KR101447338B1 - 유기 올리고실세스퀴옥산의 제조 방법 - Google Patents
유기 올리고실세스퀴옥산의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101447338B1 KR101447338B1 KR1020127012429A KR20127012429A KR101447338B1 KR 101447338 B1 KR101447338 B1 KR 101447338B1 KR 1020127012429 A KR1020127012429 A KR 1020127012429A KR 20127012429 A KR20127012429 A KR 20127012429A KR 101447338 B1 KR101447338 B1 KR 101447338B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- moiety
- formula
- precipitant
- iii
- silicate
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- -1 disiloxane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 17
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003860 tertiary carboxamides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- APSPVJKFJYTCTN-UHFFFAOYSA-N tetramethylazanium;silicate Chemical compound C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.[O-][Si]([O-])([O-])[O-] APSPVJKFJYTCTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 8
- POPVULPQMGGUMJ-UHFFFAOYSA-N octasilsesquioxane cage Chemical compound O1[SiH](O[SiH](O2)O[SiH](O3)O4)O[SiH]4O[SiH]4O[SiH]1O[SiH]2O[SiH]3O4 POPVULPQMGGUMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- DXHPZXWIPWDXHJ-UHFFFAOYSA-N carbon monosulfide Chemical compound [S+]#[C-] DXHPZXWIPWDXHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 1
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 150000003140 primary amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012063 pure reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003334 secondary amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012258 stirred mixture Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0874—Reactions involving a bond of the Si-O-Si linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
본 발명은, 100 몰의 하기 일반식 (III)의 실리케이트를 1.3×50×z 몰 이하의 하기 일반식 (IV)의 디실록산 화합물과 반응시킴으로써 하기 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산을 제조하는 방법에 관한 것이다.
[RSiO3/2]z (I)
(W4NOSiO3/2)z (III)
R1 2YSi-O-SiR1 2Y (IV)
[RSiO3/2]z (I)
(W4NOSiO3/2)z (III)
R1 2YSi-O-SiR1 2Y (IV)
Description
본 발명은 실리케이트 및 디실록산 화합물로부터 유기 올리고실세스퀴옥산을 제조하는 방법에 관한 것이다.
유기 올리고실세스퀴옥산은 실리콘 및 유기 중합체를 위한 가교제로서 유용하다.
DE 38 37 397 A1 및 DE 101 56 619 A1은 유기 올리고실세스퀴옥산 및 그 제조 방법을 개시한다. DE 38 37 397 A1에서는, 그러한 유기 올리고실세스퀴옥산이 바람직하게는 과잉의, 반응 생성물에 대한 용매로서의 반응물과의 반응에 의해 제조된다.
또한, DE 38 37 397에 예로서 제시된 실시예 8 및 9는 실리케이트 제조 시작 시부터 순수한 반응 생성물을 얻기까지 하기의 6 단계 제조 공정으로 이루어지는 제조 방법을 기재한다:
제1 단계: 침강 실리카를 테트라메틸암모늄 하이드록시드 수용액과 반응시킴으로써 실리케이트 염기를 제조하는 단계.
제2 단계: 반응 혼합물을 농축시키고 4℃에서 테트라메틸암모늄 실리케이트 생성물을 결정화시키는 단계.
제3 단계: 테트라메틸암모늄 실리케이트를 과잉으로 사용되어 유기 올리고실세스퀴옥산에 대한 용매로서 작용하는 반응물과 반응시키는 단계.
제4 단계: 상을 분리하여 중성이 될 때까지 유기상을 세척하는 단계.
제5 단계: 세척된 중성 반응 혼합물을 증발시켜 건조하는 단계.
제6 단계: 알코올로부터 잔류물을 재결정화하는 단계.
따라서, DE 38 37 397 A1은 고순도의 유기 올리고실세스퀴옥산을 제조하기 위해서는 불가피하게 높은 비용 요건과 비교적 불량한 수율(60∼70%)을 갖는 제조 방법을 개시한다.
본 발명은, 침전제(precipitant) 존재 하에, 100 몰의 하기 일반식 (III)의 실리케이트를 1.3×50×z 몰 이하의 하기 일반식 (IV)의 디실록산 화합물과 반응시킴으로써 하기 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산을 제조하는 방법으로서, 상기 침전제는 반응 온도에서 액체이며 상기 침전제 100 ml 중에 하기 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산이 1 g 이하 용해될 수 있는 것인 제조 방법을 제공한다:
[RSiO3/2]z (I)
상기 식에서, R은 하기 일반식 (II)의 부분을 나타낸다:
-O-SiR1 2Y (II)
(W4NOSiO3/2)z (III)
R1 2YSi-O-SiR1 2Y (IV)
상기 식에서,
R1은 2가의 C1-C6-탄화수소 또는 C1-C6-알콕시 부분을 나타내고,
Y는 수소 원자 또는 할로겐화 또는 비할로겐화 C1-C10-탄화수소 부분을 나타내며,
W는 C1-C4-알킬 부분을 나타내고,
z는 6, 8 또는 10의 수를 나타낸다.
본 발명이 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산을 제조하기 위해 제공하는 방법은, 반응물 중 어느 것도 생성된 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산에 대한 용매로서 작용하지 않는 침전 반응이다. 따라서, 일반식 (I)의 생성물은 반응 직후 1H NMR로 측정 시 95∼100%, 특히 99∼100%의 고순도로 반응 매질로부터 결정화된다. 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산은 바람직하게는 무색 분말로서 생성된다. 사용되는 일반식 (III)의 실리케이트를 기준으로 70% 이상의 높은 수율을 얻을 수 있다.
이 방법은 간단하고 경제적이다. 본 발명에 따른 방법은 선행 기술에 개시된 유형의 상 분리, 세척, 건조, 재결정화와 같은 기술적으로 관련된 공정 단계를 생략한다.
본 발명에 따른 제조 방법은 회분식 공정, 반회분식 공정 및/또는 연속식 공정으로서 수행될 수 있다.
R은 동일하거나 상이한 일반식 (IV)의 대칭 또는 비대칭 디실록산 화합물의 선택에 따라 동일하거나 상이한 부분을 나타낼 수 있다. R이 -O-Si(CH3)2H 또는 -O-Si(CH3)2H3C2를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
R1은 바람직하게는 메틸, 에틸, 페닐, 메톡시, 에톡시 또는 프로폭시이다.
Y는 바람직하게는 메틸, 페닐, 또는 바람직하게는 단 1개의 이중 결합을 갖는 C2-C10-알케닐 부분, 특히 비닐 또는 알릴 기이다. 추가적인 바람직한 Y 부분은 말단 탄소 원자 상에 염소 또는 브롬과 같은 할로겐 원자를 갖는 C1-C10-알킬 부분, 특히 3-클로로프로필, 3-브로모프로필, 6-클로로헥실이다.
W는 바람직하게는 메틸, 에틸 또는 n-프로필이다.
바람직하게는, 일반식 (III)의 실리케이트 100 몰부당 1.2×50×z 몰부 이하, 더 바람직하게는 1.1×50×z 몰부 이하, 더욱 더 바람직하게는 1.05×50×z 몰부 이하의 일반식 (IV)의 디실록산 화합물이 사용된다. 바람직하게는, 일반식 (III)의 실리케이트 100 몰부당 0.3×50×z 몰부 이상, 더 바람직하게는 0.8×50×z 몰부 이상, 더욱 더 바람직하게는 0.95×50×z 몰부 이상의 일반식 (IV)의 디실록산 화합물이 사용된다.
반응 온도는 바람직하게는 0℃ 이상, 특히 20℃ 이상, 바람직하게는 100℃ 이하, 더 바람직하게는 60℃ 이하, 특히 40℃ 이하이다.
반응은 바람직하게는 주위 분위기의 압력, 즉 약 0.1 MPa(abs.)의 압력에서 수행되며, 더 높은 압력이나 더 낮은 압력에서도 수행될 수 있다. 0.08 MPa(abs.) 이상, 더 바람직하게는 0.09 MPa(abs.) 이상, 더 바람직하게는 0.2 MPa(abs.) 이하, 특히 0.15 MPa(abs.) 이하의 압력이 바람직하다.
침전제는 반응 온도에서, 특히 25℃ 및 0.1 MPa에서 액체이다. 침전제는 반응에서 희석제로서의 역할을 한다. 0.1 MPa에서의 비점 또는 비등 범위가 120℃ 이하인 용매 또는 용매 혼합물이 침전제로서 바람직하다. 바람직한 침전제는 극성 용매, 예컨대 물; 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올 또는 부탄올; 에테르, 예컨대 디옥산, 테트라하이드로푸란, 디에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르; 염소화 탄화수소, 예컨대 디클로로메탄, 트리클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 트리클로로에틸렌; 케톤, 예컨대 아세톤; 락톤, 예컨대 4-부티로락톤; 니트릴, 예컨대 아세토니트릴; 니트로 화합물, 예컨대 니트로메탄; 3차 카복사미드, 예컨대 디메틸포름아미드; 우레아 유도체, 예컨대 테트라메틸우레아 또는 디메틸프로필렌우레아(DMPU); 설폭시드, 예컨대 디메틸 설폭시드(DMSO); 설폰, 예컨대 설포란; 탄산 에스테르, 예컨대 디메틸 카보네이트 또는 에틸렌 카보네이트; 황화탄소 및 니트로벤젠; 1차 및 2차 아민, 예컨대 디에틸아민; 카복실산, 예컨대 포름산 또는 아세트산; 1차 및 2차 아미드, 예컨대 포름아미드; 무기산, 예컨대 황산, 질산, 인산, 염산, 붕산; 또는 이들의 혼합물이다.
본 발명에 따른 방법은 바람직하게는 극성 양성자성 용매 중에서 수행된다. 이를 위해 물 및 알코올이 바람직하다.
반응 온도에서 침전제 100 ml 중에 0.5 g 이하, 특히 0.1 g 이하의 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산이 용해될 수 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 방법은 바람직하게는 산성 촉매 존재 하에 수행된다. 촉매 및 그 사용량은 선행 기술에 공지되어 있다. 일반식 (III)의 실리케이트 100 몰당 0.01 몰 이상, 더 바람직하게는 0.1 몰 이상, 특히 0.5 몰 이상, 특히 바람직하게는 5 몰 이상의 촉매, 200 몰 이하, 더 바람직하게는 100 몰 이하, 특히 50 몰 이하의 촉매를 사용하는 것이 바람직하다.
그러한 산성 촉매의 예로는 산, 특히 루이스산, 예컨대 BF3, AlCl3, TiCl4, SnCl4, SO3, PCl5, POCl3, FeCl3 및 그 수화물, ZnCl2 및 인 질화물 염화물; 브뢴스테드산, 예컨대 염산, 브롬화수소산, 황산, 클로로설폰산, 인산, 예컨대 오로트-, 메타- 및 폴리인산, 붕산, 아셀렌산, 질산, 아세트산, 프로피온산, 할로아세트산, 예컨대 트리클로로- 및 트리플루오로아세트산, 옥살산, p-톨루엔설폰산, 산성 이온 교환 물질, 산성 제올라이트, 산 활성화 풀러토, 산 활성화 카본 블랙, 불화수소, 염화수소 등이 있다. 염산이 특히 바람직하다.
일반식 (III)의 실리케이트의 제조는 선행 기술에 공지되어 있으며, 예를 들어, 문헌[D. Hoebbel and W. Wieker (Zeitschrift fuer anorganische und allgemeine Chemie 384, p. 43-52 (1971))] 및 문헌[I. Hasegawa and S. Sakka (Journal of Molecular Liquids 34, p. 307-315 (1987))]에 기재되어 있다. 예를 들어, 테트라알킬암모늄 하이드록시드 존재 하에 수성 메탄올 중에서 테트라에틸 실리케이트의 가수분해에 의해 제조하는 것이 가능하며, 이때 테트라알킬암모늄 하이드록시드 및 반응물의 중량비를 적절히 선택하면 z가 6, 8 또는 10인 일반식 (III)의 분자를 선택적으로 제조할 수 있다.
바람직한 일 실시형태에서, 제1 단계에서, 일반식 (III)의 실리케이트를, 알콕시 부분이 1∼6개, 특히 1개, 2개 또는 3개의 탄소 원자를 갖는 테트라알콕시실란을 갖는, 침전제, 특히 물, 메탄올 이들의 혼합물 중의 W4N+ OH-의 용액 중에서 제조한다. 그 후, 이렇게 제조된 혼합물을 본 발명에 따른 방법에 미정제 생성물로서 바로 사용할 수 있다.
이것은 공정을 매우 단순화시키는데, 그 이유는 일반식 (III)의 실리케이트가 재결정화에 의한 사전 정제 없이 사용될 수 있기 때문이다.
또 다른 바람직한 실시형태에서, 촉매 W4N+ A-의 테트라알킬암모늄 양이온 및 음이온으로부터 이루어진 공동 제조 염, 특히 테트라메틸암모늄 클로라이드를 분리하여 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 하이드록시드, 바람직하게는 알코올성, 예를 들어 메탄올성 KOH 용액으로 재생시켜 W4N+ OH-, 특히 테트라알킬암모늄 하이드록시드를 얻는다. 그 후, W4N+ OH-를 일반식 (III)의 실리케이트의 제조에 재사용할 수 있다.
본 발명에 따른 방법에 의해 얻을 수 있는 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산은 중합체, 특히 실리콘을 위한 가교제로서 유용하다.
전술한 화학식의 전술한 모든 기호는 각각 서로 독립적으로 그들의 의미를 갖는다. 규소 원자는 모든 화학식에서 4가이다.
상기에 언급된 모든 반응 참여 물질 및 보조 화합물은 단독으로 또는 혼합되어 사용될 수 있다.
실시예
하기 실시예에서, 각각의 경우에 달리 언급하지 않는다면, 다음의 의미를 나타낸다:
a) 모든 양은 중량 기준이다;
b) 모든 압력은 0.10 MPa(abs.)이다;
c) 모든 온도는 20℃이다.
실시예 1 (DE 38 37 397 A1의 실시예 8에 해당함, 본 발명에 따른 것이 아님): 옥타(비닐디메틸실록시)옥타실세스퀴옥산[(H2C=CH)(CH3)2SiOSiO3/2]8의 합성
a) 82.2 g의 침강 실리카를 10% 농도의 테트라메틸암모늄 하이드록시드 수용액(TMAOH) 1,250 ml와 혼합하였다.
이 혼합물을 25℃에서 16시간 동안, 그리고 50℃에서 8시간 동안 교반하여 투명한 용액을 얻었다. 이 용액을 그 최초 부피의 2/3로 농축시키고, 테트라메틸암모늄 실리케이트 함량을 4℃에서 결정화하여 여전히 물을 함유하는 테트라메틸암모늄 실리케이트 359.5 g을 얻었다.
b) 이 테트라메틸암모늄 실리케이트 160 g을 H2O 450 ml, 이소프로판올 1,000 ml, 1,3-디비닐-1,1,3,3-테트라메틸디실록산(독일 뮌헨 소재의 Wacker Chemie AG로부터 Wacker Siloxan VSi2로서 입수 가능함) 1,700 ml(1,387 g) 및 진한 염산 550 ml의 잘 교반된 혼합물에 한 번에 조금씩 첨가한 후, 이 반응 혼합물을 실온에서 7일 동안 교반하였다. 그 후, 상들을 분리하고, 유기상을 중성이 될 때까지 물로 세척하고, 황산나트륨으로 건조시키고, 완전히 증발시켰다. 잔류물을 에탄올로부터 재결정화하여 결정질 물질 64 g(사용된 실리카를 기준으로 한 이론 수율 69%)을 얻었으며, 이것은 증기압 삼투법에 기초하여 측정 시 몰 질량이 1,120 g.mol-1인 것으로 나타났다. 겔 침투 크로마토그래피(GPC) 다이아그램은 단일 화합물임을 나타낸다. 1H 및 29Si NMR 및 IR 데이터는 옥타(비닐디메틸실록시)옥타실세스퀴옥산의 구조와 일치한다.
실시예 2 (DE 38 37 397 A1의 실시예 9에 해당함, 본 발명에 따른 것이 아님): 옥타(디메틸실록시)옥타실세스퀴옥산[H(CH3)2SiOSiO3/2]8의 합성
실시예 1a)에 따라 제조된 테트라메틸암모늄 실리케이트 160 g을 H2O 400 ml, 이소프로판올 1,000 ml, 1,1,2,2-테트라메틸디실록산(독일 뮌헨 소재의 Wacker Chemie AG로부터 Wacker Siloxan HSi2로서 입수 가능함) 1,500 ml(1,136 g) 및 10% 농도의 염산 200 ml의 잘 교반된 혼합물에 한 번에 조금씩 첨가한 후, 이 반응 혼합물을 실온에서 4시간 동안 교반하였다.
나머지 후처리는 실시예 1b)에 기재된 바와 같이 수행하였다. 얻어진 실릴화 생성물을 아세톤으로부터 재결정화하였다.
이로써, 결정질 물질 52.0 g(사용된 실리카를 기준으로 한 이론 수율 67%)을 얻었으며, 이것은 증기압 삼투법에 기초하여 측정 시 몰 질량이 1,150 g.mol-1인 것으로 나타났다. GPC 다이아그램은 단일 화합물임을 나타낸다. 1H 및 29Si NMR 및 IR 데이터는 옥타(디메틸실록시)옥타실세스퀴옥산의 구조와 일치한다. 활성 수소 함량: 이론값 0.79 중량%, 실측값: 0.75 중량%.
실시예 3 (본 발명에 따른 실시예): 옥타(비닐디메틸실록시)옥타실세스퀴옥산[(H2C=CH)(CH3)2SiOSiO3/2]8의 제조
a) 실리케이트 염기의 제조:
먼저, 25% 농도의 TMAOH 수용액 151 g을 메탄올 226 g과 함께 적하 깔때기, 환류 냉각기 및 자력 교반기를 갖춘 2 리터의 3구 플라스크에 투입하였다. 테트라에톡시실란(독일 뮌헨 소재의 Wacker Chemie AG로부터 TES 28로서 입수 가능함) 85.36 g을 75분에 걸쳐 초기 투입물에 첨가하였다. 2∼4시간의 후속 교반 시간 후, 테트라메틸암모늄 실리케이트를 함유한 이 반응 혼합물을 다음 공정 단계, 즉 실릴화에 그대로 사용할 수 있었다.
b) 실릴화(침전 반응)
적하 깔때기, 환류 냉각기 및 자력 교반기를 갖춘 4 리터의 3구 유리 플라스크에 먼저 1,3-디비닐-1,1,3,3-테트라메틸디실록산(독일 뮌헨 소재의 Wacker Chemie AG로부터 Wacker Siloxan VSi2로서 입수 가능함) 100 g, 이소프로필 알코올 390.5 g, HCl(20% 농도) 150 g 및 H2O(완전 탈이온수) 50 g을 투입하였다. 일정하게 교반하면서, 테트라메틸암모늄 실리케이트를 함유한 a) 단락에 기재된 혼합물을 800∼100분 동안 초기 투입물에 첨가하였다.
2∼4시간의 후속 교반 시간 후, 얻어진 생성물은 유리 바닥 위에 침전되었고, 이것을 흡입 여과를 이용하여 액상으로부터 분리하였다.
이렇게 분리된 결정질 생성물을 완전한 탈이온수(약 100 g)로 세척하고 건조 캐비넷에서 100℃로 건조시켰다.
이로써 42.4 g의 결정질 물질(사용된 실리카를 기준으로 한 수율: 71%)을 얻었다.
GPC를 이용하여 측정할 때 단위 몰 질량이 1,171.7 g/mol이었고, Mn과 Mw는 동일하였으며, 이렇게 얻은 화합물은 다분산도가 1.0이었다.
1H 및 29Si NMR 데이터는 옥타(비닐디메틸실록시)옥타실세스퀴옥산의 구조와 일치한다.
실시예 4 (본 발명에 따른 실시예): 옥타(디메틸실록시)옥타실세스퀴옥산[H(CH3)2SiOSiO3/2]8의 합성
a) 실리케이트 제조는 실시예 3 a)에서와 같이 수행하였다.
b) 실릴화(침전 반응)
적하 깔때기, 환류 냉각기 및 자력 교반기를 갖춘 4 리터의 3구 유리 플라스크에 먼저 1,1,3,3-테트라메틸디실록산(독일 뮌헨 소재의 Wacker Chemie AG로부터 Wacker Siloxan HSi2로서 입수 가능함) 60.5 g, 이소프로필 알코올 390.5 g, HCl(20% 농도) 150 g 및 H2O(완전 탈이온수) 100 g을 투입하였다. 일정하게 교반하면서, 테트라메틸암모늄 실리케이트를 함유한 a) 단락에 기재된 혼합물을 800∼100분 동안 초기 투입물에 첨가하였다.
2∼4시간의 후속 교반 시간 후, 얻어진 생성물은 유리 바닥 위에 침전되었고, 이것을 흡입 여과를 이용하여 액상으로부터 분리하였다.
이렇게 분리된 결정질 생성물을 완전한 탈이온수(약 100 g)로 세척하고 건조 캐비넷에서 100℃로 건조시켰다.
이로써 45 g의 결정질 물질(사용된 실리카를 기준으로 한 수율: 86.3%)을 얻었다.
GPC를 이용하여 측정할 때 단위 몰 질량이 1,032.29 g/mol이었고, Mn과 Mw는 동일하였으며, 이렇게 얻은 화합물은 다분산도가 1.0이었다.
1H 및 29Si NMR 데이터는 옥타(비닐디메틸실록시)옥타실세스퀴옥산의 구조와 일치한다. 또한, 1H NMR 분석에 따른 0.79 중량%의 활성 수소 함량은 이론값(0.79 중량%)과 동일하다.
[발명의 효과]
본 발명의 방법에 의하면, 고순도의 유기 올리고실세스퀴옥산을 간단하고 경제적으로 제조할 수 있다.
Claims (6)
- 침전제(precipitant) 존재 하에, 100 몰의 하기 일반식 (III)의 실리케이트를 1.3×50×z 몰 이하의 하기 일반식 (IV)의 디실록산 화합물과 반응시킴으로써 하기 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산을 제조하는 방법으로서, 상기 침전제는 25℃ 및 0.1 MPa에서 액체이고, 0℃∼60℃의 반응 온도에서 상기 침전제 100 ml 중에 하기 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산이 1 g 이하 용해될 수 있으며, 생성된 일반식 (I)의 유기 올리고실세스퀴옥산은 반응 직후 1H NMR로 측정 시 95∼100%의 순도로 반응 매질로부터 결정화되고, 일반식 (III)의 실리케이트를, 알콕시 부분이 1∼6개의 탄소 원자를 갖는 테트라알콕시실란을 갖는, 침전제 중의 W4N+ OH-의 용액 중에서 제조하고, 그 후, 이렇게 제조된 혼합물을 미정제 생성물로서 바로 사용하는 것인 제조 방법:
[RSiO3/2]z (I)
상기 식에서, R은 하기 일반식 (II)의 부분을 나타낸다:
-O-SiR1 2Y (II)
(W4NOSiO3/2)z (III)
R1 2YSi-O-SiR1 2Y (IV)
상기 식에서,
R1은 2가의 C1-C6-탄화수소 또는 C1-C6-알콕시 부분을 나타내고,
Y는 수소 원자 또는 할로겐화 또는 비할로겐화 C1-C10-탄화수소 부분을 나타내며,
W는 C1-C4-알킬 부분을 나타내고,
z는 6, 8 또는 10의 수를 나타낸다. - 제1항에 있어서, R1이 메틸, 에틸, 페닐, 메톡시, 에톡시 및 프로폭시로부터 선택되는 것인 제조 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, Y가 말단 탄소 원자 상에 할로겐 원자를 갖는 C1-C10-알킬 부분, C2-C10-알케닐 부분, 페닐 부분 및 메틸 부분으로부터 선택되는 것인 제조 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, W가 메틸, 에틸 및 n-프로필로부터 선택되는 것인 제조 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 침전제가 극성이고, 물, 알코올, 에테르, 염소화 탄화수소, 케톤, 니트릴, 니트로 화합물, 3차 카복사미드, 우레아 유도체, 설폭시드, 탄산 에스테르, 황화탄소, 카복실산 및 무기산, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것인 제조 방법.
- 삭제
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102009045669A DE102009045669A1 (de) | 2009-10-14 | 2009-10-14 | Verfahren zur Herstellung von Organooligosilsesquioxanen |
DE102009045669.4 | 2009-10-14 | ||
PCT/EP2010/064924 WO2011045218A1 (de) | 2009-10-14 | 2010-10-06 | Verfahren zur herstellung von organooligosilsesquioxanen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120081615A KR20120081615A (ko) | 2012-07-19 |
KR101447338B1 true KR101447338B1 (ko) | 2014-10-06 |
Family
ID=43332548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127012429A KR101447338B1 (ko) | 2009-10-14 | 2010-10-06 | 유기 올리고실세스퀴옥산의 제조 방법 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8710254B2 (ko) |
EP (1) | EP2488535B1 (ko) |
JP (1) | JP5453541B2 (ko) |
KR (1) | KR101447338B1 (ko) |
CN (1) | CN102574873B (ko) |
DE (1) | DE102009045669A1 (ko) |
WO (1) | WO2011045218A1 (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210179785A1 (en) * | 2017-10-30 | 2021-06-17 | Wacker Chemie Ag | Method for producing spherical polysilsesquioxane particles |
EP4276067A4 (en) | 2022-03-29 | 2024-04-03 | Nissan Chemical Corp | METHOD FOR PRODUCING LAYERED SILICATE AND APPLICATION THEREOF IN THE PRODUCTION OF SILICON DIOXIDE DNANOFILAMENT AND SO ON |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5442025A (en) * | 1990-03-14 | 1995-08-15 | Consortium Fur Elektrochemische Industrie Gmbh | Organosilsesquioxanes having at least one mesogenic side group |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2603291B2 (ja) | 1988-04-19 | 1997-04-23 | 東芝シリコーン株式会社 | 第4級アンモニウム基含有シリコーン樹脂微粉末 |
DE3837397A1 (de) * | 1988-11-03 | 1990-05-10 | Wacker Chemie Gmbh | Neue organooligosilsesquioxane |
DE10156619A1 (de) * | 2001-11-17 | 2003-05-28 | Creavis Tech & Innovation Gmbh | Verfahren zur Herstellung funktionalisierter oligomerer Silasesquioxane sowie deren Verwendung |
US7576169B2 (en) * | 2003-10-23 | 2009-08-18 | The Regents Of The University Of Michigan | Facile synthesis of polyhedral silsesquioxane anions and use thereof |
JP5273941B2 (ja) * | 2007-04-24 | 2013-08-28 | コルコート株式会社 | ポリヘドラルシルセスキオキサンの製造方法 |
CN101503420B (zh) * | 2009-03-20 | 2011-08-31 | 北京化工大学 | 一种八环氧基笼型倍半硅氧烷及其制备方法 |
-
2009
- 2009-10-14 DE DE102009045669A patent/DE102009045669A1/de not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-10-06 CN CN201080046029.3A patent/CN102574873B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-06 EP EP10763185.5A patent/EP2488535B1/de not_active Not-in-force
- 2010-10-06 US US13/501,962 patent/US8710254B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-06 WO PCT/EP2010/064924 patent/WO2011045218A1/de active Application Filing
- 2010-10-06 KR KR1020127012429A patent/KR101447338B1/ko active IP Right Grant
- 2010-10-06 JP JP2012533574A patent/JP5453541B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5442025A (en) * | 1990-03-14 | 1995-08-15 | Consortium Fur Elektrochemische Industrie Gmbh | Organosilsesquioxanes having at least one mesogenic side group |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2488535B1 (de) | 2014-07-16 |
KR20120081615A (ko) | 2012-07-19 |
US8710254B2 (en) | 2014-04-29 |
DE102009045669A1 (de) | 2011-04-21 |
JP5453541B2 (ja) | 2014-03-26 |
WO2011045218A1 (de) | 2011-04-21 |
EP2488535A1 (de) | 2012-08-22 |
CN102574873A (zh) | 2012-07-11 |
US20120203019A1 (en) | 2012-08-09 |
JP2013507413A (ja) | 2013-03-04 |
CN102574873B (zh) | 2014-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6972312B1 (en) | Process for the formation of polyhedral oligomeric silsesquioxanes | |
KR20020059354A (ko) | 다면체 올리고머 실세스퀴옥산의 제조 방법 | |
KR101447338B1 (ko) | 유기 올리고실세스퀴옥산의 제조 방법 | |
JP6912060B2 (ja) | 含リンチオフェン化合物およびその含リンポリチオフェン化合物、並びにそれらの製造方法。 | |
JP5234909B2 (ja) | アルコキシル基含有籠型シロキサン化合物及びシラノール基含有籠型シロキサン化合物並びにこれらの製造方法 | |
KR100994637B1 (ko) | 유기규소 화합물의 제조 방법 | |
JP5062231B2 (ja) | アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法 | |
JP2004099445A (ja) | トリシクロペンタジエンジエポキシド | |
KR101819186B1 (ko) | 신규의 플루오렌 화합물 및 그 제조 방법 | |
KR100808258B1 (ko) | 테트라알콕시실란의 제조방법 | |
CN112745506A (zh) | 一种t16笼型结构环氧基苯基硅倍半氧烷及其制备方法 | |
US20070055036A1 (en) | Method for producing cyclic organic silicon compound and organic silicon resin having alcoholic hydroxyl group | |
JP2004210773A (ja) | フラーレン誘導体とその製造方法 | |
KR101023260B1 (ko) | 테트라알콕시실란의 제조방법 및 그 제조방법에 의하여 제조된 테트라알콕시실란 | |
JP4574034B2 (ja) | メルカプト基を有するケイ素化合物の製造方法 | |
JP4574876B2 (ja) | メルカプト基を有するケイ素化合物の製造方法 | |
JP6812315B2 (ja) | 6−(2−オキシラニルメトキシ)−2−ナフトエ酸アルケニルエステルおよびその製造方法 | |
JP4336157B2 (ja) | 新規な4、4”−ジ(ヒドロキシアルコキシ)ターフェニル類 | |
KR100468640B1 (ko) | 고 순도 멜라민 유도체의 제조방법 | |
JP2001048891A (ja) | 環状四量体テトラオールの製造方法 | |
KR100537671B1 (ko) | 3-[n-(2-아미노에틸)]아미노알킬알콕시실란의 제조방법 | |
JP4524602B2 (ja) | かご状オリゴシロキサンの製造方法 | |
KR20220057144A (ko) | 비스플루오로술포닐 이미드 알칼리 금속염의 제조방법 및 이에 의해 제조된 비스플루오로술포닐 이미드 알칼리 금속염 | |
KR19980071939A (ko) | 고순도 에폭시 화합물의 제조 방법 | |
PL210323B1 (pl) | Sposób otrzymywania okta(halogenoalkilo)oktasilseskwioksanów |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190916 Year of fee payment: 6 |