KR101388503B1 - Apparatus and method for aligning position between graphene sheet and mask, and method for patterning on the graphene sheet - Google Patents

Apparatus and method for aligning position between graphene sheet and mask, and method for patterning on the graphene sheet Download PDF

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KR101388503B1 KR1020120063278A KR20120063278A KR101388503B1 KR 101388503 B1 KR101388503 B1 KR 101388503B1 KR 1020120063278 A KR1020120063278 A KR 1020120063278A KR 20120063278 A KR20120063278 A KR 20120063278A KR 101388503 B1 KR101388503 B1 KR 101388503B1
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Abstract

본 발명은 그래핀 시트와 마스크가 정위치에 정렬되고 정렬된 상태가 유지되도록 고정시키기 위한 장치의 구조 및 정렬 단계를 간소화함과 아울러 그래핀 시트 상에 패턴 형성을 위한 공정 단계를 간소화하는데 그 목적이 있다.
이를 구현하기 위한 본 발명은, 본체(110)와, 그 중앙부에 형성된 진공챔버(120)와, 상기 진공챔버(120)에 진공을 형성하는 진공흡착기(130)와, 상기 본체(110)의 가장자리부에 복수로 구비되며 상기 본체(110)를 상하로 관통하여 승·하강되는 정렬핀(142)과, 상기 정렬핀(142)의 승·하강을 구동하는 업다운 실린더(140)를 구비하는 진공 유니트(100); 상기 진공챔버(120)의 상측으로 대응되는 부위에 일정 간격으로 다수의 기공(211)이 천공된 기공판(210)으로 이루어지고, 상기 기공판(210)의 가장자리부에는 상기 정렬핀(142)이 관통 삽입되는 복수의 제1관통홀(220)이 형성되어 상기 본체(110) 상에 안착되는 지그 플레이트(200); 상기 제1관통홀(220)에 대응되는 위치에 상기 제1관통홀(220)보다 작은 내경을 갖는 복수의 제2관통홀(320)이 형성되어 상기 정렬핀(142) 상에 안착되는 그래핀 시트(300); 및 상기 제2관통홀(320)에 대응되는 위치에 제2관통홀(320)보다 작은 내경을 갖는 제3관통홀(420)이 형성되어 상기 정렬핀(142) 상에 안착되는 마스크(400)를 포함한다.The present invention simplifies the structure and alignment of the device for fixing the graphene sheet and the mask so that the graphene sheet is aligned and maintained in place, and the process step for forming a pattern on the graphene sheet. There is this.
The present invention for implementing this, the main body 110, the vacuum chamber 120 formed in the center thereof, the vacuum adsorber 130 for forming a vacuum in the vacuum chamber 120, and the edge of the main body 110 The vacuum unit is provided with a plurality of parts and provided with an alignment pin 142 that penetrates up and down through the main body 110 up and down, and an up-down cylinder 140 for driving up and down of the alignment pin 142. 100; Comprising a plurality of pores 211 perforated at a predetermined interval to the portion corresponding to the upper side of the vacuum chamber 120 is made of a perforated plate 210, the edge of the pore plate 210, the alignment pin 142 A plurality of first through holes 220 inserted therein and formed of a jig plate 200 seated on the main body 110; Graphene is formed on the alignment pin 142 by forming a plurality of second through holes 320 having an inner diameter smaller than the first through holes 220 at positions corresponding to the first through holes 220. Sheet 300; And a third through-hole 420 having an inner diameter smaller than the second through-hole 320 at a position corresponding to the second through-hole 320 and seated on the alignment pin 142. It includes.

Description

그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치와 위치 정렬 방법 및 그래핀 시트에 패턴을 형성하는 방법{Apparatus and method for aligning position between graphene sheet and mask, and method for patterning on the graphene sheet}Apparatus and method for aligning position between graphene sheet and mask, and method for patterning on the graphene sheet}

본 발명은 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치와 위치 정렬 방법 및 그래핀 시트에 패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 그래핀 시트 상에 패턴 형성을 위한 마스크를 정렬된 상태로 고정시키고 특정 패턴이 형성된 다수 개의 마스크를 손쉽게 교체 가능하도록 하는 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치와 위치 정렬 방법 및 그래핀 시트 상에 패턴을 형성하는 공정을 단순화할 수 있는 그래핀 시트에 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a position alignment device and a position alignment method of the graphene sheet and the mask and a method of forming a pattern on the graphene sheet, and more particularly, to fix the mask for forming the pattern on the graphene sheet in an aligned state And a pattern on the graphene sheet to simplify the process of forming the pattern on the graphene sheet and the position alignment device of the graphene sheet and the mask to facilitate the replacement of a plurality of masks with a specific pattern and a pattern on the graphene sheet. It is about how to.

일반적으로 액정표시장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 특정 방향으로만 정렬하려는 액정물질의 방향성을 이용하여 화상을 구현하는 장치로서, 기존의 브라운관에 비해 시인성이 우수하고 평균소비전력도 같은 화면 크기의 브라운관에 비해 작을 뿐만 아니라 발열량도 작기 때문에 차세대 디스플레이장치로 각광받고 있다.In general, a liquid crystal display (LCD) is a device that implements an image by using a direction of liquid crystal material to be aligned only in a specific direction, and has better visibility and a similar average power consumption than a conventional CRT. In addition to being smaller than the CRT, the heat generation is also attracting attention as the next generation display device.

최근에는 디스플레이장치를 접거나 말아서 넣더라도 손상되지 않는 플렉서블 디스플레이(Flexible Display) 장치가 개발되고 있다. 그 일례로 박막 트랜지스터 액정표시장치(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display; TFT-LCD)는 액정표시장치에 있는 각각의 화소마다 박막트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT)를 구비하여 각 화소를 독립적으로 구동시켜 해상도를 높인 것으로서, 그 구성은 박막트랜지스터(TFT)가 구비된 하부 유리기판과, 컬러 필터(Color Filter)가 구비된 상부 유리기판 및 그 사이에 주입된 액정으로 이루어져 있다. 박막트랜지스터는 전기적 신호를 전달 및 제어하는 역할을 하며, 액정은 인가된 전압에 따라 분자구조를 달리하여 빛의 투과를 제어하고, 제어된 빛은 컬러 필터를 통과하면서 원하는 색과 영상을 구현하게 된다.Recently, a flexible display device that is not damaged even when the display device is folded or rolled up has been developed. For example, a thin film transistor liquid crystal display (TFT-LCD) includes a thin film transistor (TFT) for each pixel of the liquid crystal display to independently drive each pixel. As the resolution is increased, the configuration includes a lower glass substrate provided with a thin film transistor (TFT), an upper glass substrate provided with a color filter, and a liquid crystal injected therebetween. The thin film transistor plays a role of transmitting and controlling the electrical signal, and the liquid crystal controls the transmission of light by changing the molecular structure according to the applied voltage, and the controlled light passes through the color filter to realize the desired color and image. .

일반적으로 이와 같은 플렉서블 디스플레이 장치의 기판에 패턴을 형성하는 방법은, 도 1에 도시된 바와 같이 기판 상에 박막을 형성하는 증착공정(S1), 증착된 박막 상에 포토레지스트(photoresist)를 도포하는 도포공정(S2), 도포된 포토레지스트로부터 용제를 증발시켜 포토레지스트가 기판의 표면에 달라붙게 하는 소프트베이킹공정(S3), 자외선 등의 광원을 이용하여 마스크 상의 회로 패턴을 축소 투영하면서 노광시켜 마스크의 패턴을 포토레지스트 상으로 전사하는 노광공정(S4), 광원에의 노출에 의한 감광에 의해 물리적 성질이 변화된 포토레지스트의 부분들을 현상액을 사용하여 선택적으로 제거하는 현상공정(S5), 현상공정 후 잔류하는 포토레지스트의 보다 긴밀한 고착을 위한 하드베이킹공정(S6), 현상된 패턴에 따라 전기적인 특성을 부여하기 위하여 박막의 소정부위를 식각하는 식각공정(S7), 식각공정 후 잔류하는 포토레지스트를 제거하는 박리공정(S8) 및 배선 형성 공정(S9)을 포함한다.In general, a method of forming a pattern on a substrate of the flexible display apparatus includes a deposition process (S1) of forming a thin film on the substrate as shown in FIG. 1, and applying a photoresist on the deposited thin film. The coating process (S2), the soft baking process (S3) in which the solvent is evaporated from the applied photoresist and the photoresist adheres to the surface of the substrate, and the circuit pattern on the mask is reduced and exposed by using a light source such as ultraviolet rays. An exposure step (S4) of transferring the pattern of the photoresist onto the photoresist, a developing step (S5) of selectively removing portions of the photoresist whose physical properties have been changed by exposure to a light source using a developer, and a developing step Hard baking process (S6) for tighter adhesion of remaining photoresist, to give electrical properties according to developed pattern And it includes an etching process (S7), stripping to remove the residue after the etching process the photoresist to step (S8), and the wiring formation step (S9) of etching a predetermined part of the thin film.

이와 같이 종래에 기판 상에 패턴을 형성하기 위해서는 많은 공정 단계를 거쳐야 할 뿐만 아니라 절연층 재료, 금속 물질, 포토레지스트, 현상액, 식각액, 스트립 액 등 많은 재료를 필요로 함에 따라 공정 시간이 길어지고 비용이 상승하는 문제점이 있다.As described above, in order to form a pattern on a substrate, not only a large number of processing steps are required but also many materials such as an insulating layer material, a metal material, a photoresist, a developing solution, an etching solution, and a stripping solution require a long process time and cost. There is this rising problem.

한편, 최근에는 두께가 매우 얇고 신축성과 전기 전도성이 우수한 그래핀(graphene)을 플렉서블 디스플레이 장치에 활용하는 기술이 개발되고 있다. Meanwhile, recently, a technology for utilizing graphene (graphene) having a very thin thickness, excellent elasticity and electrical conductivity, has been developed for a flexible display device.

그러나, 그래핀에 전기 배선을 형성하기 위해 종래기술에 따른 식각공정을 적용할 경우에는 상기한 바와 같이 공정 단계가 복잡하고 제조 비용이 과다하게 소요되는 문제점이 있다.However, when applying the etching process according to the prior art to form an electrical wiring on the graphene, there is a problem that the process step is complicated and excessively expensive manufacturing costs as described above.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 그래핀 시트와 마스크가 정위치에 정렬되고 정렬된 상태가 유지되도록 고정시키기 위한 장치의 구조 및 정렬 단계를 간소화함과 아울러 그래핀 시트 상에 패턴 형성을 위한 공정 단계를 대폭 줄이고 서로 다른 특정 패턴이 형성된 다수의 마스크를 교체 시 그래핀 시트와 마스크를 신속 정확하게 정렬시킬 수 있도록 하는 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치와 위치 정렬 방법 및 그래핀 시트에 패턴을 형성하는 방법을 제공함에 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and simplifies the structure and alignment step of the device for fixing the graphene sheet and the mask to be aligned and maintained in place and on the graphene sheet Positioning device and alignment method of graphene sheets and masks to drastically reduce the process steps for pattern formation on the substrate, and to quickly and accurately align graphene sheets and masks when replacing multiple masks having different specific patterns. Its purpose is to provide a method for forming a pattern on a pin sheet.

상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치는, 본체(110)와, 그 중앙부에 형성된 진공챔버(120)와, 상기 진공챔버(120)에 진공을 형성하는 진공흡착기(130)와, 상기 본체(110)의 가장자리부에 복수로 구비되며 상기 본체(110)를 상하로 관통하여 승·하강되는 정렬핀(142)과, 상기 정렬핀(142)의 승·하강을 구동하는 업다운 실린더(140)를 구비하는 진공 유니트(100); 상기 진공챔버(120)의 상측으로 대응되는 부위에 일정 간격으로 다수의 기공(211)이 천공된 기공판(210)으로 이루어지고, 상기 기공판(210)의 가장자리부에는 상기 정렬핀(142)이 관통 삽입되는 복수의 제1관통홀(220)이 형성되어 상기 본체(110) 상에 안착되는 지그 플레이트(200); 상기 제1관통홀(220)에 대응되는 위치에 상기 제1관통홀(220)보다 작은 내경을 갖는 복수의 제2관통홀(320)이 형성되어 상기 정렬핀(142) 상에 안착되는 그래핀 시트(300); 및 상기 제2관통홀(320)에 대응되는 위치에 제2관통홀(320)보다 작은 내경을 갖는 제3관통홀(420)이 형성되어 상기 정렬핀(142) 상에 안착되는 마스크(400)를 포함한다.The graphene sheet and mask position alignment device of the present invention for realizing the above object, the vacuum is formed in the main body 110, the vacuum chamber 120 formed in the center thereof, and the vacuum chamber 120 And a plurality of vacuum adsorbers 130 and a plurality of alignment pins 142 provided on the edges of the main body 110 to move up and down through the main body 110 up and down, and to raise or lower the alignment pins 142. A vacuum unit 100 having an up-down cylinder 140 for driving a descending; Comprising a plurality of pores 211 perforated at a predetermined interval to the portion corresponding to the upper side of the vacuum chamber 120 is made of a perforated plate 210, the edge of the pore plate 210, the alignment pin 142 A plurality of first through holes 220 inserted therein and formed of a jig plate 200 seated on the main body 110; Graphene is formed on the alignment pin 142 by forming a plurality of second through holes 320 having an inner diameter smaller than the first through holes 220 at positions corresponding to the first through holes 220. Sheet 300; And a third through-hole 420 having an inner diameter smaller than the second through-hole 320 at a position corresponding to the second through-hole 320 and seated on the alignment pin 142. It includes.

본 발명의 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 방법은, 진공 유니트(100)의 본체(110)의 가장자리부에 상기 본체(110)를 상하로 관통하여 승·하강 가능하게 구비되는 복수의 정렬핀(142)을 승강시킨 상태에서 상기 정렬핀(142)에 지그 플레이트(200)의 제1관통홀(220)이 끼워져 고정되도록 진공 유니트(100) 상에 지그 플레이트(200)를 안착시키는 단계; 상기 지그 플레이트(200)의 상측으로 상기 정렬핀(142) 상에 상기 제1관통홀(220)보다 작은 내경으로 형성된 그래핀 시트(300)의 제2관통홀(320)이 삽입되어 걸쳐지도록 그래핀 시트(300)를 안착시키는 단계; 상기 그래핀 시트(300)의 상측으로 상기 정렬핀(142) 상에 상기 제2관통홀(320)보다 작은 내경으로 형성된 마스크(400)의 제3관통홀(420)이 삽입되어 걸쳐지도록 마스크(400)를 안착시키는 단계; 및 상기 정렬핀(142)을 하강시켜 상기 지그 플레이트(200) 상에 그래핀 시트(300)와 마스크(400)를 순차로 밀착 고정하는 단계를 포함한다.In the method for aligning the graphene sheet and the mask of the present invention, a plurality of alignment pins provided to be capable of being moved up and down by penetrating the main body 110 up and down at an edge portion of the main body 110 of the vacuum unit 100 ( Mounting the jig plate (200) on the vacuum unit (100) such that the first through hole (220) of the jig plate (200) is fitted into and fixed to the alignment pin (142) in a state of elevating (142); The second through hole 320 of the graphene sheet 300 formed with an inner diameter smaller than the first through hole 220 is inserted on the alignment pin 142 to the upper side of the jig plate 200. Seating the pin sheet 300; On the alignment pin 142 to the upper side of the graphene sheet 300, a mask so that the third through-hole 420 of the mask 400 formed with an inner diameter smaller than the second through-hole 320 is inserted and spanned Seating 400); And lowering the alignment pins 142 and closely fixing the graphene sheet 300 and the mask 400 on the jig plate 200 in order.

본 발명의 그래핀 시트에 패턴을 형성하는 방법은, PET 시트(311) 상에 그래핀(312)을 증착하여 그래핀 시트(300)를 형성하는 단계; 상기 그래핀 시트(300)와 마스크(400)의 위치 정렬 방법에 의해 지그 플레이트(200) 상에 그래핀 시트(300)와 마스크(400)가 정위치되어 밀착 고정된 어셈블리(500)를 형성하는 단계; 상기 어셈블리(500)를 플라즈마 식각장치(600)로 이송하고 마스크(400)의 특정 패턴에 따라 그래핀 시트(300)를 식각하여 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.Method of forming a pattern on the graphene sheet of the present invention, by depositing a graphene 312 on the PET sheet 311 to form a graphene sheet 300; The graphene sheet 300 and the mask 400 are positioned on the jig plate 200 by the position alignment method of the graphene sheet 300 and the mask 400 to form an assembly 500 in which the graphene sheet 300 and the mask 400 are closely fixed. step; Transferring the assembly 500 to the plasma etching apparatus 600 and etching the graphene sheet 300 according to a specific pattern of the mask 400 to form a pattern.

본 발명에 따른 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치 및 방법에 의하면, 정렬핀의 외주면 상에 서로 다른 내경을 갖도록 형성된 그래핀 시트와 마스크가 상하로 이격된 상태에서 안착되도록 한 후 진공흡착기의 배기량을 조절하면서 업다운 실리더의 작동에 의해 정렬핀을 하강시키는 동작에 의해 지그 플레이트 상에 그래핀 시트와 마스크가 정위치로 정렬되므로 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 작업을 손쉽게 수행할 수 있는 장점이 있다.According to the apparatus and method for aligning the graphene sheet and the mask according to the present invention, the displacement of the vacuum adsorber after allowing the graphene sheet and the mask formed to have different inner diameters on the outer circumferential surface of the alignment pin to be seated in the spaced apart state up and down The graphene sheet and mask are aligned on the jig plate by the operation of lowering the alignment pin by operating the up-down cylinder while adjusting the position of the graphene sheet and the mask. have.

또한 본 발명에 의하면, 지그 플레이트 상에 그래핀 시트와 마스크가 정위치로 적층된 상태에서 지그 플레이트에 부착된 자성체와 금속 재질의 마스크 간에 작용하는 자력에 의해 지그 플레이트와 그래핀 시트 및 마스크의 어셈블리를 밀착 고정된 상태가 유지되므로 플라즈마 식각장치로 이송되는 과정에서도 그래핀 시트와 마스크의 정렬 상태를 안정적으로 유지할 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, the assembly of the jig plate, graphene sheet and the mask by a magnetic force acting between the magnetic material attached to the jig plate and the mask of the metal material in a state that the graphene sheet and the mask is laminated on the jig plate in the correct position Since the close fixed state is maintained, the alignment state of the graphene sheet and the mask can be stably maintained even during the transfer to the plasma etching apparatus.

또한 본 발명에 의하면, 마스크의 교체 시에도 지그 플레이트와 그래핀 시트 및 마스크의 어셈블리를 진공 유니트 상에 안착시키고 업다운 실린더의 작동에 의해 정렬핀을 승강시켜 마스크와 그래핀 시트 및 지그 플레이트가 서로 이격되도록 분리한 후에 후속되는 식각 공정에 사용될 마스크로 교체한 후에 정렬 작업을 반복 수행함으로써 마스크의 신속한 교체 및 정렬 작업이 가능해진다.According to the present invention, even when the mask is replaced, the jig plate, the graphene sheet and the assembly of the mask are seated on the vacuum unit, and the alignment pin is lifted by the operation of the up-down cylinder so that the mask, the graphene sheet and the jig plate are separated from each other. It is possible to quickly replace and align the mask by separating the mask as much as possible and replacing it with a mask to be used in a subsequent etching process.

또한 본 발명에 따른 그래핀 시트에 패턴을 형성하는 방법에 의하면, 종래 패턴 형성을 위한 식각 공정 단계 중 포토레지스트의 도포와 현상 및 포토레지스트의 제거 공정을 생략할 수 있게 되므로 패턴 형성 공정의 단계를 대폭 줄일 수 있게 되어 공정 시간의 단축으로 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, according to the method for forming a pattern on the graphene sheet according to the present invention, since the application and development of the photoresist and the process of removing the photoresist can be omitted during the etching process step for forming a conventional pattern, Since it can be greatly reduced, there is an advantage of improving the productivity of the product by reducing the process time.

도 1은 종래 기판 상에 패턴을 형성하는 방법의 순서도,
도 2는 본 발명에 따른 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치를 나타낸 분리 사시도,
도 3은 도 2의 A-A 선을 따르는 단면도,
도 4는 본 발명에 따른 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 방법의 순서도,
도 5는 업다운 실린더가 승강된 상태에서 진공 유니트 상에 지그 플레이트가 안착된 모습을 나타낸 상태도,
도 6은 지그 플레이이트의 상측으로 이격되어 정렬 핀 상에 그래핀 시트가 안착된 모습을 나타낸 상태도,
도 7은 그래핀 시트의 상측으로 이격되어 정렬 핀 상에 마스크가 안착된 모습을 나타낸 상태도,
도 8은 업다운 실린더가 하강하여 지그 플레이트의 상면에 그래핀 시트가 안착된 모습을 나타낸 상태도,
도 9는 업다운 실린더가 더욱 하강하여 그래핀 시트의 상면에 마스크가 안착된 모습을 나타낸 상태도,
도 10은 진공 유니트로부터 지그 플레이트와 그래핀 시트 및 마스크의 어셈블리 분리되어 플라즈마 식각장치로 이송되는 모습을 나타낸 상태도,
도 11은 본 발명에 따른 그래핀 시트에 패턴을 형성하는 방법의 순서도.1 is a flow chart of a method of forming a pattern on a conventional substrate,
Figure 2 is an exploded perspective view showing a position alignment device of the graphene sheet and the mask according to the present invention,
3 is a cross-sectional view along the line AA of FIG.
Figure 4 is a flow chart of the position alignment method of the graphene sheet and the mask according to the present invention,
5 is a state diagram showing a state that the jig plate is seated on the vacuum unit in the state in which the up-down cylinder is lifted,
6 is a state showing the state that the graphene sheet is seated on the alignment pin spaced apart from the upper side of the jig plate,
7 is a state showing the state that the mask is seated on the alignment pin spaced apart to the upper side of the graphene sheet,
8 is a state showing the state that the graphene sheet is seated on the upper surface of the jig plate by the up-down cylinder is lowered,
9 is a state showing the state that the mask is seated on the upper surface of the graphene sheet further down the down cylinder,
10 is a state diagram showing a state in which the jig plate, the graphene sheet and the mask assembly is separated from the vacuum unit and transferred to the plasma etching apparatus;
11 is a flow chart of a method for forming a pattern on a graphene sheet according to the present invention.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치는, 진공 유니트(100)의 상측으로 지그 플레이트(200)와 그래핀 시트(300) 및 마스크(400)가 순차로 적층되는 구조로 이루어져 있다.Referring to FIG. 2, in the graphene sheet and mask position alignment device according to the present invention, the jig plate 200, the graphene sheet 300, and the mask 400 are sequentially stacked above the vacuum unit 100. It consists of a structure.

상기 진공 유니트(100)는, 직육면체 형상으로 이루어진 본체(110)와, 본체(100)의 중앙부에 일정 깊이로 함몰되어 내부에 빈 공간이 마련된 진공챔버(120)와, 진공챔버(120)의 바닥면 중앙부에 상하로 관통된 관통구(121)에 연결되어 진공챔버(120)에 진공을 형성하는 진공흡착기(130)와, 본체(110)의 가장자리 모서리부에 각각 구비되며 본체(110)를 상하로 관통하여 승·하강 가능하게 구비되는 로드(141)와 그 상단부에 결합된 정렬핀(142)과, 상기 로드(141)와 정렬핀(142)의 승·하강을 구동하는 업다운 실린더(140)로 구성된다.The vacuum unit 100 includes a main body 110 having a rectangular parallelepiped shape, a vacuum chamber 120 recessed to a central portion of the main body 100 to a predetermined depth, and an empty space provided therein, and a bottom of the vacuum chamber 120. The vacuum suction unit 130 connected to the through hole 121 vertically penetrated to the center portion of the surface to form a vacuum in the vacuum chamber 120 and the edge portion of the main body 110 are respectively provided and the main body 110 up and down. A rod 141 provided to be capable of raising and lowering through the rod and an alignment pin 142 coupled to an upper end thereof, and an up-down cylinder 140 for driving the rod 141 and the raising and lowering of the alignment pin 142. It consists of.

상기 업다운 실린더(140)는 본체(110)의 네 모서리부 저면에 결합되고, 유압의 공급과 배출에 의해 로드(141)를 상측으로 밀거나 아래로 당겨 로드(141)의 상단부에 결합된 정렬핀(142)이 본체(110)의 상면에서 상측으로 돌출되거나 본체(110)의 내부로 당겨지도록 하는 역할을 한다.The up-down cylinder 140 is coupled to the bottom of the four corners of the main body 110, the alignment pin coupled to the upper end of the rod 141 by pushing the rod 141 upward or downward by the supply and discharge of hydraulic pressure The 142 protrudes upward from the upper surface of the main body 110 or serves to pull the inside of the main body 110.

상기 로드(141)는 그 횡단면이 원형인 봉 형상으로 구성될 수 있고, 정렬핀(142)은 구(球) 형상으로 이루어져 로드(141)의 상단부에 반구(半球) 형상으로 돌출되어 결합된 것으로 구성될 수 있다.The rod 141 may have a rod shape having a circular cross section, and the alignment pin 142 may have a spherical shape and protrude in a hemispherical shape at an upper end of the rod 141. Can be configured.

상기 지그 플레이트(200)는, 진공챔버(120)의 상부를 덮는 부위에 일정 간격으로 다수의 기공(211)이 천공된 사각 형상의 기공판(210)으로 이루어지고, 기공판(210)의 가장자리 네 모서리부에는 로드(141)의 외경에 대응되는 내경을 갖는 제1관통홀(220)이 형성되어 있다. 진공 유니트(100) 상에 지그 플레이트(200)의 안착 시, 지그 플레이트(200)에 형성된 제1관통홀(220)에는 정렬핀(142)과 로드(141)의 상부가 삽입되며, 지그 플레이트(200)는 제1관통홀(220)의 내주면에 로드(141)의 외주면이 밀착되어 위치가 고정된 상태에서 본체(110)의 상면에 안착된다.The jig plate 200 is formed of a rectangular pore plate 210 having a plurality of pores 211 perforated at predetermined intervals on a portion covering the upper portion of the vacuum chamber 120, the edge of the pore plate 210 Four corners are formed with a first through hole 220 having an inner diameter corresponding to the outer diameter of the rod 141. When the jig plate 200 is seated on the vacuum unit 100, the upper part of the alignment pin 142 and the rod 141 is inserted into the first through hole 220 formed in the jig plate 200, and the jig plate ( 200 is seated on the upper surface of the main body 110 in a state where the outer peripheral surface of the rod 141 is in close contact with the inner peripheral surface of the first through hole 220 is fixed.

또한, 지그 플레이트(200)의 기공판(210)의 상면 가장자리부에는 자성체(230)가 구비되어 금속 재질로 이루어진 마스크(400)를 자력에 의해 지그 플레이트(200)의 상면에 부착시켜 고정된 상태를 유지할 수 있도록 구성되어 있다.In addition, a magnetic body 230 is provided at the upper edge portion of the pore plate 210 of the jig plate 200 to fix the mask 400 made of a metal material to the top surface of the jig plate 200 by magnetic force. It is configured to maintain.

상기 그래핀 시트(300)는, 도 3에 도시된 바와 같이 PET 시트(polyethylene terephthalate sheet, 311)의 상면에 그래핀(graphene, 312)이 화학기상증착(CVD) 등의 공정에 의해 증착된 사각 형상의 판형 구조로 이루어진 것으로, 가장자리 네 모서리부에는 상기 제1관통홀(220)에 대응되는 위치에 제1관통홀(220)과 정렬핀(142)의 직경보다 작은 내경을 갖는 제2관통홀(320)이 형성되어 있다. 지그 플레이트(200) 상측으로 그래핀 시트(300)의 안착 시, 그래핀 시트(300)에 형성된 제2관통홀(320)은 정렬핀(142)의 외주면에 걸쳐진 상태가 되어 지그 플레이트(200)의 상측으로 이격되어 안착된다.As shown in FIG. 3, the graphene sheet 300 may include a quadrangle of graphene 312 deposited on a top surface of a polyethylene terephthalate sheet 311 by a process such as chemical vapor deposition (CVD). It consists of a plate-shaped structure, the four corners of the edge of the second through hole having an inner diameter smaller than the diameter of the first through hole 220 and the alignment pin 142 at a position corresponding to the first through hole 220 320 is formed. When the graphene sheet 300 is seated on the jig plate 200, the second through-hole 320 formed in the graphene sheet 300 is in a state spanning the outer circumferential surface of the alignment pin 142 so that the jig plate 200 may be disposed. It is seated spaced to the upper side of.

상기 마스크(400)의 테두리부는 금속판(410)으로 구성되고, 금속판(410)의 내측에는 패턴(430)이 형성된 구조이며, 금속판(410)의 가장자리 네 모서리부에는 상기 제1관통홀(220)과 제2관통홀(320)에 대응되는 위치에 제2관통홀(320)보다 작은 내경을 갖는 제3관통홀(420)이 형성되어 있다. 그래핀 시트(300)의 상측으로 마스크(400)를 안착 시, 마스크(400)에 형성된 제3관통홀(420)은 그래핀 시트(300)의 상측으로 이격되어 정렬핀(142)의 외주면에 걸쳐진 상태로 안착된다.An edge portion of the mask 400 is formed of a metal plate 410, and a pattern 430 is formed inside the metal plate 410, and the first through hole 220 is formed at four corners of the edge of the metal plate 410. And a third through hole 420 having an inner diameter smaller than the second through hole 320 at a position corresponding to the second through hole 320. When the mask 400 is seated on the graphene sheet 300, the third through hole 420 formed in the mask 400 may be spaced apart from the upper side of the graphene sheet 300 to be disposed on the outer circumferential surface of the alignment pin 142. Settles down

이하, 상기와 같이 구성된 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치를 이용하여 그래핀 시트(300)와 마스크(400)를 정렬하는 방법을 도 4의 순서도와, 도 5 내지 도 9를 참조하여 설명한다. Hereinafter, a method of aligning the graphene sheet 300 and the mask 400 using the graphene sheet and the mask position alignment device configured as described above will be described with reference to the flowchart of FIG. 4 and FIGS. 5 to 9. .

먼저, 업다운 실린더(140)를 작동시켜 로드(141)의 상부와 정렬핀(142)이 본체(110)의 상면에서 상측으로 돌출되도록 위치시킨 상태에서, 도 5에 도시된 바와 같이 진공 유니트(100)의 본체(110)의 상면에 지그 플레이트(200)를 안착시킨다(S10). 이 경우 본체(110)의 네 모서리부에 상측으로 돌출된 정렬핀(142)에 지그 플레이트(200)에 형성된 제1관통홀(220)을 끼워 로드(141)의 외주면에 제1관통홀(220)의 내주면이 밀착됨과 동시에 지그 플레이트(200)의 저면과 본체(110)의 상면이 서로 밀착된 상태로 안착된다.First, the up-down cylinder 140 is operated to position the upper portion of the rod 141 and the alignment pin 142 to protrude upward from the upper surface of the main body 110, as shown in FIG. 5, as shown in FIG. 5. The jig plate 200 is seated on the upper surface of the main body 110 (S10). In this case, the first through hole 220 is formed on the outer circumferential surface of the rod 141 by inserting the first through hole 220 formed in the jig plate 200 into the alignment pin 142 protruding upward from the four corners of the main body 110. At the same time as the inner circumferential surface of the) and the bottom surface of the jig plate 200 and the upper surface of the main body 110 is seated in close contact with each other.

다음으로, 도 6에 도시된 바와 같이 지그 플레이트(200)의 상측으로 정렬핀(142) 상에 그래핀 시트(300)를 안착시킨다(S20). 이 경우 그래핀 시트(300)에 형성된 제2관통홀(320)은 정렬핀(142)의 직경 및 제1관통홀(220)의 내경보다 작은 크기의 내경을 갖도록 형성되므로 제2관통홀(320)은 정렬핀(142)의 하부 외주면에 걸쳐진 상태로 안착되어 지그 플레이트(200)의 상면과 그래핀 시트(300)의 저면 사이에는 상하로 유격이 형성된다.Next, as shown in FIG. 6, the graphene sheet 300 is seated on the alignment pin 142 to the upper side of the jig plate 200 (S20). In this case, the second through hole 320 formed in the graphene sheet 300 is formed to have an inner diameter smaller than the diameter of the alignment pin 142 and the inner diameter of the first through hole 220. ) Is seated in a state spanning the lower outer circumferential surface of the alignment pin 142, and a clearance is formed vertically between the top surface of the jig plate 200 and the bottom surface of the graphene sheet 300.

다음 단계로, 도 7에 도시된 바와 같이 그래핀 시트(300)의 상측으로 정렬핀(142) 상에 마스크(400)를 안착시킨다(S30). 이 경우 마스크(400)에 형성된 제3관통홀(420)은 그래핀 시트(300)에 형성된 제2관통홀(320)의 내경보다 작은 크기의 내경을 갖도록 형성되므로 제3관통홀(420)은 정렬핀(142)의 상부 외주면에 걸쳐진 상태로 안착되어 그래핀 시트(300)의 상면과 마스크(400)의 저면 사이에는 상하로 유격이 형성된다.Next, as shown in FIG. 7, the mask 400 is seated on the alignment pin 142 to the upper side of the graphene sheet 300 (S30). In this case, the third through hole 420 formed in the mask 400 is formed to have an inner diameter smaller than the inner diameter of the second through hole 320 formed in the graphene sheet 300. Seated in a state spanning the upper outer circumferential surface of the alignment pin 142 is formed between the top surface of the graphene sheet 300 and the bottom surface of the mask 400 vertically spaced.

이와 같이 지그 플레이트(200)는 진공 유니트(100)의 본체(110)의 상면에 밀착되어 안착되고, 지그 플레이트(200)의 상측으로 정렬핀(142) 상에 그래핀 시트(300)와 마스크(400)가 상하 간격을 두고 안착되도록 구성함으로써 그래핀 시트(300)와 마스크(400)를 정렬핀(142) 상에 안착시키는 초기 동작 시에 그래핀 시트(300)와 마스크(400)가 정렬되지 않은 상태에서 서로 접촉되어 위치가 틀어지는 것을 방지할 수 있게 된다.As described above, the jig plate 200 is in close contact with the upper surface of the main body 110 of the vacuum unit 100, and is seated on the alignment plate 142 on the alignment pin 142 to the upper side of the jig plate 200. The graphene sheet 300 and the mask 400 are not aligned in the initial operation of seating the graphene sheet 300 and the mask 400 on the alignment pins 142 by configuring the 400 to be seated at a vertical interval. It is possible to prevent the position is shifted by contacting each other in the non-state.

정렬핀(142) 상에 그래핀 시트(300)와 마스크(400)가 서로 이격된 상태로 안착되면, 다음 단계로 진공 유니트(100)에 구비된 진공흡착기(130)의 배기량을 조절하면서 업다운 실린더(140)를 동작시켜 로드(141)를 아래 방향으로 당겨 정렬핀(142)을 하강시킨다(S40). When the graphene sheet 300 and the mask 400 are seated on the alignment pin 142 while being spaced apart from each other, the up-down cylinder may be adjusted while adjusting the displacement of the vacuum absorber 130 provided in the vacuum unit 100 in the next step. Operating the 140 to pull the rod 141 in the downward direction to lower the alignment pin 142 (S40).

이 경우 도 8에 도시된 바와 같이 로드(141)와 정렬핀(142)이 하강하면, 먼저 정렬핀(142)에서 그래핀 시트(300)가 분리되면서 지그 플레이트(200)의 상면에 그래핀 시트(300)가 정위치되어 안착된다.In this case, as shown in FIG. 8, when the rod 141 and the alignment pin 142 descend, the graphene sheet 300 is first separated from the alignment pin 142 and the graphene sheet is disposed on the top surface of the jig plate 200. 300 is seated in position.

그리고 로드(141)와 정렬핀(142)이 더욱 하강하게 되면, 도 9에 도시된 바와 같이 정렬핀(142)에서 마스크(400)가 분리되면서 그래핀 시트(300)의 상면에 마스크(400)가 정위치되어 안착된다.When the rod 141 and the alignment pin 142 are further lowered, as shown in FIG. 9, the mask 400 is separated from the alignment pin 142 and the mask 400 is disposed on the upper surface of the graphene sheet 300. Is seated in position.

이때, 진공흡착기(130)에서는 진공챔버(120) 내부의 공간이 진공상태가 되도록 진공챔버(120) 내부의 공기를 배기시킴으로써 지그 플레이트(200)에 다수로 천공된 기공(211)을 통해 공기가 아래방향으로 배기되어 그래핀 시트(300)는 지그 플레이트(200) 측으로 밀착되고, 지그 플레이트(200)에 구비된 자성체(230)와 마스크(400)의 금속판(410) 사이에 작용하는 자력(인력)에 의해 그래핀 시트(300)를 사이에 두고 지그 플레이트(200)와 마스크(400)가 밀착 고정된다.At this time, in the vacuum absorber 130, the air is discharged through the pores 211 punctured in the jig plate 200 by exhausting the air in the vacuum chamber 120 so that the space inside the vacuum chamber 120 becomes a vacuum state. Exhausted in the downward direction, the graphene sheet 300 is in close contact with the jig plate 200, and a magnetic force (gravity) acting between the magnetic body 230 provided in the jig plate 200 and the metal plate 410 of the mask 400. The jig plate 200 and the mask 400 are tightly fixed with the graphene sheet 300 interposed therebetween.

이와 같이 지그 플레이트(200) 상에 그래핀 시트(300)와 마스크(400)가 정렬된 상태로 고정된 어셈블리(500)가 만들어지면, 진공흡착기(130)의 작동을 중지하고 진공 유니트(100)에서 어셈블리(500)를 분리시켜 도 10에 도시된 바와 같이 플라즈마 식각장치(600)로 이송하여 플라즈마를 이용하여 마스크(400)에 형성된 패턴(430)에 따라 그래핀 시트(300) 상에 배선을 위한 패턴을 형성하게 된다.As such, when the assembly 500 is fixed on the jig plate 200 with the graphene sheet 300 and the mask 400 aligned, the operation of the vacuum absorber 130 is stopped and the vacuum unit 100 is stopped. In FIG. 10, the assembly 500 is separated, transferred to the plasma etching apparatus 600, and wires are formed on the graphene sheet 300 according to the pattern 430 formed on the mask 400 using plasma. To form a pattern.

도 10을 참조하면, 베이스(610) 상에는 양측으로 나란하게 이격되어 가이드레일(620)이 배치되고, 가이드레일(620)의 상면에는 리니어 구동장치(미도시됨)에 의해 가이드레일(620)을 따라 전후진 이송되는 이송플레이트(630)가 안착된다. Referring to FIG. 10, the guide rails 620 are disposed side by side on both sides of the base 610, and the guide rails 620 are disposed on the upper surface of the guide rail 620 by a linear driving device (not shown). Accordingly, the conveying plate 630 which is conveyed forward and backward is seated.

플라즈마 식각장치(600)의 양측부를 지지하는 지지대(640)는 베이스(610) 상에 고정되어 이송플레이트(630)의 상측으로 플라즈마 식각장치(600)가 위치하게 된다. 이송플레이트(630) 상에는 지그 플레이트(200)와 그래핀 시트(300) 및 마스크(400)의 어셈블리(500)가 안착된다. The support 640 supporting both sides of the plasma etching apparatus 600 is fixed on the base 610 so that the plasma etching apparatus 600 is positioned above the transfer plate 630. The assembly plate 500 of the jig plate 200, the graphene sheet 300, and the mask 400 is seated on the transfer plate 630.

플라즈마 식각장치(600)에서는 이송플레이트(630) 상에 안착되어 가이드레일(620)을 따라 전후진 이송되는 어셈블리(500)를 향하여 플라즈마를 공급하게 되고, 마스크(400)의 패턴(430)에 따라 그래핀 시트(300)의 그래핀(312)을 식각하여 특정 패턴을 형성하게 된다.In the plasma etching apparatus 600, the plasma is supplied to the assembly 500 which is seated on the transfer plate 630 and is conveyed forward and backward along the guide rail 620, and according to the pattern 430 of the mask 400. The graphene 312 of the graphene sheet 300 is etched to form a specific pattern.

특정의 패턴(430)이 형성된 마스크(400)를 이용하여 그래핀 시트(300) 상에 식각공정이 완료된 후에, 다른 마스크를 이용하여 다른 패턴을 형성하고자 하는 경우에는 이송플레이트(630)에서 어셈블리(500)를 분리하고 어셈블리(500)를 구성하는 지그 플레이트(200)와 그래핀 시트(300) 및 마스크(400)를 서로 분리하고, 전술한 바와 동일한 방법에 의해 후속 공정에 사용될 마스크와 그래핀 시트(400)의 정렬 및 식각공정을 진행하게 된다.After the etching process is completed on the graphene sheet 300 using the mask 400 on which the specific pattern 430 is formed, in order to form another pattern using another mask, the assembly (in the transfer plate 630) 500 and the jig plate 200 and the graphene sheet 300 and the mask 400 constituting the assembly 500 are separated from each other, and the mask and graphene sheet to be used in subsequent processes by the same method as described above. The alignment and etching process of 400 is performed.

도 11은 본 발명에 따른 그래핀 시트에 패턴을 형성하는 방법의 순서도를 나타낸 것으로, PET 시트(311)와 같은 기판 상에 그래핀(312) 박막을 증착하는 단계(S100), 전술한 방법에 의해 지그 플레이트(200)와 그래핀 시트(300) 및 마스크(400)를 정렬하는 단계(S200) 및 어셈블리(500)를 플라즈마 식각장치(600)로 이송하여 그래핀 시트(300) 상에 특정 패턴이 형성되도록 식각하는 단계(S300)로 구성된다. 11 is a flowchart illustrating a method of forming a pattern on a graphene sheet according to the present invention, and depositing a graphene 312 thin film on a substrate such as a PET sheet 311 (S100), in the above-described method. Arranging the jig plate 200 and the graphene sheet 300 and the mask 400 by the step (S200) and the assembly 500 is transferred to the plasma etching apparatus 600 by a specific pattern on the graphene sheet 300 Etching is formed to be formed (S300).

이와 같이 본 발명에서는 그래핀 시트(300)와 마스크(400)가 정위치에 정렬되도록 밀착 고정시키고, 플라즈마를 이용하여 특정 패턴의 식각공정을 수행함으로써, 종래 기판 상에 패턴 형성을 위한 식각공정과 달리 포토레지스트의 도포, 노광, 현상 및 포토레지스트의 박리 공정 등을 생략할 수 있게 되어 공정의 단순화 및 공정 시간 단축과 함께 재료비의 절감으로 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
As described above, in the present invention, the graphene sheet 300 and the mask 400 are tightly fixed to be aligned at a proper position, and an etching process for forming a pattern on a conventional substrate is performed by performing an etching process of a specific pattern using plasma. Otherwise, photoresist coating, exposure, development, and photoresist stripping process can be omitted, thereby simplifying the process, reducing the process time, and reducing the material cost, thereby improving product productivity.

100 : 진공 유니트 110 : 본체
120 : 진공챔버 121 : 관통구
130 : 진공흡착기 140 : 업다운 실린더
141 : 로드 142 : 정렬핀
200 : 지그 플레이트 210 : 기공판
211 : 기공 220 : 제1관통홀
230 : 자성체 300 : 그래핀 시트
311 : PET 시트 312 : 그래핀
320 : 제2관통홀 400 : 마스크
410 : 금속판 420 : 제3관통홀
430 : 패턴 500 : 어셈블리
600 : 플라즈마 식각장치 610 : 베이스
620 : 가이드레일 630 : 이송플레이트
640 : 지지대100: vacuum unit 110: main body
120: vacuum chamber 121: through hole
130: vacuum adsorber 140: up-down cylinder
141: rod 142: alignment pin
200: jig plate 210: pore plate
211: pore 220: the first through hole
230: magnetic material 300: graphene sheet
311: PET sheet 312: graphene
320: second through hole 400: mask
410: metal plate 420: third through hole
430: pattern 500: assembly
600: plasma etching apparatus 610: base
620: guide rail 630: feed plate
640: support

Claims (8)

그래핀 시트 상에 패턴 형성을 위한 마스크를 정위치시키기 위한 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치에 있어서,
본체(110)와, 그 중앙부에 형성된 진공챔버(120)와, 상기 진공챔버(120)에 진공을 형성하는 진공흡착기(130)와, 상기 본체(110)의 가장자리부에 복수로 구비되며 상기 본체(110)를 상하로 관통하여 승·하강되는 정렬핀(142)과, 상기 정렬핀(142)의 승·하강을 구동하는 업다운 실린더(140)를 구비하는 진공 유니트(100);
상기 진공챔버(120)의 상측으로 대응되는 부위에 일정 간격으로 다수의 기공(211)이 천공된 기공판(210)으로 이루어지고, 상기 기공판(210)의 가장자리부에는 상기 정렬핀(142)이 관통 삽입되는 복수의 제1관통홀(220)이 형성되어 상기 본체(110) 상에 안착되는 지그 플레이트(200);
상기 제1관통홀(220)에 대응되는 위치에 상기 제1관통홀(220)보다 작은 내경을 갖는 복수의 제2관통홀(320)이 형성되어 상기 정렬핀(142) 상에 안착되는 그래핀 시트(300); 및
상기 제2관통홀(320)에 대응되는 위치에 제2관통홀(320)보다 작은 내경을 갖는 제3관통홀(420)이 형성되어 상기 정렬핀(142) 상에 안착되는 마스크(400);
를 포함하되,
상기 정렬핀(142)은 구형으로 이루어지고, 상기 정렬핀(142)이 승강되어 상기 본체(110)의 상면에서 상측으로 돌출된 상태에서 상기 그래핀 시트(300)와 마스크(400)는 상기 정렬핀(142)의 외주면 상에 상하로 이격되어 안착되도록 상기 정렬핀(142)의 직경과 상기 제2관통홀(320)의 내경 및 상기 제3관통홀(420)의 내경이 설정되는 것을 특징으로 하는 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치.In the graphene sheet and the position alignment device of the mask for positioning the mask for forming the pattern on the graphene sheet,
A main body 110, a vacuum chamber 120 formed at a central portion thereof, a vacuum absorber 130 for forming a vacuum in the vacuum chamber 120, and a plurality of edge portions of the main body 110, A vacuum unit (100) having an alignment pin (142) for moving up and down through the (110) up and down, and an up-down cylinder (140) for driving up and down of the alignment pin (142);
Comprising a plurality of pores 211 perforated at a predetermined interval to the portion corresponding to the upper side of the vacuum chamber 120 is made of a perforated plate 210, the edge of the pore plate 210, the alignment pin 142 A plurality of first through holes 220 inserted therein and formed of a jig plate 200 seated on the main body 110;
Graphene is formed on the alignment pin 142 by forming a plurality of second through holes 320 having an inner diameter smaller than the first through holes 220 at positions corresponding to the first through holes 220. Sheet 300; And
A mask 400 formed on the alignment pin 142 by forming a third through hole 420 having an inner diameter smaller than the second through hole 320 at a position corresponding to the second through hole 320;
, ≪ / RTI &
The alignment pin 142 is formed in a spherical shape, and the graphene sheet 300 and the mask 400 is aligned in the state in which the alignment pin 142 is raised and protrudes upward from the upper surface of the main body 110. The diameter of the alignment pin 142 and the inner diameter of the second through hole 320 and the inner diameter of the third through hole 420 are set so as to be spaced up and down spaced on the outer circumferential surface of the pin 142. Position alignment device of the graphene sheet and the mask. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 정렬핀(142)의 하강 시, 상기 지그 플레이트(200) 상에 상기 그래핀 시트(300)와 마스크(400)는 순차로 밀착 고정되는 것을 특징으로 하는 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치.The method of claim 1,
When the alignment pin 142 is lowered, the graphene sheet and the mask on the jig plate 200, the mask 400, the position alignment device of the graphene sheet and the mask, characterized in that the tightly fixed in sequence. 제1항에 있어서,
상기 마스크(400)는 패턴(430)이 형성된 영역의 테두리가 금속판(410)으로 이루어지고, 상기 지그 플레이트(200)의 기공판(210)에는 자성체(230)가 부착된 것을 특징으로 하는 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 장치.The method of claim 1,
The mask 400 is a graphene, characterized in that the edge of the region where the pattern 430 is formed of a metal plate 410, the magnetic material 230 is attached to the pore plate 210 of the jig plate 200 Positioning device for sheets and masks. 삭제delete 그래핀 시트 상에 패턴 형성을 위한 마스크를 정위치시키기 위한 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 방법에 있어서,
진공 유니트(100)의 본체(110)의 가장자리부에 상기 본체(110)를 상하로 관통하여 승·하강 가능하게 구비되는 복수의 정렬핀(142)을 승강시킨 상태에서 상기 정렬핀(142)에 지그 플레이트(200)의 제1관통홀(220)이 끼워져 고정되도록 진공 유니트(100) 상에 지그 플레이트(200)를 안착시키는 단계;
상기 지그 플레이트(200)의 상측으로 상기 정렬핀(142) 상에 상기 제1관통홀(220)보다 작은 내경으로 형성된 그래핀 시트(300)의 제2관통홀(320)이 삽입되어 걸쳐지도록 그래핀 시트(300)를 안착시키는 단계;
상기 그래핀 시트(300)의 상측으로 상기 정렬핀(142) 상에 상기 제2관통홀(320)보다 작은 내경으로 형성된 마스크(400)의 제3관통홀(420)이 삽입되어 걸쳐지도록 마스크(400)를 안착시키는 단계; 및
상기 정렬핀(142)을 하강시켜 상기 지그 플레이트(200) 상에 그래핀 시트(300)와 마스크(400)를 순차로 밀착 고정하는 단계;를 포함하되,
상기 정렬핀(142)을 하강시키는 단계는, 진공 유니트(100)의 하부에 구비되는 진공흡착기(130)에서 배기량을 조정하여 다수의 기공(211)이 천공된 그래핀 시트(300)와 마스크(400)가 지그 플레이트(200) 상에 밀착 고정되도록 진공 흡입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 방법. In the graphene sheet and the alignment method of the mask for positioning the mask for forming the pattern on the graphene sheet,
To the alignment pin 142 in a state in which the plurality of alignment pins 142 provided to be able to move up and down by penetrating the main body 110 up and down at an edge portion of the main body 110 of the vacuum unit 100. Mounting the jig plate 200 on the vacuum unit 100 such that the first through hole 220 of the jig plate 200 is fitted into and fixed;
The second through hole 320 of the graphene sheet 300 formed with an inner diameter smaller than the first through hole 220 is inserted on the alignment pin 142 to the upper side of the jig plate 200. Seating the pin sheet 300;
On the alignment pin 142 to the upper side of the graphene sheet 300, a mask so that the third through-hole 420 of the mask 400 formed with an inner diameter smaller than the second through-hole 320 is inserted and spanned Seating 400); And
And lowering the alignment pins 142 in close contact with the graphene sheet 300 and the mask 400 sequentially on the jig plate 200.
The step of lowering the alignment pin 142, the graphene sheet 300 and the mask having a plurality of pores 211 perforated by adjusting the displacement in the vacuum adsorber 130 provided at the bottom of the vacuum unit 100 ( And vacuum suction so that 400 is tightly fixed on the jig plate 200. 제6항에 있어서,
상기 지그 플레이트(200)의 상면 가장자리에 자성체(230)가 부착되도록 구비하고, 금속 재질로 이루어진 마스크(400)가 그래핀 시트(300)를 사이에 두고 상기 지그 플레이트(200)에 자력에 의해 밀착 고정되도록 하는 것을 특징으로 하는 그래핀 시트와 마스크의 위치 정렬 방법. The method according to claim 6,
The magnetic body 230 is attached to the upper edge of the jig plate 200, and the mask 400 made of a metal material adheres to the jig plate 200 by magnetic force with the graphene sheet 300 interposed therebetween. Positioning method of the graphene sheet and the mask, characterized in that to be fixed. PET 시트(311) 상에 그래핀(312)을 증착하여 그래핀 시트(300)를 형성하는 단계;
상기 제6항 또는 제7항에 기재된 그래핀 시트(300)와 마스크(400)의 위치 정렬 방법에 의해 지그 플레이트(200) 상에 그래핀 시트(300)와 마스크(400)가 정위치되어 밀착 고정된 어셈블리(500)를 형성하는 단계;
상기 어셈블리(500)를 플라즈마 식각장치(600)로 이송하고 마스크(400)의 특정 패턴에 따라 그래핀 시트(300)를 식각하여 패턴을 형성하는 단계;
를 포함하는 그래핀 시트에 패턴을 형성하는 방법.Depositing graphene 312 on the PET sheet 311 to form a graphene sheet 300;
The graphene sheet 300 and the mask 400 are positioned on the jig plate 200 by the method of aligning the graphene sheet 300 and the mask 400 according to claim 6 or 7 so as to be in close contact with each other. Forming a fixed assembly 500;
Transferring the assembly 500 to the plasma etching apparatus 600 and etching the graphene sheet 300 according to a specific pattern of the mask 400 to form a pattern;
Method of forming a pattern on the graphene sheet comprising a.
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