KR101470905B1 - 루테늄 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법 - Google Patents

루테늄 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101470905B1
KR101470905B1 KR1020120136558A KR20120136558A KR101470905B1 KR 101470905 B1 KR101470905 B1 KR 101470905B1 KR 1020120136558 A KR1020120136558 A KR 1020120136558A KR 20120136558 A KR20120136558 A KR 20120136558A KR 101470905 B1 KR101470905 B1 KR 101470905B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ruthenium
formula
ruthenium precursor
thin film
precursor
Prior art date
Application number
KR1020120136558A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140068719A (ko
Inventor
박보근
정택모
김창균
전동주
정은애
정석종
Original Assignee
한국화학연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국화학연구원 filed Critical 한국화학연구원
Priority to KR1020120136558A priority Critical patent/KR101470905B1/ko
Publication of KR20140068719A publication Critical patent/KR20140068719A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101470905B1 publication Critical patent/KR101470905B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F15/00Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
    • C07F15/0006Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
    • C07F15/0046Ruthenium compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C23C16/18Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metallo-organic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 루테늄 전구체에 관한 것으로, 상기 루테늄 전구체는 열적 안정성과 휘발성이 향상되고, 박막 증착 시 산소를 사용하지 않아도 되는 장점이 있어 양질의 루테늄 박막을 형성할 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112012098823007-pat00009

(상기 식에서, R1-R12는 각각 독립적으로 H이거나, C1-C4의 선형 또는 분지형 알킬기다.)

Description

루테늄 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법{RUTHENIUM PRECURSORS, PREPARATION METHOD THEREOF AND PROCESS FOR THE FORMATION OF THIN FILMS USING THE SAME}
본 발명은 신규의 루테늄 전구체에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 열적 안정성과 휘발성이 개선되고 낮은 온도에서 쉽게 양질의 루테늄 박막의 제조가 가능한 루테늄 전구체 및 이의 제조 방법, 그리고 이를 이용하여 루테늄 박막을 제조하는 방법에 관한 것이다.
루테늄 (Ruthenium) 금속은 열적, 화학적 안정성이 우수할 뿐만 아니라 낮은 비저항 (rbulk = 7.6 mWcm) 및 비교적 큰 일함수 (F bulk = 4.71 eV) 를 갖고 있다. 또한 루테늄 금속은 구리 금속과의 접착성이 우수하며, 루테늄 산화물 (RuO2) 또한 낮은 비전도도 (rbulk = 46 mWcm)를 갖는 전도성 산화물일 뿐만 아니라 산소 (O2) 확산 방지막으로서의 특성이 뛰어나고 800 ℃에서도 열적 안정성이 뛰어나 FeRAM 및 DRAM 등 차세대 반도체의 재료 중 전극 커패시터 재료로 각광받고 있다. 이러한 루테늄은 고융점, 낮은 비저항, 높은 내산화성 및 적절한 작용 기능과 같은, CMOS 트랜지스터에 대한 잠재적인 게이트 전극 물질이 되게 하는 물리적 특성을 갖는다. 실제로, 루테늄의 비저항은 이리듐(Ir) 및 백금(Pt)의 비저항보다 낮아서, 건식 에칭 공정에 사용하기에 보다 용이하다. 추가적으로, 루테늄 옥사이드(RuO2)는 높은 전도도를 가지며, 납-지르코네이트-티타네이트(PZT), 스트론튬 비스무스 탄탈레이트(SBT), 또는 비스무스 란타늄 티타네이트(BLT)와 같은 강유전성 필름으로부터 생성되는 산소의 확산을 통해 형성될 수 있어서, 절연성이 알려진 다른 금속산화물에 비하여 전기적으로 안정하게 사용할 수 있으며, 스트론튬 루테늄 옥사이드(SRO, SrRuO3) 역시 차세대 반도체의 재료로 사용될 수 있다.
종래에 알려진 루테늄 전구체로서 미국 공개특허 제2009-0028745호에는 질소 및 상이한 두 리간드를 함유하는 루테늄 전구체를 이용하는 것이 개시되어 있고, 한국 공개특허 제 2010-0060482호에는 벤젠고리와 고리형 또는 비고리형 알켄 화합물을 포함하는 루테늄 전구체가 기재되어 있다.
그러나, 기존의 2 가의 루테늄 전구체는 ALD 공정 시 반응 가스로 산소를 사용해야 하는 문제가 있어 산소를 사용하지 않으면서 열적 안정성, 화학적 반응성, 휘발성 및 루테늄 금속의 증착 속도가 높은 루테늄 전구체의 개발이 필요하다.
미국 공개특허 제2009-0028745호 한국 공개특허 제 2010-0060482호
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 열적 안정성과 휘발성이 개선되고 낮은 온도에서 쉽게 양질의 루테늄 박막의 제조가 가능한 신규의 루테늄 전구체를 제공하기 위한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 루테늄 전구체를 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112012098823007-pat00001
(상기 식에서, R1-R12는 각각 독립적으로 H이거나, C1-C4의 선형 또는 분지형 알킬기다.)
또한 본 발명은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 화학식 3로 표시되는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 제1항에 따른 화학식 1로 표시되는 루테늄 전구체의 제조방법을 제공한다.
[화학식 2]
Figure 112012098823007-pat00002
[화학식 3]
Figure 112012098823007-pat00003
(상기 식에서, X는 Cl, Br, I 등이고, R1-R12는 각각 독립적으로 H이거나, C1-C4의 선형 또는 분지형 알킬기이다.)
또한 본 발명은 상기 화학식 1의 루테늄 전구체를 이용하여 루테늄 박막을 성장시키는 방법을 제공한다.
본 발명의 루테늄 전구체는 열적 안정성과 휘발성이 개선되고, 또한 0가의 화합물이므로 박막 증착 시 산소를 사용하지 않아도 되는 장점이 있기 때문에 이를 이용하여 쉽게 양질의 루테늄 박막을 제조할 수 있다.
도 1은 실시예 1에 대한 1H NMR 스펙트럼이다.
도 2는 실시예 1에 대항 TG DATA이다.
도 3은 실시예 2에 대한 1H NMR 스펙트럼이다.
도 4는 실시예 2에 대항 TG DATA이다.
도 5는 실시예 3에 대한 1H NMR 스펙트럼이다.
도 6는 실시예 3에 대항 TG DATA그래프이다.
도 7은 실시예 4에 대한 1H NMR 이다.
도 8은 실시예 4에 대항 TG DATA그래프이다.
본 발명은, 하기 화학식 1로 표시되는 루테늄 전구체에 관한 것이다:
[화학식 1]
Figure 112012098823007-pat00004
(상기 식에서, R1-R12는 각각 독립적으로 H이거나, C1-C4의 선형 또는 분지형 알킬기다.)
상기 화학식 1에 있어서, R1-R12는 서로 독립적으로 H, CH3, C2H5, CH(CH3)2 및 C(CH3)3로부터 선택되는 것을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 상기 화학식 1로 표시되는 루테늄 전구체는 출발물질로서 하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 화학식 3으로 표시되는 화합물을 2-프로판올 용매에서 반응시켜 치환 반응을 유도하여 제조될 수 있다.

[화학식 2]
Figure 112014103301175-pat00018

[화학식 3]
Figure 112014103301175-pat00019
삭제
삭제
삭제
(상기 식에서, X는 Cl, Br, I 등이고, R1-R12는 각각 독립적으로 H이거나, C1-C4의 선형 또는 분지형 알킬기다.)
상기 용매로는 특별한 제한은 없으나, 바람직하게 2-프로판올을 사용할 수 있다.
본 발명의 루테늄 전구체를 제조하기 위한 구체적인 반응 공정은 하기 반응식 1로 나타낼 수 있다.
[반응식 1]
Figure 112012098823007-pat00005
(상기 식에서, X는 Cl, Br, I 등이고, R1-R12는 각각 독립적으로 H이거나, C1-C4의 선형 또는 분지형 알킬기다.)
상기 반응식 1에 따르면, 2-프로판올 용매에서 실온에서 15시간 내지 24시간 동안 치환 반응을 진행한 뒤 혼합물을 여과하고 감압 하에서 용매를 제거하여 액체 화합물을 수득한다. 또한, 상기 반응식 1의 반응 중에 부산물이 생성될 수 있으며, 이들을 승화 또는 재결정법을 이용하여 제거함에 따라 고순도의 신규의 루테늄 전구체를 얻을 수 있다.
상기 반응에서 반응물은 화학양론적 당량비로 사용된다.
상기 화학식 1로 표시되는 신규의 루테늄 전구체는 상온에서 안정한 액체로서, 열적으로 안정하고 좋은 휘발성을 가진다.
본 발명의 신규의 루테늄 전구체는 화학기상증착법(CVD) 또는 원자층증착법(ALD)을 사용하는 공정에 바람직하게 적용될 수 있다.
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적을 위한 것이며 첨부된 특허청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.
실시예
루테늄 전구체 물질의 합성
실시예 1: Ru ( benzene )( hexamethylcyclopentadiene )의 제조
삼구 플라스크에 [Ru(benzene)Cl2]2 (0.88 g, 0.0017 mol, 1 eq)을 정량하여 2-프로판올 100 mL에 서스펜션 시킨 후, 소듐카보네이트 0.88 g을 넣고 4시간 동안 교반하였다. 여기에 헥사메틸사이클로펜타디엔 (hexamethylcyclopentadiene, HMCP) (1.32 g, 0.0087 mol, 5 eq)을 넣은 후에, 환류 콘덴서를 이용하여 15시간 동안 환류시켰다. 반응 종료 후 여과하여 얻어진 용액을 감압 하에서 용매 및 휘발성 부반응물을 제거하여 점성이 있는 어두운 갈색의 용액이 얻은 후, 다시 이 액체를 감압 증류 하여 노란색 액체인 (HMCP)(benzene)Ru(0)을 얻었다.
상기 얻어진 화합물에 대한 1H-NMR을 도 1에 나타내었다.
1H NMR (C6D6, 300.13MHz): δ 0.73 (s, 3H), 1.34 (s, 6H), 1.51 (s, 6H), 4.63 (s, 6H).
EA: calcd.(found) C17H24Ru: C 61.98(62.27); H 7.34(7.39);
실시예 2: Ru ( cymene )( hexamethylcyclopentadiene )의 제조
삼구 플라스크에 [Ru(cymene)Cl2]2 (4.0 g, 0.0065 mol, 1 eq)을 정량하여 2-프로판올 150 mL에 서스펜션 시킨 후, 소듐카보네이트 4.0 g을 넣고 4시간 동안 교반하였다. 여기에 헥사메틸사이클로펜타디엔 (hexamethylcyclopentadiene, HMCP) (4.90 g, 0.0326 mol, 5 eq)을 넣은 후에, 환류 콘덴서를 이용하여 15시간 동안 환류시켰다. 반응 종료 후 여과하여 얻어진 용액을 감압 하에서 용매 및 휘발성 부반응물을 제거하여 점성이 있는 어두운 갈색의 용액을 얻은 후, 다시 이 액체를 감압 증류 하여 노란색 액체인 (HMCP)(cymene)Ru(0)을 얻었다.
상기 얻어진 화합물에 대한 1H-NMR을 도 3에 나타내었다.
1H NMR (C6D6, 300.13MHz): δ 1.08 (d, 6H), 1.27 (s, 6H), 1.36 (s, 6H), 1.87 (s, 3H), 2.00 (s, 6H), 2.20 (s, 1H), 4.61 (d, 2H), 4.66 (d, 2H).
EA: calcd.(found) C21H32Ru: C 66.98(67.69); H 7.40(8.39);
실시예 3: Ru ( benzene )( ethylpentamethylcyclopentadiene )의 제조
삼구 플라스크에 [Ru(benzene)Cl2]2 (1.0 g, 0.0019 mol, 1eq)을 정량하여 2-프로판올 100 mL에 서스펜션 시킨 후, 소듐카보네이트 1.0 g을 넣고 4시간 동안 교반하였다. 여기에 에틸펜타메틸사이클로펜타디엔 (ethylpentamethylcyclopentadiene, EMCP) (1.64 g, 0.01 mol, 5 eq)을 넣은 후에, 환류 콘덴서를 이용하여 15시간 동안 환류시켰다. 반응 종료 후 여과하여 얻어진 용액을 감압 하에서 용매 및 휘발성 부반응물을 제거하여 점성이 있는 어두운 적갈색의 용액이 얻은 후, 다시 이 액체를 감압 증류 하여 노란색 액체인 (EMCP)(benzene)Ru(0)을 얻었다.
상기 얻어진 화합물에 대한 1H-NMR을 도 5에 나타내었다.
1H NMR (C6D6, 300.13MHz): δ 0.69 (t, 3H), 1.14 (q, 2H), 1.30 (s, 6H), 1.65 (s, 6H), 2.03(s, 3H), 4.65 (s, 6H).
실시예 4: Ru ( cymene )( ethylpentamethylcyclopentadiene )의 제조
삼구 플라스크에 [Ru(cymene)Cl2]2 (2.24 g, 0.0036 mol, 1 eq)을 정량하여 2-프로판올 120 mL에 서스펜션 시킨 후, 소듐카보네이트 2.24 g을 넣고 4시간 동안 교반하였다. 여기에 에틸펜타메틸사이클로펜타디엔 (ethylpentamethylcyclopentadiene, EMCP) (3.00 g, 0.018 mol, 5 eq)을 넣은 후에, 환류 콘덴서를 이용하여 15시간 동안 환류시켰다. 반응 종료 후 여과하여 얻어진 용액을 감압 하에서 용매 및 휘발성 부반응물을 제거하면, 점성이 있는 어두운 적갈색의 용액이 얻어진다. 이 액체를 감압 증류 하여 노란색 액체인 (EMCP)(cymene)Ru(0)을 얻었다.
상기 얻어진 화합물에 대한 1H-NMR을 도 7에 나타내었다.
1H NMR (C6D6, 300.13MHz): δ 0.48 (t, 3H), 1.06 (s, 6H), 1.16 (m, 11H), 1.30 (s, 6H), 1.88 (s, 6H), 2.03 (s, 3H), 2.32 (sep, 1H), 4.75 (d, 2H), 4.80 (d, 2H).
EA: calcd.(found) C22H34Ru: C 66.13(67.37); H 8.58(9.01);
루테늄 전구체를 이용한 나노결정의 합성 및 분석
상기 실시예 1 내지 실시예 4에서 합성한 루테늄 전구체 화합물의 구체적인 구조를 확인하기 위하여, 실시예 1 내지 실시예 4에서 합성한 루테늄 전구체를 화합물을 10℃/분의 속도로 900℃까지 가온 시키면서, 1.5bar/분의 압력으로 아르곤 가스를 주입하여 각 전구체의 TGA 그래프를 각각 도 2, 4, 6 및 8에 도시하였다.
실시예 1의 전구체는 도 2에서와 같이, 100~110℃ 부근에서 질량감소가 일어났으며 250℃에서 92% 이상의 질량이 감소가 관찰되었다. 이를 통하여 TG 그래프에서 T1 /2 가 223℃임을 확인하였다.
실시예 2의 전구체는 도 4에서와 같이, 150℃ 부근에서 질량감소가 일어났으며 320℃에서 85% 이상의 질량감소가 관찰되었다. 이를 통하여 TG 그래프에서 T1 /2 가 283℃임을 확인하였다.
실시예 3의 전구체는 도 6에서와 같이, 110℃ 부근에서 질량감소가 일어났으며 296℃에서 90% 이상의 질량감소가 관찰되었다. 이를 통하여 TG 그래프에서 T1 /2 가 235℃임을 확인하였다.
실시예 4의 전구체는 도 8에서와 같이, 100℃ 부근에서 질량감소가 일어났으며 230℃에서 90% 이상의 질량이 감소가 관찰되었다. 이를 통하여 TG 그래프에서 T1/2 가 172℃임을 확인하였다.

Claims (5)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 루테늄 전구체:
    [화학식 1]
    Figure 112014103301175-pat00006

    (상기 식에서, R1-R12는 서로 독립적으로 H, CH3, C2H5, CH(CH3)2 및 C(CH3)3로부터 선택된다.)
  2. 삭제
  3. 하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 화학식 3으로 표시되는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 제1항에 따른 화학식 1로 표시되는 루테늄 전구체의 제조방법:
    [화학식 2]
    Figure 112014103301175-pat00007

    [화학식 3]
    Figure 112014103301175-pat00008

    (상기 식에서, X는 Cl, Br 또는 I이고, R1-R12는 서로 독립적으로 H, CH3, C2H5, CH(CH3)2 및 C(CH3)3로부터 선택된다.)
  4. 제1항의 루테늄 전구체를 이용하여 루테늄 박막을 성장시키는 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    박막 성장 공정이 화학기상증착법(CVD) 또는 원자층증착법(ALD)에 의하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
KR1020120136558A 2012-11-28 2012-11-28 루테늄 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법 KR101470905B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120136558A KR101470905B1 (ko) 2012-11-28 2012-11-28 루테늄 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120136558A KR101470905B1 (ko) 2012-11-28 2012-11-28 루테늄 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140068719A KR20140068719A (ko) 2014-06-09
KR101470905B1 true KR101470905B1 (ko) 2014-12-09

Family

ID=51124411

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120136558A KR101470905B1 (ko) 2012-11-28 2012-11-28 루테늄 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101470905B1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100060482A (ko) * 2008-11-27 2010-06-07 주식회사 유피케미칼 루테늄 금속 또는 루테늄 산화물 박막 증착용 유기 금속 전구체 화합물 및 이를 이용한 박막 증착 방법

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100060482A (ko) * 2008-11-27 2010-06-07 주식회사 유피케미칼 루테늄 금속 또는 루테늄 산화물 박막 증착용 유기 금속 전구체 화합물 및 이를 이용한 박막 증착 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140068719A (ko) 2014-06-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20180282866A1 (en) Ruthenium precursor, preparation method therefor and method for forming thin film using same
KR20090054922A (ko) 트리덴테이트 베타­케토이미네이트의 금속 착물
KR20140078534A (ko) 금속 전구체 및 이를 이용하여 제조된 금속 함유 박막
KR101659610B1 (ko) 유기 게르마늄 아민 화합물 및 이를 이용한 박막 증착 방법
KR101288919B1 (ko) 금속 함유 막의 증착을 위한 금속 착물
TW201136877A (en) Process for the preparation of indium chlordialkoxides
KR20210094035A (ko) 루테늄 착체를 포함하는 화학 증착용 원료 및 해당 화학 증착용 원료를 사용한 화학 증착법
KR101399552B1 (ko) 스트론튬 전구체, 이의 제조방법, 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법
KR100807947B1 (ko) 비대칭형 β-케토이미네이트 리간드 화합물의 제조방법
JP5311886B2 (ja) ストロンチウム含有薄膜形成用原料およびその製造方法
KR101636491B1 (ko) 루테늄 화합물, 이의 제조 방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법
KR101306811B1 (ko) 신규의 텅스텐 아미노아미드 할로겐 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법
TW201425630A (zh) 由釕錯合物所構成的化學蒸鍍原料及其製造方法和化學蒸鍍法
JPH06298714A (ja) 新規な有機金属錯体とその配位子
KR101470905B1 (ko) 루테늄 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법
KR101306810B1 (ko) 신규의 텅스텐 아미노알콕사이드 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법
KR101567548B1 (ko) 루테늄 화합물, 이의 제조 방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법
KR101306812B1 (ko) 신규의 텅스텐 실릴아미드 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법
KR101636490B1 (ko) 란탄족 금속 전구체, 이의 제조방법, 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법
KR102418179B1 (ko) 원자층 증착 또는 화학적 기상증착용 전구체로서의 신규한 유기-지르코늄 화합물 및 그 제조방법
US9790238B2 (en) Strontium precursor, method for preparing same, and method for forming thin film by using same
KR20140074162A (ko) 4 족 전이금속-함유 전구체 화합물, 및 이를 이용하는 박막의 증착 방법
KR102644483B1 (ko) 루테늄 유기금속화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 제조하는 방법
KR101865479B1 (ko) 싸이클로펜타디엔일 유도체 중간체 및 상기 싸이클로펜타디엔일 유도체 제조방법
KR101276630B1 (ko) 세자리 베타-디케티민 화합물, 스트론튬 또는 바륨 세자리 베타-디케티미네이트 화합물 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181203

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191001

Year of fee payment: 6