KR101393599B1 - Tft-lcd용 금속 배선 형성을 위한 식각액 조성물 - Google Patents
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- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
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Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070094671A KR101393599B1 (ko) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | Tft-lcd용 금속 배선 형성을 위한 식각액 조성물 |
TW097133242A TWI431162B (zh) | 2007-09-18 | 2008-08-29 | 供用於圖案化薄膜電晶體-液晶裝置中之電路的蝕刻組成物 |
CN2008101686431A CN101392375B (zh) | 2007-09-18 | 2008-09-17 | 用于形成薄膜晶体管液晶显示装置中的电路的蚀刻剂组合物 |
JP2008239174A JP4940212B2 (ja) | 2007-09-18 | 2008-09-18 | Tft−lcd用金属配線形成のためのエッチング液組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070094671A KR101393599B1 (ko) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | Tft-lcd용 금속 배선 형성을 위한 식각액 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090029441A KR20090029441A (ko) | 2009-03-23 |
KR101393599B1 true KR101393599B1 (ko) | 2014-05-12 |
Family
ID=40492880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070094671A KR101393599B1 (ko) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | Tft-lcd용 금속 배선 형성을 위한 식각액 조성물 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4940212B2 (ja) |
KR (1) | KR101393599B1 (ja) |
CN (1) | CN101392375B (ja) |
TW (1) | TWI431162B (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090082772A (ko) * | 2008-01-28 | 2009-07-31 | 주식회사 동진쎄미켐 | 산화 인듐 주석막 식각용 식각액 조성물 및 이를 이용한산화 인듐 주석막 식각 방법 |
KR101507592B1 (ko) * | 2008-09-12 | 2015-04-06 | 주식회사 동진쎄미켐 | 유기발광다이오드표시장치의 식각액 조성물 |
CN101598989B (zh) * | 2009-07-06 | 2012-07-25 | 深圳南玻伟光导电膜有限公司 | 触摸屏引线的加工工艺 |
CN101608985A (zh) * | 2009-07-27 | 2009-12-23 | 上海市机械制造工艺研究所有限公司 | 镀层显示浸蚀剂及多层镀镀层组织结构的一次显示方法 |
KR101825493B1 (ko) * | 2010-04-20 | 2018-02-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 금속 배선용 식각액 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 표시판의 제조방법 |
CN102373473A (zh) * | 2010-08-06 | 2012-03-14 | 东友Fine-Chem股份有限公司 | 一种用于坡面型刻蚀装置的刻蚀组合物及其使用方法 |
KR101256276B1 (ko) * | 2010-08-25 | 2013-04-18 | 플란제 에스이 | 다중막의 식각액 조성물 및 그 식각방법 |
KR101766488B1 (ko) * | 2011-12-15 | 2017-08-09 | 동우 화인켐 주식회사 | 금속 배선 형성을 위한 식각액 조성물 |
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KR102216672B1 (ko) | 2013-10-22 | 2021-02-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
US9385174B2 (en) | 2013-10-22 | 2016-07-05 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting diode display and manufacturing method thereof |
KR102160694B1 (ko) | 2013-11-01 | 2020-09-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR20160109568A (ko) * | 2015-03-12 | 2016-09-21 | 동우 화인켐 주식회사 | 식각액 조성물 및 이를 이용한 금속 패턴의 형성방법 |
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CN108754497A (zh) * | 2018-07-02 | 2018-11-06 | 景瓷精密零部件(桐乡)有限公司 | 一种钼栅极产品的刻蚀液配方及生产方法 |
CN110647255B (zh) * | 2019-08-15 | 2023-04-25 | 信利光电股份有限公司 | 一种触摸屏金属线的制作方法 |
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CN113529084A (zh) * | 2021-06-09 | 2021-10-22 | 昆山晶科微电子材料有限公司 | 一种用于TFT-array基片的蚀刻液 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3985620B2 (ja) * | 2001-07-23 | 2007-10-03 | ソニー株式会社 | エッチング方法 |
KR100944300B1 (ko) * | 2001-10-22 | 2010-02-24 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 알루미늄/몰리브덴 적층막의 에칭 방법 |
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TW200533787A (en) * | 2004-02-25 | 2005-10-16 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Etching composition for laminated film including reflective electrode and method for forming laminated wiring structure |
KR101216651B1 (ko) * | 2005-05-30 | 2012-12-28 | 주식회사 동진쎄미켐 | 에칭 조성물 |
KR101154244B1 (ko) * | 2005-06-28 | 2012-06-18 | 주식회사 동진쎄미켐 | 알루미늄, 몰리브덴, 인듐-틴-옥사이드를 식각하기 위한 식각액 |
KR20070017762A (ko) * | 2005-08-08 | 2007-02-13 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 식각액 조성물, 이를 이용한 도전막의 패터닝 방법 및평판표시장치의 제조 방법 |
JP4864434B2 (ja) * | 2005-11-29 | 2012-02-01 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 薄膜トランジスタ液晶表示装置用エッチング組成物 |
KR101299131B1 (ko) * | 2006-05-10 | 2013-08-22 | 주식회사 동진쎄미켐 | 박막트랜지스터 액정표시장치의 식각 조성물 |
-
2007
- 2007-09-18 KR KR1020070094671A patent/KR101393599B1/ko active IP Right Grant
-
2008
- 2008-08-29 TW TW097133242A patent/TWI431162B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-09-17 CN CN2008101686431A patent/CN101392375B/zh active Active
- 2008-09-18 JP JP2008239174A patent/JP4940212B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060004877A (ko) * | 2004-07-10 | 2006-01-16 | 테크노세미켐 주식회사 | 박막트랜지스터 형성용 모든 전극을 위한 통합 식각액조성물 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090029441A (ko) | 2009-03-23 |
TW200932954A (en) | 2009-08-01 |
TWI431162B (zh) | 2014-03-21 |
CN101392375B (zh) | 2011-05-04 |
JP2009076910A (ja) | 2009-04-09 |
JP4940212B2 (ja) | 2012-05-30 |
CN101392375A (zh) | 2009-03-25 |
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