KR101281403B1 - 에피텍셜 반응기 및 에피텍셜 반응기의 리프트 핀 - Google Patents

에피텍셜 반응기 및 에피텍셜 반응기의 리프트 핀 Download PDF

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Abstract

본 발명에 따른 에피텍셜 반응기의 리트프 핀은, 에피텍셜 반응기에서 웨이퍼를 하측에서 지지하여 상기 웨이퍼를 승강시키는 부품으로서, 핀홀을 통과할 수 있는 몸통; 및 상기 몸통의 상부에 제공되어 상기 핀홀에 걸릴 수 있는 걸림부가 포함되고, 상기 몸통과 상기 걸림부로 이루어지는 형태의 무게중심이 기하중심의 하측에 놓여서, 상기 몸통이 직립하도록 하는 모멘트를 제공한다. 본 발명에 따르면, 웨이퍼의 불량을 방지할 수 있는 등의 효과를 얻을 수 있다.

Description

에피텍셜 반응기 및 에피텍셜 반응기의 리프트 핀{Epitaxial reactor and lift pin for the same}
본 발명은 에피텍셜 반응기 및 에피텍셜 반응기의 리프트 핀에 관한 것이다.
경면 가공된 반도체 웨이퍼에 단결정의 얇은 에피택셜 막을 성장시킨 것을 에피텍셜 웨이퍼라고 한다. 단결정의 에피텍셜 막을 성장시키는 장치로서 에피텍셜 반응기가 알려져 있다. 에피텍셜 반응기의 동작을 설명한다. 웨이퍼를 반송용 블레이드 위에 놓은 뒤, 500℃이상 고온으로 가열된 반응기 내에 반입하여 리프트 핀 위에 놓고서 블레이드는 빠진다. 이후에 상기 리프트 핀이 내려가고, 써셉터가 올라오는 과정에 의해서 웨이퍼는 써셉터 위에 재치된다. 이후에 써셉터 위에 놓인 웨이퍼를 고온으로 가열한 뒤 소스 가스를 흘려서 웨이퍼에 성막시키면 단결정 막이 성장된다.
상기 리프트 핀은 상기 웨이퍼를 하측에서 지지하게 되는데, 일반적인 방법으로는 서로 이격되는 세 개의 리프트 핀이 써셉터를 통과하여 자유로이 상하로 움직이면서 웨이퍼를 지지한다.
상기 리프트 핀은 원통막대 형상으로서 상단부 및 하단부가 볼록하게 제공되어 있고, 상단부는 확장되어 써셉터에 걸려서 지지되고, 하단부는 리프트 핀 지지축에 의해서 밀려서 움직일 수 있다.
한편, 상기 리프트 핀이 상기 써셉터를 통과하며 상하로 움직이는 때에 걸림현상이 자주 발생한다. 이는, 상기 써셉터에 마련되어 있는 홀이 리프트 핀보다 조금 크게 마련되어 리프트 핀이 자유로이 써셉터를 이동할 수 있도록 하지만, 리프트 핀의 이동방향이 상기 홀에 대하여 정확히 수직이 되지 못하여 경사지게 놓이는 일이 자주 있기 때문이다. 이러한 일은 리프트 핀이 하측으로 이동할 때 보다 많이 발생하게 된다. 이는 세척 등을 하면서 리프트 핀이나 써셉터의 홀의 치수가 변하면서 더욱 많이 발생하게 된다. 또한, 애피텍셜 반응기의 재조립에 문제가 있어서, 각 결합부품들 간이 치수정합이 틀어지는 때에도 발생한다.
보다 정확하게는, 하측에서 리프트 핀 지지축이 리프트 핀을 상방으로 밀어 올릴때에는, 상기 리프트 핀이 조금 경사지게-수직에서 조금 어긋나는 방향으로 상측으로 밀려 올라가는 경우를 말함- 밀려 올라가더라도 하측에서 올려주는 힘에 의해서 올라가게 된다. 그러나, 상기 리프트 핀이 상기 웨이퍼를 지지한 상태에서 하방으로 이동할 때에는, 상기 웨이퍼와 상기 리프트 핀 만의 자중에 의해서 써셉터를 통과하여 내려 오는데, 이때에는 하방으로 가하여지는 힘이 작기 때문에, 써셉터의 홀 내부에서 경사져서 내려오는 경우에는 걸려서 이동하지 않게 되고, 다른 리프트 핀이 다 내려온 상태에서 웨이퍼의 전체 자중이 걸리는 때에 순간적으로 떨어짐으로써 발생하게 된다.
상기되는 리프트 핀의 비정상적인 충격에 의해서 웨이퍼가 낙하되면서 튀는 현상이 발생하고, 이는 웨이퍼가 정상적인 위치에 놓이지 못하게 하는 현상(out of pocket)으로 이어져, 이후의 막성장에 문제점으로 작용한다. 또한, 리프트 핀의 충격과 웨이퍼의 충격으로 비산한 금속 파티클이 웨이퍼의 위에 자리잡아, 이후의 증착이 올바르게 되지 못하게 하여 결함(예를 들어, stacking fault)을 발생시킨다. 이러한 문제가 발생하게 되면, 에피텍셜 반응기의 청소 및 재조립을 위하여 하루 정도 반응기를 멈추어야 하므로, 많은 손실로 이어지게 된다.
본 발명은 상기되는 문제점에 바탕하여 제안되는 것으로서, 리프트 핀과 그 주변에 대한 개선을 통하여 종래 제기되었던 문제점을 해결하는 것을 목적으로 한다. 또한, 에피텍셜 웨이퍼의 생산수율을 높이고, 에피텍셜 반응기의 가동효율을 한층 더 높일 수 있는 에피텍셜 반응기 및 에피텍셜 반응기의 리프트 핀을 제안한다.
또한, 잦은 청소로 인하여 각 부품의 치수가 변하거나, 재조립 시에 부품들 간이 조립에 문제가 있어 정확한 치수정합이 이루어지지 않은 때에도, 웨이퍼의 승하강 시에 충격하중을 발생시키지 않는 에피텍셜 반응기 및 에피텍셜 반응기의 리프트 핀을 제안한다.
본 발명에 따른 에피텍셜 반응기의 리프트 핀은, 에피텍셜 반응기에서 웨이퍼를 하측에서 지지하여 상기 웨이퍼를 승강시키는 부품으로서, 핀홀을 통과할 수 있는 몸통; 및 상기 몸통의 상부에 제공되어 상기 핀홀에 걸릴 수 있는 걸림부가 포함되고, 상기 몸통과 상기 걸림부로 이루어지는 형태의 무게중심이 기하중심의 하측에 놓여서, 상기 몸통이 직립하도록 하는 모멘트를 제공한다.
여기서, 상기 모멘트를 제공하기 위하여, 상기 몸통의 하단부에 마련되는 웨이트가 포함된다. 또한, 상기 웨이트는, 상기 몸통의 하부에 별도의 물품으로 분리가능한 방식으로 결합되거나, 상기 웨이트의 하면은 상기 몸통의 직경보다 크게 마련될 수 있다.
또한, 상기 몸통의 하단면은 편평하게 마련될 수 있다.
또한, 상기 모멘트를 제공하기 위하여, 적어도 상기 몸통의 상부에 마련되는 개구가 포함될 수 있다.
본 발명에 따른 에피텍셜 반응기에는, 웨이퍼를 재치하는 써셉터; 상기 써셉터를 지지하는 써셉터 지지축; 상기 웨이퍼를 선택적으로 지지하고, 상기 써셉터에 마련되는 핀홀을 통과하여 상하로 움직이는 리프트 핀; 및 상기 리프트 핀을 승강시키는 리프트 핀 지지축이 포함되고, 상기 리프트 핀은, 무게중심이 기하중심의 하측에 놓여서 상기 핀홀에 대하여 직립되도록 하는 모멘트가 발생하는 구조로 제공되는 것을 특징으로 한다.
다른 측면에 따른, 본 발명에 따른 에피텍셜 반응기에는, 웨이퍼를 재치하는 써셉터; 상기 써셉터를 지지하는 써셉터 지지축; 상기 웨이퍼를 선택적으로 지지하고, 상기 써셉터에 마련되는 핀홀을 통과하여 상하로 움직이는 리프트 핀; 및 상기 리프트 핀을 승강시키는 리프트 핀 지지축이 포함되고, 상기 리프트 핀에는, 상기 핀홀에 걸리는 걸림부; 및 상기 걸림부의 하측으로 연장되는 몸통이 포함되고, 상기 몸통의 하측에 마련되어, 상기 리프트 핀 지지축에 접촉할 때, 상기 핀홀에 대하여 직립되도록 하는 모멘트가 발생하도록 하는 편평부가 포함된다.
상기되는 에피텍셜 반응기에서, 상기 리프트 핀의 하부에는 분리 가능한 웨이트가 제공될 수 있고, 적어도 상기 몸통의 상부에는 개구가 마련될 수 있다.
본 발명에 따르면, 에피텍셜 반응기에서 웨이퍼의 승하강 시에 웨이퍼의 안정적인 이동을 얻어낼 수 있다. 이로써, 에피텍셜 반응기의 동작수율을 높일 수 있고, 웨이퍼의 생산수율을 높일 수 있고, 에피텍셜 반응기의 사용연한을 길게 할 수 있고, 청소 후 에피텍셜 반응기의 재조립시에 작업자가 편리하게 조립작업을 수행할 수 있는 등의 장점이 있다.
도 1은 제 1 실시예에 따른 에피텍셜 반응기의 개념도.
도 2는 제 1 실시예에 따른 리프트 핀과 그 주변부의 구성을 보이는 도면.
도 3은 제 1 실시예에 따른 리프트 핀의 사시도.
도 4 내지 도 6은 제 1 실시예의 작용을 설명하는 도면으로서, 도 5는 리프트 핀이 핀홀에 대하여 바르게 지지되지 못한 상태를 도시하고, 도 6은 리프트 핀이 올바르게 상승하는 것을 나타내는 도면이다.
도 7은 제 2 실시예에 따른 리프트 핀이 사시도.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다.
<제 1 실시예>
도 1은 제 1 실시예에 따른 에피텍셜 반응기의 개념도이다.
도 1을 참조하면, 웨이퍼(6)를 반응기 내로 인입출시키는 블레이드(5)와, 상기 블레이드(5)의 인출시에 웨이퍼(6)를 하측에서 지지하기 위하여 서로 이격되는 위치에 복수 개 마련되는 리프트 핀(1), 상기 리트프 핀(1)을 밀어올리는 역할을 수행하는 리프트 핀 지지축(2), 반응기의 동작 시에 웨이퍼(6)가 재치되는 써셉터(3), 상기 써셉터를 승하강시키며 하측에서 지지하는 써셉터 지지축(4)이 도시된다.
상기되는 바와 같은 에피텍셜 반응기는 이하와 같은 방식으로 동작한다. 반송용의 블레이드(5)가 웨이퍼(6)를 반응기 내에 반입하면, 리프트 핀(1)이 올라와서 웨이퍼(6)를 위에 받혀서 지지하고 블레이드(5)는 빠져 나간다. 이후에 리프트 핀(1)이 내려오고, 써셉터 지지축(4)에 의해서 지지되는 써셉터(3)가 올라와서 웨이퍼(6)는 써셉터(3) 위에 놓이게 된다. 이후에는 단결정 막을 성장시키는 일련이 과정이 진행된다.
상기 상기 리프트 핀(1)은 리트프 핀 지지축(2)에 의해서 상하로 움직인다. 상기 리프트 핀 지지축(2)은 상기 리프트 핀(1)과는 별도의 물품으로서, 서로 별도의 물품으로 마련되어 있다. 상기 리프트 핀(1)이 상방으로 이동해야 할 때에는 리프트 핀 지지축(2)이 상측으로 올라와 상기 리프트 핀(1)을 밀어 올리고, 리프트 핀(1)이 내려가야 할 때에는, 리프트 핀 지지축(2)이 하측으로 이동하여 리프트 핀(1)이 하측으로 내려올 수 있도록 한다. 리프트 핀 지지축(2)이 하방으로 계속 이동하면 리프트 핀(1)은 써셉터(3)에 걸려있고, 리프트 핀 지지축(2)만 하측으로 더 이동할 수 있다.
도 2는 리프트 핀과 그 주변부의 구성을 보이는 도면이다.
도 2를 참조하면, 리프트 핀(1)과 그 주변의 각 구성요소를 상세하게 이해할 수 있다. 상기 써셉터(3)에 개구되어 제공되는 핀홀(31)에는 리프트 핀(1)이 삽입되어 있다. 상기 리프트 핀(1)은 머리부가 확장되어 있어 리프트 핀(1)은 자체적으로 써셉터(3)에 걸려서 지지될 수 있다. 상기 리프트 핀(1)의 몸통의 하측에는 편평부(14)가 마련될 수 있다. 상기 편평부(14)는 몸통(11)보다 그 직경이 확장되는 있으므로, 리프트 핀(1)의 안정적인 자리잡음이 가능하도록 한다. 상기 편평부(14)의 하측에는 리프트 핀 지지축(2)이 마련되어 있어, 상기 편평부(14)를 하측에서 지지할 수 있다. 상기 리프트 핀 지지축(2)의 상단부에는 상면이 넓게 편평한 받침대(21)가 마련되어 편평부(14)를 안정되게 지지할 수 있다.
상기 리프트 핀(1)은 상기 써셉터(3)의 핀홀(31)에 걸려서 지지되고 있다. 이 상태에서, 웨이퍼(6)를 상측으로 이동시키기 위하여 리프트 핀 지지축(2)이 올라온다. 이때에 편평부(14)의 넓은 하측면이 받침대(21)에 안정적으로 받혀질 수 있으므로, 리프트 핀(1)의 직립, 다시 말하면, 리프트 핀(1)은 핀홀(41)의 형성방향을 따라서 정확히 수직방향으로 이동할 수 있다. 리프트 핀(1)의 수직방향 이동이 정확히 이루어지면, 리프트 핀(1)이 상측방향으로 이동할 때 핀홀(31)에 걸리게 될 우려가 없게 된다. 마찬가지로, 리프트 핀(1)이 하방으로 이동하기 위하여 리프트 핀 지지축(2)이 하측으로 내려올 때에도, 편평부(14)가 안정적으로 받침대(21)에 지지되어 있기 때문에, 리프트 핀(1)은 핀홀(31)의 형성방향을 따라서 안정적으로 하방으로 이동해 내려올 수 있다.
이와 같은 작용에 의해서, 리프트 핀(1)은 핀홀(31)에 걸리는 일이 없이 안정적으로 이동할 수 있고, 리프트 핀이 핀홀(31)에 걸려서 떨어지는 등의 일로 인하여, 웨이퍼(6)에 가하여지는 충격이나 결함을 없앨 수 있다. 웨이퍼(6)에 가하여지는 충격이 없어짐으로써, 웨이퍼의 불량이나, 청소작업을 위한 반응기의 가동중단이나, 작업자의 세심한 작업으로 인한 수고가 없어지는 장점을 얻을 수 있다.
도 3은 제 1 실시예에 따른 리프트 핀의 사시도이다.
도 3을 참조하면, 리프트 핀(1)에는, 몸통(11)에 일체로 마련되는 걸림부(12)가 제공된다. 상기 걸림부(12)는 핀홀(31)에 걸려서 리프트 핀 지지축(2)이 하측에서 지지하지 않더라도, 리프트 핀(1)이 자체적으로 써셉터(3)에 걸려서 지지될 수 있다. 상기 몸통(11)의 하단부에는 웨이트(13)가 마련된다. 상기 웨이트는 몸통(11)을 이루는 물품에 비하여 밀도가 큰 재질을 사용할 수 있다.
상기 웨이트(13)는 리프트 핀(1)의 수직직립을 보장하기 위한 것으로서, 걸림부(12)가 핀홀(31)에 걸린 상태에서 리프트 핀(1)이 안정적으로 써셉터(3)에 대하여 직립되어 있도록 한다. 다시 말하면, 상기 웨이트(13)는 리프트 핀(1)의 무게중심(c2)이, 리프트 핀(1)의 기하중심(c1)에 비하여 하측에 위치하도록 한다. 이로써, 걸림부(12)가 핀홀(31)에 걸려서 지지되는 상태에서는, 무게중심(c2)이 기하중심(c1)의 직선방향 하측, 즉 써셉터(3)의 연장방향과 수직되는 방향의 일직선 상에 무게중심(c2)과 기하중심(c1)이 놓이도록 한다. 이는 지지점인 핀홀(31)을 중심으로 하여 리프트 핀(1)이 써셉터(3)에 대한 수직방향으로 직립할 수 있도록 하는 모멘트를 가하는 것과 동일하다.
그러므로, 리프트 핀 지지축(2)이 리프트 핀(1)을 받히지 않는 상태라고 하더라도, 리프트 핀(1)이 핀홀(31)의 형성방향과 나란히, 써셉터(3)의 형성방향과 수직으로 놓여있을 수 있다. 리프트 핀 지지축(2)이 상측으로 이동하여 리트프 핀(1)과 접촉할 때에도 리프트 핀(1)의 수직방향 연장상태는 흐트러지지 않을 수 있다. 따라서, 리프트 핀(1)은 핀홀(31)에 걸리는 일이 없이 안정적으로 핀홀(31)을 따라서 상하방향으로 이동할 수 있다.
상기 웨이트(13)의 하면이, 넓고 편평한 편평부(14)로 제공되는 것은 이미 설명된 바와 같다. 상기 편평부(14)에 의한 작용은 이미 설명된 바와 같다.
또한, 상기 웨이트(13)는 상기 몸통(11)과는 별도의 물품으로 제공될 수 있다. 이를 위하여, 몸통(11)의 하측부에 제공되어 암나사가 형성되는 개구(16)에 웨이트(13)의 상측부에 제공되는 삽입부(15)에 삽입되어 제공될 수 있다. 상기 웨이트(13)가 상기 몸통(11)과 별도의 물품으로 제공되는 것은, 에피텍셜 반응기의 청소 작업시에 리프트 핀(1)을 핀홀(31)에서 빼어내기 위한 것이다. 다시 말하면, 청소작업 시에 웨이트(13)를 몸통(11)과 분리하고, 걸림부(12)를 잡고 핀홀(31)에서 리프트 핀(1)을 꺼내면 되는 것이다.
제 1 실시예에 포함되는 또 다른 실시형태로서, 상기 걸림부(12)는 별도의 물품으로서 몸통(11)에 고정될 수도 있다. 이때에는 웨이트(13)가 몸통(11)과 한몸으로 제공될 수 있을 것이다. 본 실시형태의 경우에는, 청소작업 시에 걸림부(12)를 분리하여 웨이트를 잡고서 리프트 핀(1)을 써셉터(3)에서 꺼낼 수 있게 된다.
도 4 내지 도 6은 제 1 실시예의 작용을 설명하는 도면이다.
도 4는 리프트 핀이 핀홀에 올바로 걸려있는 상태를 도시하고 있다. 도 4의 상태에서는, 걸림부(12)가 핀홀(31)에 걸려서 지지되어 있다. 특히, 리프트 핀(1)의 기하중심과 무게중심이 상호 작용에 의해서 써셉터(3)가 형성되는 연장방향에 대하여 수직방향하측으로 연장되어 있을 수 있다.
도 5는 리프트 핀이 핀홀에 대하여 바르게 지지되지 못한 상태를 도시하고 있다. 도 5의 경우에는 도 4와 달리 처음부터 발생할 수도 있고, 리프트 핀이 리프트 핀 지지축에 지지되는 상태에서도 발생할 수 있을 것이다.
이 상태는, 반응기에 가하여지는 충격이나, 걸림부(12)와 핀홀(31)의 자리잡음에 있어서의 오류나, 청소 후 조립의 실수로 인한 써셉터의 작은 경사 등으로 인하여 발생할 수 있다. 이 때에는 리프트 핀(1)이 핀홀(31)의 연장방향에 대하여 일정각도(θ)로 경사지게 위치할 수 있다.
이 상태에서, 리프트 핀 지지축(2)이 올라와서 편평부(14)에 접하게 되면 경사각이 조정될 수 있다. 다시 말하면, 도 5를 기준으로 할 때, 편평부(14)의 좌측단이 먼저 받침대(21)의 상면에 접하는데, 이 상태에서 받침대(21)가 상방으로 이동하면, 그 힘은 상기 편평부(14)를 바로 세우는 방향, 즉, 리프트 핀(1)을 도면을 기준으로 할 때, 시계방향으로 회전시키는 힘으로 모멘트를 가하게 된다. 이로써, 웨이트(13)는 핀홀(31)에 대하여 시계방향으로 회전하고, 수직방향으로 직립할 수 있게 된다.
이후에도 계속해서 받침대(21)가 상방으로 이동하면, 도 6과 같은 상태로 될 수 있다. 이 상태는 받침대(21)가 리프트 핀(1)을 밀어 올려서 리프트 핀(1)을 다시 직립상태로 만들고, 핀홀(31)을 올바르게 밀어 올릴 수 있게 된다.
도 4내지 도 6에서 본 바와 같은 리프트 핀 지지축(2)에 의한 리프트 핀(1)의 상방이동에 의해서, 결국 리프트 핀(1)은 핀홀(31)에 대하여 올바르게, 즉, 핀홀에 걸리지 않고 부드럽게 통과할 수 있는 직립상태를 유지할 수 있다. 그러므로, 리프트 핀(1)이 하방으로 이동할 때에도 핀홀(31)에 걸리지 않고, 안정되게 이동할 수 있게 된다.
<실시예 2>
상기되는 제 1 실시예는 편평부에 가하여지는 모멘트에 의한 리프트 핀의 위치정정, 웨이트에 의한 기하중심과 무게중심의 차이로 발생되는 모멘트에 의한 리프트 핀의 위치정정, 두개의 역학적인 힘이 함께 가하여지는 실시예를 제시하였다.
상기 실시예는 많은 효용성을 가질 수 있지만, 부품 수가 늘어나고, 청소작업시에 리프트 핀의 분리시에 작업이 번거로운 문제점이 있을 수 있다. 제 2 실시예는 이러한 문제점을 개선한 것에 그 일 특징이 있다.
도 7은 제 2 실시예에 따른 리프트 핀이 사시도이다.
도 7을 참조하면, 몸통(52)의 상단부에 걸림부(51)가 마련되어 있다. 따라서, 상기 핀홀(31)을 몸통(52)이 통과하더라도 걸림부(51)에 의해서 리프트 핀(50)은 써셉터에 지지되어 있을 수 있다.
또한, 제 2 실시예에서는 리프트 핀(50)의 상측부에 개구(53)가 마련되어 있다. 상기 개구(53)는 리프트 핀(50)의 무게중심을 하측으로 낮추는 역할을 할 수 있다. 이로써, 기하중심(c1)은 무게중심(c2)의 상측에 위치할 수 있고, 기하중심과 무게중심의 차이로 인한 핀홀(31)을 지지점으로 하는 모멘트로 인한 회전작용을 이끌어 낼 수 있다. 또한, 상기 몸통(52)의 하단부는 제 1 실시예와 같이 몸통(52)에 비하여 확장되는 형태는 아닐지라도 편평하게 제공되는 것이 바람직할 것이다.
또한, 제 1 실시예와 같은 웨이트(13)가 별도로 마련되지 않은 것으로 인하여, 리프트 핀(50)의 걸림부(51)를 잡고서 상측으로 끄집어 내는 작용만으로 리프트 핀(50)을 써셉터(3)에서 분리해 낼 수 있는 것은 용이하게 예측가능할 것이다.
본 발명에 따른 다른 실시예로서, 무게중심이 기하중심의 하측에 위치하도록 하기 위하여, 제 2 실시예와 같은 개구를 마련하는 것만이 아니라, 밀도가 높은 물질을 리프트 핀의 하측에 두고, 밀도가 낮은 물질을 리프트 핀의 상측에 두는 것을 생각할 수 있을 것이다.
또 다른 실시예로서, 무게중심이 기하중심의 상측에 놓이는 경우에도, 걸림부를 기점으로 해서 양 중심이 하측에 위치하고 있으므로, 상기 편평부만이 제공되는 경우에도 리프트 핀의 안정적인 동작은 가능할 수 있을 것이다. 그러나, 무게중심이 기하중심의 하측에 있는 것이 더욱 바람직한 것은 물론이다.
또 다른 실시예로서, 상기 편평부는 전체 면이 편평하게 마련되지 않고, 어떠한 돌기가 마련되는 중에서도 전체 면이 골고루 균일한 면을 이루면서 전체적으로 편평하게 마련될 수도 있을 것이다.
본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위내에 포함되는 다른 실시예를 구성요소의 부가, 변경, 삭제, 및 추가 등에 의해서 용이하게 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명 사상의 범위 내에 포함된다고 할 것이다.
본 발명에 따르면, 리프트 핀의 이상작용에 의한 에피텍셜 반응기의 고장을 방지할 수 있다. 이로써, 에피텍셜 반응기의 동작수율향상, 웨이퍼의 생산수율향상, 사용연한연장, 작업자의 불편감소의 효과를 얻어낼 수 있다.
아울러, 간단한 구조적인 개선만으로 많은 효과를 얻어낼 수 있으므로, 에피텍셜 반응기 업계의 적용이 상당히 기대된다고 할 수 있다.
1, 50: 리프트 핀
12: 걸림부
13: 웨이트

Claims (10)

  1. 에피텍셜 반응기에서 웨이퍼를 하측에서 지지하여 상기 웨이퍼를 승강시키는 부품으로서,
    핀홀을 통과할 수 있는 몸통; 및
    상기 몸통의 상부에 제공되어 상기 핀홀에 걸릴 수 있는 걸림부가 포함되고,
    상기 몸통과 상기 걸림부로 이루어지는 형태의 무게중심이 기하중심의 하측에 놓여서, 상기 몸통이 직립하도록 하는 모멘트를 제공하고,
    상기 모멘트를 제공하기 위하여, 상기 몸통의 상부에는 개구가 구비되는 에피텍셜 반응기의 리프트 핀.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 모멘트를 제공하기 위하여, 상기 몸통의 하단부에 마련되는 웨이트가 더 포함되는 에피텍셜 반응기의 리프트 핀.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 웨이트는, 상기 몸통의 하부에 별도의 물품으로 분리가능한 방식으로 결합되는 에피텍셜 반응기의 리프트 핀.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 웨이트의 하면은 상기 몸통의 직경보다 크게 마련되는 에피텍셜 반응기의 리프트 핀.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 몸통의 하단면은 편평하게 마련되는 에피텍셜 반응기의 리프트 핀.
  6. 삭제
  7. 웨이퍼를 재치하는 써셉터;
    상기 써셉터를 지지하는 써셉터 지지축;
    상기 웨이퍼를 선택적으로 지지하고, 상기 써셉터에 마련되는 핀홀을 통과하여 상하로 움직이는 리프트 핀; 및
    상기 리프트 핀을 승강시키는 리프트 핀 지지축이 포함되고,
    상기 리프트 핀은, 무게중심이 기하중심의 하측에 놓여서 상기 핀홀에 대하여 직립되도록 하는 모멘트가 발생하는 구조로 제공되고,
    상기 리프트 핀은 상기 핀홀을 통과하는 몸통과, 상기 몸통의 상부에 제공되어 상기 핀홀에 걸릴 수 있는 걸림부를 포함하고,
    상기 모멘트를 제공하기 위하여, 상기 몸통의 상부에는 개구가 구비되는 에피텍셜 반응기
  8. 삭제
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 리프트 핀의 하부에는 분리 가능한 웨이트가 제공되는 에피텍셜 반응기.
  10. 삭제
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