KR101433489B1 - 생분해성 세정 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 에톡실화 2-프로필 헵탄올을 포함하는 계면활성제 성분, 메틸글리신디아세트산의 삼나트륨 염을 포함하는 킬레이트화 성분 및 화학식 C₆H₁₃O(CH₂CH₂O)H를 갖는 에톡실화 헥산올을 포함하는 유화제 성분을 포함하는 생분해성 세정 조성물을 제공한다. 에톡실화 2-프로필 헵탄올은 화학식 C₅H₁₁CH(C₃H₇)CH₂O(C₂H₄O)_pH (여기서, p는 3 내지 6의 수임)을 갖는다. 조성물은 또한 조성물의 pH를 2 미만으로 확립하기 위한 산 성분 및 물을 포함한다. 조성물은 용매를 실질적으로 함유하지 않음으로써, 휘발성 유기 화합물의 방출을 감소시키고, 환경 오염 가능성 및 건강상의 위험을 감소시킨다. 조성물은 또한 녹, 석회 비누 및 지방산의 금속 염을 금속, 비닐 및 섬유유리를 비롯한 경질 표면으로부터 제거함에 있어 효과적이다.

Description

생분해성 세정 조성물 {BIODEGRADABLE CLEANING COMPOSITION}

본 발명은 일반적으로 생분해성 세정 조성물에 관한 것이다. 조성물은 알콕실화 2-프로필 헵탄올을 포함하는 계면활성제 성분, 킬레이트화 성분, 및 유화제 성분을 포함한다.

관련 기술의 설명

세정 조성물, 특히 경질 표면을 세정하는 데 사용되는 것들은 당업계에 익히 공지되어 있다. 이들 세정 조성물은 염기성 또는 산성일 수 있고, 전형적으로, 녹, 석회 비누, 및 경수에서 나타나는 칼슘 및 마그네슘 이온과 각종 비누와의 반응으로부터 생성된 지방산의 칼슘 및 마그네슘 염을 용해하는 데 사용된다. 녹, 석회 비누 및 염은 보통 먼지, 오일 및 그리스 뿐만 아니라 미네랄 침착물과 조합되며, 이로써 경질 표면으로부터의 제거를 어렵게 만든다. 이들 세정 조성물 중 다수는 유기 세정 용매, 세제 계면활성제 및 연마제를 포함하고, 그 결과로 휘발성 유기 화합물 (VOC)을 방출하고, 사용 및 폐기시 오염 및 환경적 위험을 초래하는 경향이 있다. 추가로, 많은 이들 세정 조성물은 경질 표면, 예컨대 유리, 금속, 비닐 및 섬유유리 상에 사용시 효과적이지 않다. 또한, 이들 세정 조성물은 경질 표면을 둔화시키는 경향이 있으며, 이로써 소비자 만족을 감소시키고 시장성을 감소시킨다.

미국 특허 번호 6,627,590 (Sherry et al.)에 개시된 한 특정 세정 조성물은, 알킬 술페이트 계면활성제, 소수성 세정 용매, 카르복실산, 비-이온성 세제 계면활성제, 친수성 중합체 및 수성 용매를 포함하고, 또한 2 내지 5의 pH를 갖는다. 소수성 세정 용매는 VOC의 방출의 원인이 되고, 조성물이 생분해되는 능력을 감소시킨다. 추가로, 비-이온성 세제 계면활성제는 화학적 분해가 일어나는 6 내지 16개의 탄소 원자를 갖는 알콕실화 알콜의 혼합물을 포함하며, 즉, 알콕실화 알콜은 다른 덜 효과적인 화합물로 분해되는 경향이 있다. 이는 조성물의 효율을 감소시킨다. 또한, 친수성 중합체는 스티렌, 피롤리돈 및 피리딘을 포함하며, 이들은 공지된 독소이고, 환경적으로 위험할 수 있다.

공지된 세정 조성물, 예컨대 '590 특허의 조성물이 폭넓게 사용되고 있음에도 불구하고, 경질 표면의 세정 효율을 향상시키고 이들 공지된 세정 조성물의 사용시 실현되는 환경적 영향을 감소시킬 기회가 남아있다. 또한, 다른 덜 효과적인 화합물로 분해되는 경향이 없는 화학적으로 안정한 성분을 포함하는 세정 조성물을 형성할 기회가 남아있다. 추가로, 녹, 석회 비누 및 지방산의 금속 염을 효과적으로 제거하면서 동시에 생분해성이고 용매를 실질적으로 함유하지 않아 VOC의 방출이 감소되는 세정 조성물을 형성할 기회가 남아있다.

발명의 개요 및 이점

본 발명은 세정 조성물을 제공한다. 조성물은 알콕실화 2-프로필 헵탄올을 포함하는 계면활성제 성분을 포함한다. 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 화학식 C₅H₁₁CH(C₃H₇)CH₂O(B)_r(C₂H₄O)_pH (여기서, B는 3 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬렌옥시 기이고, r은 0 내지 6의 수이고, p는 1 내지 10의 수임)을 갖는다. 조성물은 또한 2개 이상의 카르복실 모이어티를 포함하는 킬레이트화 성분을 포함한다. 추가로, 조성물은 에톡실화 헥산올을 포함하는 유화제 성분을 포함한다. 에톡실화 헥산올은 화학식 C₆H₁₃O(CH₂CH₂O)_nH (여기서, n은 1 내지 9의 수임)을 갖는다.

본 발명의 한 실시양태에서, 세정 조성물은 1 미만의 pH를 갖고, 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 화학식 C₅H₁₁CH(C₃H₇)CH₂O(C₂H₄O)_pH (여기서, p는 1 내지 10의 수임)을 갖는다. 또 다른 실시양태에서, 세정 조성물은 또한 1 미만의 pH를 갖고, 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 제1 및 제2 알콕실화 2-프로필 헵탄올을 포함한다. 제1 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 화학식 C₅H₁₁CH(C₃H₇)CH₂O(C₂H₄O)₃H를 갖고, 제2 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 화학식 C₅H₁₁CH(C₃H₇)CH₂O(C₂H₄O)₆H를 갖는다.

조성물은 녹, 석회 비누 및 지방산의 금속 염을 경질 표면으로부터 제거함에 있어 효과적이다. 조성물은 또한 생분해성이고, 그 결과로 환경적으로 우호적이고, 사용 및 폐기시 환경 오염의 위험 감소를 제공한다. 킬레이트화 성분의 2개 이상의 카르복실 기는 경질 표면 상의 금속 이온에 결합하여, 즉 이를 격리시켜 석회 비누 및 다른 미네랄 침착물의 제거를 수행하고, 결정 성장을 억제하여 결정 외피형성을 최소화하고, 석회 비누 및 미립자 오염물을 분산시킨다. 킬레이트화 성분에 의한 금속 이온의 격리는 물을 연화시키고, 세정 조성물의 세정 효율을 증가시킨다. 또한, 격리는 염의 침전을 최소화하고, 이로써 추가로 세정 효율을 증가시킨다. 유화제 성분은 표면 활성이고, 조성물에서 소수성 먼지 및 잔류물의 현탁을 촉진하며, 이로써 조성물의 세정 효율을 증가시킨다.

발명의 상세한 설명

본 발명은, 이하에서 간단하게 "조성물"로서 언급되는 세정 조성물을 제공한다. 조성물은 바람직하게는 생분해성이고, 표면으로부터 오염물 및 잔류물, 예컨대 녹, 석회 비누 및 지방산의 금속 염을 제거하는 데 효과적으로 사용될 수 있다. 조성물은 상업용 및 주거용 셋팅 둘 다에서 경질 표면으로부터 오염물 및 잔류물을 제거하는 데 사용될 수 있다. 경질 표면의 비-제한적 예는, 주방 및 욕실 내에서, 벽 및 바닥 상에서, 샤워실 및 욕조 내에서, 카운터탑 및 캐비넷 상에서, 및 대리석, 유리, 금속, 비닐, 섬유유리, 세라믹, 화강암, 콘크리트, 아크릴, 포르미카(Formica)^®, 실레스톤(Silestone)^®, 코리안(Corian)^®, 및 라미네이팅된 표면 상에서 나타나는 것들이다. 조성물이 차도, 파티오, 사이딩, 데킹 등과 같은 외부 표면 상의 외부 환경에 적용될 수 있음이 또한 고려된다. 본원에서 언급되는 바와 같이, 용어 "생분해성"은, 조성물이 천연 이펙터, 예컨대 토양 박테리아, 기후, 식물 및/또는 동물을 통해 화학적으로 분해되는 경향성을 지칭한다. 조성물의 생분해성은 오염의 가능성 및 환경적 위험의 형성을 감소시키고, 조성물의 성분에 의존한다.

조성물은 계면활성제 성분, 킬레이트화 성분 및 유화제 성분을 포함하여 3 성분을 포함한다. 계면활성제 성분은 화학식:

(상기 식에서, B는 3 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬렌옥시 기이고, r은 0 내지 6의 수이고, p는 1 내지 10의 수임)을 갖는 알콕실화 2-프로필 헵탄올을 포함한다. 알킬렌옥시 기는 에틸렌옥시 기, 프로필렌옥시 기, 부틸렌옥시 기 및 이들의 조합을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다. 부틸렌옥시 기는 1,2-부틸렌 옥시드 기, 2,3-부틸렌 옥시드 기 및 이소부틸렌 옥시드 기 중 임의의 것 또는 모두를 포함할 수 있다. 알킬렌옥시 기는, 당업자에 의해 선택되는 바와 같이, 당업계에 공지된 임의의 것일 수 있다. 한 실시양태에서, r은 0이고, p는 3 내지 6의 수이다. 또 다른 실시양태에서, 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 화학식 C₅H₁₁CH(C₃H₇)CH₂O(C₂H₄O)_pH (여기서, p는 1 내지 10의 수임)을 갖는다.

계면활성제 성분은 본질적으로 알콕실화 2-프로필 헵탄올로 이루어질 수 있다. 다르게는, 계면활성제 성분은 알콕실화 2-프로필 헵탄올로 이루어질 수 있다. 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 당업계에 공지된 임의의 것을 포함하는 알콕실화 2-프로필 헵탄올의 블렌드를 포함할 수 있다. 한 실시양태에서, 알콕실화 2-프로필 헵탄올은, r이 0이고 p가 3인 제1 알콕실화 2-프로필 헵탄올 및 r이 0이고 p가 6인 제2 알콕실화 2-프로필 헵탄올을 포함한다. 다르게는, 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 본질적으로, r이 0이고 p가 3인 제1 알콕실화 2-프로필 헵탄올 및 r이 0이고 p가 6인 제2 알콕실화 2-프로필 헵탄올로 이루어질 수 있다. 또한, 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 r이 0이고 p가 3인 제1 알콕실화 2-프로필 헵탄올 및 r이 0이고 p가 6인 제2 알콕실화 2-프로필 헵탄올로 이루어질 수 있다. 한 실시양태에서, 제1 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 제2 알콕실화 2-프로필 헵탄올과 1:2의 비로 존재한다.

알콕실화 2-프로필 헵탄올의 알킬렌옥시 기는 알킬렌옥시드의 2 또는 3개의 별도의 블록을 각각 디블록 및/또는 트리블록 배열로 포함할 수 있음이 고려된다. 알킬렌옥시 기의 디블록 및/또는 트리블록 배열은 에틸렌옥시 기, 프로필렌옥시 기, 부틸렌옥시 기 및 이들의 조합을 포함할 수 있다. 한 실시양태에서, 디블록 배열은 에틸렌 옥시드만을 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 디블록 배위는 프로필렌 옥시드만을 포함한다. 유사하게, 트리블록 배위는 에틸렌 옥시드만을 또는 프로필렌 옥시드만을 포함할 수 있다.

계면활성제 성분은 바람직하게는 7 내지 16, 보다 바람직하게는 7 내지 13, 가장 바람직하게는 7 내지 12의 친수성-친유성 밸런스 (HLB)를 포함한다. 계면활성제 성분은 바람직하게는 조성물 중에 조성물 100 중량부 당 0.3 내지 10, 보다 바람직하게는 1 내지 5, 가장 바람직하게는 1 내지 4 중량부의 양으로 존재한다. 그러나, 계면활성제 성분은 당업자에 의해 결정되는 바와 같이 조성물의 목적한 용도에 따라 임의의 양으로 존재할 수 있다. 계면활성제 성분의 적합한 비제한적 예는, 바스프 코포레이션(BASF Corporation)으로부터 상업적으로 입수가능한 것이다. 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 당업계에 공지된 임의의 방법에 의해 제조될 수 있다. 전형적으로, 알콕실화 2-프로필 헵탄올은, 개시제로서 알콜 (즉, 2-프로필 헵탄올)을 사용하고, 개시제 상에 알킬렌 옥시드 또는 알킬렌 옥시드의 혼합물을 중합시켜 알콕실화 2-프로필 헵탄올을 형성함으로써 제조된다. 한 실시양태에서, 알콕실화 2-프로필 헵탄올은 본원에 참고로 도입되는 미국 특허 번호 5,661,121에 기재된 방법에 따라 제조된다.

이제 상기에서 처음에 도입된 킬레이트화 성분을 언급하자면, 킬레이트화 성분은 2개 이상의 카르복실 모이어티 (C=0)를 갖는다. 2개의 카르복실 모이어티는 금속 이온, 예컨대 칼슘 및 마그네슘 이온을 킬레이트화하고 (즉, 산소 원자가 동시에 1개 초과의 공여자 원자를 통하여 금속 이온에 결합됨), 이로써 조성물의 세정 능력을 향상시키는 것으로 여겨진다. 구체적으로, 카르복실 모이어티를 포함하는 킬레이트화 성분은 루이스 염기로서 작용하여 카르복실 모이어티의 산소 원자와 루이스 산으로서 작용하는 금속 이온 사이에 배위 결합을 형성하는 것으로 여겨진다. 배위 결합을 형성함으로써, 카르복실 모이어티는 경질 표면 상의 금속 이온을 격리시키고, 석회 비누 및 다른 미네랄 침착물의 제거를 수행하고, 결정 성장을 억제하여 결정 외피형성을 최소화하고, 석회 비누 및 미립자 오염물을 분산시키는 것으로 여겨진다. 킬레이트화 성분에 의한 금속 이온의 격리는, 물을 연화시키고, 조성물의 세정 효율을 증가시키는 것으로 여겨진다. 또한, 격리는 염의 침전을 최소화함으로써 세정 효율을 더욱 증가시키는 것으로 여겨진다.

킬레이트화 성분은 아세트산을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 아세트산은 메틸글리신디아세트산을 포함할 수 있다. 다르게는, 킬레이트화 성분은 아세트산의 염을 포함할 수 있거나, 또는 본질적으로 아세트산의 염으로 이루어질 수 있다. 또한, 킬레이트화 성분이 아세트산의 염으로 이루어질 수 있음이 고려된다. 한 실시양태에서, 킬레이트화 성분은 아세트산의 제1 염, 및 제1 염과 상이한 아세트산의 제2 염을 포함한다. 아세트산의 염은, 바스프 코포레이션으로부터 상표명 트릴론(Trilon)^® M으로 상업적으로 입수가능한, 메틸글리신디아세트산의 이- 및/또는 삼나트륨 염을 포함할 수 있다. 단지 설명의 목적을 위해, 메틸글리신디아세트산의 화학 구조를 하기에 나타내었다:

바람직하게는, 킬레이트화 성분은 100 내지 600, 보다 바람직하게는 190 내지 505, 가장 바람직하게는 270 내지 275 g/mol의 중량 평균 분자량을 갖는다.

또한, 킬레이트화 성분은 바람직하게는 조성물 100 중량부 당 1 내지 10, 보다 바람직하게는 1 내지 5, 가장 바람직하게는 2 내지 4 중량부의 양으로 존재한다.

조성물은 또한, 상기에서 처음에 도입된 바와 같이, 유화제 성분을 포함한다. 유화제 성분은 화학식:

(상기 식에서, n은 1 내지 9의 수임)을 갖는 에톡실화 헥산올을 포함한다. 한 실시양태에서, n은 1이다. 또 다른 실시양태에서, n은 4 내지 5이다. 유화제 성분은 본질적으로 에톡실화 헥산올로 이루어질 수 있거나, 또는 에톡실화 헥산올로 이루어질 수 있다. 다르게는, 에톡실화 헥산올은 제1 에톡실화 헥산올, 및 제1 에톡실화 헥산올과 상이한 제2 에톡실화 헥산올을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 유화제 성분은 조성물 100 중량부 당 1 내지 10, 보다 바람직하게는 2 내지 4, 가장 바람직하게는 2 내지 3 중량부의 양으로 존재한다. 에톡실화 헥산올은, 헥산올이 개시제로서 작용하는 것을 제외하고는, 알콕실화 2-프로필 헵탄올과 유사한 방식으로 제조될 수 있음이 고려된다. 에톡실화 헥산올의 적합한 비제한적 예는 바스프 코포레이션으로부터 상업적으로 입수가능한 것이다.

상기 언급된 성분을 포함하는 것에 추가로, 조성물은 또한 바람직하게는 2 미만의 pH를 갖는다. 한 실시양태에서, 조성물은 1 미만의 pH를 갖는다. 조성물은 0의 pH를 가질 수 있거나 또는 음의 pH를 가질 수 있음이 고려된다. 그러나, 조성물은 pH에 의해 제한되지 않고, 당업자에 의해 결정되는 바와 같이, 원하는 경우 2 초과의 pH를 가질 수 있다.

조성물의 pH는 조성물 중의 산 및 물의 존재에 의해 직접적으로 영향을 받는다. 이에 따라, 조성물은 산 성분을 포함할 수 있다. 산 성분은 질산, 염산, 황산, 과염소산, 브로민화수소산, 아이오딘화수소산, 메탄 술폰산, 글리콜산, 우레아, 인산 및 이들의 조합의 군으로부터 선택된 산을 포함할 수 있다. 그러나, 산은 당업계에 공지된 임의의 것일 수 있다. 바람직하게는, 산 성분은 조성물의 목적한 pH가 달성되도록 하는 양으로 조성물 중에 존재한다.

조성물은 또한, 상기에서 처음에 도입된 바와 같이, 물을 포함할 수 있다. 물은 바람직하게는 조성물 100 중량부 당 80 내지 90, 보다 바람직하게는 80 내지 86 중량부의 양으로 존재한다. 한 실시양태에서, 조성물은 농축되고, 조성물 100 중량부 당 80 중량부 미만의 물의 양을 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 조성물은 희석되고, 조성물 100 중량부 당 90 중량부 초과의 물의 양을 포함한다. 물의 양은 조성물의 목적한 용도에 따라 당업자에 의해 조정될 수 있다.

바람직하게는, 조성물은 아세톤, 벤젠, 톨루엔, 에테르, 아세테이트, 휘발성 유기 용매 및 이들의 조합을 포함하나 이에 제한되지는 않는 유기 용매와 같은 용매를 실질적으로 함유하지 않는다. 조성물은 바람직하게는 용매를 실질적으로 함유하지 않아 휘발성 유기 화합물의 증발을 감소시키고 환경 오염 가능성을 감소시킨다. 용어 "실질적으로 함유하지 않음"은 조성물 중에 존재하는 용매의 양이 조성물 100 중량부 당 1 중량부 미만임을 지칭한다. 한 실시양태에서, 조성물은 용매를 완전히 함유하지 않는다.

실시예

일련의 조성물 (조성물 1 내지 4)을 본 발명에 따라 형성하였다. 구체적으로, 일정량의 계면활성제 성분, 킬레이트화 성분 및 유화제 성분을 용기에 첨가하고 혼합하였다. 추가로, 일정량의 산 성분 및 물을 또한 용기에 첨가하고 혼합하여, 각각 가변적인 pH를 갖는 조성물 1 내지 4를 형성하였다. 혼합 후, 각각의 조성물 1 내지 4의 샘플을 오염된 세라믹 타일에 적용하여 0 내지 5의 등급 (여기서, 5는 가장 효과적인 석회 비누 제거 정도를 나타냄)으로 측정되는 ASTM D-4488에 따른 석회 비누 제거 정도를 측정하였다. 추가로, 비교 조성물 1도 동일한 방법으로 석회 비누 제거 정도에 대해 측정하였다. 비교 조성물 1은 본 발명에 따라 형성되지 않았고, 상업적으로 입수가능한 산성 세정 화합물이었다. 각각의 성분 및 물의 양을 하기 표 1에 나타내었고, 여기서 모든 양은 달리 나타내지 않는 한 중량% 단위이다.

표 1

표 1 (계속)

계면활성제 성분 1은 화학식 C₅H₁₁CH(C₃H₇)CH₂O(C₂H₄O)₃H를 갖는 에톡실화 2-프로필 헵탄올이었고, 이는 바스프 코포레이션으로부터 상업적으로 입수가능한 것이다.

계면활성제 성분 2는 화학식 C₅H₁₁CH(C₃H₇)CH₂O(C₂H₄O)₆H를 갖는 에톡실화 2-프로필 헵탄올이었고, 이는 바스프 코포레이션으로부터 상업적으로 입수가능한 것이다.

킬레이트화 성분은 메틸글리신디아세트산의 삼나트륨 염이었고, 이는 바스프 코포레이션으로부터 상업적으로 입수가능한 것이다.

유화제 성분은 화학식 C₆H₁₃O(CH₂CH₂O)₁H를 갖는 에톡실화 헥산올이었고, 이는 바스프 코포레이션으로부터 상업적으로 입수가능한 것이다.

산 1은 염산이다.

산 2는 메틸술폰산이다.

산 3은 글리콜산이다.

산 4는 우레아이다.

상기에서 처음에 도입된 바와 같이, 조성물 1 내지 4 및 비교 조성물 1을 ASTM D-4488에 따른 석회 비누 제거 정도에 대해 측정하였다. ASTM D-4488에 따라, 재구성된 오염물을 제제화하고, 타일을 오염시키는 데 사용한 후, 세정하였다. 재구성된 오염물은 모 오염물 4.5 중량%, 2:1 비의 염화칼슘 2수화물 및 염화마그네슘 6수화물 대략 20,000 ppm을 포함하는 경수 9.00 중량%, HCl 0.77 중량% 및 아세톤 85.73 중량%를 포함하였다.

구체적으로, 비커 내에서 아이보리(Ivory) 비누, 샴푸, 점토, 피지 및 경수를 조합하여 혼합물을 형성함으로써 모 오염물을 형성하였다. 혼합물을 3-블레이드 프로펠러 혼합기로 교반하고, 부드러운 현탁액이 달성될 때까지 대략 45℃ 내지 50℃로 가열하였다. 현탁액을 와트만(Whatman) #1 여과지가 구비된 부흐너(Buchner) 깔때기로 여과하였다. 이어서, 여과로부터 생성된 여과물 오염물을 모 오염물 제조에 사용된 것과 동일한 부피의 물을 사용하여 탈이온수 중에 재현탁시켰다. 또한 여과로부터 생성된 여과물 케이크를 대략 45℃로 가열된 오븐 내에서 밤새 건조시켰다. 이어서, 건조된 여과물 케이크를 분쇄하고, 주위 수분으로부터 떨어져 밀폐 용기 내에 유지시키고, 이어서 재구성된 오염물을 위한 제제화에 사용하였다. 건조된 여과물 케이크, 즉 모 오염물을 경수, 염산 및 아세톤과 혼합하여 재구성된 오염물을 형성하였다.

모 오염물으로부터 재구성된 오염물의 형성 후, ASTM D-4488에 따라, 재구성된 오염물을 세라믹 타일에 적용하고, 당업계에 공지된 바와 같이, 가드너 스크러버(Gardener Scrubber)를 이용하여 조성물 1 내지 4 및 비교 조성물 1을 적용하여 적어도 부분적으로 스크러빙하였다. 석회 비누 제거 정도를, 육안으로 측정되는 바와 같이, 0 내지 5의 등급 (여기서, 5는 세라믹 타일로부터 재구성된 오염물의 전체적 제거를 나타냄)으로 측정하였다.

석회 비누 제거 정도의 평가 결과는, 세라믹 타일로부터 재구성된 오염물을 제거함에 있어 조성물 1 내지 4가 비교 조성물 1보다 더 효율적임을 나타내었다. 임의의 특정 이론에 의해 제한하려는 의도 없이, 계면활성제 성분, 킬레이트화 성분 및 유화제 성분 각각의 상승작용적 상호작용이 조성물 1 내지 4의 효율에 기여하는 것으로 여겨진다. 이들 결과는 또한, 주거용 및 상업용 셋팅 둘 다에서와 같은 경질 표면을 포함하는 많은 응용에서의 조성물 1 내지 4의 유용성을 시사한다.

명백히, 본 발명의 많은 변형 및 변경이 상기 교시의 관점에서 가능하다. 본 발명은, 첨부된 특허청구범위의 범주 내에서 특정적으로 기재된 것 이외로도 실행될 수 있다.

Claims (35)

1. A. 하기 화학식을 갖는 알콕실화 2-프로필 헵탄올을 포함하는 계면활성제 성분:
   

   

   
   (상기 식에서, B는 3 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬렌옥시 기이고, r은 0 내지 6의 수이고, p는 1 내지 10의 수임);
   B. 2개 이상의 카르복실 모이어티를 포함하는 킬레이트화 성분; 및
   C. 하기 화학식을 갖는 에톡실화 헥산올을 포함하는 유화제 성분:
   

   

   
   (상기 식에서, n은 1 내지 9의 수임)
   을 포함하며, 2 미만의 pH를 갖는 세정 조성물.
2. 제1항에 있어서, r이 0이고, p가 3 내지 6의 수인 세정 조성물.
3. 제1항에 있어서, 상기 알콕실화 2-프로필 헵탄올이, r이 0이고 p가 3인 제1 알콕실화 2-프로필 헵탄올 및 r이 0이고 p가 6인 제2 알콕실화 2-프로필 헵탄올을 포함하는 것인 세정 조성물.
4. 제1항에 있어서, 상기 알콕실화 2-프로필 헵탄올이, r이 0이고 p가 3인 제1 알콕실화 2-프로필 헵탄올 및 r이 0이고 p가 6인 제2 알콕실화 2-프로필 헵탄올로 본질적으로 이루어진 것인 세정 조성물.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 계면활성제 성분이 조성물 100 중량부 당 0.3 내지 10 중량부의 양으로 존재하는 것인 세정 조성물.
6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, n이 1 또는 4 내지 5인 세정 조성물.
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8. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유화제 성분이 조성물 100 중량부 당 2 내지 4 중량부의 양으로 존재하는 것인 세정 조성물.
9. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 킬레이트화 성분이 아세트산의 염을 포함하고 메틸글리신디아세트산의 나트륨 염을 포함할 수 있는 것인 세정 조성물.
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12. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 킬레이트화 성분이 조성물 100 중량부 당 1 내지 5 중량부의 양으로 존재하는 것인 세정 조성물.
13. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 산 성분을 추가로 포함하는 세정 조성물.
14. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 1 미만의 pH를 갖는 세정 조성물.
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