KR101623558B1 - Light emitting device package and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 직광성을 향상시켜서 배광곡선의 제어를 용이하게 하고, 광 균일도를 향상시키며, 제작 비용 및 제작 시간을 절감하여 생산성을 크게 높일 수 있게 하는 발광 소자 패키지 및 이의 제작 방법에 관한 것으로서, 기판; 상기 기판에 안착되는 발광 소자; 및 상기 기판에 설치되고, 상기 발광 소자의 측면의 표면을 따라서 상기 발광 소자의 측면을 둘러싸게 설치되는 반사벽;을 포함할 수 있다.The present invention relates to a light emitting device package and a method of manufacturing the same, which can improve productivity by improving light uniformity, improving light uniformity, reducing manufacturing cost and manufacturing time, ; A light emitting element mounted on the substrate; And a reflective wall provided on the substrate and surrounding the side surface of the light emitting device along the surface of the side surface of the light emitting device.

Description

발광 소자 패키지 및 이의 제작 방법{Light emitting device package and its manufacturing method}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a light emitting device package and a manufacturing method thereof,

본 발명은 발광 소자 패키지 및 이의 제작 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 직광성을 향상시켜서 배광곡선의 제어를 용이하게 하고, 광 균일도를 향상시키며, 제작 비용 및 제작 시간을 절감하여 생산성을 크게 높일 수 있게 하는 발광 소자 패키지 및 이의 제작 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a light emitting device package and a method of manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a light emitting device package and a method of manufacturing the same, And a method of manufacturing the same.

발광 다이오드(Light Emitting Diode; LED)는 화합물 반도체(compound semiconductor)의 PN 다이오드 형성을 통해 발광원을 구성함으로써, 다양한 색의 광을 구현할 수 있는 일종의 반도체 소자를 말한다. 이러한 발광 소자는 수명이 길고, 소형화 및 경량화가 가능하며, 광의 지향성이 강하여 저전압 구동이 가능하다는 장점이 있다. 또한, 이러한 LED는 충격 및 진동에 강하고, 예열시간과 복잡한 구동이 불필요하며, 다양한 형태로 패키징할 수 있어, 여러 가지 용도로 모듈화하여 각종 조명 장치나 디스플레이 장치 등에 적용할 수 있다.A light emitting diode (LED) is a kind of semiconductor device that can emit light of various colors by forming a light emitting source through the formation of a PN diode of a compound semiconductor. Such a light emitting device has a long lifetime, can be reduced in size and weight, has a strong directivity of light, and can be driven at a low voltage. Further, such an LED is resistant to impact and vibration, does not require preheating time and complicated driving, can be packaged in various forms, can be modularized for various purposes, and can be applied to various lighting devices and display devices.

백라이트 유닛에서 널리 사용되는 직하형 발광 소자 패키지는, 유닛의 두께를 줄이는 동시에 도광판에 광을 균일하게 조사할 수 있도록 1차로 발광 소자 패키지에서 발생된 빛을 2차 렌즈를 통해서 넓게 분산시킬 수 있다.The direct-type light emitting device package widely used in the backlight unit can widely disperse light generated from the light emitting device package through the secondary lens so as to reduce the thickness of the unit and uniformly irradiate the light to the light guide plate.

그러나, 종래의 발광 소자 패키지는 1차로 발광 소자 패키지에서 발생되는 빛이 사방으로 너무 많이 분산되기 때문에 2차 렌즈를 통한 광 제어가 어렵고, 발광 소자 패키지의 테두리부분에서 발생되는 테두리 분산광이 2차 렌즈에서 빛의 굴절이나, 간섭이나, 분광 현상 등의 복잡한 현상이 발생되어 도광판에 조사되는 빛의 색편차나 명암편차가 심하게 발생되는 문제점이 있었다.However, in the conventional light emitting device package, the light generated from the light emitting device package is dispersed too much in four directions, so light control through the secondary lens is difficult, and the rim- A complicated phenomenon such as refraction of light, interference, or spectroscopic phenomenon occurs in the lens, and there is a problem that a color deviation or a lightness deviation of light irradiated to the light guide plate occurs severely.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 발광 소자의 측면을 둘러싸는 반사벽을 이용하여 빛의 직광성을 높임으로써 2차 렌즈를 이용한 광 제어를 용이하게 하고, 분산광을 줄여서 불필요한 빛의 굴절이나, 간섭이나, 분광 현상 등을 제어하여 도광판에 조사되는 빛의 색편차나 명암편차를 줄일 수 있으며, 제작 비용 및 제작 시간을 절감하여 생산성을 크게 높일 수 있게 하는 발광 소자 패키지 및 이의 제작 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems and it is an object of the present invention to improve the directivity of light by using a reflective wall surrounding a side surface of a light emitting device, It is possible to reduce unnecessary light refraction, interference, and spectroscopic phenomenon by reducing light, thereby reducing the color deviation and lightness deviation of the light irradiated to the light guide plate, reducing the production cost and the manufacturing time, And an object of the present invention is to provide a device package and a manufacturing method thereof. However, these problems are exemplary and do not limit the scope of the present invention.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지는, 발광 소자; 및 상기 발광 소자의 측면 방향으로의 광방출을 막도록 상기 발광 소자의 측면을 한바퀴 둘러싸게 설치되는 반사벽;을 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a light emitting device package including: a light emitting element; And a reflection wall that surrounds the side surface of the light emitting device so as to prevent light emission in a lateral direction of the light emitting device.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 반사벽은, 상기 발광 소자의 측면에 직접 접촉될 수 있다.Further, according to the idea of the present invention, the reflection wall can directly contact the side surface of the light emitting element.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 반사벽은, 적어도 반사물질이 포함된 EMC, 반사물질이 포함된 화이트 실리콘, PSR 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어질 수 있다.According to an aspect of the present invention, the reflective wall may be formed by selecting at least one of EMC including at least one reflective material, white silicon containing reflective material, PSR, and combinations thereof.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 발광 소자는, 사각판 형상이고, 상기 반사벽은, 상기 발광 소자의 수직 측면을 둘러싸고, 상기 발광 소자의 수직 측면과 직접 접촉되는 사각홀이 형성되는 것일 수 있다.According to an aspect of the present invention, the light emitting element is in the form of a rectangular plate, and the reflective wall surrounds the vertical side of the light emitting element, and a square hole is formed in direct contact with the vertical side of the light emitting element have.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 발광 소자 패키지는 상기 발광 소자가 안착되는 기판을 더 포함하고, 상기 반사벽은 상기 기판 상에 설치될 수 있다.According to an aspect of the present invention, the light emitting device package further includes a substrate on which the light emitting device is mounted, and the reflective wall may be provided on the substrate.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 반사벽은, 상기 기판 및 상기 발광 소자에 디스펜싱 또는 스크린 프린팅될 수 있다.According to an aspect of the present invention, the reflective wall may be dispensed or screen printed on the substrate and the light emitting element.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 기판은, 적어도 리드 프레임, PCB, FPCB 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어질 수 있다.According to an aspect of the present invention, the substrate may be formed by selecting at least one of a lead frame, a PCB, a FPCB, and a combination thereof.

또한, 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지는, 상기 발광 소자의 광 경로에 설치되는 형광체;를 더 포함할 수 있다.In addition, the light emitting device package according to the present invention may further include a phosphor disposed in an optical path of the light emitting device.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 발광 소자는, 플립칩일 수 있다.Further, according to an aspect of the present invention, the light emitting element may be a flip chip.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 발광 소자 패키지의 제작 방법은, 기판 스트립을 준비하는 단계; 상기 기판 스트립에 적어도 하나의 발광 소자를 안착시키는 단계; 및 상기 발광 소자의 측면의 표면을 따라서 상기 발광 소자의 측면을 둘러싸게 반사벽을 설치하는 단계;를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light emitting device package, including: preparing a substrate strip; Placing at least one light emitting device on the substrate strip; And providing a reflective wall surrounding the side surface of the light emitting device along the surface of the side surface of the light emitting device.

또한, 본 발명의 사상에 따르면, 상기 반사벽을 설치하는 단계는, 상기 기판 스트립 및 상기 발광 소자의 측면에 상기 반사벽을 디스펜싱 또는 스크린 프린팅하는 것일 수 있다.According to an aspect of the present invention, the step of providing the reflective wall may be a step of dispensing or screen printing the reflective wall on the side of the substrate strip and the light emitting element.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 배광 성능을 향상시킬 수 있고, 빛의 색편차나 명암편차를 줄일 수 있으며, 제작 비용 및 제작 시간을 절감하여 생산성을 크게 높일 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.According to some embodiments of the present invention as described above, it is possible to improve the light distribution performance, reduce the color discrepancy and the lightness variation of light, reduce manufacturing cost and production time, . Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1의 발광 소자 패키지를 나타내는 사시도이다.
도 3은 도 1의 발광 소자 패키지의 지향각에 따른 배광 곡선을 나타내는 배광도이다.
도 4는 도 1의 발광 소자 패키지에 렌즈를 설치한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 5는 도 4의 발광 소자 패키지에 렌즈를 설치한 상태의 지향각에 따른 배광 곡선을 나타내는 배광도이다.
도 6 내지 도 9는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제작 방법을 단계적으로 나타내는 단면도들이다.
도 10은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지의 제작 방법을 나타내는 순서도이다.
1 is a cross-sectional view conceptually showing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.
2 is a perspective view showing the light emitting device package of FIG.
FIG. 3 is a light distribution diagram showing a light distribution curve according to the directivity angle of the light emitting device package of FIG. 1;
4 is a cross-sectional view illustrating a state in which a lens is mounted on the light emitting device package of FIG.
5 is a light distribution diagram showing a light distribution curve according to a directivity angle in a state where a lens is installed in the light emitting device package of FIG.
6 to 9 are cross-sectional views illustrating steps of a method of manufacturing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.
10 is a flowchart showing a method of manufacturing a light emitting device package according to some embodiments of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.The embodiments of the present invention are described in order to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following embodiments may be modified in various other forms, The present invention is not limited to the embodiment. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be more thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the thickness and size of each layer are exaggerated for convenience and clarity of explanation.

명세서 전체에 걸쳐서, 막, 영역 또는 기판과 같은 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 상기 하나의 구성요소가 직접적으로 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 접촉하거나, 그 사이에 개재되는 또 다른 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 반면에, 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "직접적으로 상에", "직접 연결되어", 또는 "직접 커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 그 사이에 개재되는 다른 구성요소들이 존재하지 않는다고 해석된다. 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.It is to be understood that throughout the specification, when an element such as a film, region or substrate is referred to as being "on", "connected to", "laminated" or "coupled to" another element, It will be appreciated that elements may be directly "on", "connected", "laminated" or "coupled" to another element, or there may be other elements intervening therebetween. On the other hand, when one element is referred to as being "directly on", "directly connected", or "directly coupled" to another element, it is interpreted that there are no other components intervening therebetween do. Like numbers refer to like elements. As used herein, the term "and / or" includes any and all combinations of one or more of the listed items.

본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various elements, components, regions, layers and / or portions, these members, components, regions, layers and / It is obvious that no. These terms are only used to distinguish one member, component, region, layer or section from another region, layer or section. Thus, a first member, component, region, layer or section described below may refer to a second member, component, region, layer or section without departing from the teachings of the present invention.

또한, "상의" 또는 "위의" 및 "하의" 또는 "아래의"와 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면(turned over), 다른 요소들의 상부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상기 다른 요소들의 하부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "하의" 및 "상의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 소자가 다른 방향으로 향한다면(다른 방향에 대하여 90도 회전), 본 명세서에 사용되는 상대적인 설명들은 이에 따라 해석될 수 있다.Also, relative terms such as "top" or "above" and "under" or "below" can be used herein to describe the relationship of certain elements to other elements as illustrated in the Figures. Relative terms are intended to include different orientations of the device in addition to those depicted in the Figures. For example, in the figures the elements are turned over so that the elements depicted as being on the top surface of the other elements are oriented on the bottom surface of the other elements. Thus, the example "top" may include both "under" and "top" directions depending on the particular orientation of the figure. If the elements are oriented in different directions (rotated 90 degrees with respect to the other direction), the relative descriptions used herein can be interpreted accordingly.

본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular forms "a," "an," and "the" include singular forms unless the context clearly dictates otherwise. Also, " comprise "and / or" comprising "when used herein should be interpreted as specifying the presence of stated shapes, numbers, steps, operations, elements, elements, and / And does not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, operations, elements, elements, and / or groups.

이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings schematically showing ideal embodiments of the present invention. In the figures, for example, variations in the shape shown may be expected, depending on manufacturing techniques and / or tolerances. Accordingly, the embodiments of the present invention should not be construed as limited to the particular shapes of the regions illustrated herein, but should include, for example, changes in shape resulting from manufacturing.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)를 개념적으로 나타내는 단면도이고, 도 2는 도 1의 발광 소자 패키지(100)를 나타내는 사시도이다.FIG. 1 is a cross-sectional view conceptually showing a light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing the light emitting device package 100 of FIG.

먼저, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)는, 크게 기판(10)과, 발광 소자(20) 및 반사벽(30)을 포함할 수 있다.1 and 2, a light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention includes a substrate 10, a light emitting device 20, and a reflective wall 30 can do.

여기서, 상기 기판(10)은, 상기 발광 소자(20)를 수용할 수 있고, 상기 발광 소자(20)와 전기적으로 연결되는 것으로서, 상기 발광 소자(20)를 지지할 수 있도록 적당한 기계적 강도와 절연성을 갖는 재료나 전도성 재료로 제작될 수 있다.The substrate 10 can receive the light emitting device 20 and is electrically connected to the light emitting device 20. The substrate 10 may have appropriate mechanical strength and insulation property to support the light emitting device 20, Or a conductive material.

예를 들어서, 상기 기판(10)은, 상기 발광 소자(20)를 외부 전원과 연결시키도록 각종 배선층이 형성될 수 있고, 에폭시계 수지 시트를 다층 형성시킨 인쇄 회로 기판(PCB: Printed Circuit Board)일 수 있다. 또한, 상기 기판(10)은, 연성 재질의 플랙서블 인쇄 회로 기판(FPCB: Flexible Printed Circuit Board)일 수 있다.For example, the substrate 10 may include various wiring layers to connect the light emitting device 20 with an external power source, and may include a printed circuit board (PCB) having a plurality of epoxy resin sheets formed thereon, Lt; / RTI > The substrate 10 may be a Flexible Printed Circuit Board (FPCB) made of a flexible material.

이외에도, 상기 기판(10)은, 레진, 글래스 에폭시 등의 합성 수지 기판이나, 열전도율을 고려하여 세라믹(ceramic) 기판이 적용될 수 있고, 이외에도 절연 처리된 알루미늄, 구리, 아연, 주석, 납, 금, 은 등의 금속 기판 등이 적용될 수 있으며, 플레이트 형태나 리드 프레임 형태의 기판들이 적용될 수 있다.In addition, the substrate 10 may be a synthetic resin substrate such as a resin or a glass epoxy or a ceramic substrate in consideration of a thermal conductivity. In addition, the substrate 10 may be formed of an insulating material such as aluminum, copper, zinc, tin, A metal substrate such as silver can be applied, and a plate or a lead frame substrate can be applied.

또한, 상기 발광 소자(20)는, 상기 기판(10)에 안착될 수 있는 것으로서, 반도체로 이루어질 수 있다. 예를 들어서, 질화물 반도체로 이루어지는 청색, 녹색, 적색, 황색 발광의 LED, 자외 발광의 LED 등이 적용될 수 있다. 질화물 반도체는, 일반식이 AlxGayInzN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤z≤1, x+y+z=1)으로 나타내진다.In addition, the light emitting device 20 may be mounted on the substrate 10, and may be formed of a semiconductor. For example, LEDs of blue, green, red, and yellow light emission, and LEDs of ultraviolet light emission, which are made of a nitride semiconductor, can be applied. The nitride semiconductor is represented by a general formula Al x Ga y In z N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? Z? 1, x + y + z = 1).

또한, 상기 발광 소자(20)는, 예를 들면, MOCVD법 등의 기상성장법에 의해, 성장용 사파이어 기판이나 실리콘 카바이드 기판 상에 InN, AlN, InGaN, AlGaN, InGaAlN 등의 질화물 반도체를 에피택셜 성장시켜 구성할 수 있다. 또한, 상기 발광 소자(20)는, 질화물 반도체 이외에도 ZnO, ZnS, ZnSe, SiC, GaP, GaAlAs, AlInGaP 등의 반도체를 이용해서 형성할 수 있다. 이들 반도체는, n형 반도체층, 발광층, p형 반도체층의 순으로 형성한 적층체를 이용할 수 있다. 상기 발광층(활성층)은, 다중 양자웰 구조나 단일 양자웰 구조를 한 적층 반도체 또는 더블 헤테로 구조의 적층 반도체를 이용할 수 있다. 또한, 상기 발광 소자(20)는, 디스플레이 용도나 조명 용도 등 용도에 따라 임의의 파장의 것을 선택할 수 있다.The light emitting device 20 can be formed by epitaxially growing nitride semiconductors such as InN, AlN, InGaN, AlGaN, and InGaAlN on a sapphire substrate for growth or a silicon carbide substrate by a vapor phase growth method such as MOCVD To grow. The light emitting device 20 may be formed using semiconductors such as ZnO, ZnS, ZnSe, SiC, GaP, GaAlAs, and AlInGaP in addition to the nitride semiconductor. These semiconductors can be stacked in the order of an n-type semiconductor layer, a light emitting layer, and a p-type semiconductor layer. The light emitting layer (active layer) may be a laminated semiconductor having a multiple quantum well structure or a single quantum well structure or a laminated semiconductor having a double hetero structure. In addition, the light emitting device 20 can be selected to have an arbitrary wavelength depending on the application such as display use and illumination use.

여기서, 상기 성장용 기판으로는 필요에 따라 절연성, 도전성 또는 반도체 기판이 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 성장용 기판은 사파이어, SiC, Si, MgAl2O4, MgO, LiAlO2, LiGaO2, GaN일 수 있다. GaN 물질의 에피성장을 위해서는 동종 기판인 GaN 기판이 좋으나, GaN 기판은 그 제조상의 어려움으로 생산단가가 높은 문제가 있다.Here, as the growth substrate, an insulating, conductive or semiconductor substrate may be used if necessary. For example, the growth substrate may be sapphire, SiC, Si, MgAl 2 O 4, MgO, LiAlO 2, LiGaO 2, GaN. A GaN substrate, which is a homogeneous substrate, is preferable for epitaxial growth of a GaN material, but a GaN substrate has a problem of high production cost due to its difficulty in manufacturing.

이종 기판으로는 사파이어, 실리콘 카바이드(SiC) 기판 등이 주로 사용되고 있으며. 가격이 비싼 실리콘 카바이드 기판에 비해 사파이어 기판이 더 많이 활용되고 있다. 이종 기판을 사용할 때는 기판 물질과 박막 물질 사이의 격자상수의 차이로 인해 전위(dislocation) 등 결함이 증가한다. 또한, 기판 물질과 박막 물질 사이의 열팽창계수의 차이로 인해 온도 변화시 휨이 발생하고, 휨은 박막의 균열(crack)의 원인이 된다. 기판(1501)과 GaN계인 발광 적층체(S) 사이의 버퍼층(1502)을 이용해 이러한 문제를 감소시킬 수도 있다.Sapphire and silicon carbide (SiC) substrates are mainly used as the different substrates. Sapphire substrates are more utilized than expensive silicon carbide substrates. When using a heterogeneous substrate, defects such as dislocation are increased due to the difference in lattice constant between the substrate material and the thin film material. Also, due to the difference in the thermal expansion coefficient between the substrate material and the thin film material, warping occurs at a temperature change, and warping causes a crack in the thin film. This problem may be reduced by using the buffer layer 1502 between the substrate 1501 and the light emitting stacked body S which is GaN-based.

또한, 상기 성장용 기판은 LED 구조 성장 전 또는 후에 LED 칩의 광 또는 전기적 특성을 향상시키기 위해 칩 제조 과정에서 완전히 또는 부분적으로 제거되거나 패터닝하는 경우도 있다.In addition, the substrate for growth may be completely or partially removed or patterned in order to improve the optical or electrical characteristics of the LED chip before or after the growth of the LED structure.

예를 들어, 사파이어 기판인 경우는 레이저를 기판을 통해 반도체층과의 계면에 조사하여 기판을 분리할 수 있으며, 실리콘이나 실리콘 카바이드 기판은 연마/에칭 등의 방법에 의해 제거할 수 있다.For example, in the case of a sapphire substrate, the substrate can be separated by irradiating the laser to the interface with the semiconductor layer through the substrate, and the silicon or silicon carbide substrate can be removed by a method such as polishing / etching.

또한, 상기 성장용 기판 제거 시에는 다른 지지 기판을 사용하는 경우가 있으며 지지 기판은 원 성장 기판의 반대쪽에 LED 칩의 광효율을 향상시키게 위해서, 반사 금속을 사용하여 접합하거나 반사구조를 접합층의 중간에 삽입할 수 있다.Another supporting substrate may be used for removing the growth substrate. In order to improve the light efficiency of the LED chip on the opposite side of the growth substrate, the supporting substrate may be bonded using a reflective metal, As shown in FIG.

또한, 상기 성장용 기판 패터닝은 기판의 주면(표면 또는 양쪽면) 또는 측면에 LED 구조 성장 전 또는 후에 요철 또는 경사면을 형성하여 광 추출 효율을 향상시킨다. 패턴의 크기는 5nm ~ 500㎛ 범위에서 선택될 수 있으며 규칙 또는 불규칙적인 패턴으로 광 추출 효율을 좋게 하기 위한 구조면 가능하다. 모양도 기둥, 산, 반구형, 다각형 등의 다양한 형태를 채용할 수 있다.In addition, patterning of the growth substrate improves the light extraction efficiency by forming irregularities or slopes before or after the LED structure growth on the main surface (front surface or both sides) or side surfaces of the substrate. The size of the pattern can be selected from the range of 5 nm to 500 μm and it is possible to make a structure for improving the light extraction efficiency with a rule or an irregular pattern. Various shapes such as a shape, a column, a mountain, a hemisphere, and a polygon can be adopted.

상기 사파이어 기판의 경우, 육각-롬보형(Hexa-Rhombo R3c) 대칭성을 갖는 결정체로서 c축 및 a측 방향의 격자상수가 각각 13.001 과 4.758 이며, C(0001)면, A(1120)면, R(1102)면 등을 갖는다. 이 경우, 상기 C면은 비교적 질화물 박막의 성장이 용이하며, 고온에서 안정하기 때문에 질화물 성장용 기판으로 주로 사용된다.In the case of the sapphire substrate, the crystals having hexagonal-rhombo-R3b symmetry have c-axis and a-side lattice constants of 13.001 and 4.758, respectively, and C (0001) (1102) plane, and the like. In this case, the C-plane is relatively easy to grow the nitride film, and is stable at high temperature, and thus is mainly used as a substrate for nitride growth.

또한, 상기 성장용 기판의 다른 물질로는 Si 기판을 들 수 있으며, 대구경화에 보다 적합하고 상대적으로 가격이 낮아 양산성이 향상될 수 있다. (111)면을 기판 면으로 갖는 Si 기판이 GaN와의 격자상수의 차이가 17% 정도로 격자 정수의차이로 인한 결정 결함의 발생을 억제하는 기술이 필요하다. 또한, 실리콘과 GaN 간의 열팽창률의 차이는 약 56%정도로, 이 열팽창률 차이로 인해서 발생한 웨이퍼 휨을 억제하는 기술이 필요하다. 웨이퍼 휨으로 인해, GaN 박막의 균열을 가져올 수 있고, 공정 제어가 어려워 동일 웨이퍼 내에서 발광 파장의 산포가 커지는 등의 문제를 발생시킬 수 있다.Another material of the growth substrate is a Si substrate, which is more suitable for large-scale curing and relatively low in cost, so that mass productivity can be improved. There is a need for a technique for suppressing the occurrence of crystal defects due to the difference in lattice constant between the Si substrate having the (111) plane as the substrate surface and the lattice constant difference of about 17% with GaN. Further, the difference in thermal expansion coefficient between silicon and GaN is about 56%, and a technique for suppressing the wafer warping caused by the difference in thermal expansion rate is needed. Wafer warpage can cause cracking of the GaN thin film, and process control is difficult, which can cause problems such as a large scattering of the emission wavelength in the same wafer.

또한, 상기 실리콘(Si) 기판은 GaN계 반도체에서 발생하는 빛을 흡수하여 발광소자의 외부 양자 효율이 낮아지므로, 필요에 따라 상기 기판을 제거하고 반사층이 포함된 Si, Ge, SiAl, 세라믹, 또는 금속 기판 등의 지지기판을 추가로 형성하여 사용한다.In addition, since the silicon (Si) substrate absorbs light generated from the GaN-based semiconductor and the external quantum efficiency of the light emitting device is lowered, the substrate may be removed as necessary, and Si, Ge, SiAl, A support substrate such as a metal substrate is further formed and used.

상기 Si 기판과 같이 이종 기판상에 GaN 박막을 성장시킬 때, 기판 물질과 박막 물질 사이의 격자 상수의 불일치로 인해 전위(dislocation) 밀도가 증가하고, 열팽창 계수 차이로 인해 균열(crack) 및 휨이 발생할 수 있다. 발광 적층체의 전위 및 균열을 방지하기 위한 목적으로 성장용 기판과 발광적층체 사이에 버퍼층을 배치시킬 수 있다. 상기 버퍼층은 활성층 성장시 기판의 휘는 정도를 조절해 웨이퍼의 파장 산포를 줄이는 기능도 한다.When a GaN thin film is grown on a different substrate such as the Si substrate, the dislocation density increases due to the lattice constant mismatch between the substrate material and the thin film material, and cracks and warpage Lt; / RTI > The buffer layer may be disposed between the growth substrate and the light emitting stack for the purpose of preventing dislocation and cracking of the light emitting stack. The buffer layer also functions to reduce the scattering of the wavelength of the wafer by adjusting the degree of warping of the substrate during the growth of the active layer.

여기서, 상기 버퍼층은 AlxInyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, x+y≤1), 특히 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, 또는 InGaNAlN를 사용할 수 있으며, 필요에 따라 ZrB2, HfB2, ZrN, HfN, TiN 등의 물질도 사용할 수 있다. 또한, 복수의 층을 조합하거나, 조성을 점진적으로 변화시켜 사용할 수도 있다.Here, the buffer layer may be made of Al x In y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, x + y? 1), in particular GaN, AlN, AlGaN, InGaN or InGaNAlN If necessary, materials such as ZrB2, HfB2, ZrN, HfN and TiN can be used. Further, a plurality of layers may be combined, or the composition may be gradually changed.

또한, 도 1 및 도 2에서는, 범프나 패드나 솔더 등의 신호전달매체를 갖는 플립칩 형태의 발광 소자(20)를 예시하였으나, 이외에도 와이어 등의 신호전달매체를 갖는 수직형 및 수평형 등 다양한 형태의 발광 소자들이 적용될 수 있다.1 and 2 illustrate a flip-chip type light emitting device 20 having a signal transmission medium such as a bump, a pad, or a solder. However, a flip chip type light emitting device 20 having a signal transmission medium such as a wire, Type light emitting devices can be applied.

한편, 상기 반사벽(30)은, 상기 기판(10)에 설치되고, 상기 발광 소자(20)의 측면(20a)의 표면을 따라서 상기 발광 소자(20)의 측면(20a)을 둘러싸게 설치되는 것으로서, 상기 발광 소자(20)의 측면(20a)에 직접 접촉될 수 있다.The reflective wall 30 is provided on the substrate 10 so as to surround the side surface 20a of the light emitting device 20 along the surface of the side surface 20a of the light emitting device 20 And may be in direct contact with the side surface 20a of the light emitting element 20. [

여기서, 상기 반사벽(30)은, 적어도 반사물질이 포함된 EMC, 반사물질이 포함된 화이트 실리콘, PSR(Photo Solder Resister) 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어질 수 있다.Here, the reflective wall 30 may be formed by selecting at least one of EMC including a reflective material, white silicon containing a reflective material, a photo solder resist (PSR), and combinations thereof.

또한, 상기 반사벽(30)은, 상기 기판(10) 및 상기 발광 소자(20)에 디스펜싱 또는 스크린 프린팅될 수 있다.Also, the reflective wall 30 may be dispensed or screen printed on the substrate 10 and the light emitting device 20.

따라서, 상기 발광 소자(20)가 사각판 형상일 경우, 상기 반사벽(30)은, 디스펜싱 또는 스크린 프린팅 과정에서, 상기 발광 소자(20)의 수직 측면(20a)을 둘러싸고, 상기 발광 소자(20)의 수직 측면(20a)과 직접 접촉되는 사각홀(30a)이 형성될 수 있다.Therefore, when the light emitting device 20 has a rectangular plate shape, the reflective wall 30 surrounds the vertical side 20a of the light emitting device 20 during the dispensing or screen printing process, A rectangular hole 30a may be formed in direct contact with the vertical side surface 20a.

또한, 도시하지 않았지만, 상기 발광 소자(20)가 원형판 형상일 경우, 상기 반사벽(30)은, 디스펜싱 또는 스크린 프린팅 과정에서, 상기 발광 소자(20)의 수직 외경면을 둘러싸고, 상기 발광 소자(20)의 수직 외경면과 직접 접촉되는 원형홀이 형성될 수 있다.Although not shown, when the light emitting device 20 is in the form of a circular plate, the reflective wall 30 surrounds the vertical outer surface of the light emitting device 20 during the dispensing or screen printing process, A circular hole can be formed which is in direct contact with the vertical outer diameter surface of the rotor 20.

이외에도, 상기 반사벽(30)은, 상기 발광 소자(20)의 형태에 따라서, 타원홀, 다각형홀, 사다리꼴형, 복합형 등 매우 다양한 형태의 홀이 형성될 수 있다.In addition, the reflection wall 30 may have a very wide variety of holes, such as an elliptical hole, a polygonal hole, a trapezoidal shape, and a composite shape, depending on the shape of the light emitting device 20.

또한, 더욱 구체적으로는, 예를 들어서, 상기 반사벽(30)은, 에폭시 수지 조성물, 실리콘 수지 조성물, 실리콘 변성 에폭시 수지 등의 변성 에폭시 수지 조성물, 에폭시 변성 실리콘 수지 등의 변성 실리콘 수지 조성물, 폴리이미드 수지 조성물, 변성 폴리이미드 수지 조성물, 폴리프탈아미드(PPA), 폴리카보네이트 수지, 폴리페닐렌 설파이드(PPS), 액정 폴리머(LCP), ABS 수지, 페놀 수지, 아크릴 수지, PBT 수지 등의 수지 등이 적용될 수 있다.More specifically, for example, the reflective wall 30 may be formed of a modified silicone resin composition such as an epoxy resin composition, a silicone resin composition, a modified epoxy resin composition such as a silicone modified epoxy resin, an epoxy modified silicone resin, A resin such as a polyamide resin, a mid resin composition, a modified polyimide resin composition, polyphthalamide (PPA), polycarbonate resin, polyphenylene sulfide (PPS), liquid crystal polymer (LCP), ABS resin, phenol resin, acrylic resin, Can be applied.

또한, 이들 수지 중에, 산화 티타늄, 이산화 규소, 이산화 티탄, 이산화 지르코늄, 티타늄 산 칼륨, 알루미나, 질화 알루미늄, 질화 붕소, 멀라이트, 크롬, 화이트 계열이나 금속 계열의 성분 등 광 반사성 반사 물질을 함유시킬 수 있다. It is also possible to add a light reflective reflecting material such as titanium oxide, silicon dioxide, titanium dioxide, zirconium dioxide, potassium titanate, alumina, aluminum nitride, boron nitride, mullite, chromium, .

또한, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)는, 상기 발광 소자(20)의 광 경로에 설치되는 형광체(40)를 더 포함할 수 있다.1 and 2, the light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention further includes a phosphor 40 installed in an optical path of the light emitting device 20 .

여기서, 상기 형광체(40)는, 예컨데, 아래와 같은 조성식 및 컬러를 가질 수 있다.Here, the phosphor 40 may have the following composition formula and color, for example.

산화물계 : 황색 및 녹색 Y3Al5O12:Ce, Tb3Al5O12:Ce, Lu3Al5O12:CeOxide system: yellow and green Y3Al5O12: Ce, Tb3Al5O12: Ce, Lu3Al5O12: Ce

실리케이트계 : 황색 및 녹색 (Ba,Sr)2SiO4:Eu, 황색 및 등색 (Ba,Sr)3SiO5:Ce(Ba, Sr) 2SiO4: Eu, yellow and orange (Ba, Sr) 3SiO5: Ce

질화물계 : 녹색 β-SiAlON:Eu, 황색 L3Si6O11:Ce, 등색 α-SiAlON:Eu, 적색 CaAlSiN3:Eu, Sr2Si5N8:Eu, SrSiAl4N7:EuEu, Sr2Si5N8: Eu, SrSiAl4N7: Eu, Eu3O3: Eu, Eu3O3: Eu,

이러한, 상기 형광체(40)의 조성은 기본적으로 화학양론(Stoichiometry)에 부합하여야 하며, 각 원소들은 주기율표상 각 족들 내 다른 원소로 치환이 가능하다. 예를 들어 Sr 은 알카리토류(II)족의 Ba, Ca, Mg 등으로, Y 은 란탄계열의 Tb, Lu, Sc, Gd 등으로 치환이 가능하다, 또한 활성제인 Eu 등은 원하는 에너지 준위에 따라 Ce, Tb, Pr, Er, Yb 등으로 치환이 가능하며, 활성제 단독 또는 특성 변형을 위해 부활성제등이 추가로 적용될 수 있다.The composition of the phosphor 40 should basically correspond to stoichiometry, and each element may be substituted with another element in each group on the periodic table. For example, Sr can be substituted with Ba, Ca, Mg, etc. of the alkaline earth (II) group, and Y can be replaced with lanthanum series of Tb, Lu, Sc, Gd and the like. Ce, Tb, Pr, Er, Yb and the like, and the active agent may be used alone or as a negative active agent for the characteristic modification.

또한, 상기 형광체(40)의 대체 물질로 양자점(Quantum Dot) 등의 물질들이 적용될 수 있으며, LED에 형광체와 QD를 혼합 또는 단독으로 사용될 수 있다.As a substitute for the phosphor 40, materials such as a quantum dot may be used. Alternatively, a fluorescent material and QD may be mixed with the LED or used alone.

QD는 CdSe, InP 등의 코어(3 ~ 10nm)와 ZnS, ZnSe 등의 쉘(0.5 ~ 2nm)및 ㅋ코어, 쉘의 안정화를 위한 리간드(Regand)의 구조로 구성될 수 있으며, 크기에 따라 다양한 칼라를 구현할 수 있다.QD can be composed of a core (3 to 10 nm) such as CdSe and InP, a shell (0.5 to 2 nm) such as ZnS and ZnSe, a core, and a ligand for stabilizing the shell. You can implement color.

또한, 상기 형광체(40) 또는 양자점(Quantum Dot)의 도포 방식은 크게 LED Chip 또는 발광소자에 뿌리는 방식, 또는 막 형태로 덮는 방식, 필름 또는 세라믹 형광체 등의 시트 형태를 부착하는 방식 중 적어도 하나를 사용할 수 있다.The coating method of the fluorescent material 40 or the quantum dot may be at least one of a method of being applied to an LED chip or a light emitting device, a method of covering a film form, a method of attaching a sheet form of a film or a ceramic fluorescent material, Can be used.

뿌리는 방식으로는 디스펜싱, 스프레이 코팅 등이 일반적이며 디스펜싱은 공압방식과 스크류(Screw), Linear(리니어) 타입 등의 기계적인 방식을 포함한다. ㅈ제팅(Jettingg) 방식으로 미량 토출을 통한 도팅량 제어 및 이를 통한 색좌표 제어도 가능하다. 웨이퍼 레벨 또는 발광소자 기판상에 스프레이 방식으로 형광체를 일괄 도포하는 방식은 생산성 및 두께 제어가 용이할 수 있다. Dispensing and spray coating are common methods of dispensing, and dispensing includes mechanical methods such as pneumatic, screw and linear. It is also possible to control the amount of ink droplets by a small amount of jetting method and to control the color coordinates thereof by using a jetting method. The method of collectively applying the phosphor on the wafer level or the light emitting device substrate by the spray method can easily control productivity and thickness.

발광소자 또는 LED Chip 위에 막 형태로 직접 덮는 방식은 전기영동, 스크린 프린팅 또는 형광체의 몰딩 방식으로 적용될 수 있으며 LED Chip 측면의 도포 유무 필요에 따라 해당 방식의 차이점을 가질 수 있다.The method of directly covering the light emitting device or the LED chip in a film form can be applied by a method of electrophoresis, screen printing or phosphor molding, and the method may be different according to necessity of application of the side of the LED chip.

발광 파장이 다른 2종 이상의 형광체 중 단파장에서 발광하는 광을 재 흡수하는 장파장 발광 형광체의 효율을 제어하기 위하여 발광 파장이 다른 2종 이상의 형광체층을 구분할 수 있으며, LED Chip 과 형광체 2종 이상의 파장 재흡수 및 간섭을 최소화 하기 위하여 각 층 사이에 DBR(ODR) 층을 포함할 수 있다.In order to control the efficiency of the long-wavelength light-emitting phosphor that reabsers light emitted from a short wavelength among two or more kinds of phosphors having different emission wavelengths, two or more kinds of phosphor layers having different emission wavelengths can be distinguished, and LED chips and two or more kinds of phosphors A DBR (ODR) layer may be included between each layer to minimize absorption and interference.

균일 도포막을 형성하기 위하여 형광체를 필름 또는 세라믹 형태로 제작 후 LED Chip 또는 발광 소자 위에 부착할 수 있다. In order to form a uniform coating film, the phosphor may be formed into a film or ceramic shape, and then attached onto an LED chip or a light emitting device.

광 효율, 배광 특성에 차이점을 주기 위하여 리모트 형식으로 광변환 물질을 위치할 수 있으며, 이때 광변환 물질은 내구성, 내열성에 따라 투광성 고분자, 유리등의 물질 등과 함께 위치한다. In order to make difference in light efficiency and light distribution characteristics, a photo-conversion material may be located in a remote format. In this case, the photo-conversion material is placed together with a light-transmitting polymer, glass or the like depending on its durability and heat resistance.

이러한, 상기 형광체 도포 기술은 LED 소자에서 광특성을 결정하는 가장 큰 역할을 하게 되므로, 형광체 도포층의 두께, 형광체 균일 분산 등의 제어 기술들이 다양하게 연구되고 있다. QD 또한 형광체와 동일한 방식으로 LED Chip 또는 발광 소자에 위치할 수 있으며, 유리 또는 투광성 고분자 물질 사이에 위치하여 광 변환을 할 수 도 있다.Such a phosphor coating technique plays a major role in determining optical characteristics in an LED device, and various control techniques such as thickness of a phosphor coating layer and uniform dispersion of a phosphor have been studied. The QD can also be placed in the LED chip or the light emitting element in the same manner as the phosphor, and can be positioned between the glass or translucent polymer material for light conversion.

한편, 도시하지 않았지만, LED Chip 또는 상기 발광 소자(20)를 외부 환경으로부터 보호하거나, 상기 발광 소자(20)의 외부로 나가는 광 추출 효율을 개선하기 위하여 충진재로 투광성 물질이 상기 LED Chip 또는 상기 발광 소자(20) 또는 상기 형광체(40) 상에 위치할 수 있다. Although not shown, in order to protect the LED chip or the light emitting device 20 from the external environment or improve the light extraction efficiency to the outside of the light emitting device 20, a light transmitting material may be used as the filler, And may be located on the element 20 or the phosphor 40.

이 때 적용되는 투광성 물질은 Epoxy, Silicone, Epoxy 와 Silicone의 Hybrid 등의 투명 유기용제가 적용되며, 가열, 광 조사, 시간 경과 등의 방식으로 경화하여 사용할 수 있다. Transparent organic solvents such as Epoxy, Silicone, Epoxy and Silicone Hybrid are applied and can be cured by heating, light irradiation and time lapse.

상기 Silicone 은 Polydimethyl siloxane 을 Methyl 계로 Polymethylphenyl siloxane 을 Phenyl 계로 구분하며, Methyl 계와 Phenyl 계에 따라 굴절률, 투습률, 광투과율, 내광안정성, 내열안정성에 차이를 가지게 된다. 또한, Cross Linker 와 촉매재에 따라 경화 속도에 차이를 가지게 되어 형광체 분산에 영향을 준다.Silicone is classified into Polydimethyl siloxane as Methyl system and Polymethylphenyl siloxane as Phenyl system. It has different refractive index, moisture permeability, light transmittance, light stability and heat stability according to Methyl system and Phenyl system. In addition, the curing rate differs depending on the cross linker and the catalyst material, which affects the phosphor dispersion.

충진재의 굴절률에 따라 광 추출 효율은 차이를 가지게 되며, 블루(Blue) 광이 방출되는 부분의 LED Chip 최외각 매질의 굴절률과 공기로 방출되는 굴절률의 갭을 최소로 해주기 위하여 굴절률이 다른 이종 이상의 Silicone 을 순차적으로 적층할 수 있다.In order to minimize the gap between the refractive index of the outermost layer of the LED chip and the refractive index of the air emitted from the portion where the blue light is emitted, Can be sequentially stacked.

일반적으로 내열 안정성은 Methyl 계가 가장 안정하며, Phenly 계, Hybrid, Epoxy 순으로 온도 상승에 변화율이 적다. Silicone은 경도에 따라 Gel type, Elastomer type, Resin type 으로 구분할 수 있다.In general, the heat stability is most stable in the methyl system, and the rate of change is small in the order of the phenolic system, the hybrid system, and the epoxy system. Silicone can be classified into Gel type, Elastomer type and Resin type according to hardness.

광원에서 조사된 빛을 방사상으로 안내하기 위해 상기 발광 소자(20)에 도 4의 렌즈(50)를 더 포함 할 수 있으며, 상기 렌즈(50)는 직하형 백라이트 유닛에 적용되는 2차 렌즈일 수 있다.The light emitting device 20 may further include the lens 50 of FIG. 4 to guide the light radiated from the light source. The lens 50 may be a secondary lens that is applied to the direct- have.

도 1의 발광 소자 패키지(100)는 기판 상에 플립칩 형태로 제공된 예를 도시하였으나, 다른 실시예에서 기판(10)이 생략되고 플립칩이 응용제품의 보드 상에 직접 실장되는 경우도 상정할 수 있다.Although the light emitting device package 100 of FIG. 1 is provided in the form of a flip chip on a substrate, in another embodiment, it is assumed that the substrate 10 is omitted and the flip chip is directly mounted on the board of the application product .

도 3은 도 1의 발광 소자 패키지(100)의 지향각에 따른 배광 곡선을 나타내는 배광도이고, 도 4는 도 1의 발광 소자 패키지(100)에 렌즈(50)를 설치한 상태를 나타내는 단면도이고, 도 5는 도 4의 발광 소자 패키지(100)에 렌즈(50)를 설치한 상태의 지향각에 따른 배광 곡선을 나타내는 배광도이다.3 is a light distribution diagram showing a light distribution curve according to a directivity angle of the light emitting device package 100 of FIG. 1, FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a lens 50 is installed in the light emitting device package 100 of FIG. 1 And FIG. 5 is a light distribution diagram showing a light distribution curve according to a directivity angle in a state where the lens 50 is installed in the light emitting device package 100 of FIG.

따라서, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)는, 도 1의 상기 발광 소자(20)에서 발생된 빛이 외기로 노출되지 않고, 상기 반사벽(30)에 의해 반사되어 상기 형광체(40)를 통해서, 도 3에 도시된 바와 같이, 직진성이 향상된 상태로 거의 대부분 대략 좌우 45도 범위 내에서 상방을 향하여 조사될 수 있다.Accordingly, the light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention is configured such that the light generated from the light emitting device 20 of FIG. 1 is reflected by the reflective wall 30 without being exposed to outside air, The phosphor can be irradiated upward through the phosphor 40 in the range of about 45 degrees from the left and right in almost the state of improved linearity as shown in Fig.

즉, 도 4에 도시된 바와 같이, 백라이트 유닛에서 널리 사용되는 직하형 발광 소자 패키지인 경우, 1차로 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)에서 발생되는 빛은, 사방으로 너무 많이 분산되지 않기 때문에, 도 4의 2차 렌즈(50)를 통해서, 도 5에 도시된 바와 같이, 좌우 방향으로 최대한 넓게 분산될 수 있게 광 제어를 용이하게 할 수 있고, 또한, 상기 발광 소자(20)의 테두리부분에서 발생되는 테두리 분산광을 억제하여 2차 렌즈(50)에서 빛의 굴절이나, 간섭이나, 분광 현상 등의 복잡한 현상이 발생되지 않아서 도광판에 조사되는 빛의 색편차나 명암편차를 크게 줄일 수 있다.That is, as shown in FIG. 4, in the direct-type light emitting device package widely used in the backlight unit, the light generated from the light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention is primarily It is possible to facilitate light control so as to be dispersed as wide as possible in the lateral direction as shown in Fig. 5 through the secondary lens 50 of Fig. 4, 20, the complicated phenomenon such as refraction of light, interference, or spectroscopic phenomenon does not occur in the secondary lens 50, and the color deviation or the lightness variation of the light irradiated to the light guide plate Can be greatly reduced.

도 6 내지 도 9는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)의 제작 방법을 단계적으로 나타내는 단면도들이고, 도 10은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)의 제작 방법을 나타내는 순서도이다.6 to 9 are cross-sectional views illustrating a method of fabricating a light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention, and FIG. 10 is a cross-sectional view of a light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention. Fig.

도 6 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)의 제작 방법은, 먼저, 도 6에 도시된 바와 같이, 기판 스트립(10-1)을 준비하는 단계(S1)와, 이어서, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 기판 스트립(10-1)에 적어도 하나의 발광 소자(20)를 안착시키는 단계(S2)와, 이어서, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 발광 소자(20)의 측면(20a)의 표면을 따라서 상기 발광 소자(20)의 측면을 둘러싸게 반사벽(30)을 설치하는 단계(S3)와, 이어서, 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 발광 소자(20)의 광 경로에 형광체(40)를 설치하는 단계(S4) 및, 이어서, 도 9의 절단라인(CL)을 따라 상기 기판 스트립(10-1)을 소윙하는 단계(S5)를 포함할 수 있다.6 to 10, in a method of manufacturing a light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention, first, as shown in FIG. 6, a substrate strip 10-1 is prepared (S2) of placing at least one light emitting device 20 on the substrate strip 10-1, as shown in Fig. 7, and then step S2 (S3) surrounding the side surface of the light emitting device 20 along the surface of the side surface 20a of the light emitting device 20 as shown in FIG. 9, (S4) of installing the fluorescent material 40 in the light path of the light emitting device 20 and then waving the substrate strip 10-1 along the cutting line CL of FIG. 9 (S5).

여기서, 상기 반사벽(30)을 설치하는 단계(S3)는, 상기 기판 스트립(10-1) 및 상기 발광 소자(20)의 측면(20a)에 상기 반사벽(30)을 디스펜싱 또는 스크린 프린팅할 수 있다.The step S3 of installing the reflective wall 30 may be performed by disposing the reflective wall 30 on the side surface 20a of the substrate strip 10-1 and the light emitting element 20 by using a dispenser or screen printing can do.

그러므로, 이러한 본 발명의 일부 실시예들에 따른 발광 소자 패키지(100)의 제작 방법에 따르면, 상기 반사벽(30)을 몰딩 성형하지 않고도 디스펜싱 또는 스크린 프린팅으로 간편하고, 저렴하며 신속하게 제작할 수 있게 하여 생산성을 크게 높일 수 있고, 성능을 높이는 동시에 단가를 크게 낮출 수 있다.Therefore, according to the manufacturing method of the light emitting device package 100 according to some embodiments of the present invention, the reflective wall 30 can be easily manufactured by dispensing or screen printing without molding, The productivity can be greatly increased, the performance can be enhanced, and the unit cost can be greatly reduced.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

10: 기판
20: 발광 소자
20a: 측면
30: 반사벽
30a: 사각홀
40: 형광체
50: 렌즈
10-1: 기판 스트립
CL: 절단라인
100: 발광 소자 패키지
10: substrate
20: Light emitting element
20a: Side
30: reflective wall
30a: square hole
40: phosphor
50: lens
10-1: substrate strip
CL: Cutting line
100: Light emitting device package

Claims (11)

측면 발광하는 발광 소자;
상기 발광 소자의 측면 방향으로의 광방출을 막도록 상기 발광 소자의 측면을 한바퀴 둘러싸게 설치되는 반사벽; 및
상기 발광 소자가 안착되는 기판을 포함하고,
상기 반사벽은 상기 기판 상에 설치되며,
상기 기판의 표면으로부터 측정한, 상기 발광 소자의 두께와 상기 반사벽의 두께가 동일하며,
상기 발광 소자와 상기 반사벽의 상단에 동일한 높이의 형광체 층이 형성된, 발광 소자 패키지.
A light emitting element that emits light laterally;
A reflective wall surrounding the side of the light emitting device to surround the light emitting device to prevent light emission in the lateral direction of the light emitting device; And
And a substrate on which the light emitting device is mounted,
Wherein the reflective wall is disposed on the substrate,
The thickness of the light emitting element and the thickness of the reflecting wall, which are measured from the surface of the substrate,
And a phosphor layer of the same height is formed on the upper end of the light emitting element and the reflective wall.
제 1 항에 있어서,
상기 반사벽은, 상기 발광 소자의 측면에 직접 접촉되는 것인, 발광 소자 패키지.
The method according to claim 1,
And the reflective wall is in direct contact with a side surface of the light emitting element.
제 1 항에 있어서,
상기 반사벽은, 적어도 반사물질이 포함된 EMC, 반사물질이 포함된 화이트 실리콘, PSR(Photo Solder Resister) 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어지는 것인, 발광 소자 패키지.
The method according to claim 1,
Wherein the reflective wall comprises at least one selected from EMC including at least a reflective material, white silicon containing a reflective material, a photo solder resist (PSR), and combinations thereof.
제 1 항에 있어서,
상기 발광 소자는, 사각판 형상이고,
상기 반사벽은, 상기 발광 소자의 수직 측면을 둘러싸고, 상기 발광 소자의 수직 측면과 직접 접촉되는 사각홀이 형성되는 것인, 발광 소자 패키지.
The method according to claim 1,
Wherein the light emitting element has a rectangular plate shape,
Wherein the reflective wall surrounds the vertical side of the light emitting element and has a rectangular hole formed in direct contact with the vertical side of the light emitting element.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 반사벽은, 상기 기판 및 상기 발광 소자에 디스펜싱 또는 스크린 프린팅되는 것인, 발광 소자 패키지.
The method according to claim 1,
Wherein the reflective wall is dispensed or screen printed on the substrate and the light emitting element.
제 1 항에 있어서,
상기 기판은, 적어도 리드 프레임, PCB, FPCB 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 선택하여 이루어지는 것인, 발광 소자 패키지.
The method according to claim 1,
Wherein the substrate is made of at least one selected from a lead frame, a PCB, a FPCB, and a combination thereof.
삭제delete 제 1 항 내지 제 4 항 및 제 6 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 발광 소자는, 플립칩인, 발광 소자 패키지.
The method according to any one of claims 1 to 4 and 6 to 7,
Wherein the light emitting element is a flip chip.
기판 스트립을 준비하는 단계;
상기 기판 스트립에 적어도 하나의 측면 발광하는 발광 소자를 안착시키는 단계; 및
상기 발광 소자의 측면의 표면을 따라서 상기 발광 소자의 측면을 둘러싸게 반사벽을 설치하는 단계;
를 포함하되,
상기 반사벽을 설치하는 단계에서,
상기 기판 스트립의 표면으로부터 측정한, 상기 발광 소자의 두께와 상기 반사벽의 두께가 동일하며,
상기 발광 소자와 상기 반사벽의 상단에 동일한 높이의 형광체 층이 형성된, 발광 소자 패키지의 제작 방법.
Preparing a substrate strip;
Placing at least one side emitting light emitting device on the substrate strip; And
Providing a reflective wall surrounding a side surface of the light emitting device along a side surface of the light emitting device;
, ≪ / RTI &
In the step of installing the reflecting wall,
The thickness of the light emitting element and the thickness of the reflective wall, which are measured from the surface of the substrate strip,
And a phosphor layer of the same height is formed on the upper end of the light emitting element and the reflective wall.
제 10 항에 있어서,
상기 반사벽을 설치하는 단계는, 상기 기판 스트립 및 상기 발광 소자의 측면에 상기 반사벽을 디스펜싱 또는 스크린 프린팅하는 것인, 발광 소자 패키지의 제작 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the step of providing the reflective wall comprises dispensing or screen printing the reflective wall on the side of the substrate strip and the light emitting element.
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