KR101358845B1 - 정전하상 현상용 토너, 정전하상 현상제, 토너 카트리지, 프로세스 카트리지, 및 화상 형성 장치 - Google Patents

정전하상 현상용 토너, 정전하상 현상제, 토너 카트리지, 프로세스 카트리지, 및 화상 형성 장치 Download PDF

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Abstract

형상 계수 SF1이 110 이상이며 결착 수지를 함유하는 토너 입자와, 상기 토너 입자에 부착한 외첨제의 입자를 함유하고,
상기 외첨제의 입자는, 제1 입자와, 상기 제1 입자에 부착하며, 1차 입경이 상기 제1 입자의 0.2배 이상 0.5배 이하인 제2 입자를 함유하여 구성되고,
상기 외첨제의 입자를 현미경에 의해 관측하여 얻어진 화상에서, 상기 제1 입자의 투영 면적을 S1, 상기 제1 입자에 가려져 있지 않은 상기 제2 입자의 투영 면적의 합계를 S2라 했을 때, S2는 S1의 0.1배 이상 0.5배 이하인, 정전하상 현상용 토너를 제공한다.

Description

정전하상 현상용 토너, 정전하상 현상제, 토너 카트리지, 프로세스 카트리지, 및 화상 형성 장치{TONER FOR DEVELOPING ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE, ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPER, TONER CARTRIDGE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS}
본 발명은, 정전하상 현상용 토너, 정전하상 현상제, 토너 카트리지, 프로세스 카트리지, 및 화상 형성 장치에 관한 것이다.
일본 특개2007-279400공보에는, 무기 입자의 개수평균 입경이 80nm∼150nm이며, 주사형 프로브 현미경으로 측정되는 토너 입자의 평균 골깊이가 120nm∼200nm이며, 또한, 토너 입자의 평균 골깊이와 X 방향의 요철 평균 간격이 특정한 관계를 갖는 토너가 개시되어 있다.
본 발명은, 하기 제2 입자의 투영 면적의 비율이 하기 범위에서 벗어나는 경우에 비교하여, 전사 효율의 저하가 억제되는 정전하상 현상용 토너를 제공하는 것이다.
상기 과제는, 이하의 수단에 의해 해결된다. 즉,
<1> 형상 계수 SF1이 110 이상이며 결착 수지를 함유하는 토너 입자와, 상기 토너 입자에 부착한 외첨제의 입자를 함유하고,
상기 외첨제의 입자는, 제1 입자와, 상기 제1 입자에 부착하며, 1차 입경이 상기 제1 입자의 0.2배 이상 0.5배 이하인 제2 입자를 함유하여 구성되고,
상기 외첨제의 입자를 현미경에 의해 관측하여 얻어진 화상에서, 상기 제1 입자의 투영 면적을 S1, 상기 제1 입자에 가려져 있지 않은 상기 제2 입자의 투영 면적의 합계를 S2라 했을 때, S2는 S1의 0.1배 이상 0.5배 이하인, 정전하상 현상용 토너이다.
<2> 상기 제1 입자의 1차 입경은 80nm 이상 500nm 이하인, <1>에 기재된 정전하상 현상용 토너이다.
<3> 상기 외첨제의 입자는, 1차 입경이 상기 제1 입자의 1차 입경의 0.35배 이상 0.5배 이하인 상기 제2 입자를 함유하는, <1> 또는 <2>에 기재된 정전하상 현상용 토너이다.
<4> 상기 토너 입자의 형상 계수 SF1이 110 이상 140 이하인, <1>∼<3>에 기재된 정전하상 현상용 토너.
<5> 상기 제1 입자의 형상 계수 SF1이 100 이상 130 이하인, <1>∼<4>에 기재된 정전하상 현상용 토너.
<6> 상기 제1 입자 및 제2 입자가 각각 졸겔법에 의해 제작된, <1>∼<5>에 기재된 정전하상 현상용 토너.
<7> 상기 결착 수지가 폴리에스테르 수지인, <1>∼<6>에 기재된 정전하상 현상용 토너.
<8> 상기 결착 수지의 유리 전이 온도가 35℃ 이상 100℃ 이하인, <1>∼<7>에 기재된 정전하상 현상용 토너.
<9> 상기 결착 수지가 비스페놀A에틸렌옥사이드 부가물 및 비스페놀A프로필렌옥사이드 부가물에 유래하는 구성 단위를 포함하는 폴리에스테르 수지인, <1>∼<8>에 기재된 정전하상 현상용 토너.
<10> 상기 토너 입자가 이형제를 함유하고, 상기 이형제가 토너 입자의 1질량% 이상 10질량% 이하의 범위로 함유되는, <1>∼<9>에 기재된 정전하상 현상용 토너.
<11> 상기 이형제의 ASTMD3418-8에 준거하여 측정된 주체 흡열 피크 온도가 50℃ 이상 140℃ 이하의 범위인, <10>에 기재된 정전하상 현상용 토너.
<12> 상기 이형제의 160℃에서의 점도 η1이 20cps 이상 600cps 이하인, <10> 또는 <11>에 기재된 정전하상 현상용 토너.
<13> 상기 이형제가 파라핀 왁스인, <10>∼<12>에 기재된 정전하상 현상용 토너.
<14> <1>∼<13>에 기재된 정전하상 현상용 토너와 캐리어를 함유하는 정전하상 현상제이다.
<15> 상기 캐리어가 페라이트 입자를 함유하는, <14>에 기재된 정전하상 현상제.
<16> 상기 캐리어가 수지 피복 캐리어이며, 상기 수지 피복 캐리어의 수지 내에 카본 블랙을 함유하는, <14> 또는 <15>에 기재된 정전하상 현상제.
<17> 상기 캐리어가 수지 피복 캐리어이며, 상기 수지 피복 캐리어의 수지 내에 멜라민 수지 입자를 함유하는, <14>∼<16>에 기재된 정전하상 현상제.
<18> <1>∼<13>에 기재된 정전하상 현상용 토너를 수납하며, 화상 형성 장치에 착탈되는 토너 카트리지이다.
<19> <14>∼<17>에 기재된 정전하상 현상제를 수납하며, 잠상 유지체 위에 형성된 정전잠상을 상기 정전하상 현상제에 의해 현상하여 토너상을 형성하는 현상 수단을 구비하며,
화상 형성 장치에 착탈로 장착되는 프로세스 카트리지이다.
<20> 잠상 유지체와,
상기 잠상 유지체의 표면에 정전잠상을 형성하는 정전잠상 형성 수단과,
<14>∼<17>에 기재된 정전하상 현상제를 수납하며, 상기 잠상 유지체의 표면에 형성된 상기 정전잠상을 상기 정전하상 현상제에 의해 현상하여 토너상을 형성하는 현상 수단과,
상기 잠상 유지체의 표면에 형성된 상기 토너상을 피전사체 위에 전사하는 전사 수단
을 구비하는 화상 형성 장치이다.
<1>에 따른 발명에 의하면, 상기 제2 입자의 투영 면적의 비율이 상기 범위에서 벗어나는 경우에 비교하여, 전사 효율의 저하가 억제된다.
<2>에 따른 발명에 의하면, 제1 입자의 1차 입경이 상기 범위에서 벗어나는 경우에 비교하여, 전사 효율이 향상한다.
<3>에 따른 발명에 의하면, 제1 입자의 1차 입경에 대한 제2 입자의 1차 입경의 비가 상기 범위에서 벗어나는 경우에 비교하여, 전사 효율의 저하가 억제된다.
<4>∼<13>에 따른 발명에 의하면, 전사 효율의 저하에 기인하는 화상 농도의 저하가 억제된다.
<14>∼<20>에 따른 발명에 의하면, 상기 제2 입자의 투영 면적의 비율이 상기 범위에서 벗어나는 경우에 비교하여, 전사 효율의 저하에 기인하는 화상 농도의 저하가 억제된다.
도 1은 본 실시 형태의 토너에 함유되는 외첨제 입자의 일례를 나타내는 모식도.
도 2는 본 실시 형태의 토너에 함유되는 외첨제 입자의 다른 일례를 나타내는 모식도.
도 3은 본 실시 형태의 화상 형성 장치의 일례를 나타내는 개략 구성도.
도 4는 본 실시 형태의 프로세스 카트리지의 일례를 나타내는 개략 구성도.
이하, 본 발명의 정전하상 현상용 토너, 정전하상 현상제, 토너 카트리지, 프로세스 카트리지, 및 화상 형성 장치의 실시 형태에 대해 상세하게 설명한다.
<정전하상 현상용 토너>
본 실시 형태에 따른 정전하상 현상용 토너(이하, 단지 「토너」라 한다)는, 형상 계수 SF1이 110 이상이며 결착 수지를 함유하는 토너 입자와, 상기 토너 입자에 부착한 외첨제 입자를 함유하여 구성되어 있다.
또한 상기 외첨제 입자는, 제1 입자와, 상기 제1 입자에 부착하며, 1차 입경이 상기 제1 입자의 0.2배 이상 0.5배 이하인 제2 입자를 함유하여 구성되고, 상기 외첨제의 입자를 현미경에 의해 관측하여 얻어진 화상에서, 상기 제1 입자의 투영 면적을 S1, 상기 제1 입자에 가려져 있지 않은 상기 제2 입자의 투영 면적의 합계를 S2라 했을 때, S2는 S1의 0.1배 이상 0.5배 이하이다.
이하, 상기 제1 입자의 투영 면적 S1에 대한, 제1 입자에 가려져 있지 않은 제2 입자의 투영 면적의 합계 S2의 비(S2/S1의 값)를 「면적비」라 하는 경우가 있다.
여기서, 도 1에, 본 실시 형태의 토너에 함유되는 외첨제 입자의 일례를 나타내는 모식도를 나타낸다. 또한 도 2에, 본 실시 형태의 토너에 함유되는 외첨제 입자의 다른 일례를 나타내는 모식도를 나타낸다.
도 1에 나타낸 외첨제 입자(210)는, 예를 들면, 제1 입자(212)와, 제1 입자(212)에 부착한 복수의 제2 입자(214)로 구성되어 있다. 도 1의 외첨제 입자(210)에 있어서는, 1차 입경이 동일한 적어도 6개의 제2 입자(214)가, 제1 입자(212)의 표면에 부착하여 있는 것이, 도 1에 표시되어 있다. 그리고, 제2 입자(214)의 1차 입경(도 1 중에 표시된 R2)은, 제1 입자(212)의 1차 입경(도 1 중에 표시된 R1)의 0.2배 이상 0.5배 이하이며, 도 1에는 일례로서, R2가 모두 R1의 0.25배인 외첨제 입자(210)가 표시되어 있다.
또한 도 1의 외첨제 입자(210)에 있어서는, 제1 입자(212) 및 제2 입자(214)가 모두 구형이기 때문에, 제1 입자(212)의 투영 면적 S1은, 직경이 R1인 원의 면적의 값이 된다. 또한, 도 1의 외첨제 입자(210)에 있어서는, 제1 입자(212)에 가려져 있지 않은 제2 입자(214)는 5개 존재한다(즉, 도 1에 표시되어 있는 제2 입자(214) 중 1개는, 그 일부가 제1 입자(212)에 가려져 있다). 그 때문에, 제2 입자(214)의 투영 면적의 합계 S2는, 직경이 R2인 원의 면적의 5배의 값이 된다. 그리고 외첨제 입자(210)에서는, 상기와 같이 R2가 모두 R1의 0.25배이기 때문에, 면적비(S2/S1)는 0.31배(즉 0.1배 이상 0.5배 이하의 범위 내)가 된다.
한편, 도 2에 나타낸 외첨제 입자(220)는, 도 1의 외첨제 입자(210)와 같이, 제1 입자(222)와, 제1 입자(222)에 부착한 복수의 제2 입자(224)로 구성되어 있다. 단, 제2 입자(224)는, 1차 입경이 다른 2종류의 입자(제2 입자(224A) 및 제2 입자(224B))를 함유하여 구성되어 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 도 1에 있어서의 제2 입자(214)보다도 입경이 큰 제2 입자(224A)와, 제2 입자(214)보다도 입경이 작은 제2 입자(224B)를 함유한다. 또, 도 2에는 일례로서, 제2 입자(224A)의 1차 입경 R2가 R1의 0.5배이며, 제2 입자(224B)의 1차 입경 R2가 R1의 0.2배인 외첨제 입자(220)가 표시되어 있다.
도 2의 외첨제 입자(220)에서도, 제1 입자(222) 및 제2 입자(224)가 모두 구형이기 때문에, 제1 입자(222)의 투영 면적 S1은, 직경이 R1인 원의 면적의 값이 된다. 또한, 제1 입자(222)에 가려져 있지 않은 제2 입자(224)는, 제2 입자(224A)가 1개와 제2 입자(224B)가 2개이기(즉, 도 2에 나타낸 제2 입자(224B) 중 1개는, 그 일부가 제1 입자(222)에 가려져 있다) 때문에, 제2 입자(224)의 투영 면적의 합계 S2는, 그들의 원의 면적의 합계의 값이 된다. 그리고 외첨제 입자(220)에서는, 상기와 같이 제2 입자(224A)의 R2가 R1의 0.5배이며, 제2 입자(224B)의 R2가 R1의 0.2배이기 때문에, 면적비(S2/S1)는 0.33(즉 0.1배 이상 0.5배 이하의 범위 내)이 된다.
또, 도 2의 외첨제 입자(220)는, 도 1의 외첨제 입자(210)에 비해, 제2 입자(224)의 개수는 적지만, R2가 큰 제2 입자(224A)를 함유하고 있기 때문에 면적비의 값은 커져 있다. 즉, 면적비의 값이 상기 범위인 외첨제 입자에 있어서는, 입경이 큰 제2 입자를 함유하는 형태 쪽이, 입경이 작은 제2 입자만으로 구성되어 있는 형태에 비해, 제1 입자에 부착하는 제2 입자의 개수가 적어지는 경향에 있다고 생각된다.
또, 본 실시 형태의 토너에 사용되는 외첨제 입자는, 면적비가 상기 범위이면 상기 형태에 제한되지 않고, 예를 들면 1개의 외첨제 입자에 함유되는 제2 입자의 개수가 1개이어도 좋고, 복수이어도 좋다. 또한 상기와 같이, 제2 입자의 1차 입경이 1종만이어도 좋고, 2종 이상 존재해도 좋다. 또한, 도 1 및 도 2에 있어서는, 제1 입자 및 제2 입자가 구형의 입자인 형태에 대해 설명했지만, 면적비가 상기 범위이면 이것에 제한되지 않고, 예를 들면 개개의 입자가 요철을 가져도 좋고, 일그러진 형상이어도 좋다.
이하, 부호를 생략하여 설명하는 경우가 있다.
본 실시 형태의 토너는, 상기 외첨제 입자와, 형상 계수 SF1이 상기 범위의 토너 입자를 함유하기 때문에, 외첨제 입자의 상기 면적비가 상기 범위에서 벗어나는 경우에 비교하여, 전사 효율의 저하가 억제된다. 그 이유는 정확하지 않지만, 이하와 같이 추측된다.
예를 들면 저(低)에어리어 커버리지의 출력, 즉, 화상부의 면적의 비율이 작은(예를 들면, 화상부의 면적 및 비화상부의 면적의 합계에 대한 화상부의 면적의 비율이 1% 이하의) 화상의 형성이 연속으로 계속되었을 경우, 현상기 내의 토너가 교반에 의해 기계적인 스트레스를 받는다. 그와 같은 경우, 전사 효율을 올리기 위해서 외첨제 입자를 외첨한 토너를 사용하면, 상기 스트레스에 의해, 외첨제 입자가 토너 입자 표면 위를 이동한다. 특히, 외첨제 입자의 스페이서 효과를 올리기 위해서 입경이 큰 외첨제 입자를 사용하면, 입경이 작은 외첨제 입자를 사용한 경우에 비해, 외첨제 입자의 이동은 일어나기 쉽다고 생각되고 있다.
그리고, 클리닝성 향상이나 전사 효율의 향상을 목적으로 하여 형상 계수 SF1이 110 이상의 토너 입자를 사용하면, 토너 입자의 표면에 오목부가 존재하기 때문에, 상기 스트레스에 의해 이동한 외첨제 입자가, 토너 입자의 오목부에 들어가는 경우가 생각된다.
외첨제 입자가 토너 입자의 오목부에 들어가면, 외첨제 입자가 토너 입자의 오목부 내에 매몰해버리기 때문에, 스페이서의 역할을 다하게 하지 않아, 전사 효율이 저하하는 것이 생각된다.
한편, 본 실시 형태에 있어서는, 외첨제 입자가 상기 제1 입자 및 제2 입자를 함유하여 구성되고, 또한 면적비가 상기 범위이기 때문에, 외첨제 입자 전체의 형상이 일그러져, 구르기 어려운 형상이기 때문에, 제1 입자에 부착한 제2 입자에 의해 상기 오목부 내로의 매몰이 저해된다고 생각된다. 그 때문에, 외첨제 입자의 스페이서 효과가 유지되어, 전사 효율의 저하가 억제된다고 생각된다.
즉 본 실시 형태에서는, 예를 들면 면적비가 상기 범위보다도 작은 경우와 같이, 제1 입자에 부착하는 제2 입자가 너무 적어 상기 매몰 저해 효과가 얻어지기 어려운 경우에 비해, 상기 매몰이 억제되기 쉬워, 상기 전사 효율의 저하가 억제된다고 생각된다. 또한, 예를 들면 면적률이 상기 범위보다도 큰 경우와 같이, 제1 입자에 부착하는 제2 입자가 너무 커 외첨제 입자가 전체로서 구형과 같은 거동을 나타내는 경우에 비해, 구르기 어려움에 의해 상기 매몰이 억제되어, 상기 전사 효율의 저하가 억제된다고 생각된다.
여기서, 상기 제1 입자의 1차 입경은, 예를 들면 주사형 전자 현미경(SEM)에 의해 외첨제 입자를 관찰하여 얻어진 화상을, 화상 해석 장치에 의해, 이하와 같이 해석하여 구해진다.
구체적으로는, 예를 들면, 슬라이드 유리 표면에 산포한 외첨제 입자 1개에 대해 얻어진 광학 현미경상을, 비디오 카메라를 통해 루젝스 화상 해석 장치에 취입(取入)한다. 그 화상으로부터, 최대경의 원형 입자에 대해 외연(外緣)을 추출하여, 중심으로부터의 거리를 상기 제1 입자의 입경으로 한다.
또, 토너 입자에 부착한 외첨제 입자에 대해 제1 입자의 1차 입경을 측정하는 경우도, 마찬가지로, 주사형 전자 현미경(SEM)으로 토너 표면의 외첨제를 관찰하여 얻어진 화상을, 루젝스 화상 해석 장치에 취입하고, 그 화상으로부터 최대경의 원형 입자에 대해 외연을 추출하여, 중심으로부터의 거리를 상기 제1 입자의 입경으로 한다.
또한, 제2 입자의 1차 입경에 대해서도, 상기 제1 입자의 1차 입경과 같은 방법으로 얻어진다. 그리고, 1개의 외첨제 입자에 있어서, 제1 입자에 부착한 입자 중, 그 입자가 부착한 제1 입자의 1차 입경의 0.2배 이상 0.5배 이하의 1차 입경을 갖는 입자를, 제2 입자라고 정의한다.
또, 토너 중에 함유되는 외첨제에 대해, 제1 입자에 있어서의 1차 입경의 값을 논의하는 경우는, 외첨제 입자 100개에 대해 상기 방법에 의해 제1 입자의 1차 입경을 구하여 평균한 값(이하, 평균에 의해 구해진 제1 입자의 1차 입경의 값을 「R1(nm)」라 하는 경우가 있다)을 사용한다.
상기 면적비를 구하는 방법으로서는, 예를 들면 상기 1차 입경의 측정과 같이, 주사형 전자 현미경(SEM)에 의해 외첨제 입자 1개를 관찰하여 얻어진 화상을, 화상 해석 장치에 의해 해석하여, 제1 입자의 투영 면적 S1과, 제1 입자에 가려져 있지 않은 제2 입자의 투영 면적 S2를 구하고, 그 비(S2/S1)를 산출한다. 구체적으로는, 예를 들면, 슬라이드 유리 표면에 산포한 외첨제 입자 1개의 광학 현미경상을, 비디오 카메라를 통해 루젝스 화상 해석 장치에 취입하여, 외첨제 입자 1개에 대해 상기 투영 면적의 비를 구한다. 또, 토너 중에 함유되는 외첨제에 대해, 상기 「면적비」의 값을 논의하는 경우는, 100개의 외첨제 입자에 대해 상기 투영 면적의 비(S2/S1)를 구하고, 평균하여 얻어진 값을 사용한다.
또한, 상기 제1 입자의 투영 면적 S1은, 제2 입자와 겹친 영역도 포함하는 값이다. 예를 들면 제1 입자에 있어서의 외연이 제2 입자에 의해 가려져 있는 경우는, 상기 제1 입자의 입경을 측정하는 경우와 같이, 주사형 전자 현미경(SEM) 관찰에 의해 얻어진 화상을, 루젝스 화상 해석 장치에 취입하고, 그 화상으로부터 최대경의 원형 입자에 대해 외연을 추출함으로써 제1 입자의 외연을 구하고, 가려진 부분을 포함한 투영 면적을 구한다.
본 실시 형태에서는, 상기 면적비는 상기와 같이 0.1배 이상 0.5배 이하이지만, 0.2배 이상 0.5배 이하가 바람직하고, 0.3배 이상 0.5배 이하가 보다 바람직하다.
또한, 상기 형상 계수 SF1은, 예를 들면 현미경 화상 또는 주사 전자 현미경 화상을 화상 해석 장치에 의해 해석함으로써 수치화된다. 구체적으로는, 예를 들면, 형상 계수 SF1의 측정은, 우선, 슬라이드 유리 위에 산포한 토너의 광학 현미경상을, 비디오 카메라를 통해 루젝스 화상 해석 장치에 취입하고, 50개 이상의 토너 입자에 대해 하기식의 SF1을 계산하여, 평균값을 구함으로써 얻어진다.
식 : SF1=(ML2/A)×(π/4)×100
여기서 ML은 입자의 절대 최대 길이, A는 입자의 투영 면적이다.
또, 본 실시 형태에 있어서는, 토너 입자의 형상 계수 SF1은 110 이상이며, 바람직하게는 110 이상 150 이하이며, 보다 바람직하게는 110 이상 140 이하이다.
본 실시 형태에서는, 상기 R1(nm)이 80nm 이상 500nm 이하인 것이 바람직하다. R1(nm)이 상기 범위임으로써, 상기 범위에서 벗어나는 경우에 비해 전사 효율이 향상한다. R1(nm)이 상기 범위이면, R1(nm)이 상기 범위보다 작은 경우에 비해 외첨제 입자의 스페이서 효과가 크고, 상기 범위보다 큰 경우에 비해 외첨제 입자가 토너 입자로부터 탈리하는 것이 억제되기 때문이라고 생각된다.
본 실시 형태에 있어서의 상기 R1(nm)은, 100nm 이상 400nm 이하가 보다 바람직하고, 150nm 이상 300nm 이하가 더욱 바람직하다.
본 실시 형태에서는, 제2 입자가, 제1 입자의 1차 입경의 0.35배 이상 0.5배 이하인 1차 입경을 갖는 입자(이하 「특정 입경 입자」라 하는 경우가 있다)를 함유하는 것이 바람직하다. 또, 도 1 및 도 2에 기재된 외첨제 입자(210 및 220)에 함유되는 제2 입자(214 및 224) 중, 제2 입자(224A)가 상기 특정 입경 입자에 상당한다.
또, 특정 입경 입자를 함유하는 형태에 있어서도, 제2 입자의 1차 입경 및 면적비가 상기 조건을 만족시키는 것이면, 제2 입자가 특정 입경 입자 1개만이어도 좋고, 특정 입경 입자가 복수이어도 좋고, 특정 입경 입자와 그 이외의 제2 입자를 함유하는 것이어도 좋다.
본 실시 형태에서는, 상기와 같이 제2 입자가 특정 입경 입자를 함유함으로써, 특정 입경 입자를 함유하지 않는 경우에 비해, 토너가 기계적인 스트레스를 받아 외첨제 입자가 토너 입자에 매몰하는 것에 기인하는 전사 효율의 저하가 억제된다. 그 이유는 정확하지 않지만, 제2 입자의 1차 입경 및 면적비가 상기 조건을 만족시키는 외첨제 입자에 있어서는, 특정 입경 입자를 함유하는 쪽(예를 들면 도 2에 나타내는 외첨제 입자(220))이, 특정 입경 입자를 함유하지 않는 경우(예를 들면 도 1에 나타내는 외첨제 입자(210))에 비해, 제2 입자가 편재하기 쉬워, 외첨제 입자 전체로서의 형상이 일그러진다고 생각된다. 그 때문에, 특정 입경 입자를 함유하는 외첨제 입자 쪽이 구르기 어려워, 토너 입자의 오목부에 들어가도 최밀(最密) 충전되기 어렵기 때문에, 오목부로부터 밖으로 나가기 쉬워 전사 효율의 저하가 억제되는 것으로 추측된다.
또, 특정 입경 입자의 1차 입경은, 상기와 같이 제1 입자의 1차 입경의 0.35배 이상 0.5배 이하가 바람직하고, 0.4배 이상 0.5배 이하가 보다 바람직하다.
이하, 본 실시 형태에 따른 토너의 각 성분에 대해 설명한다.
본 실시 형태의 토너는, 토너 입자와 외첨제 입자를 적어도 함유한다. 또한 외첨제 입자는, 제1 입자와 제2 입자를 적어도 함유하고, 필요에 따라 다른 성분을 함유해도 좋다. 구체적으로는, 외첨제 입자는, 제1 입자의 1차 입경의 0.2배 이상 0.5배 이하의 1차 입경인 제2 입자에 있어서의 상기 면적비가 상기 범위이면 좋고, 예를 들면 제2 입자에 더하여 그 밖의 입자(1차 입경이 제1 입자의 1차 입경의 0.2배 미만의 입자, 또는, 1차 입자가 제1 입자의 1차 입경의 0.5배보다도 큰 입자)가 제1 입자에 부착하여 있어도 좋다.
-외첨제 입자-
제1 입자로서는, 예를 들면, 산화규소, 산화알루미늄, 산화아연, 산화티탄, 산화주석, 산화철 등의 무기 산화물 입자를 들 수 있다. 제1 입자에 있어서의 형상 계수 SF1은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 100 이상 130 이하의 범위를 들 수 있다. 제1 입자에 있어서의 형상 계수 SF1의 측정 방법으로서는, 예를 들면 상기 토너 입자에 있어서의 형상 계수 SF1의 측정 방법과 같은 방법이 사용된다.
또한 제2 입자로서는, 상기 제1 입자의 구체예와 같은 것을 들 수 있다.
또, 제1 입자와 제2 입자는, 동종의 것이어도 좋고, 이종(異種)의 것이어도 좋다. 또한, 제2 입자는 1종이어도 좋고, 복수종이어도 좋다.
-외첨제 입자의 제조 방법-
상기와 같은 외첨제 입자를 제조하는 방법으로서는, 예를 들면, 제1 입자 및 제2 입자를 각각 제조한 후에, 제1 입자의 표면에 제2 입자를 부착시키는 방법 등을 들 수 있다.
제1 입자의 제조 방법은, 특별히 한정되지 않고, 사용하는 재료에 따라 선택된다. 예를 들면 제1 입자가 무기 산화물 입자인 경우, 구체적으로는, 예를 들면, 졸겔법이나 연소법 등을 들 수 있다. 또한, 제1 입자 및 제2 입자를 각각 제조한 후에 부착시키는 경우, 제2 입자의 제조 방법은 제1 입자의 제조 방법과 같다.
제1 입자 및 제2 입자를 각각 제조한 후에, 제1 입자의 표면에 제2 입자를 부착시키는 방법으로서는, 예를 들면, 실리카의 분산액이나 졸을, 고온도 하에서 수(水)열처리하는 방법을 사용할 수 있다.
제1 입자의 1차 입경이나 제2 입자의 1차 입경을 제어하는 방법으로서는, 예를 들면 졸겔법을 사용하는 경우, 제1 입자 및 제2 입자에 사용하는 졸겔 입자의 입경을 조정하는 방법 등을 들 수 있다. 졸겔 실리카 입자의 입경은, 졸겔법의 가수 분해, 축중합 공정의 알콕시실란, 암모니아, 알코올, 물의 중량비, 반응 온도, 교반 속도, 공급 속도에 따라 자유롭게 제어할 수 있다. 구체적으로는, 테트라메톡시실란을 물, 알코올의 존재 하, 암모니아수를 촉매로 하여 온도를 걸면서 적하, 교반을 행한다. 다음으로, 반응에 의해 얻어진 실리카졸 현탁액의 원심 분리를 행하여, 습윤 실리카겔과 알코올과 암모니아수로 분리한다.
또한, 외첨제 입자의 상기 면적비를 제어하는 방법으로서는, 예를 들면, 상기 방법에 의해 제1 입자 및 제2 입자의 1차 입경을 제어함과 함께, 제1 입자에 대한 제2 입자의 농도를 조정하는 방법 등을 들 수 있다.
-토너 입자-
다음으로, 토너 입자에 대해 설명한다.
토너 입자는, 적어도 결착 수지를 함유하고, 필요에 따라, 착색제, 이형제, 다른 첨가제 등을 함유하여 구성되어 있어도 좋다.
결착 수지에 대해 설명한다.
결착 수지는, 토너 입자를 구성하는 성분 중, 50질량% 이상 90질량% 이하의 범위에서 사용하는 것이 좋다.
결착 수지는, 공지의 수지 재료를 들 수 있지만, 폴리에스테르 수지가 특히 바람직하다. 폴리에스테르 수지로서는, 주로 다가 카르복시산류와 다가 알코올류와의 축중합에 의해 얻어지는 것이다.
폴리에스테르 수지는 상기 다가 알코올과 다가 카르복시산을 통상의 방법에 따라 축합 반응시킴으로써 제조하는 것이 좋다. 예를 들면, 상기 다가 알코올과 다가 카르복시산, 필요에 따라 촉매를 넣고, 온도계, 교반기, 유하식(流下式) 콘덴서를 구비한 반응 용기에 배합하여, 불활성 가스(질소 가스 등)의 존재 하, 150℃ 이상 250℃ 이하로 가열하여, 부생(副生)하는 저분자 화합물을 연속적으로 반응계 외로 제거하여, 특정한 산가에 달한 시점에서 반응을 정지시키고, 냉각하여, 목적으로 하는 반응물을 취득함으로써 제조하는 것이 좋다.
여기서, 결착 수지는, 테트라히드로푸란(THF) 가용분의 겔투과 크로마토그래피(GPC)법에 의한 분자량 측정으로, 중량평균 분자량(Mw)이 5000 이상 1000000 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 7000 이상 500000 이하이며, 수평균 분자량(Mn)은 2000 이상 10000 이하인 것이 바람직하고, 분자량 분포 Mw/Mn이 1.5 이상 100 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 2 이상 60 이하이다.
이 중량평균 분자량은, THF 가용물을, 도소제 GPC·HLC-8120, 도소제 칼럼·TSKgel SuperHM-M(15cm)을 사용하여, THF 용매에서 측정하고, 단분산 폴리스티렌 표준 시료에 의해 제작한 분자량 교정 곡선을 사용하여 분자량을 산출한 것이다.
결착 수지의 유리 전이 온도는, 35℃ 이상 100℃ 이하인 것이 바람직하고, 50℃ 이상 80℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.
또, 상기 결착 수지의 유리 전이 온도는, 상기 시차 주사 열량 측정(DSC)에 의해 얻어진 흡열 피크의 피크 온도로서 구했다.
또한 결착 수지의 연화점은 80℃ 이상 130℃ 이하의 범위에 존재하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 90℃ 이상 120℃ 이하의 범위이다.
결착 수지의 연화점의 측정은 플로우 테스터(시마즈사제 : CFT-500C), 예열 : 80℃/300sec, 플런저(plunger) 압력 : 0.980665MPa, 다이 사이즈 : 1mmφ×1mm, 승온 속도 : 3.0℃/min의 조건 하에서의 용융 개시 온도와 용융 종료 온도와의 중간 온도를 가리킨다.
착색제에 대해 설명한다.
착색제로서는, 토너 입자를 구성하는 성분 중, 2질량% 이상 15질량% 이하의 범위에서 사용해도 좋고, 바람직하게는 3질량% 이상 10질량% 이하의 범위이다.
착색제로서는, 공지의 유기 또는 무기의 안료나 염료, 또는 유용성(油溶性) 염료를 들 수 있다.
예를 들면 흑 안료로서는 카본 블랙, 자성분 등을 들 수 있다.
황색 안료로서는, 예를 들면, 한자 옐로우, 한자 옐로우10G, 벤지딘 옐로우G, 벤지딘 옐로우GR, 트렌 옐로우, 퀴놀린 옐로우, 퍼머넌트 옐로우NCG 등을 들 수 있다.
적색 안료로서는, 벵갈라, 왓청 레드, 퍼머넌트 레드4R, 리톨 레드, 브릴리언트 카민(Brilliant Carmine)3B, 브릴리언트 카민6B, 듀퐁 오일 레드, 피라졸론 레드, 로다민B 레이크, 레이크 레드C, 로즈벵갈, 에옥신 레드, 알리자린 레이크 등을 들 수 있다.
청색 안료로서는, 감청, 코발트 블루, 알칼리 블루 레이크, 빅토리아 블루 레이크, 패스트스카이 블루, 인단트렌 블루BC, 아닐린 블루, 울트라마린 블루, 칼코오일 블루, 메틸렌 블루 클로라이드, 프탈로시아닌 블루, 프탈로시아닌 그린, 말라카이트 그린 옥살레이트 등을 들 수 있다.
또한, 이들 착색제는, 혼합하여, 또한 고용체(固溶體)의 상태로 사용해도 좋다.
다음으로, 이형제에 대해 설명한다.
이형제는, 토너 입자를 구성하는 성분 중, 1질량% 이상 10질량% 이하의 범위에서 사용해도 좋고, 보다 바람직하게는 2질량% 이상 8질량% 이하의 범위이다.
이형제로서는, ASTMD3418-8에 준거하여 측정된 주체 흡열 피크 온도가 50℃ 이상 140℃ 이하의 범위 내에 있는 물질이 좋다.
주체 흡열 피크 온도의 측정에는, 예를 들면 퍼킨엘머사제의 DSC-7을 사용한다. 이 장치의 검출부의 온도 보정은 인듐과 아연과의 융해 온도를 이용하고, 열량의 보정에는 인듐의 융해열을 사용한다. 샘플은, 알루미늄제 팬을 사용하고, 대조용으로 공팬을 셋팅하여, 승온 속도 10℃/min로 측정을 행한다.
이형제의 160℃에서의 점도 η1은 20cps 이상 600cps 이하의 범위 내인 것이 좋다.
이형제의 구체적인 예로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부텐 등의 저분자량 폴리올레핀류; 가열에 의해 연화점을 갖는 실리콘류; 올레산아미드, 에루크산아미드, 리시놀레산아미드, 스테아르산아미드 등의 지방산아미드류; 카나우바 왁스, 라이스 왁스, 칸델릴라 왁스, 목랍, 호호바 오일 등의 식물계 왁스; 밀랍과 같은 동물계 왁스; 몬탄 왁스, 오조케라이트, 세레신, 파라핀 왁스, 마이크로크리스탈린 왁스, 피셔-트롭쉬 왁스 등의 광물; 석유계 왁스, 및 그들의 변성물을 들 수 있다.
기타 첨가제에 대해 설명한다.
기타 첨가제로서는, 내첨제, 대전 제어제, 무기 분체(무기 입자), 유기 입자 등의 여러가지 성분을 들 수 있다.
내첨제로서는, 예를 들면, 페라이트, 마그네타이트, 환원철, 코발트, 니켈, 망간 등의 금속, 합금, 또는 이들 금속을 함유하는 화합물 등의 자성체 등을 들 수 있다.
무기 입자로서는, 산화규소 입자, 산화티탄 입자, 알루미나 입자, 산화세륨 입자, 혹은 이들의 표면을 소수화 처리한 입자 등, 공지의 무기 입자를 들 수 있다. 이들 무기 입자는, 여러가지 표면 처리를 실시해도 좋고, 예를 들면 실란계 커플링제, 티탄계 커플링제, 실리콘 오일 등으로 표면 처리한 것이 좋다.
다음으로, 토너 입자의 특성에 대해 설명한다.
토너 입자의 체적평균 입자경은 4㎛ 이상 9㎛ 이하의 범위인 것이 바람직하다.
또, 상기 체적평균 입자경의 측정은, 멀티사이저II(벡맨-콜터사제)를 사용하여, 50㎛의 어퍼쳐경으로 행한다. 이 때, 측정은 토너를 전해질 수용액(아이소톤 수용액)에 분산시키고, 초음파에 의해 30초 이상 분산시킨 후에 행한다.
다음으로, 본 실시 형태에 따른 토너의 제조 방법에 대해 설명한다.
우선, 토너 입자는, 건식 제법(예를 들면, 혼련 분쇄법 등), 습식 제법(예를 들면 응집 합일법, 현탁 중합법, 용해 현탁 조립법(造粒法), 용해 현탁법, 용해 유화 응집 합일법 등) 중 어느 하나에 의해 제조해도 좋다. 이들의 제법에 특별히 제한은 없고, 주지의 제법이 채용된다.
그리고, 본 실시 형태에 따른 토너는, 예를 들면, 얻어진 토너 입자에, 외첨제를 첨가하여, 혼합함으로써 제조된다. 혼합은, 예를 들면 V블렌더나 헨쉘 믹서, 뢰디게 믹서 등에 의해 행하는 것이 좋다. 또한, 필요에 따라, 진동 사분기(篩分機), 풍력 사분기 등을 사용하여 토너의 조대(粗大) 입자를 제거해도 좋다.
상기 오일 처리 입자의 외첨량으로서는, 예를 들면, 토너 입자 100질량부에 대해 0.1질량부 이상 3.0질량부 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2질량부 이상 2.5질량부 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.3질량부 이상 2.0질량부 이하이다.
또, 외첨제로서, 상기 오일 처리 입자 이외에, 다른 외첨제를 사용해도 좋다. 다른 외첨제로서는, 예를 들면, 무기 입자, 유기 입자 등, 주지의 것을 들 수 있다. 무기 입자로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 알루미나, 티타니아, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 인산3칼슘, 산화세륨 등의 통상 토너 표면의 외첨제로서 사용되는 모든 입자를 들 수 있고, 유기 입자로서는, 예를 들면, 비닐계 수지, 폴리에스테르 수지, 실리콘 수지, 불소계 수지 등의 통상 토너 표면의 외첨제로서 사용되는 모든 입자를 들 수 있다.
<정전하상 현상제>
본 실시 형태에 따른 정전하상 현상제는, 본 실시 형태에 따른 토너를 적어도 함유하는 것이다.
본 실시 형태에 따른 정전하상 현상제는, 본 실시 형태에 따른 정전하상 현상용 토너만을 함유하는 1성분 현상제이어도 좋고, 캐리어와 혼합한 2성분 현상제이어도 좋다.
캐리어로서는, 특별히 제한은 없고, 공지의 캐리어를 들 수 있다. 캐리어로서는, 예를 들면, 수지 코트 캐리어, 자성 분산형 캐리어, 수지 분산형 캐리어 등을 들 수 있다.
상기 2성분 현상제에 있어서의, 본 실시 형태에 따른 토너와 상기 캐리어와의 혼합비(질량비)는, 토너:캐리어=1:100∼30:100 정도의 범위가 바람직하고, 3:100∼20:100 정도의 범위가 보다 바람직하다.
<화상 형성 장치>
다음으로, 본 실시 형태에 따른 화상 형성 장치에 대해 설명한다.
본 실시 형태에 따른 화상 형성 장치는, 잠상 유지체와, 잠상 유지체의 표면을 대전하는 대전 수단과, 대전된 잠상 유지체의 표면에 정전잠상을 형성하는 정전잠상 형성 수단과, 정전하상 현상제를 수납하며, 상기 잠상 유지체의 표면에 형성된 정전잠상을 상기 정전하상 현상제에 의해 현상하여 토너상을 형성하는 현상 수단과, 잠상 유지체의 표면에 형성된 토너상을 피전사체 위에 전사하는 전사 수단을 갖고, 필요에 따라, 피전사체 위에 전사된 토너상을 정착하는 정착 수단, 전사 후에 잠상 유지체의 표면에 잔류한 잔류 토너를 제거하는 토너 제거 수단 등을 갖고 있어도 좋다. 그리고, 정전하상 현상제로서, 상기 본 실시 형태에 따른 정전하상 현상제를 적용한다.
또, 본 실시 형태에 따른 화상 형성 장치에서, 예를 들면 상기 현상 수단을 포함하는 부분이, 화상 형성 장치에 대해 탈착하는 카트리지 구조(프로세스 카트리지)이어도 좋고, 그 프로세스 카트리지로서는, 본 실시 형태에 따른 정전하상 현상제를 수납한 현상 수단을 구비하는 프로세스 카트리지가 호적하게 사용된다. 또한, 이 화상 형성 장치에서, 예를 들면, 보충용의 정전하상 현상제를 수납하는 부분이, 화상 형성 장치에 대해 탈착하는 카트리지 구조(토너 카트리지)이어도 좋고, 그 토너 카트리지로서는, 본 실시 형태에 따른 정전하상 현상제를 수납한 토너 카트리지가 호적하게 적용된다.
이하, 본 실시 형태에 따른 화상 형성 장치의 일례를 나타내지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 또, 도면에 나타내는 주요부를 설명하고, 그밖에는 그 설명을 생략한다.
도 3은, 본 실시 형태에 따른 화상 형성 장치의 일례인 4련 탠덤 방식의 화상 형성 장치를 나타내는 개략 구성도이다. 도 3에 나타내는 화상 형성 장치는, 색분해된 화상 데이터에 의거한 옐로우(Y), 마젠타(M), 시안(C), 블랙(K)의 각색의 화상을 출력하는 전자사진 방식의 제1∼제4 화상 형성 유닛(10Y, 10M, 10C, 10K)(화상 형성 수단)을 구비하여 있다. 이들 화상 형성 유닛(이하, 단지 「유닛」이라 한다)(10Y, 10M, 10C, 10K)은, 수평 방향으로 서로 미리 정한 거리 이간하여 병설되어 있다. 또, 이들 유닛(10Y, 10M, 10C, 10K)은, 화상 형성 장치 본체에 대해 탈착하는 프로세스 카트리지이어도 좋다.
각 유닛(10Y, 10M, 10C, 10K)의 도면에 있어서의 상방에는, 각 유닛을 통해 중간 전사체로서의 중간 전사 벨트(20)가 연설(延設)되어 있다. 중간 전사 벨트(20)는, 도면에 있어서의 좌로부터 우 방향으로 서로 이간하여 배치된 구동 롤러(22) 및 중간 전사 벨트(20) 내면에 접하는 지지 롤러(24)에 권회(卷回)되어 마련되고, 제1 유닛(10Y)∼제4 유닛(10K)을 향하는 방향으로 주행되도록 되어 있다. 또, 지지 롤러(24)는, 도시하지 않는 스프링 등에 의해 구동 롤러(22)로부터 멀어지는 방향으로 부세(付勢)되어 있어, 양자에 권회된 중간 전사 벨트(20)에 미리 정한 장력이 주어져 있다. 또한, 중간 전사 벨트(20)의 상유지체 측면에는, 구동 롤러(22)와 대향하여 중간 전사체 클리닝 장치(30)가 구비되어 있다.
또한, 각 유닛(10Y, 10M, 10C, 10K)의 현상 장치(현상 수단)(4Y, 4M, 4C, 4K)의 각각에는, 토너 카트리지(8Y, 8M, 8C, 8K)에 수용된 옐로우, 마젠타, 시안, 블랙의 4색의 토너를 공급한다.
상술한 제1∼제4 유닛(10Y, 10M, 10C, 10K)은, 동등한 구성을 갖고 있기 때문에, 여기서는 중간 전사 벨트 주행 방향의 상류측에 배설(配設)된 옐로우 화상을 형성하는 제1 유닛(10Y)에 대해 대표하여 설명한다. 또, 제1 유닛(10Y)과 동등한 부분에, 옐로우(Y) 대신에, 마젠타(M), 시안(C), 블랙(K)을 붙인 참조 부호를 붙임으로써, 제2∼제4 유닛(10M, 10C, 10K)의 설명을 생략한다.
제1 유닛(10Y)은, 잠상 유지체로서 기능하는 감광체(1Y)(잠상 유지체)를 갖고 있다. 감광체(1Y)의 주위에는, 감광체(1Y)의 표면을 미리 정한 전위로 대전시키는 대전 롤러(2Y)(대전 수단), 대전된 표면을 색분해된 화상 신호에 의거한 레이저광선(3Y)에 의해 노광하여 정전잠상을 형성하는 노광 장치(3)(정전잠상 형성 수단), 정전잠상에 대전한 토너를 공급하여 정전잠상을 현상하는 현상 장치(4Y)(현상 수단), 현상한 토너상을 중간 전사 벨트(20) 위에 전사하는 1차 전사 롤러(5Y)(1차 전사 수단), 및 1차 전사 후에 감광체(1Y)의 표면에 잔존하는 토너를 제거하는 감광체 클리닝 장치(6Y)(토너 제거 수단)가 순서대로 배설되어 있다.
또, 1차 전사 롤러(5Y)는, 중간 전사 벨트(20)의 내측에 배치되며, 감광체(1Y)에 대향한 위치에 마련되어 있다. 또한, 각 1차 전사 롤러(5Y, 5M, 5C, 5K)에는, 1차 전사 바이어스를 인가하는 바이어스 전원(도시하지 않음)이 각각 접속되어 있다. 각 바이어스 전원은, 도시하지 않는 제어부에 의한 제어에 의해, 각 1차 전사 롤러에 인가하는 전사 바이어스를 가변한다.
이하, 제1 유닛(10Y)에 있어서 옐로우 화상을 형성하는 동작에 대해 설명한다. 우선, 동작에 앞서, 대전 롤러(2Y)에 의해 감광체(1Y)의 표면이 -600V∼-800V 정도의 전위로 대전된다.
감광체(1Y)는, 도전성(20℃에서의 체적 저항률 : 1×10-6Ωcm 이하)의 기체(基體) 위에 감광층을 적층하며 형성되어 있다. 이 감광층은, 통상은 고저항(일반적인 수지 정도의 저항)이지만, 레이저광선(3Y)이 조사되면, 레이저광선이 조사된 부분의 비저항이 변화하는 성질을 갖고 있다. 그래서, 대전한 감광체(1Y)의 표면에, 도시하지 않는 제어부로부터 보내져 오는 옐로우용의 화상 데이터에 따라, 노광 장치(3)를 거쳐 레이저광선(3Y)을 출력한다. 레이저광선(3Y)은, 감광체(1Y)의 표면의 감광층에 조사되고, 그것에 의해, 옐로우 인자(印字) 패턴의 정전잠상이 감광체(1Y)의 표면에 형성된다.
정전잠상이란, 대전에 의해 감광체(1Y)의 표면에 형성되는 상이며, 레이저광선(3Y)에 의해, 감광층의 피조사 부분의 비저항이 저하하여, 감광체(1Y)의 표면의 대전한 전하가 흐르고, 한편, 레이저광선(3Y)이 조사되지 않았던 부분의 전하가 잔류함으로써 형성되는, 이른바 네거티브 잠상이다.
이와 같이 하여 감광체(1Y) 위에 형성된 정전잠상은, 감광체(1Y)의 주행에 따라 미리 정한 현상 위치까지 회전된다. 그리고, 이 현상 위치에서, 감광체(1Y) 위의 정전잠상이, 현상 장치(4Y)에 의해 가시상(토너상)화된다.
현상 장치(4Y) 내에는, 본 실시 형태에 따른 옐로우 토너가 수용되어 있다. 옐로우 토너는, 현상 장치(4Y)의 내부에서 교반됨으로써 마찰 대전하여, 감광체(1Y) 위에 대전한 대전하와 동극성(부(負)극성)인 전하를 가지며 현상제 롤(현상제 유지체) 위에 유지되어 있다. 그리고 감광체(1Y)의 표면이 현상 장치(4Y)를 통과해감으로써, 감광체(1Y) 표면 위의 제전(除電)된 잠상부에 옐로우 토너가 정전적으로 부착하고, 잠상이 옐로우 토너에 의해 현상된다. 옐로우의 토너상이 형성된 감광체(1Y)는, 이어서 미리 정한 속도로 주행되어, 감광체(1Y) 위에 현상된 토너상이 미리 정한 1차 전사 위치로 반송된다.
감광체(1Y) 위의 옐로우 토너상이 1차 전사로 반송되면, 1차 전사 롤러(5Y)에 미리 정한 1차 전사 바이어스가 인가되어, 감광체(1Y)로부터 1차 전사 롤러(5Y)를 향하는 정전기력이 토너상에 작용되어, 감광체(1Y) 위의 토너상이 중간 전사 벨트(20) 위에 전사된다. 이 때 인가되는 전사 바이어스는, 토너의 극성(-)과 역극성인 (+)극성이며, 예를 들면 제1 유닛(10Y)에서는 제어부(도시하지 않음)에 의해 +10μA 정도로 제어되어 있다.
한편, 감광체(1Y) 위에 잔류한 토너는 클리닝 장치(6Y)에서 제거되어 회수된다.
또한, 제2 유닛(10M) 이후의 1차 전사 롤러(5M, 5C, 5K)에 인가되는 1차 전사 바이어스도, 제1 유닛에 준하여 제어되어 있다.
이렇게 하여, 제1 유닛(10Y)으로 옐로우 토너상이 전사된 중간 전사 벨트(20)는, 제2∼제4 유닛(10M, 10C, 10K)을 통해 순차 반송되어, 각색의 토너상이 겹쳐져 다중 전사된다.
제1∼제4 유닛을 통해 4색의 토너상이 다중 전사된 중간 전사 벨트(20)는, 중간 전사 벨트(20)와 중간 전사 벨트(20) 내면에 접하는 지지 롤러(24)와 중간 전사 벨트(20)의 상유지면측에 배치된 2차 전사 롤러(2차 전사 수단)(26)로 구성된 2차 전사부에 이른다. 한편, 기록지(피전사체)(P)가 공급 기구를 거쳐 2차 전사 롤러(26)와 중간 전사 벨트(20)가 압접(壓接)되어 있는 간극에 미리 정한 타이밍으로 급지되고, 미리 정한 2차 전사 바이어스가 지지 롤러(24)에 인가된다. 이 때 인가되는 전사 바이어스는, 토너의 극성(-)과 동극성인 (-)극성이며, 중간 전사 벨트(20)로부터 기록지(P)를 향하는 정전기력이 토너상에 작용되어, 중간 전사 벨트(20) 위의 토너상이 기록지(P) 위에 전사된다. 또, 이 때의 2차 전사 바이어스는 2차 전사부의 저항을 검출하는 저항 검출 수단(도시하지 않음)에 의해 검출된 저항에 따라 결정되는 것이며, 전압 제어되어 있다.
이후, 기록지(P)는 정착 장치(정착 수단)(28)로 송입되고 토너상이 가열되어, 색중첩한 토너상이 용융되어, 기록지(P) 위로 정착된다. 컬러 화상의 정착이 완료한 기록지(P)는, 배출부를 향해 반출되어, 일련의 컬러 화상 형성 동작이 종료된다.
또, 상기 예시한 화상 형성 장치는, 중간 전사 벨트(20)를 거쳐 토너상을 기록지(P)에 전사하는 구성으로 되어 있지만, 이 구성에 한정되는 것은 아니고, 감광체로부터 직접 토너상이 기록지에 전사되는 구조이어도 좋다.
<프로세스 카트리지, 토너 카트리지>
도 4는, 본 실시 형태에 따른 정전하상 현상제를 수용하는 프로세스 카트리지의 호적한 일례를 나타내는 개략 구성도이다. 프로세스 카트리지(200)는, 감광체(107)와 함께, 대전 롤러(108), 현상 장치(111), 감광체 클리닝 장치(클리닝 수단)(113), 노광을 위한 개구부(118), 및, 제전 노광을 위한 개구부(117)를 부착 레일(116)을 사용하여 조합하고, 그리고 일체화한 것이다. 또, 도 4에 있어서 부호 300은 기록지(피전사체)를 나타낸다.
그리고, 이 프로세스 카트리지(200)는, 전사 장치(112)와, 정착 장치(115)와, 도시하지 않는 다른 구성 부분으로 구성되는 화상 형성 장치 본체에 대해 착탈 자재(自在)로 한 것이며, 화상 형성 장치 본체와 함께 화상 형성 장치를 구성하는 것이다.
도 4에 나타내는 프로세스 카트리지에서는, 대전 롤러(108), 현상 장치(111), 클리닝 장치(클리닝 수단)(113), 노광을 위한 개구부(118), 및, 제전 노광을 위한 개구부(117)를 구비하여 있지만, 이들 장치는 선택적으로 조합해도 좋다. 본 실시 형태에 따른 프로세스 카트리지에서는, 적어도 현상 장치(111)를 구비되어 있으면 좋고, 그밖에, 감광체(107), 대전 롤러(108), 감광체 클리닝 장치(클리닝 수단)(113), 노광을 위한 개구부(118), 및, 제전 노광을 위한 개구부(117)로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1종을 구비하는 것이어도 좋다.
다음으로, 본 실시 형태에 따른 토너 카트리지에 대해 설명한다. 본 실시 형태에 따른 토너 카트리지는, 화상 형성 장치에 착탈되고, 적어도, 상기 화상 형성 장치 내에 마련된 현상 수단에 공급하기 위한 토너를 수납하는 토너 카트리지에 있어서, 상기 토너를 기술한 본 실시 형태에 따른 토너로 한 것이다. 또, 본 실시 형태에 따른 토너 카트리지에는 적어도 토너가 수용되어 있으면 좋고, 화상 형성 장치의 기구에 따라서는, 예를 들면 현상제가 수용되어도 좋다.
따라서, 토너 카트리지의 착탈하는 구성을 갖는 화상 형성 장치에서는, 본 실시 형태에 따른 토너를 수납한 토너 카트리지를 이용함으로써, 본 실시 형태에 따른 토너를 용이하게 현상 장치에 공급한다.
또, 도 3에 나타내는 화상 형성 장치는, 토너 카트리지(8Y, 8M, 8C, 8K)의 착탈하는 구성을 갖는 화상 형성 장치이며, 현상 장치(4Y, 4M, 4C, 4K)는, 각각의 현상 장치(색)에 대응한 토너 카트리지와, 도시하지 않는 토너 공급관으로 접속되어 있다. 또한, 토너 카트리지 내에 수납되어 있는 토너가 적어진 경우에는, 이 토너 카트리지를 교환한다.
[실시예]
이하, 실시예 및 비교예를 들어, 본 실시 형태를 보다 구체적으로 상세하게 설명하지만, 본 실시 형태는 이들의 실시예에 하등 한정되는 것은 아니다.
[토너]
<폴리에스테르 수지1의 제조>
-중합성 단량체-
·테레프탈산 30mol%
·푸마르산 70mol%
·비스페놀A에틸렌옥사이드 2몰 부가물 20mol%
·비스페놀A프로필렌옥사이드 2몰 부가물 80mol%
교반 장치, 질소 도입관, 온도 센서, 정류탑을 구비한 내용량 5리터의 플라스크에 상기 모노머를 장입하고, 1시간을 들여 190℃까지 올리고, 반응계 내가 교반되어 있는 것을 확인한 후, 디부틸주석옥사이드 1.2질량부를 투입했다.
또한 생성하는 물을 유거하면서 동일 온도로부터 6시간을 들여 240℃까지 온도를 올리고, 240℃에서 또한 3시간 탈수 축합 반응을 계속하여, 산가가 12.0mg/KOH, 중량평균 분자량 9700인 폴리에스테르 수지1을 얻었다.
<폴리에스테르 수지 분산액1의 제조>
얻어진 폴리에스테르 수지1을, 용융 상태 그대로 캐비트론CD1010(가부시키가이샤유로텍제)에 매분 100g의 속도로 이송했다.
별도 준비한 수성 매체 탱크에는 시약 암모니아수를 이온교환수로 희석한 0.37질량% 농도의 묽은 암모니아수를 넣고, 열교환기로 120℃로 가열하면서 매분 0.1리터의 속도로, 상기 비결정질 폴리에스테르 수지1의 용융체와 동시에 캐비트론CD1010(가부시키가이샤유로텍제)으로 이송했다.
회전자의 회전 속도가 60Hz, 압력이 5kg/cm2의 조건에서 캐비트론을 운전하여, 평균 입경 0.16㎛, 고형분량 30질량부의 폴리에스테르 수지를 함유하는 수지 분산액(폴리에스테르 수지 분산액1)을 얻었다.
<착색제 분산액의 제조>
-착색제 분산액 성분-
·시안 안료(구리프탈로시아닌B15:3 : 다이니치세이카사제) 45질량부
·이온성 계면활성제 네오겐RK(다이이치고교세이야쿠사제) 5질량부
·이온교환수 200질량부
이상의 착색제 분산액 성분을 혼합 용해하여, 호모지나이저(IKA울트라터랙스)에 의해 10분간 분산하여, 중심 입경 168nm, 고형분량 22.0질량부의 착색제 분산액을 얻었다.
<이형제 분산액의 제조>
-이형제 분산액 성분-
·파라핀 왁스HNP9(융점 75℃ : 니뽄세이로사제) 45질량부
·양이온성 계면활성제 네오겐RK(다이이치고교세이야쿠사제) 5질량부
·이온교환수 200질량부
이상의 이형제 분산액 성분을 95℃로 가열하여, IKA제 울트라터랙스T50으로 분산 후, 압력 토출형 가우린호모지나이저로 분산 처리하여, 중심경 200nm, 고형분량 20.0질량부의 이형제 분산액을 얻었다.
<토너 입자1의 제작>
-토너 입자1 성분-
·폴리에스테르 수지 분산액1 278.9질량부
·착색제 분산액 27.3질량부
·이형제 분산액 35질량부
이상의 토너 입자1 성분을 둥근형 스테인리스제 플라스크 중에서 울트라터랙스T50으로 혼합·분산했다. 이어서, 이것에 폴리염화알루미늄 0.20질량부를 가하고, 울트라터랙스로 분산 조작을 계속했다. 가열용 오일 배쓰에서 플라스크를 교반하면서 48℃까지 가열했다. 48℃에서 60분 유지한 후, 여기에 수지 분산액(폴리에스테르 수지 분산액1)을 70.0질량부 추가했다.
그 후, 0.5mol/l의 수산화나트륨 수용액으로 계내의 pH를 9.0으로 한 후, 스테인리스제 플라스크를 밀폐하여, 자력 씰을 사용하여 교반을 계속하면서 96℃까지 가열하여, 5시간 유지했다.
반응 종료 후, 냉각하고, 여과, 이온교환수로 세정한 후, 너체식 흡인 여과(Nutsche suction filtration)에 의해 고액 분리를 실시했다. 이것을 또한 40℃의 이온교환수 1L에 재분산하여, 15분 300rpm으로 교반·세정했다.
이것을 또한 5회 반복하여, 여과액의 pH가 7.5, 전기 전도도 7.0μS/cmt가 된 지점에서, 너체식 흡인 여과에 의해 No5A 여과지를 사용하여 고액 분리를 행했다. 이어서 진공 건조를 12시간 계속하여 토너 입자1을 얻었다.
이 때의 입자경을 콜터멀티사이저로 측정한 바 체적평균 입경은 5.9㎛이었다. 또한, 루젝스에 의한 형상 관찰로부터 구한 입자의 형상 계수는 130인 것이 관찰되었다.
<토너 입자2의 제작>
96℃ 가열 후의 유지 시간을 7시간으로 한 이외는, 토너 입자1과 같이 하여, 토너 입자2를 제작했다. 토너 입자2의 루젝스에 의한 형상 관찰로부터 구한 입자의 형상 계수는 115인 것이 관찰되었다.
<토너 입자3의 제작>
-토너 입자3 성분-
·폴리에스테르 수지 185질량부
·시안 안료(구리프탈로시아닌B15:3 : 다이니치세이카제) 5질량부
·파라핀 왁스HNP9(융해 온도 75℃ : 니뽄세이로제) 8질량부
·소수화 처리 메타티탄산 2질량부
상기 토너 입자3 성분을, 헨쉘 믹서에 의해 예비 혼합한 후, 2축형 혼련기를 사용하여 혼련을 행했다. 얻어진 혼련물을 수냉 타입의 냉각 컨베이어에 의해 압연 냉각하고, 또한 핀-크러셔에 의한 조쇄(粗碎)를 행하여, 햄머 밀로 더 분쇄하여 입경300㎛ 정도로 조쇄했다. 조쇄된 파쇄물을 유동층형 분쇄기 AFG400(알피네사제)으로 분쇄하고 또한 분급기 EJ30에 의해 체적평균 입자경이 6.1㎛의 토너 입자를 얻었다. 이 때 유동층형 분쇄기 AFG400의 공급구로부터 메타티탄산을 파쇄물 100질량부에 대해 1질량부의 비율로 연속 공급을 행하여, 토너 입자3을 얻었다.
또한, 루젝스에 의한 형상 관찰로부터 구한 토너 입자의 형상 계수 SF1은 150인 것이 관찰되었다.
<외첨제 입자1의 제작>
이하와 같이 하여, 외첨제 입자1을 제작했다.
우선, 제1 입자가 되는 입경180nm의 졸겔 실리카 분산액 200g(실리카 농도 30중량%)에 대해, 입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 60g(실리카 농도 30중량%)과 입경40nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%)을 가한 후, 오토클레이브(autoclave) 중에서 300℃ 15시간의 수(水)열처리를 행하고, 실리카졸 현탁액의 원심 분리를 행하여, 습윤 실리카겔과 알코올과 암모니아수로 분리한다. 습윤 실리카겔에 용제를 가하여 재차 실리카졸의 상태로 하고, 소수화 처리제를 가하여, 실리카 표면의 소수화를 행한다. 소수화 처리제로서는, 일반적인 실란 화합물을 사용할 수 있다. 다음으로, 이 소수화 처리 실리카졸로부터 용매를 제거, 건조, 시브(sieve)함으로써 외첨제 입자1을 제작했다.
얻어진 외첨제 입자를 현미경으로 관찰하여 얻어진 면적비, R1(nm), 및 특정 입경 입자의 유무 및 입경을 표 1에 나타낸다.
<외첨제 입자2의 제작>
입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 60g(실리카 농도 30중량%)과 입경40nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%) 대신에 입경60nm의 졸겔 실리카 분산액 70g(실리카 농도 30중량%)를 사용한 이외는, 외첨제 입자1과 같이 하여, 외첨제 입자2를 제작했다.
얻어진 외첨제 입자를 현미경으로 관찰하여 얻어진 면적비, R1(nm), 및 특정 입경 입자의 유무 및 입경을 표 1에 나타낸다.
<외첨제 입자3의 제작>
입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 60g(실리카 농도 30중량%)과 입경40nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%) 대신에 입경60nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%)를 사용한 이외는, 외첨제 입자1과 같이 하여, 외첨제 입자3을 제작했다.
얻어진 외첨제 입자를 현미경으로 관찰하여 얻어진 면적비, R1(nm), 및 특정 입경 입자의 유무 및 입경을 표 1에 나타낸다.
<외첨제 입자4의 제작>
입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 60g(실리카 농도 30중량%)과 입경40nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%) 대신에 입경60nm의 졸겔 실리카 분산액120g(실리카 농도 30중량%)를 사용한 이외는, 외첨제 입자1과 같이 하여, 외첨제 입자4를 제작했다.
얻어진 외첨제 입자를 현미경으로 관찰하여 얻어진 면적비, R1(nm), 및 특정 입경 입자의 유무 및 입경을 표 1에 나타낸다.
<외첨제 입자5의 제작>
제1 입자가 되는 입경180nm의 졸겔 실리카 분산액 200g(실리카 농도 30중량%)에 대해, 입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 60g(실리카 농도 30중량%)과 입경40nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%)를 가하는 대신에 제1 입자가 되는 입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 200g(실리카 농도 30중량%)에 대해, 입경30nm의 졸겔 실리카 분산액 110g(실리카 농도 30중량%)를 가한 이외는, 외첨제 입자1과 같이 하여, 외첨제 입자5를 제작했다.
얻어진 외첨제 입자를 현미경으로 관찰하여 얻어진 면적비, R1(nm), 및 특정 입경 입자의 유무 및 입경을 표 1에 나타낸다.
<외첨제 입자6의 제작>
제1 입자가 되는 입경180nm의 졸겔 실리카 분산액 200g(실리카 농도 30중량%)에 대해, 입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 60g(실리카 농도 30중량%)과 입경40nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%)를 가하는 대신에 제1 입자가 되는 입경450nm의 졸겔 실리카 분산액 200g(실리카 농도 30중량%)에 대해, 입경150nm의 졸겔 실리카 분산액 90g(실리카 농도 30중량%)를 가한 이외는, 외첨제 입자1과 같이 하여, 외첨제 입자6을 제작했다.
얻어진 외첨제 입자를 현미경으로 관찰하여 얻어진 면적비, R1(nm), 및 특정 입경 입자의 유무 및 입경을 표 1에 나타낸다.
<외첨제 입자7의 제작>
제1 입자가 되는 입경180nm의 졸겔 실리카 분산액 200g(실리카 농도 30중량%)에 대해, 입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 60g(실리카 농도 30중량%)과 입경40nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%)를 가하는 대신에 제1 입자가 되는 입경60nm의 졸겔 실리카 분산액 200g(실리카 농도 30중량%)에 대해, 입경20nm의 졸겔 실리카 분산액 100g(실리카 농도 30중량%)를 가한 이외는, 외첨제 입자1과 같이 하여, 외첨제 입자7을 제작했다.
얻어진 외첨제 입자를 현미경으로 관찰하여 얻어진 면적비, R1(nm), 및 특정 입경 입자의 유무 및 입경을 표 1에 나타낸다.
<외첨제 입자8의 제작>
제1 입자가 되는 입경180nm의 졸겔 실리카 분산액 200g(실리카 농도 30중량%)에 대해, 입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 60g(실리카 농도 30중량%)과 입경40nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%)를 가하는 대신에 제1 입자가 되는 입경600nm의 졸겔 실리카 분산액 200g(실리카 농도 30중량%)에 대해, 입경180nm의 졸겔 실리카 분산액 80g(실리카 농도 30중량%)를 가한 이외는, 외첨제 입자1과 같이 하여, 외첨제 입자8을 제작했다.
얻어진 외첨제 입자를 현미경으로 관찰하여 얻어진 면적비, R1(nm), 및 특정 입경 입자의 유무 및 입경을 표 1에 나타낸다.
<외첨제 입자9의 제작>
입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 60g(실리카 농도 30중량%)과 입경40nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%) 대신에 입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 15g(실리카 농도 30중량%)를 사용한 이외는, 외첨제 입자1과 같이 하여, 외첨제 입자9를 제작했다.
얻어진 외첨제 입자를 현미경으로 관찰하여 얻어진 면적비, R1(nm), 및 특정 입경 입자의 유무 및 입경을 표 1에 나타낸다.
<외첨제 입자10의 제작>
입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 60g(실리카 농도 30중량%)과 입경40nm의 졸겔 실리카 분산액 40g(실리카 농도 30중량%) 대신에 입경80nm의 졸겔 실리카 분산액 140g(실리카 농도 30중량%)를 사용한 이외는, 외첨제 입자1과 같이 하여, 외첨제 입자10을 제작했다.
얻어진 외첨제 입자를 현미경으로 관찰하여 얻어진 면적비, R1(nm), 및 특정 입경 입자의 유무 및 입경을 표 1에 나타낸다.
<토너의 제작>
표 1에 따른 조합으로, 토너 입자 100질량부와 외첨제 입자 0.3질량부를 헨쉘 믹서를 사용하여 주속 32m/s로 10분간 블렌드를 행한 후, 오프닝 45㎛의 시브를 사용하여 조대 입자를 제거하여, 외첨제를 첨가한 외첨 토너를 얻었다.
[캐리어의 제작]
·페라이트 입자(파우더텍사제, 체적평균 입경35㎛) : 100질량부
·톨루엔 : 14질량부
·퍼플루오로옥틸에틸아크릴레이트/메틸메타크릴레이트 공중합체(공중합비=40:60, 중량평균 분자량 Mw=5만) : 0.8질량부
·카본 블랙(VXC-72; 캐보트사제) : 0.06질량부
·가교 멜라민 수지 입자(수평균 입자경; 0.3㎛) : 0.15질량부
상기 성분 중, 페라이트 입자를 제외한 성분을 10분간 스터러(stirrer)로 분산하여, 피막 형성용액을 제조하고, 이 피막 형성용액과 페라이트 입자를 진공 탈기형 니더에 넣고, 60℃에서 30분간 교반한 후, 감압하여 톨루엔을 유거하고, 페라이트 입자 표면에 수지 피막을 형성하여, 캐리어를 제조했다.
[현상제의 제작]
얻어진 외첨 토너 4질량부와 캐리어 96질량부를 V-블렌더를 사용하여 40rpm으로 20분간 교반하고, 오프닝 250㎛의 시브로 체질함으로써 현상제를 제작했다.
[평가]
얻어진 현상제에 대해 이하의 평가를 행했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(화상 농도의 평가)
얻어진 현상제를 사용하여, CocuCenterColor400 개조기로 기록용지(후지제롯쿠스·오피스·서플라이사제 : J지)로 화상을 출력했다. 구체적으로는, 우선, 28℃/85%RH의 조건에서, 초기 화상(4cm사방으로 화상 농도 100%의 화상)을 10매 인쇄했다. 그리고, 저(低)에어리어 커버리지 화상(화상부 및 비화상부의 전체에 대한 화상부의 면적이 1%인 화상)을 100000매 인쇄한 후에, 이어서 평가용 화상(4cm사방으로 화상 농도 100%의 화상)을 10매 인쇄했다. 얻어진 초기 화상과 평가용 화상을 비교하여, 화상 농도가 저하했는지 여부를 화상 농도계 X-Rite938(X-Rite사제)을 사용하여 측정했다.
화상 농도의 평가 기준은 이하와 같으며, 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
G1 : 농도 측정값의 저하가, 0.1 미만
G2 : 농도 측정값의 저하가, 0.1 이상 0.3 미만
G3 : 농도 측정값의 저하가, 0.3 이상 0.5 미만
G4 : 농도 측정값의 저하가, 0.5 이상
[표 1]
Figure 112010059206412-pat00001
표 1의 결과로부터, 실시예에서는, 비교예에 비해, 화상 농도의 저하가 억제되어 있음을 알 수 있다.
210…외첨제 입자
212…제1 입자
214…제2 입자
R1…제1 입자의 1차 입경
R2…제2 입자의 1차 입경

Claims (20)

  1. 형상 계수 SF1이 110 이상이며 결착 수지를 함유하는 토너 입자와, 상기 토너 입자에 부착한 외첨제의 입자를 함유하고,
    상기 외첨제의 입자는, 제1 입자와, 상기 제1 입자에 부착하며, 1차 입경이 상기 제1 입자의 0.2배 이상 0.5배 이하인 제2 입자를 함유하여 구성되고,
    상기 외첨제의 입자를 현미경에 의해 관측하여 얻어진 화상에서, 상기 제1 입자의 투영 면적을 S1, 상기 제1 입자에 가려져 있지 않은 상기 제2 입자의 투영 면적의 합계를 S2라 했을 때, S2는 S1의 0.1배 이상 0.5배 이하인, 정전하상 현상용 토너.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 입자의 1차 입경은 80nm 이상 500nm 이하인, 정전하상 현상용 토너.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 외첨제의 입자는, 1차 입경이 상기 제1 입자의 1차 입경의 0.35배 이상 0.5배 이하인 상기 제2 입자를 함유하는, 정전하상 현상용 토너.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 토너 입자의 형상 계수 SF1이 110 이상 140 이하인, 정전하상 현상용 토너.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 입자의 형상 계수 SF1이 100 이상 130 이하인, 정전하상 현상용 토너.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1 입자 및 제2 입자가 각각 졸겔법에 의해 제작된, 정전하상 현상용 토너.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 결착 수지가 폴리에스테르 수지인, 정전하상 현상용 토너.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 결착 수지의 유리 전이 온도가 35℃ 이상 100℃ 이하인, 정전하상 현상용 토너.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 결착 수지가 비스페놀A에틸렌옥사이드 부가물 및 비스페놀A프로필렌옥사이드 부가물에 유래하는 구성 단위를 포함하는 폴리에스테르 수지인, 정전하상 현상용 토너.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 토너 입자가 이형제를 함유하고, 상기 이형제가 토너 입자의 1질량% 이상 10질량% 이하의 범위로 함유되는, 정전하상 현상용 토너.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 이형제의 ASTMD3418-8에 준거하여 측정된 주체 흡열 피크 온도가 50℃ 이상 140℃ 이하의 범위인, 정전하상 현상용 토너.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 이형제의 160℃에서의 점도 η1이 20cps 이상 600cps 이하인, 정전하상 현상용 토너.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 이형제가 파라핀 왁스인, 정전하상 현상용 토너.
  14. 제1항에 기재된 정전하상 현상용 토너와 캐리어를 함유하는 정전하상 현상제.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 캐리어가 페라이트 입자를 함유하는, 정전하상 현상제.
  16. 제14항에 있어서,
    상기 캐리어가 수지 피복 캐리어이며, 상기 수지 피복 캐리어의 수지 내에 카본 블랙을 함유하는, 정전하상 현상제.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 캐리어가 수지 피복 캐리어이며, 상기 수지 피복 캐리어의 수지 내에 멜라민 수지 입자를 함유하는, 정전하상 현상제.
  18. 제1항에 기재된 정전하상 현상용 토너를 수납하며, 화상 형성 장치에 착탈되는 토너 카트리지.
  19. 제14항에 기재된 정전하상 현상제를 수납하며, 잠상 유지체 위에 형성된 정전잠상을 상기 정전하상 현상제에 의해 현상하여 토너상을 형성하는 현상 수단을 구비하며,
    화상 형성 장치에 착탈로 장착되는 프로세스 카트리지.
  20. 잠상 유지체와,
    상기 잠상 유지체의 표면에 정전잠상을 형성하는 정전잠상 형성 수단과,
    제14항에 기재된 정전하상 현상제를 수납하며, 상기 잠상 유지체의 표면에 형성된 상기 정전잠상을 상기 정전하상 현상제에 의해 현상하여 토너상을 형성하는 현상 수단과,
    상기 잠상 유지체의 표면에 형성된 상기 토너상을 피전사체 위에 전사하는 전사 수단
    을 구비하는 화상 형성 장치.
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