KR101398320B1 - Laser processing method and laser processing apparatus - Google Patents
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Abstract
레이저 가공의 대상으로 하는 재료기판(4)을 가공스테이지에 얹어 놓고, 재료기판에 형성되어 있는 위치결정용 마크(11)를 촬상함으로써, 위치결정용 마크의 위치를 측정하는 마크위치 측정공정과, 마크위치 측정공정에서의 측정결과로부터 재료기판의 왜곡에 관한 왜곡정보를 취득하는 왜곡정보 취득공정과, 재료기판의 왜곡에 의한 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위해서, 재료기판의 가공영역으로 입사시키는 레이저광의 진행방향을 왜곡정보에 따라 조정하는 위치조정공정을 포함하고, 왜곡정보 취득공정에서는 가공영역(10)을 복수로 분할함으로써 설정된 개편영역(12-1 ~ 12-4)을 단위로 하여 왜곡정보를 취득하며, 위치조정공정에서는 개편영역마다 진행방향을 조정 가능하게 한다.A mark position measuring step of measuring the position of the positioning mark by placing a material substrate 4 to be subjected to laser processing on a processing stage and picking up a positioning mark 11 formed on the material substrate; A distortion information acquiring step of acquiring distortion information on the distortion of the material substrate from the measurement result in the mark position measuring step and a distortion information obtaining step of correcting the position deviation of the laser processing due to the distortion of the material substrate And a position adjusting step of adjusting the traveling direction of the laser light in accordance with the distortion information. In the distortion information obtaining step, distortion is corrected in units of the modified regions (12-1 to 12-4) set by dividing the processing region (10) In the position adjustment step, the progress direction can be adjusted for each reorganization area.
Description
본 발명은 레이저 가공방법 및 레이저 가공장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laser processing method and a laser processing apparatus.
수지로 이루어지는 층간절연층과 도체금속으로 이루어지는 도체회로층이 교호로 적층된, 이른바 다층 프린트 배선판은 층간절연층에 바이어 홀(via hole)로 불리는 개구 구멍이 형성된다. 바이어 홀의 벽면에는 상층 및 하층의 전기적인 접속을 위한 도전막이 형성된다. 바이어 홀은 레이저 가공에 의해 형성되는 것이 많다.In a so-called multilayer printed wiring board in which an interlayer insulating layer made of resin and a conductor circuit layer made of a conductor metal are alternately laminated, an opening hole called a via hole is formed in the interlayer insulating layer. A conductive film for electrical connection between the upper layer and the lower layer is formed on the wall surface of the via hole. Many via holes are formed by laser machining.
종래, 레이저 가공장치는 XY테이블에 재료기판을 배치하고, 재료기판의 네 모서리에 마련된 얼라이먼트 마크를 카메라로 읽어내어, 재료기판의 위치, 회전각 및 신축 등의 벗어남량을 측정한다. 레이저 가공장치는 그 측정결과를 기초로 재료기판의 벗어남량을 보정하는 가공데이터를 작성하고, 갈바노 스캐너, XY테이블을 구동함으로써, 바이어 홀의 가공위치의 정밀도를 높이고 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).Conventionally, in a laser machining apparatus, a material substrate is placed on an XY table, alignment marks provided on four corners of the material substrate are read by a camera, and a deviation amount such as a position, rotation angle, and elongation of the material substrate is measured. The laser machining apparatus prepares machining data for correcting the deviation amount of the material substrate based on the measurement result and drives the galvanometer scanner and the XY table to increase the precision of the machining position of the via hole 1).
재료기판은, 배선패턴, 로트(lot)의 차이, 적층시의 가압의 편차 등에 따른 변형 때문에, 신축에 의해 생긴 왜곡에 영역마다의 차이가 나타나는 경우가 있다. 종래의 가공방법에서는, 재료기판의 전체에 대해서, 네 모서리의 얼라이먼트 마크에 의해 왜곡을 관측하고 있기 때문에, 영역마다의 왜곡의 차이를 검출하는 것이 곤란하다. 영역마다 나타난 왜곡의 차이를 정확하게 검출할 수 없는 채로, 재료기판의 벗어남량을 보정하는 가공데이터가 작성됨으로써, 가공위치의 정밀도가 악화되게 된다. 최근, 프린트 배선판은 상품의 소형화에 수반하여, 고밀도화가 요청되는 경향에 있기 때문에, 가공위치의 정밀도의 향상이 요구되고 있다. 또, 재료기판이 대형일수록, 재료기판에는 신축이 복잡하게 발생하게 된다. 생산성을 향상시키기 위해서 재료기판을 대형화시키는 경우, 네 모서리의 얼라이먼트 마크를 이용하여, 재료기판의 전체에 대해서 왜곡에 의한 벗어남을 보정하는 것은 곤란하다.The material substrate may have a distortion due to elongation and shrinkage due to deformation due to wiring pattern, lot difference, pressure variation during lamination, and the like. In the conventional machining method, since the distortion is observed by the four alignment marks with respect to the entire material substrate, it is difficult to detect the difference of the distortion in each region. The machining data for correcting the amount of deviation of the material substrate is produced without accurately detecting the difference in the distortion exhibited for each region, so that the accuracy of the machining position is deteriorated. In recent years, the printed wiring board tends to be required to have a high density with the miniaturization of products, and therefore, it is required to improve the precision of the processing position. In addition, the larger the material substrate, the more complicated expansion and contraction occurs in the material substrate. When the material substrate is made large in order to improve the productivity, it is difficult to correct the deviation due to the distortion with respect to the entire material substrate by using the four alignment marks.
본 발명은 상기에 감안하여 이루어진 것으로서, 가공위치의 정밀도의 향상을 가능하게 하는 레이저 가공방법 및 레이저 가공장치를 얻는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above, and an object thereof is to obtain a laser processing method and a laser processing apparatus capable of improving the precision of a processing position.
상술한 과제를 해결하여, 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 레이저 가공의 대상으로 하는 재료기판을 가공스테이지에 얹어 놓고, 상기 재료기판에 형성되어 있는 위치결정용 마크를 촬상함으로써, 상기 위치결정용 마크의 위치를 측정하는 마크위치 측정공정과, 상기 마크위치 측정공정에서의 측정결과로부터 상기 재료기판의 왜곡에 관한 왜곡정보를 취득하는 왜곡정보 취득공정과, 상기 재료기판의 왜곡에 의한 상기 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위해서, 상기 재료기판의 가공영역으로 입사시키는 레이저광의 진행방향을 상기 왜곡정보에 따라 조정하는 위치조정공정을 포함하며, 상기 왜곡정보 취득공정에서는 상기 가공영역을 복수로 분할함으로써 설정된 개편(個片, 개개의 조각)영역을 단위로 하여 상기 왜곡정보를 취득하고, 상기 위치조정공정에서는 상기 개편영역마다 상기 진행방향을 조정 가능하게 하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above-described problems, in order to achieve the object, the present invention is characterized in that a material substrate to be subjected to laser processing is placed on a processing stage, and a positioning mark formed on the material substrate is picked up, A distortion information acquiring step of acquiring distortion information on the distortion of the material substrate from a measurement result in the mark position measuring step; And a position adjusting step of adjusting a traveling direction of the laser light incident on the machining area of the material substrate in accordance with the distortion information so as to correct the position deviation of the material substrate by dividing the machining area into a plurality of Acquires the distortion information on the basis of the set reorganization (piece, individual piece) area, The value adjustment process for each of the reorganization region characterized by adjustably to the travel direction.
본 발명에 관한 레이저 가공방법에서는, 개편영역을 단위로 하여 왜곡정보를 취득함으로써, 영역마다의 왜곡을 정확하게 검출하고, 가공영역 전체에 대해서 왜곡을 관측 가능하게 한다. 개편영역마다 레이저광의 진행방향을 조정함으로써, 높은 정밀도로 가공위치를 보정할 수 있다. 이것에 의해, 가공위치의 정밀도를 향상시킬 수 있다고 하는 효과를 발휘한다.In the laser processing method according to the present invention, the distortion information is acquired with the reconstruction area as a unit, so that the distortion of each area can be accurately detected and the distortion can be observed with respect to the whole processing area. The processing position can be corrected with high precision by adjusting the traveling direction of the laser light for each reorganization area. As a result, it is possible to improve the accuracy of the machining position.
도 1은 본 발명의 실시형태 1에 관한 레이저 가공장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위한 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 3은 워크의 가공영역에 설정된 개편영역과 얼라이먼트 마크를 나타낸 도면이다.
도 4는 실시형태 1의 비교예로서, 가공영역의 네 모서리에 형성된 얼라이먼트 마크만을 사용하는 왜곡정보의 취득에 대해서 설명하는 도면이다.
도 5는 실시형태 1에 의한 왜곡정보의 취득에 대해서 설명하는 도면이다.
도 6은 레이저 가공의 순서를 설명하는 플로우차트이다.
도 7은 본 발명의 실시형태 2에 관한 레이저 가공방법에 있어서, 워크의 가공영역에 설정된 개편영역과 스캔영역을 나타낸 도면이다.
도 8은 제2 실시형태의 비교예에서의 스캔영역의 설정예를 설명하는 도면이다.
도 9는 스캔영역을 설정할 때까지의 순서를 설명하는 플로우차트이다.
도 10은 테이블 좌표에 대해서 설명하는 도면이다.
도 11은 갈바노 좌표에 대해서 설명하는 도면이다.
도 12는 본 발명의 실시형태 3에 관한 레이저 가공방법에 의해, 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위한 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 13은 본 발명의 실시형태 4에 관한 레이저 가공방법을 실시하기 위한 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 14는 가공 제어장치에 입력되는 레이저 가공을 위한 데이터의 이미지를 나타내는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a laser machining apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. FIG.
Fig. 2 is a block diagram showing a configuration for correcting the position deviation of laser machining.
Fig. 3 is a view showing an alignment area and an alignment mark set in the machining area of the work. Fig.
Fig. 4 is a view for explaining acquisition of distortion information using only alignment marks formed at the four corners of the machining area as a comparative example of the first embodiment. Fig.
5 is a diagram for explaining acquisition of distortion information according to the first embodiment.
6 is a flowchart for explaining the sequence of laser machining.
Fig. 7 is a diagram showing a modified region and a scan region set in a machining region of a work in the laser machining method according to
8 is a view for explaining an example of setting of a scan area in the comparative example of the second embodiment.
Fig. 9 is a flowchart for explaining the procedure up to the setting of the scan area.
10 is a diagram for explaining table coordinates.
Fig. 11 is a view for explaining galvano coordinates. Fig.
12 is a block diagram showing a structure for correcting positional deviation of laser machining by the laser machining method according to
Fig. 13 is a block diagram showing a configuration for carrying out the laser machining method according to the fourth embodiment of the present invention. Fig.
14 is a diagram showing an image of data for laser machining input to the machining control apparatus.
이하에, 본 발명에 관한 레이저 가공방법 및 레이저 가공장치의 실시형태를 도면에 근거하여 상세하게 설명한다. 또한, 이 실시형태에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the laser processing method and the laser processing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by these embodiments.
실시형태 1.Embodiment 1
도 1은 본 발명의 실시형태 1에 관한 레이저 가공장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다. 레이저 가공장치(100)는 워크(4)에 레이저광(L)을 조사하고, 워크(4)의 레이저 구멍내기 가공을 실시한다. 워크(4)는 레이저 가공의 대상으로서, 예를 들면 다층 프린트 배선판을 구성하는 재료기판이다. 워크(4)는, 예를 들면, 수지로 이루어지는 절연층이 동박으로 이루어지는 두 개의 도체층에 끼워진 3층 구조를 이루고 있다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a laser machining apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. The
레이저 가공장치(100)는 레이저 발진기(1), 가공제어장치(2) 및 레이저 가공부(3)를 구비한다. 레이저 발진기(1)는 빔 모양의 레이저광(L)을 발진한다. 레이저 가공부(3)는 갈바노 미러(35X 및 35Y), 갈바노 스캐너(36X 및 36Y), fθ렌즈(집광렌즈)(34), XY테이블(30) 및 카메라(39)를 구비하고 있다.The
갈바노 스캐너(36Y)는 갈바노 미러(35Y)를 회동시킨다. 갈바노 미러(35Y)는 레이저 발진기(1)로부터의 레이저광(L)을 반사한다. 갈바노 미러(35Y)는 회동함으로써, Y방향에 대해서 레이저광(L)의 진행방향을 변화시킨다.The
갈바노 스캐너(36X)는 갈바노 미러(35X)를 회동시킨다. 갈바노 미러(35X)는 갈바노 미러(35Y)로부터의 레이저광(L)을 반사한다. 갈바노 미러(35X)는 회동함으로써, X방향에 대해서 레이저광(L)의 진행방향을 변화시킨다.The
갈바노 미러(35X 및 35Y)는 워크(4)상의 XY방향에 대해서 레이저광(L)의 입사위치를 이동시킨다. 갈바노 스캐너(36X 및 36Y)는 워크(4)의 가공영역상에서의 레이저광(L)의 입사위치를 변화시키는 스캔구동부로서 기능한다.The
fθ렌즈(34)는 텔레센트릭(telecentric)성을 구비하는 집광렌즈이다. fθ렌즈(34)는 레이저광(L)의 주광선의 방향을 가지런히 한다. fθ렌즈(34)는 레이저광(L)을 워크(4)의 가공위치(Hx)에 입사시킨다. 레이저 가공장치(100)는 레이저광(L)에 의해 가공위치(Hx)에 워크(4)를 관통하는 가공구멍을 형성한다.The f?
XY테이블(30)은 워크(4)가 얹어 놓이는 가공스테이지이다. XY테이블(30)은 X축모터 및 Y축모터(모두 도시생략)의 구동에 의해서 XY평면 내를 이동한다. XY테이블(30)은 워크(4)를 X방향 및 Y방향으로 이동시킨다.The XY table 30 is a machining stage on which the
워크(4)에는 복수의 얼라이먼트 마크(11)가 형성되어 있다. 얼라이먼트 마크(11)는 위치결정용 마크이다. 도 1에서는 복수의 얼라이먼트 마크(11) 중 일부를 나타내고 있다. 얼라이먼트 마크(11)의 형상은 임의인 것으로 한다.A plurality of alignment marks 11 are formed on the
카메라(39)는 XY테이블(30)에 얹어 놓인 워크(4)에 형성되어 있는 얼라이먼트 마크(11)를 촬상하는 촬상부이다. 카메라(39)는 얼라이먼트 마크(11)의 촬상에 의해 얼라이먼트 마크(11)의 위치를 측정한다. 카메라(39)는, 예를 들면 CCD(Charge Coupled Device) 카메라이다. 카메라(39)는, 예를 들면, 레이저광(L)을 워크(4)에 조사하는 가공헤드(도시생략)의 근방에 배치되어 있다.The
가공제어장치(2)는 CPU(Central Processing Unit), ROM(Read Only Memory), RAM(Random Access Memory) 등을 구비한다. 가공제어장치(2)는 레이저 가공장치(100) 전체를 제어한다. 가공제어장치(2)는 가공 프로그램에 따라 레이저 발진기(1), 갈바노 스캐너(36X 및 36Y), XY테이블(30)의 NC(Numerical Control)제어를 실시한다.The
레이저 가공장치(100)는 갈바노 스캐너(36X 및 36Y), XY테이블(30)의 구동에 의해 워크(4)의 가공영역상에서의 레이저광(L)의 입사위치를 변화시킨다. 레이저 가공장치(100)는 갈바노 미러(35X 및 35Y)에 의한 레이저광(L)의 진폭에 따른 스캔영역을 단위로 하는 레이저 가공을, XY테이블(30)을 이동시킬 때마다 실시한다.The
도 2는 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위한 구성을 나타내는 블럭도이다. 가공제어장치(2)는 왜곡 보정계수 산출처리부(21), 갈바노 미러 위치보정 처리부(22) 및 XY테이블 위치보정 처리부(23)를 가진다. 카메라(39)는 얼라이먼트 마크(11)의 위치를 측정하고, 측정결과로서, 얼라이먼트 마크(11)의 좌표를 포함하는 측정데이터를 출력한다.Fig. 2 is a block diagram showing a configuration for correcting the position deviation of laser machining. The
가공제어장치(2)는 카메라(39)로부터 가공제어장치(2)에 입력된 측정데이터를 기초로 XY테이블(30)상에서의 워크(4)에 대해서, 미리 설정된 기준조건에 대한 위치의 벗어남량, 회전각, 워크(4)의 신축에 의한 벗어남량을 산출한다. 가공제어장치(2)는 그 산출결과를 기초로 워크(4)의 각종 벗어남량을 보정하는 가공데이터를 작성하고, XY테이블(30), 갈바노 스캐너(36X 및 36Y)를 구동한다.The
왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 카메라(39)로부터 가공제어장치(2)에 입력된 측정데이터로부터 왜곡정보를 취득한다. 왜곡정보는 워크(4)의 신축에 의해서 생긴 왜곡에 관한 정보로서, 예를 들면, 왜곡의 방향 및 왜곡 양의 데이터를 포함한다. 왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 왜곡정보에 따른 왜곡 보정계수를 산출한다. 왜곡 보정계수는 워크(4)의 왜곡에 의한 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위한 계수로 한다.The distortion correction coefficient
왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 산출한 왜곡 보정계수를 테이블용 보정계수와 스캔용 보정계수로로 변환한다. 테이블용 보정계수는 워크(4)의 왜곡에 의한 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위해서, XY테이블(30)의 위치를 조정하기 위한 계수로 한다. 스캔용 보정계수는 워크(4)의 왜곡에 의한 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위해서, 갈바노 미러(35X 및 35Y)의 기울기를 조정하기 위한 계수로 한다.The distortion correction coefficient
갈바노 미러 위치보정 처리부(22)는 왜곡 보정계수로부터 얻어진 스캔용 보정계수에 따라서, 워크(4)의 가공영역으로 입사시키는 레이저광(L)의 진행방향을 조정하는 위치조정 처리부로서 기능한다. 갈바노 미러 위치보정 처리부(22)는 레이저광(L)이 소정의 가공위치(Hx)에 입사하도록 워크(4)의 위치벗어남량 및 회전각, 왜곡 보정계수 산출처리부(21)로부터 입력된 스캔용 보정계수에 따라서, 갈바노 스캐너(36X 및 36Y)의 구동을 조정한다.The galvanometer mirror position
XY테이블 위치보정 처리부(23)는 레이저광(L)이 소정의 가공위치(Hx)에 입사하도록 워크(4)의 위치벗어남량 및 회전각, 왜곡 보정계수 산출처리부(21)로부터 입력된 테이블용 보정계수에 따라서, XY테이블(30)의 위치를 조정한다.The XY table position
도 3은 워크의 가공영역에 설정된 개편영역과 얼라이먼트 마크를 나타낸 도면이다. 가공영역(10)은 워크(4)에서의 레이저 가공의 대상이 되는 영역으로 한다. 가공위치(Hx)(도 1 참조)는 가공영역(10) 내에 설정된다.Fig. 3 is a view showing an alignment area and an alignment mark set in the machining area of the work. Fig. The
가공영역(10)에는, 예를 들면 네 개의 개편영역(12-1, 12-2, 12-3 및 12-4)이 설정되어 있다. 개편영역(12-1 ~ 12-4)은 가공영역(10)을 세로로 두 개, 가로로 두 개의 네 개로 등분할함으로써 설정되어 있다. 개편영역(12-1 ~ 12-4)은 스캔영역보다 넓게 설정된 영역으로 한다. 워크(4)에는 9개의 얼라이먼트 마크(11)가 형성되어 있다. 얼라이먼트 마크(11)는 각 개편영역(12-1 ~ 12-4)의 네 모서리에 위치하도록 배치되어 있다.In the
왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 개편영역(12-1)의 네 모서리에 배치된 얼라이먼트 마크(11)의 좌표를 기초로 개편영역(12-1)에 대한 왜곡정보를 취득한다. 왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 개편영역(12-1)에 대한 왜곡정보로부터 개편영역(12-1)에 적용하는 왜곡 보정계수를 산출한다.The distortion correction coefficient
왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 개편영역(12-2, 12-3 및 12-4)에 대해서도 동일하게 하여, 개편영역(12-2, 12-3 및 12-4)에 적용하는 왜곡 보정계수를 각각 산출한다. 왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 개편영역(12-1 ~ 12-4)을 단위로 하여, 왜곡정보를 취득하고, 개편영역(12-1 ~ 12-4)마다의 왜곡 보정계수를 산출한다.The distortion correction coefficient
왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 개편영역(12-1 ~ 12-4)마다의 왜곡 보정계수로부터 개편영역(12-1 ~ 12-4)마다의 테이블용 보정계수 및 스캔용 보정계수를 산출한다.The distortion correction coefficient
갈바노 미러 위치보정 처리부(22)는, 개편영역(12-1) 내의 가공위치(Hx)에 대해서는 개편영역(12-1)에 대해서 산출된 스캔용 보정계수에 따라서, 갈바노 스캐너(36X 및 36Y)의 구동을 조정한다. 갈바노 미러 위치보정 처리부(22)는 개편영역(12-2, 12-3 및 12-4) 내의 각 가공위치(Hx)에 대해서도 마찬가지로, 개편영역(12-2, 12-3 및 12-4)에 대해서 각각 산출된 스캔용 보정계수에 따라서 갈바노 스캐너(36X 및 36Y)의 구동을 조정한다. 갈바노 미러 위치보정 처리부(22)는 개편영역(12-1 ~ 12-4)마다 레이저광(L)의 진행방향을 조정한다.The galvanometer mirror position
XY테이블 위치보정 처리부(23)는, 개편영역(12-1) 내의 가공위치(Hx)에 대해서는 개편영역(12-1)에 대해서 산출된 테이블용 보정계수에 따라서 XY테이블(30)의 위치를 조정한다. XY테이블 위치보정 처리부(23)는 개편영역(12-2, 12-3 및 12-4) 내의 각 가공위치(Hx)에 대해서도 마찬가지로, 개편영역(12-2, 12-3 및 12-4)에 대해서 각각 산출된 테이블용 보정계수에 따라서 XY테이블(30)의 위치를 조정한다.The XY table position
또한, 왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 왜곡 보정계수에 따라서 테이블용 보정계수 및 스캔용 보정계수의 쌍방을 생성하는 것에 한정되지 않는다. 왜곡 보정계수 산출처리(21)는 적어도 왜곡 보정계수로부터 스캔용 보정계수를 생성하는 것이면 된다. 가공제어장치(2)는 XY테이블(30)의 위치조정과 갈바노 미러(35X 및 35Y)의 기울기 조정 가운데, 적어도 갈바노 미러(35X 및 35Y)의 기울기 조정에 의해, 워크(4)의 왜곡에 의한 위치벗어남을 보정하면 되는 것으로 한다.The distortion correction coefficient
도 4는 실시형태 1의 비교예로서 가공영역의 네 모서리에 형성된 얼라이먼트 마크만을 사용하는 왜곡정보의 취득에 대해서 설명하는 도면이다. 예를 들면 도 4에 나타내는 바와 같이, 워크(4)가 좌우방향 중 왼쪽 방향으로 불거져 나가도록 왜곡되고, 또한 상하방향에서 수축하고 있는 것으로 한다. 이 경우, 가공영역(13)의 네 모서리의 얼라이먼트 마크(11)의 좌표만에서는 가공영역(13)의 전체에 대한 왜곡을 관측하는 데에는 정보량이 부족하여, 왜곡의 정확한 검출 및 가공위치(Hx)의 고정밀한 조정이 곤란하게 된다.Fig. 4 is a view for explaining acquisition of distortion information using only alignment marks formed at the four corners of the machining area as a comparative example of the first embodiment. Fig. For example, as shown in Fig. 4, it is assumed that the
도 5는 실시형태 1에 의한 왜곡정보의 취득에 대해서 설명하는 도면이다. 본 실시형태에 관한 레이저 가공방법에서는 개편영역(12-1 ~ 12-4)을 단위로 하여 왜곡정보를 취득함으로써, 개편영역(12-1 ~ 12-4)마다의 왜곡을 정확하게 검출하여, 가공영역(10) 전체에 대해서 왜곡을 관측 가능하게 한다. 개편영역(12-1 ~ 12-4)마다 레이저광(L)의 진행방향 및 XY테이블(30)의 위치를 조정함으로써, 가공영역(10) 전체에 대해서 높은 정밀도로 가공위치를 보정할 수 있다. 이것에 의해, 레이저 가공장치(100)는 가공위치의 정밀도를 향상시키는 것이 가능하게 된다.5 is a diagram for explaining acquisition of distortion information according to the first embodiment. In the laser machining method according to the present embodiment, the distortion information is obtained by using the modified regions 12-1 to 12-4 as a unit, so that the distortion for each of the modified regions 12-1 to 12-4 is accurately detected, So that distortion can be observed with respect to the
도 6은 레이저 가공의 순서를 설명하는 플로우차트이다. 워크(4)가 XY테이블(30)에 얹어 놓이면, 카메라(39)는 워크(4)의 얼라이먼트 마크(11)를 촬상함으로써, 각 얼라이먼트 마크(11)의 위치를 측정한다(마크위치 측정공정(스텝 S11)).6 is a flowchart for explaining the sequence of laser machining. When the
왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 스텝 S11에서의 측정결과로부터 왜곡정보를 취득한다(왜곡정보 취득공정). 왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 개편영역(12-1 ~ 12-4)을 단위로 하여 왜곡정보를 취득한다. 왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 취득한 왜곡정보로부터 각 개편영역(12-1 ~ 12-4)에 대한 왜곡 보정계수를 산출한다(스텝 S12). 왜곡 보정계수 산출처리부(21)는 산출한 왜곡 보정계수를 테이블용 보정계수와 스캔용 보정계수로 변환한다.The distortion correction coefficient
XY테이블 위치보정 처리부(23)는 최초로 레이저 가공을 실시하는 가공위치(Hx)에 레이저광(L)을 입사시키기 위한 초기 위치로 XY테이블(30)을 이동시킨다. 이 때, XY테이블 위치보정 처리부(23)는 당해 가공위치(Hx)를 포함하는 개편영역, 예를 들면 개편영역(12-1)에 대해서 구한 테이블용 보정계수에 의한 보정 후의 위치로 XY테이블(30)을 이동시킨다(스텝 S13).The XY table position
갈바노 미러 위치보정 처리부(22)는 가공위치(Hx)에 레이저광(L)을 입사시키기 위한 기울기가 될 때까지 갈바노 미러(35X 및 35Y)를 구동시킨다. 이 때, 갈바노 미러 위치보정 처리부(22)는 개편영역(12-1)에 대해서 구한 스캔용 보정계수에 의한 보정 후의 각도까지 갈바노 미러(35X 및 35Y)를 구동시킨다(스텝 S14).The galvanometer mirror position
스텝 S14에서, 갈바노 미러 위치보정 처리부(22)는 가공영역(10)에 입사시키는 레이저광(L)의 진행방향을 개편영역(12-1 ~ 12-4)마다의 왜곡정보에 따라 조정한다(위치조정공정). XY테이블 위치보정 처리부(23) 및 갈바노 미러 위치보정 처리부(22)는 스텝 S13 및 S14에 의해 워크(4)의 왜곡에 의한 가공위치(Hx)의 벗어남을 보정한다. 레이저 가공장치(100)는 스텝 S14에 의해 갈바노 미러(35X 및 35Y)를 구동하고 나서, 가공위치(Hx)에 레이저광(L)을 입사시키고, 워크(4)의 레이저 가공을 실시한다(스텝 S15).In step S14, the galvanometer mirror position
가공제어장치(2)는 스텝 S15에서의 레이저 가공에 의해, 현재의 스캔영역 내의 레이저 가공이 종료하였는지 여부를 판단한다(스텝 S16). 현재의 스캔영역 내의 레이저 가공이 종료하고 있지 않은 경우(스텝 S16, 아니오), 갈바노 미러 위치보정 처리부(22)는 스텝 S14에서 다음의 가공위치(Hx)에 레이저광(L)을 입사시키기 위한 각도까지 갈바노 미러(35X 및 35Y)를 구동시킨다.The
현재의 스캔영역 내의 레이저 가공이 종료했을 경우(스텝 S16, 예), 가공제어장치(2)는 가공영역(10) 전체의 레이저 가공이 종료하였는지 여부를 판단한다(스텝 S17). 가공영역(10) 전체의 레이저 가공이 종료하고 있지 않은 경우(스텝 S17, 아니오), XY테이블 위치보정 처리부(23)는 스텝 S13에서 다음에 레이저 가공을 실시하는 가공위치(Hx)에 레이저광(L)을 입사시키기 위한 위치로 XY테이블(30)을 이동시킨다.When the laser machining in the current scan area is completed (step S16, YES), the
가공영역(10) 전체의 레이저 가공이 종료했을 경우(스텝 S17, 예), 레이저 가공장치(100)는 XY테이블(30)에 얹어 놓여 있는 워크(4)에 대해서 레이저 가공을 종료한다.When the laser machining of the
실시형태 1에 관한 레이저 가공방법에 있어서, 가공영역(10) 내에서의 개편영역의 설정의 방법은 적절히 변경 가능한 것으로 한다. 개편영역은 가공영역(10)을 복수로 분할함으로써 설정된 것이면 되고, 수나 배치를 적절히 변경해도 된다. 얼라이먼트 마크(11)는 각 개편영역에 대응하도록 형성되어 있으면 되고, 위치나 개수를 적절히 변경해도 된다.In the laser machining method according to the first embodiment, it is assumed that the method of setting the reformation region in the
실시형태 2.
도 7은 본 발명의 실시형태 2에 관한 레이저 가공방법에 있어서, 워크의 가공영역에 설정된 개편영역과 스캔영역을 나타낸 도면이다. 실시형태 1과 동일한 부분에는 동일한 부호를 부여하고, 중복하는 설명을 적절히 생략한다.Fig. 7 is a diagram showing a modified region and a scan region set in a machining region of a work in the laser machining method according to
스캔영역(14)은 갈바노 미러(35X 및 35Y)에 의한 레이저광(L)의 진폭에 따라 설정된 영역으로 한다. 가공영역(10)에는, 예를 들면 35개의 스캔영역(14)이 설정되어 있다. 도시하는 예에서는, 각 스캔영역(14)은 모두 겹침을 갖게 하지 않도록 설정되어 있다.The
이 예에서는, 35개의 스캔영역(14) 가운데, 11개의 스캔영역(14)은 2 이상의 개편영역(12-1 ~ 12-4)에 걸치도록 설정되어 있다. 35개의 스캔영역(14) 중 중앙에 위치하는 스캔영역(14)은 네 개의 개편영역(12-1 ~ 12-4)에 걸친다. 이 중앙의 스캔영역(14)과 좌우로 병렬하는 여섯 개의 스캔영역(14)과, 상하로 병렬하는 네 개의 스캔영역(14)은 모두 개편영역(12-1 ~ 12-4) 중 두 개에 걸친다.In this example, among the 35
도 8은 제2 실시형태의 비교예에서의 스캔영역의 설정예를 설명하는 도면이다. 이 비교예에서는 종래의 레이저 가공방법의 응용으로서, 개편영역(12-1 ~ 12-4)마다 독립하여, 워크(4)의 벗어남량의 보정을 실시하는 것으로 한다.8 is a view for explaining an example of setting of a scan area in the comparative example of the second embodiment. In this comparative example, as an application of the conventional laser machining method, it is assumed that the deviation amount of the
예를 들면, 비교예에서의 스캔영역(15)이 도 7에 나타내는 실시형태 2에서의 스캔영역(14)과 같은 크기인 것으로 한다. 비교예에서는, 개편영역(12-1 ~ 12-4)마다 왜곡 보정계수를 완전하게 전환할 필요가 있기 때문에, 스캔영역(15)은 복수의 개편영역(12-1 ~ 12-4)을 걸치지 않고, 각 개편영역(12-1 ~ 12-4) 내에 들어가도록 설정된다.For example, it is assumed that the
이와 같은 스캔영역(15)의 설정 수법을 채용함으로써, 각 개편영역(12-1 ~ 12-4)에는 도면 중 사선을 붙여 나타내는 바와 같이, 스캔영역(15)이 서로 겹치는 부분이 발생하게 된다. 서로 겹치는 스캔영역(15)도 각각 카운트했을 경우에, 각 개편영역(12-1 ~ 12-4)에는 각각 12개의 스캔영역(15)이 설정된다. 가공영역(10) 전체에서는, 48개의 스캔영역(15)이 설정된다. 서로 겹치는 스캔영역(15)이 존재하므로, 도 7에 나타내는 실시형태 2의 경우에 비해, 스캔영역(15)의 수가 많아진다.By adopting such a setting method of the
레이저 가공장치(100)는 스캔영역(15)의 수가 많아질수록 XY테이블(30)을 많이 이동시키게 된다. XY테이블(30)을 이동시키는 동안은, 레이저광(L)의 조사를 정지시키기 때문에, 레이저 가공의 진행은 정지시킨 상태가 된다. 스캔영역(15)의 수가 많을수록, 워크(4) 하나당의 가공시간이 증대하게 된다. 또, XY테이블(30)의 이동이 많을수록, XY테이블(30)의 위치결정에 필요로 하는 계측작업의 회수가 증대하게 된다. 이 때문에, 스캔영역(15)의 수가 많을수록, 가공의 효율 및 제품의 생산성이 저하하게 된다.The
도 8에 나타내는 실시형태 2에 의한 스캔영역의 설정 수법을 적용하면, 얼라이먼트 마크(11)의 배치에 관계없이 복수의 개편영역(12-1 ~ 12-4)에 스캔영역(14)를 적절히 걸치게 함으로써, 가공영역(10) 전체에서의 스캔영역(14)의 수를 최소로 하는 것이 가능하게 된다. 도 8에 나타내는 예에서는, 가공영역(10) 전체에서의 스캔영역(14)의 수는 최소의 35개가 된다.Applying the scan area setting method according to the second embodiment shown in Fig. 8 appropriately places the
실시형태 2에 의하면, 레이저 가공장치(100)는 워크(4)에 설정되는 스캔영역(14)의 수를 최소로 함으로써, 워크(4) 하나당의 가공시간을 단축화할 수 있다. 또, 레이저 가공장치(100)는 XY테이블(30)의 위치결정에 필요로 하는 계측작업의 회수를 줄일 수 있다. 이것에 의해, 레이저 가공장치(100)는 가공의 효율 및 제품의 생산성을 향상시킬 수 있다.According to the second embodiment, the
실시형태 2에 있어서, 개편영역의 설정 및 스캔영역(14)의 설정은 적절히 변경 가능한 것으로 한다. 개편영역 및 스캔영역(14)은 얼라이먼트 마크(11)의 배치에 관련되지 않고, 스캔영역(14) 중 적어도 하나가 복수의 개편영역에 걸치도록 설정 가능하면 되는 것으로 한다.In the second embodiment, it is assumed that the setting of the reorganization area and the setting of the
도 9는 스캔영역을 설정할 때까지의 순서를 설명하는 플로우차트이다. 가공제어장치(2)는 설계데이터로부터 가공구멍을 형성하는 위치의 좌표를, 예를 들면 가공구멍의 지름마다 읽어낸다.Fig. 9 is a flowchart for explaining the procedure up to the setting of the scan area. The
가공제어장치(2)는, 개편영역(12-1 ~ 12-4) 가운데, 가공구멍의 좌표가 포함되는 개편영역을 판단한다. 가공제어장치(2)는 해당하는 개편영역 번호와 가공구멍의 좌표와의 관련지음을 행한다(스텝 S21). 개편영역 번호는 개편영역(12-1 ~ 12-4)의 식별을 위해서, 개편영역(12-1 ~ 12-4)마다 미리 설정된 번호로 한다.The
가공제어장치(2)는 가공영역(10)의 전체에 대한 스캔영역(15)의 수가 최소가 되도록 가공영역(10)을 분할한다(스텝 S22). 가공제어장치(2)는 미리 결정되어 있는 스캔영역(15)의 사이즈 및 가공영역(10)의 사이즈를 기초로 스캔영역(15)끼리가 서로 겹치는 부분이 가능한 한 적고, 또한 가공영역(10)의 전체에 틈새가 생기지 않도록 하는 스캔영역(15)의 배치의 방법을 구한다. 스캔영역(15)끼리가 서로 겹치는 부분이 가장 적게 될 때, 가공영역(10) 내의 스캔영역(15)의 수가 최소가 된다.The
가공제어장치(2)는, 예를 들면, 도 7에 나타내는 스캔영역(14) 및 가공영역(10)에 대해서, 쌍방의 종횡 사이즈로부터 세로로 5개, 가로로 7개의 스캔영역(14)를 모두 겹치게 하지 않고 늘어놓았을 경우에, 스캔영역(14)의 수가 최소인 35개가 되는 것을 판별한다.The
가공제어장치(2)는 설계데이터로부터 읽어낸 가공구멍의 좌표를 레이저 가공용에 테이블 좌표와 갈바노 좌표로 변환한다. 테이블 좌표는 가공구멍의 형성을 위해서 XY테이블(30)을 이동시키는 위치를 나타낸다. 테이블 좌표는 스캔영역(14)의 위치를 나타낸다. 테이블 좌표는 XY테이블(30)에 고유의 좌표로서 예를 들면 도 10에 나타내는 바와 같이 XY좌표로서 나타내는 것으로 한다.The
갈바노 좌표는 갈바노 미러(35X 및 35Y)에 의해 스캔영역(14) 내에서 레이저광(L)을 입사시키는 위치를 나타낸다. 갈바노 좌표는 갈바노 미러(35X 및 35Y)에 고유의 좌표로서, 예를 들면 도 11에 나타내는 바와 같이 XY좌표로서 나타내는 것으로 한다. 가공구멍의 좌표는 테이블 좌표와 갈바노 좌표를 가산하는 것으로 나타낸다.The Galvano coordinates indicate the positions at which the laser light L is incident in the
가공제어장치(2)는, 예를 들면, 도 10 및 도 11에 나타내는 바와 같이, 테이블 좌표 및 갈바노 좌표에 개편영역 번호 「N1」, 「N2」, 「N3」···을 붙인다. 개편영역 번호 「N1」, 「N2」, 「N3」···은, 예를 들면, 개편영역(12-1, 12-2, 12-3 ···)에 대응하고 있다.The
다음으로, 복수의 개편영역에 걸치는 스캔영역(14)에 대한 테이블용 보정계수 및 스캔용 보정계수의 산출에 대해서 설명한다. 보정 후의 가공위치(Hx)의 좌표(X', Y')는 이하의 보정식에 의해 나타내는 것으로 한다. (X, Y)는 설계데이터로부터 읽어낸 보정 전의 가공구멍의 좌표, f는 테이블용 보정계수를 이용한 보정함수, q는 스캔용 보정계수를 이용한 보정함수로 한다.Next, the calculation of the table correction coefficient and the scanning correction coefficient for the
X' = f(X, Y)X '= f (X, Y)
Y' = q(X, Y)Y '= q (X, Y)
여기서, 개편영역(12-1) 가운데, 다른 개편영역(12-2, 12-3 및 12-4)과 걸치지 않는 스캔영역(14) 내의 가공구멍에 대한 보정을 예로 한다. 이 경우, 가공구멍의 위치의 보정에는 개편영역(12-1)에 대한 테이블 보정계수 및 스캔용 보정계수를 적용한다.Here, examples of correction for the machining holes in the
(X', Y')는 XY테이블(30)의 이동에 의한 보정과 갈바노 미러(35X 및 35Y)의 구동에 의한 보정으로 나누어, 이하의 식에 의해 나타낸다.(X ', Y') are divided by the correction by the movement of the XY table 30 and the correction by the driving of the galvanometer mirrors 35X and 35Y.
X' = Ft(Xt, Yt) + fg(Xg, Yg)X '= Ft (Xt, Yt) + fg (Xg, Yg)
Y' = Qt(Xt, Yt) + qg(Xg, Yg)Y '= Qt (Xt, Yt) + qg (Xg, Yg)
여기서, (Xt, Yt)는 보정 전의 테이블 좌표, (Xg, Yg)는 보정 전의 갈바노 좌표로서, X = Xt + Xg, Y = Yt + Yg로 한다. ft 및 Qt는 개편영역(12-1)에 대한 테이블용 보정계수에 따라 XY테이블(30)을 이동시키는 보정을 나타내는 보정함수로 한다. Ft(Xt, Yt)는 Ft에 의한 보정 후의 테이블 좌표를 나타낸다. Qt(Xt, Yt)는 Qt에 의한 보정 후의 테이블 좌표를 나타낸다.Here, (Xt, Yt) is the table coordinate before correction, and (Xg, Yg) is the Galvano coordinate before correction, and X = Xt + Xg and Y = Yt + Yg. ft and Qt are correction functions indicating the correction for moving the XY table 30 in accordance with the table correction coefficient for the reformed area 12-1. Ft (Xt, Yt) represents the table coordinates after correction by Ft. Qt (Xt, Yt) represents the table coordinates after correction by Qt.
fg 및 qg는 개편영역(12-1)에 대한 스캔용 보정계수에 따라 갈바노 미러(35X 및 35Y)를 구동시키는 보정을 나타내는 보정함수로 한다. fg(Xg, Yg)는 fg에 의한 보정 후의 갈바노 좌표를 나타낸다. qg(Xg, Yg)는 qg에 의한 보정 후의 갈바노 좌표를 나타낸다.fg and qg are correction functions indicating the correction for driving the galvanometer mirrors 35X and 35Y in accordance with the scanning correction coefficient for the regrown region 12-1. fg (Xg, Yg) represents the Galvano coordinates after correction by fg. qg (Xg, Yg) represents the Galvano coordinates after correction by qg.
다음으로, 개편영역(12-1 및 12-2)에 걸치는 스캔영역(14) 내의 가공구멍에 대한 보정에 대해서 설명한다. 가공제어장치(2)는 설계데이터로부터 읽어낸 가공구멍의 좌표로부터 가공구멍이 개편영역(12-1 및 12-2)의 중 어느 하나에 포함되는지를 식별한다. 가공구멍이 개편영역(12-1)에 포함되는 것인 경우, 가공구멍의 위치의 보정에는 개편영역(12-1)에 대한 테이블 보정계수 및 스캔용 보정계수를 적용한다.Next, correction for the machining hole in the
가공구멍이 개편영역(12-2)에 포함되는 것인 경우, 가공구멍의 위치의 보정에는, 예를 들면, 개편영역(12-1)에 대한 테이블 보정계수와 개편영역(12-2)에 대한 스캔 보정계수를 적용한다. 갈바노 미러 위치보정 처리부(22)(도 2 참조)는 개편영역(12-2)에 대한 테이블 보정계수로부터 개편영역(12-1)에 대한 테이블 보정계수를 차감한 차분을 개편영역(12-2)에 대한 스캔 보정계수에 가산하는 조정을 행한다.In the case where the processing hole is included in the reforming region 12-2, for example, the table correction coefficient for the reforming region 12-1 and the table correction coefficient for the reforming region 12-2 A scan correction coefficient is applied. The galvanomirror position correction processing section 22 (see FIG. 2) changes the difference obtained by subtracting the table correction coefficient for the reformed region 12-1 from the table correction coefficient for the reformed region 12-2 from the modified region 12- 2) to the scan correction coefficient.
(X', Y')는 XY테이블(30)의 이동에 의한 보정과 갈바노 미러(35X 및 35Y)의 구동에 의한 보정으로 나누어, 이하의 식에 의해 나타낸다.(X ', Y') are divided by the correction by the movement of the XY table 30 and the correction by the driving of the galvanometer mirrors 35X and 35Y.
X' = Ft(Xt, Yt) + ug(Xg, Yg) + ut(Xt, Yt) - ft(Xg, Yg)(Xt, Yt) + ug (Xg, Yg) + ut (Xt, Yt)
Y' = Qt(Xt, Yt) + vg(Xg, Yg) + vt(Xt, Yt) - qt(Xg, Yg)Yt = Qt (Xt, Yt) + vg (Xg, Yg) + vt (Xt, Yt)
여기서, (Xt, Yt)는 보정 전의 테이블 좌표, (Xg, Yg)는 보정 전의 갈바노 좌표로서, X = Xt + Xg, Y = Yt + Yg로 한다. Ft 및 Qt는 개편영역(12-1)에 대한 테이블용 보정계수에 따라 XY테이블(30)을 이동시키는 보정을 나타내는 보정함수로 한다. Ft(Xt, Yt)는 Ft에 의한 보정 후의 테이블 좌표를 나타낸다. Qt(Xt, Yt)는 Qt에 의한 보정 후의 테이블 좌표를 나타낸다.Here, (Xt, Yt) is the table coordinate before correction, and (Xg, Yg) is the Galvano coordinate before correction, and X = Xt + Xg and Y = Yt + Yg. Ft and Qt are correction functions indicating the correction for moving the XY table 30 in accordance with the table correction coefficient for the reformed area 12-1. Ft (Xt, Yt) represents the table coordinates after correction by Ft. Qt (Xt, Yt) represents the table coordinates after correction by Qt.
ug 및 vg는 개편영역(12-2)에 대한 스캔용 보정계수에 따라 갈바노 미러(35X 및 35Y)를 구동시키는 보정을 나타내는 보정함수로 한다. ug(Xg, Yg)는 ug에 의한 보정 후의 갈바노 좌표를 나타낸다. vg(Xg, Yg)는 vg에 의한 보정 후의 갈바노 좌표를 나타낸다.and ug and vg are correction functions indicating the correction for driving the galvanometer mirrors 35X and 35Y in accordance with the scanning correction coefficient for the reorganization region 12-2. ug (Xg, Yg) represents the Galvano coordinates after correction by ug. vg (Xg, Yg) represents the Galvano coordinates after correction by vg.
ut 및 vt는 개편영역(12-2)에 대한 테이블용 보정계수에 따라 갈바노 미러(35X 및 35Y)를 구동시키는 보정을 나타내는 보정함수로 한다. ft 및 qt는 개편영역(12-1)에 대한 테이블용 보정계수에 따라 갈바노 미러(35X 및 35Y)를 구동시키는 보정을 나타내는 보정함수로 한다.ut and vt are correction functions indicating the correction for driving the
ut(Xt, Yt) 및 vt(Xt, Yt)의 각 항은 개편영역(12-2)에 대한 테이블 보정계수에 따른 보정분을 갈바노 미러(35X 및 35Y)에 의한 구동에 가산하는 것을 의미한다. -ft(Xg, Yg) 및 -qt(Xg, Yg)의 각 항은 갈바노 미러(35X 및 35Y)에 의한 구동으로부터 개편영역(12-1)에 대한 테이블 보정계수에 따른 보정분을 차감하는 것을 의미한다.each term of ut (Xt, Yt) and vt (Xt, Yt) means that the correction amount corresponding to the table correction coefficient for the regrown region 12-2 is added to the driving by the
가공제어장치(2)는 이와 같이 하여 개편영역(12-1 및 12-2)에 걸치는 스캔영역(14)에 대해서 가공구멍의 위치를 보정한다. 가공제어장치(2)는 복수의 개편영역(12-1 ~ 12-4)에 걸치는 모든 스캔영역(14)에 대해서, 예를 들면, XY테이블(30)의 이동에는 개편영역 번호가 작은 개편영역에 대한 테이블용 보정계수를 적용하고, 테이블 보정계수에 따른 보정분을 갈바노 미러(35X 및 35Y)의 구동에 있어서 조정한다.The
또한, 레이저 가공장치(100)는 복수의 개편영역에 걸치는 스캔영역(14)에 포함되는 가공구멍의 위치의 보정에 대해서 적절히 변경해도 된다. 예를 들면, XY테이블 위치보정 처리부(23)(도 2 참조)는 스캔영역(14)이 걸치는 각 개편영역에 대한 테이블용 보정계수의 평균치를 XY테이블(30)의 이동에 의한 보정에 적용해도 된다. 복수의 개편영역에 걸쳐 설정된 스캔영역(14)에 대해서는 스캔영역(14)이 걸치는 복수의 개편영역에 대해서 취득된 왜곡정보 중 적어도 어느 하나에 근거하여, XY테이블(30)의 위치를 조정하면 되는 것으로 한다.Further, the
레이저 가공장치(100)는 이와 같은 순서를 레이저 가공에 포함함으로써, 워크(4)에 설정되는 스캔영역(14)의 수를 최소로 하는 레이저 가공을 실시 가능하게 하여, 가공의 효율 및 제품의 생산성을 향상시킬 수 있다.The
실시형태 3.Embodiment 3:
도 12는 본 발명의 실시형태 3에 관한 레이저 가공방법에 의해, 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위한 구성을 나타내는 블럭도이다. 실시형태 1과 동일한 부분에는 동일한 부호를 부여하고, 중복하는 설명을 적절히 생략한다.12 is a block diagram showing a structure for correcting positional deviation of laser machining by the laser machining method according to
가공제어장치(40)는 왜곡 보정계수 산출처리부(41), 갈바노 미러 위치보정 처리부(22), XY테이블 위치보정 처리부(23) 및 로트 판정 처리부(42)를 가진다. 로트 판정 처리부(42)는 XY테이블(30)에 얹어 놓여 있는 워크(4)의 로트를 식별한다. 로트 판정 처리부(42)는 연속하여 XY테이블(30)에 얹어 놓이는 동일 로트의 워크(4)의 매수를 카운트한다.The
왜곡 보정계수 산출처리부(41)는 연속하여 XY테이블(30)에 얹어 놓이는 동일 로트의 워크(4) 가운데, 2매째 이후의 워크(4)에 대해서 1매째의 워크(4)의 경우에 대해 왜곡정보의 산출을 위한 처리를 간략화시킨다.The distortion correction coefficient
실시형태 3에서 레이저 가공장치(100)는 동일 로트의 1매째의 워크(4)에 대해서 실시형태 1 및 2와 마찬가지로 왜곡정보를 취득하여, 레이저 가공의 위치벗어남의 보정을 실시한다. 이 1매째의 워크(4)는 제1 재료기판이다.In the third embodiment, the
레이저 가공장치(100)는, 동일 로트의 2매째의 워크(4)에 대해서는 1매째의 워크(4)에 대해서 취득된 왜곡정보를 이용하여, 2매째의 워크(4)의 왜곡정보의 일부를 예측한다(왜곡정보예측공정). 이 2매째의 워크(4)는 제1 재료기판에 이어서 레이저 가공을 실시하는 제2 재료기판이다.The
2매째의 워크(4)가 XY테이블(30)에 얹어 놓이면, 카메라(39)는, 예를 들면, 각 얼라이먼트 마크(11) 가운데, 가공영역(10)의 네 모서리에 위치하는 얼라이먼트 마크(11)에 대해서만 위치를 측정한다. 가공제어장치(40)는 이러한 얼라이먼트 마크(11)에 대한 측정데이터를 기초로 워크(4)의 위치벗어남량 및 회전각을 산출한다.When the
왜곡 보정계수 산출처리부(41)는 동일 로트의 워크(4)에는 모두 같은 경향을 가지는 왜곡이 생기고 있는 것으로 간주한다. 왜곡 보정계수 산출처리부(41)는 가공영역(10)의 네 모서리에 위치하는 얼라이먼트 마크(11)에 대한 측정데이터와, 1매째의 워크(4)에 대한 왜곡정보로부터 가공영역(10)의 네 모서리 이외의 위치의 얼라이먼트 마크(11)의 위치를 예측한다.The distortion correction coefficient
왜곡 보정계수 산출처리부(41)는, 예를 들면, 이하의 식을 이용하는 최소이승법에 의해, 각 얼라이먼트 마크(11)의 좌표(X', Y')를 산출한다.The distortion correction coefficient
여기서, (X, Y)는 측정된 얼라이먼트 마크(11)의 좌표, P11, P12, P13, P21, P22 및 P23는 소정의 계수로 한다. 이러한 계수는, 예를 들면, 1매째의 워크(4)에 대한 왜곡정보에 따라서, 얼라이먼트 마크(11)마다 산출된 것으로 한다. 왜곡 보정계수 산출처리부(41)는 각 얼라이먼트 마크(11)의 좌표(X', Y')로부터 왜곡정보를 예측한다. 왜곡 보정계수 산출처리부(41)는 동일 로트의 3매째 이후의 워크(4)에 대해서도, 2매째의 워크(4)에 대한 경우와 마찬가지로, 왜곡정보를 예측한다.Here, (X, Y) is the coordinates of the measured
실시형태 3에 의하면, 레이저 가공장치(100)는 동일 로트의 2매째 이후의 워크(4)에 대해서 왜곡정보를 예측함으로써, 레이저 가공의 위치벗어남의 보정을 위한 처리를 간략화시킬 수 있다. 이것에 의해, 레이저 가공장치(100)는 가공의 효율 및 제품의 생산성을 향상시킬 수 있다.According to the third embodiment, the
실시형태 4.
도 13은 본 발명의 실시형태 4에 관한 레이저 가공방법을 실시하기 위한 구성을 나타내는 블럭도이다. 실시형태 1과 동일한 부분에는 동일한 부호를 부여하고, 중복하는 설명을 적절히 생략한다.Fig. 13 is a block diagram showing a configuration for carrying out the laser machining method according to the fourth embodiment of the present invention. Fig. The same reference numerals are given to the same parts as those in the first embodiment, and redundant explanations are appropriately omitted.
검사장치(200)는 레이저 가공장치(100)에서의 레이저 가공의 대상으로 하는 워크(4)에 대해서 사전에 얼라이먼트 마크(11)의 측정데이터를 취득한다. 실시형태 4에 관한 레이저 가공방법에서는, 마크위치 측정공정에 있어서, 레이저 가공장치(100)에 대신하여, 레이저 가공장치(100)와는 다른 검사장치(200)를 사용하여, 얼라이먼트 마크(11)의 위치를 측정한다. 검사장치(200)는, 예를 들면, 얼라이먼트 마크(11)를 촬상함으로써, 얼라이먼트 마크(11)의 위치를 측정한다.The
검사장치(200)는 얼라이먼트 마크(11)의 측정데이터를 가공제어장치(2)에 출력한다. 가공제어장치(2)는 왜곡정보 취득공정에 있어서 검사장치(200)로부터의 측정데이터를 사용하여, 왜곡정보를 취득한다.The
도 14는 가공 제어장치에 입력되는 레이저 가공을 위한 데이터의 이미지를 나타내는 도면이다.「Sample1.txt」, 「Sample2.txt」, 「Sample3.txt」 및 「Sample4.txt」는, 각각, 동일 로트의 1매째, 2매째, 3매째 및 4매째의 워크(4)에 대해서 입력된 데이터를 나타내는 것으로 한다.14 is a diagram showing an image of data for laser machining input to the machining control apparatus. The "Sample1.txt", "Sample2.txt", "Sample3.txt" and "Sample4.txt" The first, second, third and
얼라이먼트 측정데이터(51)는 검사장치(200)로부터 가공제어장치(2)에 입력된 측정데이터이다. 얼라이먼트 측정데이터(51)는 XY좌표로서 나타낸다. 가공구멍 데이터(52)는 설계데이터로부터 가공제어장치(2)가 읽어낸 가공구멍의 좌표를 포함하는 데이터이다. 가공구멍 데이터(52)는, 예를 들면, 공구코드 「T01」, 「T02」마다의 XY좌표로서 나타낸다.The
가공제어장치(2)는 검사장치(200)로부터 XY테이블(30)에 워크(4)를 반입할 때의 위치 정밀도를 반영시켜, XY테이블(30)에서의 워크(4)의 위치의 벗어남량 및 회전각을 산출한다. 실시형태 4에 의하면, 레이저 가공장치(100)는 전용의 검사장치(200)를 이용하여 얼라이먼트 측정데이터(51)를 사전에 취득 가능하게 함으로써, XY테이블(30)상에서의 작업 공정을 저감시킨다. 레이저 가공장치(100)는 많은 얼라이먼트 마크(11)에 대해서 위치의 측정을 필요로 하는 경우라도, 생산성의 저하를 억제시킬 수 있다.The
1 레이저 발진기 2, 40 가공제어장치
3 레이저 가공부 4 워크
10, 13 가공영역 11 얼라이먼트 마크
12-1, 12-2, 12-3, 12-4 개편영역 14, 15 스캔영역
21, 41 왜곡 보정계수 산출처리부 22 갈바노 미러 위치보정 처리부
23 XY테이블 위치보정 처리부 30 XY테이블
34 fθ렌즈 35X, 35Y 갈바노 미러
36X, 36Y 갈바노 스캐너 39 카메라
42 로트 판정 처리부 51 얼라이먼트 측정데이터
52 가공구멍 데이터 100 레이저 가공장치
200 검사장치1
3
10, 13
12-1, 12-2, 12-3, 12-4
21, 41 Distortion correction
23 XY table position
34 f?
36X,
42 Lot
52
200 Inspection Device
Claims (7)
상기 마크위치 측정공정에서의 측정결과로부터 상기 재료기판의 왜곡에 관한 왜곡정보를 취득하는 왜곡정보 취득공정과,
상기 재료기판의 왜곡에 의한 상기 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위해서, 상기 재료기판의 가공영역으로 입사시키는 레이저광의 진행방향을 상기 왜곡정보에 따라 조정하는 위치조정공정을 포함하고,
상기 왜곡정보 취득공정에서는 상기 가공영역을 복수로 분할함으로써 설정된 개편(個片)영역을 단위로 하여 상기 왜곡정보를 취득하며,
상기 위치조정공정에서는 상기 개편영역마다 상기 진행방향을 조정 가능하게 하고,
상기 가공영역상에서의 상기 레이저광의 입사위치를 변화시켜, 상기 레이저광의 진폭에 따른 스캔영역을 단위로 하는 상기 레이저 가공을 상기 가공스테이지를 이동시킬 때마다 실시하고,
상기 개편영역은 상기 스캔영역보다 넓게 설정되며,
상기 스캔영역 가운데 적어도 하나를 복수의 상기 개편영역에 걸쳐 설정 가능하게 하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공방법.A mark position measuring step of measuring the position of the positioning mark by placing a material substrate to be subjected to laser processing on a processing stage and picking up a positioning mark formed on the material substrate;
A distortion information acquiring step of acquiring distortion information relating to distortion of the material substrate from a measurement result in the mark position measuring step,
And a position adjusting step of adjusting a traveling direction of the laser light incident on the processing region of the material substrate in accordance with the distortion information so as to correct the position deviation of the laser processing due to the distortion of the material substrate,
In the distortion information acquisition step, the distortion information is acquired in units of a set region set by dividing the processing region into a plurality of regions,
In the position adjustment step, the advancing direction can be adjusted for each of the reorganization areas,
Changing the incident position of the laser light on the machining area and performing the laser machining in units of a scan area corresponding to the amplitude of the laser light as the machining stage is moved,
The reorganization area is set wider than the scan area,
So that at least one of the scan areas can be set over a plurality of the reorganization areas.
상기 위치조정공정에서는, 또한, 상기 가공스테이지의 위치를 상기 왜곡정보에 따라 상기 개편영역마다 조정 가능하게 하고,
복수의 상기 개편영역에 걸쳐 설정된 상기 스캔영역에 대해서는 상기 스캔영역이 걸치는 복수의 상기 개편영역에 대해서 취득된 상기 왜곡정보 중 적어도 어느 하나에 근거하여, 상기 가공스테이지의 위치를 조정하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공방법.The method according to claim 1,
The position adjustment step may further cause the position of the processing stage to be adjustable for each of the reorganization areas in accordance with the distortion information,
And adjusts the position of the processing stage based on at least any one of the distortion information acquired for a plurality of reorganization areas over the scan area for the scan area set over the plurality of reorganization areas Laser processing method.
제1 재료기판에 대해서 상기 위치조정공정을 거쳐 상기 레이저 가공을 실시하고,
상기 제1 재료기판에 이어서, 제2 재료기판에 대해서 상기 위치조정공정을 거쳐 상기 레이저 가공을 실시하는 경우에,
상기 제1 재료기판에 대해서 취득된 상기 왜곡정보를 이용하여, 상기 제2 재료기판에 대한 상기 왜곡정보를 예측하는 왜곡정보 예측 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공방법.The method according to claim 1 or 3,
The first material substrate is subjected to the laser processing through the position adjustment step,
In the case where the laser processing is performed on the second material substrate through the position adjustment process subsequent to the first material substrate,
Further comprising a distortion information predicting step of predicting the distortion information on the second material substrate using the distortion information acquired for the first material substrate.
상기 마크위치 측정공정에서는 상기 위치결정용 마크의 위치의 측정을 위한 검사장치를 사용하고,
상기 왜곡정보 취득공정에서는 상기 검사장치로부터 상기 레이저 가공을 위한 레이저 가공장치에 입력된 상기 측정결과를 사용하여, 상기 왜곡정보를 취득하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공방법.The method according to claim 1 or 3,
In the mark position measuring step, an inspection apparatus for measuring the position of the positioning mark is used,
Wherein in the distortion information acquisition step, the distortion information is acquired from the inspection apparatus using the measurement result input to the laser processing apparatus for laser processing.
상기 가공스테이지에 얹어 놓인 상기 재료기판에 형성되어 있는 위치결정용 마크를 촬상함으로써, 상기 위치결정용 마크의 위치를 측정하는 촬상부와,
상기 촬상부를 이용한 측정결과로부터 상기 재료기판의 왜곡에 관한 왜곡정보를 취득하고, 상기 재료기판의 왜곡에 의한 상기 레이저 가공의 위치벗어남을 보정하기 위한 왜곡 보정계수를 상기 왜곡정보에 따라 산출하는 왜곡 보정계수 산출처리부와,
상기 왜곡 보정계수에 따라서 상기 재료기판의 가공영역으로 입사시키는 레이저광의 진행방향을 조정하는 위치조정 처리부를 가지고,
상기 왜곡 보정계수 산출처리부는 상기 가공영역을 복수로 분할함으로써 설정된 개편영역을 단위로 하여 상기 왜곡정보를 취득하며,
상기 위치조정 처리부는 상기 개편영역마다 상기 진행방향을 조정 가능하게 하고,
상기 가공영역상에서의 상기 레이저광의 입사위치를 변화시키는 스캔구동부를 가지고,
상기 스캔구동부는, 상기 레이저 가공에 있어서, 상기 가공스테이지가 이동할 때마다, 상기 레이저광의 진폭에 따른 스캔영역을 단위로 하여 상기 레이저광의 입사위치를 변화시키며,
상기 개편영역은 상기 스캔영역보다 넓고, 또한, 상기 스캔영역 중 적어도 하나가 복수의 상기 개편영역에 걸쳐 설정 가능한 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.A processing stage on which a material substrate to be subjected to laser processing is placed,
An image pickup unit for picking up a positioning mark formed on the material substrate placed on the processing stage to measure a position of the positioning mark;
A distortion correction unit that obtains distortion information related to distortion of the material substrate from a measurement result using the imaging unit and calculates a distortion correction coefficient for correcting a position deviation of the laser processing due to distortion of the material substrate, A coefficient calculation processing unit,
And a position adjustment processing section for adjusting the direction of the laser light to be incident on the processing region of the material substrate in accordance with the distortion correction coefficient,
Wherein the distortion correction coefficient calculation processing section obtains the distortion information by using the modified region as a unit by dividing the processing region into a plurality of regions,
Wherein the position adjustment processing unit makes the progress direction adjustable for each of the reorganization areas,
And a scan driver for changing an incident position of the laser beam on the machining area,
Wherein the scan driver changes the incident position of the laser light in units of scan areas corresponding to the amplitude of the laser light each time the processing stage moves in the laser processing,
Wherein the reorganization region is wider than the scan region and at least one of the scan regions is set over a plurality of the reorganization regions.
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CN105057900A (en) * | 2015-08-25 | 2015-11-18 | 深圳市镭煜科技有限公司 | Vector and product target corresponding method |
JP2017100168A (en) * | 2015-12-03 | 2017-06-08 | キヤノン株式会社 | Laser processing device, component manufacturing method, program and recording medium |
JP2017113788A (en) * | 2015-12-24 | 2017-06-29 | 株式会社リコー | Optical processing device |
TWI595952B (en) * | 2016-01-14 | 2017-08-21 | 蔡宜興 | Positioning device having laser and camera, and positioning method thereof |
CN107566849B (en) * | 2016-06-30 | 2020-04-10 | 深圳锐取信息技术股份有限公司 | Football game video playing method and device |
KR101938812B1 (en) * | 2016-11-29 | 2019-01-15 | 주식회사 알이디테크놀로지 | Laser engraving machine with auto feeding and focusing function |
CN106735863B (en) * | 2016-12-06 | 2019-03-26 | 湖南七迪视觉科技有限公司 | A method of by material surface automatic positioning at laser spot |
CN110650818B (en) * | 2017-05-25 | 2021-08-27 | 三菱电机株式会社 | Laser processing apparatus |
JP7117903B2 (en) * | 2018-06-11 | 2022-08-15 | 住友重機械工業株式会社 | Processing method and processing equipment |
CN109396657B (en) * | 2018-11-16 | 2019-10-01 | 北京易加三维科技有限公司 | More Laser correctives and joining method for increasing material manufacturing equipment |
CN115087512A (en) * | 2020-02-10 | 2022-09-20 | 三菱电机株式会社 | Laser processing method and laser processing apparatus |
CN113500313A (en) * | 2021-06-23 | 2021-10-15 | 济南森峰科技有限公司 | Laser high-speed dislocation punching method with dynamic Z-axis movement |
CN113441842A (en) * | 2021-09-01 | 2021-09-28 | 佛山市联动科技股份有限公司 | Wafer laser marking method |
CN115319119A (en) * | 2022-08-23 | 2022-11-11 | 南京中科煜宸激光技术有限公司 | Powder-spreading type metal additive manufacturing equipment, substrate calibration device, substrate calibration method and scanning galvanometer calibration method |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008132514A (en) | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Laser beam machining method and microcell manufactured by the method |
KR20100106311A (en) * | 2007-10-23 | 2010-10-01 | 하이퍼트로닉스 피티이 엘티디 | Scan head calibration system and method |
WO2011087129A1 (en) * | 2010-01-18 | 2011-07-21 | 株式会社ニコン | Exposure method, exposure device, and manufacturing method for device |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH026183U (en) * | 1988-06-28 | 1990-01-16 | ||
JP2003266191A (en) * | 2002-03-13 | 2003-09-24 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser machining device, top plate and method of correction of deviation in laser beam machining |
JP2008221299A (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-25 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Laser beam machining apparatus |
JP5119728B2 (en) * | 2007-05-08 | 2013-01-16 | ソニー株式会社 | Laser processing apparatus calibration method and laser processing apparatus |
CN101480759B (en) * | 2009-01-22 | 2011-06-15 | 华中科技大学 | High-precision splicing method between meshes of laser cutting flexible printed circuit board |
-
2012
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008132514A (en) | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Laser beam machining method and microcell manufactured by the method |
KR20100106311A (en) * | 2007-10-23 | 2010-10-01 | 하이퍼트로닉스 피티이 엘티디 | Scan head calibration system and method |
WO2011087129A1 (en) * | 2010-01-18 | 2011-07-21 | 株式会社ニコン | Exposure method, exposure device, and manufacturing method for device |
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