KR101358724B1 - 승화 열전사 기록용 재전사 필름 - Google Patents

승화 열전사 기록용 재전사 필름 Download PDF

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Abstract

본 발명은 승화 열전사 기록용 재전사 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 재전사층이 형성된 기재필름의 반대면에 배면층을 형성함으로써, 롤 상태로 고온에서 장기간 보관시에도, 재전사층이 재전사 필름의 배면으로 전이되지 않는 보관성이 개선된 재전사 필름에 관한 것이다.

Description

승화 열전사 기록용 재전사 필름 {Retransfer film for sublimation thermal transfer printing}
본 발명은 승화 열전사 기록용 재전사 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 재전사층이 형성된 기재필름의 반대면에 배면층을 형성함으로써, 롤 상태로 고온에서 장기간 보관시에도, 재전사층이 재전사 필름의 배면으로 전이되지 않는 보관성이 개선된 재전사 필름에 관한 것이다.
승화형 열전사 기록 방식은 열 승화성 염료가 도포되어 있는 잉크 리본을 피기록재와 중첩시킨 상태에서, 잉크 리본의 배면에서 써멀프린팅헤드 등을 이용하여 잉크 리본을 가열해 주면, 써멀프린팅헤드 등에 의해 가해진 열에너지 양에 비례하여 염료가 피기록재로 전이되어 피기록재 표면에 이미지가 형성되는 열전사 기록 방식이다.
이러한 승화형 열전사 기록 방식은 사진과 같이 연속적인 농도 변화가 있는 이미지를 인쇄하는 경우, 현재까지 개발된 최적의 인쇄방법으로서, 사진 등의 개인 정보가 포함된 신분 카드 등의 발급에 널리 사용되고 있다.
상기 승화형 열전사 기록 방식을 이용하여 신분 카드를 제작하는 방식은 직접 인쇄방식과 재전사 방식으로 구분된다. 직접 인쇄방식은 승화형 잉크 리본으로부터 전이되는 염료를 수용할 수 있는 재질, 예를 들면 PVC 등으로 제조된 카드 표면에 직접 인쇄하는 방식이다.
반면에 재전사 방식은 재전사 필름이라 불리는 필름 위에 승화형 잉크 리본을 이용하여 이미지를 전사시킨 후, 재전사 필름 위에 형성된 이미지를 최종 피기록재인 카드 위로 다시 전사시켜 신분 카드 등을 제조하는 방식이다.
상기 직접 인쇄방식은 사용할 수 있는 카드의 재질이 PVC나 폴리에스터 계열로 한정되며, 기타 ABS나 폴리카보네이트 계열의 카드를 사용하는 경우에는 우수한 인쇄 품질을 얻을 수 없는 단점을 지니고 있다. 또한 최근 IC 칩이 내장된 전자 카드가 널리 보급되고 있는데, 상기 직접 인쇄방식을 사용하는 경우에는 카드의 IC 칩이 내장되어 있는 부분에는 정상적으로 인쇄되지 않는 단점이 있다. 따라서 최근에는 상기의 단점을 극복하기 위해 재전사 방식의 승화형 열전사 기록이 널리 사용되고 있다. 재전사 방식의 승화형 열전사 기록 방식의 원리는 미합중국 특허 4,923,848에 자세히 기재되어 있다.
상기의 재전사 방식을 이용하여 이미지를 형성하는 과정에서 사용되는 재전사 필름은 일반적으로 롤로 감겨진 형태를 지니고 있는바, 제조된 재전사 필름의 유통 및 보관 과정에서 고온에 장기간 노출되는 경우, 코팅되어 있는 재전사층이 필름의 배면으로 전이되어, 사용이 불가능해지는 문제가 발생한다.
본 발명자들은 상기와 같은 재전사층이 배면으로 전이되는 현상의 문제점을 해결하기 위하여 예의 노력한 결과 본 발명을 완성하였다.
이에, 본 발명은 재전사 방식의 승화형 열전사 기록에 사용되는 재전사 필름을 롤 상태로 장기간 고온에 노출시키는 경우에도, 재전사층이 배면으로 전이되는 현상을 감소시킬 수 있는 재전사 필름을 제공하는 데 그 목적이 있다.
이를 위하여, 본 발명은 기재필름; 상기 기재필름의 일면에 형성된 보호층; 상기 보호층 위에 형성된 수상층; 및 상기 기재필름의 상기 보호층과 수상층이 형성된 반대면에 형성되며, 바인더 수지 및 이형제를 포함하여 이루어진 배면층을 포함하는 재전사 필름을 제공한다.
본 발명에 따른 재전사 필름은 롤 상태로 고온에서 장기간 보관하여도, 재전사층이 재전사 필름의 배면으로 전이되지 않아, 재전사 필름의 보관성을 향상시킬 수 있는 우수한 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 재전사 필름의 구성에 관한 것이다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명의 재전사 필름은 기재필름; 상기 기재필름의 일면에 형성된 보호층;
상기 보호층 위에 형성된 수상층; 및 상기 기재필름의 상기 보호층과 수상층이 형성된 반대면에 형성되며, 바인더 수지 및 이형제를 포함하여 이루어진 배면층을 포함하여 이루어진다.
상기 재전사 필름은 기본적으로 기재필름 위에 보호층 및 수상층이 순서대로 적층되어 있는 재전사층과 재전사층이 형성된 기재필름의 반대면에 배면층이 형성되어 있는 구조를 지니며, 필요에 따라, 수상층 위에 제1이형층, 보호층과 수상층 사이에 중간층 또는 보호층과 기재필름 사이에 제2이형층을 더 포함하여 제조할 수 있다.
또한, 필요에 따라 상기 재전사 필름은 기재필름과 배면층 사이에 검지마크를 더 포함하여 제조할 수 있다.
상기 재전사 필름에 포함되는 기재 필름은 재전사 필름을 지지하는 역할을 하며, 상기 승화 열전사 인쇄 단계 및 재전사 단계에서 가해지는 열에 견딜 수 있는 정도의 충분한 열적, 기계적 안정성과 평활성이 요구된다. 상기 기재 필름으로는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트 및 폴리이미드로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 이상으로 이루어지는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트인 것이 좋다.
상기 기재필름의 두께는 5 내지 20 ㎛ 인 것이 바람직하다. 두께가 5 ㎛ 미만일 때는 상기 승화 열전사 인쇄 단계 및 재전사 단계에서 재전사 필름에 주름이 발생하게 된다. 반면에 두께가 20 ㎛를 초과할 때는 재전사 단계에서 열 전달이 잘 이루어지지 않으므로, 가열 롤이나 써멀프린팅헤드 등과 같은 발열 장치를 매우 높은 온도로 가열해 주어야 하는 단점이 있다.
상기 재전사 필름에 포함되는 기재 필름의 일면에 형성되는 보호층은 최종 인쇄물에서는 가장 외면에 존재하게 되므로, 최종 인쇄물의 이미지를 외부 환경으로부터 보호하는 역할을 하게 된다.
상기 보호층은 열가소성 아크릴계 수지를 포함하여 이루어지며, 상기 열가소성 아크릴계 수지는 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, n-헥실메타크릴레이트 및 라우릴메타크릴레이트로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상의 단량체로 이루어진 중합체이거나, 또는 상기 군에서 선택한 2종 이상의 단량체로 이루어진 공중합체인 것이 바람직하다.
상기 보호층을 구성하는 열가소성 아크릴계 수지의 유리 전이온도는 50 내지 105℃ 가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 95 내지 105℃ 이다. 상기 유리전이 온도가 50℃ 미만이거나 105℃를 초과하는 경우에는 과전사 현상이 심하게 발생한다.
상기 보호층은 열가소성 아크릴계 수지 이외에 왁스나 자외선 흡수제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 상기 보호층은 상기 열가소성 아크릴계 수지와 첨가제 등을 적절한 용제에 녹여 제조한 코팅액을 기재 필름에 도포한 후, 건조시켜 제조한다. 도포시에는 그라비아 코팅법, 마이크로그라비아 코팅법 또는 바 코팅법 등의 널리 알려진 코팅 방법을 사용할 수 있다.
상기 보호층의 두께는 건조 상태를 기준으로 2.5 내지 4.0 ㎛인 것이 바람직하다. 두께가 2.5 ㎛ 미만일 때는 최종 인쇄물의 이미지를 외부 환경으로부터 보호하는데 미흡하다. 반면에 두께가 4.0 ㎛를 초과할 때는 재전사 단계에서 열전달이 잘 이루어지지 않으므로, 가열 롤이나 써멀프린팅 헤드 등의 이미지 전사 장치 등의 발열장치를 매우 높은 온도로 가열해 주어야 하는 단점이 있다.
상기 보호층 위에 형성된 수상층은 승화 열전사 인쇄 단계에서는 승화형 잉크 리본으로부터 전이되는 염료를 수용하는 역할을 하며, 재전사 단계에서는 최종 피기록재의 표면에 접착되는 역할을 한다.
상기 수상층은 바인더 수지와 이형제를 포함하여 구성되며, 상기 바인더 수지는 비닐클로라이드-비닐아세테이트 공중합체, 폴리에스터, 폴리우레탄, 우레아 레진 및 폴리아미이드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것이 바람직하다. 상기 이형제는 실리콘계 이형제인 것이 바람직하며, 상기 실리콘계 이형제로는 아미노변성 실리콘 오일 또는 에폭시변성 실리콘 오일을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 수상층은 형성된 이미지의 내광성을 개선하기 위해 자외선흡수제나 산화방지제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 상기 수상층은 상기 바인더 수지와 첨가제 등을 적절한 용제로 녹여 제조한 코팅액을 상기 보호층이 도포되어 있는 기재 필름의 보호층 위에 도포한 후, 건조하여 제조한다. 수상층을 도포시에는 그라비아 코팅법, 마이크로그라비아 코팅법 또는 바 코팅법 등의 널리 알려진 코팅 방법을 사용할 수 있다.
상기 수상층의 두께는 건조 상태를 기준으로 0.2 내지 1.0 ㎛인 것이 바람직하다. 두께가 0.2 ㎛ 미만일 때는 승화 열전사 인쇄 단계에서 승화형 잉크리본으로부터 전이되는 염료를 수용함에 있어 불충분하다. 반면에 두께가 1.0 ㎛를 초과할 때는 재전사 단계에서 최종 피기록재의 표면에 잘 접착되지 않는다.
본 발명에 있어서, 재전사 필름의 배면층은 바인더 수지와 이형제를 포함하여 이루어진다.
본 발명에서 상기 배면층의 바인더 수지는 기재 필름 위에 배면층의 도막을 형성하는 역할을 하는 물질로서, 상기 바인더 수지로는 유리전이온도가 70℃ 이상인 열가소성 고분자 수지를 단독으로 사용하거나, 또는 열경화성 고분자 수지를 경화제와 함께 사용한다.
본 발명의 배면층용 바인더 수지로 적합한 열가소성 고분자 수지로는 특별한 제한이 없으나, 기재로 널리 사용되는 폴리에스터 필름과의 접착력을 고려하여 폴리에스터, 비닐클로라이드-비닐아세테이트 공중합체, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐아세탈 수지 중 유리전이온도가 70℃ 이상인 것인 바람직하다. 만약, 유리전이온도가 70℃ 보다 낮은 경우에는, 이미지가 형성된 재전사층을 카드 등과 같은 피기록재로 전사시키는 재전사 단계에서, 재전사 필름이 가열 롤이나 써멀프린팅헤드와 같은 발열장치에 융착되는 문제가 있으나, 유리전이 온도가 높은 경우에는 특별한 문제를 야기하지 않으며, 가급적 높은 유리전이온도의 열가소성 수지를 사용하는 것이 본 발명에 적합하다.
본 발명에 적합한, 상업적으로 이용 가능한 열가소성 수지는 폴리에스터 수지의 경우, 일본국 도요보사의 Vylon-290, Vylon-296, Vylon-885, GK-640, GK-880 등이 있고, 비닐클로라이드-비닐아세테이트 공중합체의 경우, 일본국 일신화학공업주식회사의 SOLBIN-CH, SOLBIN-CN, SOLBIN-A, SOLBIN-AL, SOLBIN-TAO, SOLBIN-M 등과 미합중국 유니온 카바이드사의 VYHH, VYHD, VAGH 등이 있고, 폴리비닐부티탈의 경우, 일본국 적수화학의 BX-1, BX-3 및 BX-5 등이 있으며, 폴리비닐아세탈 수지의 경우, 일본국 적수화학의 KS-1, KS-5 등이 있다.
본 발명에서 배면층용 바인더 수지로 열가소성 수지를 사용하는 경우에는, 상기 폴리에스터 수지, 비닐클로라이드-비닐아세테이트 공중합체, 폴리비닐부티랄 및 폴리비닐아세탈 수지로 이루어진 군에서 1종을 선택하거나, 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명의 배면층용 바인더 수지로 열경화성 고분자 수지를 사용하는 경우에는, 한 분자 내에 다수의 수산기를 지닌 고분자 물질 및 경화제로서 상기 수산기와 반응할 수 있는 이소시아네이트기를 한 분자에 2개 이상 지닌 이소시아네이트 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 배면층 바인더 수지로 상기의 열경화성 고분자 수지와 이소시아네이트 화합물을 사용하는 경우에는, 수산기와 이소시아네이트 화합물의 반응을 완결시키기기 위해, 기재필름 위에 상기 바인더 수지와 이소시아네이트 화합물을 도포, 건조시킨 후, 추가적인 숙성 단계가 요구될 수 있다.
본 발명에서 상기 열경화성 고분자 수지는 폴리에스터, 비닐클로라이드-비닐아세테이트 공중합체, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐아세탈 등이 바람직하며, 본 발명에 적합한, 상업적으로 이용 가능한, 한 분자 내에 다수의 수산기를 지닌 고분자 물질로는, 폴리에스터의 경우, 일본국 도요보사의 Vylon-200, Vylon-220, Vylon-226, Vylon-600, GK590 등이 있고, 비닐클로라이드-비닐아세테이트 공중합체의 경우, 일본국 일신화학공업주식회사의 SOLBIN-A, SOLBIN-TA5R, SOLBIN-TAO 등과 미합중국 유니온 카바이드사의 VAGH, VAGD 등이 있고, 폴리비닐부티랄의 경우, 일본국 적수화학의 BX-1, BX-3, BX-5, BL-1, BL-2 등이 있으며, 폴리비닐아세탈의 경우, 일본국 적수화학의 KS-1, KS-5 등이 있다.
본 발명에서 배면층용 바인더 수지로 열경화성 수지를 사용하는 경우에는, 상기 폴리에스터 수지, 비닐클로라이드-비닐아세테이트 공중합체, 폴리비닐부티랄 및 폴리비닐아세탈로 이루어진 군에서 1종을 선택하거나, 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 상기 수산기를 지닌 열경화성 고분자 수지를 경화시키기 위한 경화제로는 한 분자 내에 2개 이상의 이소시아네이트기를 지닌 이소시아네이트 화합물이 바람직하다. 수산기를 지닌 고분자 물질과 경화제의 혼합비율은 본 발명의 목적을 달성할 수 있다면, 특정한 제한은 없다.
본 발명의 상기 배면층의 이형제로는 실리콘계 화합물, 인산에스테르 또는 인산에스테르의 금속염인 것이 바람직하다.
본 발명의 실리콘계 화합물은 상기 실리콘계 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 액상의 실리콘 화합물이며, 하기 화학식 1에서 R1 내지 R8은 각각 독립적으로 수소, 메틸기, 아미노기, 에폭시기, 카비놀기, 카르복실기 및 알코올기 중에서 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환될 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112012100501105-pat00001
또한, 본 발명의 실리콘계 화합물은 아크릴 또는 폴리에스터 주사슬에 실리콘 사슬이 그라프트 결합된 실리콘 변성 아크릴 수지 또는 실리콘 변성 폴리에스터를 포함할 수 있다.
본 발명에 적합한, 상업적으로 이용 가능한 실리콘 화합물로는 일본국 신에츠사의 KF96, KF99, KF101, KF393, KF837, KF6001, KF864, KF8010, KF97-01, X-22-162C, X-22-163, X-22-4039, X-22-3701E, X-24-3544A, X-24-8300 등이 있다.
본 발명의 인산에스테르 또는 인산에스테르 금속염은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물이며, 하기 화학식 2에서 A 및 B는 서로 독립적으로 금속원자, 수소원자 또는 RO(CH2CH2O)n-이며; R은 (C1-C6)알킬 또는 (C1-C6)아릴 래디컬을 의미한다.
[화학식 2]
Figure 112012100501105-pat00002
n : 부가된 에틸렌 옥사이드의 몰수
본 발명에 적합한, 상업적으로 이용 가능한 인산에스테르는 일본국 제일공업제약의 플라이서프 A208B, A208N, A208S, 일본국 니코 케미칼의 DDP-2, DDP-4 등이 있으며, 인산에스테르의 금속염으로는 일본국 니코 케미칼의 DLP-10과 일본국 토호 카가쿠의 GAFAC RD720 등이 있다.
본 발명의 배면층에 사용되는 이형제는 상기 실리콘 화합물, 인산에스테르 및 인산에스테르 금속염으로 이루어진 군에서 1종을 선택하거나, 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 이형제의 함량은 본 발명의 목적을 달성할 수 있으면, 특정한 제한은 없으나, 배면층의 고형분 대비 0.2 ∼ 50 중량% 정도가 바람직하다. 이형제의 함량이 0.2 중량% 이하로 너무 적으면, 재전사 필름을 고온에서 롤 상태로 장기간 보관 시 재전사층이 배면층으로 전이될 수 있으며, 반대로 이형제 함량이 50 중량% 이상으로 너무 많은 경우, 배면층 코팅 후, 보호층이나 수상층 코팅 전에 배면층의 이형제가 기재 필름이나 보호층 위로 전이되어, 보호층이나 수상층 코팅시, 코팅 불량을 야기할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 배면층은 상기 바인더 수지와 이형제를 적당한 용제에 녹여, 코팅액을 제조한 후, 이를 기재 필름 위에 도포한 후, 건조하여 제조한다. 바인더 수지로 열경화성 고분자 수지와 경화제를 혼합하여 사용하는 경우에는, 건조 후에 추가적인 숙성을 필요로 할 수도 있다. 기재필름에 배면층을 도포할 때는 그라비아 코팅법, 마이크로그라비아 코팅법 또는 바 코팅법 등 당업계에 널리 알려진 코팅 방법을 사용할 수 있다.
본 발명의 배면층의 두께로는 특별한 제한을 두지 않으나, 배면층이 두꺼운 경우에는 재전사 단계에서, 열전달이 방해되어, 가열 롤이나 써멀프린팅헤드와 같은 가열장치를 고온으로 가열해 주어야 하는 단점이 있으므로, 가급적 배면층의 두께는 얇게 하는 것이 유리하다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
실시예 1.
1. 검지 마크의 인쇄
그라비아 인쇄기를 이용하여, 두께 16 ㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 위에 폭 2 mm인 검은색 검지 마크를 67 mm 간격으로 인쇄하였다. 검지 마크 사이의 간격은 1매의 인쇄물에 해당하는 간격이다.
2. 배면층 코팅
16 ㎛ 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 검지 마크가 인쇄된 면에 하기 조성의 배면층을 도포하여, 건조시켰다.
배면층 조성
폴리에스터 수지 (일본국 도요보제 Vylon 600) 6.00 중량 %
아미노 변성 실리콘 화합물 (일본국 신에츠제 KF393) 0.05 중량 %
톨루엔 45.00 중량 %
메칠에칠케톤 48.95 중량 %
건조 후, 배면층의 두께는 약 0.3 ㎛가 되었다.
3. 보호층 코팅
기재 필름의 검지 마크 및 배면층이 도포된 반대면에 하기 조성의 보호층을 도포하여, 건조시켰다.
보호층 조성
아크릴 수지 (일본국 미쯔비시레이온제 BR83) 15.00 중량%
왁스 분산체 (미합중국 샴록제 세라스퍼스 321BG) 1.50 중량%
자외선 흡수제(시바스페셜티케미칼제 티뉴빈 928) 0.80 중량%
톨루엔 41.35 중량%
메칠에칠케톤 41.35 중량%
건조 후, 보호층의 두께는 약 3 ㎛가 되었다.
4. 수상층 코팅
상기 보호층이 도포된 일면에 하기 조성의 수상층을 도포하여 건조시켰다.
수상층 조성
폴리에스터 수지(일본 도요보제 Vylon 270) 9.00 중량%
폴리에스터 수지(일본 도요보제 Vylon 296) 1.00 중량%
아미노변성 실리콘 오일(일본 신에츠제 KF393) 0.07 중량%
에폭시변성 실리콘 오일(일본 신에츠제 KF101) 0.07 중량%
톨루엔 44.93 중량%
메칠에칠케톤 44.93 중량%
건조된 상태에서 수상층의 두께는 약 0.5㎛가 되었다.
실시예 2.
배면층 조성을 하기의 조성으로 대체한 것 외에는 실시예 1.과 동일하게 재전사 필름을 제조하였다.
배면층 조성
비닐클로라이드-비닐아세테이트 공중합체
(일본국 일신화학제 SOLBIN TAO) 6.00 중량 %
인산에스테르
(일본국 제일공업제약 플라이서프 A208B) 0.50 중량 %
톨루엔 46.75 중량 %
메칠에칠케톤 46.75 중량 %
실시예 3.
배면층 조성을 하기의 조성으로 대체한 것 외에는 실시예 1.과 동일하게 재전사 필름을 제조하였다.
배면층 조성
폴리에스터 수지 (일본국 도요보제 Vylon 200) 2.00 중량 %
폴리비닐부티랄 수지 (일본국 적수화학제 BX-1) 4.00 중량 %
실리콘 변성 아크릴 수지 (일본국 신에츠제 X-24-3544A) 0.20 중량 %
인산에스테르의 금속염 (일본국 니코 케미칼 DLP-10) 0.30 중량 %
톨루엔 46.75 중량 %
메칠에칠케톤 46.75 중량 %
실시예 4.
배면층 코팅을 하기의 방법으로 대체한 것 외에는 실시예 1.과 동일하게 재전사 필름을 제조하였다.
배면층 조성
비닐클로라이드-비닐아세테이트 수지 (일본국 신에츠제 SOLBIN TAO)
6.50 중량 %
이소시아네이트 화합물
(대한민국 화인케미칼제 콘네이트 L-75, 고형분 75%) 4.40 중량 %
인산에스테르 (일본국 제일공업제약 플라이서프 A208B) 0.50 중량 %
인산에스테르 (일본국 니코 케미칼 DDP-2) 0.90 중량 %
톨루엔 43.85 중량 %
메칠에칠케톤 43.85 중량 %
상기 조성의 배면층을 도포하여, 건조한 후, 50℃에서 5일간 숙성하여, 배면층을 완성하였다. 이때, 배면층의 두께는 약 0.35 ㎛가 되었다.
실시예 5.
배면층 조성을 하기의 조성으로 대체한 것 외에는 실시예 4.과 동일하게 재전사 필름을 제조하였다.
배면층 조성
폴리비닐아세탈 수지 (일본국 적수화학제 KS-1) 6.50 중량 %
이소시아네이트 화합물 (대한민국 애경화학제 AK75, 고형분 75%)
4.00 중량 %
실리콘 변성 폴리에스테르 수지 (일본국 신에츠제 X-24-8300)
0.50 중량 %
톨루엔 44.50 중량 %
메칠에칠케톤 44.50 중량 %
실시예 6.
배면층 조성을 하기의 조성으로 대체한 것 외에는 실시예 4.과 동일하게 재전사 필름을 제조하였다.
배면층 조성
폴리에스터 수지 (일본국 도요보제 Vylon 226) 6.50 중량 %
이소시아네이트 화합물
(대한민국 화인케미칼제 콘네이트 L-75, 고형분 75%) 3.00 중량 %
에폭시변성 실리콘 오일 (일본국 신에츠제 KF101) 0.05 중량 %
톨루엔 45.00 중량 %
메칠에칠케톤 45.45 중량 %
비교예
배면층을 형성시키지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 재전사 필름을 제조하였다.
상기와 같이 기재필름에 배면층, 보호층 및 수상층을 코팅하여 제조한 실시예의 재전사 필름과 배면층을 형성시키지 않은 비교예의 재전사 필름을 1,000매 단위로 롤 상태로 감아서, 50℃ 대류오븐에서 48시간 동안 방치한 후, 재전사층의 배면전사 현상의 발생 여부를 관찰하였다. 구체적으로, 배면전사 현상은 롤 상태의 재전사 필름을 풀면서, 몇 장 째에서 최초로 재전사층이 재전사 필름의 배면으로 전이되었는지를 관찰하였다.
하기 표 1에는 재전사층이 몇 장 째에서, 재전사 필름의 배면으로 최초 전이되었는지를 나타내고 있다.
재전사층의 배면전이 현상 발생 정도의 비교
번호 재전사층의 배면전이가 최초로 발생한 매수
실시예 1 980매
실시예 2 950매
실시예 3 980매
실시예 4 발생 안함
실시예 5 발생 안함
실시예 6 발생 안함
비교예 100매
그 결과, 표 1에 나타난 바와 같이 볼 발명의 배면층을 형성시킨 경우, 재전사층이 재전사필름의 배면으로 전이되는 현상이 크게 개선되었음을 알 수 있다.
1: 수상층
2: 보호층
3: 기재필름
4: 배면층
5: 검지마크

Claims (8)

  1. 기재필름;
    상기 기재필름의 일면에 형성된 보호층;
    상기 보호층 위에 형성된 수상층; 및
    상기 기재필름의 상기 보호층과 수상층이 형성된 반대면에 형성되며, 열경화성 고분자 수지 및 이소시아네이트기를 포함하는 경화제의 혼합물인 바인더 수지 및 이형제를 포함하여 이루어진 배면층을 포함하는 재전사 필름.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 열경화성 고분자 수지는 수산기를 지닌 폴리에스터 수지, 수산기를 지닌 비닐클로라이드-비닐아세테이트 공중합체, 폴리비닐부티랄 및 폴리비닐아세탈로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 재전사 필름.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 이형제는 실리콘계 화합물, 인산에스테르 및 인산에스테르의 금속염으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 재전사 필름.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 실리콘계 화합물은 아크릴 또는 폴리에스터 주사슬에 실리콘 사슬이 그라프트 결합된 실리콘 변성 아크릴 수지 또는 실리콘 변성 폴리에스터인 것을 특징으로 하는 재전사 필름.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 기재필름과 배면층 사이에 검지마크가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 재전사 필름.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 수상층 위에 형성되는 제1이형층;
    상기 보호층과 수상층 사이에 형성되는 중간층; 또는
    상기 기재필름과 보호층 사이에 형성되는 제2이형층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재전사 필름.
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