금속 기판의 전면 일측에서 후면 일측까지 연장되는 형상으로 상기 절연층에 형성되고, 상기 제 2 전극층은, 상기 금속 기판의 전면 타측에서 후면 타측까지 연장되는 형상으로 상기 절연층에 형성되는 것일 수 있다.According to an aspect of the present invention, the first electrode layer is formed on the insulating layer so as to extend from one side of the front surface of the metal substrate to one side of the rear surface, and the second electrode layer is formed on the rear surface And may be formed on the insulating layer in a shape extending to the other side.
또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 금속 기판은, 측방에 측면으로부터 여유 길이만큼 돌출되는 적어도 2개 이상의 여유 돌기가 형성되는 것일 수 있다.Further, according to the idea of the present invention, the metal substrate may be formed with at least two margin projections projecting laterally from the side surface by an allowance.
한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지는, 금속 기판; 상기 금속 기판을 피복하는 절연층; 상기 절연층의 발광 소자 안착부에 안착되는 발광 소자; 상기 절연층의 일측에 설치되고, 상기 발광 소자와 전기적으로 연결되는 제 1 전극층; 상기 절연층의 타측에 설치되는 상기 발광 소자와 전기적으로 연결되는 2 전극층; 및 상기 금속 기판에 측방에 설치되고, 상기 금속 기판의 측면으로부터 여유 길이만큼 측방으로 돌출되는 여유 돌기;를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a light emitting device package including: a metal substrate; An insulating layer covering the metal substrate; A light emitting element mounted on the light emitting element seating portion of the insulating layer; A first electrode layer provided on one side of the insulating layer and electrically connected to the light emitting element; A two-electrode layer electrically connected to the light emitting element provided on the other side of the insulating layer; And a margin protruding laterally from the side surface of the metal substrate by an allowance length.
한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지의 제작 방법은, 알루미늄 재질의 금속 기판 스트립을 준비하는 단계; 상기 금속 기판 스트립에 절연층이 형성되도록 상기 금속 기판 스트립을 산화시키는 단계; 상기 절연층의 발광 소자 안착부에 알루미늄 반사층을 형성하는 단계; 상기 절연층의 일측에 제 1 전극층을 설치하고, 상기 절연층의 타측에 제 2 전극층을 설치하는 단계; 및 상기 발광 소자 안착부에 발광 소자를 안착시키는 단계;를 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light emitting device package, comprising: preparing a metal substrate strip of an aluminum material; Oxidizing the metal substrate strip to form an insulating layer on the metal substrate strip; Forming an aluminum reflective layer on the light emitting device seating portion of the insulating layer; Providing a first electrode layer on one side of the insulating layer and a second electrode layer on the other side of the insulating layer; And placing a light emitting element on the light emitting element seating portion.
또한, 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지의 제작 방법은, 상기 금속 기판 스트립의 측방에 상기 금속 기판의 측면으로부터 여유 길이만큼 측방으로 돌출되는 여유 돌기가 형성될 수 있도록 상기 금속 기판 스트립을 절단하는 단계;를 더 포함할 수 있다.A method of fabricating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention includes cutting a metal substrate strip at a side of the metal substrate strip such that a margin protruding sideways from the side surface of the metal substrate by an allowance length is formed Step;
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 유브이(UV) 광의 반사율이 매우 높은 알루미늄 반사층을 이용하여 광의 강도를 향상시킬 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.According to some embodiments of the present invention as described above, the intensity of light can be enhanced by using an aluminum reflective layer having a very high reflectivity of UV light. Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 나타내는 부분 절개 사시도이다.
도 2는 도 1의 발광 소자 패키지의 II-II 절단면을 나타내는 단면도이다.
도 3은 도 1의 발광 소자 패키지를 나타내는 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 나타내는 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 나타내는 평면도이다.
도 6 내지 도 11은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제작 과정을 단계적으로 나타내는 단면도들이다.
도 12는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제작 방법을 나타내는 순서도이다.1 is a partially cutaway perspective view illustrating a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a light emitting device package of FIG. 1 taken along line II-II.
3 is a plan view showing the light emitting device package of FIG.
4 is a plan view illustrating a light emitting device package according to some other embodiments of the present invention.
5 is a plan view illustrating a light emitting device package according to still another embodiment of the present invention.
6 to 11 are cross-sectional views illustrating steps of fabricating a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.
12 is a flowchart showing a method of manufacturing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.The embodiments of the present invention are described in order to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following embodiments may be modified into various other forms, The present invention is not limited to the embodiment. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be more thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the thickness and size of each layer are exaggerated for convenience and clarity of explanation.
명세서 전체에 걸쳐서, 막, 영역 또는 기판과 같은 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 상기 하나의 구성요소가 직접적으로 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 접촉하거나, 그 사이에 개재되는 또 다른 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 반면에, 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "직접적으로 상에", "직접 연결되어", 또는 "직접 커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 그 사이에 개재되는 다른 구성요소들이 존재하지 않는다고 해석된다. 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.It is to be understood that throughout the specification, when an element such as a film, region or substrate is referred to as being "on", "connected to", "laminated" or "coupled to" another element, It will be appreciated that elements may be directly "on", "connected", "laminated" or "coupled" to another element, or there may be other elements intervening therebetween. On the other hand, when one element is referred to as being "directly on", "directly connected", or "directly coupled" to another element, it is interpreted that there are no other components intervening therebetween do. Like numbers refer to like elements. As used herein, the term "and / or" includes any and all combinations of one or more of the listed items.
본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various elements, components, regions, layers and / or portions, these members, components, regions, layers and / It is obvious that no. These terms are only used to distinguish one member, component, region, layer or section from another region, layer or section. Thus, a first member, component, region, layer or section described below may refer to a second member, component, region, layer or section without departing from the teachings of the present invention.
또한, "상의" 또는 "위의" 및 "하의" 또는 "아래의"와 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면(turned over), 다른 요소들의 상부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상기 다른 요소들의 하부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "하의" 및 "상의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 소자가 다른 방향으로 향한다면(다른 방향에 대하여 90도 회전), 본 명세서에 사용되는 상대적인 설명들은 이에 따라 해석될 수 있다.Also, relative terms such as "top" or "above" and "under" or "below" can be used herein to describe the relationship of certain elements to other elements as illustrated in the Figures. Relative terms are intended to include different orientations of the device in addition to those depicted in the Figures. For example, in the figures the elements are turned over so that the elements depicted as being on the top surface of the other elements are oriented on the bottom surface of the other elements. Thus, the example "top" may include both "under" and "top" directions depending on the particular orientation of the figure. If the elements are oriented in different directions (rotated 90 degrees with respect to the other direction), the relative descriptions used herein can be interpreted accordingly.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular forms "a," "an," and "the" include singular forms unless the context clearly dictates otherwise. Also, " comprise "and / or" comprising "when used herein should be interpreted as specifying the presence of stated shapes, numbers, steps, operations, elements, elements, and / And does not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, operations, elements, elements, and / or groups.
이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings schematically showing ideal embodiments of the present invention. In the figures, for example, variations in the shape shown may be expected, depending on manufacturing techniques and / or tolerances. Accordingly, the embodiments of the present invention should not be construed as limited to the particular shapes of the regions shown herein, but should include, for example, changes in shape resulting from manufacturing.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)를 나타내는 부분 절개 사시도이다. 그리고, 도 2는 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 II-II 절단면을 나타내는 단면도이고, 도 3은 도 1의 발광 소자 패키지(100)를 나타내는 평면도이다.1 is a partially cutaway perspective view illustrating a light emitting
먼저, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)는, 크게 금속 기판(10)과, 절연층(11)과, 알루미늄 반사층(12)과, 제 1 전극층(E1)과, 제 2 전극층(E2) 및 유브이(UV) 발광 소자(20)를 포함할 수 있다.1 to 3, a light emitting
여기서, 상기 금속 기판(10)은, 상기 발광 소자(20)를 수용할 수 있고, 상기 절연층(11)에 의해서 상기 발광 소자(20)와 전기적으로 절연되는 것으로서, 상기 발광 소자(20)를 지지할 수 있도록 적당한 기계적 강도를 갖는 재료로 제작될 수 있다.The
예를 들어서, 상기 금속 기판(10)은, 열전도성이 우수하고, 절연 처리될 수 있는 알루미늄, 구리, 아연, 주석, 납, 금, 은 등의 금속 기판 등이 적용될 수 있으며, 플레이트 형태나 리드 프레임 형태의 금속 기판들이 적용될 수 있다.For example, the
또한, 상기 금속 기판(10)은, 연성 재질의 플랙서블 인쇄 회로 기판(FPCB: Flexible Printed Circuit Board)일 수 있다.The
이외에도, 상기 금속 기판(10)은, 금속을 포함하면서, 부분적으로는 레진, 글래스 에폭시 등의 합성 수지나, 열전도율을 고려하여 세라믹(ceramic) 재질이 포함될 수 있고, 가공성을 향상시키기 위해서 적어도 EMC(Epoxy Mold Compound), PI(polyimide), 그래핀, 유리합성섬유 및 이들의 조합들 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어지는 재질을 포함할 수 있다.In addition, the
또한, 상기 절연층(11)은, 상기 금속 기판(10)을 둘러싸는 절연체로서, 상기 금속 기판(10)을 산화시켜서 형성될 수 있다. 상기 금속 기판(10)이 금속 중 알루미늄을 포함하는 경우에는, 상기 절연층(11)은 알루미늄 산화물인 알루미나를 포함할 수 있다. 이러한 산화 방법으로는 여러 가지 방법이 가능하지만, 아노다이징(anodizing)법을 이용해서 상기 금속 기판(10)의 표면 알루미늄 성분을 산화시켜서 상기 절연층(11)을 형성할 수 있다. 즉, 여기서, 상기 금속 기판(10)은, 알루미늄 성분을 포함하고, 상기 절연층(11)은, 알루미늄 산화막일 수 있다. 이 때, 상기 금속 기판(10)의 모든 표면에 전체적으로 상기 절연층(11)을 형성할 수 있고, 이외에도, 산화 작업하기 위하여 상기 금속 기판(10)을 고정하는 부분을 제외하고 전체적으로 상기 절연층(11)을 형성할 수 있다. 이외에도, 상기 절연층(11)은, 실리콘옥사이드나 실리콘나이트라이드 등으로 형성될 수 있고, 제트프린팅법과 같은 프린팅법을 이용하여 형성할 수 있다.In addition, the insulating
또한, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 알루미늄 반사층(12)은, 상기 절연층(11)의 발광 소자 안착부의 적어도 70퍼센트 이상의 면적에 설치되는 반사층일 수 있다.1 to 3, the aluminum
여기서, 상기 발광 소자 안착부란, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)가 안착되는 상기 금속 기판(10)의 상면 전체를 말할 수 있다.Here, the light emitting device mounting portion refers to the entire upper surface of the
구체적으로 설명하면, 금속 중에서 알루미늄은 일반적으로 유브이(UV) 광을 포함하여 대략 85% 이상의 반사율을 보이기 때문에, 반사율이 높은 금속에 속한다. 그리고 구리의 반사율은 대략 59% 정도이고 알루미나의 반사율은 대략 30%로, 알루미늄보다 반사율이 낮다. 따라서 반사율이 상대적으로 높은 알루미늄을 포함하는 상기 알루미늄 반사층(12)을 상기 절연층(11) 상에 설치하고, 반사율이 상대적으로 낮은 상기 절연층(11) 및 상기 제 1 전극층(E1)과 제 2 전극층(E2)의 면적을 최소화하는 것이 유리할 수 있다.Specifically, among metals, aluminum generally has a reflectance of about 85% or more including UV light, and thus belongs to a metal having a high reflectance. The reflectance of copper is about 59% and the reflectance of alumina is about 30%, which is lower than that of aluminum. The aluminum
한편, 일반적으로 금속 물질은 단파장보다 장파장에 대한 반사도가 높다. 알루미늄 역시 단파장보다 장파장에 대한 반사도가 높기는 하지만, 가로축을 파장이 증가하는 축으로 삼고 세로축을 반사도로 삼아 그래프를 그리면, 다른 일반적인 그속에 비해 그 기울기가 작다. 이는 알루미늄의 단파장에 대한 반사도가 다른 금속물질의 반사도에 비해 상대적으로 높다는 것을 의미한다.On the other hand, metal materials generally have a higher reflectivity to a longer wavelength than a shorter wavelength. Aluminum also has a higher reflectance for a longer wavelength than a shorter wavelength. However, when the horizontal axis is taken as an axis for increasing the wavelength and the vertical axis is used for a reflectivity, the slope of the graph is smaller than that of other general types. This means that the reflectivity of aluminum to short wavelengths is relatively high compared to the reflectivity of other metal materials.
따라서, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)가 단파장의 광을 주로 방출하는 경우, 상기 금속 기판(10)이 알루미늄을 포함하도록 하고 전술한 것과 같이 상기 알루미늄 반사층(12)을 형성함으로써 반사율을 획기적으로 향상시킬 수 있다. 이 경우, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)는 단파장인 100nm 이상 420nm 이하의 파장을 포함하는 광을 방출할 수 있는 유브이 엘이디(UV LED)를 포함할 수 있다.Therefore, when the UV
여기서, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)는 반드시 단파장의 광만을 방출하는 것은 아니고, 장파장의 광도 방출할 수 있지만, 100nm 이상 420nm 이하의 파장의 광을 주로 방출하는 것이 유리할 수 있다.Here, the UV
또한, 상기 알루미늄 반사층(12)의 형성 방법은, 열압착 가공, 도금 가공, 접착 가공, 스퍼터링 가공이나, 기타 식각 가공, 프린팅 가공, 스프레이 가공 등의 방법이 이용될 수 있다.The aluminum
또한, 상기 알루미늄 반사층(12)은, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)에서 발생된 빛을 반사시킬 수 있도록, 도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)의 후면(20b)의 주위에 전체적으로 원형으로 형성될 수 있다.1 and 3, the
또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 알루미늄 반사층(12)은, 상기 제 1 전극층(E1)과 전기적으로 연결될 수 있도록 상기 제 1 전극층(E1)과 상기 절연층(11) 사이에 설치될 수 있다.2, the aluminum
또한, 도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 알루미늄 반사층(12)은, 상기 제 2 전극층(E2)과 절연될 수 있도록 중간부분에 전극 분리선(S)이 형성되고, 상기 전극 분리선(S)을 기준으로 일측에 설치되는 제 1 반사층(12-1) 및 타측에 설치되는 제 2 반사층(12-2)을 포함할 수 있다.1 and 3, an electrode separation line S is formed at an intermediate portion of the
따라서, 상기 알루미늄 반사층(12)의 제 1 반사층(12-1)은, 상기 전극 분리선(S)에 의해서 일부가 잘려진 원형 형상이고, 상기 알루미늄 반사층(12)의 제 2 반사층(12-2)은, 나머지 원형 형상일 수 있다.The first reflective layer 12-1 of the aluminum
여기서, 상기 알루미늄 반사층(12)의 면적은, 적어도 상기 발광 소자 안착부의 적어도 70퍼센트 이상의 면적에 설치될 수 있고, 상기 전극 분리선(S)과 상기 제 1 전극층(E1) 및 상기 제 2 전극층(E2)을 제외한 부분에 최대한 넓은 면적으로 설치되는 것이 유리할 수 있다.Here, the area of the aluminum
또한, 상기 제 1 반사층(12-1)은, 상기 제 1 전극층(E1)과 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 제 2 반사층(12-2)은, 상기 제 2 전극층(E2)과 전기적으로 연결될 수 있다. 여기서, 상기 알루미늄 반사층(12)의 제 1 반사층(12-1)과 상기 제 2 반사층(12-2)은, 그 사이에 형성되는 전극 분리선(S)에 의해서 서로 절연될 수 있다. The first reflective layer 12-1 may be electrically connected to the first electrode layer E1 and the second reflective layer 12-2 may be electrically connected to the second electrode layer E2. have. The first reflective layer 12-1 and the second reflective layer 12-2 of the aluminum
그러나, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)의 상기 알루미늄 반사층(12)의 형상은 도 1 내지 도 3에 반드시 국한되지 않는다.However, the shape of the aluminum
도 4는 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(200)를 나타내는 평면도이다.4 is a plan view illustrating a light emitting
도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(200)의 알루미늄 반사층(12)은, 별도의 전극 분리선(S)이 형성될 필요가 없이 상술된 제 1 반사층(12-1)과 상기 제 2 반사층(12-2)이 하나의 원형 모양으로 통합된 형태일 수 있다.4, the aluminum
도 5는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(300)를 나타내는 평면도이다.5 is a plan view illustrating a light emitting
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(300)의 알루미늄 반사층(12)은, 전극 분리선(S)을 기준으로 전체적으로 사각형 형태인 제 1 반사층(12-1) 및 전체적으로 사각형 형태인 제 2 반사층(12-2)을 포함할 수 있다.5, the aluminum
이외에도, 상기 알루미늄 반사층(12)의 형태는, 원형, 사각형은 물론, 타원형, 다각형, 복합형, 각종 기하학적 형태 등 매우 다양할 수 있고, 상기 전극 분리선(S)의 형태 역시, 일자형이 아닌 곡선형이나 절곡형이나, 파형 등 매우 다양하게 형성되거나 생략될 수 있다. In addition, the shape of the aluminum
또한, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 전극층(E1)은, 상기 절연층(11)의 일측에 설치되고, 상기 제 2 전극층(E2)은, 상기 절연층(11)의 타측에 설치되는 것으로서, 상기 제 1 전극층(E1)은, 상기 금속 기판(10)의 전면(10a) 일측에서 후면(10b) 일측까지 연장되는 형상으로 상기 절연층(11)에 형성되고, 상기 제 2 전극층(E2)은, 상기 금속 기판(10)의 전면(10a) 타측에서 후면(10b) 타측까지 연장되는 형상으로 상기 절연층(11)에 형성될 수 있다.1 to 3, the first electrode layer E1 is provided on one side of the insulating
여기서, 상기 제 1 전극층(E1) 및 상기 제 2 전극층(E2)는, 전도층 패턴의 배선층 형태로 설치될 수 있다. 이러한 배선층은 열전도성이 우수하고 비교적 저렴한 재질인 구리, 알루미늄 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어질 수 있다.Here, the first electrode layer E1 and the second electrode layer E2 may be provided in the form of a wiring layer of a conductive layer pattern. The wiring layer may be made of at least one selected from copper, aluminum, and combinations thereof, which are excellent in thermal conductivity and relatively inexpensive materials.
이 때, 이러한 패턴 형성 방법은 열압착 가공, 도금 가공, 접착 가공, 스퍼터링 가공이나, 기타 식각 가공, 프린팅 가공, 스프레이 가공 등의 방법이 이용될 수 있다.At this time, such a pattern forming method may be thermocompression processing, plating processing, adhesive processing, sputtering processing, other etching processing, printing processing, spray processing and the like.
한편, 도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)는, 상기 발광 소자 안착부에 안착되고, 상기 제 1 전극층(E1) 및 상기 제 2 전극층(E2)과 전기적으로 연결되며, 100nm 이상 420 nm 이하의 파장을 포함하는 유브이 광을 방출하는 유브이(UV) 엘이디(LED)일 수 있다.1 to 5, the UV
여기서, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)는, 전면(20a)에 와이어(W)가 연결될 수 있는 제 1 전극 패드(P1) 및 제 2 전극 패드(P2)가 형성될 수 있고, 후면(20b)에 절연성 본딩 매체가 설치될 수 있다.Here, the UV
또한, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)는, 수평형 또는 수직형이거나, 와이어(W)가 불필요한 플립칩(flip chip) 형상일 수 있다. 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)에는 각종 범프나 솔더 등의 신호전달매체가 구비될 수 있고, 다양한 형태의 발광 소자들이 적용될 수 있다.The UV
또한, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)는, 상기 금속 기판(10)에 안착될 수 있는 것으로서, 도 1에서는 상기 금속 기판(10) 위에 1개의 유브이(UV) 발광 소자(20)가 안착된 상태를 예시하였지만, 이외에도, 상기 금속 기판(10)에는 복수개의 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)들이 안착될 수 있다. 1, the UV
이러한, 유브이(UV) 발광 소자(20)는, 반도체로 이루어질 수 있다. 예를 들어서, 질화물 반도체로 이루어지는 자외 발광의 LED 등이 적용될 수 있다. 질화물 반도체는, 일반식이 AlxGayInzN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤z≤1, x+y+z=1)으로 나타내어 질 수 있다.The UV
또한, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)는, 예를 들면, MOCVD법 등의 기상성장법에 의해, 성장용 사파이어 기판이나 실리콘 카바이드 기판 상에 InN, AlN, InGaN, AlGaN, InGaAlN 등의 질화물 반도체를 에피택셜 성장시켜 구성할 수 있다. 또한, 상기 발광 소자(20)는, 질화물 반도체 이외에도 ZnO, ZnS, ZnSe, SiC, GaP, GaAlAs, AlInGaP 등의 반도체를 이용해서 형성할 수 있다. 이들 반도체는, n형 반도체층, 발광층, p형 반도체층의 순으로 형성한 적층체를 이용할 수 있다. 상기 발광층(활성층)은, 다중 양자웰 구조나 단일 양자웰 구조를 포함한 적층 반도체 또는 더블 헤테로 구조의 적층 반도체를 이용할 수 있다. 또한, 상기 발광 소자(20)는, 디스플레이 용도나 조명 용도 등 용도에 따라 임의의 파장의 것을 선택할 수 있다.The UV
여기서, 상기 성장용 기판으로는 필요에 따라 절연성, 도전성 또는 반도체 기판이 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 성장용 기판은 사파이어, SiC, Si, MgAl2O4, MgO, LiAlO2, LiGaO2, GaN일 수 있다. GaN 물질의 에피성장을 위해서는 동종 기판인 GaN 기판이 좋으나, GaN 기판은 그 제조상의 어려움으로 생산단가가 높은 문제가 있다.Here, as the growth substrate, an insulating, conductive or semiconductor substrate may be used if necessary. For example, the growth substrate may be sapphire, SiC, Si, MgAl 2 O 4, MgO, LiAlO 2, LiGaO 2, GaN. A GaN substrate, which is a homogeneous substrate, is preferable for epitaxial growth of a GaN material, but a GaN substrate has a problem of high production cost due to its difficulty in manufacturing.
이종 기판으로는 사파이어, 실리콘 카바이드(SiC) 기판 등이 주로 사용되고 있으며. 가격이 비싼 실리콘 카바이드 기판에 비해 사파이어 기판이 더 많이 활용되고 있다. 이종 기판을 사용할 때는 기판 물질과 박막 물질 사이의 격자상수의 차이로 인해 전위(dislocation) 등 결함이 증가한다. 또한, 기판 물질과 박막 물질 사이의 열팽창계수의 차이로 인해 온도 변화시 휨이 발생하고, 휨은 박막의 균열(crack)의 원인이 된다. 기판과 GaN계인 발광 적층체 사이의 버퍼층을 이용해 이러한 문제를 감소시킬 수도 있다.Sapphire and silicon carbide (SiC) substrates are mainly used as the different substrates. Sapphire substrates are more utilized than expensive silicon carbide substrates. When using a heterogeneous substrate, defects such as dislocation are increased due to the difference in lattice constant between the substrate material and the thin film material. Also, due to the difference in the thermal expansion coefficient between the substrate material and the thin film material, warping occurs at a temperature change, and warping causes a crack in the thin film. This problem may be reduced by using a buffer layer between the substrate and the GaN-based light emitting laminate.
또한, 상기 성장용 기판은 LED 구조 성장 전 또는 후에 LED 칩의 광 또는 전기적 특성을 향상시키기 위해 칩 제조 과정에서 완전히 또는 부분적으로 제거되거나 패터닝하는 경우도 있다.In addition, the substrate for growth may be completely or partially removed or patterned in order to improve the optical or electrical characteristics of the LED chip before or after the growth of the LED structure.
예를 들어, 사파이어 기판인 경우는 레이저를 기판을 통해 반도체층과의 계면에 조사하여 기판을 분리할 수 있으며, 실리콘이나 실리콘 카바이드 기판은 연마/에칭 등의 방법에 의해 제거할 수 있다.For example, in the case of a sapphire substrate, the substrate can be separated by irradiating the laser to the interface with the semiconductor layer through the substrate, and the silicon or silicon carbide substrate can be removed by a method such as polishing / etching.
또한, 상기 성장용 기판 제거 시에는 다른 지지 기판을 사용하는 경우가 있으며 지지 기판은 원 성장 기판의 반대쪽에 LED 칩의 광효율을 향상시키기 위해서, 반사 금속을 사용하여 접합하거나 반사구조를 접합층의 중간에 삽입할 수 있다.Another support substrate may be used for removing the growth substrate, and the support substrate may be bonded to the opposite side of the growth substrate by using a reflective metal in order to improve the light efficiency of the LED chip, As shown in FIG.
또한, 상기 성장용 기판 패터닝은 기판의 주면(표면 또는 양쪽면) 또는 측면에 LED 구조 성장 전 또는 후에 요철 또는 경사면을 형성하여 광 추출 효율을 향상시킨다. 패턴의 크기는 5nm ~ 500㎛ 범위에서 선택될 수 있으며 규칙 또는 불규칙적인 패턴으로 광 추출 효율을 좋게 하기 위한 구조면 가능하다. 모양도 기둥, 산, 반구형, 다각형 등의 다양한 형태를 채용할 수 있다.In addition, patterning of the growth substrate improves the light extraction efficiency by forming irregularities or slopes before or after the LED structure growth on the main surface (front surface or both sides) or side surfaces of the substrate. The size of the pattern can be selected from the range of 5 nm to 500 μm and it is possible to make a structure for improving the light extraction efficiency with a rule or an irregular pattern. Various shapes such as a shape, a column, a mountain, a hemisphere, and a polygon can be adopted.
상기 사파이어 기판의 경우, 육각-롬보형(Hexa-Rhombo R3c) 대칭성을 갖는 결정체로서 c축 및 a측 방향의 격자상수가 각각 13.001과 4.758 이며, C면, A면, R면 등을 갖는다. 이 경우, 상기 C면은 비교적 질화물 박막의 성장이 용이하며, 고온에서 안정하기 때문에 질화물 성장용 기판으로 주로 사용된다.In the case of the sapphire substrate, the crystals having a hexagonal-rhombo-cubic (Hexa-Rhombo R3c) symmetry have lattice constants of 13.001 and 4.758 in the c-axis direction and the a-axis direction, respectively, and have C plane, A plane and R plane. In this case, the C-plane is relatively easy to grow the nitride film, and is stable at high temperature, and thus is mainly used as a substrate for nitride growth.
또한, 상기 성장용 기판의 다른 물질로는 Si 기판을 들 수 있으며, 대구경화에 보다 적합하고 상대적으로 가격이 낮아 양산성이 향상될 수 있다.Another material of the growth substrate is a Si substrate, which is more suitable for large-scale curing and relatively low in cost, so that mass productivity can be improved.
또한, 상기 실리콘(Si) 기판은 GaN계 반도체에서 발생하는 빛을 흡수하여 발광소자의 외부 양자 효율이 낮아지므로, 필요에 따라 상기 금속 기판을 제거하고 반사층이 포함된 Si, Ge, SiAl, 세라믹, 또는 금속 기판 등의 지지기판을 추가로 형성하여 사용한다.Since the external quantum efficiency of the light emitting device is lowered by absorbing the light generated from the GaN-based semiconductor, the Si substrate may be formed of Si, Ge, SiAl, ceramic, Or a support substrate such as a metal substrate is further formed and used.
상기 Si 기판과 같이 이종 기판상에 GaN 박막을 성장시킬 때, 기판 물질과 박막 물질 사이의 격자 상수의 불일치로 인해 전위(dislocation) 밀도가 증가하고, 열팽창 계수 차이로 인해 균열(crack) 및 휨이 발생할 수 있다. 발광 적층체의 전위 및 균열을 방지하기 위한 목적으로 성장용 기판과 발광적층체 사이에 버퍼층을 배치시킬 수 있다. 상기 버퍼층은 활성층 성장시 기판의 휘는 정도를 조절해 웨이퍼의 파장 산포를 줄이는 기능도 한다.When a GaN thin film is grown on a different substrate such as the Si substrate, the dislocation density increases due to the lattice constant mismatch between the substrate material and the thin film material, and cracks and warpage Lt; / RTI > The buffer layer may be disposed between the growth substrate and the light emitting stack for the purpose of preventing dislocation and cracking of the light emitting stack. The buffer layer also functions to reduce the scattering of the wavelength of the wafer by adjusting the degree of warping of the substrate during the growth of the active layer.
여기서, 상기 버퍼층은 AlxInyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, x+y≤1), 특히 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, 또는 InGaNAlN를 사용할 수 있으며, 필요에 따라 ZrB2, HfB2, ZrN, HfN, TiN 등의 물질도 사용할 수 있다. 또한, 복수의 층을 조합하거나, 조성을 점진적으로 변화시켜 사용할 수도 있다.Here, the buffer layer may be made of Al x In y Ga 1-xy N (0? X? 1, 0? Y? 1, x + y? 1), in particular GaN, AlN, AlGaN, InGaN or InGaNAlN. Materials such as ZrB2, HfB2, ZrN, HfN and TiN can also be used as needed. Further, a plurality of layers may be combined, or the composition may be gradually changed.
한편, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 금속 기판(10)은, 기판 스트립(SS)에서 개별 금속 기판(10)으로 절단시, 상기 절연층(11)의 크랙 전파를 방지할 수 있도록 측방에 측면으로부터 여유 길이(L1)만큼 돌출되는 여유 돌기(30)가 형성될 수 있다.3, when the
따라서, 절단 장비가 상기 절단 라인(C1)(C2)을 따라 상기 기판 스트립(SS)을 절단할 때, 상기 절연층(11)의 일부에 크랙(crack)이 발생되더라도 상기 크랙은 상기 여유 돌기(30) 인근에만 머무를 뿐, 상기 금속 기판(10) 상의 절연층(11)에까지 전파되어 쇼트 등의 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다. Therefore, when the cutting equipment cuts the substrate strip SS along the cutting lines C1 and C2, even if a crack is generated in a part of the insulating
한편, 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)의 둘레에 형광체(40)를 설치할 수 있다. 예컨데, 이러한 형광체(40)는 아래와 같은 조성식 및 컬러를 가질 수 있다.On the other hand, as shown in FIG. 11, the
산화물계: 황색 및 녹색 Y3Al5O12:Ce, Tb3Al5O12:Ce, Lu3Al5O12:CeOxide system: yellow and green Y3Al5O12: Ce, Tb3Al5O12: Ce, Lu3Al5O12: Ce
실리케이트계: 황색 및 녹색 (Ba,Sr)2SiO4:Eu, 황색 및 등색 (Ba,Sr)3SiO5:Ce(Ba, Sr) 2SiO4: Eu, yellow and orange (Ba, Sr) 3SiO5: Ce
질화물계: 녹색 β-SiAlON:Eu, 황색 L3Si6O11:Ce, 등색 α-SiAlON:Eu, 적색 CaAlSiN3:Eu, Sr2Si5N8:Eu, SrSiAl4N7:EuEu, Sr2Si5N8: Eu, SrSiAl4N7: Eu, Eu3O3: Eu, Eu3O3: Eu,
이러한, 상기 형광체(40)의 조성은 기본적으로 화학양론(Stoichiometry)에 부합하여야 하며, 각 원소들은 주기율표상 각 족들 내 다른 원소로 치환이 가능하다. 예를 들어 Sr은 알카리토류(II)족의 Ba, Ca, Mg 등으로, Y은 란탄계열의 Tb, Lu, Sc, Gd 등으로 치환이 가능하다, 또한 활성제인 Eu 등은 원하는 에너지 준위에 따라 Ce, Tb, Pr, Er, Yb 등으로 치환이 가능하며, 활성제 단독 또는 특성 변형을 위해 부활성제등이 추가로 적용될 수 있다.The composition of the
또한, 상기 형광체(40)의 대체 물질로 양자점(Quantum Dot) 등의 물질들이 적용될 수 있으며, LED에 형광체(40)와 QD를 혼합 또는 단독으로 사용될 수 있다.Materials such as a quantum dot may be used as a substitute for the
QD는 CdSe, InP 등의 코어(3 ~ 10nm)와 ZnS, ZnSe 등의 쉘(0.5 ~ 2nm)및 코어, 쉘의 안정화를 위한 리간드(Ligand)의 구조로 구성될 수 있으며, 크기에 따라 다양한 칼라를 구현할 수 있다.QD can be composed of a core (3 to 10 nm) such as CdSe and InP, a shell (0.5 to 2 nm) such as ZnS and ZnSe, and a ligand for stabilizing the core and the shell. Can be implemented.
또한, 상기 형광체(40) 또는 양자점(Quantum Dot)의 도포 방식은 크게 LED 칩 또는 발광소자에 뿌리는 방식, 또는 막 형태로 덮는 방식, 필름 또는 세라믹 형광체 등의 시트 형태를 부착하는 방식 중 적어도 하나를 사용 할 수 있다.The coating method of the
뿌리는 방식으로는 디스펜싱, 스프레이 코팅 등이 일반적이며 디스펜싱은 공압방식과 스크류(Screw), 리니어 타입(Linear type) 등의 기계적 방식을 포함한다. 제팅(Jetting) 방식으로 미량 토출을 통한 도팅량 제어 및 이를 통한 색좌표 제어도 가능하다. 웨이퍼 레벨 또는 발광 소자 기판상에 스프레이 방식으로 형광체를 일괄 도포하는 방식은 생산성 및 두께 제어가 용이할 수 있다. Dispensing and spray coating are common methods of spraying, and dispensing includes mechanical methods such as pneumatic method and screw, linear type. It is also possible to control the amount of dyeing through a small amount of jetting by means of a jetting method and control the color coordinates thereof. The method of collectively applying the phosphor on the wafer level or the light emitting device substrate by the spray method can easily control productivity and thickness.
상기 유브이(UV) 발광 소자(20) 또는 LED 칩 위에 막 형태로 직접 덮는 방식은 전기영동, 스크린 프린팅 또는 형광체의 몰딩 방식으로 적용될 수 있으며 LED 칩 측면의 도포 유무 필요에 따라 해당 방식의 차이점을 가질 수 있다.The method of directly covering the UV
발광 파장이 다른 2종 이상의 형광체 중 단파장에서 발광하는 광을 재 흡수하는 장파장 발광 형광체의 효율을 제어하기 위하여 발광 파장이 다른 2종 이상의 형광체층을 구분할 수 있으며, LED 칩과 형광체 2종 이상의 파장 재흡수 및 간섭을 최소화하기 위하여 각 층 사이에 DBR(ODR)층을 포함 할 수 있다.In order to control the efficiency of the long-wavelength light-emitting phosphor that reabsers light emitted from a short wavelength among two or more kinds of phosphors having different emission wavelengths, two or more kinds of phosphor layers having different emission wavelengths can be distinguished. A DBR (ODR) layer may be included between each layer to minimize absorption and interference.
균일 도포막을 형성하기 위하여 형광체를 필름 또는 세라믹 형태로 제작 후 LED 칩 또는 발광 소자 위에 부착할 수 있다. In order to form a uniform coating film, the phosphor may be formed into a film or ceramic form and then attached onto the LED chip or the light emitting device.
광 효율, 배광 특성에 차이점을 주기 위하여 리모트 형식으로 광변환 물질을 위치할 수 있으며, 이 때 광변환 물질은 내구성, 내열성에 따라 투광성 고분자, 유리등의 물질 등과 함께 위치한다.In order to make a difference in light efficiency and light distribution characteristics, a photoelectric conversion material may be located in a remote format. In this case, the photoelectric conversion material is located together with a transparent polymer, glass, or the like depending on its durability and heat resistance.
이러한, 상기 형광체(40) 도포 기술은 발광 소자에서 광특성을 결정하는 가장 큰 역할을 하게 되므로, 형광체 도포층의 두께, 형광체 균일 분산 등의 제어 기술들이 다양하게 연구되고 있다. QD 또한 형광체와 동일한 방식으로 LED 칩 또는 발광 소자에 위치할 수 있으며, 유리 또는 투광성 고분자 물질 사이에 위치하여 광 변환을 할 수 있다.Since the coating technique of the
또한, 도 2 및 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)의 둘레에 렌즈(50)가 설치될 수 있다.Also, as shown in FIGS. 2 and 11, a
여기서, 상기 렌즈(50)는 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)에서 발생된 유브이 광의 경로를 안내할 수 있는 것으로서, 유리, 에폭시 수지 조성물, 실리콘 수지 조성물, 실리콘 변성 에폭시 수지 등의 변성 에폭시 수지 조성물, 에폭시 변성 실리콘 수지 등의 변성 실리콘 수지 조성물, 폴리이미드 수지 조성물, 변성 폴리이미드 수지 조성물, 폴리프탈아미드(PPA), 폴리카보네이트 수지, 폴리페닐렌 설파이드(PPS), 액정 폴리머(LCP), ABS 수지, 페놀 수지, 아크릴 수지, PBT 수지 등이 적용될 수 있다.The
또한, 도시하지 않았지만, 이외에도, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)의 주변에 각종 반사 부재나, 투광 봉지재나, 불투광 봉지재 등 매우 다양한 형태의 부품들이 설치될 수 있다.In addition, although not shown, various types of components such as various reflective members, light-transmitting encapsulant, and opaque encapsulant may be installed around the UV
한편, 도시하지 않았지만, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지는, 금속 기판(10)과, 상기 금속 기판(10)을 둘러싸는 절연층(11)과, 상기 절연층(11)의 발광 소자 안착부에 안착되는 유브이(UV) 발광 소자(20)와, 상기 절연층(11)의 일측에 설치되고, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)와 전기적으로 연결되는 제 1 전극층(E1)와, 상기 절연층(11)의 타측에 설치되는 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)와 전기적으로 연결되는 제 2 전극층(E2) 및 상기 금속 기판(10)에 측방에 설치되고, 기판 스트립(SS)에서 개별 금속 기판(10)으로 절단시, 상기 절연층(11)의 크랙을 방지할 수 있도록 상기 금속 기판(10)의 측면으로부터 여유 길이(L1)만큼 측방으로 돌출되는 여유 돌기(30)를 포함할 수 있다. 여기서, 상기 금속 기판(10)과, 상기 절연층(11)과, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)와, 상기 제 1 전극층(E1)와, 상기 제 2 전극층(E2) 및 상기 여유 돌기(30)는, 도 1 내지 도 5에 설명된 그것들과 동일한 구성과 동일한 역할을 할 수 있다. 따라서, 상세한 설명은 생략한다. 따라서, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 발광 소자 패키지는, 반드시 상술된 상기 알루미늄 반사층(12)을 포함하는 것은 아니다.The light emitting device package according to some embodiments of the present invention includes a
도 6 내지 도 11은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)의 제작 과정을 단계적으로 나타내는 단면도들이다.6 to 11 are cross-sectional views illustrating steps of fabricating the light emitting
도 6 내지 도 11을 참조하면, 먼저, 도 6에 도시된 바와 같이, 개별 금속 기판(10)들이 서로 연결된 형태의 알루미늄 재질의 금속 기판 스트립(SS)을 준비할 수 있다.Referring to FIGS. 6 to 11, first, as shown in FIG. 6, a metal substrate strip SS of aluminum material in which
이 때, 상기 금속 기판 스트립(SS)은 복수개의 도 3의 상기 금속 기판(10)들이 측면에 형성되는 브릿지 등에 의해서 매트릭스 배치되어 서로 연결되어 있는 형태일 수 있다. In this case, the metal substrate strip SS may be a matrix in which a plurality of
이어서, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 금속 기판 스트립(SS)에 절연층(11)이 형성되도록 상기 금속 기판 스트립(SS)을 산화시켜서 알루미늄 산화물인 알루미나 절연층(11)을 형성할 수 있다.7, the metal substrate strip SS may be oxidized to form the
이어서, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 절연층(11)의 발광 소자 안착부에 알루미늄 반사층(12)을 설치할 수 있다.Next, as shown in FIG. 8, an aluminum
여기서, 상기 알루미늄 반사층(12)은, 열압착 가공, 도금 가공, 접착 가공, 스퍼터링 가공이나, 기타 식각 가공, 프린팅 가공, 스프레이 가공 등의 방법으로 상기 절연층(11) 상에 설치할 수 있다.Here, the aluminum
이어서, 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 절연층(11)의 일측에 제 1 전극층(E1)을 설치하고, 상기 절연층(11)의 타측에 제 2 전극층(E2)을 설치할 수 있다.9, a first electrode layer E1 may be provided on one side of the insulating
여기서, 상기 제 1 전극층(E1) 및 상기 제 2 전극층(E2) 역시, 열압착 가공, 도금 가공, 접착 가공, 스퍼터링 가공이나, 기타 식각 가공, 프린팅 가공, 스프레이 가공 등의 방법으로 상기 절연층(11) 상에 설치할 수 있다.Here, the first electrode layer E1 and the second electrode layer E2 may also be formed by a thermal compression process, a plating process, an adhesive process, a sputtering process, another etching process, a printing process, a spray process, 11).
이어서, 도 10에 도시된 바와 같이, 다이 본딩 장치나 와이어링 장비 등을 이용하여 상기 발광 소자 안착부에 유브이(UV) 발광 소자(20)를 안착시키고, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)에 와이어(W) 등의 각종 신호 전달 매체를 설치하거나, 상기 형광체(40)를 설치하거나, 상기 렌즈(50)나 기타 반사 부재, 봉지재 등을 추가로 설치할 수 있다.10, a UV
이어서, 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 절연층(11)의 크랙을 방지할 수 있도록 상기 금속 기판 스트립(SS)의 측방에 상기 금속 기판(10)의 측면으로부터 여유 길이(L1)만큼 측방으로 돌출되는 여유 돌기(30)가 형성될 수 있도록 상기 금속 기판 스트립(SS)을 절단 장비로 절단할 수 있다.11, the side of the metal substrate strip SS is sideways by an allowance length L1 from the side surface of the
도 12는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)의 제작 방법을 나타내는 순서도이다.12 is a flowchart showing a method of manufacturing a light emitting
도 6 내지 도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)의 제작 방법은, 개별 금속 기판(10)들이 서로 연결된 형태의 알루미늄 재질의 금속 기판 스트립(SS)을 준비하는 단계(S1)와, 이어서, 상기 금속 기판 스트립(SS)에 절연층(11)이 형성되도록 상기 금속 기판 스트립(SS)을 산화시키는 단계(S2)와, 상기 절연층(11)의 발광 소자 안착부에 알루미늄 반사층(12)을 설치하는 단계(S3)와, 상기 절연층(11)의 일측에 제 1 전극층(E1)을 설치하고, 상기 절연층(11)의 타측에 제 2 전극층(E2)을 설치하는 단계(S4)와, 상기 발광 소자 안착부에 유브이(UV) 발광 소자를 안착시키는 단계(S5) 및 상기 절연층(11)의 크랙을 방지할 수 있도록 상기 금속 기판 스트립(SS)의 측방에 상기 금속 기판(10)의 측면으로부터 여유 길이(L1)만큼 측방으로 돌출되는 여유 돌기(30)가 형성될 수 있도록 상기 금속 기판 스트립(SS)을 절단하는 단계(S6)를 포함할 수 있다.6-12, a method of fabricating a light emitting
여기서, 상기 절연층(11)의 발광 소자 안착부에 알루미늄 반사층(12)을 설치하는 단계(S3)는, 상기 절연층(11)의 일측에 제 1 전극층(E1)을 설치하고, 상기 절연층(11)의 타측에 제 2 전극층(E2)을 설치하는 단계(S4) 이후에 수행될 수 있다.The step S3 of installing the aluminum
한편, 도시하지 않았지만, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)를 갖는 백라이트 유닛은, 상술된 구성들 이외에 도광판을 더 포함할 수 있다.Meanwhile, although not shown, a backlight unit having a light emitting
이러한, 상기 백라이트 유닛은, LCD 패널에 설치되어 LCD 패널 방향으로 빛을 투사하는 것으로서, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)에서 발생된 빛의 경로에 설치되어, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)에서 발생된 빛을 보다 넓은 면적으로 전달할 수 있다.The backlight unit is installed on the LCD panel and projects light toward the LCD panel. The backlight unit is installed in a path of light generated from the UV
또한, 도시하지 않았지만, 상기 도광판은, 그 재질이 폴리카보네이트 계열, 폴리술폰계열, 폴리아크릴레이트 계열, 폴리스틸렌계, 폴리비닐클로라이드계, 폴리비닐알코올계, 폴리노르보넨 계열, 폴리에스테르 등이 적용될 수 있고, 이외에도 각종 투광성 수지 계열을 재질이 적용될 수 있다. 또한, 상기 도광판(50)은, 표면에 미세 패턴이나 미세 돌기나 확산막등을 형성하거나, 내부에 미세 기포를 형성하는 등 다양한 방법으로 이루어질 수 있다.Although not shown, the light guide plate may be made of polycarbonate, polysulfone, polyacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polynorbornene, polyester, or the like In addition, materials of various translucent resin series can be applied. The
이러한 본 발명의 일부 실시예들에 따른 백라이트 유닛은, 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)가 상기 도광판의 하방에 설치되는 직하형 백라이트 유닛이거나 상기 유브이(UV) 발광 소자(20)가 상기 도광판의 측방에 설치되는 에지형 백라이트 유닛이거나일 수 있다.The backlight unit according to some embodiments of the present invention may be a direct-type backlight unit in which the UV
한편, 도시하지 않았지만, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자 패키지(100)는, 유브이(UV) 경화 장치, 유브이(UV) 살균 장치 등 유브이(UV) 광이 이용될 수 있는 다양한 장치 또는 기술분야에 사용될 수 있다.Although not shown, the light emitting
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.
10: 금속 기판
10a, 20a: 전면
10b, 20b: 후면
11: 절연층
12: 알루미늄 반사층
E1: 제 1 전극층
E2: 제 2 전극층
20: 발광 소자
P1: 제 1 전극 패드
P2: 제 2 전극 패드
W: 와이어
S: 전극 분리선
12-1: 제 1 반사층
12-2: 제 2 반사층
SS: 기판 스트립
L1: 여유 길이
30: 여유 돌기
40: 형광체
50: 렌즈
100, 200, 300: 발광 소자 패키지10: metal substrate
10a, 20a: Front
10b, 20b: rear surface
11: Insulating layer
12: aluminum reflective layer
E1: first electrode layer
E2: Second electrode layer
20: Light emitting element
P1: first electrode pad
P2: second electrode pad
W: Wire
S: electrode separator
12-1: First reflective layer
12-2: Second reflective layer
SS: substrate strip
L1: Clearance length
30: Leaf projection
40: phosphor
50: lens
100, 200, 300: light emitting device package
Claims (11)
상기 금속 기판을 피복하는 절연층;
상기 절연층의 발광 소자 안착부에 형성되는 알루미늄 반사층;
상기 절연층의 일측에 설치되는 제 1 전극층;
상기 절연층의 타측에 설치되는 제 2 전극층; 및
상기 발광 소자 안착부에 안착되고, 상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층과 전기적으로 연결되는 발광 소자;
를 포함하고,
상기 알루미늄 반사층은, 상기 제 1 전극층과 전기적으로 연결될 수 있도록 상기 제 1 전극층과 상기 절연층 사이에 설치되는 것인, 발광 소자 패키지.A metal substrate;
An insulating layer covering the metal substrate;
An aluminum reflective layer formed on the light emitting device seating portion of the insulating layer;
A first electrode layer provided on one side of the insulating layer;
A second electrode layer provided on the other side of the insulating layer; And
A light emitting element mounted on the light emitting element seating portion and electrically connected to the first electrode layer and the second electrode layer;
Lt; / RTI >
Wherein the aluminum reflective layer is disposed between the first electrode layer and the insulating layer so as to be electrically connected to the first electrode layer.
상기 금속 기판은, 알루미늄 성분을 포함하고, 상기 절연층은, 상기 금속 기판 상에 형성된 알루미늄 산화막인, 발광 소자 패키지.The method according to claim 1,
Wherein the metal substrate comprises an aluminum component, and the insulating layer is an aluminum oxide film formed on the metal substrate.
상기 알루미늄 반사층은, 상기 발광 소자에서 발생된 빛을 반사시킬 수 있도록 상기 발광 소자의 후면의 주위에 전체적으로 원형 또는 사각형으로 형성되는 것인, 발광 소자 패키지.The method according to claim 1,
Wherein the aluminum reflective layer is formed in a circular or square shape as a whole around the rear surface of the light emitting device so as to reflect light generated from the light emitting device.
상기 알루미늄 반사층은, 상기 제 2 전극층과 절연될 수 있도록 중간부분에 전극 분리선이 형성되고, 상기 전극 분리선을 기준으로 일측에 설치되는 제 1 반사층 및 타측에 설치되는 제 2 반사층을 포함하는 것인, 발광 소자 패키지.The method according to claim 1,
Wherein the aluminum reflective layer includes a first reflective layer disposed on one side of the electrode separation line and a second reflective layer disposed on the other side of the second reflective layer, the electrode separation line being formed at an intermediate portion thereof to be insulated from the second electrode layer, A light emitting device package.
상기 제 1 전극층은, 상기 금속 기판의 전면 일측에서 후면 일측까지 연장되는 형상으로 상기 절연층에 형성되고,
상기 제 2 전극층은, 상기 금속 기판의 전면 타측에서 후면 타측까지 연장되는 형상으로 상기 절연층에 형성되는 것인, 발광 소자 패키지.The method according to claim 1,
Wherein the first electrode layer is formed on the insulating layer so as to extend from one side of the front surface of the metal substrate to one side of the rear surface,
And the second electrode layer is formed on the insulating layer in a shape extending from the other side of the front surface of the metal substrate to the other side of the rear surface.
상기 금속 기판은, 측방에 측면으로부터 여유 길이만큼 돌출되는 적어도 2개 이상의 여유 돌기가 형성되는 것인, 발광 소자 패키지.The method according to claim 1,
Wherein the metal substrate has at least two margin projections which are laterally protruded from the side surface by an allowance length.
상기 발광 소자는 유브이(UV) 발광 소자인, 발광 소자 패키지.The method according to any one of claims 1 to 3, 5 to 7,
Wherein the light emitting element is a UV light emitting element.
상기 금속 기판 스트립에 절연층이 형성되도록 상기 금속 기판 스트립을 산화시키는 단계;
상기 절연층의 발광 소자 안착부에 알루미늄 반사층을 형성하는 단계;
상기 절연층의 일측에 제 1 전극층을 설치하고, 상기 절연층의 타측에 제 2 전극층을 설치하는 단계; 및
상기 발광 소자 안착부에 유브이(UV) 발광 소자를 안착시키는 단계;
를 포함하고,
상기 알루미늄 반사층은, 상기 제 1 전극층과 전기적으로 연결될 수 있도록 상기 제 1 전극층과 상기 절연층 사이에 설치되는 것인, 발광 소자 패키지의 제작 방법.Preparing a metal substrate strip of aluminum material;
Oxidizing the metal substrate strip to form an insulating layer on the metal substrate strip;
Forming an aluminum reflective layer on the light emitting device seating portion of the insulating layer;
Providing a first electrode layer on one side of the insulating layer and a second electrode layer on the other side of the insulating layer; And
Placing a UV light emitting element on the light emitting element seating portion;
Lt; / RTI >
Wherein the aluminum reflective layer is disposed between the first electrode layer and the insulating layer so as to be electrically connected to the first electrode layer.
상기 금속 기판 스트립에 절연층이 형성되도록 상기 금속 기판 스트립을 산화시키는 단계;
상기 절연층의 일측에 제 1 전극층을 설치하고, 상기 절연층의 타측에 제 2 전극층을 설치하는 단계;
상기 절연층의 발광 소자 안착부에 알루미늄 반사층을 형성하는 단계; 및
상기 발광 소자 안착부에 유브이(UV) 발광 소자를 안착시키는 단계;
를 포함하고,
상기 알루미늄 반사층은, 상기 제 1 전극층과 전기적으로 연결될 수 있도록 상기 제 1 전극층과 상기 절연층 사이에 설치되는 것인, 발광 소자 패키지의 제작 방법.Preparing a metal substrate strip of aluminum material;
Oxidizing the metal substrate strip to form an insulating layer on the metal substrate strip;
Providing a first electrode layer on one side of the insulating layer and a second electrode layer on the other side of the insulating layer;
Forming an aluminum reflective layer on the light emitting device seating portion of the insulating layer; And
Placing a UV light emitting element on the light emitting element seating portion;
Lt; / RTI >
Wherein the aluminum reflective layer is disposed between the first electrode layer and the insulating layer so as to be electrically connected to the first electrode layer.
상기 금속 기판 스트립의 측방에 상기 금속 기판의 측면으로부터 여유 길이만큼 측방으로 돌출되는 여유 돌기가 형성될 수 있도록 상기 금속 기판 스트립을 절단하는 단계;
를 더 포함하는, 발광 소자 패키지의 제작 방법.
11. The method according to claim 9 or 10,
Cutting the metal substrate strip so that a margin protruding sideways from the side surface of the metal substrate by an allowance length can be formed on the side of the metal substrate strip;
Emitting device package.
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